JPH11174456A - Substrate for alignment division and its production as well as liquid crystal display element - Google Patents
Substrate for alignment division and its production as well as liquid crystal display elementInfo
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- JPH11174456A JPH11174456A JP36267097A JP36267097A JPH11174456A JP H11174456 A JPH11174456 A JP H11174456A JP 36267097 A JP36267097 A JP 36267097A JP 36267097 A JP36267097 A JP 36267097A JP H11174456 A JPH11174456 A JP H11174456A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、配向分割用の基板
及びその製造方法ならびに液晶表示素子に関する。具体
的には、液晶表示素子を広視野角化するための技術に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate for alignment division, a method for manufacturing the same, and a liquid crystal display device. Specifically, the present invention relates to a technique for increasing the viewing angle of a liquid crystal display device.
【0002】[0002]
【従来の技術】(第1の従来例)液晶表示素子は、透明
電極と配向膜を形成された一対の透明基板間に液晶を封
入したものであって、例えばTN(ツイステッド・ネマ
ティック)型の液晶表示素子は、従来、図1に示すよう
な構造を有していた。2. Description of the Related Art (First Conventional Example) A liquid crystal display device is a device in which liquid crystal is sealed between a pair of transparent substrates on which a transparent electrode and an alignment film are formed. For example, a TN (twisted nematic) type is used. Conventionally, a liquid crystal display element has a structure as shown in FIG.
【0003】この液晶表示素子1は、ガラス薄板やプラ
スチックフィルム等からなる透明基板2a,2bをその
周辺部において枠状をしたシール材を介して接合し、こ
の両透明基板2a,2b間に液晶層3を封止したもので
あって、両透明基板2a,2bの対向面にはそれぞれ透
明な絶縁膜4a,4bが形成され、この絶縁膜4a,4
bの上に透明電極5a,5bが形成されている。なお、
単純マトリクス方式の液晶表示素子では、一方の透明基
板に形成された透明電極は走査電極となり、他方の透明
基板に形成された透明電極は信号電極となっている。In this liquid crystal display element 1, a transparent substrate 2a, 2b made of a thin glass plate, a plastic film, or the like is joined via a frame-shaped sealing material at a peripheral portion thereof, and a liquid crystal is provided between the two transparent substrates 2a, 2b. The transparent insulating films 4a and 4b are formed on the opposing surfaces of the transparent substrates 2a and 2b, respectively.
The transparent electrodes 5a and 5b are formed on the substrate b. In addition,
In a simple matrix type liquid crystal display device, a transparent electrode formed on one transparent substrate serves as a scanning electrode, and a transparent electrode formed on the other transparent substrate serves as a signal electrode.
【0004】また、両透明基板2a,2bの電極形成面
上には、ポリイミド等の水平配向材料を塗布した後、熱
乾燥硬化させて水平配向膜6a,6bが形成されてい
る。この配向膜6a,6bは、その膜面を布でラビング
することにより一方向に配向処理したラビング処理膜で
あり、それぞれの液晶分子3aを配向させるラビング方
向は、各配向膜6a,6bで互いにほぼ90゜ずれてい
る。On the electrode forming surfaces of the transparent substrates 2a and 2b, a horizontal alignment material such as polyimide is applied and then dried and hardened to form horizontal alignment films 6a and 6b. Each of the alignment films 6a and 6b is a rubbed film in which the film surface is rubbed with a cloth so that the liquid crystal molecules 3a are aligned in one direction. It is almost 90 ° off.
【0005】そして、両透明基板2a,2b間に封入さ
れた液晶の分子3aは、図2に示すように、両透明基板
2a,2bの配向膜6a,6bにより、この配向膜6
a,6bの膜面に対して適度に傾斜したプレチルト状態
(プレチルト角φ)で所定方向に配向され、両透明基板
2a,2b間においてほぼ90゜のツイスト角でツイス
ト配列している。As shown in FIG. 2, the liquid crystal molecules 3a sealed between the transparent substrates 2a and 2b are separated by the alignment films 6a and 6b of the transparent substrates 2a and 2b.
The transparent substrates 2a and 2b are oriented in a predetermined direction in a pretilt state (pretilt angle φ) that is appropriately inclined with respect to the film surfaces of the films a and 6b, and are twisted at a twist angle of approximately 90 ° between the transparent substrates 2a and 2b.
【0006】また、上記両透明基板2a,2bの外面側
にはそれぞれ偏光板7a,7bが配置されている。例え
ば、ポジ表示タイプのTN型液晶表示素子では、一対の
偏光板の透過軸は互いにほぼ直交している。[0006] Polarizing plates 7a and 7b are disposed on the outer surfaces of the transparent substrates 2a and 2b, respectively. For example, in a TN liquid crystal display element of a positive display type, the transmission axes of a pair of polarizing plates are substantially orthogonal to each other.
【0007】上記液晶表示素子1は、両透明基板2a,
2bの透明電極5a,5b間への電圧の印加により光の
透過を制御して画像を表示するものである。両透明基板
2a,2b間に封入された液晶の分子3aは、両透明基
板2a,2bの配向膜6a,6bにより、この配向膜6
a,6bの膜面に対して適度に傾斜したプレチルト状態
で所定方向に配向され、両透明基板2a,2b間におい
てほぼ90゜のツイスト角でツイスト配列している。こ
のため、電圧無印加状態、つまり液晶分子3aがツイス
ト配列している状態では、一方の偏光板7aを通って液
晶層3に入射した直線偏光がその偏光方向をほぼ90゜
旋光されて他方の偏光板7bに入射し、この偏光板7b
を透過するので、当該画素では明表示状態となる。これ
に対し、電圧印加状態、つまり液晶分子3aがほぼ垂直
に立上がり配列した状態では、前記直線偏光が液晶層3
での旋光作用を受けずに入射時の偏光状態のまま他方の
偏光板7bに入射し、この偏光板7bで吸収されるの
で、当該画素では暗表示状態となる。The liquid crystal display element 1 has two transparent substrates 2a,
An image is displayed by controlling the transmission of light by applying a voltage between the transparent electrodes 5a and 5b of 2b. The liquid crystal molecules 3a sealed between the transparent substrates 2a and 2b are separated by the alignment films 6a and 6b of the transparent substrates 2a and 2b.
The transparent substrates 2a and 2b are oriented in a predetermined direction in a pretilt state that is appropriately inclined with respect to the film surfaces of the transparent substrates 2a and 6b, and are twisted at a twist angle of about 90 ° between the transparent substrates 2a and 2b. Therefore, in a state where no voltage is applied, that is, in a state where the liquid crystal molecules 3a are twisted, the linearly polarized light that has entered the liquid crystal layer 3 through one polarizing plate 7a is rotated by about 90 ° in the polarization direction, and the other is polarized. The light enters the polarizing plate 7b and is
, The pixel is in a bright display state. On the other hand, in a voltage applied state, that is, in a state where the liquid crystal molecules 3a are arranged to rise almost vertically, the linearly polarized light is
The light enters the other polarizing plate 7b in the polarization state at the time of incidence without being affected by the optical rotation effect of the above, and is absorbed by this polarizing plate 7b, so that the pixel is in a dark display state.
【0008】(第1の従来例の問題点)このような液晶
表示素子は、外部からの光を(自然光またはバックライ
ト光)を利用して表示するため低消費電力であるという
利点がある。しかし、その反面、表示を良好な表示色や
コントラストで見ることができる観察角度(以下、視野
角という)[表示面の正面から斜め方向へ計る]が狭い
という欠点がある。これは、液晶表示素子は、液晶分子
が屈折率異方性(複屈折率ともいう)を有するので、液
晶表示素子を観察する角度によって表示色やコントラス
トが変化するという現象が生じるためである。(Problem of the First Conventional Example) Such a liquid crystal display element has an advantage of low power consumption because it displays external light using (natural light or backlight light). However, on the other hand, there is a disadvantage that an observation angle (hereinafter, referred to as a viewing angle) (measured obliquely from the front of the display surface) at which the display can be viewed with good display color and contrast is narrow. This is because, in the liquid crystal display device, since liquid crystal molecules have anisotropy of refractive index (also referred to as birefringence), a phenomenon occurs in which display color and contrast change depending on an angle at which the liquid crystal display device is observed.
【0009】(第2の従来例)液晶表示素子の視野角を
拡大するためには、これまで様々な工夫がなされている
が、単一画素内で液晶分子の配向状態を少なくとも2つ
以上にすることで複数の視角の状態を混在させるという
配向分割と呼ばれる方法も、そのうちのーつである。こ
れは同じ画素内に存在する2つの配向状態の異なる領域
が、それぞれ異なる視野角をもつため、その画素におけ
るトータルの視野角が広くなることによるものである。(Second Conventional Example) In order to increase the viewing angle of a liquid crystal display device, various devices have been devised so far, but the alignment state of liquid crystal molecules must be reduced to at least two in a single pixel. One of these methods is a method called orientation division in which a plurality of viewing angle states are mixed. This is because two regions having different alignment states existing in the same pixel have different viewing angles, so that the total viewing angle in the pixel is widened.
【0010】このような配向分割の手法を用いた液晶表
示素子の構造を図3に示す(特開平6−289398号
公報)。この液晶表示素子8にあっては、一方の透明電
極9aを断面三角形状に形成し、単一画素内で透明電極
9aの一側片面を他側片面と反対向きに傾斜させてい
る。このため、透明電極9aの上に塗布された配向膜1
0aも、単一画素内で片面ずつ異なる方向に傾いてい
る。そして、配向膜10aにおいて傾斜方向の異なる傾
斜面は、例えば互いに逆向きにラビングされる。FIG. 3 shows the structure of a liquid crystal display device using such an orientation division technique (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 6-289398). In this liquid crystal display element 8, one transparent electrode 9a is formed in a triangular cross section, and one side of the transparent electrode 9a is inclined in the direction opposite to the other side in a single pixel. Therefore, the alignment film 1 applied on the transparent electrode 9a
0a is also inclined in different directions for each side within a single pixel. The inclined surfaces having different inclination directions in the alignment film 10a are rubbed, for example, in opposite directions.
【0011】図4及び図5は、このような構造によって
液晶表示素子8の視野角を広くする原理を説明する図で
ある。屈折率異方性を有する液晶分子3aでは、図4に
示すように、液晶分子3aに対して見る方向(視角)が
異なると、見かけの屈折率n1、n2(n1≠n2)も
異なる。従って、液晶表示素子8内の液晶分子3aの方
向が異なっていると、同じ方向から液晶表示素子8を見
ていても、液晶分子3aの方向によって液晶表示素子8
の屈折率が異なり(つまり、屈折率の分布が変化し)、
異なる方向を向いた液晶分子3a毎に液晶表示素子8の
見え易い視野方向が変化する。FIGS. 4 and 5 illustrate the principle of widening the viewing angle of the liquid crystal display element 8 with such a structure. In the liquid crystal molecules 3a having the refractive index anisotropy, as shown in FIG. 4, when the viewing direction (viewing angle) differs with respect to the liquid crystal molecules 3a, the apparent refractive indices n1 and n2 (n1 ≠ n2) also differ. Therefore, if the directions of the liquid crystal molecules 3a in the liquid crystal display element 8 are different, even if the liquid crystal display element 8 is viewed from the same direction, depending on the direction of the liquid crystal molecules 3a.
Have different refractive indices (that is, the refractive index distribution changes),
The viewing direction of the liquid crystal display element 8 that is easily seen changes for each of the liquid crystal molecules 3a facing different directions.
【0012】ここで、図5に示すように、配向膜10a
の膜面が画素毎に2方向へ傾斜していると、液晶分子3
aが、配向膜10aによって与えられるプレチルト角に
配向膜10aの表面傾斜角度を加えた全プレチルト角で
配向するため、1つの画素内に、液晶分子3aが異なる
プレチルト状態で配向し、ツイスト配向状態が異なる2
つの領域ができる。そして、液晶表示素子8の視野角
は、その両透明基板2a,2b間での液晶分子3aのツ
イスト配向状態によって決まるので、単一画素内におけ
る2つの領域は互いに異なる視野方向を持ち、異なる視
野方向が複合して全体として液晶表示素子8の視野角が
広くなる。Here, as shown in FIG. 5, the alignment film 10a
Is inclined in two directions for each pixel, the liquid crystal molecules 3
a is oriented at the total pretilt angle obtained by adding the surface tilt angle of the alignment film 10a to the pretilt angle given by the alignment film 10a, so that the liquid crystal molecules 3a are aligned in different pretilt states within one pixel, and the twist alignment state Are different 2
There are two areas. Since the viewing angle of the liquid crystal display element 8 is determined by the twist alignment state of the liquid crystal molecules 3a between the transparent substrates 2a and 2b, the two regions in a single pixel have different viewing directions and have different viewing directions. The directions are combined, so that the viewing angle of the liquid crystal display element 8 is widened as a whole.
【0013】ところで、厚みの変化する透明電極9aを
形成するには、図6(a)(b)(c)に示すようにし
て、真空蒸着法やスパッタ法などにより形成される。す
なわち、図6(a)に示すように、透明基板2a上に形
成する透明電極9aの数と同数のスリット12を、透明
電極9aと同一ピッチ(画素ピッチ)で開口されたマス
ク11を透明基板2aに対向させ、このマスク11をス
リット12の長さ方向に対して直交する方向に平行移動
させながら、前記スリット12を通して透明基板2a上
にITO等の透明電極材13を堆積させる。このとき、
マスク11を画素ピッチ分だけ移動させ、その移動速度
を前半では減速し、後半では加速する。このようにして
透明電極材13を堆積させると、図6(b)に示すよう
な三角波状の断面を有する透明電極膜が得られるので、
これをフォトリソグラフィ法でパターニングすることに
より、図6(c)のような目的とする形状の透明電極9
aを得る。In order to form the transparent electrode 9a having a variable thickness, as shown in FIGS. 6A, 6B, and 6C, the transparent electrode 9a is formed by a vacuum deposition method, a sputtering method, or the like. That is, as shown in FIG. 6A, the same number of slits 12 as the number of the transparent electrodes 9a formed on the transparent substrate 2a are formed on the transparent substrate 9a by the mask 11 having the same pitch (pixel pitch). A transparent electrode material 13 such as ITO is deposited on the transparent substrate 2a through the slit 12 while facing the mask 2a and moving the mask 11 in parallel in a direction perpendicular to the length direction of the slit 12. At this time,
The mask 11 is moved by the pixel pitch, and the moving speed is reduced in the first half and accelerated in the second half. When the transparent electrode material 13 is deposited in this manner, a transparent electrode film having a triangular wave-shaped cross section as shown in FIG.
This is patterned by a photolithography method to obtain a transparent electrode 9 having a desired shape as shown in FIG.
Obtain a.
【0014】あるいは、透明基板2aの表面にITO等
の透明電極材13を平坦に、かつ厚めに堆積させた後、
フォトリソグラフィ法により透明電極材13をエッチン
グして図6(c)のような形状の透明電極9aを得る場
合もある。Alternatively, after a transparent electrode material 13 such as ITO is deposited flat and thick on the surface of the transparent substrate 2a,
In some cases, the transparent electrode material 13 is etched by a photolithography method to obtain a transparent electrode 9a having a shape as shown in FIG.
【0015】(第2の従来例の問題点)このように配向
分割の手法を用いた液晶表示素子8では、広視野角化を
図ることができるが、配向膜10aを傾斜させるための
下地となる、例えば断面三角形状をした透明電極9aを
形成するのに、複雑な作業工程を必要とし、また精度を
得るためにはマスク11の移動速度をゆっくりにする必
要があるので、透明電極9aを形成された透明基板2a
を1枚1枚製作するのに時間が掛かり過ぎるという問題
があり、精度を得るのも困難であった。また、透明基板
2aに透明電極9aを形成するのに時間が掛かるので、
透明電極9aを形成された透明基板2aや液晶表示素子
8のコストも高くついていた。(Problems of the second conventional example) In the liquid crystal display element 8 using the alignment division method as described above, a wide viewing angle can be achieved, but the liquid crystal display element 8 needs a base for tilting the alignment film 10a. For example, forming a transparent electrode 9a having a triangular cross-section requires a complicated work process, and the moving speed of the mask 11 needs to be slow to obtain accuracy. Transparent substrate 2a formed
There is a problem that it takes too much time to manufacture each of them, and it is also difficult to obtain accuracy. Also, since it takes time to form the transparent electrode 9a on the transparent substrate 2a,
The cost of the transparent substrate 2a on which the transparent electrode 9a is formed and the liquid crystal display element 8 are also high.
【0016】さらに、透明基板2a上に形成された透明
電極材13を、透明基板2a毎にエッチングして所望の
透明電極9aを得ているので、エッチングによる透明電
極形状のバラツキが大きくなり(エッチングは、例えば
温度やガスなどの雰囲気が均一かどうかが重要であっ
て、大面積にわたって微細な凹凸パターンを均一に加工
するには不向きである)、液晶表示素子の特性にも影響
を与える恐れがあった。Further, since the desired transparent electrode 9a is obtained by etching the transparent electrode material 13 formed on the transparent substrate 2a for each transparent substrate 2a, the variation in the shape of the transparent electrode due to the etching increases (etching). For example, it is important that the atmosphere such as temperature and gas is uniform, which is not suitable for processing a fine concavo-convex pattern uniformly over a large area), which may affect the characteristics of the liquid crystal display element. there were.
【0017】[0017]
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来例の
欠点に鑑みてなされたものであり、その目的とするとこ
ろは、視野角が広く、かつ効率的に製造することができ
る液晶表示素子とその配向分割用の基板を提供すること
にある。さらに、その配向分割用の基板の製造方法を提
供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks of the prior art, and it is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device having a wide viewing angle and which can be manufactured efficiently. And a substrate for the alignment division. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a substrate for the orientation division.
【0018】[0018]
【発明の開示】本発明にかかる配向分割用の基板は、透
明基板表面の各画素領域において、表面に凹凸を有する
下地層を各画素領域毎に形成し、当該下地層の上から各
画素領域全体に透明電極を形成したことを特徴としてい
る。この場合には、下地層自体が凹凸を有している。DISCLOSURE OF THE INVENTION In the substrate for orientation division according to the present invention, in each pixel region on the surface of the transparent substrate, a base layer having irregularities on the surface is formed for each pixel region. It is characterized in that a transparent electrode is formed on the whole. In this case, the underlayer itself has irregularities.
【0019】本発明にかかる別な配向分割用の基板は、
透明基板表面の各画素領域において、各画素領域の一部
に下地層を形成し、当該下地層の上から各画素領域全体
に透明電極を形成したことを特徴としている。この場合
には、下地層が形成されている部分と形成されていない
部分とによって透明基板の表面に凹凸が形成される。Another substrate for orientation division according to the present invention is:
In each pixel region on the surface of the transparent substrate, a base layer is formed on a part of each pixel region, and a transparent electrode is formed on the entire pixel region from above the base layer. In this case, irregularities are formed on the surface of the transparent substrate by the portion where the underlayer is formed and the portion where the underlayer is not formed.
【0020】ここで、「各画素領域毎」とは、カラー液
晶用の場合には、赤(R)、緑(G)及び青(B)のそ
れぞれの画素領域毎を意味する。また、赤(R)、緑
(G)及び青(B)のまとまりを1つの画素領域(絵
素)としてもよい。Here, "each pixel region" means, for a color liquid crystal, each pixel region of red (R), green (G) and blue (B). Further, a group of red (R), green (G), and blue (B) may be defined as one pixel region (picture element).
【0021】このような配向分割用の基板の表面に配向
膜を形成すれば、液晶層を挟んで液晶層を封入するため
の一方の基板もしくは両方の基板として用いて液晶表示
素子を製作することができる。すなわち、本発明の液晶
表示素子は、少なくとも一方の透明基板の表面に凹凸を
有する下地層を各画素領域毎に形成し、当該下地層の上
から各画素領域全体に透明電極を形成したものである。
また、本発明の別な液晶表示素子は、少なくとも一方の
透明基板の各画素領域において、その一部に下地層を形
成し、当該下地層の上から各画素領域全体に透明電極を
形成したものである。If an alignment film is formed on the surface of such an alignment dividing substrate, a liquid crystal display element can be manufactured by using one or both substrates for enclosing the liquid crystal layer with the liquid crystal layer interposed therebetween. Can be. That is, the liquid crystal display element of the present invention is one in which a base layer having irregularities on at least one transparent substrate surface is formed for each pixel region, and a transparent electrode is formed over the entire pixel region from above the base layer. is there.
Further, another liquid crystal display element of the present invention is one in which a base layer is formed on a part of each pixel region of at least one transparent substrate, and a transparent electrode is formed on the entire pixel region from above the base layer. It is.
【0022】このような配向分割基板の表面に配向膜を
形成すると、透明基板の表面が平坦でないため、1画素
内で配向膜の表面の傾斜角が変化したり、配向膜の表面
の高さが変化したりする。配向膜の表面傾斜角が1画素
内で変化している場合には、液晶分子のプレチルト角に
配向膜の表面傾斜角が付加されるため、1画素内におい
て液晶分子のプレチルト角が不均一になり、その結果液
晶表示素子に用いた場合には、視野角を広くすることが
できる。また、1画素内において配向膜の表面の高さが
変化している場合には、液晶分子に対するラビング押込
み量が変化するので、1画素内において液晶分子のプレ
チルト角が不均一になり、その結果液晶表示素子に用い
た場合に視野角を広くできる。When an alignment film is formed on the surface of such an alignment divided substrate, the surface of the transparent substrate is not flat, so that the inclination angle of the alignment film surface changes within one pixel, or the height of the alignment film surface increases. Or change. When the surface tilt angle of the alignment film changes within one pixel, the surface tilt angle of the alignment film is added to the pretilt angle of the liquid crystal molecules, so that the pretilt angle of the liquid crystal molecules becomes uneven within one pixel. As a result, when used in a liquid crystal display device, the viewing angle can be widened. Further, when the height of the surface of the alignment film changes in one pixel, the rubbing amount of the liquid crystal molecule changes, so that the pretilt angle of the liquid crystal molecule becomes non-uniform in one pixel. When used in a liquid crystal display device, the viewing angle can be widened.
【0023】しかも、各画素内で液晶分子のプレチルト
角が不均一になっているので、各画素のプレチルト角が
不均一になっているのと異なり、液晶表示素子の画像領
域によって画像にムラが生じる恐れもない。Further, since the pretilt angles of the liquid crystal molecules are non-uniform in each pixel, the image is uneven due to the image area of the liquid crystal display element, unlike the pretilt angle of each pixel which is non-uniform. There is no danger.
【0024】また、下地層の形状を変化させることによ
り、均一な厚みの透明電極であっても透明電極や配向膜
の表面を自由に変化させることができる。しかも、透明
電極は一様な厚みに形成すればよいので、従来例のよう
に透明電極の製造工程が複雑になることがなく、コスト
面でも有利となる。Further, by changing the shape of the underlayer, the surface of the transparent electrode or the alignment film can be freely changed even if the transparent electrode has a uniform thickness. Moreover, since the transparent electrode may be formed to have a uniform thickness, the manufacturing process of the transparent electrode does not become complicated as in the conventional example, which is advantageous in terms of cost.
【0025】上記配向分割用の基板は、透明基板上に光
硬化型樹脂を供給し、凸凹を備えたスタンパによって光
硬化型樹脂に凹凸を転写した後、当該光硬化型樹脂に光
を照射して硬化させ、硬化した光硬化型樹脂によって形
成された凹凸からスタンパを脱型し、ついで当該凹凸の
上から各画素領域に透明電極を形成することによって製
造することができる。For the substrate for alignment division, a photocurable resin is supplied on a transparent substrate, and the unevenness is transferred to the photocurable resin by a stamper having projections and depressions. Then, the photocurable resin is irradiated with light. It can be manufactured by removing the stamper from the irregularities formed by the cured photocurable resin, and then forming a transparent electrode in each pixel region from the irregularities.
【0026】このように光硬化型樹脂を用いてスタンパ
により透明基板表面に凹凸を転写成形すれば、熱硬化性
樹脂を用いる場合のように成形後の養生時間が必要な
く、効率良く配向分割用の基板を製作することができ、
コストを低減することができる。また、複雑な形状の下
地層や複雑な表面形状の透明電極も容易に作製すること
ができる。When the unevenness is transferred to the surface of the transparent substrate by the stamper using the photocurable resin as described above, curing time after molding is not required unlike the case of using the thermosetting resin, and the alignment division can be efficiently performed. Substrate can be manufactured,
Cost can be reduced. In addition, an underlayer having a complicated shape and a transparent electrode having a complicated surface shape can be easily produced.
【0027】[0027]
【発明の実施の形態】(第1の実施形態)図7は本発明
の一実施形態によるTN型の液晶表示素子21の断面図
を示す。この液晶表示素子21にあっては、液晶層3を
挟んで封止している一対の透明基板2a,2bのうち、
一方の透明基板2aに配向分割の機能を持たせている。(First Embodiment) FIG. 7 is a sectional view of a TN type liquid crystal display element 21 according to one embodiment of the present invention. In the liquid crystal display element 21, of the pair of transparent substrates 2a and 2b sealing with the liquid crystal layer 3 interposed therebetween,
One of the transparent substrates 2a has a function of dividing the orientation.
【0028】まず、配向分割の機能を有する液晶表示素
子用の基板25について説明する。この配向分割基板2
5は、図8に示すように、ガラス薄板やプラスチックフ
ィルム等からなる透明基板2aの表面に、異なる傾きを
有する2つの傾斜面から構成された断面三角形状(屋根
形)の下地層22(1個の下地層22を図9に示す)を
画素ピッチ毎に形成し、各下地層22の上に均一な厚み
の透明電極23を形成したものである。この下地層22
は、透明なプラスチック材料によって形成されている。
また、下地層22及び透明電極23は表示画素に対応し
て設けられており、単一画素内では、透明電極23の表
面は2つの異なる傾きを有し、隣接する下地層22どう
し及び透明電極23どうしは互いに電気的に分離してい
る。First, the substrate 25 for a liquid crystal display element having a function of dividing the orientation will be described. This alignment division substrate 2
As shown in FIG. 8, a base layer 22 (1) having a triangular cross section (roof shape) composed of two inclined surfaces having different inclinations is formed on a surface of a transparent substrate 2a made of a thin glass plate, a plastic film, or the like, as shown in FIG. 9 are formed for each pixel pitch, and a transparent electrode 23 having a uniform thickness is formed on each of the underlayers 22. This underlayer 22
Is formed of a transparent plastic material.
The base layer 22 and the transparent electrode 23 are provided corresponding to the display pixels. In a single pixel, the surface of the transparent electrode 23 has two different inclinations, and the adjacent base layer 22 and the transparent electrode 23 have different inclinations. 23 are electrically separated from each other.
【0029】透明基板メーカー等から、このような配向
分割基板25の供給を受けた後、この配向分割基板25
の透明電極23側の表面に、ポリイミド、ポリアミド、
ポリアミドイミド、ポリスチレン、エポキシアクリレー
ト又はポリウレタンのうちいずれかの有機高分子からな
る配向膜24を均一に塗布し、図10に矢印で示すよう
に、布やブラシを用いて配向膜24の表面を一方向にラ
ビングする。もちろん、配向膜24の表面をラビングす
るとき、異なる傾斜方向の傾斜面に逆向きにラビングす
ることは差し支えない。同様に、表面に平坦な透明電極
5bを形成された透明基板2b(従来からの透明基板)
にも、透明電極5bの上から配向膜6bを塗布し、一方
向にラビングする。After receiving the supply of such an orientation division substrate 25 from a transparent substrate maker or the like, the orientation division substrate 25
Polyimide, polyamide, on the surface of the transparent electrode 23 side of
An alignment film 24 made of an organic polymer selected from the group consisting of polyamideimide, polystyrene, epoxy acrylate, and polyurethane is uniformly applied, and the surface of the alignment film 24 is cleaned with a cloth or a brush as shown by arrows in FIG. Rub in the direction. Of course, when rubbing the surface of the alignment film 24, rubbing may be performed in the opposite direction on inclined surfaces having different inclination directions. Similarly, a transparent substrate 2b on which a flat transparent electrode 5b is formed (a conventional transparent substrate)
Also, an orientation film 6b is applied from above the transparent electrode 5b and rubbed in one direction.
【0030】ついで、ラビング方向がほぼ90゜ずれて
互いに直交するようにして一対の透明基板2a,2bを
対向させ、透明基板2a,2bどうしを、その周辺部に
おいて枠状をしたシール材を介して接合し、この透明基
板2a,2b間に液晶層3を封止する。さらに、両透明
基板2a,2bの外面側にはそれぞれ偏光板7a,7b
が配置される。偏光板7a,7bは、例えば、ポジ表示
タイプのTN型液晶表示素子では、透過軸が互いにほぼ
直交するように配置される。Next, the pair of transparent substrates 2a and 2b are opposed to each other so that the rubbing directions are shifted from each other by approximately 90 ° and the transparent substrates 2a and 2b are separated from each other by a frame-shaped sealing material at the peripheral portion. And the liquid crystal layer 3 is sealed between the transparent substrates 2a and 2b. Further, polarizers 7a, 7b are provided on the outer surfaces of the transparent substrates 2a, 2b, respectively.
Is arranged. For example, in a positive display type TN type liquid crystal display device, the polarizing plates 7a and 7b are arranged so that transmission axes are substantially orthogonal to each other.
【0031】このような構造の液晶表示素子21にあっ
ても、両透明基板2a,2b間に封入された液晶の分子
3aは、両透明基板2a,2bの配向膜24,6bによ
りほぼ90゜のツイスト角でツイスト配列し、しかも、
単一画素内において、配向膜24の異なる傾斜角の傾斜
面毎に異なるプレチルト角(配向膜24の表面傾斜角度
を加えた全プレチルト角)で配向するため、配向分割に
よって液晶表示素子21は単一画素内で異なる視野方向
を持ち、全体として液晶表示素子21が広視野角化され
る。Even in the liquid crystal display element 21 having such a structure, the molecules 3a of the liquid crystal sealed between the transparent substrates 2a and 2b are almost 90 ° by the alignment films 24 and 6b of the transparent substrates 2a and 2b. Twist arrangement at the twist angle of
In a single pixel, the liquid crystal display element 21 is aligned at a different pretilt angle (a total pretilt angle obtained by adding the surface tilt angle of the alignment film 24) to each of the inclined surfaces having different tilt angles of the alignment film 24. The liquid crystal display element 21 has different viewing directions within one pixel, and the viewing angle of the liquid crystal display element 21 is widened as a whole.
【0032】(配向分割基板の製造方法)つぎに、図8
に示した配向分割基板25の製造方法を説明する。配向
分割基板25は、紫外線を照射すると硬化する紫外線硬
化型樹脂26を用いた、いわゆる2P(Photo-Polymeri
zation)法により製造される。図11(a)(b)に示
すように、透明基板2aの上に流動性のある透明な紫外
線硬化型樹脂26を供給した後、紫外線硬化型樹脂26
の上から透明基板2aへ向けてスタンパ27を降下させ
る[図11(c)]。このスタンパ27の下面には、下
地層22の形状と合致した凹型(反転型)28が画素ピ
ッチと同じピッチで形成されている。このスタンパ27
を透明基板2aに十分に押し付けてスタンパ27と透明
基板2aの間に紫外線硬化型樹脂26を挟み込み、スタ
ンパ27の凹型28内に紫外線硬化型樹脂26を充填さ
せた後、そのままの状態で、透明基板2aを通して紫外
線硬化型樹脂26に紫外線ランプ等によって紫外線(U
V光)を照射する[図11(d)]。紫外線を照射され
た紫外線硬化型樹脂26は、紫外線を浴びると硬化反応
を起こして硬化するので、紫外線硬化型樹脂26にスタ
ンパ27の凹型28が転写成形され、硬化した紫外線硬
化型樹脂26によって透明基板2a上に下地層22が形
成される[図11(e)]。こうして下地層22が形成
されると、その上に真空蒸着法やスパッタ法等によって
ITO等の透明電極材29を均一に堆積させる[図11
(f)]。ついで、透明電極材29の膜を透明電極23
のパターンに合わせてエッチング等によりパターニング
し、各画素毎に透明電極材29を分離することにより、
1画素内に2つの傾斜面を有する透明電極23を形成す
ることができる[図11(g)]。(Method of Manufacturing Oriented Split Substrate) Next, FIG.
A method for manufacturing the alignment division substrate 25 shown in FIG. The alignment division substrate 25 is a so-called 2P (Photo-Polymeri) using an ultraviolet curable resin 26 which cures when irradiated with ultraviolet light.
zation) method. As shown in FIGS. 11 (a) and 11 (b), after supplying a transparent ultraviolet ray curable resin 26 having fluidity onto the transparent substrate 2a, the ultraviolet ray curable resin 26 is supplied.
The stamper 27 is lowered toward the transparent substrate 2a from above [FIG. 11 (c)]. On the lower surface of the stamper 27, a concave (inverted) shape 28 matching the shape of the underlayer 22 is formed at the same pitch as the pixel pitch. This stamper 27
Is pressed sufficiently against the transparent substrate 2a to sandwich the ultraviolet curable resin 26 between the stamper 27 and the transparent substrate 2a, and the concave mold 28 of the stamper 27 is filled with the ultraviolet curable resin 26. Ultraviolet light (U
V light) (FIG. 11D). The ultraviolet-curable resin 26 irradiated with ultraviolet light undergoes a curing reaction when exposed to ultraviolet light, and is cured. Therefore, the concave mold 28 of the stamper 27 is transfer-molded to the ultraviolet-curable resin 26 and is transparent by the cured ultraviolet-curable resin 26. An underlayer 22 is formed on the substrate 2a [FIG. 11 (e)]. When the underlayer 22 is thus formed, a transparent electrode material 29 such as ITO is uniformly deposited thereon by a vacuum evaporation method, a sputtering method, or the like [FIG.
(F)]. Next, the film of the transparent electrode material 29 is
By patterning by etching or the like according to the pattern of the above, and by separating the transparent electrode material 29 for each pixel,
The transparent electrode 23 having two inclined surfaces can be formed in one pixel [FIG. 11 (g)].
【0033】このようにして配向分割基板25を製造す
れば、スタンパ27を用いて透明基板2aの上に簡単に
下地層22を形成することができ、しかも、紫外線照射
により下地層22を成形するための樹脂を硬化させるこ
とにより、樹脂硬化のための養生時間も必要なく、簡単
な工程で、しかも短時間で配向分割基板25を製造する
ことができ、配向分割基板25の量産に適している。When the orientation division substrate 25 is manufactured in this manner, the underlayer 22 can be easily formed on the transparent substrate 2a using the stamper 27, and the underlayer 22 is formed by irradiating ultraviolet rays. Is hardened, the curing time for curing the resin is not required, the alignment division substrate 25 can be manufactured in a simple process and in a short time, and is suitable for mass production of the alignment division substrate 25. .
【0034】この理由を以下に詳しく述べる。2P法に
よれば、スタンパ27の型を紫外線硬化型樹脂26に転
写させることによって複雑な形状の下地層22を容易に
形成することができ、複雑な形状をした下地層(例え
ば、図16、図23〜25に示すもの)の上に一様な厚
みの透明電極材29を堆積させることにより、複雑な表
面形状をした透明電極23を容易に製作することができ
る。特に、比較的粘性の低い紫外線硬化型樹脂26を用
い、スタンパ27で型押しした後、紫外線を照射して硬
化させれば、精度よくスタンパ27の型を転写すること
ができ、正確な複製を大量に行える。さらに、2P法で
は紫外線照射光源を透明基板2aの全体に一括露光する
だけで下地層22が形成され、処理工程が1回で済む。The reason will be described in detail below. According to the 2P method, the base layer 22 having a complicated shape can be easily formed by transferring the mold of the stamper 27 to the ultraviolet curable resin 26, and the base layer having a complicated shape (for example, FIG. By depositing the transparent electrode material 29 having a uniform thickness on the transparent electrode 23 shown in FIGS. 23 to 25, the transparent electrode 23 having a complicated surface shape can be easily manufactured. In particular, if a relatively low-viscosity ultraviolet-curable resin 26 is used and pressed with a stamper 27 and then cured by irradiating ultraviolet rays, the mold of the stamper 27 can be transferred with high accuracy, and accurate duplication can be achieved. Can be done in large quantities. Further, in the 2P method, the base layer 22 is formed only by collectively exposing the entirety of the transparent substrate 2a with the ultraviolet irradiation light source, and only one processing step is required.
【0035】これに対し、エッチング法では、同じマス
クと同じ設定条件(例えば温度、ガス雰囲気、時間な
ど)を用いても、そのときの光の当たり方、温度やガス
雰囲気濃度の密度分布等によりバラツキが大きくなって
しまう。これでは0.01mmオーダーで高さをシビア
に制御しなければならない液晶素子用の配向分割基板に
は適さない。また、従来のように、マスクを用いてその
移動速度を制御することにより複雑な形状の透明電極を
形成しようとすれば(図6参照)、非常に複雑なマクス
制御を必要とし、処理時間が非常に長くなる。On the other hand, in the etching method, even if the same mask and the same setting conditions (for example, temperature, gas atmosphere, time, etc.) are used, depending on how light hits at that time, the density distribution of temperature and gas atmosphere concentration, and the like. Variations increase. This is not suitable for an alignment division substrate for a liquid crystal element in which the height must be severely controlled on the order of 0.01 mm. Further, if a transparent electrode having a complicated shape is to be formed by controlling the moving speed using a mask as in the related art (see FIG. 6), very complicated mask control is required, and the processing time is increased. Very long.
【0036】また、スタンパ27で型押しした後、紫外
線照射して紫外線硬化型樹脂26を硬化させるだけで下
地層22を形成できるので、熱硬化性樹脂を用いる方法
やエッチング法などに比べ、配向分割基板1枚あたりの
処理時間が短くて済む。配向分割基板1枚あたりの処理
時間は、従来の例えばエッチング法を用いるかぎり、原
理的に時間が掛かるのはやむを得ず、工業的に量産性を
考えた場合、大きなネックとなっていた。Further, the base layer 22 can be formed only by embossing with the stamper 27 and then irradiating ultraviolet rays to cure the ultraviolet curable resin 26, so that the orientation is smaller than the method using a thermosetting resin or the etching method. The processing time per divided substrate can be reduced. The processing time for one orientation-divided substrate is inevitably time-consuming in principle as long as a conventional etching method is used, for example, and has been a major bottleneck when considering industrial mass production.
【0037】また、従来法では透明電極自体の厚みが不
均一となるため、液晶表示素子の駆動法を工夫しない
と、場合によっては画素内にムラが生じることがある。
これに対し、本発明の配向分割基板21では、透明電極
23の厚みを均一にすることができるので、このような
問題を解消できる。Further, in the conventional method, the thickness of the transparent electrode itself becomes non-uniform. Therefore, if the driving method of the liquid crystal display element is not devised, unevenness may occur in the pixel in some cases.
On the other hand, in the orientation division substrate 21 of the present invention, such a problem can be solved because the thickness of the transparent electrode 23 can be made uniform.
【0038】液晶表示素子は、透明電極の抵抗値が大き
くなると、その画面に、クロストーク又はシャドーイン
グと呼ばれる、縦横の黒い帯状のスジが発生する。この
クロストーク又はシャドーイングは、一般に「駆動波形
のなまり」が原因とされ、近年駆動法による改善もなさ
れているが、最も有効な方法は透明電極の低抵抗化であ
るとされている。また、駆動波形のなまりは、駆動ドラ
イバICに近い画素と遠い画素とで印加電圧に差が生
じ、駆動ドライバICから遠い画素では、近い画素より
も印加電圧が小さくなる。つまり、駆動ドライバICに
近い画素に比べ、遠い画素の輝度(明るさ)が暗くな
り、表示が暗くぼんやりとする。In the liquid crystal display element, when the resistance value of the transparent electrode increases, black and white stripes, which are called crosstalk or shadowing, occur on the screen. This crosstalk or shadowing is generally caused by "blurring of the drive waveform" and has been improved by the driving method in recent years. However, it is said that the most effective method is to reduce the resistance of the transparent electrode. In addition, the rounding of the drive waveform causes a difference in applied voltage between a pixel close to the drive driver IC and a pixel far from the drive driver IC, and the applied voltage is smaller in a pixel far from the drive driver IC than in a close pixel. That is, the brightness (brightness) of a pixel far from the drive driver IC is darker than that of a pixel close to the drive driver IC, and the display is dark and blurred.
【0039】ところが、透明電極をエッチングして厚み
を変化させる方法では、凹部にあたる箇所で透明電極の
厚みをエッチングで薄くするので、この箇所で透明電極
の抵抗値が局部的に増大し、その結果、液晶表示素子全
体でも透明電極の抵抗値増大を招き、液晶表示素子の表
示品質低下につながる。これに対し、本発明の配向分割
基板25では、透明電極23の厚みは均一であって、一
部において透明電極の厚みを薄くする必要がないので、
透明電極23の抵抗値増大を抑制できる。However, in the method of changing the thickness by etching the transparent electrode, the thickness of the transparent electrode is reduced by etching at a portion corresponding to the concave portion, and the resistance value of the transparent electrode locally increases at this portion. In addition, the resistance value of the transparent electrode is increased in the entire liquid crystal display element, and the display quality of the liquid crystal display element is reduced. On the other hand, in the alignment division substrate 25 of the present invention, the thickness of the transparent electrode 23 is uniform, and it is not necessary to partially reduce the thickness of the transparent electrode.
An increase in the resistance value of the transparent electrode 23 can be suppressed.
【0040】よって、本発明によれば、液晶表示素子の
広視野角化の要求に大きく貢献し、かつ、透明電極表面
の滑らかさが液晶表示素子としての要求を十分満たし、
クロストークやシャドーイングなどが増加せず(表示品
質)、配向分割基板を容易かつ大量に製造することが可
能となる。また、本発明によれば、製造上のバラツキ
(同一液晶表示素子内でのバラツキ、液晶表示素子間で
のバラツキ)が少ないため、上記効果(例えば広視野角
など)を安定して得ることができ、工業生産性に優れ
る。Thus, according to the present invention, it greatly contributes to the demand for a wide viewing angle of the liquid crystal display element, and the smoothness of the surface of the transparent electrode sufficiently satisfies the demand for the liquid crystal display element.
Crosstalk and shadowing do not increase (display quality), and it becomes possible to easily and mass-produce the alignment division substrate. Further, according to the present invention, since there is little variation in manufacturing (variation within the same liquid crystal display element, variation between liquid crystal display elements), it is possible to stably obtain the above-described effects (for example, a wide viewing angle). It has excellent industrial productivity.
【0041】なお、本発明にかかる2P法でも、透明電
極のパターニングにはエッチング法を用いるが、透明電
極の平面パターンを得るために用いるに過ぎず、透明電
極の厚みをエッチングにより加工する場合のような問題
がない。特に、透明電極のパターニングは、透明基板全
面に対し十分大きな寸法のマスクを用いて一括してエッ
チングできるので、大きな工数増とはならない。In the 2P method according to the present invention, the etching method is used for patterning the transparent electrode. However, this method is only used to obtain a plane pattern of the transparent electrode. There is no such problem. In particular, since the patterning of the transparent electrode can be collectively etched over the entire surface of the transparent substrate using a mask having a sufficiently large dimension, the number of steps is not greatly increased.
【0042】(別な製造方法)また、図11の例では、
下地層22と下地層22の間は分離されているように見
えるが、この部分でも実際には、スタンパ27と透明基
板2aの隙間により薄い樹脂膜が残り易い。しかし、薄
い樹脂膜が残る場合でも、その厚みは0.5〜2μm程
度に抑えることができる。あるいは、図12(a)〜
(g)に示すように、スタンパ27と透明基板2aの間
にスペースを残し、下地層22と下地層22の間に厚い
樹脂膜22a(例えば、数10μm程度の膜厚)が残る
ようにしても良い。(Another manufacturing method) In the example of FIG.
Although it appears that the underlayer 22 and the underlayer 22 are separated from each other, a thin resin film is likely to remain in this portion due to the gap between the stamper 27 and the transparent substrate 2a. However, even when a thin resin film remains, its thickness can be suppressed to about 0.5 to 2 μm. Alternatively, FIG.
As shown in (g), a space is left between the stamper 27 and the transparent substrate 2a, and a thick resin film 22a (for example, a thickness of about several tens of μm) is left between the underlayer 22 and the underlayer 22. Is also good.
【0043】(スタンパの製造方法)なお、上記スタン
パ27の製造方法を図13に示す。まず、図13(a)
(b)に示すように、ガラス板31を直接レーザー加工
し、ガラス板31の表面に所望の凹凸パターン32(す
なわち、下地層22を形成された透明基板2aの表面形
状と同じ形状であって、予めレーザー加工装置を制御す
るコンピュータに記憶させている)を形成する。ガラス
板31の表面に所望の凹凸パターン32を形成して原盤
を作製した後、原盤の上にニッケルを堆積させ、ニッケ
ル電鋳法により原盤の反転型であるニッケルマスタ33
を作製し[図13(c)]、ニッケルマスタ33を原盤
から剥離する[図13(d)]。ニッケル電鋳法により
ニッケルマスタ33を作製する際には、その準備として
原盤を例えば蒸着法あるいは無電解メッキ法で導電化し
ておき、導電化された原盤表面を陰極とし、例えばスル
ファミン酸ニッケル浴で電気メッキしてニッケルマスタ
33を作製する。(Manufacturing Method of Stamper) A manufacturing method of the stamper 27 is shown in FIG. First, FIG.
As shown in (b), the glass plate 31 is directly laser-processed, and a desired concavo-convex pattern 32 is formed on the surface of the glass plate 31 (that is, the glass substrate 31 has the same shape as the surface shape of the transparent substrate 2a on which the underlayer 22 is formed) , Which are stored in advance in a computer that controls the laser processing apparatus). After forming a master by forming a desired concavo-convex pattern 32 on the surface of the glass plate 31, nickel is deposited on the master, and a nickel master 33, which is an inverse of the master, is formed by nickel electroforming.
[FIG. 13 (c)], and the nickel master 33 is peeled off from the master [FIG. 13 (d)]. When preparing the nickel master 33 by the nickel electroforming method, the master is made conductive by, for example, a vapor deposition method or an electroless plating method as a preparation, and the surface of the conductive master is used as a cathode, for example, in a nickel sulfamate bath. The nickel master 33 is manufactured by electroplating.
【0044】こうして得られたニッケルマスタ33でも
スタンパ27の凹型28と同じ凹型34を有しているか
ら、ニッケルマスタ33をスタンパ27として使用でき
るが、通常は(工業的には)このニッケルマスタ33を
さらにニッケル電鋳法で複製したものをスタンパ27と
する。ニッケルマスタ33を複製する場合には、ニッケ
ルマスタ33の表面に例えば重クロム酸カリ溶液で酸化
膜を作った後、再びニッケル電鋳法により凹型34が反
転した凸型36を有するマザー35(原盤の複製)を作
製し[図13(e)]、さらにニッケル電鋳法によりマ
ザー35の反転型を作製し、ニッケルマスタ33の複製
であるスタンパ27を作製する[図13(f)]。従っ
て、スタンパ27が摩耗した場合には、マザー35から
再度複製することができる。Since the nickel master 33 thus obtained also has the same concave shape 34 as the concave shape 28 of the stamper 27, the nickel master 33 can be used as the stamper 27, but usually (industrial) this nickel master 33 is used. Is further duplicated by a nickel electroforming method to obtain a stamper 27. In the case of replicating the nickel master 33, a mother 35 (master) having a convex mold 36 whose concave mold 34 is inverted by nickel electroforming after forming an oxide film on the surface of the nickel master 33 by, for example, a potassium dichromate solution. 13 (e)], and an inverted mold of the mother 35 is manufactured by nickel electroforming, and a stamper 27 which is a copy of the nickel master 33 is manufactured [FIG. 13 (f)]. Therefore, when the stamper 27 is worn, it can be copied from the mother 35 again.
【0045】また、スタンパ27を作製するには、図1
4(a)〜(f)に示すように、ガラス板31の表面に
塗布されたレジスト37をレーザー加工することによっ
て原盤を作製してもよい。レジスト37を使用する場合
には、ガラス板31とレジスト37の密着剤として、例
えばシランカップリング剤をガラス板31の表面に塗布
しておき、レーザー加工した後、露光、現像及び洗浄の
工程を経て、レジスト37による凹凸パターン32がガ
ラス板1の表面に形成される。この後の処理は、図13
(c)以下と同様に行う。In order to fabricate the stamper 27, FIG.
As shown in FIGS. 4 (a) to 4 (f), a master may be manufactured by laser processing the resist 37 applied to the surface of the glass plate 31. When the resist 37 is used, a silane coupling agent, for example, is applied to the surface of the glass plate 31 as an adhesive between the glass plate 31 and the resist 37, and after laser processing, the steps of exposure, development, and cleaning are performed. As a result, the concavo-convex pattern 32 of the resist 37 is formed on the surface of the glass plate 1. The subsequent processing is shown in FIG.
(C) Perform as follows.
【0046】なお、上記実施形態の液晶表示素子21で
は、裏面側でのみ配向分割基板25を用いた場合を説明
したが、表面側でのみ配向分割基板25を用いてもよ
く、両面で配向分割基板25を用いてもよい。In the liquid crystal display element 21 of the above embodiment, the case where the alignment division substrate 25 is used only on the back surface side has been described. However, the alignment division substrate 25 may be used only on the front surface side. The substrate 25 may be used.
【0047】また、上記実施形態では、下地層22の形
状として断面2等辺三角形状のもの(図9)を示した
が、単一の画素内において、透明電極23や配向膜24
に少なくとも2以上の傾斜角の面を形成するには、これ
以外にも種々の形状の下地層22が可能である。例え
ば、図15に示すような断面不等辺三角形状の下地層2
2、図16に示すような多数の傾斜面を持つ下地層22
でもよい。In the above embodiment, the underlayer 22 is shown as having an isosceles triangular cross section (FIG. 9). However, the transparent electrode 23 and the alignment film 24 are formed in a single pixel.
In order to form a surface having at least two or more inclination angles, the underlayer 22 having various shapes other than this is possible. For example, as shown in FIG.
2. Underlayer 22 having a large number of inclined surfaces as shown in FIG.
May be.
【0048】(第2の実施形態)図17は本発明の別な
実施形態による液晶表示素子に用いられる配向分割基板
41の他例を示す断面図である。この配向分割基板41
にあっては、画素ピッチのほぼ1/2以下の幅で表面が
平坦な下地層42(1個の下地層42を図18に示す)
を、透明基板2aの表面に画素ピッチ毎に形成してい
る。従って、この下地層42の上から透明基板2aの表
面に透明電極材を堆積させて透明電極23を形成する
と、下地層42の上でも下地層42から外れた部分で
も、透明電極23の表面は平坦となっているが、下地層
42の上では透明電極23の表面が比較的高くなり、下
地層42から外れた部分の上では透明電極23の表面が
比較的低くなっている。(Second Embodiment) FIG. 17 is a sectional view showing another example of the alignment division substrate 41 used in the liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention. This alignment division substrate 41
In FIG. 18, an underlayer 42 having a width of about 1/2 or less of the pixel pitch and having a flat surface (one underlayer 42 is shown in FIG. 18)
Are formed for each pixel pitch on the surface of the transparent substrate 2a. Therefore, when a transparent electrode material is deposited on the surface of the transparent substrate 2a from above the underlayer 42 to form the transparent electrode 23, the surface of the transparent electrode 23 is formed on the underlayer 42 and in a part deviating from the underlayer 42. Although the surface is flat, the surface of the transparent electrode 23 is relatively high on the underlayer 42, and the surface of the transparent electrode 23 is relatively low on a portion outside the underlayer 42.
【0049】従って、この配向分割基板41の上に配向
膜24を形成した場合にも、1画素内において配向膜2
4の一部が他の部分よりも高くなる。Therefore, even when the alignment film 24 is formed on the alignment division substrate 41, the alignment film 2 is formed within one pixel.
Part of 4 is higher than other parts.
【0050】液晶分子は、一般にラビングの押し込みが
強ければ、プレチルト角は小さくなり、ラビングの押し
込みが弱ければプレチルト角は大きくなるという特徴が
ある。図19は、配向膜24として日産化学工業(株)
製の「SE−3710」を用い、これをレーヨン布でこ
すって一様にラビングした場合の、液晶(ZLI−22
93)分子のプレチルト角(もしくは、チルト角)とラ
ビング押し込み量との関係を示すものである。これから
も、押し込みを強くするほど、プレチルト角が小さくな
ることが分かる。従って、図17の実施形態のように、
透明電極23が段差を有していると、一様にラビングし
た場合でも、透明電極23が高くて飛び出ている部分で
は相対的に押し込みが強くなり、プレチルト角が小さく
なる。一方、透明電極23が低くなっている部分では、
押し込みが弱いので、プレチルト角は大きくなる。よっ
て、このように2以上の領域で透明電極23の高さの異
なる配向分割基板41を用いて液晶表示素子を製作する
と、液晶分子の配向をばらつかせ、液晶表示素子の視野
角を広くすることができる。In general, the liquid crystal molecules are characterized in that the pretilt angle is reduced when the rubbing is pushed in, and the pretilt angle is increased when the rubbing is pushed in weakly. FIG. 19 shows the alignment film 24 as Nissan Chemical Industry Co., Ltd.
Liquid crystal (ZLI-22) obtained by rubbing with a rayon cloth and uniformly rubbing using “SE-3710” manufactured by
93) It shows the relationship between the pretilt angle (or tilt angle) of the molecule and the rubbing depression amount. From this, it can be seen that the pretilt angle becomes smaller as the pressing force increases. Therefore, as in the embodiment of FIG.
When the transparent electrode 23 has a step, even if the rubbing is performed uniformly, the push-in becomes relatively strong at a portion where the transparent electrode 23 is high and protrudes, and the pretilt angle is reduced. On the other hand, in the portion where the transparent electrode 23 is low,
Since the pushing is weak, the pretilt angle increases. Therefore, when a liquid crystal display element is manufactured using the alignment divided substrates 41 having different heights of the transparent electrodes 23 in two or more regions, the orientation of liquid crystal molecules is dispersed and the viewing angle of the liquid crystal display element is widened. be able to.
【0051】なお、この下地層42以外の領域でも、図
18に示すように薄い樹脂膜43が残っていても差し支
えない。In a region other than the underlayer 42, a thin resin film 43 may remain as shown in FIG.
【0052】(第3の実施形態)また、図20に示す配
向分割基板44では、1画素領域内において階段状に段
差のついた下地層42を形成している。すなわち、下地
層42は、厚みの大きな層42aと厚みの小さな層42
bとからなり、これらの上に均一な厚みの透明電極23
が形成されている。このような構造においても、配向膜
24によるラビング押し込み量を変化させることができ
る。なお、3段以上の段違いとなった下地層42を形成
してもよい。(Third Embodiment) In the orientation division substrate 44 shown in FIG. 20, an underlayer 42 having a step is formed in one pixel region. That is, the underlayer 42 is composed of the thick layer 42a and the thin layer 42a.
b and a transparent electrode 23 having a uniform thickness
Are formed. Even in such a structure, the amount of rubbing depression by the alignment film 24 can be changed. The underlayer 42 having three or more steps may be formed.
【0053】このような形状の下地層42では、2P法
によって透明基板2a上に下地層42を転写成形する
際、成形された下地層42をスタンパ27から剥離しに
くく、下地層42が透明基板2aから剥がれる恐れがあ
る。そのため、下地層42の、スタンパ27からの離形
性を良好にするには、下地層42を形成するための紫
外線硬化型樹脂にあらかじめ離型剤(剥離剤)を混入さ
せておけばよい。又は、図21に示すように、透明基
板2aの表面に、透明基板2aと下地層42との密着性
を良好にする働きのある薬品(一般に、プライマーと呼
ばれる)45をあらかじめ塗布しておいてもよい。ある
いは、との方法を併用してもよい。In the base layer 42 having such a shape, when the base layer 42 is transferred and formed on the transparent substrate 2a by the 2P method, the formed base layer 42 is hardly peeled off from the stamper 27, and the base layer 42 is formed on the transparent substrate 2a. There is a risk of peeling from 2a. Therefore, in order to improve the releasability of the underlayer 42 from the stamper 27, a release agent (a release agent) may be mixed in advance with the ultraviolet curable resin for forming the underlayer 42. Alternatively, as shown in FIG. 21, a chemical (generally called a primer) 45 having a function of improving the adhesion between the transparent substrate 2a and the base layer 42 is applied to the surface of the transparent substrate 2a in advance. Is also good. Alternatively, the above methods may be used in combination.
【0054】(第4の実施形態)図22は本発明のさら
に別な実施形態による液晶表示素子に用いられる配向分
割基板46の他例を示す断面図である。この配向分割基
板46にあっては、表面が湾曲した下地層47(1個の
下地層47を図23に示す)を、透明基板2aの表面に
画素ピッチ毎に形成している。従って、この下地層47
の上から透明基板2aの表面に透明電極材を堆積させて
透明電極23を形成すると、透明電極23の表面も湾曲
する。従って、この場合にも透明電極23の表面の傾き
の変化やラビング押し込み量の変化によって液晶分子の
プレチルト角も広範囲にばらつき、液晶表示素子の視野
角が広くなる。(Fourth Embodiment) FIG. 22 is a sectional view showing another example of the alignment division substrate 46 used in the liquid crystal display device according to still another embodiment of the present invention. In the orientation-divided substrate 46, a curved underlayer 47 (one underlayer 47 is shown in FIG. 23) is formed on the surface of the transparent substrate 2a at every pixel pitch. Therefore, this underlayer 47
When a transparent electrode material is deposited on the surface of the transparent substrate 2a from above to form the transparent electrode 23, the surface of the transparent electrode 23 is also curved. Therefore, also in this case, the pretilt angle of the liquid crystal molecules widely varies due to a change in the inclination of the surface of the transparent electrode 23 or a change in the rubbing amount, and the viewing angle of the liquid crystal display element is widened.
【0055】なお、湾曲した下地層としては、図24に
示すようなかまぼこ形の下地層47や、図25に示すよ
うな半球状をした下地層47などを設けてもよい。As the curved underlayer, a semi-cylindrical underlayer 47 as shown in FIG. 24 or a hemispherical underlayer 47 as shown in FIG. 25 may be provided.
【0056】(第5の実施形態)図26は本発明のさら
に別な実施形態による液晶表示素子48を示す一部破断
した断面図である。この液晶表示素子48にあっては、
下地層22と下地層22(他のタイプの下地層でもよ
い)の中間において透明基板2aの表面に突起49を形
成している。この突起49は、紫外線硬化型樹脂をスタ
ンパで成形して2P法により下地層22を形成する際、
下地層22と同時に紫外線硬化型樹脂によって成形され
たものである。この突起49の高さHは、液晶層3を封
止しているスペースの大きさdに対して、 0.5d ≦ H ≦ 0.95d となるように形成している。(Fifth Embodiment) FIG. 26 is a partially broken sectional view showing a liquid crystal display element 48 according to still another embodiment of the present invention. In this liquid crystal display element 48,
A projection 49 is formed on the surface of the transparent substrate 2a between the underlayer 22 and the underlayer 22 (may be another type of underlayer). The projections 49 are formed by molding a UV-curable resin with a stamper to form the underlayer 22 by the 2P method.
It is formed of an ultraviolet curable resin at the same time as the underlayer 22. The height H of the projection 49 is formed such that 0.5d ≦ H ≦ 0.95d with respect to the size d of the space sealing the liquid crystal layer 3.
【0057】通常、液晶表示素子内には、押さえられた
ときに透明基板どうしが接触するのを防止するため、液
晶層内にビーズが分散させられている。しかし、このよ
うなビーズは柔らかいために強く押されると変形し、ま
た熱によっても変形し易い。これに対し、この突起49
はエポキシ系などの硬質の紫外線硬化型樹脂で成形する
ことができるので、液晶表示素子48が強く押されても
変形しにくく、熱にも強い。従って、液晶表示素子48
が強く押されたとき、透明電極23,5bどうしの接触
を防止する効果が高い。なお、この突起49はビーズと
併用して差し支えないものである。Usually, beads are dispersed in the liquid crystal layer in the liquid crystal display element in order to prevent the transparent substrates from contacting each other when pressed. However, since such beads are soft, they are deformed when strongly pressed, and are easily deformed by heat. On the other hand, the protrusion 49
Can be molded with a hard ultraviolet-curable resin such as an epoxy resin, so that the liquid crystal display element 48 is hardly deformed even when pressed strongly, and is resistant to heat. Therefore, the liquid crystal display element 48
Is strongly pressed, the effect of preventing contact between the transparent electrodes 23 and 5b is high. The projections 49 can be used in combination with beads.
【0058】なお、上記各実施形態では、透明基板の表
面に2P法等によって下地層を形成することによって透
明基板表面に凹凸を施した場合を説明したが、例えばプ
ラスチックフィルムからなる透明基板の表面に型押しで
凹凸(下地層)を一体成形したり、ガラス板からなる透
明基板の表面にエッチング等で凹凸を形成したりするこ
ともできる。しかし、前者の方法では、形状の安定性が
悪くて変形し易く、微細な加工も困難である。また、後
者の方法では、ガラス板のエッチングは精度(形状、高
さおよび平坦性など)がさらに悪く、よい方法とは言え
ない。従って、紫外線硬化型樹脂を用いて透明基板の表
面に下地層を形成する2P法がもっとも優れている。In each of the above embodiments, the case where the surface of the transparent substrate is made uneven by forming an underlayer on the surface of the transparent substrate by the 2P method or the like has been described. Alternatively, the unevenness (underlayer) may be integrally formed by embossing, or the unevenness may be formed on the surface of a transparent substrate made of a glass plate by etching or the like. However, the former method has poor shape stability and is easily deformed, and it is difficult to perform fine processing. Further, in the latter method, the accuracy (shape, height, flatness, and the like) of the etching of the glass plate is further poor, and cannot be said to be a good method. Therefore, the 2P method of forming a base layer on the surface of a transparent substrate using an ultraviolet curable resin is the most excellent.
【図1】従来の液晶表示素子を示す一部破断した断面図
である。FIG. 1 is a partially broken sectional view showing a conventional liquid crystal display device.
【図2】同上の液晶表示素子における液晶分子の配列す
る秩序を説明する図である。FIG. 2 is a diagram illustrating the order in which liquid crystal molecules are arranged in the liquid crystal display element of the above.
【図3】従来の別な液晶表示素子を示す一部破断した断
面図である。FIG. 3 is a partially broken sectional view showing another conventional liquid crystal display element.
【図4】液晶分子の方向(プレチルト角)と液晶層の屈
折率との関係を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the direction of liquid crystal molecules (pretilt angle) and the refractive index of a liquid crystal layer.
【図5】同上の液晶表示素子における液晶分子のプレチ
ルト角の分布を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a distribution of pretilt angles of liquid crystal molecules in the above liquid crystal display element.
【図6】(a)(b)(c)は、同上の液晶表示素子に
おいて透明電極を形成する方法を説明する図である。FIGS. 6 (a), (b) and (c) are diagrams for explaining a method of forming a transparent electrode in the liquid crystal display element of the above.
【図7】本発明の一実施形態による液晶表示素子を示す
一部破断した断面図である。FIG. 7 is a partially broken cross-sectional view illustrating a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
【図8】同上の液晶表示素子に用いられる配向分割基板
を示す一部破断した断面図である。FIG. 8 is a partially broken cross-sectional view showing an alignment division substrate used in the above liquid crystal display element.
【図9】同上の配向分割基板に形成されている下地層を
示す斜視図である。FIG. 9 is a perspective view showing a base layer formed on the alignment division substrate.
【図10】同上の配向分割基板に配向膜を形成してラビ
ング処理する様子を示す図である。FIG. 10 is a view showing a state in which an alignment film is formed on the alignment division substrate and a rubbing process is performed.
【図11】(a)〜(g)は同上の配向分割基板の製造
方法を説明する概略図である。FIGS. 11A to 11G are schematic views illustrating a method for manufacturing an alignment division substrate according to the first embodiment.
【図12】(a)〜(g)は同上の配向分割基板の別な
製造方法を説明する概略図である。FIGS. 12A to 12G are schematic views illustrating another method for manufacturing an orientation-divided substrate according to the first embodiment.
【図13】(a)〜(f)は、下地層を形成するための
スタンパの製造方法を説明する概略図である。FIGS. 13A to 13F are schematic views illustrating a method of manufacturing a stamper for forming an underlayer.
【図14】(a)〜(f)は、下地層を形成するための
スタンパの別な製造方法を説明する概略図である。FIGS. 14A to 14F are schematic views illustrating another method of manufacturing a stamper for forming an underlayer.
【図15】形状の異なる下地層を示す斜視図である。FIG. 15 is a perspective view showing base layers having different shapes.
【図16】さらに形状の異なる下地層を示す斜視図であ
る。FIG. 16 is a perspective view showing an underlayer having a further different shape.
【図17】本発明の別な実施形態による液晶表示素子に
用いられる配向分割基板を示す一部破断した断面図であ
る。FIG. 17 is a partially broken cross-sectional view showing an alignment division substrate used in a liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention.
【図18】同上の配向分割基板に形成されている下地層
を示す斜視図である。FIG. 18 is a perspective view showing a base layer formed on the alignment division substrate.
【図19】液晶分子のプレチルト角とラビング押し込み
量との関係を示す図である。FIG. 19 is a diagram showing the relationship between the pretilt angle of liquid crystal molecules and the amount of rubbing depression.
【図20】本発明のさらに別な実施形態による液晶表示
素子に用いられる配向分割基板を示す一部破断した断面
図である。FIG. 20 is a partially broken sectional view showing an alignment division substrate used in a liquid crystal display device according to still another embodiment of the present invention.
【図21】同上の配向分割基板において、下地層と透明
基板との剥離を防止するための方法を説明する図であ
る。FIG. 21 is a view for explaining a method for preventing separation between a base layer and a transparent substrate in the above-mentioned alignment division substrate.
【図22】本発明のさらに別な実施形態による液晶表示
素子に用いられる配向分割基板を示す一部破断した断面
図である。FIG. 22 is a partially broken cross-sectional view showing an alignment division substrate used in a liquid crystal display device according to still another embodiment of the present invention.
【図23】同上の配向分割基板に形成されている下地層
を示す斜視図である。FIG. 23 is a perspective view showing a base layer formed on the alignment division substrate.
【図24】形状の異なる下地層を示す斜視図である。FIG. 24 is a perspective view showing base layers having different shapes.
【図25】さらに形状の異なる下地層を示す斜視図であ
る。FIG. 25 is a perspective view showing an underlayer having a further different shape.
【図26】本発明のさらに別な実施形態による液晶表示
素子を示す一部破断した断面図である。FIG. 26 is a partially broken sectional view showing a liquid crystal display device according to still another embodiment of the present invention.
2a,2b 透明基板 3 液晶層 22,42,47 下地層 23 透明電極 24 配向膜 26 紫外線硬化型樹脂 27 スタンパ 2a, 2b Transparent substrate 3 Liquid crystal layer 22, 42, 47 Underlayer 23 Transparent electrode 24 Alignment film 26 UV curable resin 27 Stamper
Claims (5)
面に凹凸を有する下地層を各画素領域毎に形成し、当該
下地層の上から各画素領域全体に透明電極を形成したこ
とを特徴とする配向分割用の基板。1. In each pixel region on a surface of a transparent substrate, a base layer having an uneven surface is formed for each pixel region, and a transparent electrode is formed on the whole of each pixel region from above the base layer. Substrate for orientation division.
画素領域の一部に下地層を形成し、当該下地層の上から
各画素領域全体に透明電極を形成したことを特徴とする
配向分割用の基板。2. In each pixel region on the surface of the transparent substrate, an underlayer is formed on a part of each pixel region, and a transparent electrode is formed on the entire pixel region from above the underlayer. Substrate.
凹を備えたスタンパによって光硬化型樹脂に凹凸を転写
した後、当該光硬化型樹脂に光を照射して硬化させ、硬
化した光硬化型樹脂によって形成された凹凸からスタン
パを脱型し、ついで当該凹凸の上から各画素領域に透明
電極を形成することを特徴とする配向分割用の基板の製
造方法。3. A photo-curable resin is supplied onto a transparent substrate, and the irregularities are transferred to the photo-curable resin by a stamper having irregularities, and then the photo-curable resin is cured by irradiation with light. A method for manufacturing a substrate for orientation division, comprising: removing a stamper from irregularities formed by a photocurable resin; and then forming a transparent electrode in each pixel region from the irregularities.
明基板間に液晶を封入した液晶表示素子において、 前記透明電極と配向膜を形成した透明基板のうち少なく
とも一方の透明基板が、透明基板表面の各画素領域にお
いて、表面に凹凸を有する下地層を各画素領域毎に形成
し、当該下地層の上から各画素領域全体に透明電極を形
成したものであることを特徴とする液晶表示素子。4. A liquid crystal display device in which liquid crystal is sealed between a pair of transparent substrates having a transparent electrode and an alignment film formed thereon, wherein at least one of the transparent substrates having the transparent electrode and the alignment film formed thereon is transparent. In each of the pixel regions on the substrate surface, a base layer having irregularities on the surface is formed for each of the pixel regions, and a transparent electrode is formed over the entire pixel region from above the base layer. element.
明基板間に液晶を封入した液晶表示素子において、 前記透明電極と配向膜を形成した透明基板のうち少なく
とも一方の透明基板が、透明基板表面の各画素領域にお
いて、各画素領域の一部に下地層を形成し、当該下地層
の上から各画素領域全体に透明電極を形成したものであ
ることを特徴とする液晶表示素子。5. A liquid crystal display device in which liquid crystal is sealed between a pair of transparent substrates on which a transparent electrode and an alignment film are formed, wherein at least one of the transparent substrates on which the transparent electrode and the alignment film are formed is transparent. A liquid crystal display device comprising: a base layer formed in a part of each pixel region in each pixel region on a substrate surface; and a transparent electrode formed on the entire pixel region from above the base layer.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36267097A JPH11174456A (en) | 1997-12-11 | 1997-12-11 | Substrate for alignment division and its production as well as liquid crystal display element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP36267097A JPH11174456A (en) | 1997-12-11 | 1997-12-11 | Substrate for alignment division and its production as well as liquid crystal display element |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11174456A true JPH11174456A (en) | 1999-07-02 |
Family
ID=18477453
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP36267097A Pending JPH11174456A (en) | 1997-12-11 | 1997-12-11 | Substrate for alignment division and its production as well as liquid crystal display element |
Country Status (1)
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JP (1) | JPH11174456A (en) |
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- 1997-12-11 JP JP36267097A patent/JPH11174456A/en active Pending
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