JPH11287978A - 液晶表示パネルの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光重合開始剤を含有する高分子分散型液晶表
示パネルは、高分子、及び封止剤の硬化に紫外線を用い
るのが主流である。そのためプレス処理後の封止の際、
注入口近傍から紫外線がパネル内に入り、高分子を硬化
させ、パネルに表示むらが生じる。 【解決手段】 封止工程として、可視光硬化型封止剤を
用る。または紫外線硬化型封止剤を用い、プレス処理、
封止工程、紫外線照射を一貫して行う。または高粘度紫
外線硬化型封止剤を用い、封止工程後素早く紫外線照射
を行い、高分子と封止剤を同時に硬化させる。または封
止剤に急速硬化性接着剤を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶材料と高分子
が混在する高分子分散型液晶表示パネルの製造方法に関
する。

【０００２】

【従来技術】軽薄短小という利点を有する液晶表示パネ
ルは、様々な製品に搭載する上で優れた表示素子であ
る。近年は、低消費電力化、薄型化の追求から反射型液
晶表示パネルの開発が盛んであり、その中でも高分子分
散型液晶表示パネルは、極めて明るい表示面が得られる
ことからも注目されている。

【０００３】高分子分散型液晶表示パネルは、上下一対
の電極を有する基板間に、液晶材料と光重合性高分子と
光重合開始剤等を含む表示媒体材料を、それらが等方性
状態を保持する一定温度下で注入し、やはりそれらが等
方性状態を保持する一定温度下で光重合開始剤の吸光特
性に合った光、一般的には紫外線、を基板表面に照射
し、基板間に液晶材料と高分子を分散、固定させること
により製造される。紫外線により液晶材料と高分子の分
散状態は固定されるので、一般的に製造中は基板への外
光が遮られている。また製造中、一定温度に保持するの
は、液晶材料と高分子を基板内にむら無く均一に分散さ
せるためである。

【０００４】このようにして製造した高分子分散型液晶
表示パネルの表示モードは一般的に散乱モードと呼ば
れ、電界の有無により散乱状態と透過状態を制御するも
のである。基本表示原理は下記の通りである。まず電圧
無印加時、液晶材料は基板内でランダムな向きで存在
し、液晶材料の屈折率と高分子のそれには相違が生じて
いる。その結果、基板に入射した光は液晶材料と高分子
界面で散乱される（散乱状態）。一方、電圧印加時に
は、液晶材料の分子軸は電界方向に揃って配列するた
め、液晶材料と高分子の屈折率はほぼ一致し、基板に入
射した光は基板を透過する（透過状態）。

【０００５】上記基本原理から高分子分散型液晶表示パ
ネルは、光の旋光性を利用したＴＮ液晶、液晶分子の複
屈折性を利用したＳＴＮ液晶と違って配向処理工程を必
要とせず、また偏光板が不要であるので明るい表示面が
得られる。加えて、散乱状態時には、基板に入射した光
は基板内を散乱しながら拡散していくため、ギャップむ
らが散乱状態に及ぼす影響が小さく、よってギャップ精
度に厳密性はそれほど要求されない。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】このように、高分子分
散型液晶表示パネルは、ギャップ精度に厳密性はそれほ
ど要求されないため、中・小型で低ｄｕｔｙ、又はスタ
ティック駆動の液晶表示パネルの場合には、基板間ギャ
ップの均一化の工程、すなわち、基板外側から圧力を加
えて基板間ギャップを均一化する工程（一般的にはプレ
ス処理工程）を行わなくても問題無い。しかしプレス処
理を行わない場合、パネルが大型化するにつれてパネル
中央と端でのギャップ差は増大する。特に、大型パネル
でｄｕｔｙ駆動を行うと、ギャップむらに起因した駆動
電圧むらが大きくなり、且つｄｕｔｙ数が大きなほど駆
動マージンは小さくなるので、結果的に表示むら生じ易
くなる。このギャップむらはプレス処理を行えば解決す
るものの、その後の注入口の封止工程にも問題が生じ
る。

【０００７】すなわち、一般的な液晶パネルの製造にお
いて、液晶表示パネルはプレス処理工程後、注入口及び
その近傍に光硬化型封止剤が塗布される。その状態のま
まプレス圧力を若干下げて、封止剤を注入口内部に適量
引込ませた後、封止剤の吸光特性にあった光を照射して
封止剤を固定化して封止する。ここで使用される封止剤
は、信頼性、取扱い性の面から紫外線硬化型が選ばれる
ことが多い。一方、高分子分散型液晶の光重合開始剤の
吸光特性も一般的に紫外線領域にある。このため上記方
法でプレス処理後に注入口及びその近傍の封止を行う
と、液晶材料と高分子を分散、固定化するための光照射
工程以前に、注入口から強い紫外線が入射することとな
り、これによる基板内の液晶材料と高分子の分散、固定
化が進行するのは避けられない。しかも、入射した光に
より基板内で液晶材料と高分子の分散、固定化が始まる
と、その部分は「散乱状態」であるため、入射した光は
基板内を散乱しながら拡散し、故に基板内の液晶材料と
高分子の分散、固定化は基板の比較的奥まで、しかもグ
ラデーションを持って進行する。このような状態となっ
た基板は、表示品質の点で商品価値が無くなってしま
う。

【０００８】

【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るために、本発明では以下のような工程を有する液晶表
示パネルの製造方法とした。すなわち、一対の基板間に
液晶材料と光重合性高分子と光重合開始剤を含む表示媒
体材料を注入する工程と、前記光重合開始剤と異なる波
長領域に吸光特性を持つ光硬化型封止剤で前記注入口を
封止する工程と、光重合開始剤の吸光特性に合った光を
基板面に照射する工程を、表示媒体材料が等方性状態を
保持する温度下で行う液晶表示パネルの製造方法とす
る。

【０００９】また、封止する工程の前に基板両面を圧迫
して基板間ギャップの均一化を図る工程（プレス処理工
程）を設けてもよい。詳しくは、注入工程後に、基板間
ギャップの均一化を図るためにプレス処理工程を行なっ
た後、前記光重合開始剤と異なる波長領域に吸光特性を
持つ光硬化型封止剤を注入口及びその近傍に塗布し、プ
レス圧力を若干下げて注入口内に適量の光硬化型封止剤
を引込ませ、光硬化型封止剤の吸光特性に合った光を照
射する工程とする。このとき、光硬化型封止剤として表
示媒体材料内の光重合開始剤と吸光特性と異なる特性の
ものを使用しているので、光硬化型封止剤の吸光特性に
合わせた光を照射しても、光重合開始剤の吸光特性に合
った光の基板内への入射がなく、それによる液晶材料と
高分子の分散、固定化を低減できる。更に、その光源に
表示媒体材料内の光重合開始剤の吸光特性に合った光を
遮断するカットフィルタを配設すれば、確実に液晶材料
と高分子の分散、固定化を抑制できる。

【００１０】あるいは、注入口及びその近傍に光重合開
始剤の吸光特性の波長領域に吸光特性を持つ光硬化型封
止剤を配し、基板に前記光重合開始剤の吸光特性に合っ
た光を照射して、光硬化型封止剤を硬化すると同時に液
晶材料と光重合性高分子を分散・固定化することもでき
る。詳しくは、基板間ギャップの均一化を図る工程とし
てプレス処理を行なった後、光重合開始剤の吸光特性と
ほぼ等しい吸光特性を持つ光硬化型封止剤を注入口及び
その近傍に適量塗布し、プレス圧力を若干下げて注入口
内に適量の光硬化型封止剤を引込ませた状態（圧力が若
干加わった状態）で、光重合開始剤の吸光特性に合った
光を基板面に照射する工程とする。この場合、プレス処
理から光照射工程までを一貫して行えることから、工程
間でのパネルに関する余分なハンドリングが不要とな
り、作業性が非常に良い。

【００１１】更に、基板間の注入口に配する封止剤に、
光重合開始剤の吸光特性とほぼ等しい吸光特性を持ち、
４００００ｃｐ以上の粘度を有する光硬化型封止剤を用
いることにより、封止剤を硬化させる前にプレス圧力を
解くようにできる。ここで用いられる光硬化型封止剤は
高粘度であるため、注入口及びその近傍に封止剤塗布
後、プレス圧力を解いても、暫くの間基板間ギャップの
均一性は保持される。よって、工程間でパネルをハンド
リングしている間に何らかの応力がパネルに加わって
も、基板間ギャップの均一性に影響はない。また、基板
内の液晶材料と高分子の分散、固定化、及び封止剤の硬
化を一回の光照射で行うことができるため、作業性が良
い。

【００１２】更に、基板間ギャップの均一化を図るため
にプレス処理工程を行なった後、短時間で硬化する封止
剤を注入口及びその近傍に適量塗布し、封止剤の硬化後
にプレス圧力を解く工程としてもよい。この場合、封止
剤硬化に光が不要のため、封止剤硬化用光源を製造工程
内に設ける、と言った設備の増加を考える必要が無く、
極めて簡略的に液晶パネルの製造ができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を具体的に
説明する。 （実施例１）図１は、本実施例１における封止工程を示
す概略図である。それぞれに電極３、４が設けられた基
板１、２の間に表示媒体材料５が封入され、注入口に封
止剤６が設けられている。この封止剤に表示媒体材料内
の光重合開始剤の吸光特性に合った光を遮断するフィル
タ８を介して光源７から照射し、封止剤を硬化させる。
ここで、液晶表示パネルにはプレス処理用スペーサ９ａ
を介して、プレス処理用支持体１０ａによりプレス圧力
が加えられている。

【００１４】液晶表示パネルの製造過程を説明する。上
下基板１、２として透明ガラス基板を使用し、各々の片
面に電極を形成した。観察者側となる上電極３は透明電
極である必要があり、下電極４は反射型液晶表示パネル
として使用する場合は反射電極で構わない。ここでは上
下電極ともＩＴＯからなる透明電極とし、スパッタで基
板上に形成した後フォトリソグラフィ加工でパターン形
成した。それら上下基板を、電極側を向き合わせてビー
ズ状のスペーサ（図は省略する）を介して張り合わせ、
空の液晶表示パネルを作製した。

【００１５】次に表示媒体材料の注入工程を説明する。
表示媒体材料５として、紫外線に吸光特性を有する光重
合開始剤が混入されているロディック社製「ＰＮＭ−１
５６」を使用した。これは高分子分散型液晶の一種で、
低電圧駆動、高散乱強度等のメリットを有したポリマー
ネットワーク液晶を呼ばれている。注入は真空注入方式
を用い、表示媒体材料５が等方性状態となる温度（上記
材料では約２５℃。以後、この温度を相転移点とす
る）、及び注入工程中の作業性を考慮し、表示媒体材料
５、注入機チャンバー内、及び空の液晶表示パネルを、
相転移点より５℃程度高い３０℃に保持して行なった。
尚これ以後、液晶表示パネルへの紫外線照射が終了する
まで、高分子が製造中硬化し始めることを避けるため、
外光（例えば蛍光灯）は、紫外線を遮断したものを使用
した。

【００１６】次に、図１に示されたプレス処理、封止工
程を説明する。使用した表示媒体材料５は、一般的に相
転移点より１〜２℃の高い温度下で紫外線照射を行う
と、高散乱強度の液晶表示パネルが得られる。そのため
プレス処理、封止工程での外部雰囲気は、２７℃程度と
した。プレス処理は、複数枚の液晶表示パネル１１（図
１では複数枚のうち１枚のみ表示）を、スペーサ９ａを
間に介して重ね合わせ、それら全体を一対の支持体１０
ａで挟み込み（図１では一対のうち１枚のみを表示）、
支持体１０ａに圧力を加えることで行なった。具体的に
は、液晶表示パネル１１に均一な圧力を加えられるよ
う、支持体１０ａには平滑なＳＵＳ製の板を使用し、支
持体１０ａの上から０．３ｋｇ／平方ｃｍの圧力で、１
０分程度加圧した。その後、封止剤６として、４２０ｎ
ｍ〜４５０ｎｍに吸光特性を有する東亜合成科学製の封
止剤（Ｌｕｘｔｒａｋ ＬＣＲ０２４２Ｄ）を、液晶表
示パネルの注入口、及びその近傍に塗布し、プレス圧力
を０．２ｋｇ／平方ｃｍに戻して５分程度放置して封止
剤を注入口内に引込ませた後、封止剤６に向かって光照
射を３０秒行なった。この時使用した光源７は、３００
０ｍＪ／平方ｃｍ程度の出力が得られる可視光照射用光
源である。この光源７のスペクトルには、紫外線も含ま
れる可能性があるため、光源７の前面に紫外線カットフ
ィルタ８を配置した。封止工程終了後、プレス圧力を完
全に解き、液晶表示パネルの表示面を確認したが、注入
口近傍における液晶材料と高分子の分散、固定化は生じ
ていなかった。

【００１７】最後にこの液晶表示パネルに、液晶材料に
有害な波長領域の紫外線をカットした紫外線を照射し
て、液晶表示パネルを完成させた。このようにして製造
した液晶表示パネルは、パネル面内における散乱強度む
らは無く、駆動させてみても、パネル中央と端で駆動電
圧は等しかった。ここで、封止工程において、その光源
として、表示媒体材料内の光重合開始剤の吸光特性の波
長の光を含まない光源を用いれば、紫外線カットフィル
タ８を光源の前面に配設せずに光照射を行なっても同様
の構成を実現できる。すなわち、パネル面内における散
乱強度むらは無く、駆動させてみても、パネル中央と端
で駆動電圧は等しくなる。

【００１８】（実施例２）図２は、本実施例２における
プレス処理工程、封止工程、光照射工程を示す概略図で
ある。実施例２では液晶表示パネルの製造過程におい
て、注入工程までは実施例１と同一である。よって注入
工程までの説明は割愛する。また液晶表示パネルを形成
する部材も、封止剤以外は同一であり、製造中の温度管
理や外光の遮光についても同様に対処する。

【００１９】図２中のプレス処理で使用する治具におい
て、９ａ、９ｂは、どちらもプレス処理用スペーサであ
るが、特に９ｂは紫外線を透過する透明な材質から成る
ものである。また１０ａ、１０ｂも、プレス処理用支持
体であるが、特に１０ｂは紫外線を透過する透明な材質
から成るものとする。光源７は、透明である１０ｂ、９
ｂのある側に配設するものとする。

【００２０】注入工程後、プレス処理は、透明なプレス
処理用支持体１０ｂ、透明なプレス処理用スペーサ９
ｂ、液晶表示パネル１１、プレス処理用スペーサ９ａ、
プレス処理用支持体１０ａの順に重ね合わせ、プレス処
理用支持体１０ａ、１０ｂ間を０．３ｋｇ／平方ｃｍの
圧力で１０分間加圧することで行なった。その後、封止
剤６として紫外線領域に吸光特性を有する積水化学製の
封止剤（フォトレック７０４）を、注入口、及びその近
傍に適量塗布し、プレス圧力を０．２ｋｇ／平方ｃｍに
戻して５分程度放置して封止剤を注入口内に引込ませた
後、（液晶表示パネル１１は加圧された状態のまま）光
源７により紫外線を照射して、封止剤と高分子を同時に
硬化させ、液晶表示パネルを完成させた。

【００２１】このようにして製造した液晶表示パネル
は、基板間ギャップも極めて均一で、パネル面内におけ
る散乱強度むらは無く、駆動させてみても、パネル中央
と端で駆動電圧は等しかった。また製造工程において、
プレス処理を行なった状態で封止工程、光照射工程、
と、３種類の工程を一貫して行えたため、パネルの余分
なハンドリングが無く、作業性が非常に良かった。

【００２２】（実施例３）実施例３は、液晶表示パネル
の製造過程において、実施例１と注入工程までは同一で
ある。よって注入工程までの説明は割愛する。その他、
液晶表示パネルを形成する部材も、封止剤以外は同一で
あり、製造中の温度管理や外光の遮光についても同様に
対処する。

【００２３】注入工程後、プレス処理は、複数枚の注入
済みの液晶表示パネルを、プレス処理用スペーサを間に
介して重ねあわせ、それら全体を一対のプレス処理用支
持体で挟み込み、支持体に０．２ｋｇ／平方ｃｍの圧力
を１０分程度加えることにより行なった。その後、封止
剤として、紫外線領域に吸光特性を有し、４００００ｃ
ｐ程度の粘度を有するするスリーボンド製の封止剤（ス
リーボンド３０５４）を使用し、液晶表示パネルの注入
口及びその近傍に塗布した。ここで封止剤は、液晶表示
パネルの注入口の形状や、ギャップ等を考慮して、粘度
を選定するとよい。ちなみに低粘度の封止剤を使用する
と、注入口内に封止剤が引込まれ過ぎたりする。また、
封止工程から紫外線照射工程にかけてハンドリングして
いる間に何らかの応力がパネルに加わった場合、低粘度
の封止剤であるほどギャップむらが生じ易い。

【００２４】封止剤塗布後、プレス圧力を完全に解き、
すばやく最終工程である紫外線照射工程に入り、液晶表
示パネルを完成させた。このようにして製造した液晶表
示パネルは、パネル面内における散乱強度むらは無く、
また、注入口内への封止剤の引込みも適量で、外観には
全く問題の無いものであった。更に駆動させてみても、
パネル中央と端で駆動電圧はほぼ等しかった。また光照
射において、基板内の液晶材料と高分子の分散、固定
化、及び封止剤の硬化を一回の光照射で行えたため、作
業性が良かった。

【００２５】（実施例４）実施例４は、液晶表示パネル
の製造過程において、実施例１と注入工程までは同一で
ある。よって注入工程までの説明は割愛する。その他、
液晶表示パネルを形成する部材も、封止剤以外は同一で
あり、製造中の温度管理や外光の遮光についても同様に
対処する。

【００２６】注入工程後、プレス処理は、複数枚の注入
済みの液晶表示パネルを、プレス処理用スペーサを間に
介して重ねあわせ、それら全体を一対のプレス処理用支
持体で挟み込み、支持体に０．３ｋｇ／平方ｃｍの圧力
を１０分程度加えることで行なった。その後、封止剤６
として短時間で硬化するエポキシ系封止剤を、注入口及
びその近傍に適量塗布し、その後プレス圧力を０．２ｋ
ｇ／平方ｃｍにして放置し、封止剤を注入口内に引込ま
せると同時に封止剤を硬化させた。封止剤硬化後、プレ
ス圧力を解き、最終工程である紫外線照射工程を行って
液晶表示パネルを完成させた。

【００２７】このようにして製造した液晶表示パネル
は、パネル面内における散乱強度むらは無く、外観には
全く問題の無いものであった。更に駆動させてみても、
パネル中央と端で駆動電圧はほぼ等しかった。また、封
止工程において、封止剤硬化に光を必要としないため、
封止剤硬化用光源を製造工程内に設ける、と言った設備
の増加を考える必要が無く、極めて簡略的に液晶パネル
の製造ができた。

【００２８】

【発明の効果】以上、本発明によれば、液晶材料と高分
子が混在する高分子分散型液晶表示パネルの製造方法
を、少なくとも一方が透明である一対の基板間に、少な
くとも液晶材料と光重合性高分子と光重合開始剤等を含
む表示媒体材料を注入する工程、基板両面を圧迫して基
板間ギャップの均一化を図る工程（プレス処理工程）、
基板間の注入口を封止する工程、液晶材料に有害な紫外
線を除き光重合開始剤の吸光特性に合った光を基板面に
照射する工程を、表示媒体材料が等方性状態を保持する
温度下で行う液晶表示パネルの製造方法としたため、大
型パネルの製造においてもギャップむらや、それに起因
する表示むら、駆動電圧むらは無く、良品質の液晶表示
パネルを製造できた。

【００２９】また、基板間の注入口を封止する工程は、
基板間ギャップの均一化を図る工程としてプレス処理工
程を行なった後、光硬化型封止剤を注入口及びその近傍
に塗布し、基板両面への圧迫を若干下げて注入口内に適
量の光硬化型封止剤を引込ませ、光硬化型封止剤の吸光
特性に合った光を照射する工程としてもよく、特に光硬
化型封止剤には表示媒体材料内の光重合開始剤と吸光特
性と異なる特性のものを使用し、特に光源には表示媒体
材料内の光重合開始剤の吸光特性に合った光を遮断する
カットフィルタを配設することで、光重合開始剤の吸光
特性に合った光の基板内への入射、そして注入口近傍に
おける液晶材料と高分子の分散、固定化を抑制でき、安
定した製品の製造と共に、歩留まりも向上した。

【００３０】また、基板間の注入口を封止する工程、及
び光重合開始剤の吸光特性に合った光を基板面に照射す
る工程は、基板間ギャップの均一化を図る工程としてプ
レス処理を行なった後、光重合開始剤の吸光特性とほぼ
等しい吸光特性を持つ光硬化型封止剤を注入口及びその
近傍に適量塗布し、プレス圧力を若干下げて注入口内に
適量の光硬化型封止剤を引込ませた状態（圧力が若干加
わった状態）で、光重合開始剤の吸光特性に合った光を
基板面に照射すること工程としてもよく、この場合、プ
レス処理から光照射工程までを一貫して行えることか
ら、工程間でのパネルに関する余分なハンドリングが不
要となり、作業性が非常に良かった。

【００３１】また、基板間の注入口を封止する工程は、
基板間ギャップの均一化を図る工程としてプレス処理を
行なった後、光重合開始剤の吸光特性とほぼ等しい吸光
特性を持ち、４００００ｃｐ以上の粘度を有する光硬化
型封止剤を注入口及びその近傍に適量塗布し、プレス圧
力を解く工程としてもよく、この場合、光硬化型封止剤
が高粘度であるため、プレス圧力を解いても暫くの間は
基板間ギャップの均一性は保持されるため、工程間でパ
ネルをハンドリングしている間に何らかの応力がパネル
に加わっても、基板間ギャップの均一性に影響はなかっ
た。また、基板内の液晶材料と高分子の分散、固定化、
及び封止剤の硬化を一回の光照射で行うことができたた
め、光照射の点からも作業性が良かった。

【００３２】また、基板間の注入口を封止する工程は、
基板間ギャップの均一化を図る工程としてプレス処理を
行なった後、短時間で硬化する封止剤を注入口及びその
近傍に適量塗布し、封止剤の硬化後にプレス圧力を解く
工程としてもよく、この場合、封止剤硬化に光が必要な
いため、封止剤硬化用光源を製造工程内に設ける、と言
った設備の増加を考える必要が無く、極めて簡略的に液
晶パネルの製造ができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施例１におけるプレス処理工程後の封止工
程を示す概略図である。

【図２】本実施例２におけるプレス処理工程、封止工
程、光照射工程を示す概略図である。

【符号の説明】

１ 上基板 ２ 下基板 ３ 上電極 ４ 下電極 ５ 表示媒体材料 ６ 封止剤 ７ 光源 ８ 光重合開始剤の吸光特性に合った光を遮断する
フィルタ ９ａ プレス処理用スペーサ ９ｂ プレス処理用スペーサ（透明） １０ａ プレス処理用支持体 １０ｂ プレス処理用支持体（透明） １１ 液晶表示パネル

フロントページの続き (72)発明者 物袋 俊一 千葉県千葉市美浜区中瀬１丁目８番地 セ イコーインスツルメンツ株式会社内 (72)発明者 福地 高和 千葉県千葉市美浜区中瀬１丁目８番地 セ イコーインスツルメンツ株式会社内 (72)発明者 坂間 弘 千葉県千葉市美浜区中瀬１丁目８番地 セ イコーインスツルメンツ株式会社内 (72)発明者 山崎 修 千葉県千葉市美浜区中瀬１丁目８番地 セ イコーインスツルメンツ株式会社内 (72)発明者 星野 雅文 千葉県千葉市美浜区中瀬１丁目８番地 セ イコーインスツルメンツ株式会社内 (72)発明者 篠 直利 千葉県千葉市美浜区中瀬１丁目８番地 セ イコーインスツルメンツ株式会社内 (72)発明者 山本 修平 千葉県千葉市美浜区中瀬１丁目８番地 株 式会社エスアイアイ・アールディセンター 内

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも一方が透明である一対の基板
   の間隙に液晶材料と高分子が混在する液晶表示パネルの
   製造方法であって、 液晶材料と光重合性高分子と光重合開始剤を含む表示媒
   体材料が等方性状態を保持する一定温度下で、該表示媒
   体材料を注入口から前記間隙に注入する注入工程と、 前記一定温度下で、前記注入口を前記光重合開始剤と異
   なる波長領域に吸光特性を持つ光硬化型封止剤で封止す
   る封止工程と、 前記一定温度下で前記光重合開始剤の吸光特性に合った
   光を透明な基板面に照射する工程と、を有することを特
   徴とする液晶表示パネルの製造方法。
2. 【請求項２】 前記封止工程が、前記基板の両面に前記
   間隙の均一化を図るためのプレス圧力を加えながら前記
   注入口及びその近傍に前記光硬化型封止剤を塗布し、前
   記プレス圧力を下げることにより前記注入口内に前記光
   硬化型封止剤を引込ませ、前記光硬化型封止剤の吸光特
   性に合った光を照射して前記光硬化型封止剤を硬化する
   工程であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示
   パネルの製造方法。
3. 【請求項３】 前記光硬化型封止剤の吸光特性に合った
   光は、前記光重合開始剤の吸光特性の波長の光を遮断す
   るカットフィルタを介して光源から照射されることを特
   長とする請求項２に記載の液晶表示パネルの製造方法。
4. 【請求項４】 少なくとも一方が透明である一対の基板
   の間隙に液晶材料と高分子が混在する液晶表示パネルの
   製造方法であって、 液晶材料と光重合性高分子と光重合開始剤を含む表示媒
   体材料が等方性状態を保持する一定温度下で、該表示媒
   体材料を注入口から前記間隙に注入する第一工程と、 前記注入口及びその近傍に前記光重合開始剤の吸光特性
   の波長領域に吸光特性を持つ光硬化型封止剤を配し、前
   記基板に前記光重合開始剤の吸光特性に合った光を照射
   して、前記光硬化型封止剤を硬化するとともに前記液晶
   材料と前記光重合性高分子を分散・固定化する第二工程
   と、を有することを特徴とする液晶表示パネルの製造方
   法。
5. 【請求項５】 前記第二工程が、前記基板の両面に透明
   なプレス処理支持体を介してプレス圧力を加えながら行
   われることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示パネ
   ルの製造方法。
6. 【請求項６】 前記第二工程において、前記基板の両面
   に透明なプレス処理支持体を介してプレス圧力を加えな
   がら前記光重合開始剤の吸光特性とほぼ等しい吸光特性
   を持つ光硬化型封止剤を注入口及びその近傍に配し、そ
   の後、プレス圧力を下げて注入口内に前記光硬化型封止
   剤を引込ませた状態で前記光重合開始剤の吸光特性に合
   った光を基板面に照射することを特徴とする請求項５に
   記載の液晶表示パネルの製造方法。
7. 【請求項７】 前記第二工程が、前記基板の両面にプレ
   ス処理支持体を介してプレス圧力を加えながら、前記光
   重合開始剤の吸光特性とほぼ等しい吸光特性を持つとと
   もに、その粘度が４００００ｃｐ以上である光硬化型封
   止剤を注入口及びその近傍に配する工程と、前記プレス
   圧力を解く工程と、前記光重合開始剤の吸光特性に合っ
   た光を基板面に照射する工程と、を含むことを特徴とす
   る請求項４記載の液晶表示パネルの製造方法。
8. 【請求項８】少なくとも一方が透明である一対の基板の
   間隙に液晶材料と高分子が混在する液晶表示パネルの製
   造方法であって、 液晶材料と光重合性高分子と光重合開始剤を含む表示媒
   体材料が等方性状態を保持する一定温度下において、該
   表示媒体材料を注入口から前記間隙に注入する工程と、 前記基板の両面にプレス処理支持体を介してプレス圧力
   を加えながら短時間で硬化する封止剤を注入口及びその
   近傍に配し、前記封止剤が硬化した後に前記プレス圧力
   を解く工程と、 前記光重合開始剤の吸光特性に合った光を基板面に照射
   する工程と、を備えることを特徴とする液晶表示パネル
   の製造方法。