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JPH1092180A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

Info

Publication number
JPH1092180A
JPH1092180A JP8245262A JP24526296A JPH1092180A JP H1092180 A JPH1092180 A JP H1092180A JP 8245262 A JP8245262 A JP 8245262A JP 24526296 A JP24526296 A JP 24526296A JP H1092180 A JPH1092180 A JP H1092180A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory cell
memory cells
word line
memory
block
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8245262A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Takahashi
博 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Texas Instruments Japan Ltd
Original Assignee
Texas Instruments Japan Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Texas Instruments Japan Ltd filed Critical Texas Instruments Japan Ltd
Priority to JP8245262A priority Critical patent/JPH1092180A/en
Publication of JPH1092180A publication Critical patent/JPH1092180A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize a semiconductor memory device which enables the reduction of a power consumption. SOLUTION: A memory cell array 21a is divided into a plurality of blocks BLK0a-BLK3a. Word lines are classified into a global word line through which driving signals are propagated in accordance with address designation and local word lines LWL00, LWL10, LWL20 and LWL30 which are provided in the respective memory blocks and to which memory cells in same columns are connected in common. Block selection circuits 22a-1 and 22a-2 which connect selectively only the local word lines LWL00, LWL10, LWL20 and LWL30 to which the memory cells whose addresses are designated are connected to the global word line through which the driving signals are propagated are provided. With this constitution, the number of the memory cells whose addresses are designated and the number of the memory cells whose access transistors are driven are not the number of all the cells in one column of the array but can be reduced to the number of the memory cells provided in the divided block only, so that a power consumption can be reduced.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、たとえばSRAM
(Static Random Access Memory) 等の半導体記憶装置に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention
(Static Random Access Memory) and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】図7は、一般的なSRAM装置の構成を
示すブロック図である。このSRAM装置10は、図7
に示すように、メモリセルアレイ11a,11b、プリ
チャージ回路12a,12b、カラムゲート群13a,
13b、読出/書込回路(R/W)群14a,14b、
およびローデコーダ15により構成されている。
2. Description of the Related Art FIG. 7 is a block diagram showing a configuration of a general SRAM device. This SRAM device 10 has the structure shown in FIG.
As shown in FIG. 2, the memory cell arrays 11a and 11b, the precharge circuits 12a and 12b, the column gate groups 13a,
13b, read / write circuit (R / W) groups 14a, 14b,
And a row decoder 15.

【0003】メモリセルアレイ11a,11bは、ロー
デコーダ15を挟んで並列して配置されており、それぞ
れメモリセルMCがm行64列のマトリクス状に配列さ
れている。そして、各メモリセルアレイ11a,11b
は、列方向に4セルずつを1ブロックとして16個のメ
モリセルブロックBLK0a〜BLK15a、BLK0
b〜BLK15bに分割されている。
The memory cell arrays 11a and 11b are arranged in parallel with a row decoder 15 interposed therebetween, and each memory cell MC is arranged in a matrix of m rows and 64 columns. Then, each of the memory cell arrays 11a, 11b
Are 16 memory cell blocks BLK0a to BLK15a, BLK0 with four cells as one block in the column direction.
b to BLK15b.

【0004】各メモリセルMCは、図8に示すように、
インバータINV1,IN2の入出力同士を交差結合し
てなるラッチ回路LTCと、ラッチ回路LTCの2つの
記憶ノードND1,ND2とビット線BL,反ビット線
BLBとの間に接続され、ゲートがワード線WLに共通
に接続されたアクセストランジスタAT1,AT2によ
り構成されている。
Each memory cell MC has, as shown in FIG.
A latch circuit LTC is formed by cross-connecting the inputs and outputs of the inverters INV1 and IN2, and two storage nodes ND1 and ND2 of the latch circuit LTC are connected to the bit line BL and the anti-bit line BLB. It comprises access transistors AT1 and AT2 commonly connected to WL.

【0005】そして、同一行に配置されたメモリセルM
CのアクセストランジスタAT1,AT2のゲートはロ
ーデコーダ15により選択的に駆動信号が印加され駆動
される同一のワード線に接続され、同一列に配置された
メモリセルMCの2つの記憶ノードND1,ND2はア
クセストランジスタAT1,AT2により対をなすビッ
ト線BL,BLBに作動的に接続される。
The memory cells M arranged in the same row
The gates of the C access transistors AT1 and AT2 are connected to the same word line to which a drive signal is selectively applied and driven by the row decoder 15, and the two storage nodes ND1 and ND2 of the memory cells MC arranged in the same column. Are operatively connected to a pair of bit lines BL and BLB by access transistors AT1 and AT2.

【0006】また、プリチャージ回路12a,12b
は、アクセス開始前に、ビット線対BL,BLBを所定
電位、たとえば電源電圧VDDにプリチャージする。
The precharge circuits 12a, 12b
Precharges a pair of bit lines BL and BLB to a predetermined potential, for example, power supply voltage V DD before starting access.

【0007】カラムゲート群13a,13b、読出/書
込回路群15a,15bは、各メモリセルブロックBL
K0a〜BLK15a、BLK0b〜BLK15bの配
列幅に合わせて形成されており、各ブロックに対応して
設けられている。
The column gate groups 13a and 13b and the read / write circuit groups 15a and 15b correspond to each memory cell block BL.
It is formed in accordance with the arrangement width of K0a to BLK15a and BLK0b to BLK15b, and is provided corresponding to each block.

【0008】このような構成において、たとえばメモリ
セルアレイ11aの1行1列目のメモリセルMC(図7
中、*で示す)をアドレス指定してデータの読み出しを
行う場合、まず、プリチャージ回路12aによりメモリ
セルアレイ11a側の全ビット線対BL,BLBが電源
電圧VDDレベルにプリチャージされる。
In such a configuration, for example, memory cell MC in the first row and first column of memory cell array 11a (see FIG. 7)
When data is read by addressing (indicated by *), first, all bit line pairs BL and BLB on the memory cell array 11a side are precharged to the power supply voltage VDD level by the precharge circuit 12a.

【0009】このプリチャージ状態で、アドレス指定さ
れたワード線WL0が選択され、ローデコーダ15より
そのワード線WLにハイレベルの駆動信号が印加され
る。このとき、その他のワード線はローレベルのままに
保持される。
In this precharge state, the addressed word line WL0 is selected, and a high-level drive signal is applied to the word line WL from the row decoder 15. At this time, the other word lines are kept at the low level.

【0010】ワード線WL0にハイレベルの駆動信号が
印加されたことに伴い、メモリセルアレイ11aの1行
目に配置されている64個のメモリセルMCの2個のア
クセストランジスタAT1,AT2が導通状態に保持さ
れる。その結果、各メモリセルの相補的なレベルをとる
2つの記憶ノードND1,ND2のデータがビット線対
BL,BLBに出力される。これにより、ビット線BL
B,BLB間に電位差が生じる。そして、アドレス指定
に基づいてメモリセルMC*が接続されたビット線対が
接続されているカラムゲートのみが導通状態に保持さ
れ、これらビット線対BL,BLBへの読み出しデータ
が読出/書込回路群14aの対応する回路の図示しない
センスアンプに入力され、読み出される。
When a high-level drive signal is applied to word line WL0, two access transistors AT1 and AT2 of 64 memory cells MC arranged in the first row of memory cell array 11a are turned on. Is held. As a result, data of two storage nodes ND1 and ND2 having complementary levels of each memory cell are output to bit line pair BL and BLB. Thereby, the bit line BL
A potential difference occurs between B and BLB. Then, based on the address designation, only the column gate to which the bit line pair to which the memory cell MC * is connected is held in the conductive state, and the read data to these bit line pairs BL and BLB is read / written by the read / write circuit. The data is input to and read from a sense amplifier (not shown) of the corresponding circuit of the group 14a.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た回路では、一つのメモリセルを選択してデータを読み
出す場合であっても、選択したメモリセルMC*と同一
の行に配置されている残り63個のメモリセルは、同一
のワード線WL0に共通に接続されていることから、6
4個のメモリセルの2個のアクセストランジスタAT
1,AT2、すなわち128個のアクセストランジスタ
のすべてが導通状態に保持され、各記憶ノードND1,
ND2のデータが64組のビット線対BL,BLBに出
力され、記憶データに基づいて充放電が行われ、無駄な
電力消費が行われるという不利益がある。特に、電源電
圧VDDレベルにプリチャージされているビット線対の放
電に基づく電力消費が大きい。また、この不利益は、い
わゆるデュアルアクセスモードの場合には、さらに深刻
である。
However, in the above-described circuit, even when one memory cell is selected and data is read, the remaining 63 cells arranged in the same row as the selected memory cell MC * are used. Memory cells are commonly connected to the same word line WL0.
Two access transistors AT of four memory cells
1, AT2, that is, all of the 128 access transistors are kept conductive, and each storage node ND1,
ND2 data is output to 64 bit line pairs BL and BLB, charging and discharging are performed based on the stored data, and there is a disadvantage that wasteful power consumption is performed. In particular, power consumption is large due to the discharge of the bit line pair precharged to the power supply voltage V DD level. This disadvantage is even more serious in the case of the so-called dual access mode.

【0012】本発明は、かかる事情に鑑みてなされたも
のであり、その目的は、低消費電力化を図れる半導体記
憶装置を提供することにある。
The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of reducing power consumption.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、複数のメモリセルが行列状に配置され、
同一行に配置されたメモリセルが同一の駆動信号で駆動
され、駆動されたメモリセルとビット線との間でデータ
の授受を行わせる半導体記憶装置であって、上記複数の
メモリセルが列方向に複数のメモリセルブロックに分割
され、かつ、アドレス指定に基づいて上記駆動信号が伝
搬されるグローバルワード線と、各メモリセルブロック
毎に設けられ、メモリセルブロックの同一行のメモリセ
ルが共通に接続されたローカルワード線と、アドレス指
定されたメモリセルが接続されている所定メモリセルブ
ロックのローカルワード線のみを上記駆動信号が伝搬さ
れたグローバルワード線に選択的に接続する選択回路と
を有する。
In order to achieve the above object, the present invention provides a memory system comprising a plurality of memory cells arranged in a matrix,
A semiconductor memory device in which memory cells arranged in the same row are driven by the same drive signal and transmit and receive data between the driven memory cells and bit lines, wherein the plurality of memory cells are arranged in a column direction. And a global word line through which the drive signal is propagated based on the address specification, and a memory cell block provided for each memory cell block, and the memory cells in the same row of the memory cell block are commonly shared. A connected local word line, and a selection circuit for selectively connecting only the local word line of the predetermined memory cell block to which the addressed memory cell is connected to the global word line to which the drive signal has been transmitted. .

【0014】また、本発明では、上記グローバルワード
線に駆動信号を伝搬させる前に、アドレス指定されたメ
モリセルが接続されるビット線のみを所定の電位にプリ
チャージするプリチャージ手段を有する。あるいは、上
記グローバルワード線に駆動信号を伝搬させる前に、ア
ドレス指定されたメモリセルが存在するメモリセルブロ
ックのメモリセルが接続される複数のビット線を所定の
電位にプリチャージするプリチャージ手段を有する。
Further, the present invention has a precharge means for precharging only the bit line connected to the addressed memory cell to a predetermined potential before transmitting the drive signal to the global word line. Alternatively, before propagating the drive signal to the global word line, a precharge means for precharging a plurality of bit lines connected to the memory cells of the memory cell block in which the addressed memory cell exists to a predetermined potential is provided. Have.

【0015】また、本発明の半導体記憶装置は、アドレ
ス指定されたメモリセルが接続されるビット線を選択す
るカラムデコーダと、メモリセルブロックにおける同一
行に配置されたメモリセル数に相当し、各メモリセルに
対応するように設けられた複数の読出/書込回路と、上
記カラムデコーダと上記読出/書込回路との間に配線さ
れ、各メモリセルブロックの対応する各メモリセルのビ
ット線出力を共通の読出/書込回路に入力させる複数の
ローカルバス線とを有する。
Further, the semiconductor memory device of the present invention corresponds to a column decoder for selecting a bit line to which a addressed memory cell is connected, and to the number of memory cells arranged on the same row in a memory cell block. A plurality of read / write circuits provided corresponding to the memory cells, a bit line output of each memory cell corresponding to each memory cell of each memory cell block, wired between the column decoder and the read / write circuit. To a common read / write circuit.

【0016】また、本発明の半導体記憶装置では、隣接
して配線されたローカルバス線間にシールド線が配線さ
れている。
Further, in the semiconductor memory device of the present invention, a shield line is provided between the adjacent local bus lines.

【0017】本発明の半導体記憶装置によれば、メモリ
セルを選択しアクセスする場合、アドレス指定に基づい
て駆動信号が選択されたグローバルワード線に伝搬され
る。そして、選択回路において、アドレス指定されたメ
モリセルが接続されている所定メモリセルブロックのロ
ーカルワード線のみが駆動信号が伝搬されたグローバル
ワード線に選択的に接続される。これにより、グローバ
ルワード線に伝搬された駆動信号が、所定メモリセルブ
ロックのローカルワード線のみに伝達され、そのメモリ
セルブロックの同一行に配置された複数のメモリセルの
記憶ノードのみビット線と接続され、データの授受が行
われる。
According to the semiconductor memory device of the present invention, when selecting and accessing a memory cell, a drive signal is propagated to a selected global word line based on an address designation. Then, in the selection circuit, only the local word line of the predetermined memory cell block to which the addressed memory cell is connected is selectively connected to the global word line to which the drive signal has been transmitted. Thereby, the drive signal propagated to the global word line is transmitted only to the local word line of the predetermined memory cell block, and only the storage nodes of a plurality of memory cells arranged on the same row of the memory cell block are connected to the bit line. And data is exchanged.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】図1は本発明に係るSRAM装置
の一実施形態を示すブロック図、図2は図1のメモリア
レイ部を中心とした要部回路図、図3は図1のカラムデ
コーダ(ブロックデコーダ)、ローカルバス線、読出/
書込回路の要部回路図である。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of an SRAM device according to the present invention. FIG. 2 is a circuit diagram showing a main portion of the SRAM device shown in FIG. Decoder (block decoder), local bus line, read /
FIG. 3 is a main part circuit diagram of a writing circuit.

【0019】このSRAM装置20は、メモリセルアレ
イ21a,21b、ブロック選択回路22a−1,22
a−2,22b−1,22b−2、プリチャージ回路2
3a,23b、カラムゲート群24a,24b、ローカ
ルバス線群25a,25b、読出/書込回路(R/W)
群26a,26b、ローデコーダ27およびブロックデ
コーダ28により構成されている。
This SRAM device 20 includes memory cell arrays 21a and 21b, block selection circuits 22a-1 and 22a.
a-2, 22b-1, 22b-2, precharge circuit 2
3a, 23b, column gate groups 24a, 24b, local bus line groups 25a, 25b, read / write circuit (R / W)
It is composed of groups 26a and 26b, a row decoder 27 and a block decoder 28.

【0020】メモリセルアレイ21a,21bは、ロー
デコーダ27を挟んで並列して配置されており、それぞ
れメモリセルMCがm行64列のマトリクス状に配列さ
れている。そして、各メモリセルアレイ21a,21b
は、列方向に16セルずつを1ブロックとして4個のメ
モリセルブロックBLK0a〜BLK3a、BLK0b
〜BLK3bに分割されている。ここでは、各メモリセ
ルアレイを16セルずつの4つのメモリセルブロックに
分割しているが、このような分割の形態に限定されるも
のではなく、各メモリセルアレイを32セルずつの2つ
のメモリセルブロックに分割してもよいし、各メモリセ
ルアレイを8セルずつの8つのメモリセルブロックに分
割してもよい。
The memory cell arrays 21a and 21b are arranged in parallel with the row decoder 27 interposed therebetween, and each memory cell MC is arranged in a matrix of m rows and 64 columns. Then, each of the memory cell arrays 21a, 21b
Represents four memory cell blocks BLK0a to BLK3a and BLK0b each having 16 cells as one block in the column direction.
~ BLK3b. Here, each memory cell array is divided into four memory cell blocks each having 16 cells. However, the present invention is not limited to such a divided form, and each memory cell array is divided into two memory cell blocks each having 32 cells. , Or each memory cell array may be divided into eight memory cell blocks of eight cells.

【0021】各メモリセルMCは、図8に示したメモリ
セルと同様に、インバータINV1,IN2の入出力同
士を交差結合してなるラッチ回路LTCと、ラッチ回路
LTCの2つの記憶ノードND1,ND2とビット線B
L,反ビット線BLBとの間に接続され、ゲートが、ロ
ーカルワード線LWLに共通に接続されたアクセストラ
ンジスタAT1,AT2により構成されている。
Each memory cell MC is, similarly to the memory cell shown in FIG. 8, a latch circuit LTC having cross-coupled inputs and outputs of inverters INV1 and IN2, and two storage nodes ND1 and ND2 of the latch circuit LTC. And bit line B
L and an anti-bit line BLB, and the gate is constituted by access transistors AT1 and AT2 commonly connected to the local word line LWL.

【0022】ローカルワード線LWLは、メモリセルブ
ロックの各行毎に配線され、1本のローカルワード線L
WLには16個のメモリセルMCが接続される。したが
って、1本のローカルワード線LWL00,LWL1
0,〜には32個のアクセストランジスタATのゲート
が接続されている。そして、メモリセルアレイ21a,
21b全体では、各行に対応してローデコーダ27によ
り、アドレス指定されて駆動信号が印加されるグローバ
ルワード線GWL0,〜が配線されている。
The local word line LWL is wired for each row of the memory cell block, and is connected to one local word line LWL.
Sixteen memory cells MC are connected to WL. Therefore, one local word line LWL00, LWL1
The gates of 32 access transistors AT are connected to 0 and. Then, the memory cell array 21a,
In the entire 21b, global word lines GWL0,... To which a drive signal is applied by addressing by the row decoder 27 are wired corresponding to each row.

【0023】グローバルワード線GWLは、ブロック選
択回路22a−1、22a−2、22b−1,22b−
2により、アドレス指定されたメモリセルが接続されて
いる所定のメモリセルブロックのローカルワード線LW
Lのみに選択的に接続される。
The global word line GWL is connected to the block selection circuits 22a-1, 22a-2, 22b-1, 22b-
2, the local word line LW of a predetermined memory cell block to which the addressed memory cell is connected.
L is selectively connected.

【0024】ブロック選択回路22a−1は、メモリセ
ルアレイ21aのメモリセルブロックBLK0aとBL
K1aとの間に並列的に配置されている。そして、図2
に示すように、メモリセルブロックBLK0aに配線さ
れた複数のローカルワード線LWL00,LWL01,
LWL02,〜を、ブロック選択信号SB0の入力に応
じてそれぞれ対応する行のグローバルワード線GWL
0,GWL1,GWL2,〜に対して選択的に接続する
選択回路SL00,SL01,SL02,〜と、メモリ
セルブロックBLK1aに配線された複数のローカルワ
ード線LWL10,LWL11,LWL12,〜を、ブ
ロック選択信号SB1の入力に応じてそれぞれ対応する
行のグローバルワード線GWL0,GWL1,GWL
2,〜に対して選択的に接続する選択回路SL10,S
L11,SL12,〜とが並列的に配置されている。
The block selection circuit 22a-1 is connected to the memory cell blocks BLK0a and BLK0 of the memory cell array 21a.
And K1a. And FIG.
As shown in FIG. 7, a plurality of local word lines LWL00, LWL01,
LWL02,... Are changed to global word lines GWL in the corresponding rows in response to the input of block selection signal SB0.
0, GWL1, GWL2,... And select circuits SL00, SL01, SL02,... And a plurality of local word lines LWL10, LWL11, LWL12,. Global word lines GWL0, GWL1, GWL of the corresponding rows in response to the input of signal SB1.
Selection circuits SL10, S selectively connected to
L11, SL12,... Are arranged in parallel.

【0025】ブロック選択回路22a−2は、メモリセ
ルアレイ21aのメモリセルブロックBLK2aとBL
K3aとの間に並列的に配置されている。そして、図2
に示すように、メモリセルブロックBLK2aに配線さ
れた複数のローカルワード線LWL20,LWL21,
LWL22,〜を、ブロック選択信号SB2の入力に応
じてそれぞれ対応する行のグローバルワード線GWL
0,GWL1,GWL2,〜に対して選択的に接続する
選択回路SL20,SL21,SL22,〜と、メモリ
セルブロックBLK3aに配線された複数のローカルワ
ード線LWL30,LWL31,LWL32,〜を、ブ
ロック選択信号SB3の入力に応じてそれぞれ対応する
行のグローバルワード線GWL0,GWL1,GWL
2,〜に対して選択的に接続する選択回路SL30,S
L31,SL32,〜とが並列的に配置されている。
The block selection circuit 22a-2 is connected to the memory cell blocks BLK2a and BLK2 of the memory cell array 21a.
And K3a. And FIG.
As shown in FIG. 7, a plurality of local word lines LWL20, LWL21,
LWL22,... Are set to global word lines GWL of the corresponding row in response to the input of block selection signal SB2.
0, GWL1, GWL2,... And select circuits SL20, SL21, SL22,... And a plurality of local word lines LWL30, LWL31, LWL32,. The global word lines GWL0, GWL1, and GWL in the corresponding rows respectively correspond to the input of the signal SB3.
Selection circuits SL30, S selectively connected to
L31, SL32, ... are arranged in parallel.

【0026】同様に、ブロック選択回路22b−1,2
2b−2も、上述した22a−1,22a−2と同様に
配置され、同様の構成を有し、ここでは、その詳細な説
明は省略する。
Similarly, block selection circuits 22b-1, 22b-1,
2b-2 is also arranged and has the same configuration as the above-described 22a-1 and 22a-2, and a detailed description thereof is omitted here.

【0027】そして、各ブロック選択回路22a−1,
22a−2,22b−1,22b−2に設けられている
各選択回路SLは、図4に示すような構成を有してい
る。
Then, each of the block selection circuits 22a-1, 22a-1
Each selection circuit SL provided in 22a-2, 22b-1, and 22b-2 has a configuration as shown in FIG.

【0028】すなわち、選択回路SLは、pチャネルM
OS(PMOS)トランジスタPT21、nチャネルM
OS(NMOS)トランジスタNT21、およびインバ
ータINV21により構成されている。PMOSトラン
ジスタPT21およびNMOSトランジスタNT21が
電源電圧VDDの供給ラインとブロック選択信号の供給ラ
インSBLとの間に直列に接続され、両トランジスタP
T21,NT21のゲートがグローバルワード線GWL
に接続されている。そして、PMOSトランジスタPT
21とNMOSトランジスタNT21との接続点がイン
バータINV21の入力端子に接続され、インバータI
NV21の出力端子がローカルワード線LWLに接続さ
れている。また、電源電圧VDDの供給ラインとインバー
タINV21の入力端子との間に、ゲートがインバータ
INV21の出力端子に接続されPMOSトランジスタ
PT22を追加した構成としてもよい。
That is, the selection circuit SL has a p-channel M
OS (PMOS) transistor PT21, n-channel M
It comprises an OS (NMOS) transistor NT21 and an inverter INV21. A PMOS transistor PT21 and an NMOS transistor NT21 are connected in series between the supply line of the power supply voltage V DD and the supply line SBL of the block selection signal, and both transistors P21
The gate of T21 and NT21 is the global word line GWL
It is connected to the. Then, the PMOS transistor PT
21 and the NMOS transistor NT21 are connected to the input terminal of the inverter INV21.
The output terminal of the NV 21 is connected to the local word line LWL. Further, between the supply line of the power supply voltage V DD and the input terminal of the inverter INV21, a gate may be connected to the output terminal of the inverter INV21 and a PMOS transistor PT22 may be added.

【0029】このような構成を有する選択回路SLにあ
っては、グローバルワード線GWLに駆動信号が印加さ
れず、グローバルワード線GWLがローレベルに保持さ
れているときには、PMOSトランジスタPT21が導
通状態に保持され、NMOSトランジスタNT21が非
導通状態に保持される。その結果、インバータINV2
1の入力側に電源電圧VDDが供給され、ローカルワード
線LWLはローレベル、すなわち非駆動状態に保持され
る。一方、グローバルワード線GWLに駆動信号が印加
され、グローバルワード線GWLがハイレベルに保持さ
れているときには、PMOSトランジスタPT21が非
導通状態に保持され、NMOSトランジスタNT21が
導通状態に保持される。このとき、ブロック選択信号線
SBLには接地レベル(ローレベル)でアクティブのブ
ロック選択信号SBが供給される。その結果、インバー
タINV21の入力側が接地レベルに保持され、ローカ
ルワード線LWLはハイレベル、すなわち駆動状態に保
持される。また、選択回路SLは、グローバルワード線
GWLおよびブロック選択信号線の論理をハイレベルで
アクティブとした場合、入力端子がそれぞれグローバル
ワード線GWLおよびブロック選択信号線に接続され、
出力端子がローカルワード線LWLに接続される2入力
アンドゲートで構成することもできる。
In the selection circuit SL having such a configuration, when no drive signal is applied to the global word line GWL and the global word line GWL is held at a low level, the PMOS transistor PT21 is turned on. The NMOS transistor NT21 is maintained in a non-conductive state. As a result, the inverter INV2
1 is supplied with the power supply voltage V DD , and the local word line LWL is kept at a low level, that is, in a non-drive state. On the other hand, when a drive signal is applied to global word line GWL and global word line GWL is held at a high level, PMOS transistor PT21 is held in a non-conductive state and NMOS transistor NT21 is held in a conductive state. At this time, an active block selection signal SB at the ground level (low level) is supplied to the block selection signal line SBL. As a result, the input side of the inverter INV21 is held at the ground level, and the local word line LWL is held at the high level, that is, in the driving state. When the logic of the global word line GWL and the block selection signal line is activated at a high level, the input terminal of the selection circuit SL is connected to the global word line GWL and the block selection signal line, respectively.
The output terminal may be constituted by a two-input AND gate connected to the local word line LWL.

【0030】プリチャージ回路23aは、4つのメモリ
セルブロックBLK0a〜BLK3aに対応して4つの
ブロック用プリチャージ回路23a−0,23a−1,
23a−2,23a−3に区分けされ、それぞれが個別
に駆動されるように構成されている。
The precharge circuits 23a correspond to the four memory cell blocks BLK0a to BLK3a, and correspond to four block precharge circuits 23a-0, 23a-1,.
23a-2 and 23a-3, each of which is individually driven.

【0031】ブロック用プリチャージ回路23a−0,
23a−1,23a−2,23a−3は、図2に示すよ
うに、各ビット線BL,BLBと電源電圧VDDの供給ラ
インとの間に接続されたPMOSトランジスタPT23
−0〜PT23−31と、出力端子が各PMOSトラン
ジスタPT23−0〜PT23−31のゲートに共通に
接続された2入力ナンドゲートNA0(〜3)によりそ
れぞれ構成されている。
The block precharge circuits 23a-0, 23a-0,
23a-1,23a-2,23a-3, as shown in FIG. 2, connected PMOS transistor between the supply lines of each bit line BL, BLB and the power supply voltage V DD PT23
-0 to PT23-31, and two-input NAND gates NA0 to NA3 whose output terminals are commonly connected to the gates of the PMOS transistors PT23-0 to PT23-31.

【0032】各2入力ナンドゲートNA0〜NA3の一
方の入力端子はハイレベルでアクティブのプリチャージ
信号SPrの入力ラインに接続されている。ブロック用
プリチャージ回路23a−0のナンドゲートNA0の他
方の入力端子はインバータINV30を介してブロック
選択信号線SBL0に接続されている。ブロック用プリ
チャージ回路23a−1のナンドゲートNA1の他方の
入力端子はインバータINV31を介してブロック選択
信号線SBL1に接続されている。ブロック用プリチャ
ージ回路23a−2のナンドゲートNA2の他方の入力
端子はインバータINV32を介してブロック選択信号
線SBL2に接続されている。ブロック用プリチャージ
回路23a−3のナンドゲートNA3の他方の入力端子
はインバータINV33を介してブロック選択信号線S
BL3に接続されている。
One input terminal of each of the two-input NAND gates NA0 to NA3 is connected to an input line for a high-level active precharge signal SPr. The other input terminal of the NAND gate NA0 of the block precharge circuit 23a-0 is connected to the block selection signal line SBL0 via the inverter INV30. The other input terminal of the NAND gate NA1 of the block precharge circuit 23a-1 is connected to the block selection signal line SBL1 via the inverter INV31. The other input terminal of the NAND gate NA2 of the block precharge circuit 23a-2 is connected to the block selection signal line SBL2 via the inverter INV32. The other input terminal of the NAND gate NA3 of the block precharge circuit 23a-3 is connected to the block selection signal line S via the inverter INV33.
Connected to BL3.

【0033】このような構成を有するプリチャージ回路
23aにおいては、ブロック選択信号SBO〜SB3の
うちアクティブのローレベルで入力されたブロック選択
信号線に接続されているブロック用プリチャージ回路の
みがビット線プリチャージ動作を行い、残りの3ブロッ
クに対してはビット線プリチャージ動作は行われない。
上述した例では、ビット線対BL、BLBのプリチャー
ジ用のトランジスタをPMOSトランジスタで構成して
いるが、これはNMOSトランジスタで構成してもよ
い。尚、この場合には、プリチャージ用のNMOSトラ
ンジスタを駆動するゲートをナンドゲートからアンドゲ
ートに変更する必要がある。
In the precharge circuit 23a having such a configuration, of the block select signals SBO to SB3, only the block precharge circuit connected to the block select signal line input at the active low level is the bit line. The precharge operation is performed, and the bit line precharge operation is not performed on the remaining three blocks.
In the example described above, the transistors for precharging the bit line pairs BL and BLB are constituted by PMOS transistors, but may be constituted by NMOS transistors. In this case, it is necessary to change the gate for driving the precharge NMOS transistor from the NAND gate to the AND gate.

【0034】同様に、プリチャージ回路23bも、上述
したプリチャージ回路23aと同様の構成を有し、ここ
では、その詳細な説明は省略する。
Similarly, the precharge circuit 23b has the same configuration as the above-described precharge circuit 23a, and a detailed description thereof will be omitted.

【0035】カラムゲート群24aは、図3に示すよう
に、ブロックデコーダ28に接続され、ブロックデコー
ダ28のデコード結果に応じたレベルをとる4組の制御
線対B0,B0B、B1,B1B、B2,B2B、B
3,B3Bが配線されている。制御線対B0,B0B
は、メモリセルブロックBLK0aにおけるビット線出
力の制御用のものであり、制御線対B0,B0Bのレベ
ルに応じてメモリセルブロックBLK0aの16組のビ
ット線対とローカルバス線群25aとを作動的に接続す
る16個の転送ゲート群TMG0の導通状態が切り換え
られる。制御線対B1,B1Bは、メモリセルブロック
BLK1aにおけるビット線出力の制御用のものであ
り、制御線対B1,B1Bのレベルに応じてメモリセル
ブロックBLK1aの16組のビット線対とローカルバ
ス線群25aとを作動的に接続する16個の転送ゲート
群TMG1の導通状態が切り換えられる。制御線対B
2,B2Bは、メモリセルブロックBLK2aにおける
ビット線出力の制御用のものであり、制御線対B2,B
2Bのレベルに応じてメモリセルブロックBLK2aの
16組のビット線対とローカルバス線群25aとを作動
的に接続する16個の転送ゲート群TMG2の導通状態
が切り換えられる。制御線対B3,B3Bは、メモリセ
ルブロックBLK3aにおけるビット線出力の制御用の
ものであり、制御線対B3,B3Bのレベルに応じてメ
モリセルブロックBLK3aの16組のビット線対とロ
ーカルバス線群25aとを作動的に接続する16個の転
送ゲート群TMG3の導通状態が切り換えられる。
As shown in FIG. 3, the column gate group 24a is connected to the block decoder 28, and has four control line pairs B0, B0B, B1, B1B, B2 which take a level according to the decoding result of the block decoder 28. , B2B, B
3, B3B are wired. Control line pair B0, B0B
Is for controlling the bit line output in the memory cell block BLK0a, and operates the 16 bit line pairs of the memory cell block BLK0a and the local bus line group 25a according to the level of the control line pair B0, B0B. Are switched between the conduction states of the 16 transfer gate groups TMG0 that are connected to. The control line pairs B1 and B1B are for controlling the bit line output in the memory cell block BLK1a. According to the levels of the control line pairs B1 and B1B, the 16 bit line pairs of the memory cell block BLK1a and the local bus lines are provided. The conduction state of the 16 transfer gate groups TMG1 operatively connected to the group 25a is switched. Control line pair B
2 and B2B are for controlling the bit line output in the memory cell block BLK2a, and include a control line pair B2 and B2B.
According to the level of 2B, the conduction state of 16 transfer gate groups TMG2 which operatively connects the 16 bit line pairs of the memory cell block BLK2a to the local bus line group 25a is switched. The control line pairs B3 and B3B are for controlling the bit line output in the memory cell block BLK3a, and according to the levels of the control line pairs B3 and B3B, the 16 bit line pairs of the memory cell block BLK3a and the local bus lines are provided. The conduction state of the 16 transfer gate groups TMG3 operatively connected to the group 25a is switched.

【0036】そして、制御線B0B,B1B,B2B,
B3Bはそれぞれ分岐して、ブロック選択信号線SBL
0,SBL1,SBL2,SBL3としてブロック選択
回路22a−1,22a−2に配線されている。
The control lines B0B, B1B, B2B,
B3B respectively branch to form a block selection signal line SBL.
0, SBL1, SBL2, and SBL3 are wired to the block selection circuits 22a-1 and 22a-2.

【0037】転送ゲート群TMG0〜TMG3は、たと
えば図5に示すように、PMOSトランジスタPTとN
MOSトランジスタNTのソース・ドレイン同士を接続
してなる転送ゲートTM0,TM0B,〜,TM15,
TM15Bにビット線対BL,BLBを接続して構成さ
れている。そして、各転送ゲートTM0,TM0B,
〜,TM15,TM15BのPMOトランジスタPTの
ゲートが制御線B0(〜3)Bに接続され、NMOSト
ランジスタNTのゲートが制御線B0(〜3)に接続さ
れている。
Transfer gate groups TMG0 to TMG3 are formed, for example, as shown in FIG.
Transfer gates TM0, TM0B,..., TM15, which connect the source and the drain of the MOS transistor NT.
A bit line pair BL, BLB is connected to TM15B. Then, each transfer gate TM0, TM0B,
, TM15, and TM15B have their gates connected to the control line B0 (.about.3) B, and their NMOS transistors NT have their gates connected to the control line B0 (.about.3).

【0038】同様に、カラムゲート群24bも、上述し
たカラムゲート群24aと同様の構成を有し、ここで
は、その詳細な説明は省略する。
Similarly, the column gate group 24b has the same configuration as the above-described column gate group 24a, and a detailed description thereof will be omitted.

【0039】また、ブロックデコーダ28は、アドレス
デコーダ用の2入力ナンドゲートNA280 〜NA283 、
およびインバータINV280 〜INV283 により構成さ
れている。ナンドゲートNA280 の出力端子が制御線B
0Bに接続されているとともに、インバータINV280
の入力端子に接続され、インバータINV280 の出力端
子が制御線B0に接続されている。ナンドゲートNA28
1 の出力端子が制御線B1Bに接続されているととも
に、インバータINV281 の入力端子に接続され、イン
バータINV281 の出力端子が制御線B1に接続されて
いる。ナンドゲートNA282 の出力端子が制御線B2B
に接続されているとともに、インバータINV282 の入
力端子に接続され、インバータINV282 の出力端子が
制御線B2に接続されている。ナンドゲートNA283 の
出力端子が制御線B3Bに接続されているとともに、イ
ンバータINV283 の入力端子に接続され、インバータ
INV283 の出力端子が制御線B3に接続されている。
The block decoder 28 comprises two-input NAND gates NA280 to NA283 for an address decoder,
And inverters INV280 to INV283. Output terminal of NAND gate NA280 is control line B
0B and the inverter INV280
And the output terminal of the inverter INV280 is connected to the control line B0. NAND Gate NA28
1 is connected to the control line B1B, is connected to the input terminal of the inverter INV281, and the output terminal of the inverter INV281 is connected to the control line B1. The output terminal of the NAND gate NA282 is the control line B2B.
And the input terminal of the inverter INV282, and the output terminal of the inverter INV282 is connected to the control line B2. The output terminal of the NAND gate NA283 is connected to the control line B3B, connected to the input terminal of the inverter INV283, and the output terminal of the inverter INV283 is connected to the control line B3.

【0040】ローカルバス群25aは、16組のローカ
ルバス線対LB0,LB0B、〜、LB15,LB15
B、並びに隣接するローカルバス線対間に配置され、か
つ接地されているシールド線G1〜G15により構成さ
れている。シールド線G1〜G15は、ローカルバス線
対LB0,LB0B、〜、LB15,LB15B間の干
渉等を防止するために配線されている。
The local bus group 25a includes 16 local bus line pairs LB0, LB0B,..., LB15, LB15.
B, and shield lines G1 to G15 which are arranged between adjacent pairs of local bus lines and are grounded. The shield lines G1 to G15 are wired to prevent interference between the local bus line pairs LB0, LB0B,..., LB15, LB15B.

【0041】ローカルバス線LB0,LB0Bは各転送
ゲート群TGM0〜TGM3の転送ゲートTG0,TG
0Bを介して、並列して各メモリセルブロックBLK0
a〜BLK3aの1列目のビット線対BL,BLBに作
動的に接続されているとともに、読出/書込回路26−
0の対をなすデータ入出力端子に接続されている。ロー
カルバス線LB1,LB1Bは各転送ゲート群TGM0
〜TGM3の転送ゲートTG1,TG1Bを介して、並
列して各メモリセルブロックBLK0a〜BLK3aの
2列目のビット線対BL,BLBに作動的に接続されて
いるとともに、読出/書込回路26−1の対をなすデー
タ入出力端子に接続されている。以下、同様に、ローカ
ルバス線LB15,LB15Bは各転送ゲート群TGM
0〜TGM3の転送ゲートTG15,TG15Bを介し
て、並列して各メモリセルブロックBLK0a〜BLK
3aの16列目のビット線対BL,BLBに作動的に接
続されているとともに、読出/書込回路26−15の対
をなすデータ入出力端子に接続されている。
The local bus lines LB0 and LB0B are connected to the transfer gates TG0 and TG of each of the transfer gate groups TGM0 to TGM3.
0B, each memory cell block BLK0 is connected in parallel.
a to BLK3a are operatively connected to the bit line pair BL, BLB in the first column, and read / write circuit 26-BLK3a.
0 are connected to a pair of data input / output terminals. Local bus lines LB1 and LB1B are connected to each transfer gate group TGM0.
Through the transfer gates TG1 and TG1B of the memory cell blocks BLK0a to BLK3a, and are operatively connected to the pair of bit lines BL and BLB in the second column of the memory cell blocks BLK0a to BLK3a. It is connected to a pair of data input / output terminals. Hereinafter, similarly, local bus lines LB15 and LB15B are connected to each transfer gate group TGM.
0 through TGM3 transfer gates TG15, TG15B in parallel to each of the memory cell blocks BLK0a-BLK.
It is operatively connected to the bit line pair BL, BLB in the 16th column of 3a, and is also connected to a data input / output terminal forming a pair of the read / write circuits 26-15.

【0042】各読出/書込回路26−0〜26−15
は、図6に示すように、読出用のセンスアンプ261
と、書込バッファ262,263により構成され、たと
えば選択的に作動制御される。そして、各読出/書込回
路26−0〜26−15は16ビットのグローバルバス
線GBに接続され、読出データの出力、書込データの入
力を行う。
Each of the read / write circuits 26-0 to 26-15
Are read sense amplifiers 261 as shown in FIG.
And write buffers 262 and 263, for example, which are selectively operated. Each of the read / write circuits 26-0 to 26-15 is connected to a 16-bit global bus line GB, and outputs read data and inputs write data.

【0043】また、ローデコーダ27は、アドレスデコ
ーダ用の2入力ナンドゲートNA270 ,NA271 ,NA
272 ,〜、およびインバータINV270 ,INV271 ,
INV272 ,〜により構成されている。ナンドゲートN
A270 の出力端子がインバータINV270 の入力端子に
接続され、インバータINV270 の出力端子がグローバ
ルワード線GWL0に接続されている。同様に、ナンド
ゲートNA271 の出力端子がインバータINV271 の入
力端子に接続され、インバータINV271 の出力端子が
グローバルワード線GWL1に接続され、ナンドゲート
NA272 の出力端子がインバータINV272 の入力端子
に接続され、インバータINV272 の出力端子がグロー
バルワード線GWL2に接続されている。
The row decoder 27 has two-input NAND gates NA270, NA271 and NA271 for an address decoder.
272, ... and inverters INV270, INV271,
INV272, .... NAND gate N
The output terminal of A270 is connected to the input terminal of inverter INV270, and the output terminal of inverter INV270 is connected to global word line GWL0. Similarly, the output terminal of the NAND gate NA271 is connected to the input terminal of the inverter INV271, the output terminal of the inverter INV271 is connected to the global word line GWL1, the output terminal of the NAND gate NA272 is connected to the input terminal of the inverter INV272, The output terminal is connected to the global word line GWL2.

【0044】次に、上記構成による動作を説明する。な
お、ここでは、たとえばメモリセルアレイ21aの1行
1列目のメモリセルMC(図1中、*で示す)をアドレ
ス指定してデータの読み出しを行う場合を例に説明す
る。
Next, the operation of the above configuration will be described. Here, an example will be described in which data is read out by addressing a memory cell MC (indicated by * in FIG. 1) in the first row and first column of the memory cell array 21a.

【0045】まず、アドレス指定に基づくブロックデコ
ーダ28のデコード結果により、ナンドゲートNA280
の出力のみローレベルとなる。その結果、カラムゲート
群24aの制御線B0がハイレベル、B0Bがローレベ
ルとなり、ブロック選択信号線SBL0にはローレベル
でアクティブのブロック選択信号が伝搬されることにな
る。このブロック選択信号は、ブロック選択回路22a
−1の各選択回路SL00,SL01,SL02,〜に
入力されるとともに、インバータINV30を介してハイ
レベルでブロック用プリチャージ回路23a−0のナン
ドゲートNA0に入力される。
First, a NAND gate NA280 is obtained based on the decoding result of the block decoder 28 based on the address designation.
Only the output of becomes low level. As a result, the control line B0 of the column gate group 24a is at a high level and B0B is at a low level, and a low-level active block selection signal is transmitted to the block selection signal line SBL0. This block selection signal is supplied to the block selection circuit 22a.
-1 and input to the NAND gate NA0 of the block precharge circuit 23a-0 at a high level via the inverter INV30.

【0046】そして、プリチャージ信号SPrが所定期
間だけハイレベルで各回路23a−0〜23a−3に供
給される。このとき、他のブロック選択信号線SBL
1,SLB2,SBL3には、非アクティブのハイレベ
ルのブロック選択信号が伝搬されていることから、プリ
チャージ回路23a−0のナンドゲートNA0の出力の
みハイレベルとなり、他のプリチャージ回路23a−1
〜23a−3のナンドゲートNA1〜NA3の出力はロ
ーレベルに保持される。
Then, the precharge signal SPr is supplied to each of the circuits 23a-0 to 23a-3 at a high level for a predetermined period. At this time, another block selection signal line SBL
Since the inactive high-level block selection signal is propagated to 1, SLB2 and SBL3, only the output of the NAND gate NA0 of the precharge circuit 23a-0 goes high, and the other precharge circuits 23a-1
Outputs of the NAND gates NA1 to NA3 of 〜23a-3 are kept at a low level.

【0047】その結果、プリチャージ回路23a−0の
トランジスタPTのみ導通状態に保持されることから、
メモリセルブロックBLK0aに配線された、16組の
ビット線対BL,BLBのみが電源電圧VDDレベルにプ
リチャージされる。このとき、残りのメモリセルブロッ
クBLK1a〜BLK3aに配線された48組のビット
線対に対するプリチャージ動作は行われない。
As a result, only the transistor PT of the precharge circuit 23a-0 is kept conductive, so that
Only the 16 bit line pairs BL and BLB wired to the memory cell block BLK0a are precharged to the power supply voltage VDD level. At this time, the precharge operation is not performed on the 48 bit line pairs wired to the remaining memory cell blocks BLK1a to BLK3a.

【0048】次に、プリチャージ信号SPrがローレベ
ルに切り換えられて、プリチャージ回路23a−0のト
ランジスタPTが非導通状態に切り換えられる。このプ
リチャージ状態で、アドレス指定に基づきローデコーダ
27のデコード結果により、ナンドゲートNA270 の出
力のみローレベルとなる。その結果、駆動用インバータ
INV270 の出力のみがハイレベルとなる、すなわち、
グローバルワード線GWL0のみにハイレベルに駆動信
号が伝搬される。
Next, the precharge signal SPr is switched to a low level, and the transistor PT of the precharge circuit 23a-0 is switched to a non-conductive state. In this precharge state, only the output of the NAND gate NA270 goes low according to the decoding result of the row decoder 27 based on the address designation. As a result, only the output of the driving inverter INV270 becomes high level, that is,
A drive signal is propagated to a high level only to global word line GWL0.

【0049】グローバルワード線GWL0に駆動信号が
伝搬されたことに伴い、ブロック選択回路22a−1,
22a−2の1行目の選択回路SL00,SL10,S
L20,SL30のNMOSトランジスタNT21が導
通状態に切り換わるが、ブロック選択信号SB0のみが
アクティブのローレベルであることから、メモリセルブ
ロックBLK0aの一行目のローカルワード線LWL0
0にのみハイレベルの信号が駆動信号として伝搬され
る。その他のブロック選択信号SB1,SB2,SB3
は非アクティブのハイレベルであることから、メモリセ
ルブロックBLK1a,BLK2a,BLK3aのロー
カルワード線LWL10,LWL20,LWL30はロ
ーレベルのままに保持される。
With the transmission of the drive signal to global word line GWL0, block selection circuits 22a-1, 22a-1
Selection circuits SL00, SL10, S in the first row of 22a-2
Although the NMOS transistors NT21 of L20 and SL30 are switched to the conductive state, since only the block selection signal SB0 is at the active low level, the local word line LWL0 in the first row of the memory cell block BLK0a is switched.
A high level signal is propagated as a drive signal only to 0. Other block selection signals SB1, SB2, SB3
Is inactive high level, the local word lines LWL10, LWL20, LWL30 of the memory cell blocks BLK1a, BLK2a, BLK3a are kept at low level.

【0050】その結果、メモリセルブロックBLK0a
の1行目に配置されている16個のメモリセルMCの2
個のアクセストランジスタAT1,AT2が導通状態の
保持される。その結果、各メモリセルの相補的なレベル
をとる2つの記憶ノードND1,ND2のデータがビッ
ト線対BL,BLBに出力される。これにより、ビット
線BLB,BLB間に電位差が生じる。そして、このと
き、転送ゲート群TMG0の転送ゲートが制御線B0が
ハイレベル、制御線B0Bがローレベルであることか
ら、各転送ゲートが導通状態に保持されており、ビット
線対BL,BLBのデータがローカルバスLB0,LB
0Bを介して作動状態に制御された読出/書込回路26
−0に入力され、センスアンプ260で増幅されて、グ
ローバルバス線GBに出力される。
As a result, memory cell block BLK0a
Of the 16 memory cells MC arranged in the first row of FIG.
The access transistors AT1 and AT2 are kept conductive. As a result, data of two storage nodes ND1 and ND2 having complementary levels of each memory cell are output to bit line pair BL and BLB. As a result, a potential difference occurs between the bit lines BLB, BLB. At this time, since the control line B0 is at the high level and the control line B0B is at the low level in the transfer gates of the transfer gate group TMG0, each transfer gate is held in a conductive state, and the bit line pair BL, BLB is connected. When the data is on the local buses LB0, LB
Read / write circuit 26, which is controlled to an operating state via OB
The signal is input to −0, amplified by the sense amplifier 260, and output to the global bus line GB.

【0051】以上説明したように、本実施形態によれ
ば、メモリセルアレイ21a,21bを複数のブロック
BLK0a〜BLK3a、BLK0b〜blk3bに分
割するとともに、ワード線をアドレス指定に基づいて駆
動信号が伝搬されるグローバルワード線GWLと、各メ
モリセルブロック毎に設けられ、メモリセルブロックの
同一行のメモリセルが共通に接続されたローカルワード
線LWLとに分割し、アドレス指定されたメモリセルが
接続されている所定メモリセルブロックのローカルワー
ド線LWLのみを駆動信号が伝搬されたグローバルワー
ド線GWLに選択的に接続するブロック選択回路22a
−1,22a−2、22b−1,22b−2を設けたの
で、アドレス指定のメモリセルと同時にアクセストラン
ジスタが駆動されるメモリセルの数をアレイの一行分全
体ではなく、分割ブロックに配置されたメモリセルだけ
に減少させることができ、消費電力を低減することがで
きる。
As described above, according to the present embodiment, the memory cell arrays 21a and 21b are divided into a plurality of blocks BLK0a to BLK3a and BLK0b to blk3b, and the drive signal is propagated based on the address designation of the word lines. Global word line GWL and a local word line LWL provided for each memory cell block and connected in common to the memory cells in the same row of the memory cell block, and the addressed memory cells are connected. Block selecting circuit 22a for selectively connecting only the local word line LWL of a given memory cell block to the global word line GWL to which the drive signal has been transmitted.
Since -1, 22a-2, 22b-1, and 22b-2 are provided, the number of memory cells whose access transistors are driven at the same time as the memory cell for addressing is arranged in a divided block instead of the entire row of the array. Memory cells can be reduced, and power consumption can be reduced.

【0052】また、グローバルワード線に駆動信号を伝
搬させる前に、アドレス指定されたメモリセルが存在す
るメモリセルブロックのメモリセルが接続される複数の
ビット線を所定の電位にプリチャージするプリチャージ
回路23a,23bを設けたので、読み出し時に、電源
電圧VDDレベルから接地レベルまでフルスイングするビ
ット線数を減少できるので、さらに消費電力を低減でき
る利点がある。また、隣接して配線されたローカルバス
線間にシールド線G1〜G15を配線したので、データ
間の干渉を防止することができる。
Further, before propagating the drive signal to the global word line, a precharge for precharging a plurality of bit lines connected to the memory cells of the memory cell block in which the addressed memory cell exists to a predetermined potential. Since the circuits 23a and 23b are provided, the number of bit lines that fully swing from the power supply voltage V DD level to the ground level at the time of reading can be reduced, so that power consumption can be further reduced. Further, since the shield lines G1 to G15 are arranged between the adjacent local bus lines, interference between data can be prevented.

【0053】なお、分割ブロック数等が本実施形態に限
定されるものでないことはいうまでもなく、ブロック数
に応じてブロック選択回路を設ける等、種々の態様が可
能である。
It is needless to say that the number of divided blocks and the like are not limited to the present embodiment, and various modes such as providing a block selection circuit according to the number of blocks are possible.

【0054】[0054]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体記
憶装置によれば、アドレス指定のメモリセルと同時にア
クセストランジスタが駆動されるメモリセルの数をアレ
イの一行分全体ではなく、分割ブロックに配置されたメ
モリセルだけに減少させることができ、消費電力を大幅
に低減することができる。また、選択的にプリチャージ
動作を行えることから、レベルが変化するビット線数を
減少でき、さらに消費電力を低減することができる。
As described above, according to the semiconductor memory device of the present invention, the number of memory cells whose access transistors are driven at the same time as the memory cell for addressing is divided into divided blocks instead of the entire row of the array. It can be reduced to only the arranged memory cells, and the power consumption can be greatly reduced. In addition, since the precharge operation can be selectively performed, the number of bit lines whose level changes can be reduced, and the power consumption can be further reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係るSRAMの一実施形態を示すブロ
ック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of an SRAM according to the present invention.

【図2】図1のメモリアレイ部を中心とした要部回路図
である。
FIG. 2 is a main part circuit diagram mainly showing a memory array part of FIG. 1;

【図3】図1のカラムデコーダ(ブロックデコーダ)、
ローカルバス線、読出/書込回路の要部回路図である。
FIG. 3 shows a column decoder (block decoder) shown in FIG. 1;
FIG. 3 is a main part circuit diagram of a local bus line and a read / write circuit.

【図4】本発明に係るブロック選択回路における選択回
路の具体的な構成例を示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a specific configuration example of a selection circuit in a block selection circuit according to the present invention.

【図5】カラムゲート群の構成例を示す回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration example of a column gate group.

【図6】読出/書込回路の構成例を示す回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram showing a configuration example of a read / write circuit.

【図7】従来のSRAM装置の構成例を示すブロック図
である。
FIG. 7 is a block diagram illustrating a configuration example of a conventional SRAM device.

【図8】SRAMセルの構成例を示す回路図である。FIG. 8 is a circuit diagram showing a configuration example of an SRAM cell.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20…SRAM装置 21a,21b…メモリセルアレイ 22a−1,22a−2,22b−1,22b−2…ブ
ロック選択回路 23a,23b…プリチャージ回路 24a,24b…カラムゲート群 25a,25b…ローカルバス線群 26a,26b…読出/書込回路(R/W)群 27…ローデコーダ 28…ブロックデコーダ BLK0a〜BLK3a、BLK0b〜BLK3b…メ
モリセルブロック
Reference Signs List 20 SRAM device 21a, 21b Memory cell array 22a-1, 22a-2, 22b-1, 22b-2 Block selection circuit 23a, 23b Precharge circuit 24a, 24b Column gate group 25a, 25b Local bus line Groups 26a, 26b read / write circuit (R / W) group 27 row decoder 28 block decoder BLK0a to BLK3a, BLK0b to BLK3b memory cell block

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のメモリセルが行列状に配置され、
同一行に配置されたメモリセルが同一の駆動信号で駆動
され、駆動されたメモリセルとビット線との間でデータ
の授受を行わせる半導体記憶装置であって、 上記複数のメモリセルが列方向に複数のメモリセルブロ
ックに分割され、かつ、 アドレス指定に基づいて上記駆動信号が伝搬されるグロ
ーバルワード線と、 各メモリセルブロック毎に設けられ、メモリセルブロッ
クの同一行のメモリセルが共通に接続されたローカルワ
ード線と、 アドレス指定されたメモリセルが接続されている所定メ
モリセルブロックのローカルワード線のみを上記駆動信
号が伝搬されたグローバルワード線に選択的に接続する
選択回路とを有する半導体記憶装置。
A plurality of memory cells arranged in a matrix;
A semiconductor memory device in which memory cells arranged in the same row are driven by the same drive signal to transfer data between the driven memory cells and bit lines, wherein the plurality of memory cells are arranged in a column direction. And a global word line through which the drive signal is propagated based on the address designation, and a memory cell block provided for each memory cell block, and the memory cells in the same row of the memory cell block are commonly used. A connected local word line, and a selection circuit for selectively connecting only the local word line of the predetermined memory cell block to which the addressed memory cell is connected to the global word line to which the drive signal has been propagated. Semiconductor storage device.
【請求項2】 上記グローバルワード線に駆動信号を伝
搬させる前に、アドレス指定されたメモリセルが接続さ
れるビット線のみを所定の電位にプリチャージするプリ
チャージ手段を有する請求項1記載の半導体記憶装置。
2. A semiconductor device according to claim 1, further comprising a precharge means for precharging only a bit line connected to the addressed memory cell to a predetermined potential before transmitting a drive signal to said global word line. Storage device.
【請求項3】 上記グローバルワード線に駆動信号を伝
搬させる前に、アドレス指定されたメモリセルが存在す
るメモリセルブロックのメモリセルが接続される複数の
ビット線を所定の電位にプリチャージするプリチャージ
手段を有する請求項1記載の半導体記憶装置。
3. A precharge circuit for precharging a plurality of bit lines connected to memory cells of a memory cell block in which addressed memory cells exist to a predetermined potential before transmitting a drive signal to the global word line. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a charging unit.
【請求項4】 アドレス指定されたメモリセルが接続さ
れるビット線を選択するカラムデコーダと、 メモリセルブロックにおける同一行に配置されたメモリ
セル数に相当し、各メモリセルに対応するように設けら
れた複数の読出/書込回路と、 上記カラムデコーダと上記読出/書込回路との間に配線
され、各メモリセルブロックの対応する各メモリセルの
ビット線出力を共通の読出/書込回路に入力させる複数
のローカルバス線とを有する請求項1、2または3記載
の半導体記憶装置。
4. A column decoder for selecting a bit line to which a addressed memory cell is connected, and a column decoder corresponding to the number of memory cells arranged on the same row in a memory cell block and provided corresponding to each memory cell. A plurality of read / write circuits, and a bit line output of each memory cell of each memory cell block which is wired between the column decoder and the read / write circuit. 4. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising: a plurality of local bus lines for inputting data to said plurality of local bus lines.
【請求項5】 隣接して配線されたローカルバス線間に
シールド線が配線されている請求項4記載の半導体記憶
装置。
5. The semiconductor memory device according to claim 4, wherein a shield line is provided between adjacent local bus lines.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6774892B2 (en) 2000-09-13 2004-08-10 Seiko Epson Corporation Display driver IC
JP2006228294A (en) * 2005-02-16 2006-08-31 Renesas Technology Corp Semiconductor integrated circuit device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6774892B2 (en) 2000-09-13 2004-08-10 Seiko Epson Corporation Display driver IC
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