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JPH11202787A - 液晶表示装置 - Google Patents

液晶表示装置

Info

Publication number
JPH11202787A
JPH11202787A JP10004891A JP489198A JPH11202787A JP H11202787 A JPH11202787 A JP H11202787A JP 10004891 A JP10004891 A JP 10004891A JP 489198 A JP489198 A JP 489198A JP H11202787 A JPH11202787 A JP H11202787A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
crystal display
display module
case
tab
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10004891A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Ogawa
浩 小川
Takao Azuma
隆雄 東
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Japan Display Inc
Original Assignee
Hitachi Device Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Device Engineering Co Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Device Engineering Co Ltd
Priority to JP10004891A priority Critical patent/JPH11202787A/ja
Publication of JPH11202787A publication Critical patent/JPH11202787A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】ネジを用いることなく液晶表示モジュールを表
示部のケースに固定する。 【解決手段】対向配置された少なくとも一方に画素選択
用の電極を有する一対の透明基板SUB1,SUB2の
間に液晶層を挟持してなる液晶パネルPNLと、液晶パ
ネルPNLに表示信号に応じた電圧を印加するための駆
動回路手段と、液晶パネルPNLの背面に設置されたバ
ックライトBLとを上フレームSHD1およびこの上フ
レームSHD1と連接する下フレームSHD2により固
定してなる液晶表示モジュールMDLを表示部を構成す
るケースCASEに実装した液晶表示装置において、液
晶表示モジュールMDLは、上フレームSHD1と下フ
レームSHS2の何れか一方または双方の平行する二辺
に外方に突設した少なくとも各1つのタブTAB1〜4
を備え、ケースCASEは、底面とこの底面に臨んだタ
ブ受け穴を形成した少なくとも一対の対向側壁を有し、
タブ受け穴にタブTAB1〜4を係合させることによっ
て、液晶表示モジュールMDLを前記ケースCASEに
固定した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に係
り、特に表示部のケースにネジを用いることなく液晶表
示モジュールを取り付けることにより、外形寸法を小さ
くした液晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】ノート型コンピュータやコンピュータモ
ニター用の高精細表示が可能な液晶表示装置では、液晶
パネルおよびこの液晶パネルを駆動する駆動回路基板と
前記液晶パネルを背面から照明する光源(所謂、バック
ライト)を積層して上フレームと下フレームとで挟み込
んで固定して液晶表示モジュールとし、これを上記ノー
ト型コンピュータやコンピュータモニターの表示部ケー
スに固定している。
【0003】上記表示部のケースへの液晶表示モジュー
ルの固定は、液晶表示モジュールの平行する二辺に突設
したタブにネジ穴を形成し、このネジ穴とケースに形成
したボスとにネジを介して固定するのが一般的である。
【0004】図22は従来の液晶表示装置における液晶
表示モジュールの固定構造を説明する表示部の平面図、
図23は図22のA−A線に沿った部分断面図であっ
て、ノート型コンピュータの表示部を例としたものであ
る。
【0005】図22と図23において、表示部は底面を
囲む側壁を有するケースCASEとこのケースCASE
内に実装した液晶表示モジュールMDLとから構成され
る。液晶表示モジュールMDLは、第1の基板SUB1
と第2の基板SUB2の間に液晶層を挟持し、表面と裏
面のそれぞれに貼付した偏光板POL1,POL2から
なる液晶パネルPNLと、この液晶パネルPNLの背面
に設置したバックライトBLを上フレームSHD1と下
フレームSHD2とでゴムクッションGC等のスペーサ
を介して固定してなる。なお、液晶パネルを駆動するた
めの回路を搭載した駆動回路基板等は図示を省略してあ
る。
【0006】そして、この液晶表示モジュールMDLの
対向する平行な二辺のそれぞれに上フレームSHD1と
下フレームSHDから突設したネジ穴を有する4個のタ
ブTAB1,TAB2とTAB3,TAB4を備え、こ
の4個のタブをケースCASEの底面に形成したボスB
OSに形成したネジ受け穴とを合わせ、ネジSCR1,
SCR2,SCR3,SCR4で固定してある。
【0007】なお、HNG1,HNG2はノート型コン
ピュータの本体の回動可能に取り付けるためのヒンジで
ある。
【0008】バックライトは液晶に生成した画像を可視
化するための背面照明装置であり、薄型化が要求される
ノート型コンピュータでは、バックライトとして導光板
の側縁に線状光源を配置した、所謂サイドエッジ型が採
用されており、またモニター用液晶表示装置でも奥行き
を短縮するためにはサイドエッジ型が用いられる。
【0009】しかし、コンピュータモニター等の大型の
液晶表示装置では、さらに高輝度照明光を得るために直
下型バックライトを採用する場合が多い。
【0010】何れの形式のバックライトも、液晶パネル
と共にモジュール化し、これを表示部のケースに収納し
て固定している。
【0011】上記したように、この種の液晶表示装置
は、基本的には少なくとも一方が透明なガラス等からな
る二枚の基板の間に液晶層を挟持した所謂液晶パネルを
構成し、この液晶パネルの周縁に組み込んだ駆動回路か
ら上記液晶パネルを構成する二枚の基板の一方または双
方に形成した画素形成用の各種電極に所要の電圧等を印
加することで画像表示を行う。
【0012】この画像形成は、上記液晶パネルの基板に
形成した画素形成用の各種電極に選択的に電圧を印加し
て所定画素の点灯と消灯を行う形式、上記各種電極と画
素選択用のアクティブ素子を形成してこのアクティブ素
子を選択することにより所定画素の点灯と消灯を行う形
式とに分類される。
【0013】後者の形式の液晶表示装置はアクティブマ
トリクス型と称し、コントラスト性能、高速表示性能等
から液晶表示装置の主流となっている。従来のアクティ
ブマトリクス型液晶表示装置は、一方の基板に形成した
電極と他方の基板に形成した電極との間に液晶層の配向
方向を変えるための電界を印加する、所謂縦電界方式を
採用していた。
【0014】また、近年、液晶層に印加する電界の方向
を基板面とほぼ平行な方向とする、所謂横電界方式(I
PS方式とも言う)の液晶表示装置が実現された。この
横電界方式の液晶表示装置としては、二枚の基板の一方
に櫛歯電極を用いて非常に広い視野角を得るようにした
ものが知られている(特公昭63−21907号公報、
米国特許第4345249号明細書)。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】このような液晶パネル
は年々画面サイズが大型化しており、限られた表示部の
ケース内に収納するために、その所謂額縁の狭幅化が要
望されている。
【0016】前記図20、図21に示した従来の固定構
造では、取り付け強度の点から、一般的にM3.0やM
3.5のネジが使用されている。このため、限られたサ
イズの表示部に液晶表示モジュールを取り付けるための
タブの大きさを小さくすることには制限があり、結果と
して額縁の幅をある程度以下とすることができないとい
う問題があった。
【0017】また、従来のネジを用いるものでは、当該
ネジを受けるボスの強度を確保する必要があるために、
薄型化が困難であるという問題もあった。
【0018】本発明の目的は、上記従来技術の問題を解
消し、ネジを用いることなく液晶表示モジュールを表示
部のケースに固定することにより、液晶パネルが画面が
大型化した場合にも額縁の狭幅化で対応できるようにし
た液晶表示装置を提供することにある。
【0019】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、液晶表示モジュールの平行する二辺に
外方にネジ穴を有しないタブを突設すると共に、表示部
のケース、またはケース内に設置した補強部材の前記タ
ブに対応する位置にタブ受け穴を形成して、上記タブを
タブ受け穴に係合することにより、ネジ無しで液晶表示
モジュールを固定する構造とした。
【0020】すなわち、本発明は、下記(1)〜(3)
の構成としたことに特徴を有する。 (1)対向配置された少なくとも一方に画素選択用の電
極を有する一対の透明基板の間に液晶層を挟持してなる
液晶パネルと、前記パネルに表示信号に応じた電圧を印
加するための駆動回路手段と、前記液晶パネルの背面に
設置されたバックライトとを上フレームおよびこの上フ
レームと連接する下フレームにより固定してなる液晶表
示モジュールを表示部を構成するケースに実装した液晶
表示装置において、前記液晶表示モジュールは、前記上
フレームと下フレームの何れか一方または双方の平行す
る二辺に外方に突設した少なくとも各1つのタブを備
え、前記ケースは、底面とこの底面に臨んだタブ受け穴
を形成した少なくとも一対の対向側壁を有し、前記タブ
受け穴に前記タブを係合させることによって、前記液晶
表示モジュールを前記ケースに固定したことを特徴とす
る。
【0021】なお、上記タブは各辺あたり1個でもよい
が、2個形成することで確実な固定ができる。また、こ
のタブは各辺当たり3個、あるいは一方の辺と他方の辺
とでタブの数を異ならせてもよい。
【0022】この構成では、ケースの弾性を利用して外
側に湾曲させた応対で液晶表示モジュールのタブを当該
ケースに形成したタブ受け穴に係合させればよい。
【0023】これにより、液晶パネルが画面が大型化し
た場合にも額縁の狭幅化で対応でき、部品点数を削減し
て組立て工程を簡素化した液晶表示装置を提供できる。
【0024】(2)対向配置された少なくとも一方に画
素選択用の電極を有する一対の透明基板の間に液晶層を
挟持してなる液晶パネルと、前記パネルに表示信号に応
じた電圧を印加するための駆動回路手段と、前記液晶パ
ネルの背面に設置されたバックライトとを上フレームお
よびこの上フレームと連接する下フレームにより固定し
てなる液晶表示モジュールを表示部を構成するケースに
実装した液晶表示装置において、前記液晶表示モジュー
ルは、前記上フレームと下フレームの何れか一方または
双方の平行する二辺に外方に突設した少なくとも1つの
タブを備え、前記ケースは、底面とこの底面に臨んだ側
壁を有すると共に、その1つの側壁にタブ受け穴を備
え、前記タブ受け穴を備えた側壁と前記底面を挟んで対
向する側壁の内側に、タブ受け穴を備えて前記ケースに
固定した補強部材を有し、前記側壁のタブ受け穴と前記
補強部材のタブ受け穴に前記液晶表示モジュールのタブ
を係合させることによって、前記液晶表示モジュールを
前記ケースに固定したことを特徴とする。
【0025】なお、上記タブは(1)と同様に、各辺あ
たり1個でもよいが、2個形成することで確実な固定が
できる。また、このタブは各辺当たり3個、あるいは一
方の辺と他方の辺とでタブの数を異ならせてもよい。
【0026】この構成では、先にケースに組み込む前の
補強部材のタブ受け穴に液晶表示モジュールの一方の辺
側のタブを係合させた後、ケースに形成したタブ受け穴
に他方の辺側のタブを係合させ、補強部材を固定する。
【0027】これにより、液晶パネルが画面が大型化し
た場合にも額縁の狭幅化で対応でき、部品点数を削減し
て組立て工程を簡素化した液晶表示装置を提供できる。
【0028】(3)対向配置された少なくとも一方に画
素選択用の電極を有する一対の透明基板の間に液晶層を
挟持してなる液晶パネルと、前記パネルに表示信号に応
じた電圧を印加するための駆動回路手段と、前記液晶パ
ネルの背面に設置されたバックライトとを上フレームお
よびこの上フレームと連接する下フレームにより固定し
てなる液晶表示モジュールを表示部を構成するケースに
実装した液晶表示装置において、前記液晶表示モジュー
ルは、前記上フレームと下フレームの何れか一方または
双方の平行する各側面のそれぞれに突設した少なくとも
1つのタブを備え、前記底面を挟んで対向する平行な側
壁の内側にタブ受け穴を備えて前記ケースに固定した一
対の補強部材を有し、前記一対の補強部材のタブ受け穴
に前記液晶表示モジュールのタブを係合させることによ
って、前記液晶表示モジュールを前記ケースに固定した
ことを特徴とする。
【0029】なお、上記タブは(1)(2)と同様に、
各辺あたり1個でもよいが、2個形成することで確実な
固定ができる。また、このタブは各辺当たり3個、ある
いは一方の辺と他方の辺とでタブの数を異ならせてもよ
い。
【0030】この構成では、先にケースに組み込む前の
補強部材のタブ受け穴に液晶表示モジュールの各辺のタ
ブを係合させた後、ケースに補強部材を固定する。
【0031】これにより、液晶パネルが画面が大型化し
た場合にも額縁の狭幅化で対応でき、部品点数を削減し
て組立て工程を簡素化した液晶表示装置を提供できる。
【0032】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につ
き、実施例を参照して詳細に説明する。
【0033】図1は本発明による液晶表示装置第1実施
例における液晶表示モジュールの固定構造を説明する表
示部の平面図、図2は図1のA−A線に沿った部分断面
図であって、ノート型コンピュータの表示部に本発明を
適用したものである。
【0034】図1と図2において、表示部は前記従来例
と同様に底面を囲む側壁を有するケースCASEとこの
ケースCASE内に実装した液晶表示モジュールMDL
とから構成される。液晶表示モジュールMDLは、第1
の基板SUB1と第2の基板SUB2の間に液晶層を挟
持し、表面と裏面のそれぞれに貼付した偏光板POL
1,POL2からなる液晶パネルPNLと、この液晶パ
ネルPNLの背面に設置したバックライトBLを上フレ
ームSHD1と下フレームSHD2とでゴムクッション
GC等のスペーサを介して固定してなる。なお、液晶パ
ネルを駆動するための回路を搭載した駆動回路基板等は
図示を省略してある。
【0035】そして、この液晶表示モジュールMDLの
対向する平行な二辺のそれぞれに上フレームSHD1と
下フレームSHDから突設した4個のタブTAB1,T
AB2とTAB3,TAB4を備えている。この4個の
タブをある程度柔軟性を持つ材料から構成したケースC
ASEの内壁に形成したタブ受け穴ALCに係合して固
定する。
【0036】本実施例のタブTAB1,TAB2とTA
B3,TAB4は従来のネジ孔を必要としないため、そ
の突出長さを従来よりも短くすることができ、例えば従
来のタブが約7mm程度であったものに対し、約3mm
程度にすることができる。
【0037】なお、HNG1,HNG2はノート型コン
ピュータの本体を回動可能に取り付けるためのヒンジで
ある。
【0038】この実施例では、ケースCASEの内壁に
形成したタブ受け穴ALCと液晶表示モジュールMDL
のタブTABの係合は、当該ケースCASEのタブ受け
穴ALCの片方に液晶表示モジュールMDLの一方側の
タブTABを係合させ、次にケースCASEを背面側に
湾曲させ、ケースCASEの柔軟性を利用して液晶表示
モジュールMDLの残りの側のタブTABを液晶表示モ
ジュールMDLの他方に係合させる。
【0039】これにより、液晶パネルが画面が大型化し
た場合にも額縁の狭幅化で対応でき、部品点数を削減し
て組立て工程を簡素化した液晶表示装置を提供できる。
【0040】図3は本発明による液晶表示装置第2実施
例における液晶表示モジュールの固定構造を説明する表
示部の平面図、図4は図3のB−B線に沿った部分断面
図であって、第1実施例と同様に、ノート型コンピュー
タの表示部に本発明を適用したものである。なお、図3
のA−A線断面は図2と同様である。
【0041】図3と図4において、液晶表示モジュール
MDLの基本構成は第1実施例と同様であるので説明は
省略する。この実施例では、ケースCASEの一方の側
壁(図の右側)の内方に前記図2と同様のタブ受け穴を
形成し、他方の側壁(図の左側)には補強部材ST2を
備え、この補強部材ST2にタブ受け穴ALCを形成し
てある。補強部材ST2に形成したタブ受け穴ALCは
貫通穴として示してあるが、貫通しない穴としてもよ
い。
【0042】また、液晶表示モジュールMDLの対向す
る平行な二辺のそれぞれに上フレームSHD1から突設
した4個のタブTAB1,TAB2とTAB3,TAB
4を備えている。この4個のタブの一方側のタブTAB
1,TAB2はケースCASEの一方の側壁に形成した
タブ受け穴に係合させ、他方のタブTAB3,TAB4
は補強部材ST2に形成したタブ受け穴ALCに係合さ
せる。
【0043】この実施例では、最初に補強部材ST2の
タブ受け穴ALCに液晶表示モジュールMDLのタブT
AB3,TAB4を係合させ後、タブTAB1,TAB
2をケースCASEに形成したタブ受け穴に係合させ、
補強部材ST2をケースCASEに固定する。
【0044】この実施例によっても、液晶パネルが画面
が大型化した場合にも額縁の狭幅化で対応でき、部品点
数を削減して組立て工程を簡素化した液晶表示装置を提
供できる。
【0045】図5は本発明による液晶表示装置第3実施
例における液晶表示モジュールの固定構造を説明する表
示部の平面図、図6は図5のA−A線に沿った部分断面
図であって、第1および第2実施例と同様に、ノート型
コンピュータの表示部に本発明を適用したものである。
【0046】図5と図6において、液晶表示モジュール
MDLの基本構成は第1実施例と同様であるので説明は
省略する。この実施例では、ケースCASEの一方の側
壁(図の右側)の内方と他方の側壁(図の左側)の内方
とに補強部材ST1,ST2を備え、この補強部材ST
1とSY2にタブ受け穴ALCを形成してある。なお、
補強部材ST1,ST2に形成したタブ受け穴ALCは
貫通穴として示してあるが、貫通しない穴としてもよ
い。
【0047】また、液晶表示モジュールMDLの対向す
る平行な二辺のそれぞれに上フレームSHD1から突設
した4個のタブTAB1,TAB2とTAB3,TAB
4を備えている。この4個のタブTAB1,TAB2と
タブTAB3,TAB4を補強部材ST1,ST2に形
成したタブ受け穴ALCにそれぞれ係合させた後、両補
強部材ST1,ST2をケースCASEに固定する。
【0048】この実施例によっても、液晶パネルが画面
が大型化した場合にも額縁の狭幅化で対応でき、部品点
数を削減して組立て工程を簡素化した液晶表示装置を提
供できる。
【0049】なお、上記各実施例におけるタブの形状は
任意であり、それを上フレームか下フレーム、または上
下フレームの何れかに形成することができ、各実施例を
組み合わせて適用できる。
【0050】このように、本発明の各実施例によれば、
表示部のケースに液晶表示モジュールを固定する際にネ
ジを使用しないため、ネジおよびネジ穴の形成に必要な
スペースを不要とし、額縁の狭幅化、あるいは同一画面
サイズでは小型化が容易となると共に、表示部の薄型化
も達成できる。
【0051】図7は本発明による液晶表示装置の全体例
を説明するノート型コンピュータの斜視図である。
【0052】このノート型コンピュータ(可搬型パソコ
ン)はキーボード部(本体部)と、このキーボード部に
ヒンジで連結した表示部から構成される。キーボード部
にはキーボードとホスト(ホストコンピュータ)、CP
U等の信号生成機能を収納し、表示部には液晶パネルP
NLを有し、その周辺に駆動回路基板PCB1,PCB
2、コントロールチップTCONを搭載したPCB3、
およびバックライト電源であるインバータ電源基板など
が実装される。
【0053】そして、上記液晶表示パネルPNL、各種
回路基板PCB1,PCB2,PCB3、インバータ電
源基板、およびバックライトを一体化した液晶表示モジ
ュールを前記した各実施例の何れかの構造で固定してあ
る。これにより、額縁の狭幅化を図ったノート型コンピ
ュータが得られる。
【0054】次に、本発明の液晶表示装置の詳細を図8
〜図21により説明する。
【0055】図8は本発明の液晶表示装置の一例である
アクティブ・マトリクス方式カラー液晶表示装置の一画
素とブラックマトリクスBMの遮光領域およびその周辺
を示す平面図である。
【0056】図8に示すように、各画素は走査信号配線
(ゲート信号線又は水平信号線)GLと、対向電圧信号
線(対向電極配線)CLと、隣接する2本の映像信号配
線(ドレイン信号線又は垂直信号線)DLとの交差領域
内(4本の信号線で囲まれた領域内)に配置されてい
る。
【0057】各画素は薄膜トランジスタTFT、蓄積容
量Cstg、画素電極PX及び対向電極CTを含む。走
査信号線GL、対向電圧信号線CLは、同図では左右方
向に延在し、上下方向に複数本配置されている。映像信
号線DLは上下方向に延在し、左右方向に複数本配置さ
れている。画素電極PXは薄膜トランジスタTFTと接
続され、対向電極CTは対向電圧信号線CLと一体にな
っている。
【0058】画素電極PXと対向電極CTは互いに対向
し、各画素電極PXと対向電極CTとの間の電界により
液晶LCの配向状態を制御し、透過光を変調して表示を
制御する。画素電極PXと対向電極CTは櫛歯状に構成
され、それぞれ同図の上下方向に長細い電極となってい
る。
【0059】1画素内の対向電極CTの本数O(櫛歯の
本数)は、画素電極PXの本数P(櫛歯の本数)とO=
P+1の関係を必ず持つように構成する(本実施例で
は、O=2、P=1)。これは、対向電極CTと画素電
極PXを交互に配置し、かつ、対向電極CTを映像信号
線DLに必ず隣接させるためである。
【0060】これにより、対向電極CTと画素電極PX
の間の電界が、映像信号線DLから発生する電界から影
響を受けないように、対向電極CTで映像信号線DLか
らの電気力線をシールドすることができる。
【0061】対向電極CTは、対向電圧信号線CLによ
り常に外部から電位を供給されているため、電位は安定
している。そのため、映像信号線DLに隣接しても、電
位の変動が殆どない。又、これにより、画素電極PXの
映像信号線DLからの幾何学的な位置が遠くなるので、
画素電極PXと映像信号線DLの間の寄生容量が大幅に
減少し、画素電極電位Vsの映像信号電圧による変動も
制御できる。
【0062】これらにより、上下方向に発生するクロス
トーク(縦スミアと呼ばれる画質不良)を抑制すること
ができる。
【0063】画素電極PXと対向電極CTの電極幅W
p,Wcはそれぞれ6μmとし、後述の液晶層の最大設
定厚みを超える4.5μmよりも十分大きく設定する。
製造上の加工ばらつきを考慮すると20%以上のマージ
ンを持った方が好ましいので、望ましくは5.4μmよ
りも十分大きくしたほうが良い。
【0064】これにより、液晶層に印加される基板面に
平行な電界成分が基板面に垂直な方向の電界成分よりも
大きくなり、液晶を駆動する電圧の上昇を抑制すること
ができる。又、各電極の電極幅Wp,Wcの最大値は、
画素電極PXと対向電極CTの間の間隔Lよりも小さい
事が好ましい。
【0065】これは、電極の間隔が小さすぎると電気力
線の湾曲が激しくなり、基板面に平行な電界成分よりも
基板面に垂直な電界成分の方が大きい領域が増大するた
め、基板面に平行な電界成分を効率良く液晶層に印加で
きないからである。従って、画素電極PXと対向電極C
Tの間の間隔Lはマージンを20%とると7.2μmよ
り大きいことが必要である。本実施例では、対角約1
4.5cm(5.7インチ)で640×480ドットの
解像度で構成したので、画素ピッチは約60μmであ
り、画素を2分割することにより、間隔L>7.2μm
を実現した。
【0066】又、映像信号線DLの電極幅は断線を防止
するために、画素電極PXと対向電極CTに比較して若
干広い8μmとし、映像信号線DLと対向電極CTとの
間隔は短絡を防止するために約1μmの間隔を開けると
共に、ゲート絶縁膜の上側に映像信号線DLを下側に対向
電極CTを形成して、異層になるように配置している。
【0067】一方、画素電極PXと対向電極CTの間の
電極間隔は、用いる液晶材料によって変える。これは、
液晶材料によって最大透過率を達成する電界強度が異な
るため、電極間隔を液晶材料に応じて設定し、用いる映
像信号駆動回路(信号側ドライバ)の耐圧で設定される
信号電圧の最大振幅の範囲で、最大透過率が得られるよ
うにするためである。後述の液晶材料を用いると電極間
隔は、約15μmとなる。
【0068】本構成例では、平面的に、ブラックマトリ
クスBMがゲート配線GL上、対向電圧信号線CL、薄
膜トランジスタTFT上、ドレイン配線DL上、ドレイ
ン配線DLと対向電極CT間に形成している。
【0069】《マトリクス部(画素部)の断面構造》図
9は図8のFーF切断線における薄膜トランジスタTF
Tの断面図、図10は図8のGーG切断線における蓄積
容量Cstgの断面図、図11は横電界方式の液晶表示
基板の画像表示領域における1画素の電極近傍の断面図
と基板周辺部の断面図である。
【0070】図11に示すように、液晶層LCを基準に
して下部透明ガラス基板SUB1側には薄膜トランジス
タTFT、蓄積容量Cstg(図示せず)及び電極群C
T、PXが形成され、上部透明ガラス基板SUB2側に
はカラーフィルタFIL、遮光用ブラックマトリクスB
Mのパターンが形成されている。尚、公知ではないが、
同一出願人による、特願平7ー198349号に提案さ
れたように、遮光用ブラックマトリクスBMのパターン
を下部透明ガラス基板SUB1側に形成することも可能
である。
【0071】又、透明ガラス基板SUB1、SUB2の
それぞれの内側(液晶LC側)の表面には、液晶の初期
配向を制御する配向膜ORI11、ORI12が設けら
れており、透明ガラス基板SUB1、SUB2のそれぞ
れの外側の表面には、偏光軸が直交して配置(クロスニ
コル配置)された偏光板POL1、POL2が設けられ
ている。
【0072】次に、下側透明ガラス基板SUB1側(T
FT基板)の構成を詳しく説明する。
【0073】TFT基板 《薄膜トランジスタ》薄膜トランジスタTFTは、ゲー
ト電極GTに正のバイアスを印加すると、ソース−ドレ
イン間のチャネル抵抗が小さくなり、バイアスを零にす
ると、チャネル抵抗は大きくなるように動作する。
【0074】薄膜トランジスタTFTは、図10に示す
ように、ゲート電極GT、ゲート絶縁膜GI、i型(真
性:intrinsic、導電型決定不純物がドープさ
れていない)非晶質シリコン(Si)からなるi型半導
体層AS、一対のソース電極SD1、ドレイン電極SD
2を有する。
【0075】尚、ソース、ドレインは本来その間のバイ
アス極性によって決まるもので、この液晶表示装置の回
路ではその極性は動作中反転するので、ソース、ドレイ
ンは動作中入れ替わると理解されたい。しかし、以下の
説明では、便宜上一方をソース、他方をドレインと固定
して表現する。
【0076】《ゲート電極GT》ゲート電極GTは走査
信号線GLと連続して形成されており、走査信号線GLの
一部の領域がゲート電極GTとなるように構成されてい
る。このゲート電極GTは薄膜トランジスタTFTの能
動領域を超える部分であり、i型半導体層ASを完全に
覆うよう(下方から見て)それより大きめに形成されて
いる。
【0077】これにより、ゲート電極GTはそれ自身の
役割の他に、i型半導体層ASに外光やバックライト光
が当たらないように工夫されている。本例では、ゲート
電極GTは単層の導電膜g1で形成されている。この導
電膜g1としては、例えばスパッタで形成されたアルミ
ニウム(Al)膜が用いられ、その上にはAlの陽極酸
化膜AOFが設けられている。
【0078】《走査信号線GL》走査信号線GLは導電
膜g1で構成されている。この走査信号線GLの導電膜
g1はゲート電極GTの導電膜g1と同一製造工程で形
成され、かつ、一体に構成されている。この走査信号線
GLにより、外部回路からゲート電圧Vgをゲート電極
GTに供給する。
【0079】又、走査信号線GL上にもAlの陽極酸化
膜AOFが設けられている。尚、映像信号線DLと交差
する部分は映像信号線DLとの短絡の確率を小さくする
ため細くし、又、短絡してもレーザトリミングで切り離
すことができるように二股にしている。
【0080】《対向電極CT》対向電極CTはゲート電
極GT及び走査信号線GLと同層の導電膜g1で構成さ
れている。又、対向電極CT上にもAlの陽極酸化膜A
OFが設けられている。対向電極CTは、陽極酸化膜A
OFで完全に覆われていることから、映像信号線と限り
なく近づけても、それらが短絡してしまうことがなくな
る。
【0081】又、それらを交差させて構成させることも
できる。対向電極CTには対向電圧Vcomが印加され
るように構成されている。本実施例では、対向電圧Vc
omは映像信号線DLに印加される最小レベルの駆動電
圧Vdminと最大レベルの駆動電圧Vdmaxとの中
間直流電位から、薄膜トランジスタ素子TFTをオフ状
態にするときに発生するフィードスルー電圧ΔVs分だ
け低い電位に設定されるが、映像信号駆動回路で使用さ
れる集積回路の電源電圧を約半分に低減したい場合は、
交流電圧を印加すれば良い。
【0082】《対向電圧信号線CL》対向電圧信号線C
Lは導電膜g1で構成されている。この対向電圧信号線
CLの導電膜g1はゲート電極GT、走査信号線GL及
び対向電極CTの導電膜g1と同一製造工程で形成さ
れ、かつ、対向電極CTと一体に構成されている。
【0083】この対向電圧信号線CLにより、外部回路
から対向電圧Vcomを対向電極CTに供給する。又、
対向電圧信号線CL上にもAlの陽極酸化膜AOFが設
けられている。尚、映像信号線DLと交差する部分は、
走査信号線GLと同様に映像信号線DLとの短絡の確率
を小さくするため細くし、又、短絡しても、レーザトリ
ミングで切り離すことができるように二股にすることも
できる。
【0084】《絶縁膜GI》絶縁膜GIは、薄膜トラン
ジスタTFTにおいて、ゲート電極GTと共に半導体層
ASに電界を与えるためのゲート絶縁膜として使用され
る。絶縁膜GIはゲート電極GT及び走査信号線GLの
上層に形成されている。
【0085】絶縁膜GIとしては例えばプラズマCVD
で形成された窒化シリコン膜が選ばれ、120〜270
nmの厚さに(本実施例では、240nm)形成され
る。
【0086】このゲート絶縁膜GIは、マトリクス部A
Rの全体を囲むように形成され、周辺部は外部接続端子
DTM、GTMを露出するよう除去されている。また、
絶縁膜GIは走査信号線GL及び対向電圧信号線CLと
映像信号線DLの電気的絶縁にも寄与している。
【0087】《i型半導体層AS》i型半導体層AS
は、非晶質シリコンで、20〜220nmの厚さ(本例
では、200nm程度の膜厚)で形成される。層d0は
オーミックコンタクト用のリン(P)をドープしたN
(+)型非晶質シリコン半導体層であり、下側にi型半
導体層ASが存在し、上側に導電膜d1(d2)が存在
するところのみに残されている。
【0088】i型半導体層ASは走査信号線GL及び対
向信号線CLと映像信号線DLとの交差部の両者間にも
設けられている。この交差部のi型半導体層ASは交差
部における走査信号線GL及び対向信号線CLと映像信
号線DLとの短絡を低減する。
【0089】《ソース電極SDI、ドレイン電極SD
2》ソース電極SDI、ドレイン電極SD2のそれぞれ
は、N(+)型半導体層d0に接触する導電膜d1とそ
の上に形成された導電膜d2とから構成されている。
【0090】導電膜d1はスパッタで形成したクロム
(Cr)膜を用い、50〜100nmの厚さに(本実施
例では、60nm程度)で形成される。Cr膜は膜厚を
厚く形成するとストレスが大きくなるので、200nm
程度の膜厚を越えない範囲で形成する。Cr膜はN
(+)型半導体層d0との接着性を良好にし、導電膜d
2のAlがN(+)型半導体層d0に拡散することを防
止する、所謂バリア層の目的で使用される。
【0091】導電膜d1として、Cr膜の他に高融点金
属(Mo、Ti、Ta、W)膜、高融点金属シリサイド
(MoSi2 、TiSi2 、TaSi2 、WSi2 )膜
を用いても良い。
【0092】導電膜d2はAlのスパッタリングで30
0〜500nmの厚さに(400nm程度)形成され
る。Al膜はCr膜に比べてストレスが小さく、厚い膜
厚に形成することが可能で、ソース電極SD1、ドレイ
ン電極SD2および映像信号線DLの抵抗値を低減した
り、ゲート電極GTやi型半導体層ASに起因する段差
乗り越えを確実にする(ステップカバレージを良くす
る)働きがある。
【0093】導電膜d1、導電膜d2を同じマスクパタ
ーンでパターニングした後、同じマスクを用いて、或い
は導電膜d1、導電膜d2をマスクとして、N(+)型
半導体層d0が除去される。つまり、i型半導体層AS
上に残っているN(+)型半導体層d0は導電膜d1、
導電膜d2以外の部分がセルフアラインで除去される。
このとき、N(+)型半導体層d0はその厚さ分は全て
除去されるようエッチングされるので、i型半導体層A
Sも若干その表面部分がエッチングされるが、その程度
はエッチング時間で制御すればよい。
【0094】《映像信号線DL》映像信号線DLはソー
ス電極SD1、ドレイン電極SD2と同層の第2導電膜
d2、第3導電膜d3で構成されている。又、映像信号
線DLはドレイン電極SD2と一体に形成されている。
【0095】《画素電極PX》画素電極PXはソース電
極SD1、ドレイン電極SD2と同層の第2導電膜d
2、第3導電膜d3で構成されている。又、画素電極P
Xはソース電極SD1と一体に形成されている。
【0096】《蓄積容量Cstg》画素電極PXは、薄
膜トランジスタTFTと接続される端部と反対側の端部
において、対向電圧信号線CLと重なるように形成され
ている。この重ね合せは、図10からも明らかなよう
に、画素電極PXを一方の電極PL2とし、対向電圧信
号線CLを他方の電極PL1とする蓄積容量(静電容量
素子)Cstgを構成する。この蓄積容量Cstgの誘
電体膜は、薄膜トランジスタTFTのゲート絶縁膜とし
て使用される絶縁膜GI及び陽極酸化膜AOFで構成さ
れている。
【0097】図8に示したように、平面的には蓄積容量
Cstgは対向電圧信号線CLの導電膜g1の部分に形
成されている。
【0098】この場合、この蓄積容量Cstgは、その
絶縁膜GIに対して下側に位置づけられる電極の材料が
Alで形成され、かつ、その表面が陽極化成されたもの
であることから、ALの所謂ヒロック等が原因する点欠
陥(上側に位置づけられる電極との短絡)による弊害を
発生し難くくする蓄積容量を得ることができる。
【0099】《保護膜PSV1》薄膜トランジスタTF
T上には保護膜PSV1が設けられている。保護膜PS
V1は主に薄膜トランジスタTFTを湿気等から保護す
るために形成されており、透明性が高くしかも耐湿性の
良いものを使用する。この保護膜PSV1は例えばプラ
ズマCVD装置で形成した酸化シリコン膜や窒化シリコ
ン膜で形成されており、500nm程度の膜厚で形成す
る。
【0100】保護膜PSV1は、マトリクス部ARの全
体を囲むように形成され、周辺部は外部接続端子DT
M、GTMを露出するよう除去されている。この保護膜
PSV1とゲート絶縁膜GIの厚さ関係に関しては、前
者は保護効果を考え厚くされ、後者はトランジスタの相
互コンダクタンスgmを考慮して薄くされる。
【0101】カラーフィルタ基板 次に、図11、図14により上側透明ガラス基板SUB
2側(カラーフィルタ基板)の構成を詳しく説明する。
【0102】《遮光膜BM》上部透明ガラス基板SUB
2側には、不要な間隙部(画素電極PXと対向電極CT
の間以外の隙間)からの透過光が表示面側に出射して、
コントラスト比等を低下させないように遮光膜BM(所
謂、ブラックマトリクス)を形成している。遮光膜BM
は、外部光又はバックライト光がi型半導体層ASに入
射しないようにする役割も果たしている。即ち、薄膜ト
ランジスタTFTのi型半導体層ASは上下にある遮光
膜BM及び大きめのゲート電極GTによってサンドイッ
チにされ、外部の自然光やバックライト光が当たらなく
なる。
【0103】図8に示す遮光膜BMの閉じた角形の輪郭
線は、その内側が遮光膜BMが形成されない開口を示し
ている。この輪郭線のパターンは1例である。
【0104】横電界方式の液晶表示装置では、可能な限
り高抵抗なブラックマトリクスが適していることから、
一般に樹脂組成物を用いる。この抵抗規格については、
公知ではないが、同一出願人による特願平7−1919
94号に記載がある。即ち、液晶組成物LCの比抵抗値
が10のN乗を10N と記述すると10N Ω・cm以上、か
つ、ブラックマトリクスBMの比抵抗値が10のM乗を
10M と記述すると10MΩ・cm以上とし、かつ、N≧
9、M≧6を満足する関係とする。或いは、N≧13、
M≧7を満足する関係とすることが望ましい。
【0105】又、液晶表示装置の表面反射を低減する目
的からも、ブラックマトリクスの形成材料に樹脂組成物
を用いることが望ましい。
【0106】さらに、Cr等の金属膜をブラックマトリ
クスに用いる場合と比較して、金属膜のエッチング工程
が不要なため、カラーフィルタ基板の製造工程を簡略化
できる。金属膜を使用する場合の製造工程は、1)金属
膜成膜、2)レジスト塗布、3)露光、4)現像、5)
金属膜エッチング、6)レジスト剥離、である。
【0107】一方、樹脂を使用する場合の製造工程は、
1)樹脂塗布、2)露光、3)現像、であり、著しく工
程を短縮できる。
【0108】しかし、樹脂組成物は金属膜と比較して遮
光性が低い。樹脂の膜厚を厚くすると遮光性は向上する
が、ブラックマトリクスの膜厚ばらつきは増加する。こ
れは、例えば±10%の膜厚ばらつきがある場合、ブラ
ックマトリクスの膜厚が1.0μm時は±0.1μm、
2μm時は±0.2μmになるためである。
【0109】又、ブラックマトリクスの膜厚を厚くする
と、カラーフィルタ基板の膜厚ばらつきが増加し、液晶
表示基板のギャップ精度を向上することが困難になる。
以上の理由により、樹脂の膜厚は、2μm以下にするこ
とが望ましい。
【0110】膜厚1μmでOD値を約4.0以上にする
ためには、例えばカーボンの含有量を増加して黒色化す
る場合、ブラックマトリクスBMの比抵抗値は約106
Ω・cm以下となり、現状では使用できない。尚、OD
値は、吸光係数に膜厚を掛けた値と定義できる。
【0111】このため、本実施例では、この遮光膜BM
の材料として、黒色の無機顔料をレジスト材に混入した
樹脂組成物を用い、1.3±0.1μm程度の厚さで形
成している。無機顔料の例としては、パラジウムや無電
解メッキしたNiなどがある。更に、ブラックマトリク
スBMの比抵抗値は約109 Ω・cmとし、OD値約
2.0とした。
【0112】この樹脂組成物ブラックマトリクスBMを
使用した場合の光透過量の計算結果を下記に示す。
【0113】OD値=log(100/Y) Y=∫A(λ)・B(λ)・C(λ)dλ/∫A(λ)
・C(λ)dλ ここで、Aは視感度、Bは透過率、Cは光源スペクト
ル、λは入射光の波長を示す。
【0114】OD値2.0の膜で遮光した場合は、上記
数1から、Y=1%を得て、入射光強度4000cd/
2 を仮定すると、約40cd/m2 の光が透過してく
ることになる。この光強度は、十分に人間が視認できる
明るさである。
【0115】遮光膜BMは周辺部にも額縁状に形成さ
れ、そのパターンはドット状に複数の開口を設けた図8
に示すマトリクス部のパターンと連続して形成されてい
る。
【0116】《カラーフィルタFIL》カラーフィルタ
FILは画素に対向する位置に赤、緑、青の繰り返しで
ストライプ状に形成される。カラーフィルタFILは遮
光膜BMのエッジ部分と重なるように形成されている。
【0117】本発明では、この重なる部分の平面レイア
ウトを規定するものである。詳細は後述する。
【0118】カラーフィルタFILは例えば次のように
形成することができる。まず、上部透明ガラス基板SU
B2の表面にアクリル系樹脂等の染色基材を形成し、フ
ォトリソグラフィ技術で赤色フィルタ形成領域以外の染
色基材を除去する。この後、染色基材を赤色染料で染
め、固着処理を施して赤色フィルタRを形成する。次
に、同様な工程を施すことによって、緑色フィルタG、
青色フィルタBを順次形成する。
【0119】《オーバーコート膜OC》オーバーコート
膜OCはカラーフィルタFILの染料の液晶LCへの漏
洩を防止、及びカラーフィルタFIL、遮光膜BMによ
る段差の平坦化のために設けられている。オーバーコー
ト膜OCは例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂等の透明
樹脂材料で形成される。
【0120】液晶層及び偏光板 次に、液晶層、配向膜、偏光板等について説明する。
【0121】《液晶層》液晶材料LCとしては、誘電率
異方性△εが正でその値が13.2、屈折率異方性△n
が0.081(589nm、20°C)のネマチック液
晶と、誘電率異方性△εが負でその値が−7.3、屈折
率異方性△nが0.053(589nm、20°C)の
ネマチック液晶を用いた。
【0122】液晶層の厚み(ギャップ)は、誘電率異方
性△εが正の場合2.8μm超4.5μm未満とした。
これは、リターデションΔn・dは0.25μm超0.
32μm未満の時、可視光の範囲内で波長依存性が殆ど
ない誘電率特性が得られ、誘電率異方性△εが正を有す
る液晶の大部分が複屈折率異方性△nが0.07超0.
09未満であるためである。
【0123】一方、誘電率異方性△εが負の場合は、液
晶層の厚み(ギャップ)は、4.2μm超8.0μm未
満とした。これは誘電率異方性△εが正の液晶と同様
に、リターデションΔn・dを0.25μm超0.32
μm未満に抑えるためで、誘電率異方性△εが負を有す
る液晶の大部分が複屈折異方性△nが0.04超0.0
6未満であるためである。
【0124】又、後述の配向膜と偏光板の組み合わせに
より、液晶分子がラビング方向から電界方向に45°回
転したとき最大透過率を得ることができる。尚、液晶層
の厚み(ギャップ)はポリマビーズで制御している。
【0125】又、液晶材料LCは、ネマチック液晶であ
れば、特に限定したものではない。誘電率異方性△ε
は、その値が大きいほうが、駆動電圧が低減でき、屈折
率異方性△nは小さいほうが液晶層の厚み(ギャップ)
を厚くでき、液晶の封入時間が短縮され、かつギャップ
ばらつきを少なくすることができる。
【0126】《配向膜》配向膜ORIとしてはポリイミ
ドを用いる。ラビング方向RDRは上下基板で互いに平
行にし、かつ、印加電界方向EDRとのなす角度φLC
は75°とする。図12にその関係を示す。
【0127】尚、ラビング方向RDRと印加電界方向E
DRとのなす角度は、液晶材料の誘電率異方性△εが正
であれば、45°以上90°未満、誘電率異方性△εが
負であれば、0°を超え45°以下であれば良い。
【0128】《偏光板》偏光板POLとしては、日東電
工社製G1220DU(商品名)を用い、図10に示し
たように、下側の偏光板POL1の偏光透過軸MAX1
をラビング方向RDRと一致させ、上側の偏光板POL
2の偏光透過軸MAX2をそれに直交させる。
【0129】これにより、本発明の画素に印加される電
圧(画素電極PXと対向電極CTの間の電圧)を増加さ
せるに伴い、透過率が上昇するノーマリークローズ特性
を得ることができる。
【0130】更に、本発明で開示される横電界方式と称
される液晶表示装置では、上側の基板SUB2側の表面
の外部から静電気等の高い電位が加わった場合に、表示
の異常が発生する。このため、上側の偏光板POL2の
更に上側或いは表面にシート抵抗が1×108 Ω/□以
下の透明導電膜の層を形成すること、或いは偏光板と前
記透明基板の間にシート抵抗1×108 Ω/□以下のI
TO等の透明導電膜の層を形成すること、或いは偏光板
の粘着層にITO、SnO2 、In2 3 等の導電性粒
子を混ぜ、シート抵抗を1×108 Ω/□以下とするこ
とが必要になる。この対策については、公知ではないが
同一出願人による特願平7−264443号において、
シールド機能向上につき詳しい記載がある。
【0131】《マトリクス周辺の構成》図13は上下の
ガラス基板SUB1、SUB2を含む表示パネルPNL
のマトリクス(AR)周辺の要部平面図である。又、図
14は左側に走査回路が接続された外部接続端子GTM
付近の断面図である。
【0132】このパネルの製造では、小さいサイズであ
ればスループット向上のため1枚のガラス基板では複数
個分のデバイスを同時に加工してから分割し、大きいサ
イズであれば製造設備の共用のため、どの品種でも標準
化された大きさのガラス基板を加工してから各品種に合
ったサイズに小さくし、いずれの場合も一通りの工程を
経てからガラスを切断する。
【0133】図13、図14は後者の例を示すもので、
図13、図14の両図とも上下基板SUB1、SUB2
の切断後を表わしており、LNは両基板の切断前の縁を
示す。いずれの場合も、完成状態では外部接続端子群T
g、Td及び端子CTMが存在する(図で上辺と左辺
の)部分はそれらを露出するように上側基板SUB2の
大きさが下側基板SUB1よりも内側に制限されてい
る。
【0134】端子群Tg、Tdは、それぞれ後述する走
査回路接続用端子GTM、映像信号回路接続用端子DT
Mとそれらの引出し配線部を集積回路チップCHIが搭
載されたテープキャリアパッケージTCP(図15、図
16参照)の単位に複数本まとめて名付けたものであ
る。
【0135】各群のマトリクス部から外部接続端子部に
至るまでの引出し配線は、両端に近づくにつれ傾斜して
いる。これは、パッケージTCPの配列ピッチ及び各パ
ッケージTCPにおける接続端子ピッチに表示パネルP
NLの端子DTM、GTMに合わせるためである。
【0136】又、対向電極端子CTMは、対向電極CT
に対向電圧を外部から与えるための端子である。マトリ
クス部の対向電極信号線CLは、走査回路用端子GTM
の反対側(図では右側)に引出し、各対向電圧信号線を
共通バスラインCBで一纏めにして、対向電極端子CT
Mに接続している。
【0137】透明ガラス基板SUB1、SUB2の間に
は、その縁に沿って、液晶封入口INJを除き、液晶L
Cを封止するようにシールパターンSLが形成される。
シール材は例えばエポキシ樹脂から成る。
【0138】配向膜ORI1、ORI2の層は、シール
パターンSLの内側に形成される。偏光板POL1、P
OL2はそれぞれ下部透明ガラス基板SUB1、上部透
明ガラス基板SUB2の外側の表面に構成されている。
【0139】エッチングLCは液晶分子の向きを設定す
る下部配向膜ORI1と上部配向膜ORI2との間でシ
ールパターンSLで仕切られた領域に封入されている。
下部配向膜ORI1は下部透明ガラス基板SUB1側の
保護膜PSV1の上部に形成される。
【0140】この液晶表示装置は、下部透明ガラス基板
SUB1側、上部透明ガラス基板SUB2側で別個に種
々の層を積み重ね、シールパターンSLを基板SUB2
側に形成し、下部透明ガラス基板SUB1と上部透明ガ
ラス基板SUB2とを重ね合わせ、シールパターンSL
の開口部INJから液晶LCを注入し、注入口INJを
エポキシ樹脂などで封止し、上下基板を切断することに
よって組み立てられる。
【0141】《表示装置全体等価回路》図16は本発明
による液晶表示装置の周辺回路の概要説明図であって、
同図に示すように、液晶表示基板は画像表示部がマトリ
クス状に配置された複数の画素の集合により構成され、
各画素は前記液晶表示基板の背部に配置されたバックラ
イトからの透過光を独自に変調制御できるように構成さ
れている。
【0142】液晶表示基板の構成要素の1つであるアク
ティブ・マトリクス基板SUB1上には、有効画素領域
ARにx方向(行方向)に延在し、y方向(列方向)に並
設されたゲート信号線GLと対向電圧信号線CLとそれ
ぞれ絶縁されてy方向に延在し、x方向に並設されたド
レイン信号線DLが形成されている。
【0143】ここで、ゲート信号線GL、対向電圧信号
線CL、ドレイン信号線DLのそれぞれによって囲まれ
る矩形状の領域に単位画素が形成される。
【0144】液晶表示基板には、その外部回路として垂
直走査回路V及び映像信号駆動回路Hが備えられ、前記
垂直走査回路Vによって前記ゲート信号線GLのそれぞ
れに順次走査信号(電圧)が供給され、そのタイミング
に合わせて映像信号駆動回路Hからドレイン信号線DL
に映像信号(電圧)を供給するようになっている。
【0145】尚、垂直走査回路V及び映像信号駆動回路
Hは、液晶駆動電源回路3から電源が供給されるととも
に、CPU1からの画像情報がコントローラ2によって
それぞれ表示データ及び制御信号に分けられて入力され
るようになっている。
【0146】《駆動方法》図17は本発明の液晶表示装
置の駆動波形図である。対向電圧をVCHとVCLの2
値の交流矩形波にし、それに同期させて走査信号VG
(i−1)、VG(i)の非選択電圧を1走査期間毎
に、VCHとVCLの2値で変化させる。対向電圧の振
幅幅と非選択電圧の振幅値は同一にする。
【0147】映像信号電圧は、液晶層に印加したい電圧
から、対向電圧の振幅の1/2を差し引いた電圧であ
る。
【0148】対向電圧は直流でも良いが、交流化するこ
とで映像信号電圧の最大振幅を低減でき、映像信号駆動
回路(信号側ドライバ)に耐圧の低いものを用いること
が可能になる。
【0149】《蓄積容量Cstgの働き》蓄積容量Cs
tgは、画素に書き込まれた(薄膜トランジスタTFT
がオフした後の)映像情報を長く蓄積するために設けら
れる。
【0150】本発明で用いている電界を基板面と平行に
印加する方式では、電界を基板面に垂直に印加する方式
と異なり、画素電極と対向電極で構成される容量(所謂
液晶容量)が殆ど無いため、蓄積Cstgは必須の構成
要素である。
【0151】又、蓄積容量Cstgは、薄膜トランジス
タTFTがスイッチングするとき、画素電極電位Vsに
対するゲート電位変化△Vgの影響を低減するようにも
働く。この様子を式で表わすと次のようになる。
【0152】△Vs=[Cgs/(Cgs+Cstg+
Cpix)]×ΔVg ここで、Cgsは薄膜トランジスタTFTのゲート電極
GTとソース電極SDIとの間に形成される寄生容量、
Cpixは画素電極PXと対向電極CTとの間に形成さ
れる容量、△VsはΔVgによる画素電極電位の変化
分、所謂フィードスルー電圧を表わす。
【0153】この変化分△Vsは液晶LCに加わる直流
成分の原因となるが、保持容量Cstgを大きくする
程、その値を小さくすることができる。
【0154】液晶LCに印加される直流成分の低減は、
液晶LCの寿命を向上し、液晶表示画面の切り替え時に
前の画像が残る所謂焼き付きを低減することができる。
【0155】前述したように、ゲート電極GTはi型半
導体層ASを完全に覆うよう大きくされている分、ソー
ス電極SDI、ドレイン電極SD2とのオーバーラップ
面積が増え、従って寄生容量Cgsが大きくなり、画素
電極電位Vsはゲート(走査)信号Vgの影響を受けや
すくなるという逆効果が生じる。しかし、蓄積容量Cs
tgを設けることによりこのデメリットも解消する。
【0156】《製造方法》次に、上述した液晶表示装置
の基板SUB1側の製造方法について説明する。
【0157】図18、図19および図20は本発明によ
る液晶表示装置の製造工程の説明図であって、同図にお
いて、中央の文字は工程名の略称であり、図中左側は図
9に示した薄膜トランジスタTFT部分、右側は図ゲー
ト端子付近の断面形状でみた加工の流れを示す。また、
工程B、工程Dを除き工程A〜工程Iは各写真処理(フ
ォトリソグラフィ)に対応して区分けしたもので、各工
程のいずれの断面図も写真処理後の加工が終わりフォト
レジストを除去した段階を示している。
【0158】尚、写真処理とは本発明ではフォトレジス
トの塗布からマスクを使用した選択露光を経て、それを
現像するまでの一連作業を示すものとし、繰り返しの説
明は避ける。以下区分けした工程に従って説明する。
【0159】工程A(図18) AN635ガラス(商品名)からなる下部透明ガラス基
板SUB1上に膜厚が300nmのAl−Pd、Al−
W、Al−Ta、Al−Ti−Ta等からなる導電膜g
1をスパッタリングにより設ける。写真処理後、リン酸
と哨酸と氷酢酸との混酸液で導電膜g1を選択的にエッ
チングする。それによって、ゲート電極GT、走査信号
線GL、対向電極CT、対向電圧信号線CL、電極PL
1、ゲート端子GTM、共通バスラインCBの第1導電
層、対向電極端子CTMの第1導電層、ゲート端子GT
Mを接続する陽極酸化バスラインSHg(図示せず)及
び陽極酸化バスラインSHgに接続された陽極酸化パッ
ド(図示せず)を形成する。
【0160】工程B(図18) 直接描画による陽極酸化マスクAOの形成後、3%酒石
酸をアンモニアによりPH6.25±0.05に調整し
た溶液をエチレングリコール液で1:9に希釈した液か
らなる陽極酸化液中に基板SUB1を浸漬し、化成電流
密度が0.5mA/cm2 になるように調整する(定電
流化成)。
【0161】次に、所定のアルミナ(Al2 3 )の膜
厚が得られるのに必要な化成電圧125Vに達するまで
陽極酸化を行う。その後、この状態で数10分保持する
ことが望ましい(定電圧化成)。これは均一なAl2
3 膜を得る上で大事なことである。それによって、導電
膜g1が陽極酸化され、ゲート電極GT、走査信号線G
L、対向電極CT、対向電圧信号線CL及び電極PL1
上に膜厚が180bnmの陽極酸化膜AOFが形成され
る。
【0162】工程C(図18) 膜厚が140nmのITO膜からなる透明導電膜g2を
スパッタリングにより設ける。写真処理後、エッチング
液として塩酸と硝酸との混酸液で透明導電膜g2を選択
的にエッチングすることにより、ゲート端子GTMの最
上層、ドレイン端子DTM及び対向電極端子CTMの第
2導電膜を形成する。
【0163】工程D(図19) プラズマCVD装置にアンモニアガス、シランガス、窒
素ガスを導入して、膜厚が220nmの窒化Si膜を設
け、プラズマCVD装置にシランガス、水素ガスを導入
して、膜厚が200nmのi型非晶質Si膜を設けた
後、プラズマCVD装置にシランガス、水素ガス、ホス
フィンガスを導入して、膜厚が30nmのN(+)型非
晶質Si膜を設ける。
【0164】工程E(図19) 写真処理後、ドライエッチングガスとしてSF6を使用
してN(+)型非晶質Si膜、i型非晶質Si膜を選択
的にエッチングすることにより、i型半導体層ASの島
を形成する。
【0165】工程F(図19) 写真処理後、ドライエッチングガスとしてSF6を使用
して、窒化Si膜を選択的にエッチングする。
【0166】工程G(図20) 膜厚が60nmのCrからなる導電膜d1をスパッタリ
ングにより設け、さらに膜厚が400nmのAl−P
d、Al−Si、Al−Ta、Al−Ti−Ta等から
なる導電膜d2をスパッタリングにより設ける。写真処
理後、導電膜d2を工程Aと同様の液でエッチングし、
導電膜d1を硝酸第2セリウムアンモニウム溶液でエッ
チングし、映像信号線DL、ソース電極SD1、ドレイ
ン電極SD2、画素電極PX、電極PL2、共通バスラ
インCBの第2導電層、第3導電層及びドレイン端子D
TMを短絡するバスラインSHd(図示せず)を形成す
る。次に、ドライエッチング装置にSF6を導入して、
N(+)型非晶質Si膜をエッチングすることにより、
ソースとドレイン間のN(+)型半導体層d0を選択的
に除去する。
【0167】工程H(図20) プラズマCVD装置にアンモニアガス、シランガス、窒
素ガスを導入して、膜厚が500nmの窒化Si膜を設
ける。写真処理後、ドレインエッチングガスとしてSF
6を使用した写真蝕刻技術で窒化Si膜を選択的にエッ
チングすることによって、保護膜PSV1を形成する。
【0168】《表示パネルPNLと駆動回路基板PCB
1》図21は図13に示した表示パネルPNLと図16
の映像信号駆動回路Hと垂直走査回路Vを接続した状態
を示す上面図である。
【0169】CH1は表示パネルPNLを駆動させる駆
動ICチップ(下側の5個は垂直走査回路側の駆動IC
チップ、左側の10個の映像信号駆動回路側の駆動IC
チップ)である。TCPは図14、図15に示したよう
に駆動用ICチップCH1がテープ・オートメイティッ
ド・ボンディング(TAB)法により実装されたテープ
キャリアパッケージ、PCB1は上記TCPやコンデン
サ等が実装された駆動回路基板で、映像信号駆動回路用
と走査信号駆動回路用の2つに分割されている。
【0170】FGPはフレームグランドパッドであり、
シールドケースSHDに切り込んで設けられたバネ状の
破片が半田付けされる。FCは下側の駆動回路基板PC
B1と左側の駆動回路基板PCB1を電気的に接続する
フラットケーブルである。
【0171】フラットケーブルFCとしては図に示すよ
うに、複数のリード線(りん青銅の素材にSn鍍金を施
したもの)をストライプ状のポリエチレン層とポリビニ
ルアルコール層とでサンドイッチして支持したものを使
用する。
【0172】《TCPの接続構造》前記した図15は、
走査信号駆動回路Vや映像信号駆動回路Hを構成する集
積回路チップCHIがフレキシブル配線基板に搭載され
たテープキャリアパッケージの断面構造を示す図であ
り、図14はそれを液晶表示パネルの、本例では走査信
号回路用端子GTMに接続した状態を示す要部断面図で
ある。
【0173】同図において、TTBは集積回路CHIの
入力端子・配線部であり、TTMは集積回路CHIの出
力端子・配線部であって、例えばCuから成り、それぞ
れの内側の先端部(通称インナーリード)には集積回路
CHIのボンディングパッドPADが所謂フェースダウ
ンボンディング法により接続される。
【0174】端子TTB、TTMの外側の先端部(通称
アウターリード)はそれぞれ半導体集積回路チップCH
Iの入力及び出力に対応し、半田付け等によりCRT/
TFT変換回路・電源回路SUPに、異方性導電膜AC
Fによって液晶表示パネルPNLに接続される。
【0175】パッケージTCPは、その先端部がパネル
PNL側の接続端子GTMを露出した保護膜PSV1を
覆うようにパネルにPNLに接続されている。従って、
外側接続端子GTM(DTM)は保護膜PSV1かパッ
ケージTCPの少なくとも一方で覆われるので電触に対
して強くなる。
【0176】BF1はポリイミド等からなるベースフィ
ルムであり、SRSは半田付けの際、半田が余計な所へ
付かないようにマスクするためのソルダレジスト膜であ
る。シールパターンSLの外側の上下ガラス基板の隙間
は、洗浄後にエポキシ樹脂EPX等により保護され、パ
ッケージTCPと上側基板SUB2の間には更にシリコ
ン樹脂SILが充填されて保護が多重化されている。
【0177】《駆動回路基板PCB2》駆動回路基板P
CB2は、IC、コンデンサ、抵抗等の電子部品が搭載
されている。この駆動回路基板PCB2には、1つの電
圧源から複数の分圧した安定化された電圧源を得るため
の電源回路や、ホスト(上位演算処理装置)からのCR
T(陰極線管)用の情報をTFT液晶表示装置用の情報
に変換する回路を含む回路SUPが搭載されている。C
Jは外部と接続される図示しないコネクタが接続される
コネクタ接続部である。
【0178】駆動回路基板PCB1と駆動回路基板PC
B2とはフラットケーブルFC等のジョイナーJNによ
り電気的に接続されている。
【0179】なお、本発明による液晶表示装置は、上記
のようなディスクトップ型モニターに限らず、ノート型
等の可搬型パソコンの表示デバイスにも使用できること
は言うまでもない。
【0180】また、繰り返しになるが、本発明は上記し
た横電界方式のアクティブマトリクス型液晶表示装置に
限って適用されるものではなく、縦電界方式、あるいは
単純マトリクス方式の液晶表示装置における配向膜の液
晶配向制御能不要方法および装置としても同様に適用可
能である。
【0181】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ネジを用いることなく液晶表示モジュールを表示部のケ
ースに固定することにより、液晶パネルが画面が大型化
した場合にも額縁の狭幅化で対応できるようにした液晶
表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による液晶表示装置第1実施例における
液晶表示モジュールの固定構造を説明する表示部の平面
図である。
【図2】図1のA−A線に沿った部分断面図である。
【図3】本発明による液晶表示装置第2実施例における
液晶表示モジュールの固定構造を説明する表示部の平面
図である。
【図4】図3のA−A線に沿った部分断面図である。
【図5】本発明による液晶表示装置第3実施例における
液晶表示モジュールの固定構造を説明する表示部の平面
図である。
【図6】図5のA−A線に沿った部分断面図である。
【図7】本発明による液晶表示装置を実装したノート型
コンピュータの外観図である。
【図8】本発明のアクティブ・マトリクス方式カラー液
晶表示装置の一画素とブラックマトリクスBMの遮光領
域およびその周辺を示す平面図である。
【図9】図8のFーF切断線における薄膜トランジスタ
TFTの断面図である。
【図10】図8のGーG切断線における蓄積容量Cst
gの断面図である。
【図11】横電界方式の液晶表示基板の画像表示領域に
おける1画素の電極近傍の断面図と基板周辺部の断面図
である。
【図12】配向膜のラビング方向と印加電界方向EDR
とのなす角度の説明図である。
【図13】上下の基板を含む表示パネルのマトリクス周
辺の要部平面図である。
【図14】左側に走査回路が接続された外部端子付近の
断面図である。
【図15】ゲートTCPの出力側および入力側の断面構
造の説明図である。
【図16】本発明による液晶表示装置の周辺回路の概要
説明図である。
【図17】本発明の液晶表示装置の駆動波形図である。
【図18】本発明による液晶表示装置の製造工程の説明
図である。
【図19】本発明による液晶表示装置の製造工程の図1
9に続く説明図である。
【図20】本発明による液晶表示装置の製造工程の図2
0に続く説明図である。
【図21】図17に示した表示パネルPNLと映像信号
駆動回路Hと垂直走査回路Vを接続した状態を示す上面
図である。
【図22】従来の液晶表示装置における液晶表示モジュ
ールの固定構造を説明する表示部の平面図である。
【図23】図22のA−A線に沿った部分断面図であ
る。
【符号の説明】
SUB1 第1の基板 SUB2 第2の基板 CASE ケース MDL 液晶表示モジュール POL1,POL2 偏光板 BL バックライト SHD1 上フレーム SHD2 下フレーム GC ゴムクッション PNL 液晶パネル TAB1〜TAB4 タブ ST1,ST2 補強部材 ALC タブ受け孔 HNG ヒンジ。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 対向配置された少なくとも一方に画素選
    択用の電極を有する一対の透明基板の間に液晶層を挟持
    してなる液晶パネルと、前記パネルに表示信号に応じた
    電圧を印加するための駆動回路手段と、前記液晶パネル
    の背面に設置されたバックライトとを上フレームおよび
    この上フレームと連接する下フレームにより固定してな
    る液晶表示モジュールを表示部を構成するケースに実装
    した液晶表示装置において、 前記液晶表示モジュールは、前記上フレームと下フレー
    ムの何れか一方または双方の平行する二辺に外方に突設
    した少なくとも各1つのタブを備え、 前記ケースは、底面とこの底面に臨んだタブ受け穴を形
    成した少なくとも一対の対向側壁を有し、 前記タブ受け穴に前記タブを係合させることによって、
    前記液晶表示モジュールを前記ケースに固定したことを
    特徴とする液晶表示装置。
  2. 【請求項2】 対向配置された少なくとも一方に画素選
    択用の電極を有する一対の透明基板の間に液晶層を挟持
    してなる液晶パネルと、前記パネルに表示信号に応じた
    電圧を印加するための駆動回路手段と、前記液晶パネル
    の背面に設置されたバックライトとを上フレームおよび
    この上フレームと連接する下フレームにより固定してな
    る液晶表示モジュールを表示部を構成するケースに実装
    した液晶表示装置において、 前記液晶表示モジュールは、前記上フレームと下フレー
    ムの何れか一方または双方の平行する二辺に外方に突設
    した少なくとも1つのタブを備え、 前記ケースは、底面とこの底面に臨んだ側壁を有すると
    共に、その1つの側壁にタブ受け穴を備え、 前記タブ受け穴を備えた側壁と前記底面を挟んで対向す
    る側壁の内側に、タブ受け穴を備えて前記ケースに固定
    した補強部材を有し、 前記側壁のタブ受け穴と前記補強部材のタブ受け穴に前
    記液晶表示モジュールのタブを係合させることによっ
    て、前記液晶表示モジュールを前記ケースに固定したこ
    とを特徴とする液晶表示装置。
  3. 【請求項3】 対向配置された少なくとも一方に画素選
    択用の電極を有する一対の透明基板の間に液晶層を挟持
    してなる液晶パネルと、前記パネルに表示信号に応じた
    電圧を印加するための駆動回路手段と、前記液晶パネル
    の背面に設置されたバックライトとを上フレームおよび
    この上フレームと連接する下フレームにより固定してな
    る液晶表示モジュールを表示部を構成するケースに実装
    した液晶表示装置において、 前記液晶表示モジュールは、前記上フレームと下フレー
    ムの何れか一方または双方の平行する各側面のそれぞれ
    に突設した少なくとも1つのタブを備え、 前記底面を挟んで対向する平行な側壁の内側にタブ受け
    穴を備えて前記ケースに固定した一対の補強部材を有
    し、 前記一対の補強部材のタブ受け穴に前記液晶表示モジュ
    ールのタブを係合させることによって、前記液晶表示モ
    ジュールを前記ケースに固定したことを特徴とする液晶
    表示装置。
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