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JPH11162470A - 集電体用アルミニウム箔とその製造方法、集電体、二次電池および電気二重層コンデンサ - Google Patents

集電体用アルミニウム箔とその製造方法、集電体、二次電池および電気二重層コンデンサ

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Publication number
JPH11162470A
JPH11162470A JP9323438A JP32343897A JPH11162470A JP H11162470 A JPH11162470 A JP H11162470A JP 9323438 A JP9323438 A JP 9323438A JP 32343897 A JP32343897 A JP 32343897A JP H11162470 A JPH11162470 A JP H11162470A
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JP
Japan
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aluminum foil
current collector
aluminum
foil
electric double
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JP9323438A
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English (en)
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Inventor
Hiroshi Tada
裕志 多田
Masaaki Abe
正明 安部
Satoshi Kobayashi
聡史 小林
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Toyo Aluminum KK
Original Assignee
Toyo Aluminum KK
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Publication date
Application filed by Toyo Aluminum KK filed Critical Toyo Aluminum KK
Priority to JP32343897A priority Critical patent/JP3444769B2/ja
Publication of JPH11162470A publication Critical patent/JPH11162470A/ja
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/10Energy storage using batteries

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  • Electric Double-Layer Capacitors Or The Like (AREA)
  • Cell Electrode Carriers And Collectors (AREA)
  • Secondary Cells (AREA)
  • Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電極活物質との密着性が高く、また電極活物
質との接触抵抗値の低い集電体用アルミニウム箔とその
製造方法を提供する。また、二次電池や電気二重層コン
デンサの寿命等のような特性を高めるように寄与する集
電体を提供する。 【解決手段】 集電体用アルミニウム箔は、少なくとも
一方の表面粗さとして平均粗さRaが0.3μm以上
1.5μm以下で最大高さRyが0.5μm以上5.0
μm以下である。集電体用アルミニウム箔は、水または
不燃性有機溶媒を媒介としてアルミニウム箔の表面にア
ルミナ粒子を噴射することによってアルミニウム箔の表
面を粗化することによって製造される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、二次電池や電気
二重層コンデンサに関し、特に二次電池や電気二重層コ
ンデンサに用いられる集電体、集電体用アルミニウム箔
およびその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】近
年、高いエネルギ効率の二次電池として、リチウムイオ
ン電池やポリマ電池、またコンデンサとして電気二重層
コンデンサなどが、携帯電話、パーソナルコンピュー
タ、カメラや自動車の電源として使用されてきている。
【0003】二次電池の一例としてリチウムイオン電池
では、正極材料として、たとえばカーボン、リチウム金
属酸化物塩、フッ素系バインダからなる活物質を集電体
としてのアルミニウム箔にコーティングしたものが使用
されている。また、ポリマ電池では、正極材料として、
ポリアニリン、ポリアセチレン等の導電性の高分子電極
活物質を集電体としてのアルミニウム箔にコーティング
したものが使用されている。
【0004】一方、電気二重層コンデンサにおいても、
電極を構成するために、カーボンとポリイミド系樹脂等
からなる材料を集電体としてのアルミニウム箔にコーテ
ィングしたものが使用されている。
【0005】上述のように二次電池や電気二重層コンデ
ンサの集電体の材料としてアルミニウム箔が使用されて
いる理由としては以下の点が挙げられる。
【0006】(1) アルミニウム箔は、電解液に侵さ
れにくく、支持体として比較的安定である。
【0007】(2) アルミニウム箔は、電気伝導性に
優れ、電気的抵抗値が小さいため、二次電池や電気二重
層コンデンサの電気効率に悪影響を与えない。
【0008】(3) アルミニウム箔は、電気的抵抗値
が低いため、抵抗による発熱が少ない。
【0009】(4) アルミニウム箔は、製造コストが
安価であり、経済的な材料である。ところで、二次電池
の正極や電気二重層コンデンサの電極を構成するため
に、集電体としてのアルミニウム箔の表面に電極活物質
やバインダが塗布加工される。このような塗布加工され
るコーティング材はアルミニウム箔の表面との密着性が
不十分で、アルミニウム箔と電極活物質との間の接触抵
抗値が大きくなるという問題があった。また、コーティ
ング材とアルミニウム箔の表面との間の密着性が不十分
であるため、二次電池や電気二重層コンデンサの充放電
時に電極活物質の膜が剥離するという現象が生じ、これ
が二次電池や電気二重層コンデンサの寿命等の特性に大
きな影響を与えるという問題があった。
【0010】これらの問題点を解消するために、工業的
にはコーティング材の塗布加工後、圧着処理等が行なわ
れているが、必ずしも十分ではなかった。逆に、塗布加
工された膜が圧着時に剥離する等の問題が生じる場合も
あった。
【0011】また、アルミニウム箔の表面を化学的にエ
ッチング等により改質し、塗布加工される膜とアルミニ
ウム箔の表面との間の接着強度を高める試みがなされて
いる。しかしながら、アルミニウム箔の強度の低下や表
面層の経時変化により、実用化する上では問題があっ
た。
【0012】そこで、この発明の目的は、電極活物質と
の密着性を高めることが可能な集電体用アルミニウム箔
とその製造方法を提供することである。
【0013】また、この発明の目的は、電極活物質との
間の接触抵抗値を低下させることが可能な集電体用アル
ミニウム箔とその製造方法を提供することである。
【0014】さらに、この発明の目的は、電極活物質と
の間の密着性が高く、かつ接触抵抗値が低い集電体を提
供することである。
【0015】この発明の別の目的は、寿命等のような特
性を高めるように寄与し得る集電体を備えた二次電池や
電気二重層コンデンサを提供することである。
【0016】
【課題を解決するための手段】この発明に従った集電体
用アルミニウム箔は、少なくとも一方の表面の粗さとし
て平均粗さRaが0.3μm以上1.5μm以下で最大
高さRyが0.5μm以上5.0μm以下である。
【0017】このようにアルミニウム箔の表面を改質す
ることにより、特にその表面の粗さを限定することによ
り、電極活物質等からなる膜を塗布加工する際に、その
膜の密着性を改善することができ、本来のアルミニウム
箔の特性を十分に生かすことができるようになる。
【0018】平均粗さRaが0.3μm未満の場合に
は、アルミニウム箔の表面の上に形成される活物質の膜
の密着性が良好ではなく、その膜との間の接触抵抗が増
大する。また、平均粗さRaが1.5μmを超える場合
には、アルミニウム箔の表面層が脆化する。また、連続
的に活物質等の膜を塗布加工するときや、その後の圧着
工程でアルミニウム箔が破断したり、膜の剥離が生じや
すくなる。
【0019】最大高さRyが0.5μm未満の場合に
は、アルミニウム箔の表面を粗化したことによる効果
や、それによる表面積の拡大効果を得ることができず、
活物質の膜との間の密着性が不十分である。また、最大
高さRyが5.0μmを超える場合には、電極活物質の
膜の厚みにむらが生じ、それによって二次電池や電気二
重層コンデンサの特性上のばらつきが生じる。さらに、
アルミニウム箔からなる集電体自体の強度が低下し、そ
れによって電極活物質の膜を連続的に塗布加工するとき
や、その後の圧着工程でアルミニウム箔の破断や屈曲が
生じやすくなる。
【0020】好ましくは、この発明に従った集電体用ア
ルミニウム箔の引張強度は98MPa以上である。引張
強度が98MPa未満では、アルミニウム箔の表面を粗
化するときや他の製造工程中にアルミニウム箔の破断や
亀裂を生じるおそれがあるため、好ましくない。本発明
のアルミニウム箔の引張強度は147MPa以上である
のがさらに好ましい。
【0021】また、好ましくは、本発明の集電体用アル
ミニウム箔の厚みは10μm以上150μm以下であ
る。厚みが10μm未満の場合、アルミニウム箔の表面
を粗化するときや他の製造工程中においてアルミニウム
箔の破断や亀裂を生じるおそれがある。また、厚みが1
50μmを超える場合には、特性上の不都合はないが、
体積や重量の面での不都合が顕著になるだけでなく、製
造コストの点で不利になる。
【0022】なお、本発明におけるアルミニウム箔の厚
み以外の大きさや形状は限定されるものではなく、また
意図的な穿孔があっても差支えないが、穿孔は必ずしも
必要なものではない。言い換えれば、本発明に従った集
電体用アルミニウム箔は、穿孔を表面に施さなくても、
集電体に必要な表面積を与えることができ、また必要な
表面粗度を与えることもできる。
【0023】本発明のアルミニウム箔の好ましい組成
は、アルミニウムが99.0重量%以上、鉄、銅および
シリコンのそれぞれが0.5重量%以下であり、鉄、銅
およびシリコンの合計の含有量が1.0重量%未満であ
る。より好ましくは、アルミニウムの含有量は99.3
重量%以上、さらに好ましくは99.9重量%以上であ
る。このようにアルミニウム箔の組成を限定するのは、
アルミニウムの純度が低いほど、また、銅、鉄およびシ
リコンの含有量が多くなるほど、二次電池や電気二重層
コンデンサの集電体として用いた場合、電解質による充
放電時にアルミニウムの腐食量が多くなるからである。
特に、不純物としての鉄、銅およびシリコンの含有量が
上記の範囲を超えると、アルミニウムの腐食が顕著にな
る。これにより、電極の寿命が低下し、また特性が大き
く劣化する。
【0024】さらに、本発明のアルミニウム箔の表面に
は膜耐電圧が0.5V以上2.0V以下の酸化膜が形成
されている。膜耐電圧が0.5V未満のときには、アル
ミニウム箔の表面が安定ではなく、集電体として使用中
に不純物成分の鉄が電解質中に溶解しやすい。また、膜
耐電圧が2.0Vを超える場合には、集電体の表面の内
部抵抗が上昇し、電気効率の悪化や発熱等の弊害が生ず
る。
【0025】この発明の別の局面に従った集電体は、上
述のようなアルミニウム箔を備える。
【0026】また、この発明に従った二次電池は、上記
の集電体を備える。さらに、この発明に従った電気二重
層コンデンサは、上記の集電体を備える。
【0027】この発明に従った集電体を用いることによ
り二次電池や電気二重層コンデンサの寿命等の特性を高
めることができる。
【0028】この発明に従った集電体用アルミニウム箔
の製造方法は、水または不燃性有機溶媒を媒介としてア
ルミニウム箔の表面にアルミナ粒子を噴射することによ
ってアルミニウム箔の表面を粗化することを特徴とす
る。
【0029】このアルミニウム箔の表面の粗化処理は、
水または不燃性有機溶媒中にアルミナ粒子を分散させた
スラリーを、圧縮空気を用いてアルミニウム箔の表面に
噴射することにより、アルミニウム箔の表面を粗化する
ものである。これにより、アルミニウム箔の表面の圧延
残油が完全に除去され、膜耐電圧が0.5〜2.0Vの
強固な酸化膜が形成されているのが確認される。この処
理は、ウェットブラスト処理と呼ばれる。
【0030】アルミニウム箔の圧延残油を除去する方法
としては、古くから焼鈍による方法が一般的であるが、
著しい強度低下を招くので好ましくない。強度が低い場
合には、ウェットブラスト処理やその他の製造工程中に
アルミニウム箔の破断や亀裂の原因となるおそれがあ
る。そのため、前述したように、アルミニウム箔の引張
強度は98MPa以上であるのが好ましい。
【0031】アルミニウム箔の表面にアルミナ粒子を噴
射する理由は、他の粒子を用いた場合には噴射された粒
子がアルミニウム箔の表面にめり込み、アルミニウム箔
中に存在する不純物とによって局部電池が形成され、純
度の悪いアルミニウム箔を用いたのと同じ状態になり、
アルミニウム箔の腐食が進行するからである。
【0032】ウェットブラスト処理時に使用する溶媒
は、水または不燃性有機溶媒、たとえば塩化メチレン、
トリクロロエチレン等が好ましい。可燃性の有機溶媒は
作業環境や安全性の面で適当ではない。
【0033】ウェットブラスト処理は、サンドブラスト
処理等の乾式法に比べて材料の発熱がないこと、洗浄効
果が高いこと、空気をほとんど遮断してブラスト処理を
行なうため安全性が高いこと等の利点を有する。
【0034】ウェットブラスト処理を行なった後、アル
ミニウム箔を空気中で60〜200℃の温度で0.1〜
10時間乾燥処理することにより、膜耐電圧が0.5〜
2.0V、好ましくは1.0〜1.8Vの酸化膜を形成
することができる。膜耐電圧を調整する方法は、この他
に陽極酸化法や沸騰水中にアルミニウム箔を浸漬させる
方法等を挙げることができる。
【0035】以上のように、この発明の集電体用アルミ
ニウム箔の製造方法は安全かつ経済的であるので、工業
生産に適している。
【0036】
【実施例】以下に述べるように、リチウムイオン電池や
電気二重層コンデンサの集電体に用いられるアルミニウ
ム箔として表面処理やアルミニウムの純度を変えたもの
を実施例1〜7と比較例1〜5で準備した。また、比較
例6〜8では、それぞれ銅箔、鉄箔およびステンレス鋼
を集電体用材料として準備した。各材料の成分分析値は
ICP発光分光分析法によって分析された値を示す。
【0037】(実施例1)公称純度が99.9重量%、
成分の分析値として銅が50ppm、鉄が500pp
m、シリコンが300ppm、厚みが20μm、引張強
度が200MPaのアルミニウム硬質箔にウェットブラ
スト処理を施した。ウェットブラスト処理は、320メ
ッシュのふるいを通過したアルミナ粒子を純水に18体
積%分散させたブラスト液を1.3kgf/cm2 の空
気圧力でアルミニウム硬質箔の表面に噴射させることに
よって行なわれた。その後、アルミニウム硬質箔を温度
80℃で30分間乾燥処理した。
【0038】(実施例2)公称純度が99.3重量%、
成分の分析値として銅が500ppm、鉄が4000p
pm、シリコンが2000ppm、厚みが20μm、引
張強度が175MPaのアルミニウム硬質箔にウェット
ブラスト処理を施した。ウェットブラスト処理は、32
0メッシュのふるいを通過したアルミナ粒子を純水に1
8体積%分散させたブラスト液を2.0kgf/cm2
の空気圧力でアルミニウム硬質箔の表面に噴射させるこ
とによって行なわれた。その後、アルミニウム硬質箔を
温度80℃で30分間乾燥処理した。
【0039】(実施例3)公称純度が99.7重量%、
成分の分析値として銅が30ppm、鉄が1500pp
m、シリコンが500ppm、厚みが15μm、引張強
度が190MPaのアルミニウム硬質箔にウェットブラ
スト処理を施した。ウェットブラスト処理は、320メ
ッシュのふるいを通過したアルミナ粒子を純水に20体
積%分散させたブラスト液を2.5kgf/cm2 の空
気圧力でアルミニウム硬質箔の表面に噴射させることに
よって行なわれた。その後、アルミニウム硬質箔を温度
60℃で60分間乾燥処理した。
【0040】(実施例4)公称純度が99.99重量
%、成分の分析値として銅が10ppm、鉄が50pp
m、シリコンが35ppm、厚みが30μm、引張強度
が210MPaのアルミニウム硬質箔にウェットブラス
ト処理を施した。ウェットブラスト処理は、320メッ
シュのふるいを通過したアルミナ粒子を純水に18体積
%分散させたブラスト液を1.5kgf/cm2 の空気
圧力でアルミニウム硬質箔の表面に噴射させることによ
って行なわれた。その後、アルミニウム硬質箔を温度6
0℃で30分間乾燥処理した。
【0041】(実施例5)公称純度が99.1重量%、
成分の分析値として銅が500ppm、鉄が5000p
pm、シリコンが3000ppm、厚みが40μm、引
張強度が165MPaのアルミニウム硬質箔にウェット
ブラスト処理を施した。ウェットブラスト処理は、32
0メッシュのふるいを通過したアルミナ粒子を純水に2
0体積%分散させたブラスト液を2.0kgf/cm2
の空気圧力でアルミニウム硬質箔の表面に噴射させるこ
とによって行なわれた。その後、アルミニウム硬質箔を
温度90℃で60分間乾燥処理した。
【0042】(実施例6)実施例3と同じアルミニウム
硬質箔を用いて、その表面にウェットブラスト処理を施
した。この実施例の場合、ウェットブラスト処理は、4
00メッシュのふるいを通過したアルミナ粒子を純水に
20体積%分散させたブラスト液を2.5kgf/cm
2 の空気圧力でアルミニウム硬質箔の表面に噴射させる
ことによって行なわれた。その後、温度60℃で60分
間乾燥処理した。
【0043】(実施例7)実施例3と同じアルミニウム
硬質箔を用いて、その表面にウェットブラスト処理を施
した。この実施例の場合、ウェットブラスト処理は、4
00メッシュのふるいを通過したアルミナ粒子を純水に
20体積%分散させたブラスト液を2.5kgf/cm
2 の空気圧力でアルミニウム硬質箔の表面に噴射させる
ことによって行なわれた。その後、温度60℃で60分
間乾燥処理した。
【0044】(比較例1)公称純度が98.0重量%、
成分の分析値として銅が1000ppm、鉄が1.3重
量%(13000ppm)、シリコンが4000pp
m、厚みが20μm、引張強度が180MPaのアルミ
ニウム硬質箔の表面を塩化メチレンで脱脂処理した。
【0045】(比較例2)公称純度が99.3重量%、
成分の分析値として銅が500ppm、鉄が4000p
pm、シリコンが2000ppm、厚みが20μm、引
張強度が170MPaのアルミニウム硬質箔の表面を塩
化メチレンで脱脂処理した。
【0046】(比較例3)公称純度が99.7重量%、
成分の分析値として銅が30ppm、鉄が1500pp
m、シリコンが500ppm、厚みが15μm、引張強
度が70MPaのアルミニウム軟質箔の表面をメタノー
ルで洗浄処理した。
【0047】(比較例4)公称純度が99.99重量
%、成分の分析値として銅が10ppm、鉄が50pp
m、シリコンが35ppm、厚みが30μm、引張強度
が210MPaのアルミニウム硬質箔の表面を塩化メチ
レンで脱脂処理した。
【0048】(比較例5)実施例3と同じアルミニウム
硬質箔を用いて、その表面にウェットブラスト処理を施
した。この比較例の場合、ウェットブラスト処理は、4
00メッシュのふるいを通過したアルミナ粒子を純水に
20体積%分散させたブラスト液を2.5kgf/cm
2 の空気圧力でアルミニウム硬質箔の表面に噴射させる
ことによって行なわれた。その後、温度60℃で60分
間乾燥処理した。
【0049】上述の実施例1〜7と比較例1〜5で準備
したアルミニウム箔の組成、厚み、引張強度と、表面処
理によって得られた表面粗度の測定値として平均粗さR
aと最大高さRyとを表1に示す。また、アルミニウム
箔の表面に形成された酸化膜の皮膜耐電圧の測定結果も
表1に示す。
【0050】(比較例6)純度が99.9重量%の銅箔
を塩化メチレンによって脱脂処理した。この表面処理に
よって得られた表面粗度は、平均粗さRaが0.19μ
m、最大高さRyが0.33μmであった。
【0051】(比較例7)純度が99.9重量%の鉄箔
を塩化メチレンによって脱脂処理した。この表面処理に
よって得られた表面粗度は、平均粗さRaが0.22μ
m、最大高さRyが0.28μmであった。
【0052】(比較例8)ステンレス鋼(SUS30
4)を塩化メチレンによって脱脂処理した。
【0053】なお、表1において測定されなかったデー
タは「−」で示されている。表面粗さRaと最大高さR
yの測定は、JIS B 0601(−1994)に従
った。
【0054】
【表1】
【0055】以上のようにして準備された集電体用材料
を用いて以下に示す試験1〜4を行なうことにより、集
電体としての性能を確認した。
【0056】(試験1)リチウムイオン電池の支持塩電
解質中に、実施例1〜7と比較例1〜8で準備した各集
電体用材料を4.5V VS.Li+/Liで定電位電
解し、電解液中への金属溶解量をICP発光分光分析法
により測定した。電解質としては、1モルLiClO4
/EC(エチレンカーボネート)+DEC(ジエチレン
カーボネート)を用いた。
【0057】その測定結果を表2に示す。実施例1〜7
の集電体用材料では、電解質中へのイオンの溶出量が低
い水準に維持されていることが確認された。
【0058】(試験2)リチウムイオン電池の支持塩電
解質中に、実施例1〜7と比較例1〜8で準備した各集
電体用材料を4.5V VS.Li+/Liで定電位電
解し、電解質中への金属溶解量をICP発光分光分析法
により測定した。電解質としては、1モルLiPF6
EC(エチレンカーボネート)+DEC(ジエチレンカ
ーボネート)を用いた。
【0059】その測定結果を表2に示す。実施例1〜7
の集電体用材料では、電解質中へのイオンの溶出量が低
い水準を示すことが確認された。
【0060】(試験3)実施例1〜7と比較例1〜8で
準備した各集電体用材料の表面にリチウムイオン電池の
正極活物質を塗布加工した。リチウムイオン電池の正極
活物質の組成は、コバルト酸リチウムが50重量%、ア
セチレンブラックが10重量%、PVDF(ポリビニル
ジフロライド)が5重量%、NMP(Nメチルピロリド
ン)が35重量%であった。その後、温度100℃で1
0分間乾燥させた。このようにして、乾燥後の厚みが8
0μmとなるように正極活物質の塗膜を各集電体用材料
の表面に形成した。その後、圧延ロールにて約20%の
圧下を加えて塗膜を各集電体用材料の表面に圧着させ
た。このようにして圧延後の塗膜の密着性を観察した。
【0061】また、集電体用材料と活物質の塗膜との間
の接触抵抗値を測定した。接触抵抗値の測定は、図1に
示すように、黄銅製の上部電極1(重量:500g)と
下部電極2の間に各試料を挟んだ状態でAB間をデジタ
ルマルチメータにより測定することによって行なわれ
た。この場合、厳密には接触抵抗のみを測定するもので
はないが、電極や試料の体積抵抗は無視し得る程度に小
さいものであるので、その測定値を接触抵抗値とみなす
ことができる。
【0062】塗膜の密着性の観察結果と接触抵抗値の測
定結果を表2に示す。実施例1〜7で準備した集電体用
材料は、圧延後においても塗膜の良好な密着性を示し、
また塗膜との間の接触抵抗値も低いことがわかる。
【0063】(試験4)実施例1〜7と比較例1〜8で
準備した各集電体用材料の表面に電気二重層コンデンサ
の電極活物質を塗布加工した。活物質の組成は、フェノ
ール樹脂系活性炭(商品名:クラクチブ10クラレ)が
15重量%、ポリイミドが5重量%、NMP(Nメチル
ピロリドン)が80重量%であった。その後、塗膜を乾
燥させた。このようにして、乾燥後の厚みが20μmと
なるように電気二重層コンデンサの電極活物質の塗膜を
各集電体用材料の表面に形成した。その後、温度200
℃で20分間、塗膜に焼成処理を施した後、圧延ロール
により、約20%の圧下を加えて塗膜を各集電体用材料
の表面に圧着させた。このようにして圧延後の塗膜の密
着性を観察した。また、各集電体用材料の表面と活物質
の塗膜との間の接触抵抗値を試験3と同様にして測定し
た。
【0064】塗膜の密着性の観察結果と接触抵抗値の測
定結果を表2に示す。実施例1〜7で準備したアルミニ
ウム箔は、圧延後においても活物質の塗膜の密着性が良
好であり、また塗膜との間の接触抵抗値も低い値を示し
た。
【0065】
【表2】
【0066】以上に開示された実施例はすべての点で例
示であって制限的なものではないと考慮されるべきであ
る。本発明の範囲は、以上の実施例ではなく、特許請求
の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味お
よび範囲内でのすべての修正や変形を含むものであると
解釈されるべきである。
【0067】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、集電
体用アルミニウム箔は電極活物質やバインダとの接着強
度に優れ、二次電池や電気二重層コンデンサの集電体と
して使用中に電解質への溶出量も少ないため、長期間安
定した性能を要求される二次電池や電気二重層コンデン
サに有用である。
【0068】また、本発明に従った集電体用アルミニウ
ム箔の製造方法は、安全かつ経済的であるので、工業生
産に適している。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例で行なわれた接触抵抗値の測定方法を概
略的に示す図である。
【符号の説明】
1 上部電極 2 下部電極

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも一方の表面の粗さとして平均
    粗さRaが0.3μm以上1.5μm以下で最大高さR
    yが0.5μm以上5.0μm以下である、集電体用ア
    ルミニウム箔。
  2. 【請求項2】 前記アルミニウム箔の引張強度は98M
    Pa以上である、請求項1に記載の集電体用アルミニウ
    ム箔。
  3. 【請求項3】 前記アルミニウム箔の厚みは10μm以
    上150μm以下である、請求項1または2に記載の集
    電体用アルミニウム箔。
  4. 【請求項4】 前記アルミニウム箔は、アルミニウムを
    99.0重量%以上、鉄、銅およびシリコンのそれぞれ
    を0.5重量%以下含み、鉄、銅およびシリコンの合計
    の含有量は1.0重量%未満である、請求項1から3ま
    でのいずれかに記載の集電体用アルミニウム箔。
  5. 【請求項5】 前記アルミニウム箔の表面に膜耐電圧が
    0.5V以上2.0V以下の酸化膜が形成されている、
    請求項1から4までのいずれかに記載の集電体用アルミ
    ニウム箔。
  6. 【請求項6】 請求項1から5までのいずれかに記載の
    アルミニウム箔を備えた、集電体。
  7. 【請求項7】 請求項6に記載の集電体を備えた、二次
    電池。
  8. 【請求項8】 請求項6に記載の集電体を備えた、電気
    二重層コンデンサ。
  9. 【請求項9】 請求項1から5までのいずれかに記載の
    集電体用アルミニウム箔の製造方法であって、 水または不燃性有機溶媒を媒介としてアルミニウム箔の
    表面にアルミナ粒子を噴射することによってアルミニウ
    ム箔の表面を粗化することを特徴とする、集電体用アル
    ミニウム箔の製造方法。
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