JPH11262828A - 基板保持装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】透明基板に傷を付けることなく、且つ画素のず
れを防止することによって画質の向上したフラットディ
スプレイパネルを製造する際の製造工程に適用される基
板保持装置を提供すること。 【解決手段】基板を保持する基板保持装置は、多数の吸
着孔３４が形成されているとともに基板を吸着保持する
基板保持面１８ａを有する第１支持板１９ａと、第１支
持板１９ａに対して所定の間隔を置いて配置された第２
支持板１９ｂと、第１支持板１９ａと第２支持板１９ｂ
との間を密閉するスペーサ１９ｃとからなるステージ１
８を備えている。ステージ１８の第２支持板１９ｂは、
移動機構１００のボールネジ１０２に固定され、ボール
ネジ１０２は、モータ１０４によって駆動される。移動
機構１００により、ステージ１８をモータ側に引っ張る
と、ストッパ１１０の作用によりステージ１８の中央部
が撓む。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示装置な
どのフラットパネルディスプレイを製造する際の製造工
程においてアレイ基板及び対向基板を真空吸着して保持
する基板保持装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置は、薄型軽量、低消費電力
などの利点を有することから、ノート型やサブノート型
のパーソナルコンピュータのディスプレイとして広く用
いられている。近年、パーソナルコンピュータの性能向
上に伴ない、ディスプレイの表示容量や表示面積の拡
大、画質の向上が要求されている。

【０００３】液晶表示装置は、スペーサを介して２枚の
ガラス基板を貼り合わせ、これらのガラス基板間に液晶
分子を封入することにより構成されている。通常、液晶
表示装置は以下の工程によって組立られる。

【０００４】すなわち、まず、互いに対向した上下一対
のステージにガラス基板をそれぞれ吸着保持する。この
場合、下ステージ上に保持されたガラス基板の表面上に
は、多数の電極が形成されているとともに、表示領域を
規定する矩形枠状のシール材と、２枚のガラス基板間の
ギャップを保持するためのスペーサとが配置されてい
る。また、上ステージに保持されたガラス基板には、対
向電極、カラーフィルタ等が設けられている。

【０００５】この状態で、２枚のガラス基板が所定の隙
間をおいて対向するように上ステージを下降させた後、
上ステージをＸ、Ｙ方向に移動、およびＺ軸回りで回動
することにより、２枚のガラス基板同志を所定の位置合
わせマーク等を基準として位置合わせする。

【０００６】続いて、上側のガラス基板が下側のガラス
基板上のシール材およびスペーサに接触する位置まで上
ステージを下降させる。この場合、２枚のガラス基板が
スペーサやシール材を介して接触する際の抵抗や、上下
ステージの上下駆動の剛性、平行度、さらには、Ｘ、
Ｙ、θ駆動機構におけるバックラッシュ等に起因して、
両ガラス基板間に微妙な位置ずれが生じる。

【０００７】そこで、２枚のガラス基板がシール材およ
びスペーサを介して互いに接触した状態で、再度上ステ
ージをＸ、Ｙ、θ方向に移動して位置合わせを行う。位
置合わせ終了後、２枚のガラス基板間のギャップが所定
の値となるように加圧し、これらのガラス基板間に液晶
分子を封入する。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ように２枚のガラス基板がスペーサを介して互いに接触
した状態で一方のガラス基板を移動させて位置合わせを
行う場合、スペーサがガラス基板の表面を強く擦って傷
を付けてしまうとともに、ガラス基板表面のカラーフィ
ルタ層等にめり込んでしまう虞もある。

【０００９】そして、上述したように、近年の液晶表示
装置においては画質の向上が強く要望されていることか
ら、製造工程中に生じた僅かな傷についても画質不良と
して上げられ、製造歩留りを低下させる要因となる。

【００１０】これを解決するために、図１の（ａ）に示
すように、ガラス基板３００を吸着するステージ３１０
の形状を凹型にする方法が考えられている。この方法
は、ガラス基板３００とステージ３１０との間を真空ポ
ンプ３２０で吸引して、図１の（ｂ）に示すように、ガ
ラス基板３００の中央付近が凹むように湾曲させようと
するものである。

【００１１】しかしながら、ステージ３１０に吸着され
るガラス基板３００には、十分な剛性が無いため、図１
の（ｂ）に示したような形状に湾曲せず、図１の（ｃ）
に示したように、ステージ３１０に沿って変形してしま
う虞がある。このように変形してしまうと、ガラス基板
３００の変形が不均一となり、他方の基板と合わせた時
に画素のずれが生じてしまう。この時に生じたずれが大
きい場合には、表示画面にざらつきが生じたり、コント
ラストが低下するなどの画質の低下の問題が発生する。
合わせずれを許容するために、遮光部を拡張すると、開
口率が低下し、輝度の低下や消費電力の増大につなが
る。

【００１２】そこで、この発明は、以上の点に鑑みなさ
れたもので、その目的は、透明基板に傷を付けることな
く、且つ画素のずれを防止することによって画質の向上
したフラットディスプレイパネルを製造する際の製造工
程に適用される基板保持装置を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】この発明は、上記問題点
に基づきなされたもので、請求項１に記載の基板保持装
置は、基板を保持するための基板保持面を有するステー
ジを備え、前記ステージは、前記基板を前記基板保持面
に吸着保持する機構と、前記ステージの形状を変形させ
る機構と、を具備することを特徴とするものである。

【００１４】請求項２に記載の基板保持装置は、前記ス
テージが、前記基板保持面を有し、前記基板を吸着保持
する複数の孔を有する第１支持板と、前記第１支持板に
対して所定の間隔をおいて配置された第２支持板と、前
記第１支持板と第２支持板との間隙を吸引して前記第１
支持板の基板保持面に前記基板を吸着させる吸引手段
と、少なくとも前記第１支持板の基板保持面における中
央付近を前記基板保持面に対して垂直な方向に変形させ
る機構と、を有することを特徴とするものである。

【００１５】この発明の基板保持装置によれば、基板を
保持する基板保持面に基板を吸着保持する機構と、ステ
ージの形状を変形させる機構とを有している。基板保持
面に吸着保持された基板は、ステージの形状の変形に合
わせて変形される。このとき、少なくとも基板保持面の
中央付近を基板保持面に対して垂直な方向に変形させる
ことにより、基板保持面に吸着保持されている基板に剛
性が不足していたとしても、基板自体の中央付近を凹状
または凸状に変形させることが可能となる。

【００１６】したがって、このようなステージに保持さ
れた２枚の基板を近接して位置合わせする際に、一方の
基板が他方の基板の表面を強く擦って傷を付けてしまう
といった問題を解消し、製造歩留りの低下を防止でき
る。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照してこの発明の
基板保持装置の実施の形態について詳細に説明する。図
２は、この発明の基板保持装置を備え、フラットパネル
ディスプレイとして液晶表示装置を組み立てるための組
立装置１０の構造を概略的に示す図である。この組立装
置１０は、後述する液晶表示装置の２枚のガラス基板を
貼り合わせる基板保持装置を備えた貼り合わせ機構部１
２と、貼り合わせ機構部１２へガラス基板を供給する供
給機構部１４と、を備えている。これらの貼り合わせ機
構部１２および供給機構部１４は、本体フレーム１６上
に設置されている。

【００１８】貼り合わせ機構部１２は、互いに対向配置
された上ステージ１８および下ステージ２０を有してい
る。これらのステージ１８、２０は、矩形板状に形成さ
れ、ほぼ水平に配置されている。下ステージ２０は、本
体フレーム１６上に固定的に配設されている。本体フレ
ーム１６には、吸引手段として機能する下ステージ用の
第１真空ポンプ３２、および、上ステージ用の第２真空
ポンプ３６および第３真空ポンプ４３が備えられてい
る。

【００１９】上ステージ１８は、位置調整機構として機
能するＸ−Ｙ−θステージ２２に取り付けられている。
Ｘ−Ｙ−θステージ２２は、水平面内において、Ｘ方
向、Ｙ方向に移動自在であるとともに、垂直軸の回りで
回動可能となっている。また、Ｘ−Ｙ−θステージ２２
は、本体フレーム１６に設けられたガイド２５により、
垂直方向に沿って昇降自在に支持およびガイドされ、本
体フレーム１６の上部に設けられた駆動機構２４によっ
て昇降駆動される。

【００２０】そして、上ステージ１８は、Ｘ−Ｙ−θス
テージ２２を作動させることにより、下ステージ２０に
対して位置調整可能であるとともに、駆動機構２４によ
ってＸ−Ｙ−θステージ２２を昇降駆動することによ
り、下ステージに対して接離する方向に移動される。

【００２１】また、貼り合わせ機構部１２の上ステージ
１８および下ステージ２０にガラス基板を供給する供給
機構部１４は、本体フレーム１６上にほぼ水平に設けら
れたＸ−Ｙテーブル４４と、Ｘ−Ｙテーブル上に垂直に
立設された支持ポスト４６と、を備え、支持ポストには
垂直方向に沿って昇降可能な移動台４８が取付けられて
いる。また、移動台４８には、水平方向に延びる伸縮自
在かつ回動自在な支持アーム５０が取り付けられ、支持
アームの延出端には、ガラス基板を吸着保持する保持部
５２が設けられている。

【００２２】そして、供給機構部１４は、保持部５２に
よりガラス基板を吸着保持した状態で、移動台４８を昇
降および支持アーム５０を伸縮、回動させることによ
り、ガラス基板を上ステージ１８、および下ステージ２
０にそれぞれ供給する。

【００２３】図３は、基板保持装置に適用されるステー
ジの構造を概略的に示す斜視図である。図３に示したス
テージは、例えば、貼り合わせ機構部１２の下ステージ
２０に適用される。下ステージ２０の上面は、基板保持
面２０ａを構成し、この基板保持面２０ａの中央部に
は、矩形状の凹所３８が形成されている。凹所３８は、
後述するガラス基板の有効領域とほぼ対応した形状およ
び寸法に形成されている。また、下ステージ２０には、
多数の吸着孔４０が形成されている。これらの吸着孔４
０は、基板保持面２０ａに開口しているとともに、凹所
３８の周縁部に沿って形成された凸部３９上に並んで設
けられている。これらの吸着孔４０は、吸引チューブ４
２を介して第１真空ポンプ３２に接続されている。

【００２４】図４は、基板保持装置に適用されるステー
ジの構造を概略的に示す斜視図である。図４に示したス
テージは、例えば、貼り合わせ機構部１２の上ステージ
１８に適用される。上ステージ１８の下面は、基板保持
面１８ａを構成し、この基板保持面１８ａには、多数の
吸着孔３４が形成されている。これらの吸着孔３４は、
基板保持面１８ａにおける中央部付近の吸着力を周縁部
より強力にするために、中央部付近に集中して形成され
ているとともに、中央部付近の吸着孔３４の孔径は、周
縁部の吸着孔３４より径大としている。すなわち、図４
に示したステージ１８における吸着孔３４は、基板保持
面１８ａの周縁部から中央部付近に近づくにしたがっ
て、孔径が大きくなるように形成されているとともに、
単位面積当たりの吸着孔の数が多くなるように集中して
形成されている。これにより、基板保持面１８ａにおい
て、周縁部より中央部でより強い吸着力で基板を吸着す
ることが可能となる。これらの吸着孔３４は、吸引チュ
ーブ３５を介して第２真空ポンプ３６に接続されてい
る。

【００２５】吸着孔３４の配置例は、図４に示した例に
限定されるものではなく、吸着孔の配置や孔径は、必要
に応じて変形可能である。例えば、図５に示したよう
に、基板保持面１８ａの全面に同一の孔径の吸着孔３４
を形成し、中央部付近のみに集中させるように分布させ
てもよいし、図６に示したように、基板保持面１８ａの
全面において、単位面積当たりの吸着孔３４の数を略一
定とし、中央部付近の吸着孔の孔径を周縁部の吸着孔よ
り大きくなるように形成してもよい。

【００２６】図５及び図６に示したような配置例であっ
ても、図４に示した例と同様に、基板保持面１８ａの周
縁部より中央部付近の吸着力を向上することが可能とな
る。このステージ１８は、図４に示したように、ステー
ジの形状を変形させる機構、すなわち、基板保持面１８
ａをその主面に対して垂直な方向に変形させる機構とし
て、移動機構１００に支持されている。移動機構１００
は、ステージ１８を所定位置から上下動させるための機
構であり、ステージ１８の略中央付近を支持するボール
ネジ１０２と、このボールネジ１０２を回転させてボー
ルネジ１０２を上下動させるモータ１０４とを備えてい
る。この移動機構１００は、Ｘ−Ｙ−θステージ２２お
よび駆動機構２４に取り付けられている。

【００２７】図７は、ステージ１８をＡ−Ａ線で破断し
た断面を示す図である。図７に示すように、ステージ１
８は、基板保持面１８ａおよび多数の吸着孔３４が形成
された第１支持板１９ａ、この第１支持板１９ａに対し
て所定の間隔をおいて配置された第２支持板１９ｂ、お
よび第１支持板１９ａと第２支持板１９ｂとを貼り合せ
るとともに第１支持板１９ａと第２支持板１９ｂとの間
に形成された間隙を密閉するスペーサ１９ｃによって構
成されている。スペーサ１９ｃの一部には、吸引チュー
ブ３５を介して第２真空ポンプ３６に連通される連通孔
１９ｄが形成され、第２真空ポンプ３６により、第１支
持板１９ａと第２支持板１９ｂとの間の間隙の気体が吸
引される。

【００２８】また、このステージ１８においては、基板
保持面１８ａが平坦な状態となる所定位置において、第
２支持板１９ｂの下面を支持する位置にストッパ１１０
が設けられている。このストッパ１１０は、ステージ１
８の周縁部に平行に配置されている。

【００２９】図８に示すように、移動機構１００のモー
タ１０４が回転することにより、ボールネジ１０２が回
転して下降すると、ボールネジ１０２に固定されたステ
ージ１８も下降する。すなわち、ステージ１８は、移動
機構１００が駆動されることにより、モータ１０４側に
引き寄せられる。この時、ステージ１８の周縁部は、ス
トッパ１１０に支持されているために下降せず、ボール
ネジ１０２に固定されているステージ１８の中央部付近
が下降する。これにより、ステージ１８は、円弧状に撓
んだ形状に湾曲することが可能となる。

【００３０】一方、以上のように構成された組立装置１
０を用いて組立られる液晶表示装置は、図９及び図１０
に示すように、それぞれ矩形状の透明基板として機能す
るアレイ基板６０および対向基板６２を備えている。ア
レイ基板６０は、ガラス基板の表面上に、信号線６１、
走査線６３、画素電極６５等を形成することにより構成
された矩形状の表示領域６０ａを有している。また、ア
レイ基板６０上には、表示領域６０ａを囲むようにシー
ル材６４が塗布されているとともに、表示領域６０ａ上
には、多数の球状スペーサ６６が散布されている。シー
ル材６４の高さは、例えば１５μｍ、スペーサの径は、
５μｍ程度に設定されている。

【００３１】対向基板６２は、ガラス基板からなり、そ
の下面には、対向電極６８、カラーフィルタ７０等の形
成された矩形状の表示領域６２ａが設けられている。表
示領域６２ａは、アレイ基板６０側の表示領域６０ａに
対応した寸法を有している。

【００３２】そして、液晶表示装置は、シール材６４を
介してアレイ基板６０および対向基板６２を貼り合わ
せ、これらの基板間に液晶分子を封入することにより構
成されている。

【００３３】次に、以上のように構成された組立装置１
０を用いて液晶表示装置を組み立てる方法について説明
する。図１１の（ａ）に示すように、まず、予め形成さ
れたアレイ基板６０を供給機構１４によって貼り合わせ
機構部１２の下ステージ２０まで供給し、表示領域６０
ａを上にして下ステージ２０上に載置する。この際、ア
レイ基板６０の表示領域６０ａが下ステージ２０の凹所
３８と対向し、かつ、アレイ基板６０の周縁部が基板保
持面２０ａと接触するように載置する。この状態で、第
１真空ポンプ３２を作動させ、吸着孔４０によってアレ
イ基板６０の周縁部を下ステージ２０の基板保持面２０
ａ上に吸着保持する。

【００３４】続いて、上記と同様の工程によって対向基
板６２を上ステージ１８に供給し、表示領域６２ａを下
に向けて上ステージ１８の基板保持面１８ａ上に吸着保
持する。この場合、対向基板６２が基板保持面１８ａと
接触した状態で、第２真空ポンプ３６を作動させて、第
１支持板１９ａと第２支持板１９ｂとの間に形成された
間隙を吸引することにより、吸着孔３４によって対向基
板６２を基板保持面１８ａ上に吸着保持する。これによ
り、アレイ基板６０および対向基板６２は、表示領域６
０ａ、６２ａが互いに対向した状態に配置される。

【００３５】続いて、図１１の（ｂ）に示すように、移
動機構１００のモータ１０４を駆動して上ステージ１８
が固定されたボールネジ１０２を回転させることによ
り、上ステージ１８を所定位置からモータ１０４側に引
き寄せるように移動させる。これにより、ストッパ１１
０の作用によって上ステージ１８を円弧状に湾曲させ
る。このとき、上ステージ１８の基板保持面１８ａに吸
着保持されている対向基板６２も、上ステージ１８の変
形に伴って、円弧状に湾曲する。すなわち、対向基板６
２の表示領域６２ａは、上ステージ１８の変形に伴な
い、アレイ基板６０から離間する方向に円弧状に撓む。
対向基板６２の撓み量は、ボールネジ１０２の移動量を
制御することにより所定の値、例えば、５０μｍ程度に
調整される。

【００３６】そして、駆動機構２４によってＸ−Ｙ−θ
ステージ２２とともに上ステージ１８を下降させ、対向
基板６２をアレイ基板６０に接近する方向へ移動させ
る。続いて、図１１の（ｃ）に示すように、対向基板６
２が所定量撓んだ状態で、対向基板６２の周縁部がアレ
イ基板６０上のシール材６４に接触する位置まで上ステ
ージ１８を更に下降させる。この際、対向基板６２の表
示領域６２ａは、アレイ基板６０の表示領域６０ａから
離間する方向へ撓んでいることから、対向基板６２側の
表示領域６２ａは、アレイ基板上のスペーサ６６に接触
することなく保持されている。

【００３７】この状態で、Ｘ−Ｙ−θステージ２２を作
動させて上テーブル１８および対向基板６２をＸ、Ｙ、
θ方向に移動させ、対向基板６２をアレイ基板６０に対
して所定の位置に位置合わせする。

【００３８】位置合わせ終了後、図１１の（ｄ）に示す
ように、移動機構１００のモータ１０４を駆動して上ス
テージ１８を元の所定位置に戻す。それにより、対向基
板６２は、撓みが取り除かれて元の状態、すなわち、平
坦な状態に復帰する。その結果、対向基板６２の表示領
域６２ａは、アレイ基板６０上のスペーサ６６に接触
し、対向基板６２およびアレイ基板６０は、所定のギャ
ップ、例えば、５μｍを持って貼り付けられる。

【００３９】なお、この際、上ステージ１８の吸引チュ
ーブ３５から第１支持板１９ａと第２支持板１９ｂとの
間の間隙内に加圧空気を供給し、アレイ基板６０と対向
基板６２との間のギャップを補正するようにしてもよ
い。

【００４０】貼り合わせ終了後、第１及び第２真空ポン
プ３２、３６を停止してアレイ基板６０および対向基板
６２の吸着保持を解除し、更に、上ステージ１８をＸ−
Ｙ−θステージ２２とともに上昇させる。続いて、貼り
合わされたアレイ基板６０および対向基板６２を、図示
しない搬送機構によって下ステージ上から取り出し、次
の液晶充填部に搬送する。

【００４１】以上のように構成された液晶表示装置の組
立方法および組立装置に適用される基板保持装置よれ
ば、対向基板６２の表示領域６２ａをアレイ基板６０か
ら離間する方向へ撓ませ、対向基板６２の周縁部のみが
シール材６４を介してアレイ基板６０に接触した状態で
位置合わせを行う構成としたことから、対向基板６２の
表示領域６２ａがスペーサ６６に対して非接触な状態で
位置合わせを行うことができる。また、下ステージ２０
の基板保持面２０ａにも凹所３８が設けられているた
め、基板保持面に付着したゴミ等によってアレイ基板６
０の有効領域６０ａが対向基板６２側へ撓むことを防止
でき、同時に、アレイ基板６０の有効領域６０ａが自重
により凹所３８側へ僅かに撓んで対向基板６２から離間
する。

【００４２】従って、位置合わせの間、スペーサ６６に
よってアレイ基板６０および対向基板６２の表示領域６
０ａ、６２ａに傷が付くことを防止でき、その結果、傷
に起因する配向不良、画像不良の発生を防止し、画質の
向上した液晶表示装置を提供することができる。更に、
アレイ基板６０と対向基板６２とがスペーサ６６を介し
て接触していない状態で位置合わせを行うことにより、
高精度な位置合わせが可能となり、一層画質の向上を図
ることができる。

【００４３】また、画素のずれによって生じる表示画面
のざらつきや、コントラストの低下などの画質の低下の
問題を解消することが可能となる。なお、対向基板６２
を撓ませた状態でガラス基板同志の位置合わせを行うた
め、位置合わせ終了後に対向基板６２の撓みを取り除い
た際、撓み分の位置ずれを生じるこのも考えられるが、
対向基板の撓み量を５０μｍ程度とした場合、通常の３
００×３００ｍｍのガラス基板においても位置ずれ量は
０．０２〜０．０５μｍ程度であり、実用上何等問題と
ならない。

【００４４】次に、この発明の基板保持装置の他の例に
ついて説明する。図１２は、この発明の他の実施の形態
に係る基板保持装置に適用されるステージの構造を概略
的に示す斜視図である。なお、図４に示したステージと
同一の構成要素に対しては、同一の参照番号を付して詳
細な説明を省略する。

【００４５】図１２に示したステージは、例えば、図２
に示した組立装置１０の貼り合わせ機構部１２における
上ステージ１８に適用される。上ステージ１８の基板保
持面１８ａには、多数の吸着孔３４が形成されている。
これらの吸着孔３４は、基板保持面１８ａにおける中央
部付近の吸着力を周縁部より強力にするために、中央部
付近に集中して形成されているとともに、中央部付近の
吸着孔３４の孔径は、周縁部の吸着孔３４より径大とし
ている。これらの吸着孔３４は、吸引チューブ３５を介
して第２真空ポンプ３６に接続されている。

【００４６】このステージ１８は、図１２示したよう
に、ステージ１８の形状を変形させる機構、すなわち、
基板保持面１８ａをその主面に対して垂直な方向に変形
させる機構として、移動機構２００に支持されている。
この移動機構２００は、Ｘ−Ｙ−θステージ２２および
駆動機構２４に取り付けられている。

【００４７】図１３は、ステージ１８をＡ−Ａ線で破断
した断面を示す図である。図１３に示すように、ステー
ジ１８は、基板保持面１８ａおよび多数の吸着孔３４が
形成された第１支持板１９ａ、この第１支持板１９ａに
対して所定の間隔をおいて配置された第２支持板１９
ｂ、および第１支持板１９ａと第２支持板１９ｂとを貼
り合せるとともに第１支持板１９ａと第２支持板１９ｂ
との間に形成された間隙を密閉するスペーサ１９ｃによ
って構成されている。スペーサ１９ｃの一部には、吸引
チューブ３５を介して第２真空ポンプ３６に連通される
連通孔１９ｄが形成され、第２真空ポンプ３６により、
第１支持板１９ａと第２支持板１９ｂとの間の間隙の気
体が吸引される。

【００４８】また、このステージ１８の下方すなわち第
２支持板１９ｂは、移動機構２００に保持されている。
移動機構２００は、中央部に凹所２０２が形成されたス
テージ２０４と、ステージ２０４の凹所２０２と第２支
持板１９ｂとの間の空間に連通された吸引チューブ３７
と、吸引チューブ３７に接続された第３真空ポンプ４３
とによって構成されている。ステージ２０４の周縁部上
に第２支持板１９ｂが配置され、ステージ２０４の凹所
２０２は、第２支持板１９ｂによって密閉されている。
ステージ２０４は、第２支持板１９ｂより剛性が高くな
るような条件で形成されている。

【００４９】そして、図１４に示すように、移動機構２
００における第３真空ポンプ４３が作動され、吸引チュ
ーブ３７を介してステージ２０４の密閉された凹所２０
２内の気体を吸引することにより、凹所２０２内の気圧
が低下する。このとき、ステージ２０４の剛性が第２支
持板１９ｂより高いため、第２支持板１９ｂが変形す
る。このとき、第２支持板１９ｂは、その周縁部のみが
ステージ２０４の周縁部上に配置されているため、中央
部が円弧状に撓んだ状態に湾曲することが可能となる。

【００５０】このようなステージを上述した組立装置１
０における貼り付け機構部１２の上ステージに適用する
ことにより、上述した実施の形態と同様の効果を得るこ
とが可能である。

【００５１】すなわち、上述した実施の形態では、図１
１の（ｂ）に示した工程において、ステージを移動機構
１００によって移動させることによって、ステージを変
形させたが、この実施の形態では、第３真空ポンプ４３
によって上ステージ１８の第２支持板１９ｂとステージ
２０４の凹所２０２と間に規定される空間を吸引するこ
とにより、上ステージ１８の基板保持面１８ａに対向基
板６２を吸着保持した状態で対向基板６２の有効領域６
２ａをアレイ基板６０の有効領域６０ａから離間する方
向へ撓ませることが可能となる。この際、撓み量は、第
３真空ポンプ４３による吸引量によって制御される。

【００５２】この状態で、図１１の（ｃ）に示したよう
に、対向基板６２およびアレイ基板６０の周縁部同志を
シール材６４を介して貼り合わせた後、Ｘ−Ｙ−θステ
ージ２２によって基板同志の位置合わせを行う。

【００５３】その後、図１１の（ｄ）に示したように、
第３真空ポンプ４３を停止して凹所２０２内を大気圧に
戻すことにより、対向基板６２の撓みを取り除く。それ
により、対向基板６２およびアレイ基板６０は、スペー
サ６６を介して互いに接触し、所定のギャップをおいて
張り合わされる。

【００５４】このように構成された他の実施の形態にお
いても、前述した実施の形態と同様の作用効果を得るこ
とができるとともに、ボールネジやモータといった複雑
な移動機構を設けることなく、ステージを撓ませること
が可能となる。

【００５５】なお、この発明は上述した実施の形態およ
び変形例に限定されることなく、この発明の範囲内で更
に種々変形可能である。例えば、上述した実施の形態で
は、上ステージを撓ませるような構成としたが、下ステ
ージを撓ませてもよいし、上下のステージを撓ませる構
成としてもよい。また、ステージに形成された凹所の形
状、寸法、並びに、ガラス基板の寸法等は必要に応じて
種々変形可能である。また、この発明は、球状のスペー
サを有する液晶表示装置に限らず、有効領域上に立設さ
れた柱状のスペーサを有する液晶表示装置の組立にも適
用可能である。

【００５６】また、基板保持装置を構成する第１支持
板、第２支持板、凹所を有するステージは、それぞれ所
定の剛性を確保できれば、金属で形成しても樹脂で形成
してもよい。

【００５７】

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、透明基板に傷を付けることなく、且つ画素のずれを
防止することによって画質の向上したフラットディスプ
レイパネルを製造する際の製造工程に適用される基板保
持装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１の（ａ）乃至（ｃ）は、従来の基板保持装
置を示す断面図である。

【図２】図２は、この発明の基板保持装置が適用される
組立装置全体を示す側面図である。

【図３】図３は、図２に示した組立装置の貼り合わせ機
構部に適用される下ステージを示す斜視図である。

【図４】図４は、図２に示した組立装置の貼り合わせ機
構部に適用される上ステージを示す斜視図である。

【図５】図５は、図４に示した上ステージの変形例を示
す斜視図である。

【図６】図６は、図４に示した上ステージの変形例を示
す斜視図である。

【図７】図７は、図４に示した上ステージをＡ−Ａ線で
破断した時の断面図である。

【図８】図８は、図７に示した上ステージの基板保持面
に垂直な方向の変形を説明するための図である。

【図９】図９は、図２に示した組立装置によって組み立
てられる液晶表示装置の分解斜視図である。

【図１０】図１０は、図９に示した液晶表示装置の側面
図である。

【図１１】図１１の（ａ）乃至（ｄ）は、図２に示した
組立装置を用いて液晶表示装置を組み立てる工程を示す
図である。

【図１２】図１２は、図２に示した組立装置の貼り合わ
せ機構部に適用される他の上ステージを示す斜視図であ
る。

【図１３】図１３は、図１２に示した上ステージをＡ−
Ａ線で破断した時の断面図である。

【図１４】図１４は、図１３に示した上ステージの基板
保持面に垂直な方向の変形を説明するための図である。

【符号の説明】 １０…組立装置 １２…貼り合わせ機構部 １４…供給機構部 １８…上ステージ １８ａ…基板保持面 １９ａ…第１支持板 １９ｂ…第２支持板 １９ｃ…スペーサ ２０…下ステージ ２０ａ…基板保持面 ２２…Ｘ−Ｙ−Θステージ ３２…第１真空ポンプ ３４…吸着孔 ３６…第２真空ポンプ ４３…第３真空ポンプ １００…移動機構 １０２…ボールネジ １０４…モータ ２００…移動機構 ２０２…凹所 ２０４…ステージ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板を保持するための基板保持面を有する
   ステージを備え、前記ステージは、 前記基板を前記基板保持面に吸着保持する機構と、 前記ステージの形状を変形させる機構と、 を具備することを特徴とする基板保持装置。
2. 【請求項２】前記ステージは、 前記基板保持面を有し、前記基板を吸着保持する複数の
   孔を有する第１支持板と、 前記第１支持板に対して所定の間隔をおいて配置された
   第２支持板と、 前記第１支持板と第２支持板との間隙を吸引して前記第
   １支持板の基板保持面に前記基板を吸着させる吸引手段
   と、 少なくとも前記第１支持板の基板保持面における中央付
   近を前記基板保持面に対して垂直な方向に変形させる機
   構と、 を有することを特徴とする請求項１に記載の基板保持装
   置。