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JPH11295876A - 多階層フォトマスクおよびその製造法 - Google Patents

多階層フォトマスクおよびその製造法

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Publication number
JPH11295876A
JPH11295876A JP24253998A JP24253998A JPH11295876A JP H11295876 A JPH11295876 A JP H11295876A JP 24253998 A JP24253998 A JP 24253998A JP 24253998 A JP24253998 A JP 24253998A JP H11295876 A JPH11295876 A JP H11295876A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ultraviolet light
layer
photomask
exposure
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP24253998A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Inventor
Shunsho On
俊祥 温
Shukukei Tei
淑恵 鄭
Kaki Tei
華き 鄭
Choki So
朝輝 曾
Kamei Ryu
佳明 劉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Industrial Technology Research Institute ITRI
Original Assignee
Industrial Technology Research Institute ITRI
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Industrial Technology Research Institute ITRI filed Critical Industrial Technology Research Institute ITRI
Publication of JPH11295876A publication Critical patent/JPH11295876A/ja
Pending legal-status Critical Current

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JP24253998A 1998-04-09 1998-08-12 多階層フォトマスクおよびその製造法 Pending JPH11295876A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW87105391 1998-04-09
TW087105391A TW359769B (en) 1998-04-09 1998-04-09 Multidensity photomask and production process therefor

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11295876A true JPH11295876A (ja) 1999-10-29

Family

ID=21629839

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24253998A Pending JPH11295876A (ja) 1998-04-09 1998-08-12 多階層フォトマスクおよびその製造法

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JP (1) JPH11295876A (zh)
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WO2000045222A1 (fr) * 1999-01-27 2000-08-03 Citizen Watch Co., Ltd. Masque photolithographique et procede de fabrication de celui-ci
JP2009276774A (ja) * 2009-07-06 2009-11-26 Dainippon Printing Co Ltd 高低パターン層形成体の製造方法

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