JPH11194469A - トレイ組立体及び案内経路配置を利用する処理装置並びに方法 - Google Patents
トレイ組立体及び案内経路配置を利用する処理装置並びに方法Info
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- JPH11194469A JPH11194469A JP10286789A JP28678998A JPH11194469A JP H11194469 A JPH11194469 A JP H11194469A JP 10286789 A JP10286789 A JP 10286789A JP 28678998 A JP28678998 A JP 28678998A JP H11194469 A JPH11194469 A JP H11194469A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、溶液及び感光材料が空気に触れな
いように案内経路又は溝が拡張された溶液トレイ又はパ
ン配置を含む感光材料を処理する処理槽及び処理用組立
体の提供を目的とする。 【解決手段】 本発明の処理用組立体は感光材料用の処
理経路を有する処理槽を含む。処理槽は、処理経路の下
向き部分に沿った少なくとも一つの第１の処理用組立体
と、処理経路の上向き部分に沿った少なくとも一つの第
２の処理用組立体とを含む。処理用組立体は、トレイ組
立体と、トレイ組立体から延在する案内経路又は溝とを
有する。案内経路又は溝は、トレイ組立体からあふれ出
た処理溶液を受容し、感光材料を案内する。
いように案内経路又は溝が拡張された溶液トレイ又はパ
ン配置を含む感光材料を処理する処理槽及び処理用組立
体の提供を目的とする。 【解決手段】 本発明の処理用組立体は感光材料用の処
理経路を有する処理槽を含む。処理槽は、処理経路の下
向き部分に沿った少なくとも一つの第１の処理用組立体
と、処理経路の上向き部分に沿った少なくとも一つの第
２の処理用組立体とを含む。処理用組立体は、トレイ組
立体と、トレイ組立体から延在する案内経路又は溝とを
有する。案内経路又は溝は、トレイ組立体からあふれ出
た処理溶液を受容し、感光材料を案内する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、感光材料を処理す
る感光材料処理装置に関する。
る感光材料処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】フィルム又は印画紙のような写真材料の
処理には、現像、漂白、定着、洗浄及び乾燥のような一
連の段階が含まれる。上記の段階は、フィルム、フィル
ムのカットシート又は印画紙の連続的な巻取紙を、ステ
ーションの処理段階に適した異なる処理液を含む一連の
ステーション又は槽を順番に通して運搬することを含
む。
処理には、現像、漂白、定着、洗浄及び乾燥のような一
連の段階が含まれる。上記の段階は、フィルム、フィル
ムのカットシート又は印画紙の連続的な巻取紙を、ステ
ーションの処理段階に適した異なる処理液を含む一連の
ステーション又は槽を順番に通して運搬することを含
む。
【０００３】ある種の処理用組立体の処理槽は、溶液の
オーバーフローによって感光材料を処理する一連のトレ
イ配置を利用する。例えば、欧州特許出願第０７６２２
０５号の場合、伝達ローラが溶液パンの上に設けられて
いる。溶液は、感光材料が伝達ローラと溶液パンの間で
運搬されるときに、上方の伝達ローラから供給され、溶
液パンからあふれ出る。あふれ出た溶液は、次の高さの
伝達ローラ及び／又は溶液パンの組の上に落下する。
オーバーフローによって感光材料を処理する一連のトレ
イ配置を利用する。例えば、欧州特許出願第０７６２２
０５号の場合、伝達ローラが溶液パンの上に設けられて
いる。溶液は、感光材料が伝達ローラと溶液パンの間で
運搬されるときに、上方の伝達ローラから供給され、溶
液パンからあふれ出る。あふれ出た溶液は、次の高さの
伝達ローラ及び／又は溶液パンの組の上に落下する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記タイプの配置の場
合、感光材料が第１のローラ及び溶液パンの組から、次
の高さの伝達ローラ及び溶液パンの組に運搬されるとき
に、溶液及び感光材料の両方が空気に触れる。これは、
感光材料が洗浄装置の中を運搬されるときに、感光材料
の品質に悪影響を与える。また、空気に触れた溶液はロ
ーラ上に晶析し、これにより、感光材料に損傷が加わ
る。
合、感光材料が第１のローラ及び溶液パンの組から、次
の高さの伝達ローラ及び溶液パンの組に運搬されるとき
に、溶液及び感光材料の両方が空気に触れる。これは、
感光材料が洗浄装置の中を運搬されるときに、感光材料
の品質に悪影響を与える。また、空気に触れた溶液はロ
ーラ上に晶析し、これにより、感光材料に損傷が加わ
る。
【０００５】本発明は、案内経路又は溝が拡張された溶
液トレイ又はパン配置を含む感光材料を処理する処理槽
及び処理用組立体の提供を目的とする。また、本発明
は、感光材料用の処理経路を有する少なくとも１台の処
理槽を含む装置を備えた感光材料処理装置の提供を目的
とする。また、本発明は、少なくとも一つの処理用組立
体を有する少なくとも１台の処理槽を含む感光材料処理
装置の提供を目的とする。
液トレイ又はパン配置を含む感光材料を処理する処理槽
及び処理用組立体の提供を目的とする。また、本発明
は、感光材料用の処理経路を有する少なくとも１台の処
理槽を含む装置を備えた感光材料処理装置の提供を目的
とする。また、本発明は、少なくとも一つの処理用組立
体を有する少なくとも１台の処理槽を含む感光材料処理
装置の提供を目的とする。
【０００６】また、本発明は、感光材料を処理する方法
の提供を目的とする。
の提供を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、案内経路又は
溝が拡張された溶液トレイ又はパン配置を含む感光材料
を処理する処理槽及び処理用組立体を提供する。案内経
路は、処理溶液及び中を通る感光材料を案内するため、
トレイ配置に供給されてあふれ出た処理溶液を受容す
る。
溝が拡張された溶液トレイ又はパン配置を含む感光材料
を処理する処理槽及び処理用組立体を提供する。案内経
路は、処理溶液及び中を通る感光材料を案内するため、
トレイ配置に供給されてあふれ出た処理溶液を受容す
る。
【０００８】本発明の配置によれば、感光材料があふれ
出た処理溶液の通る案内経路に入るとき、感光材料は、
空気に触れることなく、案内経路内で処理溶液と容易に
接触し得る。また、本発明は、感光材料用の処理経路を
有する少なくとも１台の処理槽を含む装置を備えた感光
材料処理装置を提供する。少なくとも１台の処理槽は、
上記処理経路の下向き部分に沿った少なくとも一つの第
１の処理用組立体と、上記処理経路の上向き部分に沿っ
た少なくとも一つの第２の処理用組立体とを含む。上記
第１及び第２の各処理用組立体は、処理溶液を中に受容
するトレイ組立体と、上記トレイ組立体に含まれる処理
溶液に少なくとも部分的に沈められた伝達ローラ組立体
と、上記トレイ組立体から延在する案内経路とを含む。
上記案内経路は、上記トレイ組立体からあふれ出た処理
溶液を受容し、上記感光材料及びあふれ出た処理溶液を
案内する。
出た処理溶液の通る案内経路に入るとき、感光材料は、
空気に触れることなく、案内経路内で処理溶液と容易に
接触し得る。また、本発明は、感光材料用の処理経路を
有する少なくとも１台の処理槽を含む装置を備えた感光
材料処理装置を提供する。少なくとも１台の処理槽は、
上記処理経路の下向き部分に沿った少なくとも一つの第
１の処理用組立体と、上記処理経路の上向き部分に沿っ
た少なくとも一つの第２の処理用組立体とを含む。上記
第１及び第２の各処理用組立体は、処理溶液を中に受容
するトレイ組立体と、上記トレイ組立体に含まれる処理
溶液に少なくとも部分的に沈められた伝達ローラ組立体
と、上記トレイ組立体から延在する案内経路とを含む。
上記案内経路は、上記トレイ組立体からあふれ出た処理
溶液を受容し、上記感光材料及びあふれ出た処理溶液を
案内する。
【０００９】また、本発明により提供される感光材料処
理装置は、少なくとも一つの処理用組立体を有する少な
くとも１台の処理槽を含む。少なくとも一つの処理用組
立体は、処理溶液を中に受容する受容部と、感光材料及
び上記受容部からあふれ出た処理溶液を案内する案内部
とを含む。また、本発明により提供される感光材料を処
理する方法は、トレイ組立体と上記トレイ組立体から延
在する案内経路とを有する少なくとも一つの処理用組立
体を処理槽に設ける段階と、上記トレイ組立体からあふ
れ出て上記案内経路に導かれるように処理溶液を上記少
なくとも一つの処理用組立体に供給する段階と、上記あ
ふれ出た処理溶液によって上記案内経路内で処置される
ように、感光材料を上記処理用組立体の上記案内経路の
中で運搬する段階とを含む。
理装置は、少なくとも一つの処理用組立体を有する少な
くとも１台の処理槽を含む。少なくとも一つの処理用組
立体は、処理溶液を中に受容する受容部と、感光材料及
び上記受容部からあふれ出た処理溶液を案内する案内部
とを含む。また、本発明により提供される感光材料を処
理する方法は、トレイ組立体と上記トレイ組立体から延
在する案内経路とを有する少なくとも一つの処理用組立
体を処理槽に設ける段階と、上記トレイ組立体からあふ
れ出て上記案内経路に導かれるように処理溶液を上記少
なくとも一つの処理用組立体に供給する段階と、上記あ
ふれ出た処理溶液によって上記案内経路内で処置される
ように、感光材料を上記処理用組立体の上記案内経路の
中で運搬する段階とを含む。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の説明を行う。図面中、同じ参照番号は同一若しくは対
応した部品を指定する。図１には、感光材料を処理する
処理装置の処理槽７が示されている。感光材料の処理
は、現像溶液、漂白溶液、定着溶液、及び洗浄溶液を含
む一連のタンクに関係した一連の段階を含む。処理槽７
は、上記の工程中の何れのタンクでもよく、上記の溶液
の中の何れの溶液を収容してもよい。従って、図１に示
された処理槽７は、処理系列の中の洗浄段階に適用可能
であるが、洗浄段階に限定されることはない。処理槽７
は、ここに参考のため引用した米国特許第５，３１１，
２３５号明細書に記載されているような小容積薄型タン
ク又はラック及びタンク配置でもよい。
の説明を行う。図面中、同じ参照番号は同一若しくは対
応した部品を指定する。図１には、感光材料を処理する
処理装置の処理槽７が示されている。感光材料の処理
は、現像溶液、漂白溶液、定着溶液、及び洗浄溶液を含
む一連のタンクに関係した一連の段階を含む。処理槽７
は、上記の工程中の何れのタンクでもよく、上記の溶液
の中の何れの溶液を収容してもよい。従って、図１に示
された処理槽７は、処理系列の中の洗浄段階に適用可能
であるが、洗浄段階に限定されることはない。処理槽７
は、ここに参考のため引用した米国特許第５，３１１，
２３５号明細書に記載されているような小容積薄型タン
ク又はラック及びタンク配置でもよい。
【００１１】処理槽７は、処理されるべき感光材料を受
容する入口９と、感光材料が処理槽７から出るときに通
る出口１１とを有する。本発明の説明中、処理及び処理
溶液は、それぞれ、上記の一連の段階の中のいずれかの
段階及び溶液を示す。感光材料が処理槽７に入るとき、
感光材料は第１の処理用組立体１５に送られる。第１の
処理用組立体１５は、感光材料が間を通過するローラ１
７ａ及び１７ｂを有する伝達ローラ組立体１７を含む。
伝達ローラ組立体１７は一部分がトレイ組立体１９内に
配置される。トレイ組立体１９は、ローラ１７ａの下に
配置された第１のトレイ部１９ａと、ローラ１７ｂの下
に配置された第２のトレイ部１９ｂとを含む。案内経路
又は溝２１は、第１及び第２のトレイ部１９ａ及び１９
ｂと連通し、これらのトレイ部１９ａ及び１９ｂから第
１の処理組立体１５の下方に配置された別の処理用組立
体１５ａまで延在する。
容する入口９と、感光材料が処理槽７から出るときに通
る出口１１とを有する。本発明の説明中、処理及び処理
溶液は、それぞれ、上記の一連の段階の中のいずれかの
段階及び溶液を示す。感光材料が処理槽７に入るとき、
感光材料は第１の処理用組立体１５に送られる。第１の
処理用組立体１５は、感光材料が間を通過するローラ１
７ａ及び１７ｂを有する伝達ローラ組立体１７を含む。
伝達ローラ組立体１７は一部分がトレイ組立体１９内に
配置される。トレイ組立体１９は、ローラ１７ａの下に
配置された第１のトレイ部１９ａと、ローラ１７ｂの下
に配置された第２のトレイ部１９ｂとを含む。案内経路
又は溝２１は、第１及び第２のトレイ部１９ａ及び１９
ｂと連通し、これらのトレイ部１９ａ及び１９ｂから第
１の処理組立体１５の下方に配置された別の処理用組立
体１５ａまで延在する。
【００１２】再度、第１の処理用組立体１５を参照する
に、洗浄溶液のような処理溶液がトレイ組立体１９から
あふれ出るようにポート２２に供給される。トレイ組立
体１９からあふれ出た処理溶液は、開口部９０を通じて
案内経路２１に送られ、第１の処理用組立体１５の下方
に設けられた処理用組立体１５ａまで案内経路２１に沿
って送られる。かくして、感光材料がローラ１７ａ及び
１７ｂのニップ部の間を通過するとき、あふれ出た溶液
中に部分的に浸漬したローラ１７ａ及び１７ｂは、感光
材料に溶液を塗布する。感光材料及びトレイ組立体１９
からあふれ出た処理溶液は、感光材料及び処理溶液が案
内経路２１に沿って移動する間に感光材料を処理するた
め、案内経路２１に送られる。トレイ組立体１９のトレ
イ部１９ａと１９ｂの間に案内経路２１を設けることに
より、感光材料は、空気に触れることを排除、最小限に
抑えると共に洗浄される。
に、洗浄溶液のような処理溶液がトレイ組立体１９から
あふれ出るようにポート２２に供給される。トレイ組立
体１９からあふれ出た処理溶液は、開口部９０を通じて
案内経路２１に送られ、第１の処理用組立体１５の下方
に設けられた処理用組立体１５ａまで案内経路２１に沿
って送られる。かくして、感光材料がローラ１７ａ及び
１７ｂのニップ部の間を通過するとき、あふれ出た溶液
中に部分的に浸漬したローラ１７ａ及び１７ｂは、感光
材料に溶液を塗布する。感光材料及びトレイ組立体１９
からあふれ出た処理溶液は、感光材料及び処理溶液が案
内経路２１に沿って移動する間に感光材料を処理するた
め、案内経路２１に送られる。トレイ組立体１９のトレ
イ部１９ａと１９ｂの間に案内経路２１を設けることに
より、感光材料は、空気に触れることを排除、最小限に
抑えると共に洗浄される。
【００１３】処理溶液の処理機能をさらに高めるため、
案内路２１に、処理溶液が案内経路２１を下方に流れる
ときに処理溶液を攪拌する集合組織状表面を設けてもよ
い。図２の（Ａ）及び（Ｂ）は、案内経路２１の片面又
は両面に配置することができる集合組織状流体軸受面２
００及び２０５を示す図である。集合組織状表面２００
及び２０５は、従来の工程、例えば、ローレット加工、
成型、ＥＤＭ（放電加工）によって集合組織化される。
ローレット２０２又は２０６は、夫々、表面２００及び
２０５に示されている。集合組織（図２の（Ａ）及び
（Ｂ））並びに傾斜（図２の（Ａ））は、感光材料と、
案内経路２１の一方又は両方の表面との間の処理溶液の
流れを改善し、感光材料が表面に貼り付くことを防止す
る。
案内路２１に、処理溶液が案内経路２１を下方に流れる
ときに処理溶液を攪拌する集合組織状表面を設けてもよ
い。図２の（Ａ）及び（Ｂ）は、案内経路２１の片面又
は両面に配置することができる集合組織状流体軸受面２
００及び２０５を示す図である。集合組織状表面２００
及び２０５は、従来の工程、例えば、ローレット加工、
成型、ＥＤＭ（放電加工）によって集合組織化される。
ローレット２０２又は２０６は、夫々、表面２００及び
２０５に示されている。集合組織（図２の（Ａ）及び
（Ｂ））並びに傾斜（図２の（Ａ））は、感光材料と、
案内経路２１の一方又は両方の表面との間の処理溶液の
流れを改善し、感光材料が表面に貼り付くことを防止す
る。
【００１４】本発明の別の面として、案内経路２１は、
感光材料がクリーニングのような別の改良された処理ま
で案内経路２１を下方に移動するとき、溶液を感光材料
に塗布するノズル２３を含む。感光材料および処理溶液
が第１の処理組立体１５の開口部２５から出るときに、
感光材料は次の処理用組立体１５ａの伝達ローラ組立体
２７のローラ２７ａ、２７ｂのニップ部に入る。また、
第１の処理組立体１５の出口開口部２５から出た処理溶
液は、次の処理用組立体１５ａの伝達ローラ組立体２７
の上に落下し、次の処理用組立体１５ａのトレイ組立体
２９を満たす。この配置により、感光材料の空気への接
触は最小限に抑えられる。処理用組立体１５の場合と同
様に、トレイ組立体２９は、ローラ２７ａの下方にある
第１のトレイ部２９ａと、第２のローラ２７ｂの下方に
ある第２のトレイ部２９ｂとを含む。処理溶液はトレイ
組立体２９からあふれ出て、開口部９１を通って別の案
内経路又は溝３１に送られる。第１の処理用組立体１５
から出た感光材料は、あふれ出た洗浄溶液と共に伝達ロ
ーラ組立体２７によって案内経路３１に運ばれる。処理
用組立体１５ａにおいて、感光材料は、感光材料が案内
経路３１の中を通過するとき、あふれ出た溶液によって
処理される。案内経路２１と同様に、案内経路３１は、
図２の（Ａ）及び（Ｂ）に示され、処理用組立体１５に
関して説明されたような集合組織状表面及びノズル２３
を更なる処理に関しても含む。
感光材料がクリーニングのような別の改良された処理ま
で案内経路２１を下方に移動するとき、溶液を感光材料
に塗布するノズル２３を含む。感光材料および処理溶液
が第１の処理組立体１５の開口部２５から出るときに、
感光材料は次の処理用組立体１５ａの伝達ローラ組立体
２７のローラ２７ａ、２７ｂのニップ部に入る。また、
第１の処理組立体１５の出口開口部２５から出た処理溶
液は、次の処理用組立体１５ａの伝達ローラ組立体２７
の上に落下し、次の処理用組立体１５ａのトレイ組立体
２９を満たす。この配置により、感光材料の空気への接
触は最小限に抑えられる。処理用組立体１５の場合と同
様に、トレイ組立体２９は、ローラ２７ａの下方にある
第１のトレイ部２９ａと、第２のローラ２７ｂの下方に
ある第２のトレイ部２９ｂとを含む。処理溶液はトレイ
組立体２９からあふれ出て、開口部９１を通って別の案
内経路又は溝３１に送られる。第１の処理用組立体１５
から出た感光材料は、あふれ出た洗浄溶液と共に伝達ロ
ーラ組立体２７によって案内経路３１に運ばれる。処理
用組立体１５ａにおいて、感光材料は、感光材料が案内
経路３１の中を通過するとき、あふれ出た溶液によって
処理される。案内経路２１と同様に、案内経路３１は、
図２の（Ａ）及び（Ｂ）に示され、処理用組立体１５に
関して説明されたような集合組織状表面及びノズル２３
を更なる処理に関しても含む。
【００１５】処理用組立体と同様に処理経路の下向き部
分を画成する感光材料が処理用組立体１５ａから出ると
きに、感光材料は、伝達ローラ３５、３７及び３９並び
に案内面４１及び４３を含む折り返し部３３に入る。開
口部３２で案内経路３１から排出される処理溶液は、感
光材料が通過する伝達ローラ３５の上に落下し、伝達ロ
ーラ３５は処理溶液を感光材料に塗布し、感光材料を案
内面４１に案内する。処理槽７に入った処理溶液は、処
理槽７の下方部にライン４５で示されたレベルまで貯ま
り、処理用組立体１５ａから排出された感光材料が湿潤
した状態を保ち、かつ、案内面４１、伝達ローラ３７及
び案内面４３を経由して運ばれる際に空気への接触が最
小限に抑えられることを保証する。
分を画成する感光材料が処理用組立体１５ａから出ると
きに、感光材料は、伝達ローラ３５、３７及び３９並び
に案内面４１及び４３を含む折り返し部３３に入る。開
口部３２で案内経路３１から排出される処理溶液は、感
光材料が通過する伝達ローラ３５の上に落下し、伝達ロ
ーラ３５は処理溶液を感光材料に塗布し、感光材料を案
内面４１に案内する。処理槽７に入った処理溶液は、処
理槽７の下方部にライン４５で示されたレベルまで貯ま
り、処理用組立体１５ａから排出された感光材料が湿潤
した状態を保ち、かつ、案内面４１、伝達ローラ３７及
び案内面４３を経由して運ばれる際に空気への接触が最
小限に抑えられることを保証する。
【００１６】次に、感光材料は伝達ローラ３９によって
処理用組立体１５ａ’及び１５ａ’を含む処理経路の上
向き経路に運ばれる。上向き経路に沿った処理用組立体
１５ａ’及び１５’は、処理用組立体１５ａ及び１５と
類似しているが、ノズル２３を含まない。従って、処理
用組立体１５及び１５ａを説明するため使用された番号
と同じ参照番号が処理用組立体１５’及び１５ａ’を説
明するため使用される。但し、処理用組立体１５’及び
１５ａ’の場合に、参照番号の最後にプライム記
号「’」が付加されている点が異なる。
処理用組立体１５ａ’及び１５ａ’を含む処理経路の上
向き経路に運ばれる。上向き経路に沿った処理用組立体
１５ａ’及び１５’は、処理用組立体１５ａ及び１５と
類似しているが、ノズル２３を含まない。従って、処理
用組立体１５及び１５ａを説明するため使用された番号
と同じ参照番号が処理用組立体１５’及び１５ａ’を説
明するため使用される。但し、処理用組立体１５’及び
１５ａ’の場合に、参照番号の最後にプライム記
号「’」が付加されている点が異なる。
【００１７】感光材料は、ローラ３９によって開口部３
２’を通って処理用組立体１５ａ’の案内経路３１’ま
で運ばれ、トレイ組立体２９’に収容された処理溶液中
に一部が沈められた伝達ローラ組立体２７’のニップ部
に達するまで、案内経路３１’に沿って開口部９１’を
通って上向きに運搬される。伝達ローラ組立体２７’
は、トレイ組立体２９’のトレイ部２９ａ’及び２９
ｂ’の上に夫々置かれたローラ２７ａ’及び２７ｂ’を
含む。伝達ローラ組立体２７’は、開口部２５’を介し
て処理用組立体１５’の案内経路２１’まで感光材料を
上向きに運搬する。処理用組立体１５’は、伝達ローラ
組立体１７’が中に配置されたトレイ組立体１９’を含
む。感光材料は、開口部９０’を通って案内経路２１’
から外に出て、伝達ローラ組立体１７’のローラ１７
ａ’と１７ｂ’の間のニップ部を通過する。処理組立体
１５’の伝達ローラ組立体１７’は、次に、感光材料を
処理槽７の出口１１に運ぶ。
２’を通って処理用組立体１５ａ’の案内経路３１’ま
で運ばれ、トレイ組立体２９’に収容された処理溶液中
に一部が沈められた伝達ローラ組立体２７’のニップ部
に達するまで、案内経路３１’に沿って開口部９１’を
通って上向きに運搬される。伝達ローラ組立体２７’
は、トレイ組立体２９’のトレイ部２９ａ’及び２９
ｂ’の上に夫々置かれたローラ２７ａ’及び２７ｂ’を
含む。伝達ローラ組立体２７’は、開口部２５’を介し
て処理用組立体１５’の案内経路２１’まで感光材料を
上向きに運搬する。処理用組立体１５’は、伝達ローラ
組立体１７’が中に配置されたトレイ組立体１９’を含
む。感光材料は、開口部９０’を通って案内経路２１’
から外に出て、伝達ローラ組立体１７’のローラ１７
ａ’と１７ｂ’の間のニップ部を通過する。処理組立体
１５’の伝達ローラ組立体１７’は、次に、感光材料を
処理槽７の出口１１に運ぶ。
【００１８】本発明による処理槽７には、新鮮な処理溶
液を処理用組立体１５’に導入するポート４７が設けら
れ得る。新鮮な処理溶液は、トレイ組立体１９’に供給
され、トレイ組立体からあふれ出て、あふれ出た溶液が
開口部９０’を通って案内経路２１’に送られる。トレ
イ組立体１９’は、ローラ１７ａ’及び１７ｂ’の下に
夫々設けられたトレイ部１９ａ’及び１９ｂ’を含む。
トレイ組立体１９’からあふれ出た処理溶液は、次に、
案内経路２１’によって送られ、開口部２５’を通って
伝達ローラ組立体２７’及びトレイ組立体２９’に達す
る。あふれ出た処理溶液は、開口部９１’を通って、処
理用組立体１５ａ’の案内経路３１’に入る。
液を処理用組立体１５’に導入するポート４７が設けら
れ得る。新鮮な処理溶液は、トレイ組立体１９’に供給
され、トレイ組立体からあふれ出て、あふれ出た溶液が
開口部９０’を通って案内経路２１’に送られる。トレ
イ組立体１９’は、ローラ１７ａ’及び１７ｂ’の下に
夫々設けられたトレイ部１９ａ’及び１９ｂ’を含む。
トレイ組立体１９’からあふれ出た処理溶液は、次に、
案内経路２１’によって送られ、開口部２５’を通って
伝達ローラ組立体２７’及びトレイ組立体２９’に達す
る。あふれ出た処理溶液は、開口部９１’を通って、処
理用組立体１５ａ’の案内経路３１’に入る。
【００１９】上記の通り、感光材料が処理経路の上向き
部分を介して送られ、処理用組立体１５ａ’及び１５’
を順番に運ばれるとき、新鮮な処理溶液が処理用組立体
１５’のポート４７に加えられ、処理用組立体１５ａ’
に向かって下向きに流れる。処理組立体１５’におい
て、溶液は案内経路３１’の中を送られ、開口部３２’
を介して伝達ローラ３９の上に排出され、折り返し部３
３に達する。これによって、感光材料が処理経路の上向
き部分を上向きに運搬されるときに、感光材料に対し新
鮮な溶液の逆流が生成される。
部分を介して送られ、処理用組立体１５ａ’及び１５’
を順番に運ばれるとき、新鮮な処理溶液が処理用組立体
１５’のポート４７に加えられ、処理用組立体１５ａ’
に向かって下向きに流れる。処理組立体１５’におい
て、溶液は案内経路３１’の中を送られ、開口部３２’
を介して伝達ローラ３９の上に排出され、折り返し部３
３に達する。これによって、感光材料が処理経路の上向
き部分を上向きに運搬されるときに、感光材料に対し新
鮮な溶液の逆流が生成される。
【００２０】各案内経路２１’及び３１’の一面若しく
は両面は、処理用組立体１５及び１５ａの案内経路２１
及び３１に関して説明したように、図２の（Ａ）及び
（Ｂ）に示される集合組織状表面でもよい。処理槽７
は、再循環系５３に取り付けられた底部に排出口５１を
更に有する。再循環系の一例は、例えば、参考として引
用した米国特許第５，３０９，１９１号明細書に記載さ
れている。処理槽７の底に集められた処理溶液は、再循
環系５３を経由して第１の処理用組立体１５のポート２
２に流れる。本発明の更なる特徴として、再循環された
処理溶液は、線路５３ａ及び５３ｂを介して処理用組立
体１５及び１５ａのノズル２３に、随意的かつ選択的に
送ることができる。従って、本発明の配置によれば、感
光材料が処理経路の下向き部分（処理用組立体１５、１
５ａ）に沿って運ばれるとき、感光材料は再循環された
処理溶液を用いて連続的に処置される。感光材料が処理
経路の上向き部分（処理用組立体１５ａ’、１５’）に
沿って運ばれるとき、感光材料は新鮮な処理溶液で連続
的に処置され、その後、新鮮な処理溶液は処理槽７の底
に貯まり、再循環系５３を介して再循環され、処理用組
立体１５、１５ａに選択的に供給され得る。
は両面は、処理用組立体１５及び１５ａの案内経路２１
及び３１に関して説明したように、図２の（Ａ）及び
（Ｂ）に示される集合組織状表面でもよい。処理槽７
は、再循環系５３に取り付けられた底部に排出口５１を
更に有する。再循環系の一例は、例えば、参考として引
用した米国特許第５，３０９，１９１号明細書に記載さ
れている。処理槽７の底に集められた処理溶液は、再循
環系５３を経由して第１の処理用組立体１５のポート２
２に流れる。本発明の更なる特徴として、再循環された
処理溶液は、線路５３ａ及び５３ｂを介して処理用組立
体１５及び１５ａのノズル２３に、随意的かつ選択的に
送ることができる。従って、本発明の配置によれば、感
光材料が処理経路の下向き部分（処理用組立体１５、１
５ａ）に沿って運ばれるとき、感光材料は再循環された
処理溶液を用いて連続的に処置される。感光材料が処理
経路の上向き部分（処理用組立体１５ａ’、１５’）に
沿って運ばれるとき、感光材料は新鮮な処理溶液で連続
的に処置され、その後、新鮮な処理溶液は処理槽７の底
に貯まり、再循環系５３を介して再循環され、処理用組
立体１５、１５ａに選択的に供給され得る。
【００２１】図３には、図１に示された本発明による処
理槽７の他の実施例が示されている。図１に使用された
素子に対する参照番号と同じ番号が図３に使用される。
図３に示された実施例は、全ての処理用組立体１５、１
５ａ、１５ａ’及び１５’がノズル２３を含む点で図１
の実施例とは相違する。図３の実施例の動作並びに図３
の実施例の詳細は、上記の図１の動作並びに対応した素
子と同一である。
理槽７の他の実施例が示されている。図１に使用された
素子に対する参照番号と同じ番号が図３に使用される。
図３に示された実施例は、全ての処理用組立体１５、１
５ａ、１５ａ’及び１５’がノズル２３を含む点で図１
の実施例とは相違する。図３の実施例の動作並びに図３
の実施例の詳細は、上記の図１の動作並びに対応した素
子と同一である。
【００２２】図４には、図１に示された本発明による処
理槽７の他の実施例が示されている。図１に使用された
素子に対する参照番号と同じ番号が図４に使用される。
図４に示された実施例は、何れの処理用組立体１５、１
５ａ、１５ａ’及び１５’にもノズル２３が含まれてい
ない点で図１の実施例とは相違する。図４の実施例の動
作並びに図３の実施例の詳細は、上記の図１の動作並び
に対応した素子と同一である。また、図３及び４に示さ
れた案内経路２１、３１、２１’及び３１’には、図２
の（Ａ）及び（Ｂ）に示されるような集合組織状表面を
設けてもよい点に注意する必要がある。
理槽７の他の実施例が示されている。図１に使用された
素子に対する参照番号と同じ番号が図４に使用される。
図４に示された実施例は、何れの処理用組立体１５、１
５ａ、１５ａ’及び１５’にもノズル２３が含まれてい
ない点で図１の実施例とは相違する。図４の実施例の動
作並びに図３の実施例の詳細は、上記の図１の動作並び
に対応した素子と同一である。また、図３及び４に示さ
れた案内経路２１、３１、２１’及び３１’には、図２
の（Ａ）及び（Ｂ）に示されるような集合組織状表面を
設けてもよい点に注意する必要がある。
【００２３】また、図示された実施例には、処理経路の
下向き部分に沿った二つの処理用組立体と、処理経路の
上向き部分に沿った二つの処理用組立体とが表されてい
るが、処理用組立体の個数は設計上の考慮、処理槽の寸
法、並びに、処理経路の長さに基づいて決められること
に注意すべきである。また、図示されているように、各
処理用組立体は、処理経路を画成し、処置される感光材
料ができる限り空気に触れないようにすべく配置されて
いる。また、感光材料が処理槽７から排出される領域に
新鮮な処理溶液を添加することは一例に過ぎず、新鮮な
処理溶液は処理槽７の入口及び出口に供給してもよいこ
とに注意する必要がある。
下向き部分に沿った二つの処理用組立体と、処理経路の
上向き部分に沿った二つの処理用組立体とが表されてい
るが、処理用組立体の個数は設計上の考慮、処理槽の寸
法、並びに、処理経路の長さに基づいて決められること
に注意すべきである。また、図示されているように、各
処理用組立体は、処理経路を画成し、処置される感光材
料ができる限り空気に触れないようにすべく配置されて
いる。また、感光材料が処理槽７から排出される領域に
新鮮な処理溶液を添加することは一例に過ぎず、新鮮な
処理溶液は処理槽７の入口及び出口に供給してもよいこ
とに注意する必要がある。
【００２４】上記の通り、特に、好ましい実施例を参照
して本発明の説明を行ったが、本発明の精神及び範囲を
逸脱することなく種々の変更及び変形をなし得ることに
注意する必要がある。
して本発明の説明を行ったが、本発明の精神及び範囲を
逸脱することなく種々の変更及び変形をなし得ることに
注意する必要がある。
【図１】本発明の処理組立体を有する処理槽の一実施例
を示す図である。
を示す図である。
【図２】（Ａ）及び（Ｂ）は、本発明の処理槽の処理経
路に配置され得る集合組織状表面を示す図である。
路に配置され得る集合組織状表面を示す図である。
【図３】図１の処理槽の他の実施例を示す図である。
【図４】図１の処理槽の他の実施例を示す図である。
７ 処理槽 ９ 入口 １１ 出口 １５ 第１の処理用組立体 １５ａ，１５’，１５ａ’ 別の処理用組立体 １７，２７，１７’，２７’ 伝達ローラ組立体 １７ａ，１７ｂ，２７ａ，２７ｂ，２７ａ’，２７ｂ’
ローラ １９，２９，１９’，２９’ トレイ組立体 １９ａ，２９ａ，２９ａ’ 第１のトレイ部 １９ｂ，２９ｂ，２９ｂ’ 第２のトレイ部 ２１，３１，２１’，３１’ 案内経路 ２２，４７ ポート ２３ ノズル ２５，３２，９０，９１，２５’，３２’，９０’
開口部 ３３ 折り返し部 ３５，３７，３９ 伝達ローラ ４１，４３ 案内面 ４５ 貯水レベル ５１ 排出口 ５３ 再循環系
ローラ １９，２９，１９’，２９’ トレイ組立体 １９ａ，２９ａ，２９ａ’ 第１のトレイ部 １９ｂ，２９ｂ，２９ｂ’ 第２のトレイ部 ２１，３１，２１’，３１’ 案内経路 ２２，４７ ポート ２３ ノズル ２５，３２，９０，９１，２５’，３２’，９０’
開口部 ３３ 折り返し部 ３５，３７，３９ 伝達ローラ ４１，４３ 案内面 ４５ 貯水レベル ５１ 排出口 ５３ 再循環系
Claims (3)
- 【請求項１】 感光材料用の処理経路を有する少なく
とも１台の処理槽とを含む感光材料処理装置において、 上記少なくとも１台の処理槽は、上記処理経路の下向き
部分に沿った少なくとも一つの第１の処理用組立体と、
上記処理経路の上向き部分に沿った少なくとも一つの第
２の処理用組立体とを含み、 上記第１の処理用組立体及び上記第２の処理用組立体
は、 処理溶液を中に受容するトレイ組立体と、 上記トレイ組立体に収容された上記処理溶液中に少なく
とも部分的に沈められた伝達ローラ組立体と、 上記トレイ組立体から延在し、上記トレイ組立体からあ
ふれ出た処理溶液を受容し、上記感光材料及びあふれ出
た処理溶液を案内する案内経路とを有する、感光材料処
理装置。 - 【請求項２】 少なくとも一つの処理用組立体を有する
少なくとも１台の処理槽を含む感光材料処理装置におい
て、 上記少なくとも一つの処理用組立体は、 処理溶液を中に受容する受容部と、 感光材料及び上記受容部からあふれ出た処理溶液を案内
する案内部とを含む、感光材料処理装置。 - 【請求項３】 トレイ組立体及び上記トレイ組立体から
延在する案内経路を有する少なくとも一つの処理用組立
体を処理槽に設ける段階と、 上記トレイ組立体からあふれ出て上記案内経路に送られ
るように、処理溶液を上記少なくとも一つの処理用組立
体に供給する段階と、 上記あふれ出た処理溶液によって上記案内経路内で処置
されるように、感光材料を上記処理用組立体の上記案内
経路の中で運搬する段階とを含む感光材料処理方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/947,817 US5899594A (en) | 1997-10-09 | 1997-10-09 | Processing apparatus and method utilizing a tray assembly and a guide path arrangement |
| US947817 | 1997-10-09 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11194469A true JPH11194469A (ja) | 1999-07-21 |
Family
ID=25486834
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10286789A Pending JPH11194469A (ja) | 1997-10-09 | 1998-10-08 | トレイ組立体及び案内経路配置を利用する処理装置並びに方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5899594A (ja) |
| EP (1) | EP0908773A3 (ja) |
| JP (1) | JPH11194469A (ja) |
| CN (1) | CN1214466A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB0026949D0 (en) * | 2000-11-03 | 2000-12-20 | Eastman Kodak Co | Processing photographic material |
| ES2598004B1 (es) | 2015-06-24 | 2017-12-12 | Pablo IBAÑEZ RAZOLA | Máquina compacta híbrida digital-analógica de revelado |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3145637A (en) * | 1960-07-12 | 1964-08-25 | Gen Aniline & Film Corp | Diazotype development apparatus |
| US3318222A (en) * | 1964-06-08 | 1967-05-09 | Gen Aniline & Film Corp | Paper guiding and evaporation control in moist reproduction machines |
| HU188540B (en) * | 1983-12-23 | 1986-04-28 | Schneider,Laszlo,Hu | Phototechnological apparatus for continuous developement of phototechnological materials |
| DE68918974T2 (de) * | 1988-04-11 | 1995-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Gerät zur Entwicklung von lichtempfindlichem Material. |
| US5168296A (en) * | 1988-04-20 | 1992-12-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method and apparatus for processing photosensitive material |
| US5309191A (en) * | 1992-03-02 | 1994-05-03 | Eastman Kodak Company | Recirculation, replenishment, refresh, recharge and backflush for a photographic processing apparatus |
| US5311235A (en) * | 1992-03-02 | 1994-05-10 | Eastman Kodak Company | Driving mechanism for a photographic processing apparatus |
| DE4239401A1 (de) * | 1992-11-24 | 1994-05-26 | Agfa Gevaert Ag | Vorrichtung und Verfahren zur schnellen Wässerung von fotografischem Material |
| US5669035A (en) * | 1995-08-30 | 1997-09-16 | Konica Corporation | Apparatus for processing a silver halide photosensitive material |
-
1997
- 1997-10-09 US US08/947,817 patent/US5899594A/en not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-09-28 EP EP98203254A patent/EP0908773A3/en not_active Withdrawn
- 1998-10-08 JP JP10286789A patent/JPH11194469A/ja active Pending
- 1998-10-09 CN CN98120913.0A patent/CN1214466A/zh active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0908773A2 (en) | 1999-04-14 |
| US5899594A (en) | 1999-05-04 |
| CN1214466A (zh) | 1999-04-21 |
| EP0908773A3 (en) | 1999-06-16 |
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