JPH11116556A - アミノメチレンピリミジン誘導体、その製造方法および用途 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ＵＶ−Ａ領域の紫外線吸収能力、すなわち分
子吸光係数の極めて大きい新規化合物、その製造方法、
前記紫外線吸収能力を生かした新規な紫外線吸収剤およ
びそれを含む化粧料ならびに耐候性有機高分子組成物の
提供。 【解決手段】 一般式（１） 【化１】 ［式中、Ｒ¹及びＲ²は水素原子、直鎖または分岐のアル
キル基、シクロアルキル基、アラルキル基およびアリ−
ル基よりなる群から独立して選ばれた基であり、Ｒ³は
直鎖または分岐のアルキル基、アラルキル基、アリ−ル
基、シクロアルキル基、ハイドロキシル基を含むアルキ
ル基、アルコキシカルボニルアルキレン基および酸素原
子を含むアルキル基よりなる群から独立して選ばれた基
を表す。］で示されるアミノメチレンピリミジン誘導体
その製造方法、前記紫外線吸収能力を生かした新規な紫
外線吸収剤およびそれを含む化粧料ならびに耐候性有機
高分子組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、優れた紫外線吸収
能および高い光安定性を有するアミノメチレンピリミジ
ン誘導体、それを含む紫外線吸収剤、化粧料、有機高分
子組成物および前記アミノメチレンピリミジン誘導体の
製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】有機物質、特に高分子化合物は紫外線の
作用によって、黄変、変色、亀裂または脆化を起こす事
は周知の事実である。一方、地表に到達する紫外線はＵ
Ｖ−Ｂ（２８０〜３２０ｎｍ）及びＵＶ−Ａ（３２０〜
４００ｎｍ）が殆どである。これらのうちＵＶ−Ａ領域
の紫外線は一定量以上の光量が皮膚に照射されると、皮
膚の紅斑化を引き起こし、皮膚の弾力性低下及び褐色化
を促進させる原因とされている。このようなＵＶ−Ａ領
域の紫外線による皮膚の変化を防止する目的で、紫外線
吸収剤を配合したいわゆる日焼け止め用化粧品が知られ
ている。公知の紫外線吸収化合物としては、ベンゾフェ
ノン誘導体、例えば、４−フェニルベンゾフェノン、２
−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スル
ホン酸等、ジベンゾイルメタン誘導体、例えば、４−タ
ーシャリブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタン
等、ベンゾトリアゾール誘導体、例えば、２−ヒドロキ
シ−５−メトキシフェニルベンゾトリアゾール等が利用
されてきた。

【０００３】以上に記載した従来公知のＵＶ−Ａ領域の
紫外線吸収剤として、例えば、ジベンゾイルメタン系合
成化合物は、金属イオンと着色反応を起こすという欠点
があった。一方、公知のＵＶ−Ａ領域の紫外線吸収剤と
して使用される合成化合物は、通常、化粧料等に配合さ
れているが、皮膚への刺激性の問題から、その使用量に
制限があり、本来の目的である皮膚の日焼け止めに必要
な量を使用することができず、従って、ＵＶ−Ａ領域の
紫外線遮蔽効果は小さいものであった。従って、ＵＶ−
Ａ領域の紫外線を吸収する化合物で、吸収能力の極めて
大きい化合物、いいかえれば分子吸光係数の大きい合成
化合物の開発が望まれていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の第一の目的
は、ＵＶ−Ａ領域の紫外線吸収能力、すなわち分子吸光
係数の極めて大きい新規化合物及びその製造方法を提示
する点にある。本発明の第二の目的は、前記紫外線吸収
能力を生かした新規な紫外線吸収剤およびそれを含む化
粧料ならびに耐候性有機高分子組成物を提供することに
ある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の第一は、一般式
（１）

【化５】 ［式中、Ｒ¹及びＲ²は水素原子、直鎖または分岐のアル
キル基、シクロアルキル基、アラルキル基およびアリー
ル基よりなる群から独立して選ばれた基であり、Ｒ³は
直鎖または分岐のアルキル基、アラルキル基、アリール
基、シクロアルキル基、ハイドロキシル基を含むアルキ
ル基、アルコキシカルボニルアルキレン基および酸素原
子を含むアルキル基よりなる群から選ばれた基を表
す。］で示されるアミノメチレンピリミジン誘導体に関
する。

【０００６】本発明の第二は、請求項１記載のアミノメ
チレンピリミジン誘導体を含有する紫外線吸収剤に関す
る。

【０００７】本発明の第三は、請求項１記載のアミノメ
チレピリミジン誘導体を含有する化粧料に関する。

【０００８】本発明の第四は、請求項１記載のアミノメ
チレンピリミジン誘導体を含有する耐候性有機高分子組
成物に関する。

【０００９】本発明の第五は、下記一般式（２）

【化６】 ［式中、Ｒ¹およびＲ²は水素原子、直鎖または分岐のア
ルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基およびアリ
ール基よりなる群から独立して選ばれた基を表す。］で
示される１，３−ジ置換バルビツル酸誘導体と、下記一
般式（３）

【化７】 ［式中、Ｒ³は直鎖または分岐のアルキル基、アラルキ
ル基、アリール基、シクロアルキル基、ハイドロキシル
基を含むアルキル基、アルコキシカルボニルアルキレン
基および酸素原子を含むアルキル基よりなる群から選ば
れた基を表す。］で示されるＮ−（ｏ−、ｍ−またはｐ
−置換フェニル）ホルムアミド誘導体を、有機溶剤中酸
触媒存在下で反応させることを特徴とする下記一般式
（１）

【化８】 ［式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は前記と同一である。］で示
されるアミノメチレンピリミジン誘導体を製造する方法
に関する。

【００１０】Ｒ¹及びＲ²における前記直鎖または分岐の
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ
−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ
ｓｏ−ブチル基などを挙げることができるが、その炭素
数は１〜８が好ましい。前記シクロアルキル基として
は、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基など
を挙げることできる。前記アラルキル基としては、例え
ば、フェニルエチル基、フェニルプロピル基などを挙げ
ることができ、前記アリール基としては、例えば、非置
換またはメチル、メトキシ、エトキシ、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、ハロゲン、アセチル、シア
ノ等で置換されたフェニル基などを挙げることができ
る。またはＲ¹とＲ²は一緒にになってテトラメチレン
基、ペンタメチレン基、あるいはヘキサメチレン基を形
成してもよい。

【００１１】Ｒ³における前記直鎖または分岐のアルキ
ル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロ
ピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル
基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル
基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、２−エチルヘキ
シル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル
基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシ
ル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−
ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシ
ル基などを挙げることができるが、その炭素数は１〜８
が好ましい。前記アラルキル基としては、例えば、ベン
ジル基、フェニルエチル基などを挙げることができる。
前記シクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。前
記アリール基としては、例えば、非置換またはメチル、
エチル、メトキシ、エトキシ、メトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル、ハロゲン、アセチル、シアノ等で置
換されたフェニル基などを挙げることができる。前記ヒ
ドロキシル基を含むアルキル基としては、例えば、メチ
ロール基、エチロール基などを挙げることができる。前
記アルコキシカルボニルアルキレン基としては、例え
ば、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニル
メチル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニルメチル
基などを挙げることができる。前記酸素原子を含むアル
キル基としては、例えば、メトキシエチル基、エトキシ
エチル基、メトキシエチルオキシ基などを挙げることが
できる。

【００１２】前記反応は、通常１０〜６０℃、好ましく
は３０〜５０℃において実施する。

【００１３】この反応に用いられる有機溶剤としては、
一般式（２）および（３）を溶解するものであればとく
に制限はなく、芳香族炭化水素、ハロゲン化アルキルな
ど、例えば、トルエン、キシレン、ジクロロエチレン、
クロロホルムなどを挙げることができる。

【００１４】前記酸触媒としては、五塩化リン、三塩化
リン、オキシ塩化リン、チオニルクロライド、スルフリ
ルクロライドなどを挙げることができる。

【００１５】本発明において用いられる前記一般式
（１）で表されるアミノメチレンピリミジン誘導体の具
体例としては、例えば、下記の化合物を挙げることがで
きる。但し、化合物名の末尾の「−Ｔ」は「−２，４，
６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン」の略称である。
１，３−ジメチル−５−（４−エトキシフェニルアミノ
メチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジメチル−５−
（４−ｉ−プロポキシフェニルアミノメチレン）ピリミ
ジン−Ｔ、１，３−ジメチル−５−（４−ｉ−ブトキシ
フェニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジ
メチル−５−（４−ｓｅｃ−ブトキシフェニルアミノメ
チレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジメチル−５−（４
−ｔ−ブトキシフェニルアミノメチレン）ピリミジン−
Ｔ、１，３−ジメチル−５−（４−ｎ−ペンチルオキシ
フェニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジ
メチル−５−（４−ｎ−ヘキシルオキシフェニルアミノ
メチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジメチル−５−
（４−ｎ−ヘプチルオキシフェニルアミノメチレン）ピ
リミジン−Ｔ、１，３−ジメチル−５−（４−ｎ−ノニ
ルオキシフェニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、
１，３−ジメチル−５−（４−ｎ−デシルオキシフェニ
ルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジメチル
−５−（４−ｎ−ウンデシルオキシフェニルアミノメチ
レン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジメチル−５−（４−
ｎ−ドデシルオキシフェニルアミノメチレン）ピリミジ
ン−Ｔ、１，３−ジメチル−５−（４−ｎ−トリデシル
オキシフェニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，
３−ジメチル−５−（４−ｎ−テトラデシルオキシフェ
ニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジメチ
ル−５−（４−ｎ−ペンタデシルオキシフェニルアミノ
メチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジメチル−５−
（４−ｎ−ヘキサデシルオキシフェニルアミノメチレ
ン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジメチル−５−（４−ｎ
−ヘプタデシルオキシフェニルアミノメチレン）ピリミ
ジン−Ｔ、１，３−ジエチル−５−（４−メトキシフェ
ニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジエチ
ル−５−（４−エトキシフェニルアミノメチレン）ピリ
ミジン−Ｔ、１，３−ジエチル−５−（４−ｎ−プロポ
キシフェニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３
−ジエチル−５−（４−ｉ−プロポキシフェニルアミノ
メチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジエチル−５−
（４−ｎ−ブトキシフェニルアミノメチレン）ピリミジ
ン−Ｔ、１，３−ジエチル−５−（４−ｎ−ペンチルオ
キシフェニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３
−ジエチル−５−（４−ｎ−ヘキシルオキシフェニルア
ミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジエチル−５
−（４−ｎ−ヘプチルオキシフェニルアミノメチレン）
ピリミジン−Ｔ、１，３−ジエチル−５−［４−（２−
エチルヘキシルオキシフェニルアミノメチレン）］ピリ
ミジン−Ｔ、１，３−ジエチル−５−（４−ｎ−オクタ
デシルオキシフェニルアミノメチレン）ピリミジン−
Ｔ、１，３−ジメチル−５−（４−メトキシエチルフェ
ニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジメチ
ル−５−（４−エトキシエチルオキシフェニルアミノメ
チレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジメチル−５−（４
−メトキシカルボニルメチルオキシフェニルアミノメチ
レン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジメチル−５−（４−
エトキシカルボニルメチルオキシフェニルアミノメチレ
ン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジエチル−５−（４−メ
トキシエチルオキシフェニルアミノメチレン）ピリミジ
ン−Ｔ、１，３−ジエチル−５−（４−エトキシエチル
オキシフェニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，
３−ジエチル−５−（４−メトキシカルボニルメチルオ
キシフェニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３
−ジエチル−５−（４−エトキシカルボニルメチルオキ
シフェニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−
ジメチル−５−（２−エトキシフェニルアミノメチレ
ン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジメチル−５−（２−ｉ
−プロポキシフェニルアミノメチレン）ピリミジン−
Ｔ、１，３−ジメチル−５−（２−ｉ−ブトキシフェニ
ルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジメチル
−５−（２−ｓｅｃ−ブトキシフェニルアミノメチレ
ン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジメチル−５−（２−ｔ
−ブトキシフェニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、
１，３−ジメチル−５−（２−ｎ−ペンチルオキシフェ
ニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジメチ
ル−５−（２−ｎ−ヘキシルオキシフェニルアミノメチ
レン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジメチル−５−（２−
ｎ−ヘプチルオキシフェニルアミノメチレン）ピリミジ
ン−Ｔ、１，３−ジメチル−５−（２−ｎ−オクチルオ
キシフェニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３
−ジエチル−５−（２−メトキシフェニルアミノメチレ
ン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジエチル−５−（２−エ
トキシフェニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，
３−ジエチル−５−（２−ｎ−プロポキシフェニルアミ
ノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジエチル−５−
（２−ｉ−プロポキシフェニルアミノメチレン）ピリミ
ジン−Ｔ、１，３−ジエチル−５−（２−ｎ−ブトキシ
フェニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジ
エチル−５−（２−ｎ−ペンチルオキシフェニルアミノ
メチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジエチル−５−
（２−ｎ−ヘキシルオキシフェニルアミノメチレン）ピ
リミジン−Ｔ、１，３−ジエチル−５−（２−ｎ−ヘプ
チルオキシフェニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、
１，３−ジエチル−５−〔２−（２−エチルヘキシルオ
キシフェニルアミノメチレン）〕ピリミジン−Ｔ、１，
３−ジエチル−５−（２−ｎ−オクチルオキシフェニル
アミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジメチル−
５−（３−エトキシフェニルアミノメチレン）ピリミジ
ン−Ｔ、１，３−ジメチル−５−（３−ｉ−プロポキシ
フェニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジ
メチル−５−（３−ｉ−ブトキシフェニルアミノメチレ
ン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジメチル−５−（３−ｓ
ｅｃ−ブトキシフェニルアミノメチレン）ピリミジン−
Ｔ、１，３−ジメチル−５−（３−ｔ−ブトキシフェニ
ルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジメチル
−５−（３−ｎ−ペンチルオキシフェニルアミノメチレ
ン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジメチル−５−（３−ｎ
−ヘキシルオキシフェニルアミノメチレン）ピリミジン
−Ｔ、１，３−ジメチル−５−（３−ｎ−ヘプチルオキ
シフェニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−
ジメチル−５−（３−ｎ−ノニルオキシフェニルアミノ
メチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジメチル−５−
（３−ｎ−デシルオキシフェニルアミノメチレン）ピリ
ミジン−Ｔ、１，３−ジメチル−５−（３−ｎ−ウンデ
シルオキシフェニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、
１，３−ジメチル−５−（３−ｎ−ドデシルオキシフェ
ニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジメチ
ル−５−（３−ｎ−トリデシルオキシフェニルアミノメ
チレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジエチル−５−（３
−メトキシフェニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、
１，３−ジエチル−５−（３−エトキシフェニルアミノ
メチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジエチル−５−
（３−ｎ−プロポキシフェニルアミノメチレン）ピリミ
ジン−Ｔ、１，３−ジエチル−５−（３−ｉ−プロポキ
シフェニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−
ジエチル−５−（３−ｎ−ブトキシフェニルアミノメチ
レン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジエチル−５−（３−
ｎ−ペンチルオキシフェニルアミノメチレン）ピリミジ
ン−Ｔ、１，３−ジエチル−５−（３−ｎ−ヘキシルオ
キシフェニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３
−ジエチル−５−（３−ｎ−ヘプチルオキシフェニルア
ミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジエチル−５
−〔３−（２−エチルヘキシルオキシフェニルアミノメ
チレン）〕ピリミジン−Ｔ、１，３−ジエチル−５−
（３−ｎ−オクタデシルオキシフェニルアミノメチレ
ン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジメチル−５−（３−メ
トキシエチルオキシフェニルアミノメチレン）ピリミジ
ン−Ｔ、１，３−ジメチル−５−（３−エトキシエチル
オキシフェニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，
３−ジメチル−５−（３−メトキシカルボニルメチルオ
キシフェニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３
−ジメチル−５−（３−エトキシカルボニルメチルオキ
シフェニルアミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−
ジエチル−５−（３−メトキシエチルオキシフェニルア
ミノメチレン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジエチル−５
−（３−エトキシエチルオキシフェニルアミノメチレ
ン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジエチル−５−（３−メ
トキシカルボニルメチルオキシフェニルアミノメチレ
ン）ピリミジン−Ｔ、１，３−ジエチル−５−（３−エ
トキシカルボニルメチルオキシフェニルアミノメチレ
ン）ピリミジン−Ｔ等。

【００１６】下記一般式（２）

【化９】 〔式中、Ｒ¹およびＲ²は前記と同一である。〕の化合物
の具体例としては、バルビツル酸、１，３−ジメチル−
バルビツル酸、１，３−ジエチル−バルビツル酸、１，
３−ジ−ｎ−プロピル−バルビツル酸、１，３−ジ−ｉ
−プロピル−バルビツル酸、１，３−ジ−ｎ−ブチル−
バルビツル酸、１，３−ジ−ｉ−ブチル−バルビツル
酸、１，３−ジ−ｓｅｃ−ブチル−バルビツル酸、１，
３−ジ−ｎ−ペンチル−バルビツル酸、１，３−ジ−ｎ
−ヘキシル−バルビツル酸、１，３−ジ−ｎ−ヘプチル
−バルビツル酸、１，３−ジ−ｎ−オクチル−バルビツ
ル酸、１，３−ジフェニル−バルビツル酸、１，３−ジ
ベンジル−バルビツル酸、１，３−ジシクロヘキシル−
バルビツル酸、１，３−ジ−ｏ−トリル−バルビツル
酸、１，３−ジ−ｍ−トリル−バルビツル酸、１，３−
ジ−ｐ−トリル−バルビツル酸、１，３−ジ−ｏ−アニ
シル−バルビツル酸、１，３−ジ−ｍ−アニシル−バル
ビツル酸、１，３−ジ−ｐ−アニシル−バルビツル酸、
１，３−ジ−ｏ−クロロフェニル−バルビツル酸、１，
３−ジ−ｍ−クロロフェニル−バルビツル酸、１，３−
ジ−ｐ−クロロフェニル−バルビツル酸、１，３−ジ−
ｏ−ブロモフェニル−バルビツル酸、１，３−ジ−ｍ−
ブロモフェニル−バルビツル酸、１，３−ジアリル−バ
ルビツル酸、１，３−ジ−（２−メチルシクロヘキシ
ル）−バルビツル酸、１，３−ジ−（３−メチルシクロ
ヘキシル）−バルビツル酸、１，３−ジ−（４−メチル
シクロヘキシル）−バルビツル酸などが挙げられる。

【００１７】下記一般式（３）

【化１０】 〔式中、Ｒ³は前記と同一である。〕の化合物の具体例
としては、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）ホルムアミ
ド、Ｎ−（４−メトキシフェニル）ホルムアミド、Ｎ−
（４−エトキシフェニル）ホルムアミド、Ｎ−（４−ｎ
−ブトキシフェニル）ホルムアミド、Ｎ−（４−ｉ−ブ
トキシフェニル）ホルムアミド、Ｎ−（４−ｓｅｃ−ブ
トキシフェニル）ホルムアミド、Ｎ−（４−ｎ−ペンチ
ルオキシフェニル）ホルムアミド、Ｎ−（４−ｎ−ヘキ
シルオキシフェニル）ホルムアミド、Ｎ−（４−ｎ−ヘ
プチルオキシフェニル）ホルムアミド、Ｎ−（４−ｎ−
オクチルオキシフェニル）ホルムアミド、Ｎ−〔４−
（２−エチルヘキシルオキシフェニル）〕ホルムアミ
ド、Ｎ−（４−ｎ−ノニルオキシフェニル）ホルムアミ
ド、Ｎ−（４−ｎ−デシルオキシフェニル）ホルムアミ
ド、Ｎ−（４−ｎ−ウンデシルオキシフェニル）ホルム
アミド、Ｎ−（４−ｎ−トリデシルオキシフェニル）ホ
ルムアミド、Ｎ−（４−ｎ−テトラデシルオキシフェニ
ル）ホルムアミド、Ｎ−（４−ｎ−ペンタデシルオキシ
フェニル）ホルムアミド、Ｎ−（４−ｎ−ヘキサデシル
オキシフェニル）ホルムアミド、Ｎ−（４−ｎ−ヘプタ
デシルオキシフェニル）ホルムアミド、Ｎ−（４−ｎ−
オクタデシルオキシフェニル）ホルムアミド、Ｎ−（４
−ｎ−ノナデシルオキシフェニル）ホルムアミド、Ｎ−
（４−メトキシエチルオキシフェニル）ホルムアミド、
Ｎ−（４−エトキシエチルオキシフェニル）ホルムアミ
ド、Ｎ−（４−ｎ−プロポキシエチルオキシフェニル）
ホルムアミド、Ｎ−（４−メトキシカルボニルメチルオ
キシフェニル）ホルムアミド、Ｎ−（４−エトキシカル
ボニルメチルオキシフェニル）ホルムアミド、Ｎ−（４
−ｎ−プロポキシカルボニルメチルオキシフェニル）ホ
ルムアミド、Ｎ−（４−シクロペンチルオキシフェニ
ル）ホルムアミド、Ｎ−（４−シクロヘキシルオキシフ
ェニル）ホルムアミド、Ｎ−（４−フェニルオキシフェ
ニル）ホルムアミド、Ｎ−（４−ベンジルオキシフェニ
ル）ホルムアミド、Ｎ−（４−フェニルエチルオキシフ
ェニル）ホルムアミド、Ｎ−（４−フェニルプロピルオ
キシフェニル）ホルムアミド、Ｎ−（４−フェニルブチ
ルオキシフェニル）ホルムアミド、Ｎ−（２−または３
−ヒドロキシフェニル）ホルムアミド、Ｎ−（２−また
は３−メトキシフェニル）ホルムアミド、Ｎ−（２−ま
たは３−エトキシフェニル）ホルムアミド、Ｎ−（２−
または３−ｎ−ブトキシフェニル）ホルムアミド、Ｎ−
（２−または３−ｉ−ブトキシフェニル）ホルムアミ
ド、Ｎ−（２−または３−ｓｅｃ−ブトキシフェニル）
ホルムアミド、Ｎ−（２−または３−ｎ−ペンチルオキ
シフェニル）ホルムアミド、Ｎ−（２−または３−ｎ−
ヘキシルオキシフェニル）ホルムアミド、Ｎ−（２−ま
たは３−ｎ−ヘプチルオキシフェニル）ホルムアミド、
Ｎ−（２−または３−ｎ−オクチルオキシフェニル）ホ
ルムアミド、Ｎ−（２−または３−メトキシエチルオキ
シフェニル）ホルムアミド、Ｎ−（２−または３−エト
キシエチルオキシフェニル）ホルムアミド、Ｎ−（２−
または３−ｎ−プロポキシエチルオキシフェニル）ホル
ムアミド、Ｎ−（２−または３−メトキシカルボニルメ
チルオキシフェニル）ホルムアミド、Ｎ−（２−または
３−エトキシカルボニルメチルオキシフェニル）ホルム
アミドなどが挙げられる。

【００１８】一般式（１）で表される化合物によって安
定化された有機物質、例えば化粧料や高分子材料は、慣
用の添加物をさらに含有してもよく、例えば酸化防止
剤、光安定剤、金属不活性化剤、過酸化物スカベンジャ
ーを含有してもよい。

【００１９】前記有機高分子物質としては、天然または
合成高分子物質のいずれでもよく、セルロース、ＣＭ
Ｃ、天然ゴム、ＳＢＲ、ＮＢＲなどの合成ゴム、ポリエ
チレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、ポリエ
ステル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリ塩化ビニルな
どの合成樹脂などを挙げることができる。

【００２０】本発明による化合物の他に添加されてもよ
い酸化防止剤としては、例えば２，６−ジ−ｔｅｒｔ−
ブチル−４−メチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−４，６
−ジメチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル
−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ
−ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジ−シ
クロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチ
ルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、
２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，
４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジノ
ニル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−
ブチル−４−メトキシメチルフェノール、２，４−ジメ
チル−６−（１′−メチル−ウンデカ−１′−イル）−
フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−
ヘプタデカ−１′−イル）−フェノール、２，４−ジメ
チル−６−（１′−メチル−トリデカ−１′−イル）−
フェノールおよびそれらの混合物、２，４−ジ−オクチ
ルチオメチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，
４−ジ−オクチルチオメチル−６−メチルフェノール、
２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−エチルフェノー
ル、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェ
ノールおよびそれらの混合物、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−
ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−ｔｅｒ
ｔ−ブチルハイドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ア
ミルハイドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタ
デシルオキシフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチ
ルハイドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４
−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ
−ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス
（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）アジペートおよびそれらの混合物、２，４−ビス
−オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−
ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリ
アジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，
５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）
−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−
４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，
４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、１，
３，５−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキ
シ−２，６−ジメチルベンジル）−イソシアヌレート、
２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリア
ジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサ
ヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス
（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−イソシアヌレート等および２，２′−メチレンビ
ス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、
２，２′−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−
エチルフェノール）、２，２′−エチリデンビス（４，
６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２′−エ
チリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチル
フェノール）、４，４′−メチレンビス（２，６−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４′−メチレンビ
ス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、
１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
−２−メチルフェニル）ブタン、エチレングリコールビ
ス〔３，３′−ビス（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−４′−
ヒドロキシフェニル）ブチレート〕等ならびに１，３，
５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、
１，４−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベ
ンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−
４−ヒドロキシベンジル）−フェノール等を挙げること
ができる。

【００２１】本発明による化合物の他に添加されてもよ
い光安定剤としては、例えば２−（２′−ヒドロキシ−
５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキ
シフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５′−ｔｅｒ
ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリア
ゾール、２−〔２′−ヒドロキシ−５′−（１，１，
３，３−テトラメチルブチル）フェニル〕ベンゾトリア
ゾール、２−（３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−
２′−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリア
ゾール、２−（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロ
キシ−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾール、２−（２′−ヒドロキシ−４′−オクトキシ
フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′，５′−ジ
−ｔｅｒｔ−アミル−２′−ヒドロキシフェニル）ベン
ゾトリアゾール、２−〔３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′
−ヒドロキシ−５′−（２′−オクチルオキシカルボニ
ルエチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
等：４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキ
シ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４
−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒドロキシ
−、２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ−または
４−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシベ
ンゾフェノン誘導体等：４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル
サリシレート、フェニル サリシレート、オクチルフ
ェニル サリシレート、ジベンゾイルレゾルシノール、
ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイルレゾルシノー
ル、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル３，５−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘ
キサデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシベンゾエート等：エチル α−シアノ−β，β−ジ
フェニルアクリレート、イソオクチル α−シアノ−
β，β−ジフェニルアクリレート、メチル α−カルボ
メトキシシンナメート、メチル α−シアノ−β−メチ
ル−ｐ−メトキシシンナメート等：ビス（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）サ
クシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル
−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオ
キシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメ
チル−４−ピペリジル）アジペート等：４，４′−ジ−
オクチルオキシオキザニリド、２，２′−ジエトキシオ
キシオキザニリド、２，２′−ジ−オクチルオキシ−
５，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルオキザニリド、２，
２′−ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジ−ｔｅｒｔ−
ブチルオキザニリド、２−エトキシ−２′−エチルオキ
ザニリド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプロピ
ル）オキザニリド、２−エトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−２′−エトキシオキザニリド等：２，４，６−トリ
ス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジ
メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキ
シフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジ
メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げら
れる。

【００２２】本発明による化合物の他に添加されてもよ
い金属不活性化剤としては、例えばＮ，Ｎ′−ジフェニ
ルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サルチラル−Ｎ′−サリチロ
イルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）ヒド
ラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジ
ン、３−サリチロイルアミノ−１，２，３−トリアゾー
ル、ビス（ベンジリデン）シュウ酸ヒドラジド、イソフ
タル酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ジアセタール−アジピ
ン酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ビス−サリチロイルシュ
ウ酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ビス−サリチロイル−チ
オプロピオン酸ジヒドラジド等が挙げられる。

【００２３】本発明による化合物の他に添加されてもよ
い過酸化物スカベンジャーとして、例えば、ジラウリル
−チオジプロピオネート、ジステアリル−チオジプロピ
オネート、ジミリスチル−チオジプロピオネートまたは
ジトリデシル−チオジプロピオネート、チオジプロピオ
ネート、２−メルカプトベンズイミダゾール、ペンタエ
リスリトールテトラキス（ドデシルメルカプト）プロピ
オネート等が挙げられる。

【００２４】本発明の一般式（１）のアミノメチレンピ
リミジン誘導体の最大吸収領域は３３０〜３６０ｎｍの
範囲であり、従来公知のＵＶ−Ｂ領域の紫外線吸収剤に
比べ、優れた紫外線吸収能力を有しており、皮膚に対す
る刺激性、更に、その他の有害性もなく、化粧料基剤と
の相溶性に優れ、また、経皮吸収されにくい等の好まし
い特徴を有する。

【００２５】本発明の前記アミノメチレンピリミジン誘
導体（１）を有する化粧料は、常法により前記公知の化
粧料基剤に配合し、クリーム、溶液、油剤、スプレー、
スティック、乳液、ファンデーション、軟膏に調剤する
ことにより製造される。

【００２６】本発明化粧料中の前記アミノメチレンピリ
ミジン誘導体（１）の配合量は、使用形態により変動し
得るので特に限定されず、有効量混在すればよいが、一
般には組成物中に０．１〜２０重量％、好ましくは０．
５〜５重量％となるように配合するのがよい。また、本
発明の前記アミノメチレンピリミジン誘導体（１）は、
そのもののみ配合したものでよいが、更に、他のＵＶ−
Ｂ吸収剤と組み合わせて通常の日焼け止め化粧料として
使用することにより好ましい効果を発揮する。

【００２７】本発明に係る化粧料である皮膚外用剤の基
剤は、前記アミノメチレンピリミジン誘導体に対し不活
性のものであればよく、固体、液体、乳剤、泡状液、ゲ
ル等のいずれであってもよい。本発明の化粧品基剤とし
ては、例えば、オリーブ油、ツバキ油、綿実油、ヒマシ
油、大豆油、ヤシ油、カカオ脂、ラノリン、蜜ロウ、カ
ルナバロウ、硬化油、ステアリン酸、パルミチン酸、ミ
リスチン酸、アスコルビン酸、ベヘニン酸、またはそれ
らのエステル、またはそれらの金属塩類、デシルエチ
ル、オレイル、ラウリル、セチルまたはステアリルアル
コール等の高級アルコール類が挙げられる。合成油とし
ては、例えば、スクワランモノステアリン酸グリセライ
ド、合成ポリエーテル油類、ソルビタンモノオレート、
ラノリン及びその水素添加物または、スクワラン類が挙
げられる。鉱物油としては、例えば、パラフィン、ワセ
リン、流動パラフィン、マイクロクリスタルワックス等
が挙げられる。更には、シリコン油、ポリエーテル類、
ジアルキルシロキサン類、澱粉またはタルク等の微粉
末、スイッチスバウト型噴射剤として使用される低沸点
炭化水素またはハロゲンを有する炭化水素等が挙げられ
る。

【００２８】本発明の前記アミノメチレンピリミジン誘
導体（１）は種々の添加剤とともに化粧料に配合して使
用することができるが、前記適当な添加剤としては、例
えばＷ／Ｏ型またはＯ／Ｗ型の乳化剤が挙げられる。乳
化剤としては、市販の乳化剤でよく、また、エチルセル
ロース、ポリアクリル酸、ゼラチン、寒天等の増粘剤も
必要に応じて加えることもできる。更に、必要に応じて
香料、保湿剤、乳化安定剤、薬効成分など添加してもよ
い。

【００２９】保湿剤としては、例えば、グリセリン、プ
ロピレングリコール、ソルビット、ポリエチレングリコ
ール、ピロリドンカルボン酸ナトリウム等が挙げられ
る。粘着剤としては、例えば、ポリビニールアルコー
ル、カルボキメチルセルロースナトリウム塩、アルギン
酸ナトリウム塩、プロピレングリコールエステル等が挙
げられる。保存剤としては、例えば、安息香酸、ソルビ
ン酸、デヒドロ酢酸、ｐ−オキシ安息香酸エステル類等
が挙げられる。溶剤としては、例えば、エタノール、ア
セトン、酢酸エステル、イソプロパノール等が挙げられ
る。乳化剤としては、例えば、ポリグリセリン脂肪酸エ
ステル、ポリオキシエチレンラノリン誘導体、ポリオキ
シエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチ
レンポリオキシプロピレンアルキルエーテル、ポリオキ
シエチレンソルビトール脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸
エステル、プロピレングリコール脂肪酸エステル等が挙
げられる。

【００３０】

【実施例】以下、本発明化合物の合成例を挙げて本発明
を具体的に説明するが、これらは好ましい実施態様の例
示に過ぎず、本発明はこれらの実施例だけに限定するも
のではない。

【００３１】実施例１ １，３−ジメチル−５−（４−メトキシフェニルアミノ
メチレン）−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリ
オン［一般式（１）において、Ｒ¹＝Ｒ²＝メチル、Ｒ³
＝４−メトキシ］の合成 バルビツル酸０．２０モル、Ｎ−（４−メトキシフェニ
ル）ホルムアミド０．５０モル及びトルエン２５ｍｌの
撹拌した懸濁液に、オキシ塩化リン０．５０モルを１５
分間にわたって加える。この添加中、温度は４５℃以下
に保持する。撹拌を１０分間続け、その後、２５０ｍｌ
のトルエン中のバルビツル酸０．３０モルの溶液を、６
０〜６５℃において、４５分間にわたって加える。この
反応混合物を撹拌しながら室温まで冷却させ、次いで１
５％の水酸化ナトリウム溶液６００ｍｌ中に滴下して加
えることによって、反応を止める。この有機層を飽和食
塩水２００ｍｌで洗う。有機層を分取し、無水硫酸ナト
リウム上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮すると粗生成
物が得られる。ジオキサンから再結晶させると融点１９
０〜１９１℃の精製物が得られる。この精製物の物性は
下記のとおりである。

【００３２】紫外吸収スペクトル（クロロホルム）：λ
max（ｎｍ） ３５６．５ εmax ２９，１００ 赤外吸収スペクトル：ｃｍ^-1（ＫＢｒ）１７２２（ラク
トン Ｃ＝Ｏ）、１６５２、１２３６（複素環吸収）、
１４８０（＊）、１２６０（Ｃ−Ｏ−Ｃ）

【化１１】

【００３３】実施例２ １，３−ジメチル−５−（４−エトキシフェニルアミノ
メチレン）−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリ
オン［一般式（１）において、Ｒ¹＝Ｒ²＝メチル、Ｒ³
＝エチル］の合成 Ｎ−（４−メトキシフェニル）ホルムアミドをＮ−（４
−エトキシフェニル）ホルムアミドに置き換えたことを
除いては実施例１と同様の手法を繰り返した。精製物の
融点は１９８〜１９８．５℃であり、その物性は下記の
とおりである。

【００３４】紫外吸収スペクトル（クロロホルム）：λ
max（ｎｍ） ３５７．５ εmax ３１，６００ 赤外スペクトル：ｃｍ^-1（ＫＢｒ）１７１８（ラクトン
Ｃ＝Ｏ）、１６６０、１６３６（複素環吸収）、１５
２０（＊）、１２５８（Ｃ−Ｏ−Ｃ）

【化１２】

【００３５】実施例３ １，３−ジメチル−５−（４−ｉ−プロポキシフェニル
アミノメチレン）−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）
−トリオン［一般式（１）において、Ｒ¹＝Ｒ²＝メチ
ル、Ｒ³＝ｉ−プロピル］の合成 Ｎ−（４−メトキシフェニル）ホルムアミドをＮ−（４
−エトキシフェニル）ホルムアミドに置き換えたことを
除いては実施例１と同様の手法を繰り返した。精製物の
融点は１４４．５〜１４５．５℃であり、その物性は下
記のとおりである。

【００３６】紫外吸収スペクトル（クロロホルム）：λ
max（ｎｍ） ３５８ εmax ３２，９００ 赤外スペクトル：ｃｍ^-1（ＫＢｒ）１７１８（ラクトン
Ｃ＝Ｏ）、１６６０、１６５０（複素環吸収）、１４
７８（＊）、１２５８（Ｃ−Ｏ−Ｃ）

【化１３】

【００３７】実施例４ １，３−ジメチル−５−（４−ｎ−ブトキシフェニルア
ミノメチレン）−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−
トリオン［一般式（１）において、Ｒ¹＝Ｒ²＝メチル、
Ｒ³＝ｎ−ブチル］の合成 Ｎ−（４−メトキシフェニル）ホルムアミドをＮ−（４
−ｎ−ブトキシフェニル）ホルムアミドに置き換えたこ
とを除いては実施例１と同様の手法を繰り返した。精製
物の融点は１２７〜１２８．５℃であり、その物性は下
記のとおりである。

【００３８】紫外吸収スペクトル（クロロホルム）：λ
max（ｎｍ） ３５７．５ εmax ２９,１００ 赤外吸収スペクトル：（ＫＢｒ）ｃｍ^-1 １７２０（ラ
クトン Ｃ＝Ｏ），１６６２、１６３２（複素環吸
収）、１４８０（＊）、１２５８（Ｃ−Ｏ−Ｃ）

【化１４】

【００３９】実施例５ Ｎ−［４−（２−エチルヘキシルオキシ）フェニルアミ
ノメチレン］−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−ト
リオン［一般式（１）において、Ｒ¹＝Ｒ²＝メチル、Ｒ
³＝２−エチルヘキシル］の合成 Ｎ−（４−メトキシフェニル）ホルムアミドをＮ−［４
−（２−エチルヘキシルオキシ）フェニル］ホルムアミ
ドに置き換えたことを除いては実施例１と同様の手法を
繰り返した。精製物の融点は８８．５〜９０℃であり、
その物性は下記のとおりである。

【００４０】紫外吸収スペクトル（クロロホルム）：λ
max ３５８．５ εmax ５０，５００ 赤外吸収スペクトル：（ＫＢｒ）ｃｍ^-1 １７２０（ラ
クトン Ｃ＝Ｏ），１６６０，１６３２（複素環吸
収）、１４８２（＊）、１２５８（Ｃ−Ｏ−Ｃ）

【化１５】

【００４１】実施例６ 以下、本発明に係る皮膚外用剤の具体的な配合例につい
て説明する。表１のような処方により、実施例４の化合
物「１，３−ジメチル−５−（４−ｎ−ブトキシフェニ
ルアミノメチレン）−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５
Ｈ）−トリオン」を配合した美容液、対照例１の化合物
「２，２′，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェノ
ン」を配合した美容液および対照例２の化合物「ｐ−メ
トキシ桂皮酸 ２−エチルヘキシル」を配合した美容液
を製造した。

【００４２】

【表１】 比較対照例１は淡黄色を呈し美容液状が得られなかっ
た。

【００４３】日焼け止め効果の確認 実施例５で製造した配合例と２つの比較対照例の美容液
をそれぞれ皮膚に塗布し海浜での実使用の効果テストを
行った。サンプル液を男女それぞれ１０名の背中に左右
半分ずつ塗布し、日焼け度合いを調べ、その結果を表２
に示す。判定基準は日焼けの度合いに応じて以下の評価
基準とした。 評価基準 紅斑が認められない 〇 僅かに紅斑が認められた △ 強い紅斑が認められた ×

【００４４】

【表２】

【００４５】高分子物質に対する光安定化効果 ポリエチレン粉末及びポリプロピレン粉末１００重量部
に、実施例１で製造したサンプルを、それぞれ０．０５
重量部、０．２重量部及び０．５重量部を配合して、ミ
キサーで十分混合した後、シリンダー温度２００℃、２
５ｍｍ径押出機によって溶融混練して造粒した。得られ
たペレットを２１０℃で、厚さ０．２５ｍｍのシートに
圧縮成型して試験片を作成した。得られた試験片は、引
張り試験に対応するダンベル型に打ち抜いた。上記と同
様の方法にて光安定剤無添加の比較対照用の試験片を作
成し、評価を行った。

【００４６】これらの試験片をスガ試験機株式会社製Ｗ
ＥＬ−７５ＸＳ−ＨＳ−ＢＥＣ型キセノン・サンシャイ
ンロングライフウェザーオメーターを用い、ブラックパ
ネル温度８０℃で光照射して、各々の試験片の引張り強
度低下の径時変化を比較した。引張り試験は島津製作所
（株）製ＤＳＳ−５０００型引張試験機を用い、温度２
３±２℃、相対湿度５０±５％、試験速度毎分５０±
５．０ｍｍで行った。引張り強度は以下の方法により求
めた。

【数１】 Ｔｓ＝引張り強度 （ｋｇｆ／ｍｍ²） Ｔ＝サンプルの厚み （ｍｍ） Ｗ＝サンプルの幅 （ｍｍ） Ｓ＝サンプルの最大強度 （ｋｇｆ）

【００４７】得られた結果は表３に示す通りであった。
表３に示した結果から明らかなように、本発明によるア
ミノメチレンピリミジン誘導体は優れた安定化効果（す
なわち劣化時間の延長）を示す。

【００４８】

【表３】

【００４９】

【効果】

（１）本発明により、紫外線吸収剤などとしての用途を
有する新規なアミノメチレンピリミジン誘導体とその製
造方法を提供できた。 （２）本発明により、ＵＶ−Ａ領域の紫外線に対して、
従来の紫外線吸収剤よりすぐれた吸収能力を示し、また
これを用いた化粧料は皮膚を痛めにくく、該化合物が経
皮吸収されにくいという特性を示す。 （３）高分子化合物の安定剤としても有用である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０９Ｋ 15/30 Ｃ０９Ｋ 15/30

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（１） 【化１】 ［式中、Ｒ¹及びＲ²は水素原子、直鎖または分岐のアル
   キル基、シクロアルキル基、アラルキル基およびアリー
   ル基よりなる群から独立して選ばれた基であり、Ｒ³は
   直鎖または分岐のアルキル基、アラルキル基、アリール
   基、シクロアルキル基、ハイドロキシル基を含むアルキ
   ル基、アルコキシカルボニルアルキレン基および酸素原
   子を含むアルキル基よりなる群から選ばれた基を表
   す。］で示されるアミノメチレンピリミジン誘導体。
2. 【請求項２】 請求項１記載のアミノメチレンピリミジ
   ン誘導体を含有する紫外線吸収剤。
3. 【請求項３】 請求項１記載のアミノメチレンピリミジ
   ン誘導体を含有する化粧料。
4. 【請求項４】 請求項１記載のアミノメチレンピリミジ
   ン誘導体を含有する耐候性有機高分子組成物。
5. 【請求項５】 下記一般式（２） 【化２】 ［式中、Ｒ¹およびＲ²は水素原子、直鎖または分岐のア
   ルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基およびアリ
   ール基よりなる群から独立して選ばれた基を表す。］で
   示される１，３−ジ置換バルビツル酸誘導体と、下記一
   般式（３） 【化３】 ［式中、Ｒ³は直鎖または分岐のアルキル基、アラルキ
   ル基、アリール基、シクロアルキル基、ハイドロキシル
   基を含むアルキル基、アルコキシカルボニルアルキレン
   基および酸素原子を含むアルキル基よりなる群から選ば
   れた基を表す。］で示されるＮ−（ｏ−、ｍ−またはｐ
   −置換フェニル）ホルムアミド誘導体を、有機溶剤中酸
   触媒存在下で反応させることを特徴とする下記一般式
   （１） 【化４】 ［式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は前記と同一である。］で示
   されるアミノメチレンピリミジン誘導体を製造する方
   法。