[go: up one dir, main page]

JPH1115545A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

Info

Publication number
JPH1115545A
JPH1115545A JP17060297A JP17060297A JPH1115545A JP H1115545 A JPH1115545 A JP H1115545A JP 17060297 A JP17060297 A JP 17060297A JP 17060297 A JP17060297 A JP 17060297A JP H1115545 A JPH1115545 A JP H1115545A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
potential
reference voltage
effect transistor
voltage
channel field
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP17060297A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuki Tsujimura
和樹 辻村
Junji Nakatsuka
淳二 中塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP17060297A priority Critical patent/JPH1115545A/en
Publication of JPH1115545A publication Critical patent/JPH1115545A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Control Of Electrical Variables (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device low in power consumption, low in voltage level and reduced in the variation of reference voltage to the variation of power voltage. SOLUTION: In a reference voltage generation circuit, the gates are connected to each other between a p-channel FET 6 connected to an inverter and an n-channel FET 7. At the same time, the short circuits are secured between the gates and drains of both FET 6 and 7. The inverter and a constant current circuit 8 are placed in series between a high potential part 4 receiving the power voltage VDD and a ground part 5. The source voltage of the FET 7 is outputted via an output terminal 3 as the low potential reference voltage of an internal circuit. The potential difference between the voltage VDD, i.e., the high potential reference voltage of the internal circuit and the low potential reference voltage Vout is kept at the sum of thresholds of both FET 6 and 7 or higher. Thus, a potential difference is always secured for operations of both p-channel and n-channel FRTs which are contained in the internal circuit.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、内部回路内のトラ
ンジスタを作動させるための高電位側基準電圧あるいは
低電位側基準電圧を生成する基準電圧生成回路を備えた
半導体装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device having a reference voltage generating circuit for generating a high-potential-side reference voltage or a low-potential-side reference voltage for operating a transistor in an internal circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、半導体装置の内部回路に配設
されるトランジスタを駆動させるための低電位側基準電
圧を供給する基準電圧供給回路の一例として、nチャネ
ル電界効果トランジスタを用いたバイアス回路が知られ
ている。以下、従来の半導体装置に配設される基準電圧
生成回路の例について説明する。
2. Description of the Related Art Conventionally, a bias circuit using an n-channel field effect transistor has been used as an example of a reference voltage supply circuit for supplying a low-potential reference voltage for driving a transistor provided in an internal circuit of a semiconductor device. It has been known. Hereinafter, an example of a reference voltage generation circuit provided in a conventional semiconductor device will be described.

【0003】図8は、従来の半導体装置の基準電圧生成
回路として使用されるnチャネル電界効果トランジスタ
を用いたバイアス回路の構成を示す電気回路図である。
同図において、1はpチャネル電界効果トランジスタ、
2はnチャネル電界効果トランジスタ、3は基準電圧出
力端子、4は電源電圧VDDを供給するための高電位部、
5は接地電位VSSを供給するための接地部である。pチ
ャネル電界効果トランジスタ1のゲートは接地部5に、
ソースは高電位部4に、ドレインはnチャネル電界効果
トランジスタ2のドレインにそれぞれ接続されている。
また、nチャネル電界効果トランジスタ2のゲートはノ
ードN0 においてドレインに短絡されており、ソースは
接地部5に接続されている。さらに、pチャネル及びn
チャネル電界効果トランジスタ1,2のドレインは、ノ
ードN0 を介して基準電圧出力端子3に接続されてい
る。以上のように構成された半導体装置について、以
下、その動作を説明する。
FIG. 8 is an electric circuit diagram showing a configuration of a bias circuit using an n-channel field effect transistor used as a reference voltage generation circuit of a conventional semiconductor device.
In the figure, 1 is a p-channel field effect transistor,
2 is an n-channel field effect transistor, 3 is a reference voltage output terminal, 4 is a high potential portion for supplying a power supply voltage V DD ,
Reference numeral 5 denotes a ground unit for supplying the ground potential V SS . The gate of the p-channel field-effect transistor 1 is connected to the ground 5,
The source is connected to the high potential section 4 and the drain is connected to the drain of the n-channel field effect transistor 2.
The gate of the n-channel field effect transistor 2 is short-circuited to the drain at the node N0, and the source is connected to the ground portion 5. Further, the p-channel and n
The drains of the channel field effect transistors 1 and 2 are connected to a reference voltage output terminal 3 via a node N0. The operation of the semiconductor device configured as described above will be described below.

【0004】図8において、pチャネル電界効果トラン
ジスタ1は、そのゲートに接地部5から接地電位VSS
与えられることによって定電流回路として動作する。n
チャネル電界効果トランジスタ2は、そのゲートとドレ
インが短絡されているため抵抗体として機能する。すな
わち、pチャネル電界効果トランジスタ1から基準電流
が流れると、ノードN0 と接地部5との間に一定電圧が
発生し、基準電圧出力端子3から基準電圧Vout が出力
される。
In FIG. 8, a p-channel field effect transistor 1 operates as a constant current circuit when its gate is supplied with a ground potential V SS from a ground portion 5. n
The channel field effect transistor 2 functions as a resistor because its gate and drain are short-circuited. That is, when a reference current flows from p-channel field effect transistor 1, a constant voltage is generated between node N0 and ground portion 5, and reference voltage Vout is output from reference voltage output terminal 3.

【0005】そして、図8に示すバイアス回路から出力
される基準電圧Vout を内部回路のトランジスタを駆動
させるための低電圧側基準電圧とし、外部電源VDDを内
部回路の高電位側基準電圧とするように構成されてい
る。
A reference voltage Vout output from the bias circuit shown in FIG. 8 is used as a low-voltage reference voltage for driving a transistor of the internal circuit, and an external power supply VDD is used as a reference voltage between the high-potential reference voltage of the internal circuit and It is configured to be.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、携帯
を目的とした各種電気機器の小型化・電池化に伴い、携
帯用の各種電気機器に搭載される半導体装置は低消費電
力化・低電圧化が求められている。このような低電圧で
作動するトランジスタを配置した内部回路については、
誤動作を避けるために要求される動作用電圧の幅が極め
て狭いので、基準電圧として非常に高精度の電圧が必要
となる。
In recent years, with the miniaturization and battery use of various types of electric equipment intended for portable use, semiconductor devices mounted on various kinds of portable electric equipment have been reduced in power consumption and voltage. Is required. Regarding the internal circuit where transistors operating at such low voltage are arranged,
Since the width of the operating voltage required to avoid a malfunction is extremely narrow, a very accurate voltage is required as the reference voltage.

【0007】しかるに、上記従来のバイアス回路で構成
される基準電圧生成回路を低電圧作動型半導体装置に設
けた場合、以下のような問題があった。一般に、高電位
部4の電圧VDDが変動しても出力される基準電圧Vout
がなるべく変動しないように、pチャネル電界効果トラ
ンジスタ1は飽和領域で使用するように構成されている
が、電界効果トランジスタのチャネル長が短くなると、
電圧−電流特性において飽和領域で水平方向に対する特
性線の傾きが大きくなってくる。また、半導体装置の低
電圧化に伴い電圧VDDが低くなると非飽和領域に近づき
あるいは非飽和領域の一部を含むこともあり得る。その
結果、基準電圧高電位部4から供給される電源電圧VDD
に伴い電流iが変動すると、出力される基準電圧Vout
が変動してしまい、デジタル内部回路のトランジスタの
動作に必要な基準電圧を安定に供給することができなく
なる。
However, when the reference voltage generating circuit constituted by the above-mentioned conventional bias circuit is provided in a low-voltage operation type semiconductor device, there are the following problems. In general, a reference voltage V out that is output even if the voltage V DD of the high potential section 4 fluctuates.
Although the p-channel field-effect transistor 1 is configured to be used in a saturation region so as not to vary as much as possible, if the channel length of the field-effect transistor becomes short,
In the voltage-current characteristics, the inclination of the characteristic line with respect to the horizontal direction increases in the saturation region. In addition, when the voltage V DD decreases as the voltage of the semiconductor device decreases, the voltage may approach the unsaturated region or include a part of the unsaturated region. As a result, the power supply voltage V DD supplied from the reference voltage high potential section 4
When the current i fluctuates due to the above, the output reference voltage V out
Fluctuates, and it becomes impossible to stably supply a reference voltage required for the operation of the transistor in the digital internal circuit.

【0008】本発明は、上記点に鑑みてなされたもので
あり、その目的は、半導体装置の内部回路に基準電圧を
供給するための基準電圧生成回路において、広範囲に変
動する電源電圧に対して内部回路内のトランジスタの円
滑な動作に必要な高電位側基準電圧−低電位側基準電圧
間の電位差を確保できる基準電圧を安定して生成する手
段を講ずることにより、低消費電力かつ低電圧型の半導
体装置の提供を図ることにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a reference voltage generation circuit for supplying a reference voltage to an internal circuit of a semiconductor device, which is capable of responding to a power supply voltage that varies over a wide range. By taking measures to stably generate a reference voltage that can secure a potential difference between the high-potential-side reference voltage and the low-potential-side reference voltage necessary for smooth operation of the transistors in the internal circuit, low power consumption and low voltage The purpose of the present invention is to provide a semiconductor device.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明が講じた手段は、基準電圧を生成するための
インバータを利用して、pチャネル電界効果トランジス
タとnチャネル電界効果トランジスタの双方のしきい値
をプラスしただけの電位差を、内部回路の高電位側基準
電圧と低電位側基準電圧との間に確保する構成とするこ
とにある。
In order to achieve the above-mentioned object, the means taken by the present invention employs an inverter for generating a reference voltage, and uses a p-channel field effect transistor and an n-channel field effect transistor. The present invention is configured to ensure a potential difference obtained by adding both threshold values between the high-potential-side reference voltage and the low-potential-side reference voltage of the internal circuit.

【0010】具体的には、請求項1〜10に記載されて
いる基準電圧生成回路を備えた半導体装置に関する手段
を講じている。
Specifically, means for a semiconductor device having the reference voltage generating circuit according to the first to tenth aspects is taken.

【0011】本発明の第1の半導体装置は、請求項1に
記載されているように、電源電圧を受ける高電位部と、
接地に接続される接地部と、上記高電位部−接地部間に
介設され複数のトランジスタを配設してなる内部回路
と、該内部回路の低電位側基準電圧を生成する基準電圧
生成回路とを備えた半導体装置であって、上記基準電圧
生成回路は、インバータを構成するように接続され、互
いのゲート同士が接続され、かつゲート−ドレイン間が
短絡されてなるpチャネル電界効果トランジスタ及びn
チャネル電界効果トランジスタと、上記nチャネル電界
効果トランジスタのソースと上記接地部との間に介設さ
れ上記pチャネル電界効果トランジスタ及びnチャネル
電界効果トランジスタに定電流を流すための定電流回路
とを備えている。そして、上記nチャネル電界効果トラ
ンジスタのソースからの出力電圧を上記内部回路の低電
位側基準電圧に用いる一方、上記高電位部の電圧を上記
内部回路の高電位側基準電圧に用いるように構成されて
いる。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a first semiconductor device, comprising: a high potential portion receiving a power supply voltage;
A ground portion connected to the ground, an internal circuit provided between the high-potential portion and the ground portion and including a plurality of transistors, and a reference voltage generating circuit for generating a low-potential-side reference voltage of the internal circuit Wherein the reference voltage generation circuit is connected to form an inverter, the gates are connected to each other, and the gate-drain is short-circuited, and n
A channel field-effect transistor, and a constant current circuit interposed between the source of the n-channel field-effect transistor and the ground for flowing a constant current to the p-channel and n-channel field-effect transistors. ing. The output voltage from the source of the n-channel field-effect transistor is used as a low-potential-side reference voltage of the internal circuit, while the voltage of the high-potential portion is used as a high-potential-side reference voltage of the internal circuit. ing.

【0012】これにより、高電位部から供給される電源
電圧が変動しても、内部回路の高電位側基準電圧となる
高電位部の電圧と、低電位側基準電圧であるpチャネル
電界効果トランジスタの電圧との間の電位差は、pチャ
ネル及びnチャネル電界効果トランジスタの双方のしき
い値電圧を加えた値以上に常に確保される。したがっ
て、高電位部の電圧を高電位側基準電圧として動作する
内部回路のpチャネル及びnチャネル電界効果トランジ
スタを動作させるのに最低限必要な低電位側基準電圧を
安定して得ることができる。
Thus, even if the power supply voltage supplied from the high-potential portion fluctuates, the voltage of the high-potential portion serving as the high-potential-side reference voltage of the internal circuit and the p-channel field-effect transistor serving as the low-potential-side reference voltage Is always ensured to be equal to or greater than the sum of the threshold voltages of both the p-channel and n-channel field effect transistors. Therefore, it is possible to stably obtain a low-potential-side reference voltage that is minimum necessary for operating the p-channel and n-channel field-effect transistors of the internal circuit that operates using the voltage of the high-potential portion as the high-potential-side reference voltage.

【0013】本発明の第2の半導体装置は、請求項2に
記載されているように、電源電圧を受ける高電位部と、
接地に接続される接地部と、上記高電位部−接地部間に
介設され複数のトランジスタを配設してなる内部回路
と、該内部回路の高電位側基準電圧を生成するための基
準電圧生成回路とを備えた半導体装置であって、上記基
準電圧生成回路は、インバータを構成するように接続さ
れ、互いのゲート同士が接続され、かつゲート−ドレイ
ン間が短絡されてなるpチャネル電界効果トランジスタ
及びnチャネル電界効果トランジスタと、上記pチャネ
ル電界効果トランジスタのソースと上記高電位部との間
に介設され上記pチャネル電界効果トランジスタ及びn
チャネル電界効果トランジスタに定電流を流すための定
電流回路とを備えている。そして、上記pチャネル電界
効果トランジスタのソースからの出力電圧を上記内部回
路の高電位側基準電圧に用いる一方、上記接地部の電圧
を上記内部回路の低電位側基準電圧に用いるように構成
されている。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a second semiconductor device, comprising: a high potential portion receiving a power supply voltage;
A ground portion connected to the ground, an internal circuit provided between the high potential portion and the ground portion and including a plurality of transistors, and a reference voltage for generating a high potential side reference voltage of the internal circuit. A reference voltage generation circuit, wherein the reference voltage generation circuit is connected to form an inverter, the gates are connected to each other, and the gate-drain is short-circuited. A transistor and an n-channel field-effect transistor, and the p-channel field-effect transistor and n interposed between a source of the p-channel field-effect transistor and the high potential portion.
A constant current circuit for supplying a constant current to the channel field effect transistor. The output voltage from the source of the p-channel field-effect transistor is used as a high-potential-side reference voltage of the internal circuit, while the voltage of the ground portion is used as a low-potential-side reference voltage of the internal circuit. I have.

【0014】これにより、高電位部から供給される電源
電圧が変動しても、内部回路の高電位側基準電圧となる
pチャネル電界効果トランジスタの電圧と低電位側基準
電圧である接地部の電圧との間の電位差は、pチャネル
及びnチャネル電界効果トランジスタの双方のしきい値
電圧を加えた値以上に確保される。したがって、接地部
の電圧を低電位側基準電圧として動作する内部回路のp
チャネル及びnチャネル電界効果トランジスタを動作さ
せるのに最低限必要な高電位側基準電圧を安定して得る
ことができる。
Thus, even if the power supply voltage supplied from the high-potential portion fluctuates, the voltage of the p-channel field-effect transistor serving as the high-potential-side reference voltage of the internal circuit and the voltage of the ground portion serving as the low-potential-side reference voltage Is ensured to be equal to or greater than the sum of the threshold voltages of both the p-channel and n-channel field effect transistors. Therefore, p of the internal circuit operating as the low-potential-side reference voltage using the voltage of the grounding portion
It is possible to stably obtain the minimum reference voltage required for operating the channel and n-channel field-effect transistors.

【0015】請求項3に記載されているように、請求項
1又は2において、上記定電流回路を、カレントミラー
回路と、上記カレントミラー回路に基準電流を与えるた
めの電界効果トランジスタとにより構成することができ
る。
According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect, the constant current circuit comprises a current mirror circuit and a field effect transistor for supplying a reference current to the current mirror circuit. be able to.

【0016】請求項4に記載されているように、請求項
3において、上記定電流回路に、上記電界効果トランジ
スタのゲート電圧を制御するためのバンドギャップ回路
をさらに設けることが好ましい。
As described in claim 4, in claim 3, it is preferable that the constant current circuit further includes a band gap circuit for controlling a gate voltage of the field effect transistor.

【0017】これにより、定電流回路において、バンド
ギャップ回路の出力電圧を電源電圧の変動によらず一定
電圧とすることが可能であるので、電界効果トランジス
タで形成される基準電流も一定となり、定電流回路の電
流がより安定して一定となる。したがって、基準電圧生
成回路で生成される内部回路の高電位側基準電圧又は低
電位側基準電圧を広範囲な電源電圧に対してより確実に
安定化させることができる。
Thus, in the constant current circuit, the output voltage of the bandgap circuit can be kept constant regardless of the fluctuation of the power supply voltage, so that the reference current formed by the field effect transistor is also constant, The current of the current circuit becomes more stable and constant. Therefore, the high-potential-side reference voltage or the low-potential-side reference voltage of the internal circuit generated by the reference voltage generation circuit can be more reliably stabilized with respect to a wide range of power supply voltages.

【0018】請求項5に記載されているように、請求項
1において、上記nチャネル電界効果トランジスタのソ
ースと上記内部回路との間に介設され、上記nチャネル
電界効果トランジスタのソースからの出力電圧を低イン
ピーダンスに変換するための電圧フォロワ回路をさらに
備えることが好ましい。
According to a fifth aspect of the present invention, in the first aspect, an output from the source of the n-channel field-effect transistor is provided between the source of the n-channel field-effect transistor and the internal circuit. It is preferable to further include a voltage follower circuit for converting a voltage to a low impedance.

【0019】これにより、請求項1の作用に加え、内部
回路の多くのトランジスタの動作に必要な電流供給能力
を基準電圧発生回路にもたせることができる。
Thus, in addition to the function of the first aspect, the reference voltage generating circuit can have the current supply capability required for the operation of many transistors in the internal circuit.

【0020】請求項6に記載されているように、請求項
1において、上記nチャネル電界効果トランジスタのソ
ースと上記内部回路との間に介設され、上記nチャネル
電界効果トランジスタのソースからの出力電圧を分圧す
るための非反転増幅器をさらに備えることができる。
According to a sixth aspect of the present invention, in the first aspect, an output from the source of the n-channel field-effect transistor is provided between the source of the n-channel field-effect transistor and the internal circuit. A non-inverting amplifier for dividing the voltage may be further provided.

【0021】これにより、基準電圧生成回路に多数のト
ランジスタを駆動させるのに必要な電流供給能力を持た
せるとともに、分圧比の調整によって電源電圧の変動に
対する内部回路の高電位側基準電圧−低電位側基準電圧
間の電位差の変動幅を所望の値に設定しておくことが可
能になる。たとえば、分圧比を適宜設定することで、高
電位部の電源電圧の変動に対して、内部回路の高電位側
基準電圧である電源電圧と低電位側基準電圧である非反
転増幅器の出力電圧との間の電位差の変動幅を抑制する
ことが可能になる。また、分圧比の設定によっては、電
源電圧が高電位側に変動したときには上記電位差が小さ
くなって消費電流量が少なくなり、電源電圧が低電位側
に変動したときには上記電位差が大きくなって内部回路
のトランジスタの動作速度の低下が抑制されるように制
御することも可能になる。
Thus, the reference voltage generating circuit is provided with a current supply capability necessary to drive a large number of transistors, and by adjusting the voltage dividing ratio, the high potential side reference voltage of the internal circuit and the low potential It is possible to set the fluctuation range of the potential difference between the side reference voltages to a desired value. For example, by appropriately setting the voltage division ratio, the fluctuation of the power supply voltage in the high-potential portion allows the power supply voltage, which is the high-potential-side reference voltage of the internal circuit, and the output voltage of the non-inverting amplifier, which is the low-potential-side reference voltage, to change. Between the potential differences can be suppressed. Further, depending on the setting of the voltage dividing ratio, when the power supply voltage fluctuates to the high potential side, the potential difference becomes small and the amount of current consumption decreases, and when the power supply voltage fluctuates to the low potential side, the potential difference becomes large and the internal circuit becomes large. It is also possible to perform control such that a decrease in the operation speed of the transistor is suppressed.

【0022】本発明の第3の半導体装置は、請求項7に
記載されているように、電源電圧を受ける高電位部と、
接地に接続される接地部と、上記高電位部−接地部間に
介設され複数のトランジスタを配設してなる内部回路
と、該内部回路の高電位側基準電圧を生成するための基
準電圧生成回路とを備えた半導体装置であって、上記基
準電圧生成回路は、インバータを構成するように接続さ
れ、互いのゲート同士が接続され、かつゲート−ドレイ
ン間が短絡されてなるpチャネル電界効果トランジスタ
及びnチャネル電界効果トランジスタと、上記nチャネ
ル電界効果トランジスタのソースと上記接地部との間に
介設され上記pチャネル電界効果トランジスタ及びnチ
ャネル電界効果トランジスタに定電流を流すための定電
流回路と、上記nチャネル電界効果トランジスタのソー
スと上記内部回路との間に介設され、上記nチャネル電
界効果トランジスタのソースからの出力電圧を分圧する
ための反転増幅器とを備えている。そして、上記反転増
幅器の出力電圧を上記内部回路の高電位側基準電圧に用
いる一方、上記接地部の電圧を上記内部回路の低電位側
基準電圧に用いるように構成されている。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device comprising: a high potential portion receiving a power supply voltage;
A ground portion connected to the ground, an internal circuit provided between the high potential portion and the ground portion and including a plurality of transistors, and a reference voltage for generating a high potential side reference voltage of the internal circuit. A reference voltage generation circuit, wherein the reference voltage generation circuit is connected to form an inverter, the gates are connected to each other, and the gate-drain is short-circuited. A transistor and an n-channel field-effect transistor, and a constant-current circuit interposed between the source of the n-channel field-effect transistor and the ground for flowing a constant current to the p-channel and n-channel field-effect transistors And the n-channel field-effect transistor interposed between the source of the n-channel field-effect transistor and the internal circuit. And an inverting amplifier for dividing the output voltage from the source. The output voltage of the inverting amplifier is used as a high-potential-side reference voltage of the internal circuit, and the voltage of the ground portion is used as a low-potential-side reference voltage of the internal circuit.

【0023】これにより、非反転増幅器の出力電圧を内
部回路の高電位側基準電圧として用いるものについて、
請求項7と同じ作用が得られる。
With this arrangement, the output voltage of the non-inverting amplifier is used as the high-potential-side reference voltage of the internal circuit.
The same function as the seventh aspect is obtained.

【0024】請求項8に記載されているように、請求項
2において、上記pチャネル電界効果トランジスタのソ
ースと上記内部回路との間に介設され、上記pチャネル
電界効果トランジスタのソースからの出力電圧を低イン
ピーダンスに変換するための電圧フォロワ回路をさらに
備えることができる。
According to the present invention, the output from the source of the p-channel field-effect transistor is provided between the source of the p-channel field-effect transistor and the internal circuit. A voltage follower circuit for converting a voltage to a low impedance can be further provided.

【0025】これにより、請求項2の作用に加え、内部
回路のトランジスタの動作に必要な電流供給能力を基準
電圧発生回路にもたせることができる。
Thus, in addition to the function of the second aspect, the reference voltage generating circuit can have the current supply capability necessary for the operation of the transistor in the internal circuit.

【0026】請求項9に記載されているように、請求項
2において、上記pチャネル電界効果トランジスタのソ
ースと上記内部回路との間に介設され、上記pチャネル
電界効果トランジスタのソースからの出力電圧を分圧す
るための非反転増幅器をさらに備えることができる。
According to a ninth aspect, in the second aspect, the output from the source of the p-channel field-effect transistor is provided between the source of the p-channel field-effect transistor and the internal circuit. A non-inverting amplifier for dividing the voltage may be further provided.

【0027】これにより、基準電圧生成回路に多数のト
ランジスタを駆動させるのに必要な電流供給能力を持た
せるとともに、分圧比の調整によって電源電圧の変動に
対する内部回路の高電位側基準電圧−低電位側基準電圧
間の電位差の変動幅を所望の値に設定しておくことが可
能になる。たとえば、分圧比を適宜設定することで、高
電位部の電源電圧の変動に対して、内部回路の高電位側
基準電圧である非反転増幅器の出力電圧と低電位側基準
電圧である接地部の電圧との間の電位差の変動幅を抑制
することが可能になる。また、分圧比の設定によって
は、電源電圧が高電位側に変動したときには上記電位差
が小さくなって消費電流量が少なくなり、電源電圧が低
電位側に変動したときには上記電位差が大きくなって内
部回路のトランジスタの動作速度の低下が抑制されるよ
うに制御することも可能になる。
This allows the reference voltage generation circuit to have a current supply capability necessary to drive a large number of transistors, and adjusts the voltage division ratio to control the high-potential-side reference voltage-low potential of the internal circuit against fluctuations in the power supply voltage. It is possible to set the fluctuation range of the potential difference between the side reference voltages to a desired value. For example, by appropriately setting the voltage dividing ratio, the output voltage of the non-inverting amplifier, which is the high-potential-side reference voltage of the internal circuit, and the grounding portion, which is the low-potential-side reference voltage, can be changed with respect to fluctuations in the power supply voltage of the high-potential portion. It is possible to suppress the fluctuation width of the potential difference between the voltage and the voltage. Further, depending on the setting of the voltage dividing ratio, when the power supply voltage fluctuates to the high potential side, the potential difference becomes small and the amount of current consumption decreases, and when the power supply voltage fluctuates to the low potential side, the potential difference becomes large and the internal circuit becomes large. It is also possible to perform control such that a decrease in the operation speed of the transistor is suppressed.

【0028】本発明の第4の半導体装置は、請求項10
に記載されているように、電源電圧を受ける高電位部
と、接地に接続される接地部と、上記高電位部−接地部
間に介設され複数のトランジスタを配設してなる内部回
路と、該内部回路の低電位側基準電圧を生成するための
基準電圧生成回路とを備えた半導体装置であって、上記
基準電圧生成回路は、インバータを構成するように接続
され、互いのゲート同士が接続され、かつゲート−ドレ
イン間が短絡されてなるpチャネル電界効果トランジス
タ及びnチャネル電界効果トランジスタと、上記pチャ
ネル電界効果トランジスタのソースと上記接地部との間
に介設され上記pチャネル電界効果トランジスタ及びn
チャネル電界効果トランジスタに定電流を流すための定
電流回路と、上記pチャネル電界効果トランジスタのソ
ースと上記内部回路との間に介設され、上記pチャネル
電界効果トランジスタのソースからの出力電圧を分圧す
るための反転増幅器とを備えている。そして、上記反転
増幅器の出力電圧を上記内部回路の低電位側基準電圧に
用いる一方、上記高電位部の電圧を上記内部回路の高電
位側基準電圧に用いるように構成されている。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device comprising:
And a high-potential portion receiving a power supply voltage, a ground portion connected to the ground, and an internal circuit including a plurality of transistors disposed between the high-potential portion and the ground portion. A reference voltage generation circuit for generating a low-potential-side reference voltage of the internal circuit, wherein the reference voltage generation circuit is connected so as to constitute an inverter, and the gates of each other are connected to each other. A p-channel field-effect transistor and an n-channel field-effect transistor connected to each other and having a gate and a drain short-circuited; and the p-channel field-effect transistor interposed between a source of the p-channel field-effect transistor and the ground. Transistor and n
A constant current circuit for supplying a constant current to the channel field effect transistor; and a constant current circuit interposed between the source of the p channel field effect transistor and the internal circuit, for dividing an output voltage from the source of the p channel field effect transistor. And an inverting amplifier for compression. The output voltage of the inverting amplifier is used as a low-potential-side reference voltage of the internal circuit, while the voltage of the high-potential portion is used as a high-potential-side reference voltage of the internal circuit.

【0029】これにより、反転増幅器の出力電圧を内部
回路の低電位側基準電圧として用いるものにおいて、上
記請求項9と同じ作用が得られる。
Thus, the same operation as in the ninth aspect can be obtained in the case where the output voltage of the inverting amplifier is used as the low potential side reference voltage of the internal circuit.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】以下、本発明の第1の実施形態に
ついて、図面を参照しながら説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0031】(第1の実施形態)まず、第1の実施形態
について説明する。
(First Embodiment) First, a first embodiment will be described.

【0032】図1は、本発明の第1の実施形態における
半導体装置に配設される基準電圧生成回路の構成を示す
電気回路図である。同図において、6は第1のpチャネ
ル電界効果トランジスタ、7は第1のnチャネル電界効
果トランジスタ、8は定電流回路、9は電源リップル等
を除去する等のためのコンデンサをそれぞれ示す。な
お、3は基準電圧出力端子、4は高電位部、5は接地部
を示しこれらの部材は上述の従来例に係る基準電圧供給
回路の構成と同様である。第1のpチャネル電界効果ト
ランジスタ6と第1のnチャネル電界効果トランジスタ
7はインバータ接続され、かつ互いのドレイン同士とゲ
ート同士がそれぞれノードN1 及びN2 において接続さ
れ、さらに各ノードN1 −N2 間が短絡されている。つ
まり、インバータの入力と出力が短絡された形になって
おり、さらに定電流回路8によって一定電流しか流れな
いような構成となっている。
FIG. 1 is an electric circuit diagram showing a configuration of a reference voltage generation circuit provided in a semiconductor device according to the first embodiment of the present invention. In the figure, reference numeral 6 denotes a first p-channel field-effect transistor, 7 denotes a first n-channel field-effect transistor, 8 denotes a constant current circuit, and 9 denotes a capacitor for removing a power supply ripple and the like. Reference numeral 3 denotes a reference voltage output terminal, 4 denotes a high potential portion, and 5 denotes a ground portion. These members are the same as those in the configuration of the above-described reference voltage supply circuit according to the conventional example. The first p-channel field-effect transistor 6 and the first n-channel field-effect transistor 7 are connected by an inverter, and their drains and gates are connected at nodes N1 and N2, respectively. Short-circuited. That is, the input and output of the inverter are short-circuited, and the constant current circuit 8 allows only a constant current to flow.

【0033】以上のように構成された本実施形態の半導
体装置について、以下その動作を説明する。
The operation of the semiconductor device of the present embodiment configured as described above will be described below.

【0034】インバータを構成するように接続されかつ
両者のゲート−ドレイン間が短絡された第1のpチャネ
ル電界効果トランジスタ6と第1のnチャネル電界効果
トランジスタ7とには、定電流回路8によって一定電流
iが流されると、下記式(1)で表されるゲート−ソー
ス間電圧VGSGS=√{IDS・(2/β)・(L/W)}+Vth (1) が発生する。ただし、Vthはしきい値電圧、IDSはドレ
イン−ソース間電流(=i)、β/2は電流移動度、L
はチャネル長、Wはチャネル幅をそれぞれ示す。また、
上記式(1)は、ドレイン−ソース間の飽和電流ID
算出するための下記式(2) ID =(β/2)・(W/L)・(VGS−Vth2 (2) をゲート−ソース間電圧VGSについて変形した式であ
る。ただし、上記各式において、ゲート絶縁膜容量Cox
は一定として無視している。
The first p-channel field-effect transistor 6 and the first n-channel field-effect transistor 7, which are connected so as to form an inverter and whose gate and drain are short-circuited, are connected by a constant current circuit 8. When a constant current i flows, a gate-source voltage V GS V GS = {I DS · (2 / β) · (L / W)} + V th (1) expressed by the following equation (1) is obtained. Occur. Where V th is the threshold voltage, I DS is the drain-source current (= i), β / 2 is the current mobility, L
Represents a channel length, and W represents a channel width. Also,
The above equation (1) is calculated by the following equation (2) for calculating the drain-source saturation current ID: ID = (β / 2) · (W / L) · (V GS −V th ) 2 ( 2) is an equation obtained by modifying the equation with respect to the gate-source voltage V GS . However, in each of the above equations, the gate insulating film capacitance Cox
Is ignored as a constant.

【0035】すなわち、定電流回路8に一定電流iが流
れると、インバータのゲート−ソース間電圧VGSとし
て、トランジスタサイズに応じ、しきい値電圧Vthに一
定電圧α(αは上記式(1)の右辺の第1項の成分)を
プラスした電圧が発生する。従って、高電位部4と第1
のnチャネル電界効果トランジスタ7のソース側のノー
ドN3 との間には、第1のpチャネル及びnチャネル電
界効果トランジスタ6,7両方の(しきい値電圧Vth
α)を加算した電位差が発生する。したがって、ノード
N3 にノードN4 を介して接続される基準電圧出力端子
3からは、高電位部4の電位に対して各トランジスタ
6,7両方の(しきい値電圧Vth+α)を加算した値だ
け低い一定の電圧Vout が出力される。そして、この出
力電圧Voutを内部回路の低電位側基準電圧として用
い、高電位部4の電圧VDDを内部回路の高電位側基準電
位として用いるように構成されている。
[0035] That is, when a constant current flows i to the constant current circuit 8, an inverter gate - as source voltage V GS, depending on the transistor size, a constant voltage to the threshold voltage V th alpha (alpha is the formula (1 ) Is generated by adding the component (1) on the right side of (1). Therefore, the high potential portion 4 and the first
Of the first p-channel and n-channel field-effect transistors 6 and 7 (threshold voltage V th +
α) is added to generate a potential difference. Therefore, from the reference voltage output terminal 3 connected to the node N3 via the node N4, the value obtained by adding the (threshold voltage V th + α) of both the transistors 6 and 7 to the potential of the high potential portion 4 Thus, a constant voltage V out which is lower by only the same is output. The output voltage Vout is used as a low-potential-side reference voltage of the internal circuit, and the voltage VDD of the high-potential section 4 is used as a high-potential-side reference potential of the internal circuit.

【0036】以上のように、本実施形態によれば、イン
バータを構成するように接続されかつゲートとドレイン
を短絡された第1のpチャネル及びnチャネル電界効果
トランジスタ6,7に基準電流iを流し、第1のpチャ
ネル電界効果トランジスタ6のソースを高電位部4に接
続し、第1のpチャネル及びnチャネル電界効果トラン
ジスタ6,7のゲート−ソース間電圧VGSを加算した電
圧Vout を出力し、この出力電圧Vout を内部回路の低
電位側基準電圧として用い、高電位部4の電圧VDDを高
電位側基準電圧として用いる場合、高電位部4から供給
される電源電圧VDDが変動しても、電源電圧VDDと低電
位側基準電圧となる出力電圧Vout との電位差は、各ト
ランジスタ6,7の(しきい値電圧+α)分だけ常に確
保される。このようにpチャネル電界効果トランジスタ
6及びnチャネル電界効果トランジスタ7両方のしきい
値電圧が考慮されているので、内部回路の高電位側基準
電圧と低電位側基準電圧との電位差が内部回路内のpチ
ャネル及びnチャネル電界効果トランジスタを動作させ
るのに必要な電圧が常に確保される。したがって、高電
位部4の電源電圧VDDを高電位側基準電圧として動作す
るCMOS構成のデジタル内部回路のpチャネル及びn
チャネル電界効果トランジスタを動作させるのに最低限
必要な低電位側基準電圧を安定に得ることができる。
As described above, according to the present embodiment, the reference current i is supplied to the first p-channel and n-channel field-effect transistors 6 and 7 which are connected to form an inverter and whose gate and drain are short-circuited. And the source of the first p-channel field-effect transistor 6 is connected to the high potential section 4, and the voltage V out obtained by adding the gate-source voltage V GS of the first p-channel and n-channel field-effect transistors 6 and 7. When the output voltage V out is used as the low-potential-side reference voltage of the internal circuit and the voltage V DD of the high-potential section 4 is used as the high-potential-side reference voltage, the power supply voltage V supplied from the high-potential section 4 Even if DD fluctuates, the potential difference between the power supply voltage V DD and the output voltage Vout serving as the low-potential-side reference voltage is always ensured by (threshold voltage + α) of the transistors 6 and 7. Since the threshold voltages of both the p-channel field-effect transistor 6 and the n-channel field-effect transistor 7 are taken into account, the potential difference between the high-potential-side reference voltage and the low-potential-side reference voltage of the internal circuit is reduced. Voltage required to operate the p-channel and n-channel field-effect transistors of the present invention is always secured. Therefore, the p channel and n of the CMOS internal digital circuit operating with the power supply voltage V DD of the high potential section 4 as the high potential side reference voltage.
It is possible to stably obtain a low-potential-side reference voltage required at least for operating the channel field-effect transistor.

【0037】また、内部回路の動作電圧を高電位部4の
電源電圧より低くすることが可能なため消費電流も低減
することができる。
Further, since the operating voltage of the internal circuit can be made lower than the power supply voltage of the high potential section 4, the current consumption can be reduced.

【0038】さらに、定電流回路8を半導体装置の内部
に備えることにより、内部回路を動作させるための基準
電圧を外部から供給する必要がなく、電源電圧VDDが上
記式(1)に示す第1のpチャネル及びnチャネル電界
効果トランジスタ6,7のゲート−ソース間電圧VGS
加算した電圧になるまでの広範囲な電源電圧に対して安
定した基準電圧を得ることができる。
Further, since the constant current circuit 8 is provided inside the semiconductor device, it is not necessary to supply a reference voltage for operating the internal circuit from the outside, and the power supply voltage V DD can be reduced by the value shown in the above equation (1). it is possible to obtain a stable reference voltage for a wide range of power supply voltage until the summed voltage of the source voltage V GS - 1 of p-channel and gate of n-channel field effect transistors 6 and 7.

【0039】なお、式(1)に示すように、トランジス
タサイズの設定の仕方によって、ゲートソース間電圧を
ほぼしきい値と同等まで設定することが可能である。
As shown in equation (1), it is possible to set the gate-source voltage almost equal to the threshold value by setting the transistor size.

【0040】(第2の実施形態)次に、第2の実施形態
について、図2を参照しながら説明する。
(Second Embodiment) Next, a second embodiment will be described with reference to FIG.

【0041】図2は、第2の実施形態における半導体装
置に備えられる基準電圧生成回路の構成を示す電気回路
図である。同図に示すように、本実施形態における基本
的な回路要素は図1に示す第1の実施形態における基準
電圧生成回路の構成要素と同様である。ただし、本実施
形態では、第1のnチャネル電界効果トランジスタ7の
ソースを接地部5に接続し、第1のpチャネル電界効果
トランジスタ6のソースと高電位部4の間に定電流回路
8を介設し、第1のpチャネル電界効果トランジスタ6
のソースにつながるノードN3 をノードN4 を介して基
準電圧出力端子3に接続している点が、上記第1の実施
形態の構成と異なっている。
FIG. 2 is an electric circuit diagram showing a configuration of a reference voltage generation circuit provided in a semiconductor device according to the second embodiment. As shown in the figure, basic circuit elements in the present embodiment are the same as those of the reference voltage generation circuit in the first embodiment shown in FIG. However, in the present embodiment, the source of the first n-channel field-effect transistor 7 is connected to the ground 5, and the constant current circuit 8 is connected between the source of the first p-channel field-effect transistor 6 and the high potential section 4. The first p-channel field effect transistor 6
Is different from the first embodiment in that the node N3 connected to the source of the first embodiment is connected to the reference voltage output terminal 3 via the node N4.

【0042】以上のように構成された本実施形態の基準
電圧生成回路の動作について、以下に説明する。
The operation of the reference voltage generation circuit according to the present embodiment having the above configuration will be described below.

【0043】本実施形態におけるインバータの基本的な
動作は上記第1の実施形態と同様であるが、本実施形態
では、インバータによって確保される電位差の基準点は
高電位部4ではなく接地部5である。したがって、ノー
ドN3 に接続される基準電圧出力端子3からは、接地電
位VSSに第1のpチャネル及びnチャネル電界効果トラ
ンジスタ6,7両方の(しきい値電圧+α)を加算した
電圧Vout が出力される。そして、この出力電圧Vout
を内部回路の高電位側基準電圧として用い、接地部5の
接地電位VSSを内部回路の低電位側基準電圧として用い
るように構成されている。
The basic operation of the inverter in this embodiment is the same as that of the first embodiment. However, in this embodiment, the reference point of the potential difference secured by the inverter is not the high potential section 4 but the ground section 5. It is. Therefore, from the reference voltage output terminal 3 connected to the node N3, a voltage V out obtained by adding (threshold voltage + α) of both the first p-channel and n-channel field effect transistors 6 and 7 to the ground potential V SS . Is output. And this output voltage V out
Are used as the high-potential-side reference voltage of the internal circuit, and the ground potential V SS of the ground unit 5 is used as the low-potential-side reference voltage of the internal circuit.

【0044】以上のように、本実施形態によれば、内部
回路において、接地電位VSSを低電位側基準電圧として
用い、基準電圧生成回路からの出力電圧Vout を高電位
側基準電圧として用いるものにおいて、第1の実施形態
と同様の効果を得ることができ、電源電圧の変動に対し
て、CMOS構成のデジタル内部回路のpチャネル及び
nチャネル電界効果トランジスタを動作させるのに最低
限必要な高電位側基準電圧を安定に得ることができる。
As described above, according to the present embodiment, in the internal circuit, the ground potential V SS is used as the low potential side reference voltage, and the output voltage Vout from the reference voltage generation circuit is used as the high potential side reference voltage. In this case, the same effect as that of the first embodiment can be obtained, and the minimum required for operating the p-channel and n-channel field effect transistors of the digital internal circuit having the CMOS structure with respect to the fluctuation of the power supply voltage can be obtained. The potential-side reference voltage can be stably obtained.

【0045】(第3の実施形態)次に、第3の実施形態
について、図3を参照しながら説明する。
Third Embodiment Next, a third embodiment will be described with reference to FIG.

【0046】図3は、第3の実施形態における半導体装
置に配設される基準電圧生成回路の構成を示す電気回路
図である。本実施形態における基準電圧生成回路は、上
記第1の実施形態における定電流回路8の構成の例を具
体的に示すものである。同図において、10,11はカ
レントミラー構成された第2,第3のnチャネル電界効
果トランジスタ、12は基準電流iを形成するための第
2のpチャネル電界効果トランジスタをそれぞれ示す。
上記第2,第3のnチャネル電界効果トランジスタ1
0,11及び第2のpチャネル電界効果トランジスタ1
2により、定電流回路8が構成されている。その他の回
路要素は図1に示す第1の実施形態における基準電圧生
成回路の要素と同様である。
FIG. 3 is an electric circuit diagram showing a configuration of a reference voltage generation circuit provided in a semiconductor device according to the third embodiment. The reference voltage generation circuit in the present embodiment specifically shows an example of the configuration of the constant current circuit 8 in the first embodiment. In the figure, reference numerals 10 and 11 denote second and third n-channel field-effect transistors in a current mirror configuration, and reference numeral 12 denotes a second p-channel field-effect transistor for forming a reference current i.
The second and third n-channel field effect transistors 1
0, 11 and second p-channel field effect transistor 1
2 constitutes a constant current circuit 8. Other circuit elements are the same as those of the reference voltage generation circuit in the first embodiment shown in FIG.

【0047】以上のように構成された本実施形態の基準
電圧生成回路の動作について、以下に説明する。
The operation of the reference voltage generation circuit according to the present embodiment configured as described above will be described below.

【0048】第2のpチャネル電界効果トランジスタ1
2のゲートは接地部5に接続されて接地電位VSSとな
り、第2のpチャネル電界効果トランジスタ12に基準
電流iが流れる。また、第3のnチャネル電界効果トラ
ンジスタ11のゲート−ドレイン間が短絡されており、
この第3のnチャネル電界効果トランジスタ11に対し
てカレントミラー構成にされた第2のnチャネル電界効
果トランジスタ10が設けられている。そして、上記基
準電流iは第3のnチャネル電界効果トランジスタ11
に供給され、第1のpチャネル及びnチャネル電界効果
トランジスタ6,7に供給する基準電流iが形成され
る。基準電流iが形成されたあとの動作については、上
記第1の実施形態と同様である。
Second p-channel field effect transistor 1
The gate of the second p-channel field-effect transistor 2 is connected to the ground portion 5 to be at the ground potential V SS , and the reference current i flows through the second p-channel field-effect transistor 12. Further, the gate and drain of the third n-channel field effect transistor 11 are short-circuited,
A second n-channel field-effect transistor 10 having a current mirror configuration is provided for the third n-channel field-effect transistor 11. The reference current i is supplied to the third n-channel field effect transistor 11.
And a reference current i to be supplied to the first p-channel and n-channel field effect transistors 6 and 7 is formed. The operation after the formation of the reference current i is the same as in the first embodiment.

【0049】以上のように、本実施形態によれば、高電
位部4を基準として第1の実施形態と同様の効果を得る
ことができ、高電位部4を基準として動作するCMOS
構成のデジタル内部回路の動作電源として最低限必要な
基準電圧を安定に得ることがでる。
As described above, according to the present embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained based on the high potential section 4 and the CMOS operating based on the high potential section 4
It is possible to stably obtain the minimum reference voltage required as an operation power supply for the digital internal circuit having the configuration.

【0050】また、電源電圧VDDが変動した場合、第2
のpチャネル電界効果トランジスタ12で形成される基
準電流iが変動するが、上述の第1の実施形態の構成を
有するインバータを構成する2つのトランジスタ6,7
のゲート−ソース間電圧を加算した電圧が内部回路の高
電位側基準電圧と低電位側基準電圧の電位差として確保
されているので、CMOS構成のデジタル内部回路のp
チャネル及びnチャネル電界効果トランジスタを正確に
動作させるための基準電圧を安定に得ることができる。
When the power supply voltage V DD fluctuates, the second
The reference current i formed by the p-channel field-effect transistor 12 fluctuates, but the two transistors 6 and 7 forming the inverter having the configuration of the first embodiment described above.
Is secured as a potential difference between the high-potential-side reference voltage and the low-potential-side reference voltage of the internal circuit.
A reference voltage for accurately operating the channel and n-channel field effect transistors can be stably obtained.

【0051】なお、本実施形態の定電流回路8内に配設
される第2,第3のnチャネル電界効果トランジスタ1
0,11と第2のpチャネル電界効果トランジスタ12
とを、それぞれ逆のpチャネル及びnチャネル電界効果
トランジスタで構成することによって、第2の実施形態
の定電流回路8を具体的に構成した回路とすることがで
きる。その場合、基準電圧生成回路からの出力電圧V
out を内部回路の高電位側基準電圧として用いながら、
本実施形態と同様の効果が得られる。
The second and third n-channel field effect transistors 1 provided in the constant current circuit 8 of the present embodiment
0, 11 and second p-channel field effect transistor 12
Are formed by the opposite p-channel and n-channel field-effect transistors, respectively, whereby the constant current circuit 8 according to the second embodiment can be specifically configured. In that case, the output voltage V from the reference voltage generation circuit
While using out as the high-potential-side reference voltage of the internal circuit,
The same effects as in the present embodiment can be obtained.

【0052】(第4の実施形態)次に、第4の実施形態
について、図4を参照しながら説明する。
(Fourth Embodiment) Next, a fourth embodiment will be described with reference to FIG.

【0053】図4は、第4の実施形態における半導体装
置に配設される基準電圧生成回路の構成を示す電気回路
図である。同図において、13は第2のpチャネル電界
効果トランジスタ12のゲートに予め設定された一定電
圧を与えるバンドギャップリファレンス回路であり、そ
の他の回路要素は図3に示す基準電圧生成回路内の回路
要素と同様である。
FIG. 4 is an electric circuit diagram showing a configuration of a reference voltage generation circuit provided in a semiconductor device according to the fourth embodiment. 3, reference numeral 13 denotes a bandgap reference circuit for applying a predetermined constant voltage to the gate of the second p-channel field-effect transistor 12, and other circuit elements are circuit elements in the reference voltage generation circuit shown in FIG. Is the same as

【0054】以上のように構成された本実施形態の基準
電圧生成回路の動作について、以下に説明する。
The operation of the reference voltage generating circuit according to the present embodiment having the above configuration will be described below.

【0055】第2のpチャネル電界効果トランジスタ1
2は、そのゲートにバンドギャップリファレンス回路1
3が出力する一定電圧が与えられることによって基準電
流iが形成される。この基準電流iが形成されたあとの
動作については、上記第3の実施形態と同様である。
Second p-channel field effect transistor 1
2 is a band gap reference circuit 1
The reference current i is formed by applying the constant voltage output from the reference 3. The operation after the formation of the reference current i is the same as that of the third embodiment.

【0056】以上のように、本実施形態によれば、上記
第1の実施形態と同様の効果に加えて、高電位部4を基
準として第3の実施形態と同様の効果を得ることがで
き、さらにバンドギャップリファレンス回路13の出力
電圧が電源電圧VDDの変動によらず一定電圧となること
により、第2のpチャネル電界効果トランジスタ12で
形成される基準電流iもより安定して一定となり、基準
電圧出力端子3の出力電圧を広範囲な電源電圧に対して
さらに安定させることができる。
As described above, according to the present embodiment, in addition to the same effects as those of the first embodiment, the same effects as those of the third embodiment can be obtained based on the high potential portion 4. Further, since the output voltage of the bandgap reference circuit 13 becomes constant regardless of the fluctuation of the power supply voltage V DD , the reference current i formed by the second p-channel field-effect transistor 12 also becomes more stable and constant. The output voltage of the reference voltage output terminal 3 can be further stabilized with respect to a wide range of power supply voltage.

【0057】また、あらかじめインバータを構成するよ
うに接続されかつゲートとドレインを短絡された第1の
pチャネル及びnチャネル電界効果トランジスタ6,7
のトランジスタサイズと供給する基準電流iとを、CM
OS構成のデジタル内部回路を動作させるのに最低限必
要な低電位側基準電圧になるように設定しておくこと
で、広範囲な電源電圧VDDに対して消費電流のばらつき
を抑え、安定した回路動作を可能にできる。
Also, first p-channel and n-channel field effect transistors 6, 7 connected in advance to form an inverter and having a gate and a drain short-circuited.
And the reference current i to be supplied is represented by CM
By setting the minimum potential reference voltage required to operate the OS internal digital internal circuit to the minimum, it is possible to reduce the variation in current consumption over a wide range of power supply voltage V DD , and maintain a stable circuit. Operation can be enabled.

【0058】なお、本実施形態の第2,第3のnチャネ
ル電界効果トランジスタ10,11と第2のpチャネル
電界効果トランジスタ12とをそれぞれ逆のpチャネル
及びnチャネル電界効果トランジスタで構成することに
よって、第2の実施形態の定電流回路8を具体的に構成
した回路とすることができる。その場合、出力電圧V
out を内部回路の高電位側基準電圧として用いながら、
本実施形態と同様の効果が得られる。
It should be noted that the second and third n-channel field effect transistors 10 and 11 and the second p-channel field effect transistor 12 of the present embodiment are constituted by opposite p-channel and n-channel field effect transistors, respectively. Thus, a circuit in which the constant current circuit 8 of the second embodiment is specifically configured can be obtained. In that case, the output voltage V
While using out as the high-potential-side reference voltage of the internal circuit,
The same effects as in the present embodiment can be obtained.

【0059】(第5の実施形態)次に、第5の実施形態
について、図5を参照しながら説明する。
(Fifth Embodiment) Next, a fifth embodiment will be described with reference to FIG.

【0060】図5は、第5の実施形態における半導体装
置に配設される基準電圧生成回路の構成を示す電気回路
図である。同図において、14は上記第1の実施形態の
第1のnチャネル電界効果トランジスタ7のソースと基
準電圧出力端子3との間に接続された電圧フォロワ回路
であり、その他の回路要素は図1に示す第1の実施形態
の基準電圧生成回路の回路要素と同様である。
FIG. 5 is an electric circuit diagram showing a configuration of a reference voltage generation circuit provided in a semiconductor device according to the fifth embodiment. In the figure, reference numeral 14 denotes a voltage follower circuit connected between the source of the first n-channel field-effect transistor 7 of the first embodiment and the reference voltage output terminal 3, and the other circuit elements are shown in FIG. Are the same as the circuit elements of the reference voltage generation circuit of the first embodiment shown in FIG.

【0061】以上のように構成された本実施形態の半導
体装置の動作について、以下に説明する。
The operation of the semiconductor device according to the present embodiment having the above configuration will be described below.

【0062】本実施形態の基準電圧生成回路の基本的な
動作は上記第1の実施形態における基準電圧生成回路の
動作と同様であるが、上記第1の実施形態の基準電圧発
生回路により生成された出力電圧Vout は、それ自体で
は多くのトランジスタを動作させるための大きな電流を
伴うとは限らない。そこで、本実施形態では、図1に示
す回路の基準電圧出力端子3の前段側に電圧フォロワ回
路14を介設して電流増幅動作を行わせ、低インピーダ
ンスに変換させるように構成されている。そして、電圧
フォロワ回路14の出力を基準電圧出力端子3を介して
内部回路に出力し、この出力電圧Vout を内部回路のト
ランジスタを動作させるための低電位側基準電圧として
使用するように構成されている。
The basic operation of the reference voltage generation circuit of the present embodiment is the same as the operation of the reference voltage generation circuit of the first embodiment, but is generated by the reference voltage generation circuit of the first embodiment. The output voltage V out by itself does not always involve a large current for operating many transistors. Therefore, in the present embodiment, a current follow-up operation is performed by interposing a voltage follower circuit 14 in front of the reference voltage output terminal 3 of the circuit shown in FIG. The output of the voltage follower circuit 14 is output to the internal circuit via the reference voltage output terminal 3, and the output voltage Vout is used as a low-potential-side reference voltage for operating the transistors of the internal circuit. ing.

【0063】以上のように、本実施形態によれば、第1
の実施形態と同様の効果を得ることができ、さらに電圧
フォロワ回路14の作用によって電流増幅を行い、低イ
ンピーダンス変換をさせることで、デジタル内部回路の
動作電圧源として十分な電流供給能力を得ることができ
る。
As described above, according to the present embodiment, the first
It is possible to obtain sufficient current supply capability as an operating voltage source of a digital internal circuit by performing current amplification by the action of the voltage follower circuit 14 and performing low impedance conversion. Can be.

【0064】また、上記第2の実施形態において、基準
電圧出力端子3に電圧フォロワ回路14を接続し、その
出力を基準電圧出力端子3を介して内部回路に出力する
ように構成してもよい。その場合、出力電圧Vout を内
部回路の高電位側基準電圧として用いながら、本実施形
態と同様の効果が得られる。
In the second embodiment, the voltage follower circuit 14 may be connected to the reference voltage output terminal 3 and the output may be output to the internal circuit via the reference voltage output terminal 3. . In this case, the same effect as that of the present embodiment can be obtained while using the output voltage V out as the high-potential-side reference voltage of the internal circuit.

【0065】(第6の実施形態)次に、第6の実施形態
について、図6(a),(b)を参照しながら説明す
る。
(Sixth Embodiment) Next, a sixth embodiment will be described with reference to FIGS. 6 (a) and 6 (b).

【0066】図6(a)は、第6の実施形態における半
導体装置に配設される基準電圧生成回路の電気回路図で
ある。同図に示すように、本実施形態においては、図1
に示す第1の実施形態における基準電圧生成回路の基準
電圧出力端子3の前段側に演算増幅器15を介設した構
成となっている。そして、演算増幅器15の非反転信号
入力端子は、基準電圧出力端子3に接続され、反転信号
入力端子には、演算増幅器15の出力が抵抗体16を介
して帰還が掛けられ、抵抗体17が演算増幅器15の反
転入力端子と基準点18との間に接続されて非反転増幅
器が構成されており、その非反転増幅器の出力が基準電
圧出力端子3となっている。ただし、基準点18の電位
は、高電位部4の電位VDDと接地部5の電位VSSとの差
の1/2(=VDD/2)となっている。このような電
位を実現するためには、たとえば図6(b)に示すよう
に、高電位部4と接地部5との間に同じ抵抗値を有する
2つの抵抗体19,20を直列に介設し、各抵抗体1
9,20の間の一部位を基準点18とすればよい。
FIG. 6A is an electric circuit diagram of a reference voltage generation circuit provided in a semiconductor device according to the sixth embodiment. As shown in FIG.
In the first embodiment shown in FIG. 1, an operational amplifier 15 is interposed in front of the reference voltage output terminal 3 of the reference voltage generation circuit. The non-inverting signal input terminal of the operational amplifier 15 is connected to the reference voltage output terminal 3, and the output of the operational amplifier 15 is fed back to the inverting signal input terminal via the resistor 16, and the resistor 17 is A non-inverting amplifier is connected between the inverting input terminal of the operational amplifier 15 and the reference point 18, and the output of the non-inverting amplifier is a reference voltage output terminal 3. However, the potential at the reference point 18 is ((= VDD / 2) of the difference between the potential V DD of the high potential portion 4 and the potential V SS of the ground portion 5. In order to realize such a potential, for example, as shown in FIG. 6B, two resistors 19 and 20 having the same resistance value are connected in series between the high potential portion 4 and the ground portion 5. And each resistor 1
One part between 9 and 20 may be set as the reference point 18.

【0067】その他の回路要素は、図1に示す第1の実
施形態における基準電圧生成回路の回路要素と同様であ
る。また、基準点18の電位は、上記図6(b)に示す
ようにVDD/2に設定されている。
The other circuit elements are the same as the circuit elements of the reference voltage generation circuit in the first embodiment shown in FIG. The potential at the reference point 18 is set to V DD / 2 as shown in FIG. 6B.

【0068】以上のように構成された本実施形態の基準
電圧生成回路の動作について、以下に説明する。
The operation of the reference voltage generation circuit of the present embodiment configured as described above will be described below.

【0069】本実施形態の基準電圧生成回路のノードN
4 の電圧を生成するまでの基本的な動作は上記第1の実
施形態と同様である。しかし、上記第1の実施形態の基
準電圧発生回路からの出力電圧Vout は、それ自体では
十分な電流を伴わない。そこで、本実施形態では、基準
電圧出力端子3の前段側に非反転増幅器が接続されて電
流増幅動作が行われ、低インピーダンスに変換される。
そして、非反転増幅器の出力が基準電圧出力端子3を介
して内部回路に出力されて、内部回路の低電位側基準電
圧として使用される。
The node N of the reference voltage generation circuit of the present embodiment
The basic operation up to generation of the voltage No. 4 is the same as in the first embodiment. However, the output voltage V out from the reference voltage generation circuit of the first embodiment does not involve a sufficient current by itself. Therefore, in the present embodiment, a non-inverting amplifier is connected to a stage preceding the reference voltage output terminal 3 to perform a current amplifying operation and convert to a low impedance.
Then, the output of the non-inverting amplifier is output to the internal circuit via the reference voltage output terminal 3, and is used as a low potential side reference voltage of the internal circuit.

【0070】また、抵抗体16,17の抵抗値の設定値
によって、第1のnチャネル電界効果トランジスタ7の
ソースに形成された電圧が基準点18の電位を基準にし
て任意の電圧に増幅される。演算増幅器15と抵抗体1
6,17で構成される非反転増幅器の利得をG1 とする
と、利得G1 は下記式(3) G1 =VOUT1/VIN1 =(R16+R17)/R17 (3) で表される。ただし、VIN1 はノードN4 に形成される
電圧、VOUT1は基準電圧出力端子3の出力電圧、R16
抵抗体16の抵抗値、R17は抵抗体17の抵抗値をそれ
ぞれ示す。したがって、ノードN4 の電位VOUT1と基準
点18の電位VDD/2との差を利得G1 だけ増幅した
電圧Vout が基準電圧出力端子3から出力される。そし
て、この基準電圧出力端子3から出力される電圧を内部
回路の低電位側基準電圧として用いるように構成されて
いる。なお、内部回路の高電位側基準電圧は、高電位部
4の電位VDDである。
Further, the voltage formed at the source of the first n-channel field effect transistor 7 is amplified to an arbitrary voltage with reference to the potential of the reference point 18 according to the set values of the resistances of the resistors 16 and 17. You. Operational amplifier 15 and resistor 1
Table in the gain of the noninverting amplifier and G 1, the gain G 1 is represented by the following formula (3) G 1 = V OUT1 / V IN1 = (R 16 + R 17) / R 17 (3) consists of 6, 17 Is done. Here, V IN1 indicates the voltage formed at the node N4, V OUT1 indicates the output voltage of the reference voltage output terminal 3, R 16 indicates the resistance of the resistor 16, and R 17 indicates the resistance of the resistor 17. Therefore, the voltage V out obtained by amplifying the difference between the potential VDD / 2 potential V OUT1 and the reference point 18 of the node N4 by the gain G 1 is output from the reference voltage output terminal 3. The voltage output from the reference voltage output terminal 3 is used as a low-potential-side reference voltage of the internal circuit. The high-potential-side reference voltage of the internal circuit is the potential V DD of the high-potential section 4.

【0071】以上のように、本実施形態によれば、第1
の実施形態と同様の効果を得ることができるに加えて、
演算増幅器15と抵抗体16,17で構成される非反転
増幅器の作用により電流増幅と低インピーダンス変換と
を行い、抵抗体16,17の値の設定によって、基準点
18の電位VDD/2との電位差を所定値にすることがで
きる。
As described above, according to the present embodiment, the first
In addition to being able to obtain the same effects as the embodiment,
Current amplification and low-impedance conversion are performed by the action of a non-inverting amplifier composed of an operational amplifier 15 and resistors 16 and 17, and the potential V DD / 2 of the reference point 18 is set by setting the values of the resistors 16 and 17. Can be set to a predetermined value.

【0072】たとえば、高電位部4の電位VDDが5V
で、基準点18の電位がVDD/2で、利得G1 が2で、
ノードN4 の電位が3V(インバータによる電圧降下量
が2V)の場合を想定すると、基準電圧出力端子3の電
位は、下記式 Vout =(3−2.5)×2+2.5=3.5(V) のように計算される。このとき、内部回路の高電位側基
準電圧は5Vで、低電位側基準電圧は3.5Vであるの
で、各基準電圧の電位差は1.5Vである。
For example, the potential V DD of the high potential portion 4 is 5 V
And the potential at the reference point 18 is V DD / 2, the gain G 1 is 2,
Assuming that the potential of the node N4 is 3 V (the voltage drop by the inverter is 2 V), the potential of the reference voltage output terminal 3 is calculated by the following equation: V out = (3-2.5) × 2 + 2.5 = 3.5 (V) is calculated. At this time, since the high-potential-side reference voltage of the internal circuit is 5 V and the low-potential-side reference voltage is 3.5 V, the potential difference between the reference voltages is 1.5 V.

【0073】一方、高電位部4の電位VDDが低下して3
Vになったとすると、ノードN4 の電位は1Vになり、
基準点18の電位は1.5Vになり、利得G1 は変わら
ないので、基準電圧出力端子3からの出力電圧V
out は、下記式 Vout =(1−1.5)×2+1.5=0.5(V) のように計算される。このとき、内部回路の高電位側基
準電圧は3Vで、低電位側基準電圧は0.5Vであるの
で、各基準電圧の電位差は2.0Vである。
On the other hand, the potential V DD of the high potential
Assuming that the potential of the node N4 has become V, the potential of the node N4 becomes 1 V,
Since the potential at the reference point 18 becomes 1.5 V and the gain G 1 does not change, the output voltage V from the reference voltage output terminal 3 is output.
out is calculated as follows: V out = (1−1.5) × 2 + 1.5 = 0.5 (V) At this time, since the high-potential-side reference voltage of the internal circuit is 3 V and the low-potential-side reference voltage is 0.5 V, the potential difference between the reference voltages is 2.0 V.

【0074】すなわち、高電位部4の電位VDDが2V変
動しても、内部回路の高低基準電圧の電位差は0.5V
しか変動しない。このように、本実施形態の演算増幅器
15と抵抗体16,17で構成される非反転増幅器は、
高電位部4の電圧の変動に対して内部回路の高電位側基
準電圧と低電位側基準電圧との電位差の変動を低減する
方向に作用する。
That is, even if the potential V DD of the high potential portion 4 fluctuates by 2 V, the potential difference between the high and low reference voltages of the internal circuit is 0.5 V
Only fluctuates. As described above, the non-inverting amplifier including the operational amplifier 15 and the resistors 16 and 17 of the present embodiment is
It acts on the fluctuation of the voltage of the high-potential section 4 in the direction of reducing the fluctuation of the potential difference between the high-potential-side reference voltage and the low-potential-side reference voltage of the internal circuit.

【0075】しかも、高電位部4の電位VDDが高く変化
すると内部回路の高電位側基準電圧と低電位側基準電圧
との電位差が小さくなる(1.5V)ように作用するの
で、内部回路の消費電流が少なくなる。一方、高電位部
4の電位VDDが低く変化すると内部回路の高電位側基準
電圧と低電位側基準電圧との電位差が大きくなる(2.
0V)ように作用するので、内部回路の消費電流が維持
あるいは増大し、その結果、低電圧時における内部回路
内のトランジスタの動作速度の低下が改善される。
Further, when the potential V DD of the high potential portion 4 changes to a high level, the potential difference between the high potential side reference voltage and the low potential side reference voltage of the internal circuit is reduced (1.5 V). Consumes less current. On the other hand, when the potential V DD of the high potential portion 4 changes low, the potential difference between the high potential side reference voltage and the low potential side reference voltage of the internal circuit increases (2.
0V), the current consumption of the internal circuit is maintained or increased, and as a result, the reduction in the operating speed of the transistor in the internal circuit at low voltage is improved.

【0076】本実施形態の基準電圧出力端子3から出力
される電圧は、デジタル内部回路の動作電圧や他回路の
リファレンス電圧として用いる時に有効である。また、
上記第2の実施形態について基準電圧出力端子3に演算
増幅器15と抵抗体16,17で構成される非反転増幅
器を接続し、その出力を基準電圧出力端子3にした回路
においても、本実施形態と同様の効果が得られることは
いうまでもない。
The voltage output from the reference voltage output terminal 3 of this embodiment is effective when used as an operating voltage of a digital internal circuit or a reference voltage of another circuit. Also,
In the second embodiment, a non-inverting amplifier comprising an operational amplifier 15 and resistors 16 and 17 is connected to the reference voltage output terminal 3 and the output of the non-inverting amplifier is used as the reference voltage output terminal 3. Needless to say, the same effect as described above can be obtained.

【0077】(第7の実施形態)次に、第7の実施形態
について、図7を参照しながら説明する。
(Seventh Embodiment) Next, a seventh embodiment will be described with reference to FIG.

【0078】図7は、第7の実施形態における半導体装
置に配設される基準電圧生成回路の電気回路図である。
同図に示す基準電圧生成回路の基本的な構成は図6
(a)に示す回路の構成と同様である。ただし、本実施
形態の基準電圧生成回路においては、演算増幅器15の
非反転入力端子が基準点18に接続され、演算増幅器1
5の反転入力端子と第1のnチャネル電界効果トランジ
スタ7のソースとの間に抵抗体17が接続されていて、
演算増幅器15と抵抗体16,17とにより反転増幅器
が構成されている点が、第6の実施形態と異なってい
る。
FIG. 7 is an electric circuit diagram of a reference voltage generation circuit provided in a semiconductor device according to the seventh embodiment.
The basic configuration of the reference voltage generation circuit shown in FIG.
This is the same as the configuration of the circuit shown in FIG. However, in the reference voltage generation circuit of the present embodiment, the non-inverting input terminal of the operational amplifier 15 is connected to the reference point 18 and the operational amplifier 1
5, a resistor 17 is connected between the inverting input terminal 5 and the source of the first n-channel field effect transistor 7,
The difference from the sixth embodiment is that the operational amplifier 15 and the resistors 16 and 17 constitute an inverting amplifier.

【0079】以上のように構成された本実施形態の基準
電圧生成回路の動作について、以下に説明する。
The operation of the reference voltage generation circuit according to the present embodiment configured as described above will be described below.

【0080】本実施形態に係る基準電圧生成回路のうち
ノードN4 の電圧を生成するまでの基本的な動作は上記
第6の実施形態と同様である。ただし、本実施形態で
は、ノードN4 の電圧が演算増幅器15と抵抗体16,
17で構成される反転増幅器によって、基準点18の電
位を基準として反転増幅される。すなわち、演算増幅器
15と抵抗体16,17とで構成される反転増幅器の利
得をG2 とすると利得G2 は、下記式(4) G2 =VOUT2/VIN2 =−R16/R17 (4) で表される。ただし、VIN2 はノードN4 に形成される
電圧、VOUT2は基準電圧出力端子3の出力電圧、R16
抵抗体16の抵抗値、R17は抵抗体17の抵抗値であ
る。したがって、ノードN4 の電位VOUT2と基準点18
の電位VDD/2との差を利得G2 だけ反転増幅した電
圧が基準電圧出力端子3から出力される。そして、この
基準電圧出力端子3から出力される電圧を内部回路の高
電位側基準電圧として用いるように構成されている。本
来、ノードN4 の電位は、高電位部4の電位VDDを基準
として生成される電圧であるが、出力電圧Vout はノー
ドN4の電圧が基準点18の電位VDD/2を基準として
反転されたものであるので、出力電圧Vout を接地部5
の電位VSSに対する電位差を確保するための基準電圧と
するように置き換えることが可能となるのである。した
がって、内部回路の低電位側基準電圧は接地部5の電位
SSである。
The basic operation of the reference voltage generation circuit according to the present embodiment up to generation of the voltage of the node N4 is the same as that of the sixth embodiment. However, in this embodiment, the voltage of the node N4 is equal to the voltage of the operational amplifier 15 and the resistor 16,
The inversion amplifier 17 inverts and amplifies the potential with reference to the potential at the reference point 18. That is, assuming that the gain of the inverting amplifier composed of the operational amplifier 15 and the resistors 16 and 17 is G 2 , the gain G 2 is given by the following equation (4): G 2 = V OUT2 / V IN2 = −R 16 / R 17 (4) is represented by Here, V IN2 is the voltage formed at the node N4, V OUT2 is the output voltage of the reference voltage output terminal 3, R 16 is the resistance of the resistor 16, and R 17 is the resistance of the resistor 17. Therefore, the potential V OUT2 of the node N4 and the reference point 18
Of the difference between the potential VDD / 2 by the gain G 2 voltage inverting amplifier is output from the reference voltage output terminal 3. The voltage output from the reference voltage output terminal 3 is used as a high-potential-side reference voltage of the internal circuit. Originally, the potential of the node N4 is a voltage generated with reference to the potential V DD of the high potential portion 4, but the output voltage V out is obtained by inverting the voltage of the node N4 with reference to the potential V DD / 2 of the reference point 18. The output voltage Vout is
Of it it becomes possible to replace such a reference voltage to ensure a potential difference with respect to the potential V SS. Therefore, the low-potential-side reference voltage of the internal circuit is the potential V SS of the ground section 5.

【0081】本実施形態によれば、第2の実施形態と同
様の効果を得ることができるに加えて、さらに演算増幅
器15と抵抗体16,17で構成される反転増幅器の作
用によって、電流増幅と低インピーダンス変換とを行
い、抵抗体16,17の抵抗値の設定値によって、ノー
ドN4 に形成された電圧が基準点18を基準として任意
に反転されてなる出力電圧Vout を得ることができる。
According to the present embodiment, the same effects as those of the second embodiment can be obtained. In addition, the current amplifier is further operated by the operation of the inverting amplifier composed of the operational amplifier 15 and the resistors 16 and 17. And a low-impedance conversion to obtain an output voltage Vout obtained by arbitrarily inverting the voltage formed at the node N4 with reference to the reference point 18 by the set values of the resistances of the resistors 16 and 17. .

【0082】たとえば、高電位部4の電位VDDが5V
で、基準点18の電位がVDD/2で、利得G2 が−1
で、ノードN4 の電位が3V(インバータによる電圧降
下量が2V)の場合を想定すると、基準電圧出力端子3
の電位は、下記式 Vout =(3−2.5)×(−1)+2.5=2.0(V) のように計算される。このとき、内部回路の高電位側基
準電圧は2.0Vで、低電位側基準電圧は0Vであるの
で、各基準電圧の電位差は2.0Vである。
For example, the potential V DD of the high potential portion 4 is 5 V
And the potential at the reference point 18 is V DD / 2, and the gain G 2 is -1.
Assuming that the potential of the node N4 is 3 V (the voltage drop by the inverter is 2 V), the reference voltage output terminal 3
Is calculated as follows: V out = (3-2.5) × (−1) + 2.5 = 2.0 (V) At this time, since the high-potential-side reference voltage of the internal circuit is 2.0 V and the low-potential-side reference voltage is 0 V, the potential difference between the reference voltages is 2.0 V.

【0083】一方、高電位部4の電位VDDが低下して3
Vになったとすると、ノードN4 の電位は1Vになり、
基準点18の電位は1.5Vになり、利得G2 は変わら
ないので、基準電圧出力端子3の出力電圧Vout は、下
記式 Vout =(1−1.5)×(−1)+1.5=2.0(V) のように計算される。このとき、内部回路の高電位側基
準電圧は2.0Vで、低電位側基準電圧は0Vであるの
で、各基準電圧の電位差は2.0Vである。
On the other hand, the potential V DD of the high potential
Assuming that the potential of the node N4 has become V, the potential of the node N4 becomes 1 V,
The potential of the reference point 18 is 1.5V, the the gain G 2 is not changed, the output voltage V out of the reference voltage output terminal 3, the following equation V out = (1-1.5) × ( -1) +1 .5 = 2.0 (V). At this time, since the high-potential-side reference voltage of the internal circuit is 2.0 V and the low-potential-side reference voltage is 0 V, the potential difference between the reference voltages is 2.0 V.

【0084】すなわち、高電位部4の電位VDDが2V変
動しても、内部回路の高低基準電圧の差は変動しない。
このように、本実施形態の演算増幅器15と抵抗体1
6,17で構成される反転増幅器は、高電位部4の電圧
の変動に対して内部回路の高電位側基準電圧と低電位側
基準電圧との電位差の変動を低減する方向に作用する。
That is, even if the potential V DD of the high potential section 4 fluctuates by 2 V, the difference between the high and low reference voltages of the internal circuit does not fluctuate.
As described above, the operational amplifier 15 and the resistor 1
The inverting amplifier constituted by 6 and 17 acts in the direction of reducing the fluctuation of the potential difference between the high-potential-side reference voltage and the low-potential-side reference voltage of the internal circuit with respect to the fluctuation of the voltage of the high potential section 4.

【0085】また、反転増幅器の増幅率を適宜設定する
(たとえば−1.5程度)ことによって、高電位部4の
電位VDDが高く変化すると内部回路の高電位側基準電圧
と低電位側基準電圧との電位差が小さくなる(1.5
V)ように変化させて内部回路の消費電流が少なくなる
ように作用させ、高電位部4の電位VDDが低く変化する
と内部回路の高電位側基準電圧と低電位側基準電圧との
電位差が大きくなる(2.0V)ように変化させて内部
回路の消費電流が維持あるいは増大する結果、低電圧時
における内部回路内のトランジスタの動作速度の低下が
改善されるように作用させることも容易にできる。
Further, by appropriately setting the amplification factor of the inverting amplifier (for example, about -1.5), when the potential V DD of the high potential section 4 changes to a high level, the high potential side reference voltage and the low potential side reference voltage of the internal circuit are changed. The potential difference with the voltage becomes small (1.5
V) to reduce the current consumption of the internal circuit, and when the potential V DD of the high-potential section 4 changes low, the potential difference between the high-potential-side reference voltage and the low-potential-side reference voltage of the internal circuit is reduced. As a result, the current consumption of the internal circuit is maintained or increased by changing it to be larger (2.0 V). As a result, the operation speed of the transistor in the internal circuit at a low voltage can be easily reduced. it can.

【0086】本実施形態の基準電圧生成回路の出力電圧
out は、デジタル内部回路の動作電圧や他回路のリフ
ァレンス電圧として用いる時に有効である。
The output voltage V out of the reference voltage generation circuit according to the present embodiment is effective when used as an operation voltage of a digital internal circuit or a reference voltage of another circuit.

【0087】また、上記第2の実施形態について基準電
圧出力端子3に演算増幅器15と抵抗体16、17で構
成される反転増幅器を接続し、その出力を基準電圧出力
端子3にした回路においても、本実施形態と同様の効果
が得られることはいうまでもない。
In the second embodiment, a circuit in which an operational amplifier 15 and an inverting amplifier composed of resistors 16 and 17 are connected to the reference voltage output terminal 3 and the output of which is the reference voltage output terminal 3 is also used. Needless to say, the same effects as in the present embodiment can be obtained.

【0088】[0088]

【発明の効果】以上のように、請求項1〜2によれば、
半導体装置の内部回路の高電位側又は低電位側基準電圧
を生成するための基準電圧生成回路において、ゲート同
士が接続されかつゲート−ドレイン間が短絡されたpチ
ャネル及びnチャネル電界効果トランジスタでインバー
タを構成し、さらに、インバータと高電位部又は接地部
との間に定電流回路を設けて、インバータ−定電流回路
間の電圧を内部回路の高電位側又は低電位側基準電圧と
して用いるようにしたので、内部回路の高電位側基準電
圧−低電位側基準電圧の電位差が、内部回路内のpチャ
ネル及びnチャネル電界効果トランジスタ双方のしきい
値を加えた値以上に確保されることで、内部回路のpチ
ャネル及びnチャネル電界効果トランジスタを動作させ
るのに最低限必要な高電位側基準電圧を安定して得する
ことができ、よって、低消費電力かつ低電圧型の半導体
装置の提供を図ることができる。
As described above, according to claims 1 and 2,
In a reference voltage generating circuit for generating a high-potential-side or low-potential-side reference voltage of an internal circuit of a semiconductor device, a p-channel and n-channel field-effect transistor in which gates are connected and a gate and a drain are short-circuited is provided. Further, a constant current circuit is provided between the inverter and the high potential portion or the ground portion, and the voltage between the inverter and the constant current circuit is used as the high potential side or low potential side reference voltage of the internal circuit. Therefore, the potential difference between the high-potential-side reference voltage and the low-potential-side reference voltage of the internal circuit is ensured to be equal to or greater than the sum of the threshold values of both the p-channel and n-channel field-effect transistors in the internal circuit. It is possible to stably obtain the minimum reference voltage required for operating the p-channel and n-channel field effect transistors of the internal circuit. , It is possible to provide low-power and low-voltage semiconductor device.

【0089】請求項3〜4によれば、定電流回路をカレ
ントミラー回路を利用して構成したので、電源電圧の変
動に対して安定した電流を得ることができる。
According to the third and fourth aspects, since the constant current circuit is constituted by using the current mirror circuit, a stable current can be obtained with respect to the fluctuation of the power supply voltage.

【0090】請求項5又は8によれば、基準電圧生成回
路で生成した基準電圧を内部回路に出力する前に出力を
低インピーダンスに変換する電圧フォロワ回路を設けた
ので、基準電圧生成回路の出力に内部回路のトランジス
タを駆動するための電流供給能力を付与することができ
る。
According to the fifth or eighth aspect, the voltage follower circuit for converting the output to a low impedance before outputting the reference voltage generated by the reference voltage generation circuit to the internal circuit is provided. Can be provided with a current supply capability for driving the transistors of the internal circuit.

【0091】請求項6,7,9又は10によれば、基準
電圧生成回路で生成した基準電圧を内部回路の出力する
前に出力を分圧するための非反転増幅器又は反転増幅器
を設けたので、電源電圧の変動に対する内部回路の高電
位側基準電圧−低電位側基準電圧間の電位差を任意に調
整することができ、電流供給能力の付与に加えて、電源
電圧の変動による内部回路のトランジスタの動作の悪化
を有効に防止することができる。
According to the sixth, seventh, ninth or tenth aspect, the non-inverting amplifier or the inverting amplifier for dividing the output before outputting the reference voltage generated by the reference voltage generating circuit to the internal circuit is provided. The potential difference between the high-potential-side reference voltage and the low-potential-side reference voltage of the internal circuit with respect to fluctuations in the power supply voltage can be arbitrarily adjusted. Deterioration of operation can be effectively prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1の実施形態における内部回路に低電位側基
準電圧を供給するための基準電圧生成回路の電気回路図
である。
FIG. 1 is an electric circuit diagram of a reference voltage generation circuit for supplying a low-potential-side reference voltage to an internal circuit according to a first embodiment.

【図2】第2の実施形態における内部回路に高電位側基
準電圧を供給するための基準電圧生成回路の電気回路図
である。
FIG. 2 is an electric circuit diagram of a reference voltage generation circuit for supplying a high-potential-side reference voltage to an internal circuit according to a second embodiment.

【図3】第3の実施形態におけるカレントミラー構成の
定電流回路を備え、内部回路に低電位側基準電圧を供給
するための基準電圧生成回路の電気回路図である。
FIG. 3 is an electric circuit diagram of a reference voltage generation circuit that includes a constant current circuit having a current mirror configuration and supplies a low-potential-side reference voltage to an internal circuit according to a third embodiment.

【図4】第4の実施形態におけるカレントミラー構成の
定電流回路にバンドギャップリファレンス回路を付設
し、内部回路に低電位側基準電圧を供給するための基準
電圧生成回路の電気回路図である。
FIG. 4 is an electric circuit diagram of a reference voltage generating circuit for providing a low-potential-side reference voltage to an internal circuit by attaching a band gap reference circuit to a constant current circuit having a current mirror configuration according to a fourth embodiment.

【図5】第5の実施形態における内部回路に低インピー
ダンス変換された低電位側基準電圧を供給するための電
圧フォロワ回路を付設した基準電圧生成回路の電気回路
図である。
FIG. 5 is an electric circuit diagram of a reference voltage generating circuit provided with a voltage follower circuit for supplying a low-impedance-converted low-potential-side reference voltage to an internal circuit according to a fifth embodiment.

【図6】第6の実施形態における内部回路に分圧された
低電位側基準電圧を供給するための非反転増幅器を付設
した基準電圧生成回路の電気回路図である。
FIG. 6 is an electric circuit diagram of a reference voltage generation circuit provided with a non-inverting amplifier for supplying a divided low-potential-side reference voltage to an internal circuit according to a sixth embodiment.

【図7】第7の実施形態における内部回路に分圧された
高電位側基準電圧を供給するための反転増幅器を付設し
た基準電圧生成回路の電気回路図である。
FIG. 7 is an electric circuit diagram of a reference voltage generation circuit provided with an inverting amplifier for supplying a divided high-potential-side reference voltage to an internal circuit according to a seventh embodiment.

【図8】従来の半導体装置に配設される基準電圧生成回
路の電気回路図である。
FIG. 8 is an electric circuit diagram of a reference voltage generation circuit provided in a conventional semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

3 基準電圧出力端子 4 高電位部 5 接地部 6 第1のpチャネル電界効果トランジスタ 7 第1のnチャネル電界効果トランジスタ 8 定電流回路 9 コンデンサ 10 第2のnチャネル電界効果トランジスタ 11 第3のnチャネル電界効果トランジスタ 12 第2のpチャネル電界効果トランジスタ 13 バンドギャップリファレンス回路 14 電圧フォロワ回路 15 演算増幅器 16 抵抗体 17 抵抗体 18 基準点 19 抵抗体 20 抵抗体 REFERENCE SIGNS LIST 3 reference voltage output terminal 4 high-potential section 5 ground section 6 first p-channel field-effect transistor 7 first n-channel field-effect transistor 8 constant-current circuit 9 capacitor 10 second n-channel field-effect transistor 11 third n Channel field-effect transistor 12 Second p-channel field-effect transistor 13 Band gap reference circuit 14 Voltage follower circuit 15 Operational amplifier 16 Resistor 17 Resistor 18 Reference point 19 Resistor 20 Resistor

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電源電圧を受ける高電位部と、接地に接
続される接地部と、上記高電位部−接地部間に介設され
複数のトランジスタを配設してなる内部回路と、該内部
回路の低電位側基準電圧を生成するための基準電圧生成
回路とを備えた半導体装置であって、 上記基準電圧生成回路は、 インバータを構成するように接続され、互いのゲート同
士が接続され、かつゲート−ドレイン間が短絡されてな
るpチャネル電界効果トランジスタ及びnチャネル電界
効果トランジスタと、 上記nチャネル電界効果トランジスタのソースと上記接
地部との間に介設され上記pチャネル電界効果トランジ
スタ及びnチャネル電界効果トランジスタに定電流を流
すための定電流回路とを備え、 上記nチャネル電界効果トランジスタのソースからの出
力電圧を上記内部回路の低電位側基準電圧に用いる一
方、上記高電位部の電圧を上記内部回路の高電位側基準
電圧に用いるように構成されていることを特徴とする半
導体装置。
An internal circuit including a high-potential portion for receiving a power supply voltage, a ground portion connected to the ground, a plurality of transistors interposed between the high-potential portion and the ground portion; A reference voltage generation circuit for generating a low-potential-side reference voltage of the circuit, wherein the reference voltage generation circuit is connected to form an inverter, and their gates are connected to each other; A p-channel field-effect transistor and an n-channel field-effect transistor having a gate and a drain short-circuited; and the p-channel field-effect transistor and n interposed between the source of the n-channel field-effect transistor and the ground. A constant current circuit for causing a constant current to flow through the channel field effect transistor, and an output voltage from a source of the n channel field effect transistor. While using the low potential side reference voltage of the serial internal circuit, a semiconductor device characterized by being configured the voltage of the high potential portion as used in the high-potential-side reference voltage of the internal circuit.
【請求項2】 電源電圧を受ける高電位部と、接地に接
続される接地部と、上記高電位部−接地部間に介設され
複数のトランジスタを配設してなる内部回路と、該内部
回路の高電位側基準電圧を生成するための基準電圧生成
回路とを備えた半導体装置であって、 上記基準電圧生成回路は、 インバータを構成するように接続され、互いのゲート同
士が接続され、かつゲート−ドレイン間が短絡されてな
るpチャネル電界効果トランジスタ及びnチャネル電界
効果トランジスタと、 上記pチャネル電界効果トランジスタのソースと上記高
電位部との間に介設され上記pチャネル電界効果トラン
ジスタ及びnチャネル電界効果トランジスタに定電流を
流すための定電流回路とを備え、 上記pチャネル電界効果トランジスタのソースの電圧を
上記内部回路の上記高電位側基準電圧に用いる一方、上
記接地部の電位を上記内部回路の上記低電位側基準電圧
に用いるように構成されていることを特徴とする半導体
装置。
2. An internal circuit comprising: a high-potential portion receiving a power supply voltage; a ground portion connected to the ground; a plurality of transistors disposed between the high-potential portion and the ground portion; A reference voltage generation circuit for generating a high-potential-side reference voltage of the circuit, wherein the reference voltage generation circuit is connected to form an inverter, and their gates are connected to each other; A p-channel field-effect transistor and an n-channel field-effect transistor having a gate and a drain short-circuited; and the p-channel field-effect transistor interposed between a source of the p-channel field-effect transistor and the high potential portion. a constant current circuit for causing a constant current to flow through the n-channel field-effect transistor; While used in the high-potential side reference voltage of the circuit, the semiconductor device characterized by being configured the potential of the ground portion as used in the low-potential reference voltage of the internal circuit.
【請求項3】 請求項1又は2に記載の半導体装置にお
いて、 上記定電流回路は、 カレントミラー回路と、 上記カレントミラー回路に基準電流を与えるための電界
効果トランジスタとを備えていることを特徴とする半導
体装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the constant current circuit includes a current mirror circuit, and a field-effect transistor for supplying a reference current to the current mirror circuit. Semiconductor device.
【請求項4】 請求項3に記載の半導体装置において、 上記定電流回路は、上記電界効果トランジスタのゲート
電圧を制御するためのバンドギャップ回路をさらに備え
ていることを特徴とする半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 3, wherein said constant current circuit further includes a bandgap circuit for controlling a gate voltage of said field effect transistor.
【請求項5】 請求項1に記載の半導体装置において、 上記nチャネル電界効果トランジスタのソースと上記内
部回路との間に介設され、上記nチャネル電界効果トラ
ンジスタのソースからの出力電圧を低インピーダンスに
変換するための電圧フォロワ回路をさらに備えているこ
とを特徴とする半導体装置。
5. The semiconductor device according to claim 1, wherein an output voltage from the source of the n-channel field-effect transistor is provided between the source of the n-channel field-effect transistor and the internal circuit and has a low impedance. A semiconductor device further comprising a voltage follower circuit for converting the voltage into a voltage.
【請求項6】 請求項1に記載の半導体装置において、 上記nチャネル電界効果トランジスタのソースと上記内
部回路との間に介設され、上記nチャネル電界効果トラ
ンジスタのソースからの出力電圧を分圧するための非反
転増幅器をさらに備えていることを特徴とする半導体装
置。
6. The semiconductor device according to claim 1, which is interposed between a source of said n-channel field-effect transistor and said internal circuit and divides an output voltage from a source of said n-channel field-effect transistor. Semiconductor device further comprising a non-inverting amplifier.
【請求項7】 電源電圧を受ける高電位部と、接地に接
続される接地部と、上記高電位部−接地部間に介設され
複数のトランジスタを配設してなる内部回路と、該内部
回路の高電位側基準電圧を生成するための基準電圧生成
回路とを備えた半導体装置であって、 上記基準電圧生成回路は、 インバータを構成するように接続され、互いのゲート同
士が接続され、かつゲート−ドレイン間が短絡されてな
るpチャネル電界効果トランジスタ及びnチャネル電界
効果トランジスタと、 上記nチャネル電界効果トランジスタのソースと上記接
地部との間に介設され上記pチャネル電界効果トランジ
スタ及びnチャネル電界効果トランジスタに定電流を流
すための定電流回路と、 上記nチャネル電界効果トランジスタのソースと上記内
部回路との間に介設され、上記nチャネル電界効果トラ
ンジスタのソースからの出力電圧を分圧するための反転
増幅器とを備え、 上記反転増幅器の出力電圧を上記内部回路の高電位側基
準電圧に用いる一方、上記接地部の電圧を上記内部回路
の低電位側基準電圧に用いるように構成されていること
を特徴とする半導体装置。
7. An internal circuit comprising a high-potential portion receiving a power supply voltage, a ground portion connected to the ground, a plurality of transistors interposed between the high-potential portion and the ground portion, and A reference voltage generation circuit for generating a high-potential-side reference voltage of the circuit, wherein the reference voltage generation circuit is connected to form an inverter, and their gates are connected to each other; A p-channel field-effect transistor and an n-channel field-effect transistor having a gate and a drain short-circuited; and the p-channel field-effect transistor and n interposed between the source of the n-channel field-effect transistor and the ground. A constant current circuit for causing a constant current to flow through the channel field effect transistor; and between the source of the n-channel field effect transistor and the internal circuit. An inverting amplifier for dividing an output voltage from the source of the n-channel field-effect transistor. The output voltage of the inverting amplifier is used as a high-potential-side reference voltage of the internal circuit. A semiconductor device configured to use a voltage as a low-potential-side reference voltage of the internal circuit.
【請求項8】 請求項2に記載の半導体装置において、 上記pチャネル電界効果トランジスタのソースと上記内
部回路との間に介設され、上記pチャネル電界効果トラ
ンジスタのソースからの出力電圧を低インピーダンスに
変換するための電圧フォロワ回路をさらに備えているこ
とを特徴とする半導体装置。
8. The semiconductor device according to claim 2, wherein the output voltage from the source of the p-channel field-effect transistor is provided between the source of the p-channel field-effect transistor and the internal circuit and has a low impedance. A semiconductor device further comprising a voltage follower circuit for converting the voltage into a voltage.
【請求項9】 請求項2に記載の半導体装置において、 上記pチャネル電界効果トランジスタのソースと上記内
部回路との間に介設され、上記pチャネル電界効果トラ
ンジスタのソースからの出力電圧を分圧するための非反
転増幅器をさらに備えていることを特徴とする半導体装
置。
9. The semiconductor device according to claim 2, which is interposed between a source of said p-channel field-effect transistor and said internal circuit, and divides an output voltage from a source of said p-channel field-effect transistor. Semiconductor device further comprising a non-inverting amplifier.
【請求項10】 電源電圧を受ける高電位部と、接地に
接続される接地部と、上記高電位部−接地部間に介設さ
れ複数のトランジスタを配設してなる内部回路と、該内
部回路の低電位側基準電圧を生成するための基準電圧生
成回路とを備えた半導体装置であって、 上記基準電圧生成回路は、 インバータを構成するように接続され、互いのゲート同
士が接続され、かつゲート−ドレイン間が短絡されてな
るpチャネル電界効果トランジスタ及びnチャネル電界
効果トランジスタと、 上記pチャネル電界効果トランジスタのソースと上記接
地部との間に介設され上記pチャネル電界効果トランジ
スタ及びnチャネル電界効果トランジスタに定電流を流
すための定電流回路と、 上記pチャネル電界効果トランジスタのソースと上記内
部回路との間に介設され、上記pチャネル電界効果トラ
ンジスタのソースからの出力電圧を分圧するための反転
増幅器とを備え、上記反転増幅器の出力電圧を上記内部
回路の低電位側基準電圧に用いる一方、上記高電位部の
電圧を上記内部回路の高電位側基準電圧に用いるように
構成されていることを特徴とする半導体装置。
10. An internal circuit comprising a high-potential portion receiving a power supply voltage, a ground portion connected to the ground, a plurality of transistors interposed between the high-potential portion and the ground portion, and A reference voltage generation circuit for generating a low-potential-side reference voltage of the circuit, wherein the reference voltage generation circuit is connected to form an inverter, and their gates are connected to each other; A p-channel field-effect transistor and an n-channel field-effect transistor having a gate and a drain short-circuited; and the p-channel field-effect transistor and n interposed between the source of the p-channel field-effect transistor and the ground. A constant current circuit for supplying a constant current to the channel field-effect transistor; and between a source of the p-channel field-effect transistor and the internal circuit. An inverting amplifier for dividing an output voltage from a source of the p-channel field-effect transistor, wherein the output voltage of the inverting amplifier is used as a low-potential-side reference voltage of the internal circuit, while the high-potential A semiconductor device configured to use a voltage of the unit as a high-potential-side reference voltage of the internal circuit.
JP17060297A 1997-06-26 1997-06-26 Semiconductor device Pending JPH1115545A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17060297A JPH1115545A (en) 1997-06-26 1997-06-26 Semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17060297A JPH1115545A (en) 1997-06-26 1997-06-26 Semiconductor device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1115545A true JPH1115545A (en) 1999-01-22

Family

ID=15907900

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17060297A Pending JPH1115545A (en) 1997-06-26 1997-06-26 Semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1115545A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006093204A1 (en) * 2005-03-02 2006-09-08 Rohm Co., Ltd Semiconductor integrated circuit device
JP2008276696A (en) * 2007-05-07 2008-11-13 Fujitsu Microelectronics Ltd Constant voltage circuit, constant voltage supply system, and constant voltage supply method
CN102207743A (en) * 2010-03-29 2011-10-05 精工电子有限公司 Internal power supply voltage generation circuit

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006093204A1 (en) * 2005-03-02 2006-09-08 Rohm Co., Ltd Semiconductor integrated circuit device
US7782585B2 (en) 2005-03-02 2010-08-24 Rohm Co., Ltd. Semiconductor integrated circuit device
JP2008276696A (en) * 2007-05-07 2008-11-13 Fujitsu Microelectronics Ltd Constant voltage circuit, constant voltage supply system, and constant voltage supply method
CN102207743A (en) * 2010-03-29 2011-10-05 精工电子有限公司 Internal power supply voltage generation circuit

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6794940B2 (en) Operational amplifier circuit
US7453318B2 (en) Operational amplifier for outputting high voltage output signal
JP4850669B2 (en) Low voltage, low power class AB output stage
US3984780A (en) CMOS voltage controlled current source
WO2019104467A1 (en) Voltage regulator and power supply
JP6951305B2 (en) Constant voltage circuit
US6433637B1 (en) Single cell rail-to-rail input/output operational amplifier
CN101989842A (en) Operational amplifier and semiconductor device using the same
JP2008288900A (en) Differential amplifier
JP2009159508A (en) Operational amplifier and integrating circuit
JP2004248014A (en) Current source and amplifier
US7728669B2 (en) Output stage circuit and operational amplifier thereof
EP1435693B1 (en) Amplification circuit
US6624696B1 (en) Apparatus and method for a compact class AB turn-around stage with low noise, low offset, and low power consumption
US7560973B2 (en) Gate driver circuit for power transistor
JP2010141589A (en) Differential amplifier circuit
JP4699856B2 (en) Current generation circuit and voltage generation circuit
US20060267568A1 (en) Voltage regulating circuit and method thereof
JP2560542B2 (en) Voltage-current conversion circuit
JPH1115545A (en) Semiconductor device
US7453104B2 (en) Operational amplifier including low DC gain wideband feed forward circuit and high DC gain narrowband gain circuit
JPH1065459A (en) Current-voltage conversion circuit
US11025213B2 (en) Output pole-compensated operational amplifier
JPH098570A (en) Cmos operational amplifier
JP4245102B2 (en) Threshold detection circuit, threshold adjustment circuit, and square circuit

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20030401