JPH1124081A - Optical element and laminated transfer sheet - Google Patents
Optical element and laminated transfer sheetInfo
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- JPH1124081A JPH1124081A JP9172058A JP17205897A JPH1124081A JP H1124081 A JPH1124081 A JP H1124081A JP 9172058 A JP9172058 A JP 9172058A JP 17205897 A JP17205897 A JP 17205897A JP H1124081 A JPH1124081 A JP H1124081A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光学要素および積
層体転写シートに関する。さらに詳しくは、液晶ディス
プレー等の各種表示装置に有効に用いられる光学要素、
およびこの光学要素の製造に好適な積層体転写シートに
関する。この光学要素および積層体転写シートにおける
ポリイミド樹脂層は、たとえば液晶配向膜を形成するた
めに有効に用いられる。[0001] The present invention relates to an optical element and a laminate transfer sheet. More specifically, an optical element effectively used for various display devices such as a liquid crystal display,
And a laminate transfer sheet suitable for manufacturing the optical element. The polyimide resin layer in the optical element and the laminate transfer sheet is effectively used, for example, for forming a liquid crystal alignment film.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来から、ポリメチルメタクリレート、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト等のプラスチックからなる透明基板の上に、仮担持体
の上に剥離可能に積層された透明導電層を接着剤を介し
て転写し、透明基板と透明導電層とを含んでなる光学要
素を製造する方法が知られている。このような透明導電
層は、通常ITO(インジウム−チン−オキサイド)膜
からなり、光透過率は通常70%以上である。また、上
記のような透明基材の光透過率も、通常70%以上であ
る。このような光学要素および積層体転写シートとして
は、たとえば、特開昭60−231396号公報には、
支持体(仮担持体)上に剥離可能な状態で、ITO層が
設けられている転写型の積層体が開示されている。この
公報には、テフロンフィルムからなる支持体の上にIT
O層を蒸着し、その後300℃のオーブン中で熱処理を
施し、ITO層の抵抗を低下させて形成した転写型の積
層体を用い、アクリル系接着剤を介して、ITO層をポ
リメチルメタクリレート基板の上に転写する方法が例示
されている。また、支持体(仮担持体)として芳香族ポ
リイミドも使用できることが示唆されている。また、特
開昭59−204542号公報には、剥離処理を施した
耐熱性基板上にITO層を蒸着した後、低温硬化性のエ
ポキシ樹脂接着剤を介して、偏光板の表面(ポリエチレ
ンテレフタレート(PET)フィルム)にITO層を転
写する方法が開示されている。この偏光板は、2枚のP
ETフィルムの間に偏光子を張り合わせた構造を有して
いる。また、特開昭58−177345号公報には、シ
リコーン離型処理面を有するポリエステルフィルムの離
型処理面の上にITO層をスパッタリングし、ITO層
とポリビニルブチラールシートとを熱圧着して、ポリビ
ニルブチラールシート表面にITO層を転写する方法が
開示されている。また、特開昭59−151705号公
報には、テフロンシート等の仮担持体の上にITO蒸着
膜の層を形成し、そのITO層を、熱硬化性または光硬
化性の接着剤を介して、プラスチック透明基体の表面に
転写する方法が開示されている。また、特開平4−14
2517号公報には、光照射により接着力が変化する接
着層を介して、支持体(仮担持体)上に形成されたIT
O層を基板に密着させ、所定のパターン上に光を透過ま
たは不透過させるマスクを介して光照射し、パターン状
ITO層を基板に転写させる方法が開示されている。仮
担持体にはポリイミドフィルムが使用できること、およ
び光照射により接着力が変化する接着剤として、アクリ
レートモノマーからなる組成物が使用できることも開示
されている。また、特開平7−80980号公報には、
表面エネルギーが低いフィルムからなる基材上に、IT
O層及び接着層をこの順に積層してなる透明導電性転写
シートが開示されている。接着層には、熱接着タイプが
使用できること、および表面エネルギーが低いフィルム
の具体例として、延伸ポリプロピレンが開示されてい
る。2. Description of the Related Art Conventionally, polymethyl methacrylate,
Polyethylene terephthalate, on a transparent substrate made of a plastic such as polyethylene naphthalate, a transparent conductive layer that is releasably laminated on a temporary carrier is transferred via an adhesive, and includes a transparent substrate and a transparent conductive layer. A method for manufacturing an optical element consisting of Such a transparent conductive layer is usually made of an ITO (indium-tin-oxide) film, and has a light transmittance of usually 70% or more. Further, the light transmittance of the above transparent substrate is usually 70% or more. As such an optical element and a laminate transfer sheet, for example, JP-A-60-231396 discloses
A transfer-type laminate in which an ITO layer is provided on a support (temporary support) in a detachable state is disclosed. This publication states that an IT support is provided on a support made of Teflon film.
An O layer is deposited, and then a heat treatment is performed in an oven at 300 ° C. to reduce the resistance of the ITO layer. Using a transfer-type laminate formed, the ITO layer is formed on a polymethyl methacrylate substrate via an acrylic adhesive. The method of transferring onto the image is exemplified. It is also suggested that an aromatic polyimide can be used as a support (temporary support). Also, JP-A-59-204542 discloses that after an ITO layer is deposited on a heat-resistant substrate subjected to a release treatment, the surface of a polarizing plate (polyethylene terephthalate (polyethylene terephthalate) A method of transferring an ITO layer to a (PET) film) is disclosed. This polarizing plate has two P
It has a structure in which a polarizer is stuck between ET films. Also, JP-A-58-177345 discloses that an ITO layer is sputtered on a release treatment surface of a polyester film having a silicone release treatment surface, and the ITO layer and the polyvinyl butyral sheet are thermocompression-bonded to each other. A method for transferring an ITO layer onto a butyral sheet surface is disclosed. JP-A-59-151705 discloses that a layer of an ITO vapor-deposited film is formed on a temporary support such as a Teflon sheet, and the ITO layer is formed through a thermosetting or photocurable adhesive. And a method of transferring to the surface of a plastic transparent substrate. Further, Japanese Patent Application Laid-Open No.
Japanese Patent No. 2517 discloses an IT device formed on a support (temporary support) via an adhesive layer whose adhesive force changes by light irradiation.
There is disclosed a method in which an O layer is brought into close contact with a substrate, light is irradiated onto a predetermined pattern through a mask that transmits or blocks light, and the patterned ITO layer is transferred to the substrate. It also discloses that a polyimide film can be used for the temporary support, and that a composition comprising an acrylate monomer can be used as an adhesive whose adhesive force changes by light irradiation. Also, JP-A-7-80980 discloses that
IT on a substrate consisting of a film with low surface energy
A transparent conductive transfer sheet in which an O layer and an adhesive layer are laminated in this order is disclosed. As a specific example of a film having a low surface energy, it is disclosed that oriented polypropylene can be used for the adhesive layer and that the film has low surface energy.
【0003】上記一連の転写積層体および転写方法で
は、仮担持体上に直接ITO層を積層しており、仮担持
体とITO層との間には、ITO層とともに転写される
樹脂層(剥離層ではない樹脂層)は設けられていない。
一方、ITO等の透明導電層と、その透明導電層の上に
密着された樹脂層とからなる積層体を転写する方法が、
たとえば、次のような文献に開示されている。特開平2
−174011号公報には、仮担持体(離型性シート)
の上に、樹脂被膜を積層し、樹脂被膜の上にITO層を
積層し、ITO層の上に熱接着可能な接着剤層を積層
し、転写シートを形成し、転写シートをガラス基板に加
熱しつつ圧着し、接着剤層を介して、ITO層と樹脂被
膜とからなる積層体を転写する方法が開示されている。
仮担持体としてポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエ
ステルなどの合成樹脂フィルムが使用できること、およ
び必要に応じて離型処理を施すことができることが開示
されている。樹脂被膜はITO層の保護膜として機能
し、繊維素系樹脂、アクリル樹脂およびナイロン樹脂か
らなる群から選ぶのが好適であることが開示されてい
る。また、特開平8−254690号公報には、仮担持
体の上に形成された、水溶性離型膜と、その水溶性離型
膜の上にスパッタリングして積層されたITO層とから
なる積層体を、熱転写型接着剤の層を介して透明基材に
転写する方法が開示されている。仮担持体としてポリエ
チレンテレフタレートフィルム等が使用できること、お
よび熱転写型接着剤としてポリエステル樹脂やアクリル
樹脂が使用できることが開示されている。また、水溶性
離型膜としてポリビニールアルコール等のポリマーが使
用できること、およびこの離型膜は、積層体の転写後は
水洗より除去されることが開示されている。In the above-described series of transfer laminates and transfer methods, an ITO layer is directly laminated on a temporary carrier, and a resin layer (exfoliation) transferred together with the ITO layer is provided between the temporary carrier and the ITO layer. (A resin layer that is not a layer) is not provided.
On the other hand, a method of transferring a laminate composed of a transparent conductive layer such as ITO and a resin layer adhered on the transparent conductive layer has been proposed.
For example, it is disclosed in the following literature. JP 2
Japanese Patent Publication No. 1740011 discloses a temporary support (release sheet).
A resin film is laminated on the substrate, an ITO layer is laminated on the resin film, a heat-adhesive adhesive layer is laminated on the ITO layer, a transfer sheet is formed, and the transfer sheet is heated on a glass substrate. A method is disclosed in which a laminate composed of an ITO layer and a resin film is transferred via an adhesive layer while pressing and bonding.
It is disclosed that a synthetic resin film of polyethylene, polypropylene, polyester, or the like can be used as the temporary support, and that a release treatment can be performed if necessary. It is disclosed that the resin film functions as a protective film for the ITO layer and is preferably selected from the group consisting of a cellulose resin, an acrylic resin, and a nylon resin. Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-254690 discloses a lamination comprising a water-soluble release film formed on a temporary support and an ITO layer formed by sputtering on the water-soluble release film. A method of transferring a body to a transparent substrate via a layer of a thermal transfer adhesive is disclosed. It is disclosed that a polyethylene terephthalate film or the like can be used as a temporary support, and that a polyester resin or an acrylic resin can be used as a thermal transfer adhesive. It also discloses that a polymer such as polyvinyl alcohol can be used as the water-soluble release film, and that the release film is removed by washing after transfer of the laminate.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記後
者2つの文献に開示された積層体の樹脂層は、仮担持体
からの転写(剥離)の容易性や、ITO層の保護のため
の機能だけが期待されているにすぎない。たとえば、液
晶ディスプレーの製造に用いられる光学要素では、透明
導電層の表面に液晶配向膜が形成されるが、樹脂層が液
晶配向膜を形成するための層として機能するには、液晶
を一定方向に配向させ、適当なプレティルト角を発生さ
せることに加え、高い機械的強度、高耐薬品性、などの
特性が要求される。たとえば、配向機能を付与するため
には、ロールに巻きつけた数mmの長さの毛を有する
綿、ナイロン、レーヨン等の布で、樹脂層をラビングす
る必要がある。配向膜として利用する場合、樹脂層の厚
さは通常0.05〜0.5μm程度あるので、機械的強
度が不足すると破損が生じる。また、ラビングによる樹
脂層の摩耗粉を除去するために、通常は水や有機溶剤中
で超音波洗浄を行う。したがって、耐薬品性が不足する
と、配向膜が侵蝕される。一方、透明基材の上に、IT
O層のみを転写した後、ITO層の上にこのような樹脂
層を設ける方法は、次の観点から避けるべきである。す
なわち、このような樹脂層の形成には、80℃以上の温
度での焼成処理が必要であり、透明基材として有用なポ
リメチルメタクリレートやポリエチレンテレフタレート
等のフィルムは、このような熱処理に耐えることができ
ず、変形等の損傷を受ける。本発明は、上述の問題に鑑
みなされたものであり、光学要素として要求される諸特
性、すなわち機械的強度,耐薬品性等のいずれにも優れ
た光学要素およびそれの製造に好適に用いられる積層体
転写シートを提供することを目的とする。However, the resin layer of the laminate disclosed in the latter two documents has only the function of easy transfer (peeling) from the temporary support and the function of protecting the ITO layer. Is just what is expected. For example, in an optical element used for manufacturing a liquid crystal display, a liquid crystal alignment film is formed on the surface of a transparent conductive layer. In order for the resin layer to function as a layer for forming the liquid crystal alignment film, the liquid crystal must be oriented in a certain direction. In addition to generating an appropriate pretilt angle, characteristics such as high mechanical strength and high chemical resistance are required. For example, in order to provide an orientation function, it is necessary to rub the resin layer with a cloth such as cotton, nylon, rayon or the like having hair of several mm wound around a roll. When used as an alignment film, the thickness of the resin layer is usually about 0.05 to 0.5 μm, and if the mechanical strength is insufficient, breakage occurs. Further, in order to remove abrasion powder of the resin layer due to rubbing, ultrasonic cleaning is usually performed in water or an organic solvent. Therefore, if the chemical resistance is insufficient, the alignment film is eroded. On the other hand, the IT
The method of providing such a resin layer on the ITO layer after transferring only the O layer should be avoided from the following viewpoints. That is, the formation of such a resin layer requires a baking treatment at a temperature of 80 ° C. or higher, and a film such as polymethyl methacrylate or polyethylene terephthalate useful as a transparent substrate can withstand such a heat treatment. And cannot be deformed. The present invention has been made in view of the above-described problems, and is suitably used for an optical element excellent in all of the characteristics required as an optical element, that is, mechanical strength, chemical resistance, and the like, and for manufacturing the optical element. It is an object to provide a laminate transfer sheet.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によれば、下記を要旨とする光学要素および
積層体転写シートが提供される。 [1]透明基板と、この透明基板上に積層して形成され
た放射線架橋を施された接着剤層と、この接着剤層上
に、仮担持体から転写して形成された積層体とを含んで
なり、この積層体が、接着剤層上に密着して形成された
透明導電層と、この透明導電層上に積層して形成された
樹脂層とを有する光学要素において、樹脂層が、積層体
の仮担持体から接着剤層上への転写の前に焼成処理を施
された、ポリイミドを含む塗膜からなることを特徴とす
る光学要素。 [2]前記接着剤が、その接着成分として、多官能(メ
タ)アクリレートモノマーを含んだアクリレート化合物
を含有する[1]記載の光学要素。 [3]光学要素の製造に用いられる積層体転写シートで
あって、仮担持体と、この仮担持体上に剥離可能に設け
られた焼成処理を施されたポリイミドを含む塗膜からな
る樹脂層と、この樹脂層上に積層して形成された透明導
電層と、この透明導電層上に積層して形成された放射線
架橋が可能な接着剤層とを含んでなるとともに、仮担持
体が、分子内に弗素原子および珪素原子を含まず、かつ
樹脂層の焼成温度を超えるガラス転移温度(Tg)を有
する耐熱性ポリマーからなるポリマー表面を有し、また
樹脂層が、ポリイミドを含む塗料を仮担持体のポリマー
表面に塗布した後、焼成処理を施された塗膜からなる積
層体転写シート。 [4]前記樹脂層の焼成温度が、80〜300℃である
[3]記載の積層体転写シート。According to the present invention, there is provided an optical element and a laminate transfer sheet having the following features. [1] A transparent substrate, a radiation-crosslinked adhesive layer formed on the transparent substrate, and a laminate formed on the adhesive layer by transferring from a temporary carrier. In the optical element having a transparent conductive layer formed in close contact with the adhesive layer and a resin layer formed by being laminated on the transparent conductive layer, the resin layer includes An optical element comprising a polyimide-containing coating film that has been subjected to a baking treatment before transfer from the temporary support of the laminate to the adhesive layer. [2] The optical element according to [1], wherein the adhesive contains an acrylate compound containing a polyfunctional (meth) acrylate monomer as an adhesive component thereof. [3] A laminated body transfer sheet used for manufacturing an optical element, wherein the resin layer is composed of a temporary support and a coating film containing a polyimide which has been subjected to a baking treatment and is releasably provided on the temporary support. And, while comprising a transparent conductive layer formed by lamination on the resin layer, and a radiation-crosslinkable adhesive layer formed by lamination on the transparent conductive layer, the temporary carrier, The resin layer has a polymer surface made of a heat-resistant polymer that does not contain fluorine atoms and silicon atoms and has a glass transition temperature (Tg) higher than the firing temperature of the resin layer. A laminate transfer sheet comprising a coating film that has been applied to the polymer surface of the carrier and then subjected to a baking treatment. [4] The laminate transfer sheet according to [3], wherein the resin layer has a firing temperature of 80 to 300 ° C.
【0006】[0006]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しつつ具体的に説明する。 I.光学要素 図1に示すように、本発明の光学要素は、透明基材1
と、この透明基板1上に積層して形成された放射線架橋
を施された接着剤層2と、この接着剤層2上に仮担持体
4から転写して形成された積層体3から大要構成されて
いる。また、この積層体3は、接着剤層2上に密着して
形成された透明導電層31と、この透明導電層31上に
積層して形成された樹脂層32とを有し、かつこの樹脂
層32が転写の前に焼成処理を施された、ポリイミドを
含む所定の塗膜からなっている。Embodiments of the present invention will be specifically described below with reference to the drawings. I. Optical Element As shown in FIG. 1, the optical element of the present invention comprises a transparent substrate 1
And a radiation-crosslinked adhesive layer 2 formed on the transparent substrate 1 and a laminate 3 formed on the adhesive layer 2 by transfer from the temporary carrier 4. It is configured. The laminate 3 has a transparent conductive layer 31 formed in close contact with the adhesive layer 2 and a resin layer 32 formed by being laminated on the transparent conductive layer 31. The layer 32 is made of a predetermined coating containing polyimide, which has been subjected to a baking treatment before the transfer.
【0007】本発明に用いられる樹脂層は、前述のよう
な液晶配向膜を形成するための層としての要求特性(高
い機械的強度、耐薬品性)を満たすポリイミドを含む塗
膜(ポリイミド樹脂層)からなる。また、このポリイミ
ド樹脂層は、前述のように仮担持体からの転写前に焼成
処理が施されている。したがって、前述のような透明基
材の加熱による損傷を生ずるおそれがない。さらに、ポ
リイミド樹脂層の焼成処理は、仮担持体とポリイミド樹
脂層との界面(離型面)における接着力を弱めるように
作用する。ここで、「焼成処理」とは、残留溶媒の除去
や、熱硬化型の場合の硬化反応の完了のための加熱処理
のことを意味する。また、液晶配向膜を形成する場合
は、プレティルト角を発生させるための処理としての加
熱処理も含む。このような焼成処理は、ポリイミド樹脂
層と仮担持体との界面接着力を弱めるようにも作用す
る。この理由は明らかではないが、焼成処理による樹脂
層の内部凝集力の増大が、その一因であると考えられ
る。The resin layer used in the present invention is a coating film (polyimide resin layer) containing polyimide which satisfies the characteristics (high mechanical strength and chemical resistance) required for forming a liquid crystal alignment film as described above. ). Further, as described above, the polyimide resin layer is subjected to a baking treatment before the transfer from the temporary support. Therefore, there is no possibility that the transparent substrate is damaged by heating as described above. Further, the baking treatment of the polyimide resin layer acts to weaken the adhesive force at the interface (release surface) between the temporary support and the polyimide resin layer. Here, the “baking treatment” means a heating treatment for removing a residual solvent or completing a curing reaction in the case of a thermosetting type. In the case of forming a liquid crystal alignment film, a heat treatment as a process for generating a pretilt angle is also included. Such a baking treatment also acts to weaken the interfacial adhesion between the polyimide resin layer and the temporary carrier. Although the reason is not clear, it is considered that the increase in the internal cohesion of the resin layer due to the baking treatment is one of the causes.
【0008】一方、転写用の接着剤層が放射線架橋を施
された接着剤からなることは、接着剤層と積層体との界
面接着力(密着力)を効果的に高めることができる。し
たがって、ポリイミド樹脂層の焼成処理の効果と相俟っ
て、仮担持体からの積層体の剥離、すなわち、透明基材
への積層体の転写が容易になる。また、仮担持体の離型
面(ポリイミド樹脂層の塗布面)に、殊更弗素系樹脂、
シリコーン樹脂等の離型処理層を設ける必要がないの
で、ポリイミド樹脂層の塗布の際のはじき等に起因する
塗布欠陥を効果的に防止することができる。したがっ
て、樹脂層の塗膜化が容易であり、転写後に均一かつ平
滑なポリイミド樹脂層表面の形成が可能である。また、
転写後の樹脂層表面が、剥離処理剤で汚染される不都合
もない。On the other hand, when the adhesive layer for transfer is made of an adhesive which has been subjected to radiation crosslinking, the interfacial adhesion (adhesion) between the adhesive layer and the laminate can be effectively increased. Therefore, in combination with the effect of the baking treatment of the polyimide resin layer, peeling of the laminate from the temporary support, that is, transfer of the laminate to the transparent substrate becomes easy. In addition, particularly a fluorine-based resin is applied to the release surface of the temporary support (the surface to which the polyimide resin layer is applied).
Since there is no need to provide a release treatment layer of a silicone resin or the like, coating defects caused by repelling or the like at the time of applying the polyimide resin layer can be effectively prevented. Therefore, the resin layer can be easily formed into a coating film, and a uniform and smooth polyimide resin layer surface can be formed after the transfer. Also,
There is no inconvenience that the surface of the resin layer after transfer is contaminated with the release agent.
【0009】以下、本発明をその構成要素ごとに具体的
に説明する。 1.透明基材 本発明に用いられる透明基材としては、透明性が高く、
かつ可撓性を有するプラスチックフィルムが好適であ
る。このようなプラスチックの具体例としては、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等の
ポリエステル樹脂;ポリメチルメタクリレート、変性ポ
リメチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリフッ化
ビニリデン、アクリル変成ポリフッ化ビニリデン等のフ
ッ素樹脂;ポリカーボネート樹脂;塩化ビニル系コポリ
マー等の塩化ビニル樹脂;ポリアリレート等を挙げるこ
とができる。これらは、単独またはこれらの混合物のい
ずれであってもよい。また、このようなプラスチックフ
ィルムを複数層含んでなる多層フィルムであってもよ
い。この透明基材の形成は、後述するポリイミド樹脂層
に焼成処理を施し、この樹脂層の上に透明導電層を積層
形成した後、この上に積層して形成することができる。
このようにして形成することができるので、透明基材と
して比較的耐熱性の低いプラスチックフィルムを用いる
ことができる。Hereinafter, the present invention will be specifically described for each component. 1. Transparent substrate As the transparent substrate used in the present invention, high transparency,
A flexible plastic film is preferred. Specific examples of such plastics include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; acrylic resins such as polymethyl methacrylate and modified polymethyl methacrylate; fluororesins such as polyvinylidene fluoride and acrylic-modified polyvinylidene fluoride; polycarbonate resins Vinyl chloride resins such as vinyl chloride copolymers; and polyarylates. These may be either alone or a mixture thereof. Further, a multilayer film including a plurality of such plastic films may be used. The transparent substrate can be formed by performing a baking treatment on a polyimide resin layer described later, forming a transparent conductive layer on the resin layer, and then laminating the transparent conductive layer on the transparent conductive layer.
Since it can be formed in this manner, a plastic film having relatively low heat resistance can be used as the transparent substrate.
【0010】上記プラスチックの中で、ポリメチルメタ
クリレートは、とりわけ優れた透明性と、比較的小さな
リタデーション値とを有することから、液晶ディスプレ
ー用の光学要素の製造に好適である。透明基材の透過率
は、70%以上が好ましく、80%以上がさらに好まし
い。なお、本発明における「光透過率」とは、日立製作
所社製の自記分光光度計「型番:U−4000」を使用
し、550nmの光を用いて測定された光線透過率を意
味する。透明基材の厚さは、10〜1,000μmが好
ましい。また、本発明の効果を損なわない範囲におい
て、透明基材中に紫外線吸収剤、吸湿剤、着色剤、蛍光
物質、燐光物質等の添加剤を含有させることもできる。
さらに、透明基材として、プリズムフィルムを用いるこ
ともできる。 2.接着剤層 本発明において接着剤層は、透明導電層と透明基材とを
接着するために用いられる。この接着剤層は、たとえ
ば、架橋可能なモノマーまたはオリゴマーを含む架橋性
の液体を、透明導電層の上にコーティングし、それを架
橋させて形成することができる。モノマーまたはオリゴ
マーを含む液体は粘度が十分に低いので、均一な厚さの
接着剤層を形成することができる。架橋性の液体の粘度
(25℃)は、1〜100,000センチポアズが好ま
しく、5〜80,000センチポアズがさらに好まし
く、中でも10〜50,000センチポアズが最も好ま
しい。この粘度が1センチポアズ未満であると、十分な
厚さの層が形成できず、接着性が低下するおそれがあ
り、反対に100,000センチポアズを超えると、均
一な厚さの層を形成できないおそれがある。接着剤層の
厚さは、1〜100μmが好ましい。[0010] Among the above plastics, polymethyl methacrylate is particularly suitable for producing optical elements for liquid crystal displays because of its excellent transparency and relatively small retardation value. The transmittance of the transparent substrate is preferably 70% or more, more preferably 80% or more. In addition, the "light transmittance" in the present invention means a light transmittance measured using a self-recording spectrophotometer "Model: U-4000" manufactured by Hitachi, Ltd. using light of 550 nm. The thickness of the transparent substrate is preferably from 10 to 1,000 μm. Further, as long as the effects of the present invention are not impaired, additives such as an ultraviolet absorbent, a moisture absorbent, a coloring agent, a fluorescent substance, and a phosphorescent substance may be contained in the transparent base material.
Further, a prism film can be used as the transparent substrate. 2. Adhesive layer In the present invention, the adhesive layer is used for bonding the transparent conductive layer and the transparent substrate. This adhesive layer can be formed, for example, by coating a crosslinkable liquid containing a crosslinkable monomer or oligomer on the transparent conductive layer and crosslinking the transparent conductive layer. Since the viscosity of the liquid containing the monomer or oligomer is sufficiently low, an adhesive layer having a uniform thickness can be formed. The viscosity (25 ° C.) of the crosslinkable liquid is preferably from 1 to 100,000 centipoise, more preferably from 5 to 80,000 centipoise, and most preferably from 10 to 50,000 centipoise. If the viscosity is less than 1 centipoise, a layer having a sufficient thickness cannot be formed, and the adhesiveness may be reduced. Conversely, if the viscosity exceeds 100,000 centipoise, a layer having a uniform thickness may not be formed. There is. The thickness of the adhesive layer is preferably from 1 to 100 μm.
【0011】透明導電層と透明基材との接着剤層による
接着(すなわち、透明導電層−ポリイミド樹脂層からな
る積層体の仮担持体からの転写)は、透明導電層の上に
形成した架橋前の接着剤層の表面に透明基材を積層密着
し、接着剤に放射線を照射し架橋させた後、仮担持体を
剥離し、除去することにより行うことができる。接着剤
層と透明基材との積層密着は、透明基材の上から加圧す
ることにより容易に行うことができる。仮担持体の剥離
方向は特に制限はないが、ポリイミド樹脂層と仮担持体
との成す角度が、5〜180度となるようにして行うこ
とが好ましい。The adhesion of the transparent conductive layer and the transparent substrate by the adhesive layer (that is, the transfer of the laminate composed of the transparent conductive layer and the polyimide resin layer from the temporary support) is performed by the crosslinking formed on the transparent conductive layer. The method can be carried out by laminating and adhering a transparent substrate to the surface of the previous adhesive layer, irradiating the adhesive with radiation and crosslinking, and then removing and removing the temporary carrier. Lamination and adhesion between the adhesive layer and the transparent substrate can be easily performed by pressing the transparent substrate. The peeling direction of the temporary support is not particularly limited, but it is preferable that the peeling is performed such that the angle between the polyimide resin layer and the temporary support is 5 to 180 degrees.
【0012】また、透明基材の表面に架橋前の接着剤層
を形成した後、接着剤層と焼成後の透明導電層およびポ
リイミド樹脂層からなる積層体とを密着させ、接着剤を
架橋することもできる。この場合、透明基材の表面にプ
ライマーを塗布した後、架橋性の液体を塗布することも
できる。After forming an adhesive layer before crosslinking on the surface of the transparent substrate, the adhesive layer is brought into close contact with the laminated body composed of the transparent conductive layer and the polyimide resin layer after firing to crosslink the adhesive. You can also. In this case, after the primer is applied to the surface of the transparent substrate, a crosslinkable liquid can be applied.
【0013】接着剤層の架橋処理は、透明基材の上から
放射線を照射することにより行うことができる。放射線
は、紫外線,電子線,可視光線,遠赤外線等を用いるこ
とができる。照射量は、接着剤層が十分に架橋するよう
に適宜決定することができる。たとえば、紫外線の場
合、1〜10J/cm2 が好ましい。接着剤層を形成す
る架橋性の液体に含まれるモノマーまたはオリゴマー
は、(メタ)アクリレート化合物、エポキシ系化合物等
の化合物が使用できる。(メタ)アクリレート化合物
は、多官能アクリレート化合物からなるものが好まし
い。これにより、重合後の接着剤層の架橋密度を向上さ
せ、寸法の経時安定性を高め、接着剤層の収縮または膨
張による剥離を効果的に防止することができる。また、
架橋性の液体には所望により、添加剤を含ませることが
できる。たとえば、反応性を高めるために、重合開始剤
を含ませることができる。また、接着性を高めるため
に、シランカップリング剤等のカップリング剤を含ませ
ることができる。カップリング剤は、架橋性の化合物1
00重量部に対して、0.1〜10重量部含ませること
が好ましい。また、接着剤層の屈折率を高めるために、
五酸化アンチモン、ジルコニア等の無機コロイド粒子を
含ませても良い。その他の添加剤として、本発明の効果
を損なわない範囲で、導電性粒子、界面活性剤、紫外線
吸収剤、酸化防止剤、防黴剤、防錆剤、吸湿剤、蛍光塗
料等の着色剤、燐光物質等の添加剤も使用することがで
きる。[0013] The crosslinking treatment of the adhesive layer can be performed by irradiating the transparent substrate with radiation. As the radiation, ultraviolet rays, electron beams, visible rays, far infrared rays, and the like can be used. The irradiation amount can be appropriately determined so that the adhesive layer is sufficiently crosslinked. For example, in the case of ultraviolet rays, 1 to 10 J / cm 2 is preferable. As the monomer or oligomer contained in the crosslinkable liquid forming the adhesive layer, compounds such as (meth) acrylate compounds and epoxy compounds can be used. The (meth) acrylate compound preferably comprises a polyfunctional acrylate compound. Thereby, the crosslink density of the adhesive layer after polymerization can be improved, the dimensional stability over time can be increased, and peeling due to shrinkage or expansion of the adhesive layer can be effectively prevented. Also,
Additives can be included in the crosslinkable liquid, if desired. For example, a polymerization initiator can be included to increase the reactivity. In addition, a coupling agent such as a silane coupling agent can be included to enhance the adhesiveness. The coupling agent is a crosslinking compound 1
It is preferable to add 0.1 to 10 parts by weight to 00 parts by weight. Also, in order to increase the refractive index of the adhesive layer,
Inorganic colloid particles such as antimony pentoxide and zirconia may be included. As other additives, as long as the effects of the present invention are not impaired, conductive particles, surfactants, ultraviolet absorbers, antioxidants, fungicides, rust inhibitors, moisture absorbers, coloring agents such as fluorescent paints, Additives such as phosphorescent substances can also be used.
【0014】3.積層体 本発明に用いられる積層体は、前述のように透明導電層
と樹脂層とを有する。 (1)透明導電層 本発明に用いられる透明導電層は、ポリイミド樹脂層に
焼成処理を施した後、その樹脂層の上にコーティングし
て形成することが好ましい。透明導電層としては、液晶
ディスプレーの透明電極として汎用されている、ITO
(インジウム・チン・オキサイド)膜などを使用するこ
とができる。透明導電層の厚さは、0.01〜1,00
0μmが好ましく、表面抵抗値は、500Ω/□以下が
好ましく、1〜200Ω/□がさらに好ましい。また、
光透過率は70%以上が好ましく、80%以上がさらに
好ましい。ITO膜は、蒸着、スパッタリング、ペース
トの塗布等の汎用のコーティング手段により形成するこ
とができる。これにより、ポリイミド樹脂層に密着した
ITO膜を得ることができる。また、本発明の効果を損
なわない限り、ポリイミド樹脂層の上にプライマー層を
設けた後、そのプライマー層の上に透明導電層をコーテ
ィングすることもできる。3. Laminate The laminate used in the present invention has a transparent conductive layer and a resin layer as described above. (1) Transparent conductive layer The transparent conductive layer used in the present invention is preferably formed by applying a baking treatment to a polyimide resin layer and then coating the polyimide resin layer on the resin layer. As the transparent conductive layer, ITO, which is widely used as a transparent electrode of a liquid crystal display, is used.
(Indium tin oxide) film or the like can be used. The thickness of the transparent conductive layer is 0.01 to 1,000.
The surface resistance is preferably 500 Ω / □ or less, more preferably 1 to 200 Ω / □. Also,
The light transmittance is preferably 70% or more, more preferably 80% or more. The ITO film can be formed by general-purpose coating means such as vapor deposition, sputtering, and application of a paste. Thereby, an ITO film adhered to the polyimide resin layer can be obtained. In addition, as long as the effects of the present invention are not impaired, after providing a primer layer on the polyimide resin layer, a transparent conductive layer can be coated on the primer layer.
【0015】(2)樹脂層 本発明に用いられる樹脂層は、転写の前に焼成処理を施
された、ポリイミドを含む塗膜(ポリイミド樹脂層)か
らなっている。このポリイミド樹脂層としては、下記
[a]または[b]の塗膜を用いることが好ましい。 [a]有機溶剤と、その有機溶剤に溶解された可溶性ポ
リイミドとを含んでなる塗料から形成された塗膜、
[b]熱硬化型ポリイミド樹脂を含んでなる塗料から形
成された硬化塗膜、ここで、熱硬化型ポリイミド樹脂に
は、一般に「熱重合型ポリイミド樹脂」と呼ばれるもの
も含まれる。この樹脂層の形成は、前述のポリイミドを
含んでなる塗料を、後述する仮担持体の耐熱性ポリマー
からなるポリマー表面の上に直接コーティングして形成
することができる。(2) Resin Layer The resin layer used in the present invention comprises a polyimide-containing coating film (polyimide resin layer) which has been subjected to a baking treatment before transfer. As the polyimide resin layer, it is preferable to use a coating film of the following [a] or [b]. [A] a coating film formed from a coating material comprising an organic solvent and a soluble polyimide dissolved in the organic solvent,
[B] A cured coating film formed from a paint containing a thermosetting polyimide resin. Here, the thermosetting polyimide resin also includes what is generally called “thermopolymerized polyimide resin”. This resin layer can be formed by directly coating the above-mentioned paint containing polyimide on the surface of a polymer made of a heat-resistant polymer of a temporary support described later.
【0016】また、積層体の透明基材への転写を、より
効果的に行うには、下記[I]および/または[II]の
ようにするのが好ましい。 [I]接着剤層が、多官能(メタ)アクリレートモノマ
ーを含有するアクリレート化合物からなる接着剤成分を
含むようにする。 [II]ポリイミド樹脂層の焼成温度を80〜300℃の
範囲にする。前記[I]の場合における接着剤層は、接
着剤成分の架橋を促進するために、重合開始剤を含有す
ることが好ましい。また、前記[II]の焼成温度のさら
に好ましい範囲は140〜290℃であり、170〜2
80℃が最も好ましい。In order to transfer the laminate to the transparent substrate more effectively, it is preferable to use the following [I] and / or [II]. [I] The adhesive layer contains an adhesive component composed of an acrylate compound containing a polyfunctional (meth) acrylate monomer. [II] The firing temperature of the polyimide resin layer is set in the range of 80 to 300 ° C. The adhesive layer in the case of the above [I] preferably contains a polymerization initiator in order to promote crosslinking of the adhesive component. Further, a more preferable range of the firing temperature of [II] is 140 to 290 ° C.,
80 ° C. is most preferred.
【0017】ポリイミドの具体例としては、テトラフェ
ニルチオフェン骨格を有する可溶性ポリイミド、シクロ
ブタンテトラカルボン酸二無水物/芳香族ジアミン系ポ
リイミド、蒸着重合ポリイミド、芳香族テトラカルボン
酸二無水物/芳香族ジアミン/シリコーンジアミン系ポ
リイミド、芳香族テトラカルボン酸二無水物/脂肪族ジ
アミン系ポリイミド、弗素含有ポリイミド、長鎖芳香族
ジアミン使用全芳香族ポリイミド、有機電解質添加系ポ
リイミド、シリル化ポリイミド、ポリアミック酸を含有
する前駆体を重合(硬化)して形成したポリイミド等を
挙げることができる。Specific examples of the polyimide include soluble polyimide having a tetraphenylthiophene skeleton, cyclobutanetetracarboxylic dianhydride / aromatic diamine-based polyimide, vapor-deposited polymerization polyimide, aromatic tetracarboxylic dianhydride / aromatic diamine / Contains silicone diamine-based polyimide, aromatic tetracarboxylic dianhydride / aliphatic diamine-based polyimide, fluorine-containing polyimide, wholly aromatic polyimide using long-chain aromatic diamine, organic electrolyte-added polyimide, silylated polyimide, and polyamic acid A polyimide formed by polymerizing (curing) a precursor can be used.
【0018】塗料に含まれる溶剤としては、N−メチル
ピロリドン、γ−ブチロラクトン等の極性溶剤を好適に
使用することができる。塗料のコーティングには、通常
のコーティング手段、たとえば、スピンコーティング、
ダイコーティング、バーコーティング、蒸着コーティン
グ等を使用することができる。また、本発明の効果を損
なわない限り、ポリイミド樹脂層を複数の層からなるよ
うに形成しても良い。また、ポリイミド樹脂層には、本
発明の効果を損なわない範囲において、紫外線吸収剤、
吸湿剤、着色剤、蛍光物質、燐光物質等の添加剤を含有
させることもできる。As the solvent contained in the coating material, a polar solvent such as N-methylpyrrolidone and γ-butyrolactone can be suitably used. For coating of paint, usual coating means, for example, spin coating,
Die coating, bar coating, vapor deposition coating and the like can be used. Further, as long as the effects of the present invention are not impaired, the polyimide resin layer may be formed of a plurality of layers. Further, in the polyimide resin layer, as long as the effect of the present invention is not impaired, an ultraviolet absorber,
Additives such as a hygroscopic agent, a coloring agent, a fluorescent substance, and a phosphorescent substance may be contained.
【0019】4.仮担持体 積層体を透明基材に転写するときに用いられる仮担持体
としては、後述する積層体転写シートにおいて用いられ
るものを好適に用いることができる。4. Temporary Carrier As the temporary carrier used when transferring the laminate to the transparent substrate, a temporary carrier used in a later-described laminate transfer sheet can be suitably used.
【0020】5.製造方法 本発明の光学要素は、後述する積層体を用いて好適に製
造することができる。[5] Manufacturing Method The optical element of the present invention can be suitably manufactured using a laminate described below.
【0021】II.積層体転写シート 本発明の積層体転写シートは、前記光学要素の製造に好
適に用いられる。その理由は下記のとおりである。すな
わち、ITO層自体は、いろいろなポリマーフィルムか
らの剥離が容易であり、離型処理層を別途設ける必要が
なく仮担持体から容易に剥離することができる。しかし
ながら、ITO等の透明導電層と、その導電層の表面に
積層された樹脂層とからなる積層体を有する光学要素を
転写法で形成する場合、樹脂層を仮担持体の表面に剥離
可能に仮接着する必要があり、通常は樹脂層上に離型処
理層が必要である。このような方法では、離型処理層を
設ける工程が増える分だけ生産性が低下する。また、離
型処理剤による樹脂層表面の汚染の危険性も伴うことに
なる。そこで、上記問題を解消した本発明の積層体転写
シートを用い、光学要素を製造するのが好適なのであ
る。II. Laminate Transfer Sheet The laminate transfer sheet of the present invention is suitably used for producing the optical element. The reason is as follows. That is, the ITO layer itself can be easily peeled from various polymer films, and can be easily peeled from the temporary support without the need to separately provide a release treatment layer. However, when an optical element having a laminate composed of a transparent conductive layer such as ITO and a resin layer laminated on the surface of the conductive layer is formed by a transfer method, the resin layer can be peeled off on the surface of the temporary carrier. Temporary bonding is required, and a release treatment layer is usually required on the resin layer. In such a method, productivity is reduced by the amount of steps for providing the release treatment layer. In addition, there is a risk of contamination of the resin layer surface by the release agent. Therefore, it is preferable to manufacture an optical element using the laminate transfer sheet of the present invention which has solved the above-mentioned problem.
【0022】本発明の積層体転写シートは、図2に示す
ように、所定の仮担持体4と、ポリイミド樹脂層32
と、透明導電層31と、接着剤層2とを順次積層して形
成される。本発明の積層体転写シートは、ポリイミド樹
脂層が仮接着される仮担持体の離型面(仮接着面)上に
離型処理材の層を含まず、また、仮担持体のポリマーが
分子内に弗素原子および珪素原子を含まない。したがっ
て、ポリイミド樹脂層の塗布の際のはじき等の塗布欠陥
を効果的に防止することができ、ポリイミド樹脂層の塗
膜化が容易である。また、仮担持体の仮接着面が、ポリ
イミド樹脂層の焼成温度を超えるTgを有する耐熱性ポ
リマーからなる表面を有しているので焼成処理において
仮担持体の熱変形(熱収縮等)が生ずることがない。耐
熱性ポリマーのTgは樹脂層の焼成温度を超えるように
決定されるが、140℃以上が好ましく、180〜50
0℃がさらに好ましい。As shown in FIG. 2, the laminate transfer sheet according to the present invention comprises a predetermined temporary carrier 4 and a polyimide resin layer 32.
, The transparent conductive layer 31 and the adhesive layer 2 are sequentially laminated. The laminate transfer sheet of the present invention does not include a release treatment material layer on the release surface (temporary adhesion surface) of the temporary support to which the polyimide resin layer is temporarily bonded, and the polymer of the temporary support has a molecular structure. Contains no fluorine atoms and no silicon atoms. Therefore, coating defects such as repelling at the time of applying the polyimide resin layer can be effectively prevented, and the polyimide resin layer can be easily formed into a coating film. Further, since the temporary bonding surface of the temporary support has a surface made of a heat-resistant polymer having a Tg exceeding the firing temperature of the polyimide resin layer, thermal deformation (thermal shrinkage, etc.) of the temporary support occurs in the firing process. Nothing. The Tg of the heat-resistant polymer is determined so as to exceed the baking temperature of the resin layer.
0 ° C. is more preferred.
【0023】以下、本発明を構成要素ごとに具体的に説
明する。Hereinafter, the present invention will be specifically described for each component.
【0024】1.仮担持体 本発明の積層体転写シートに用いられる仮担持体は、上
記のように、分子内に弗素原子および珪素原子を含ま
ず、かつポリイミド樹脂層の焼成温度を超えるTgを有
する耐熱性ポリマーからなるポリマー表面を有する。こ
のような仮担持体としては、[1]上記耐熱性ポリマー
からなるポリマー担持体、または、[2]上記耐熱性ポ
リマーからなるポリマー層を支持体の表面に有する多層
担持体、を挙げることができる。仮担持体全体の厚さ
は、10〜3,000μmが好ましく、前記[2]の場
合のポリマー層の厚さは、0.1〜100μmが好まし
い。1. Temporary Support The temporary support used in the laminate transfer sheet of the present invention is, as described above, a heat-resistant polymer that does not contain a fluorine atom and a silicon atom in the molecule and has a Tg exceeding the firing temperature of the polyimide resin layer. Having a polymer surface consisting of Examples of such a temporary support include [1] a polymer support made of the above heat-resistant polymer, and [2] a multilayered support having a polymer layer made of the above heat-resistant polymer on the surface of the support. it can. The thickness of the entire temporary support is preferably from 10 to 3,000 μm, and the thickness of the polymer layer in the case of the above [2] is preferably from 0.1 to 100 μm.
【0025】上記のような耐熱性ポリマーの具体例とし
て、PI(ポリイミド)、PEI(ポリエーテルイミ
ド)、PAR(ポリアリレート)およびPEEK(ポリ
エーテルエーテルケトン)等を挙げることができる。ま
た、上記[2]における支持体の材料には、ポリイミド
樹脂層の焼成処理の際にも熱的損傷を受けないものが選
ばれる。たとえば、ガラス、セラミック、金属、または
上記のような耐熱性ポリマーを挙げることができる。ま
た、本発明の効果を損なわない限り、通常の転写法にお
いて用いられる仮担持体(たとえば、PET,PEN
(ポリエーテルニトリル)等)を用いることもできる。Specific examples of the above-mentioned heat-resistant polymer include PI (polyimide), PEI (polyetherimide), PAR (polyarylate), and PEEK (polyetheretherketone). In addition, as the material of the support in the above [2], a material that is not thermally damaged even during the baking treatment of the polyimide resin layer is selected. For example, glass, ceramic, metal, or a heat-resistant polymer as described above. As long as the effects of the present invention are not impaired, a temporary support (eg, PET, PEN) used in a normal transfer method is used.
(Polyether nitrile) and the like can also be used.
【0026】2.ポリイミド樹脂層 本発明に用いられるポリイミド樹脂層としては、前述の
光学要素で用いたものを用いることができる。すなわ
ち、前述のようにポリイミドを含む塗料を仮担持体のポ
リマー表面に塗布した後、焼成処理を施した塗膜から形
成することができる。2. Polyimide resin layer As the polyimide resin layer used in the present invention, those used in the above-described optical element can be used. That is, as described above, a coating containing polyimide can be formed from a coating film that has been subjected to a baking treatment after being applied to the polymer surface of the temporary support.
【0027】3.透明導電層 前述の光学要素に用いたものと同じものを用いることが
できる。3. Transparent conductive layer The same layer as that used for the above-described optical element can be used.
【0028】4.接着剤層 前述の光学要素に用いたものと同じものを用いることが
できる。4. Adhesive layer The same layer as that used for the above-mentioned optical element can be used.
【0029】5.製造方法 本発明の積層体転写シートは、たとえば、次のようにし
て製造することができる。まず、仮担持体上に、ポリイ
ミド含有塗料をコーティングし、均一な厚さを有する焼
成前の樹脂層を形成する。次に、その樹脂層に焼成処理
を施し、ポリイミド樹脂層を形成する。続いて、この樹
脂層の上に透明導電層を形成し、仮担持体の上に形成さ
れたポリイミド樹脂層−透明導電層からなる積層体を得
る。最後に、この積層体の透明導電層の上に、放射線架
橋可能な接着剤を滴下し、剥離フィルムを加圧しながら
ラミネートし、ポリイミド樹脂層と透明基材との間に接
着剤の前駆体の層を形成する。これにより、接着剤の前
駆体層の上に積層された剥離フィルムを含んだ積層体転
写シートを得ることができる。剥離フィルムには、通常
の接着剤に用いられるものが使用できる。たとえば、シ
リコーン処理層を有するポリエチレンテレフタレートフ
ィルム、低分子量または超低分子量ポリエチレンフィル
ム等である。5. Manufacturing Method The laminate transfer sheet of the present invention can be manufactured, for example, as follows. First, a polyimide-containing paint is coated on the temporary support to form a resin layer before firing having a uniform thickness. Next, a baking treatment is performed on the resin layer to form a polyimide resin layer. Subsequently, a transparent conductive layer is formed on the resin layer, and a laminate including the polyimide resin layer and the transparent conductive layer formed on the temporary carrier is obtained. Finally, a radiation-crosslinkable adhesive is dropped on the transparent conductive layer of the laminate, and the release film is laminated while being pressed, and a precursor of the adhesive is formed between the polyimide resin layer and the transparent substrate. Form a layer. Thereby, a laminated body transfer sheet including a release film laminated on the precursor layer of the adhesive can be obtained. As the release film, those used for ordinary adhesives can be used. For example, a polyethylene terephthalate film having a silicone-treated layer, a low molecular weight or ultra-low molecular weight polyethylene film, and the like.
【0030】6.光学要素への応用 本発明の積層体転写シートを用いて光学要素を製造する
には、まず、剥離フィルムを除去し、接着剤の前駆体層
の上に透明基材を加圧しながらラミネートし、続いて、
透明基材の上から放射線を照射して接着剤を架橋させ、
積層体と透明基材とを、放射線架橋された接着剤の層を
介して接着する。最後に、ポリイミド樹脂層から仮担持
体を除去し、透明基材への、透明導電層−ポリイミド樹
脂層からなる積層体の転写を完了する。また、上記剥離
フィルムの代わりに透明基材を用い、積層体転写シート
と、接着剤の前駆体層の上に積層された透明基材とから
なる光学要素の前駆体を形成し、接着剤を架橋させた
後、仮担持体を除去し、積層体の転写を完了させること
もできる。このような光学要素の前駆体は、予め積層さ
れた透明基材を含んだ積層体転写シートの他の実施の形
態とみなすことができる。さらに、本発明の効果を損な
わない限り、透明導電層を、たとえば液晶表示装置のピ
クセル、電極、カラーフィルター層等の形状および寸法
に合わせて、パターン状に配置することができる。たと
えば、本発明の積層体転写シートにおいて、ポリイミド
樹脂層の上にパターン状に配置したITO層を、透明基
材の上に、接着剤層を介して転写することができる。パ
ターン状のITO層は、たとえば、ポリイミド樹脂層の
上に連続的な膜からなるITO層を形成した後、エッチ
ング処理を施し、不要な部分を除去し、パターン状にす
ることができる。6. Application to an optical element To produce an optical element using the laminate transfer sheet of the present invention, first, remove the release film, and laminate while pressing the transparent substrate on the adhesive precursor layer, continue,
Irradiate radiation from above the transparent substrate to crosslink the adhesive,
The laminate and the transparent substrate are bonded via a radiation-crosslinked adhesive layer. Finally, the temporary carrier is removed from the polyimide resin layer, and the transfer of the laminate including the transparent conductive layer and the polyimide resin layer to the transparent substrate is completed. Further, using a transparent substrate instead of the release film, a laminate transfer sheet, a precursor of an optical element consisting of a transparent substrate laminated on the precursor layer of the adhesive, to form an adhesive, After the crosslinking, the temporary support may be removed to complete the transfer of the laminate. Such a precursor of the optical element can be considered as another embodiment of the laminated body transfer sheet including the transparent substrate preliminarily laminated. Furthermore, as long as the effects of the present invention are not impaired, the transparent conductive layer can be arranged in a pattern according to the shapes and dimensions of, for example, pixels, electrodes, color filter layers and the like of the liquid crystal display device. For example, in the laminate transfer sheet of the present invention, an ITO layer arranged in a pattern on a polyimide resin layer can be transferred onto a transparent substrate via an adhesive layer. The patterned ITO layer can be formed into a pattern by, for example, forming an ITO layer formed of a continuous film on a polyimide resin layer and then performing an etching process to remove unnecessary portions.
【0031】[0031]
【実施例】以下、本発明を実施例によってさらに具体的
に説明する。EXAMPLES The present invention will be described more specifically with reference to the following examples.
【0032】[実施例1]仮担持体としてのポリイミド
フィルム「東レ・デュポン社製(商標)カプトン:厚さ
50μm」の上に、可溶性ポリイミド溶液「日本合成ゴ
ム社製(品番)AL3046:溶剤γ−ブチロラクト
ン」をスピンコートし、均一な厚さを有する焼成前の樹
脂層を形成した。次に、その樹脂層を180℃で1時間
焼成し、ポリイミド樹脂層を形成した。ポリイミド樹脂
層の厚さは約100nmであった。続いて、この樹脂層
の上に酸化インジウム/酸化スズ=90/10(重量
比)の組成のスパッタリングターゲットを用い、ITO
膜をスパッタリング法により約100nmの厚さで形成
し、仮担持体の上に形成されたポリイミド樹脂層−IT
O膜からなる積層体を得た。さらに続いて、この積層体
のITO膜の上に、ビダントインヘキサアクリレート/
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート/イルガキュ
ア651(Irgacure651)=70/29/1[重量比]
の組成の放射線架橋可能な接着剤を滴下し、透明基材
(ポリメチルメタクリレートフィルム)を加圧しながら
ラミネートし、ポリイミド樹脂層と透明基材との間に接
着剤の前駆体の層を形成した。なお、Irgacure 651は、
重合開始剤として添加した。さらに、上記転写シートの
透明基材の上から、紫外線を約3.5J/cm2 の照射
量にて照射し、接着剤を架橋させ、積層体と透明基材と
を、放射線架橋された接着剤の層を介して接着した。最
後に、ポリイミド樹脂層から仮担持体を除去し、透明基
材への、ITO膜−ポリイミド樹脂層からなる積層体の
転写を完了した。これらの一連の操作により、本発明の
光学要素を容易に形成することができた。すなわち、透
明基材は熱的損傷を受けておらず、また、ポリイミド樹
脂層の表面は均一かつ平滑であった。また、転写後の樹
脂層表面は、剥離処理剤で汚染されていなかった。さら
に、上記樹脂層は、ポリイミドを含有し、かつ十分な焼
成処理が施されているので、液晶配向膜を形成するため
の層としての要求特性を満たしていた。すなわち、ラビ
ング操作においては、破損が生じることなく配向機能を
付与することができ、また、ラビングによる樹脂層の摩
耗粉を除去するために、イソプロピルアルコール中で超
音波洗浄を行ったが、樹脂層の侵蝕は認められなかっ
た。Example 1 On a polyimide film "Tapton made by Toray DuPont Kapton: 50 μm thickness" as a temporary carrier, a soluble polyimide solution "Product No. AL3046 made by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd .: Solvent γ" -Butyrolactone 'was spin-coated to form a resin layer before firing having a uniform thickness. Next, the resin layer was baked at 180 ° C. for 1 hour to form a polyimide resin layer. The thickness of the polyimide resin layer was about 100 nm. Subsequently, a sputtering target having a composition of indium oxide / tin oxide = 90/10 (weight ratio) was formed on the resin layer by using ITO.
A film is formed to a thickness of about 100 nm by a sputtering method, and a polyimide resin layer-IT formed on a temporary support is formed.
A laminate composed of an O film was obtained. Subsequently, on top of the ITO film of this laminate, bidantin hexaacrylate /
1,6-hexanediol diacrylate / Irgacure 651 = 70/29/1 [weight ratio]
A radiation-crosslinkable adhesive having a composition of (1) was dropped, and a transparent substrate (polymethyl methacrylate film) was laminated under pressure to form a layer of an adhesive precursor between the polyimide resin layer and the transparent substrate. . In addition, Irgacure 651
It was added as a polymerization initiator. Further, ultraviolet rays are irradiated from above the transparent substrate of the transfer sheet at an irradiation amount of about 3.5 J / cm 2 to crosslink the adhesive, and the laminate and the transparent substrate are bonded together by radiation crosslinking. Adhered through a layer of agent. Lastly, the temporary carrier was removed from the polyimide resin layer, and the transfer of the laminate composed of the ITO film and the polyimide resin layer to the transparent substrate was completed. Through these series of operations, the optical element of the present invention could be easily formed. That is, the transparent substrate was not thermally damaged, and the surface of the polyimide resin layer was uniform and smooth. The surface of the resin layer after the transfer was not contaminated with the release agent. Furthermore, since the resin layer contains polyimide and has been subjected to a sufficient baking treatment, the resin layer has satisfied the required characteristics as a layer for forming a liquid crystal alignment film. That is, in the rubbing operation, an orientation function can be imparted without causing breakage, and ultrasonic cleaning was performed in isopropyl alcohol to remove abrasion powder of the resin layer due to rubbing. No erosion was observed.
【0033】[実施例2]仮担持体として、ポリエーテ
ルイミドの耐熱性ポリマーフィルムを用いたこと以外は
実施例1と同様にして光学要素を形成した。Example 2 An optical element was formed in the same manner as in Example 1 except that a heat-resistant polymer film of polyetherimide was used as a temporary support.
【0034】[実施例3]仮担持体として、ポリアリレ
ートの耐熱性ポリマーフィルムを用いたこと以外は実施
例1と同様にして光学要素を形成した。Example 3 An optical element was formed in the same manner as in Example 1 except that a polyarylate heat-resistant polymer film was used as the temporary support.
【0035】[実施例4]仮担持体として、ポリエーテ
ルエーテルケトンの耐熱性ポリマーフィルムを用いたこ
と以外は実施例1と同様にして光学要素を形成した。Example 4 An optical element was formed in the same manner as in Example 1 except that a heat-resistant polymer film of polyetheretherketone was used as a temporary support.
【0036】これらの実施例2〜実施例4の例において
も、実施例1と同様にして、本発明の光学要素を容易に
形成することができた。In each of Examples 2 to 4, the optical element of the present invention could be easily formed in the same manner as in Example 1.
【0037】[比較例1]ポリイミドフィルムに代え
て、厚さ1.1mmのガラス基板「コーニング社製(品
番)#7059」を仮担持体として用いたこと以外は、
実施例1と同様にして光学要素の形成を試みた。しかし
ながら、本例では、積層体をガラス基板から剥離するこ
とが困難であり、透明基材へ転写することができなかっ
た。[Comparative Example 1] A glass substrate having a thickness of 1.1 mm (manufactured by Corning (product number) # 7059) was used as a temporary support in place of the polyimide film.
An optical element was formed in the same manner as in Example 1. However, in this example, it was difficult to peel off the laminate from the glass substrate, and the laminate could not be transferred to the transparent substrate.
【0038】[0038]
【発明の効果】以上説明したように本発明によって、光
学要素として要求される諸特性、すなわち、機械的強
度,耐薬品性等のいずれにも優れた光学要素およびその
製造に好適に用いられる積層体転写シートを提供するこ
とができる。As described above, according to the present invention, an optical element excellent in various properties required as an optical element, that is, excellent in mechanical strength, chemical resistance and the like, and a laminate suitably used for the production thereof. A body transfer sheet can be provided.
【図1】本発明の光学要素の一実施例を模式的に示す断
面図である。FIG. 1 is a sectional view schematically showing one embodiment of an optical element of the present invention.
【図2】本発明の積層体転写シートの一実施例を模式的
に示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing one embodiment of a laminate transfer sheet of the present invention.
1 透明基板 2 接着剤層 3 積層体 4 仮担持体 31 透明導電層 32 樹脂層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent substrate 2 Adhesive layer 3 Laminated body 4 Temporary carrier 31 Transparent conductive layer 32 Resin layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI B32B 27/34 B32B 27/34 C09J 133/08 C09J 133/08 C23C 14/08 C23C 14/08 D G09F 9/35 303 G09F 9/35 303 // C09D 179/08 C09D 179/08 Z C09J 4/02 C09J 4/02 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI B32B 27/34 B32B 27/34 C09J 133/08 C09J 133/08 C23C 14/08 C23C 14/08 D G09F 9/35 303 G09F 9 / 35 303 // C09D 179/08 C09D 179/08 Z C09J 4/02 C09J 4/02
Claims (4)
形成された放射線架橋を施された接着剤層と、この接着
剤層上に、仮担持体から転写して形成された積層体とを
含んでなり、この積層体が、接着剤層上に密着して形成
された透明導電層と、この透明導電層上に積層して形成
された樹脂層とを有する光学要素において、 樹脂層が、積層体の仮担持体から接着剤層上への転写の
前に焼成処理を施された、ポリイミドを含む塗膜からな
ることを特徴とする光学要素。1. A transparent substrate, a radiation-crosslinked adhesive layer formed by laminating on the transparent substrate, and a laminate formed by transferring from a temporary carrier onto the adhesive layer. An optical element comprising: a transparent conductive layer formed in close contact with the adhesive layer; and a resin layer formed by being laminated on the transparent conductive layer. An optical element comprising a polyimide-containing coating film that has been subjected to a baking treatment before the transfer from the temporary support of the laminate to the adhesive layer.
官能(メタ)アクリレートモノマーを含んだアクリレー
ト化合物を含有する請求項1記載の光学要素。2. The optical element according to claim 1, wherein the adhesive contains, as an adhesive component, an acrylate compound containing a polyfunctional (meth) acrylate monomer.
シートであって、 仮担持体と、この仮担持体上に剥離可能に設けられた焼
成処理を施されたポリイミドを含む塗膜からなる樹脂層
と、この樹脂層上に積層して形成された透明導電層と、
この透明導電層上に積層して形成された放射線架橋が可
能な接着剤層とを含んでなるとともに、仮担持体が、分
子内に弗素原子および珪素原子を含まず、かつ樹脂層の
焼成温度を超えるガラス転移温度(Tg)を有する耐熱
性ポリマーからなるポリマー表面を有し、また樹脂層
が、ポリイミドを含む塗料を仮担持体のポリマー表面に
塗布した後、焼成処理を施された塗膜からなることを特
徴とする積層体転写シート。3. A laminated body transfer sheet used for manufacturing an optical element, comprising: a temporary carrier; and a coating film containing a baked polyimide which is provided on the temporary carrier in a releasable manner. A resin layer, a transparent conductive layer formed by being laminated on the resin layer,
A radiation-crosslinkable adhesive layer formed by laminating on the transparent conductive layer, wherein the temporary carrier does not contain fluorine atoms and silicon atoms in the molecule, and the sintering temperature of the resin layer Having a polymer surface made of a heat-resistant polymer having a glass transition temperature (Tg) of more than 2,000, and a resin layer having a polyimide-containing coating applied to the polymer surface of the temporary support and then subjected to a baking treatment. A laminated body transfer sheet comprising:
℃である請求項3記載の積層体転写シート。4. The sintering temperature of the resin layer is 80 to 300.
The laminate transfer sheet according to claim 3, wherein the temperature is ℃.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP9172058A JPH1124081A (en) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | Optical element and laminated transfer sheet |
Applications Claiming Priority (1)
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JPH1124081A true JPH1124081A (en) | 1999-01-29 |
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ID=15934764
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