JPH1064099A - Optical pickup device - Google Patents
Optical pickup deviceInfo
- Publication number
- JPH1064099A JPH1064099A JP8222206A JP22220696A JPH1064099A JP H1064099 A JPH1064099 A JP H1064099A JP 8222206 A JP8222206 A JP 8222206A JP 22220696 A JP22220696 A JP 22220696A JP H1064099 A JPH1064099 A JP H1064099A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light beam
- light
- pickup device
- optical pickup
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Optical Head (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は光学ピックアップ装
置に係り、特に、2個以上の光源を有する光学ピックア
ップ装置に関する。The present invention relates to an optical pickup device, and more particularly to an optical pickup device having two or more light sources.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、光記録媒体の応用範囲の広範化に
伴い、記録密度、基板(保護層)の厚み、基板(保護
層)の材質、記録再生方式、ディスクサイズ等が異なる
多種の光記録媒体が、提供されている。そのため、光学
ピックアップ装置に対しては、記録、再生等の基本機能
に加えて、異なった種類の媒体を扱うことが出来る汎用
性の高さも要求されるようになった。2. Description of the Related Art In recent years, as the application range of optical recording media has been widened, various types of light having different recording densities, substrate (protective layer) thicknesses, substrate (protective layer) materials, recording / reproducing methods, disk sizes and the like have been changed. A recording medium is provided. Therefore, the optical pickup device is required to have high versatility capable of handling different types of media in addition to basic functions such as recording and reproduction.
【0003】例えば、記録再生方式が異なる記録媒体と
しては、記録表面にピット(微細な凹凸)を設けた再生
専用型、記録表面に有機色素を塗布し記録時に高出力の
光ビームでこの有機色素の反射率を変化させ信号を記録
する追記型、磁化で信号を記録し、この信号(磁化方
向)をカー効果を利用して検出する光磁気型、結晶状態
と非結晶状態という結晶状態により信号を記録し、この
信号を光学定数N(=n−ik)の違いによる反射光量
差により検出する相変化型があり、これらの記録媒体で
は、再生時より記録時の方が光ビームの光強度を大きく
する必要がある。For example, as a recording medium having a different recording / reproducing method, a read-only type in which pits (fine irregularities) are provided on a recording surface, an organic dye is applied to a recording surface, and a high-power light beam is used during recording to apply the organic dye A write-once type in which the signal is recorded by changing the reflectivity of the signal, a magneto-optical type in which the signal is recorded by magnetization and this signal (magnetization direction) is detected by using the Kerr effect, and the signal is formed by a crystalline state such as a crystalline state and an amorphous state. And there is a phase change type in which this signal is detected by a reflected light amount difference due to a difference in optical constant N (= n−ik). In these recording media, the light intensity of the light beam is larger at the time of recording than at the time of reproduction. Need to be larger.
【0004】次に、記録密度と光ビームのスポットとの
関係について説明する。Next, the relationship between the recording density and the light beam spot will be described.
【0005】記録媒体の記録密度は、記録単位(記録マ
ーク)の大きさによって規定され、低密度記録媒体の場
合には、記録マークの径は0.5μm程度であり、高密
度記録媒体の場合には、記録マークの径は0.3μm程
度である。一方、スポットの径も、記録マークの径に応
じて調整する必要があり、記録マークの径が0.5μm
程度の場合には、スポットの径は1.4μm程度に、記
録マークの径が0.3μm程度の場合には、スポットの
径は0.9μm程度にする必要がある。The recording density of a recording medium is defined by the size of a recording unit (recording mark). In the case of a low-density recording medium, the diameter of the recording mark is about 0.5 μm. The diameter of the recording mark is about 0.3 μm. On the other hand, the spot diameter also needs to be adjusted according to the diameter of the recording mark.
In this case, the spot diameter needs to be about 1.4 μm, and when the recording mark diameter is about 0.3 μm, the spot diameter needs to be about 0.9 μm.
【0006】上記のように記録媒体の記録密度に応じ
て、スポットの径を調整するためには、対物レンズの開
口数や光ビームの波長を変える必要がある。次に、スポ
ットの径と対物レンズの開口数及び光ビームの波長の関
係について説明する。In order to adjust the spot diameter according to the recording density of the recording medium as described above, it is necessary to change the numerical aperture of the objective lens and the wavelength of the light beam. Next, the relationship between the spot diameter, the numerical aperture of the objective lens, and the wavelength of the light beam will be described.
【0007】スポット径Rは次式で与えられる。The spot diameter R is given by the following equation.
【0008】R=0.61λ/NA この式で、λは光ビームの波長であり、又、NAはレン
ズの開口数であり、次式で与えられる。R = 0.61λ / NA In this equation, λ is the wavelength of the light beam, and NA is the numerical aperture of the lens, which is given by the following equation.
【0009】NA=n×sinθ この式で、nは屈折率であり、θは図11(レンズ35
の開口数を説明するための説明図)に示したように射出
瞳径に張る角度である。NA = n × sin θ In this equation, n is a refractive index, and θ is a value shown in FIG.
Is an angle to the exit pupil diameter as shown in FIG.
【0010】これらの式からもわかるように、スポット
径Rを小さくするためには、光ビームの波長λを短くす
るか、又は、レンズの開口数NA、つまりθを大きくす
る必要がある。As can be seen from these equations, in order to reduce the spot diameter R, it is necessary to shorten the wavelength λ of the light beam or increase the numerical aperture NA of the lens, ie, θ.
【0011】しかし、レンズの開口数NAが大きくなる
と、基板(保護層)で発生する球面収差が大きくなる。
ここで、球面収差とは収束光が屈折率が1でない平行平
板(屈折率が空気の屈折率と異なる平行平板)内を通過
した場合に発生する波面収差であり、回折限界まで光ビ
ームを絞り込むような光学系では、その光ビームの波面
収差を十分に小さくする必要がある。一般的にはマレシ
ャルの基準と呼ばれる目安が知られおり、この基準によ
れば、その波面収差量を0.07λRMSより小さくす
る必要がある。However, when the numerical aperture NA of the lens increases, the spherical aberration generated on the substrate (protective layer) increases.
Here, the spherical aberration is a wavefront aberration generated when converged light passes through a parallel flat plate having a refractive index not equal to 1 (a parallel flat plate having a refractive index different from that of air), and narrows the light beam to the diffraction limit. In such an optical system, it is necessary to sufficiently reduce the wavefront aberration of the light beam. Generally, a standard called Marechal's criterion is known, and according to this criterion, the wavefront aberration amount needs to be smaller than 0.07λRMS.
【0012】ここで、結像に寄与する光ビームの波面収
差が小さいということは、図12に示したように波面す
なわち光ビームの等位相面が、スポット42を中心とし
た球面になっているということである。Here, the fact that the wavefront aberration of the light beam contributing to the image formation is small means that the wavefront, that is, the equal phase surface of the light beam is a spherical surface centering on the spot 42 as shown in FIG. That's what it means.
【0013】しかし、光ビームの等位相面が、保護層4
0中でスポット42を中心とした球面(点a、点a’を
結ぶ曲線で示された球面)である場合に、保護層40の
外ではスポット42を中心とした球面(点b、点b’、
点b”を結ぶ曲線で示された曲面)にならない。However, the equal phase plane of the light beam is
In the case of a spherical surface centered on the spot 42 in FIG. 0 (a spherical surface indicated by a curve connecting the points a and a ′), a spherical surface centered on the spot 42 (point b, point b) outside the protective layer 40 ',
(A curved surface connecting the points b ″).
【0014】このように保護層40の外で光ビームの等
位相面がスポット42を中心とした球面にならないの
は、保護層40の屈折率(例えば、ポリカーボネイトで
は1.55)と空気(真空)の屈折率との差異により、
保護層40中を進行する光ビームの速度と空気(真空)
中を進行する光ビームの速度が異なるためである。As described above, the reason why the equal phase plane of the light beam does not become a spherical surface centered on the spot 42 outside the protective layer 40 is that the refractive index of the protective layer 40 (for example, 1.55 in polycarbonate) and the air (vacuum) ) And the refractive index
Speed of light beam traveling in protective layer 40 and air (vacuum)
This is because the velocities of the light beams traveling inside are different.
【0015】つまり、屈折率が1.55の保護層40中
を進行する光ビームの速度(dc間の速度)は空気(真
空)中を進行する光ビームの速度(cb”間の速度)よ
りも遅いので、光路長が等しい線分bd(又は線分b’
d)と線分b”dの長さは等しくならない。そして、こ
の線分bd(又は線分b’d)と線分b”dとの差は開
口数NAが大きい場合の方が大きくなる。That is, the speed of the light beam traveling in the protective layer 40 having a refractive index of 1.55 (the speed between dc) is higher than the speed of the light beam traveling in air (vacuum) (the speed between cb "). Is also slow, the line segment bd (or the line segment b ′) having the same optical path length
The length of d) is not equal to the length of the line segment b "d. The difference between the line segment bd (or the line segment b'd) and the line segment b" d becomes larger when the numerical aperture NA is large. .
【0016】又、開口数NAが大きいくなると、図13
に示したように光ビームの光軸が光記録媒体36に対し
て傾いた場合に発生するコマ収差も大きくなる。具体的
には、このコマ収差量は次式で与えられ、この式からも
わかるようにコマ収差量Wcは開口数の3乗に比例して
大きくなる。Further, when the numerical aperture NA increases, FIG.
As shown in (1), the coma aberration generated when the optical axis of the light beam is inclined with respect to the optical recording medium 36 also increases. Specifically, the coma aberration is expressed by the following equation, the coma aberration amount W c as can be seen from this equation increases in proportion to the cube of the numerical aperture.
【0017】[0017]
【数1】 (Equation 1)
【0018】尚、光記録媒体が光ビームの光軸に対して
傾くのは、主に光記録媒体の反りが原因であって、例え
ば0.7度程度の傾きが生じることは珍しくない。The inclination of the optical recording medium with respect to the optical axis of the light beam is mainly due to the warpage of the optical recording medium, and it is not uncommon that an inclination of, for example, about 0.7 degrees occurs.
【0019】従って、光記録媒体の高密度化に対応して
光ビームの波長λを短くし、レンズの開口数NAを大き
くした場合には、上記球面収差やコマ収差を低減するた
めに基板(保護層)の厚みを薄くすることが多い。Accordingly, when the wavelength λ of the light beam is shortened and the numerical aperture NA of the lens is increased in accordance with the increase in the density of the optical recording medium, the substrate ( The thickness of the protective layer is often reduced.
【0020】又、基板(保護層)の厚みが異なる光学記
録媒体、例えば、基板(保護層)の厚みが1.2mmの
低密度記録媒体と、基板(保護層)の厚みが0.6mm
の高密度記録媒体とでは、基板(保護層)で発生する球
面収差の量が異なるため、光学ピックアップ装置の収束
光線に予め与えておく球面収差の量を変えなければなら
ない。An optical recording medium having different thicknesses of the substrate (protective layer), for example, a low-density recording medium having a substrate (protective layer) thickness of 1.2 mm, and an optical recording medium having a substrate (protective layer) thickness of 0.6 mm
Since the amount of spherical aberration generated on the substrate (protective layer) differs from that of the high-density recording medium, the amount of spherical aberration previously given to the convergent light beam of the optical pickup device must be changed.
【0021】このため、基板(保護層)の厚みが異なる
光学記録媒体を扱う光学ピックアップ装置では、通常、
対物レンズを共用することができず、基板(保護層)の
厚みに合わせて複数の対物レンズを交換する手段等が設
けられている。又、対物レンズを交換せずに、液晶素子
や補正素子を用い、簡単な構成で基板(保護層)の厚み
が異なる光学記録媒体を扱う光学ピックアップ装置も知
られている。For this reason, in an optical pickup device which handles optical recording media having different thicknesses of the substrate (protective layer), usually,
The objective lens cannot be shared, and a means for exchanging a plurality of objective lenses according to the thickness of the substrate (protective layer) is provided. There is also known an optical pickup device that uses a liquid crystal element or a correction element without replacing an objective lens, and handles an optical recording medium having a different thickness of a substrate (protective layer) with a simple configuration.
【0022】次に、液晶素子を用いた光学ピックアップ
装置と補正素子を用いた光学ピックアップ装置について
説明する。Next, an optical pickup device using a liquid crystal element and an optical pickup device using a correction element will be described.
【0023】図14は、特開平8ー102079号公報
に記載されている液晶素子を用いた光学ピックアップ装
置である。FIG. 14 shows an optical pickup device using a liquid crystal element described in Japanese Patent Application Laid-Open No. H8-102079.
【0024】この光学ピックアップ装置 に於いては、
半導体レーザ31から出射した光ビームは、回折格子3
2で主ビーム(焦点誤差信号用、記録再生信号用)と副
ビーム(トラッキング誤差信号用)に分離した後、コリ
メータレンズ33に入射する。コリメータレンズ33に
入射した光ビームは、発散光から平行光にされ、ビーム
スプリッタ34に入射する。ビームスプリッタ34に入
射した光ビームは対物レンズ35の方向に反射され、液
晶素子51を介して対物レンズ35に入射する。対物レ
ンズ35に入射した光ビームは平行光から収束光にさ
れ、光記録媒体36の記録表面にスポットを形成する。In this optical pickup device,
The light beam emitted from the semiconductor laser 31 is
After being separated into a main beam (for a focus error signal and a recording / reproducing signal) and a sub-beam (for a tracking error signal) in 2, it is incident on a collimator lens 33. The light beam that has entered the collimator lens 33 is converted from divergent light into parallel light, and then enters the beam splitter 34. The light beam that has entered the beam splitter 34 is reflected in the direction of the objective lens 35 and enters the objective lens 35 via the liquid crystal element 51. The light beam incident on the objective lens 35 is changed from parallel light to convergent light, and forms a spot on the recording surface of the optical recording medium 36.
【0025】この光ビームは、記録表面で反射され、そ
の際、記録表面の記録情報に応じて変調される。記録表
面で反射された光ビームは、対物レンズ35で再び平行
光とされ、ビームスプリッタ24に入射する。ビームス
プリッタ24に入射した光ビームは、ビームスプリッタ
24内を直進し、集光レンズ37に入射する。集光レン
ズ37に入射した光ビームは、平行光から収束光にさ
れ、アナモフィックレンズ38に入射する。アナモフィ
ックレンズ38に入射した光ビームは、焦点誤差信号検
出用非点収差を発生し、受光素子39に入射する。受光
素子39に入射した光ビームは、トラッキング誤差信
号、焦点誤差信号、記録再生信号等の電気信号に変換さ
れる。This light beam is reflected by the recording surface and is modulated according to the information recorded on the recording surface. The light beam reflected by the recording surface is converted into parallel light again by the objective lens 35, and enters the beam splitter 24. The light beam that has entered the beam splitter 24 travels straight through the beam splitter 24 and enters the condenser lens 37. The light beam that has entered the condenser lens 37 is converted from parallel light into convergent light, and enters the anamorphic lens 38. The light beam that has entered the anamorphic lens 38 generates astigmatism for detecting a focus error signal, and enters the light receiving element 39. The light beam incident on the light receiving element 39 is converted into an electric signal such as a tracking error signal, a focus error signal, and a recording / reproducing signal.
【0026】上記光学ピックアップ装置で、正確な電気
信号を得るためには、適正なスポットを記録表面に結像
する必要があり、この光学ピックアップ装置では液晶素
子51を用いて光ビームの収差の影響を低減している。In order to obtain an accurate electric signal in the optical pickup device, it is necessary to form an appropriate spot on the recording surface. In this optical pickup device, the influence of aberration of the light beam using the liquid crystal element 51 is used. Has been reduced.
【0027】図15及び図16は、液晶素子51を用い
て基板(保護層)の薄い高密度記録媒体と基板(保護
層)の厚い低密度記録媒体に記録再生を行う場合を示し
ている。FIGS. 15 and 16 show a case where recording and reproduction are performed on a high-density recording medium having a thin substrate (protective layer) and a low-density recording medium having a thick substrate (protective layer) by using the liquid crystal element 51.
【0028】図15((a)液晶素子の平面図、(b)
液晶素子を透過する光ビームを示した説明図)は高密度
記録媒体を再生するの場合を示し、液晶素子51に入射
した光ビームは、液晶素子51中を一様に透過した後、
対物レンズ52で収束光とされる。又、対物レンズ52
を透過する際に、光ビームには高密度記録媒体の基板
(保護層)53aで発生する球面収差を打ち消す逆向き
の球面収差が与えられる(以下、収差補正という)。こ
のように収差補正がなられた収束光の光ビームは、基板
(保護層)53a中を透過し、記録表面54a上に小さ
なスポット55aを結像する。FIG. 15A is a plan view of the liquid crystal element, and FIG.
(Explanational diagram showing a light beam transmitted through a liquid crystal element) shows a case of reproducing a high-density recording medium. A light beam incident on the liquid crystal element 51 is transmitted uniformly through the liquid crystal element 51,
The light is converged by the objective lens 52. Also, the objective lens 52
When the light beam passes through, the light beam is provided with a spherical aberration in the opposite direction to cancel the spherical aberration generated on the substrate (protective layer) 53a of the high-density recording medium (hereinafter, referred to as aberration correction). The light beam of the convergent light having the aberration corrected as described above transmits through the substrate (protective layer) 53a, and forms a small spot 55a on the recording surface 54a.
【0029】図16((a)液晶素子の平面図、(b)
液晶素子を透過する光ビームを示した説明図)は低密度
記録媒体を再生するの場合を示し、液晶素子51が光ビ
ームの周辺部を遮断し、中央部の光ビームのみが対物レ
ンズ52に入射し、対物レンズ52で収束光とされる。
ここで、対物レンズ52を透過する際に、光ビームには
高密度記録媒体の場合と同じ収差補正がなされる。この
ように収差補正がなられた収束光の光ビームは、基板
(保護層)53b中を透過し、記録表面54b上にスポ
ット55bを結像するが、θ1>θ2であるため実効的
な開口数が小さくなり、スポット径は高密度記録媒体を
再生する場合よりも大きくなる。FIG. 16A is a plan view of the liquid crystal element, and FIG.
An explanatory diagram showing a light beam transmitted through a liquid crystal element) shows a case of reproducing a low-density recording medium. The liquid crystal element 51 blocks a peripheral portion of the light beam, and only the central light beam is transmitted to the objective lens 52. The light enters and is converged by the objective lens 52.
Here, when the light beam is transmitted through the objective lens 52, the light beam is subjected to the same aberration correction as in the case of the high-density recording medium. The convergent light beam thus corrected for aberration passes through the substrate (protective layer) 53b and forms a spot 55b on the recording surface 54b. However, since θ1> θ2, an effective aperture The number becomes smaller, and the spot diameter becomes larger than when reproducing a high-density recording medium.
【0030】又、低密度記録媒体の基板(保護層)53
bは、高密度記録媒体の基板(保護層)53aより厚い
ので、高密度記録媒体の場合と同じ収差補正では、収差
補正が不十分となるが、低密度記録媒体の場合には、θ
2つまり開口数が小さいため、補正しきれない球面収差
は小さく、無視することができる。従って、近似的には
球面収差は補正されていると考えても差し支えがない。A low-density recording medium substrate (protective layer) 53
Since b is thicker than the substrate (protective layer) 53a of the high-density recording medium, aberration correction is insufficient with the same aberration correction as in the case of the high-density recording medium.
2, that is, since the numerical aperture is small, the spherical aberration that cannot be completely corrected is small and can be ignored. Therefore, it can be considered that spherical aberration is approximately corrected.
【0031】つまり、球面収差の発生量は、光ビーム
(光束)の周辺部では大きく、光ビーム(光束)の中央
部では極めて小さいため、周辺部の光ビームを遮断すれ
ば、収差補正が不十分であっても球面収差はほとんど問
題にならない。That is, the amount of spherical aberration generated is large in the peripheral portion of the light beam (light beam) and extremely small in the central portion of the light beam (light beam). Even if sufficient, spherical aberration hardly matters.
【0032】以上のように、液晶素子51を用いた光学
ピックアップ装置では、対物レンズに入射する光ビーム
の径(実効的な開口数)を制御することにより、低密度
記録媒体と密度記録媒体の場合のスポット径を変更する
と共に、近似的に球面収差を補正していた。As described above, in the optical pickup device using the liquid crystal element 51, by controlling the diameter (effective numerical aperture) of the light beam incident on the objective lens, the low-density recording medium and the low-density recording medium can be controlled. In this case, the spot diameter was changed, and the spherical aberration was approximately corrected.
【0033】次に、特開平5ー120720号公報に記
載されている補正素子を用いた光学ピックアップ装置に
ついて説明する。Next, an optical pickup device using a correction element described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-120720 will be described.
【0034】図17は補正素子60を用いて基板(保護
層)の薄い高密度記録媒体と基板(保護層)の厚い低密
度記録媒体に記録再生を行う光学ピックアップ装置を示
している。この光学ピックアップ装置では、長波長半導
体レーザ31aから出射した光ビームは、回折格子32
a、コリメータレンズ33a、ビームスプリッタ34
a、対物レンズ35を介して、又、短波長半導体レーザ
31bから出射した光ビームは回折格子32b、コリメ
ータレンズ33b、ビームスプリッタ34b、対物レン
ズ35を介して、光記録媒体36の記録表面にスポット
を形成する。FIG. 17 shows an optical pickup device for performing recording and reproduction on a high-density recording medium with a thin substrate (protective layer) and a low-density recording medium with a thick substrate (protective layer) using the correction element 60. In this optical pickup device, the light beam emitted from the long wavelength semiconductor laser 31a is
a, collimator lens 33a, beam splitter 34
a, a light beam emitted from the short-wavelength semiconductor laser 31b through the objective lens 35 and spotted on the recording surface of the optical recording medium 36 through the diffraction grating 32b, the collimator lens 33b, the beam splitter 34b, and the objective lens 35. To form
【0035】上記光学ピックアップ装置では、対物レン
ズ36を透過する際に、光ビームには高密度記録媒体の
基板(保護層)で発生する球面収差を打ち消す逆向きの
球面収差が与えられる。従って、短波長半導体レーザ3
1bから出射した光ビームにより高密度記録媒体に記録
再生を行う場合には、光路に補正素子60を挿入せずに
記録再生を行う。一方、高密度記録媒体よりも基板(保
護層)が厚い低密度記録媒体に記録再生を行う場合に
は、対物レンズ36で与えられる収差補正だけでは補正
量が不十分なので、光路に補正素子60を挿入し、不足
した補正量を補足する。In the above optical pickup device, when the light beam passes through the objective lens 36, the light beam is given a spherical aberration in the opposite direction to cancel the spherical aberration generated on the substrate (protective layer) of the high-density recording medium. Therefore, the short wavelength semiconductor laser 3
When recording / reproducing is performed on the high-density recording medium by using the light beam emitted from 1b, recording / reproducing is performed without inserting the correction element 60 in the optical path. On the other hand, when performing recording and reproduction on a low-density recording medium having a substrate (protective layer) thicker than a high-density recording medium, the correction amount is insufficient only by the aberration correction given by the objective lens 36. To compensate for the missing correction amount.
【0036】このように補正素子を機械的機構により着
脱することにより、基板(保護層)の薄い高密度記録媒
体と基板(保護層)の厚い低密度記録媒体に記録再生を
行うことができる。As described above, by attaching and detaching the correction element by a mechanical mechanism, recording and reproduction can be performed on a high-density recording medium having a thin substrate (protective layer) and a low-density recording medium having a thick substrate (protective layer).
【0037】ところで光学ピックアップ装置では、記録
再生時に対物レンズがフォーカス方向(記録媒体の記録
表面に垂直な方向)やトラッキング方向(記録媒体の記
録表面に平行な方向)に移動するが、このフォーカシン
グ動作やトラッキング動作により光路に補正素子60を
挿入した場合に発生する波面収差量が変化する。In the optical pickup device, the objective lens moves in a focus direction (a direction perpendicular to the recording surface of the recording medium) or a tracking direction (a direction parallel to the recording surface of the recording medium) during recording and reproduction. The amount of wavefront aberration generated when the correction element 60 is inserted into the optical path by the tracking operation changes.
【0038】まず、図18(a)に示したようにフォー
カシング動作をした場合には、波面収差量は、図18
(b)に示したように変化する。ここで、波面収差量は
対物レンズ36が中立的な位置にある場合に最も低くな
り、フォーカシング動作に於ける一般的な可動範囲であ
る−0.5〜+0.5mmの範囲で、マレシャルの基準
(0.07λRMS)を十分に満足することができる。First, when the focusing operation is performed as shown in FIG.
It changes as shown in FIG. Here, the amount of wavefront aberration is lowest when the objective lens 36 is in a neutral position, and is within a range of -0.5 to +0.5 mm, which is a general movable range in the focusing operation, and is based on Marechal's standard. (0.07λRMS) can be sufficiently satisfied.
【0039】一方、図19(a)に示したようにトラッ
キング動作をした場合には、波面収差量は、図19
(b)の曲線61に示したように変化する。この曲線6
1に示した波面収差量の変化は、液晶素子を用いた光学
ピックアップ装置における波面収差量の変化(曲線6
2)より非常に大きくなり、偏心量が非常に小さい光記
録媒体(ディスク)でなければ記録再生を行うことがで
きない。On the other hand, when the tracking operation is performed as shown in FIG.
It changes as shown by the curve 61 in (b). This curve 6
The change in the amount of wavefront aberration shown in FIG. 1 corresponds to the change in the amount of wavefront aberration in the optical pickup device using the liquid crystal element (curve 6).
Recording and reproduction cannot be performed unless the optical recording medium (disc) is much larger than 2) and has a very small eccentricity.
【0040】又、光路に補正素子60を挿入した光学ピ
ックアップ装置では、記録媒体の傾きに対する許容量も
小さくなり、反りの大きな光記録媒体に記録再生を行う
ことが困難になる。In the optical pickup device in which the correction element 60 is inserted in the optical path, the tolerance for the inclination of the recording medium is small, and it is difficult to perform recording and reproduction on an optical recording medium with a large warp.
【0041】[0041]
【発明が解決しようとする課題】以下に、特開平8ー1
02079号公報に記載されている液晶素子を用いた光
学ピックアップ装置に於ける問題点と特開平5ー120
720号公報に記載されている補正素子を用いた光学ピ
ックアップ装置に於ける問題点を列挙する。Problems to be solved by the invention are described below in JP-A-8-1.
Problems with an optical pickup device using a liquid crystal element described in Japanese Patent Application Laid-Open No.
Problems in the optical pickup device using the correction element described in Japanese Patent Publication No. 720 are listed.
【0042】[液晶素子を用いた光学ピックアップ装置
に於ける問題点] (1).液晶素子はその構造が複雑で、高価であるた
め、これを用いた光学ピックアップ装置は、コスト高に
なる。[Problems in Optical Pickup Apparatus Using Liquid Crystal Element] (1) Since the liquid crystal element has a complicated structure and is expensive, an optical pickup apparatus using the liquid crystal element becomes expensive.
【0043】(2)液晶素子は、その動作電源が必要と
なるため、光学ピックアップ装置の構造が複雑化し、消
費電力が増加する。(2) Since the liquid crystal element requires an operation power supply, the structure of the optical pickup device becomes complicated, and the power consumption increases.
【0044】(3)液晶素子は、液晶と導電性透明膜と
偏光フィルタの組み合わせからなっているので光ビーム
の損失が大きく、光ビームの利用効率が低下する。従っ
て、高出力の半導体レーザが必要となり、光学ピックア
ップ装置の消費電力が増加する。(3) Since the liquid crystal element is composed of a combination of a liquid crystal, a conductive transparent film, and a polarizing filter, the loss of the light beam is large, and the utilization efficiency of the light beam is reduced. Therefore, a high-output semiconductor laser is required, and the power consumption of the optical pickup device increases.
【0045】(4)高密度記録媒体に記録再生を行うた
め、短波長の半導体レーザを用いる必要があが、記録時
に要求される光強度の大きな光ビームを出力する高出力
タイプの短波長半導体レーザは非常に高価であり、信頼
性も低い。(4) It is necessary to use a short-wavelength semiconductor laser in order to perform recording / reproducing on a high-density recording medium. However, a high-output type short-wavelength semiconductor that outputs a light beam having a high light intensity required for recording. Lasers are very expensive and unreliable.
【0046】(5)短波長半導体レーザだけで光学ピッ
クアップ装置を構成した場合、この短波長半導体レーザ
から出力された光ビームで、長波長の光ビームに対応し
た追記型記録媒体(有機色素を用いた追記型記録媒体)
を再生することができず、又、再生しようとした場合に
は、記録媒体に修復不可能な損傷を与える可能性があ
る。(5) When the optical pickup device is constituted only by the short-wavelength semiconductor laser, the write-once recording medium (using an organic dye) corresponding to the long-wavelength light beam is used as the light beam output from the short-wavelength semiconductor laser. Write-once recording medium)
Cannot be reproduced, and if it is attempted to reproduce, there is a possibility that the recording medium will be irreparably damaged.
【0047】[補正素子を用いた光学ピックアップ装置
に於ける問題点] (1)トラッキング動作に対する許容量が小さく、偏心
量の大きな光記録媒体に対して記録再生を行うことが難
しい。[Problems in Optical Pickup Apparatus Using Correction Element] (1) It is difficult to perform recording / reproducing on an optical recording medium having a small allowance for the tracking operation and a large eccentricity.
【0048】(2)光記録媒体の傾きに対する許容量が
小さく、反りの大きな光記録媒体に対して記録再生を行
うことが難しい。(2) It is difficult to perform recording and reproduction on an optical recording medium having a small allowance for the inclination of the optical recording medium and a large warpage.
【0049】(3)光記録媒体の基板(保護層)の厚さ
に応じて、補正素子を着脱する機械的機構に高い精度が
要求され、光学ピックアップ装置の作製が難しい。(3) Depending on the thickness of the substrate (protective layer) of the optical recording medium, a high precision is required for a mechanical mechanism for attaching and detaching the correction element, and it is difficult to manufacture an optical pickup device.
【0050】そこで本発明は、上記問題点を解決し、簡
単な構成で収差補正を行うことができる手段を備えると
共に、高出力の短波長半導体レーザを用いることなく高
密度記録媒体に記録再生を行うことができる光学ピック
アップ装置を提供することを目的とする。Accordingly, the present invention solves the above-mentioned problems, and comprises means capable of correcting aberrations with a simple configuration, and performs recording and reproduction on a high-density recording medium without using a high-output short-wavelength semiconductor laser. An object of the present invention is to provide an optical pickup device that can perform the operation.
【0051】[0051]
【課題を解決するための手段】請求項1記載の光学ピッ
クアップ装置は、異なる波長の光ビームを発生する2つ
の光源を有し、該光源より出射した光ビームを光記録媒
体に導くための光学手段を有している光学ピックアップ
装置に於いて、波長の異なる2つの光ビームが共に通過
する光路に、波長の長い方の光ビームの透過率が主に低
下する部分があり、記録時には、波長の長い方の光源の
み、又は両方の光源が点灯し、再生時には、いずれか一
方の光源のみが点灯することを特徴とするものである。According to a first aspect of the present invention, there is provided an optical pickup device having two light sources for generating light beams having different wavelengths, and for guiding the light beams emitted from the light sources to an optical recording medium. In the optical pickup device having the means, there is a portion where the transmittance of the light beam having the longer wavelength mainly decreases in the optical path through which the two light beams having different wavelengths pass together. Or both light sources are turned on, and at the time of reproduction, only one of the light sources is turned on.
【0052】請求項2記載の光学ピックアップ装置は、
請求項1記載の光学ピックアップ装置に於いて、上記波
長の長い方の光ビームの透過率が主に低下する部分が、
波長によって透過率が異なる色素を被着した透明基材で
あることを特徴とするものである。The optical pickup device according to claim 2 is
In the optical pickup device according to claim 1, a portion where the transmittance of the light beam having a longer wavelength mainly decreases is:
The transparent base material is coated with a dye having a transmittance different depending on the wavelength.
【0053】請求項3記載の光学ピックアップ装置は、
請求項2記載の光学ピックアップ装置に於いて、色素を
被着した上記透明基材が、対物レンズであることを特徴
とするものである。The optical pickup device according to claim 3 is
The optical pickup device according to claim 2, wherein the transparent substrate coated with the dye is an objective lens.
【0054】請求項4記載の光学ピックアップ装置は、
請求項2又は3記載の光学ピックアップ装置に於いて、
上記色素がナフタロシアニンであることを特徴とするも
のである。The optical pickup device according to claim 4 is
The optical pickup device according to claim 2 or 3,
The dye is naphthalocyanine.
【0055】請求項5記載の光学ピックアップ装置は、
請求項1記載乃至請求項4記載のいずれかの光学ピック
アップ装置に於いて、波長の長い方の光ビームの透過率
が主に低下する部分で、光ビームの断面外周部の透過率
が主に低下することを特徴とするものである。The optical pickup device according to claim 5 is
In the optical pickup device according to any one of claims 1 to 4, the transmittance at the outer peripheral portion of the cross section of the light beam is mainly reduced at a portion where the transmittance of the light beam having a longer wavelength mainly decreases. It is characterized by being reduced.
【0056】請求項6記載の光学ピックアップ装置は、
請求項1記載乃至請求項4記載のいずれかの光学ピック
アップ装置に於いて、波長の長い方の光ビームの透過率
が主に低下する部分で、光ビームの断面外周部及び中央
部が主に低下し、該断面外周部と中央部との間に、透過
率がほとんど低下しない部分があることを特徴とするも
のである。The optical pickup device according to claim 6 is:
In the optical pickup device according to any one of claims 1 to 4, the outer peripheral portion and the central portion of the cross section of the light beam mainly correspond to the portion where the transmittance of the light beam having the longer wavelength mainly decreases. It is characterized in that there is a portion that decreases and the transmittance hardly decreases between the outer peripheral portion and the central portion of the cross section.
【0057】[0057]
【発明の実施の形態】以下に、本発明の光学ピックアッ
プ装置を図面を参照して説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An optical pickup device according to the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0058】図1及び図2は、発振波長650nmの半
導体レーザー1と発振波長780nmの半導体レーザー
2を具備する本発明にかかる光学ピックアップ装置の構
成を示した説明図であり、図1は半導体レーザー1を点
灯させた場合を、図2は半導体レーザー2を点灯させた
場合を示す。ここで、半導体レーザー1から出力された
光ビームはダイクロイックミラー3を直進し、半導体レ
ーザー2から出力された光ビームはダイクロイックミラ
ー3で反射し、いずれの光ビームについても回折格子4
に入射する。回折格子4に入射した光ビームは、主ビー
ム(焦点誤差信号用、記録再生信号用)と副ビーム(ト
ラッキング誤差信号用)に分離した後、コリメータレン
ズ5に入射する。コリメータレンズ5に入射した光ビー
ムは、発散光から平行光とされ、ビームスプリッタ6に
入射する。ビームスプリッタ6に入射した光ビームは、
対物レンズ8の方向に反射され、光学素子7を介して対
物レンズ8に入射する。対物レンズ8に入射した光ビー
ムは、平行光から収束光とされ、光記録媒体9の記録表
面にスポットを形成する。FIGS. 1 and 2 are explanatory diagrams showing the configuration of an optical pickup device according to the present invention including a semiconductor laser 1 having an oscillation wavelength of 650 nm and a semiconductor laser 2 having an oscillation wavelength of 780 nm. FIG. FIG. 2 shows the case where the semiconductor laser 2 is turned on. Here, the light beam output from the semiconductor laser 1 travels straight through the dichroic mirror 3, the light beam output from the semiconductor laser 2 is reflected by the dichroic mirror 3, and any light beam is diffracted by the diffraction grating 4.
Incident on. The light beam incident on the diffraction grating 4 is split into a main beam (for a focus error signal and a recording / reproducing signal) and a sub beam (for a tracking error signal), and then enters the collimator lens 5. The light beam that has entered the collimator lens 5 is converted from divergent light into parallel light, and enters the beam splitter 6. The light beam incident on the beam splitter 6 is
The light is reflected in the direction of the objective lens 8 and enters the objective lens 8 via the optical element 7. The light beam incident on the objective lens 8 is changed from parallel light to convergent light, and forms a spot on the recording surface of the optical recording medium 9.
【0059】このようにして光記録媒体9の記録表面に
スポットを形成した光ビームは、記録表面で反射され、
対物レンズ8に入射する。対物レンズ8に入射した光ビ
ームは、再び平行光とされ、光学素子7を通過し、ビー
ムスプリッタ7を直進して集光レンズ10に入射する。
集光レンズ10に入射した光ビームは平行光から収束光
にされ、アナモフィックレンズ11に入射する。アナモ
フィックレンズ11に入射した光ビームは焦点誤差信号
検出用非点収差を発生し、受光素子12に達する。受光
素子12に達した光ビームは、トラッキング誤差信号、
焦点誤差信号及び記録再生信号に変換される。The light beam having a spot formed on the recording surface of the optical recording medium 9 in this manner is reflected by the recording surface,
The light enters the objective lens 8. The light beam that has entered the objective lens 8 is converted into parallel light again, passes through the optical element 7, travels straight through the beam splitter 7, and enters the condenser lens 10.
The light beam that has entered the condenser lens 10 is converted from parallel light into convergent light, and enters the anamorphic lens 11. The light beam incident on the anamorphic lens 11 generates astigmatism for detecting a focus error signal, and reaches the light receiving element 12. The light beam reaching the light receiving element 12 is a tracking error signal,
It is converted into a focus error signal and a recording / reproducing signal.
【0060】上記光学ピックアップ装置に於いては、光
ビームの波長が650nmであるか、又は780nmで
あるかによって、対物レンズ8の実効開口数(対物レン
ズ8に入射する光ビームに対する実質的な開口数)が変
化する。尚、前記実効開口数は、光ビームの波長が78
0nmである場合の方が小さくなるように設定されてお
り、図2に示したように発振波長780nmの半導体レ
ーザー1から出力された光ビームの方が、小さい開口数
で結像する。In the optical pickup device, the effective numerical aperture of the objective lens 8 (the substantial numerical aperture for the light beam incident on the objective lens 8) depends on whether the wavelength of the light beam is 650 nm or 780 nm. Number) changes. The effective numerical aperture is such that the wavelength of the light beam is 78.
The light beam output from the semiconductor laser 1 having the oscillation wavelength of 780 nm forms an image with a smaller numerical aperture as shown in FIG.
【0061】この実効開口数の変化は、光ビームの波長
に応じて透過率が変化する色素が塗布された光学素子7
により、対物レンズ8に入射する光ビームの径が変化す
るために生じる。The change in the effective numerical aperture is caused by the fact that the optical element 7 coated with a dye whose transmittance changes according to the wavelength of the light beam.
This causes the diameter of the light beam incident on the objective lens 8 to change.
【0062】図3は本発明にかかる光学ピックアップ装
置の光路中に設置された光学素子7の例を示した斜視図
である。同図(a)に示した光学素子は、光学ガラスB
K7からなる平行平板状の透明基材7aの入射面又は出
射面の外周部に色素7bを塗布したものであり、その中
央部には色素7bが塗布されていない円形状の領域があ
る。一方、(b)に示した光学素子は、同様の透明基材
7aの入射面又は出射面の全面に色素2を塗布したもの
であり、その中央部には、円形状に色素7bの塗布量が
少ない部分(色素7bが薄く塗布された部分)がある。FIG. 3 is a perspective view showing an example of the optical element 7 installed in the optical path of the optical pickup device according to the present invention. The optical element shown in FIG.
The colorant 7b is applied to the outer periphery of the entrance surface or the exit surface of the parallel plate transparent substrate 7a made of K7, and there is a circular area at the center portion where the pigment 7b is not applied. On the other hand, the optical element shown in (b) is obtained by applying the dye 2 to the entirety of the incident surface or the outgoing surface of the same transparent base material 7a. (A portion where the dye 7b is thinly applied).
【0063】尚、上記光学素子に於いては、色素7bと
してナフタロシアニン色素を用いた。この色素の透過率
は、図4に示したように波長780nm付近で急激に低
下する。In the above optical element, a naphthalocyanine dye was used as the dye 7b. As shown in FIG. 4, the transmittance of the dye sharply decreases around the wavelength of 780 nm.
【0064】又、透明基材7aは、光学ガラス以外の光
を透過する材料、例えば、プラスチック等を用いてもよ
い。The transparent substrate 7a may be made of a material other than optical glass that transmits light, such as plastic.
【0065】図5は、図3(a)に示した光学素子のA
A’断面図と、AA’断面に沿った透過率の分布を示し
たものである((a)断面図、(b)波長650nmの
光ビームに対する透過率の分布、(b)波長780nm
の光ビームに対する透過率の分布)。FIG. 5 is a sectional view of the optical element shown in FIG.
FIG. 3A is a cross-sectional view and FIG. 4B shows a transmittance distribution along the AA ′ cross-section ((a) cross-sectional view, (b) transmittance distribution for a light beam having a wavelength of 650 nm, (b) wavelength 780 nm).
Distribution of transmittance for the light beam).
【0066】この光学素子は、図5(a)の断面図に示
したように、外周部に色素が塗布されているが、この色
素の波長650nmの光ビームに対する透過率はほぼ1
00%なので、波長650nmの光ビームの場合、図5
(b)に示したように光学素子に入射した光ビームは中
央部又は外周部を問わず全面でほぼ100%透過する。
一方、上記色素の波長780nmの光ビームに対する透
過率はほぼ0%なので、波長780nmの光ビームの場
合、図5(c)に示したように光学素子の外周部に入射
した光ビームはほとんど透過せず(透過率がほぼ0
%)、中央部に入射した光ビームはほぼ100%透過す
る。As shown in the sectional view of FIG. 5A, a dye is applied to the outer periphery of this optical element, and the transmittance of the dye to a light beam having a wavelength of 650 nm is substantially one.
In the case of a light beam having a wavelength of 650 nm, FIG.
As shown in (b), almost 100% of the light beam incident on the optical element is transmitted over the entire surface irrespective of the central portion or the outer peripheral portion.
On the other hand, the transmittance of the dye to a light beam having a wavelength of 780 nm is almost 0%. Therefore, in the case of a light beam having a wavelength of 780 nm, as shown in FIG. No (transmittance is almost 0
%), And the light beam incident on the central portion is transmitted by almost 100%.
【0067】図6は、図3(b)に示した光学素子のB
B’断面図と、BB’断面に沿った透過率の分布を示し
たものである((a)断面図、(b)波長650nmの
光ビームに対する透過率の分布、(b)波長780nm
の光ビームに対する透過率の分布)。FIG. 6 shows the optical element B shown in FIG.
It shows a cross-sectional view taken along the line B 'and a distribution of transmittance along the cross-section BB' ((a) cross-sectional view, (b) distribution of transmittance for a light beam having a wavelength of 650 nm, (b) wavelength 780 nm).
Distribution of transmittance for the light beam).
【0068】この光学素子は、図6(a)の断面図に示
したように、外周部で厚く、中央部で薄く色素が塗布さ
れているが、この色素の波長650nmの光ビームに対
する透過率はほぼ100%なので、波長650nmの光
ビームの場合、図5(b)に示したように光学素子に入
射した光ビームは中央部又は外周部を問わず全面でほぼ
100%透過する。一方、上記色素の波長780nmの
光ビームに対する透過率はほぼ0%なので、色素が厚く
塗布されている外周部では光ビームの透過率が0%に近
づき、色素が薄く塗布されている中央部では光ビームの
透過率が100%に近づく。As shown in the cross-sectional view of FIG. 6A, this optical element is coated with a dye that is thicker at the outer periphery and thinner at the center, and has a transmittance for a light beam having a wavelength of 650 nm of the dye. Therefore, in the case of a light beam with a wavelength of 650 nm, almost 100% of the light beam incident on the optical element is transmitted over the entire surface irrespective of the central portion or the outer peripheral portion, as shown in FIG. On the other hand, the transmittance of the dye to a light beam having a wavelength of 780 nm is almost 0%. Therefore, the transmittance of the light beam approaches 0% in the outer periphery where the dye is applied thickly, and in the center where the dye is thinly applied. The light beam transmittance approaches 100%.
【0069】従って、図3に示したような光学素子を光
学ピックアップ装置の光路中に設置した場合、波長65
0nmの光ビームについては、実効開口数が大きいため
小さなスポットを形成する。一方、波長780nmの光
ビームについては、波長が長い分と実効開口数が小さい
分だけスポット径は大きくなる。Therefore, when the optical element as shown in FIG. 3 is installed in the optical path of the optical pickup device, the wavelength 65
For a light beam of 0 nm, a small spot is formed because the effective numerical aperture is large. On the other hand, for a light beam having a wavelength of 780 nm, the spot diameter increases as the wavelength is longer and the effective numerical aperture is smaller.
【0070】次に、図1及び図2に示した光学ピックア
ップ装置を用いて、記録媒体に記録されている信号を再
生する場合について説明する。Next, a case where a signal recorded on a recording medium is reproduced by using the optical pickup device shown in FIGS. 1 and 2 will be described.
【0071】まず、高密度記録媒体を再生する場合に
は、発振波長650nmの半導体レーザー1だけを点灯
させ、記録表面に小さなスポットを形成し、記録媒体に
記録されている信号を読み出す。一方、低密度記録媒体
を再生する場合には、発振波長780nmの半導体レー
ザー2だけを点灯させ、記録表面に比較的大きなスポッ
トを形成し、記録媒体に記録されている信号を読み出
す。First, when reproducing a high-density recording medium, only the semiconductor laser 1 having an oscillation wavelength of 650 nm is turned on, a small spot is formed on the recording surface, and a signal recorded on the recording medium is read. On the other hand, when reproducing a low-density recording medium, only the semiconductor laser 2 having an oscillation wavelength of 780 nm is turned on, a relatively large spot is formed on the recording surface, and a signal recorded on the recording medium is read.
【0072】ここで、高密度記録媒体と低密度記録媒体
とでは、通常、基板(保護層)の厚みが異なる(通常、
低密度記録媒体の方が基板(保護層)が厚い)ため、基
板(保護層)で発生する球面収差の量も異なるが、対物
レンズ又はその他の光学素子でなされる収差補正は、高
密度記録媒体に適したものとする。従って、低密度記録
媒体の場合には、十分な収差補正がなされないが、発生
する球面収差が小さい対物レンズ中央部の光線のみが結
像に寄与するので、やはり回折限界程度まで光ビームを
絞り込むことができる。Here, the high-density recording medium and the low-density recording medium usually have different thicknesses of the substrate (protective layer) (usually,
Since the low-density recording medium has a thicker substrate (protective layer), the amount of spherical aberration generated on the substrate (protective layer) is also different, but the aberration correction performed by the objective lens or other optical elements is performed by high-density recording. Be suitable for the medium. Therefore, in the case of a low-density recording medium, although sufficient aberration correction is not performed, only the light beam at the center of the objective lens, which generates a small spherical aberration, contributes to image formation. be able to.
【0073】尚、この光学ピックアップ装置では、高密
度記録媒体の基板(保護層)の厚みを0.6mm、低密
度記録媒体の基板(保護層)の厚みを1.2mmとし、
高密度記録媒体再生時の対物レンズの開口数を0.6、
低密度記録媒体再生時の対物レンズの実質的な開口数を
0.35とした。又、光学素子に塗布した色素の膜厚は
800Aとした。In this optical pickup device, the thickness of the substrate (protective layer) of the high-density recording medium was 0.6 mm, and the thickness of the substrate (protective layer) of the low-density recording medium was 1.2 mm.
When reproducing the high-density recording medium, the numerical aperture of the objective lens is 0.6,
The substantial numerical aperture of the objective lens during reproduction of the low-density recording medium was 0.35. The thickness of the dye applied to the optical element was 800A.
【0074】次に、記録媒体に信号を記録する場合につ
いて説明する。Next, a case where a signal is recorded on a recording medium will be described.
【0075】通常、記録媒体に信号を記録する場合に
は、再生の場合ほど小さなスポットは必要とされない
が、光ビームの光強度については再生の場合よりも強く
する必要がある。従って、高密度記録媒体であっても発
振波長780nmの半導体レーザー2だけを用いて信号
を記録することができる。但し、このときに半導体レー
ザーは再生の場合よりも高出力で点灯させる必要があ
る。又、スポット中心部の光強度をより強くしたい場合
には、発振波長780nmの半導体レーザー2と発振波
長650nmの半導体レーザーの双方を点灯させてもよ
い。Normally, when a signal is recorded on a recording medium, a small spot is not required as in the case of reproduction, but the light intensity of the light beam needs to be stronger than in the case of reproduction. Therefore, even with a high-density recording medium, signals can be recorded using only the semiconductor laser 2 having an oscillation wavelength of 780 nm. However, at this time, the semiconductor laser needs to be turned on with a higher output than in the case of reproduction. In order to further increase the light intensity at the center of the spot, both the semiconductor laser 2 having an oscillation wavelength of 780 nm and the semiconductor laser having an oscillation wavelength of 650 nm may be turned on.
【0076】又、低密度記録媒体の場合にも、点灯の出
力を調整すれば、発振波長780nmの半導体レーザー
2だけを用いて信号を記録することができる。Also in the case of a low-density recording medium, a signal can be recorded using only the semiconductor laser 2 having an oscillation wavelength of 780 nm by adjusting the lighting output.
【0077】尚、発振波長650nmの半導体レーザー
1に高出力のものを用いれば、発振波長650nmの半
導体レーザー1だけで記録媒体に信号を記録することも
できるが、発振波長の短い半導体レーザーの高出力タイ
プは非常に高価なので、発振波長780nmの半導体レ
ーザーつまり発振波長の長い半導体レーザーだけを高出
力タイプとした方が、より低価格で光学ピックアップ装
置を提供することができる。If a high-power semiconductor laser 1 having an oscillation wavelength of 650 nm is used, a signal can be recorded on a recording medium using only the semiconductor laser 1 having an oscillation wavelength of 650 nm. Since the output type is very expensive, it is possible to provide an optical pickup device at a lower price by using only a semiconductor laser having an oscillation wavelength of 780 nm, that is, a semiconductor laser having a long oscillation wavelength, as a high output type.
【0078】図7は、光ビームが形成するスポットの径
方向に沿った光強度分布である。ここで、20は発振波
長780nmの半導体レーザー2だけを点灯させた場合
の光強度分布であり、21は発振波長650nmの半導
体レーザー1だけを点灯させた場合の光強度分布であ
り、22は発振波長780nmの半導体レーザー2と発
振波長650nmの半導体レーザー1の双方を点灯させ
た場合の光強度分布である。同図からも明らかなよう
に、発振波長780nmの半導体レーザー2と発振波長
650nmの半導体レーザー1の双方を点灯させた場合
は、スポット中心部の光強度をより強くすることができ
る。FIG. 7 shows a light intensity distribution along a radial direction of a spot formed by a light beam. Here, 20 is the light intensity distribution when only the semiconductor laser 2 having the oscillation wavelength of 780 nm is turned on, 21 is the light intensity distribution when only the semiconductor laser 1 having the oscillation wavelength of 650 nm is turned on, and 22 is the oscillation intensity. This is a light intensity distribution when both the semiconductor laser 2 having a wavelength of 780 nm and the semiconductor laser 1 having an oscillation wavelength of 650 nm are turned on. As is clear from the figure, when both the semiconductor laser 2 having the oscillation wavelength of 780 nm and the semiconductor laser 1 having the oscillation wavelength of 650 nm are turned on, the light intensity at the center of the spot can be further increased.
【0079】又、上記光学素子7に於いては、透明基材
の外周部だけに色素を塗布して、発生する球面収差が大
きい対物レンズ外周部の光ビームを遮断しているが、こ
の場合に実効開口数が小さくなっためにスポットが大き
くなり過ぎた場合には、図8((a)斜視図、(b)C
C’断面図)に示したように透明基材7aの中心部にも
色素7bを塗布してスポットの大きさを調整してもよ
い。これは超解像効果を応用したものであり、このよう
に光ビーム中央部の光を遮蔽することにより、理論回折
限界よりも小さなスポットを形成することができる。In the optical element 7, a dye is applied only to the outer peripheral portion of the transparent base material to block the light beam on the outer peripheral portion of the objective lens where the generated spherical aberration is large. In the case where the spot becomes too large due to the decrease in the effective numerical aperture, FIG. 8 (a) is a perspective view, and FIG.
As shown in (C 'cross-sectional view), the size of the spot may be adjusted by applying the dye 7b also to the center of the transparent substrate 7a. This is an application of the super-resolution effect. By blocking the light at the central portion of the light beam, a spot smaller than the theoretical diffraction limit can be formed.
【0080】図9は、図8に示した光学素子を用いた場
合に光ビームが形成するスポットの径方向に沿った光強
度分布である。ここで、23は光ビーム中央部の光を遮
蔽しなかった場合の光強度分布を示し、24は中央部の
光を遮蔽した場合、つまり超解像効果を利用した場合の
光強度分布を示す。同図に示したように、超解像効果を
利用した場合には、スポット(スポットの径)を小さく
できるが、サイドローブ24aは超解像効果を利用しな
かった場合よりも大きくなる。FIG. 9 shows a light intensity distribution along a radial direction of a spot formed by a light beam when the optical element shown in FIG. 8 is used. Here, 23 indicates the light intensity distribution when the light at the center of the light beam is not blocked, and 24 indicates the light intensity distribution when the light at the center is blocked, that is, when the super-resolution effect is used. . As shown in the figure, when the super-resolution effect is used, the spot (diameter of the spot) can be reduced, but the side lobe 24a becomes larger than when the super-resolution effect is not used.
【0081】従って、超解像効果を利用する場合には、
サイドローブ24aの影響を考慮して、透明基材7aの
中心部に塗布する色素7bの径を調整する必要がある。
ここでは、超解像効果を利用するために光を遮蔽した部
分の面積は、超解像効果を利用しない場合の透過部分の
10%程度とした。Therefore, when utilizing the super-resolution effect,
In consideration of the influence of the side lobe 24a, it is necessary to adjust the diameter of the dye 7b applied to the center of the transparent substrate 7a.
Here, the area of the portion where light was shielded in order to use the super-resolution effect was about 10% of the transmission portion when the super-resolution effect was not used.
【0082】尚、図1及び図2に示した光学ピックアッ
プ装置に於いては、色素が塗布された光学素子を別途設
置して、発振波長が長い方の半導体レーザーから出力さ
れた光ビームのスポットの径(有効開口数、超解像効
果)の調整や、球面収差の影響の低減を行っていたが、
ビームスプリッタ、回折格子、コリメータレンズ、又
は、その他の光学素子の表面に色素を塗布してもよい。
この場合は、別個に透明基材を設ける必要がないので、
部品点数を削減することができる。又、複数の光学素子
の表面に色素を塗布してもよい。In the optical pickup device shown in FIGS. 1 and 2, an optical element coated with a dye is separately installed, and a spot of a light beam output from a semiconductor laser having a longer oscillation wavelength is provided. The diameter (effective numerical aperture, super-resolution effect) of the lens was adjusted, and the effect of spherical aberration was reduced.
Dye may be applied to the surface of the beam splitter, diffraction grating, collimator lens, or other optical element.
In this case, there is no need to provide a separate transparent substrate,
The number of parts can be reduced. Further, a dye may be applied to the surface of a plurality of optical elements.
【0083】又、図10(対物レンズの断面図)に示し
たように、対物レンズ25の表面に色素26を塗布した
場合には、次のような効果も得られる。通常、対物レン
ズは、光記録媒体のトラックに追随するために、サーボ
機構を用いて常に動いている(以下、トラッキング動作
という)。対物レンズ以外の光学素子に色素を塗布し、
光ビームの径を制御した場合には、光ビームの断面内に
おける強度分布が対物レンズのトラッキング動作と一体
となって動かないが、対物レンズに色素を塗布した場合
には、トラッキング動作を行っても、常に対物レンズの
光軸を中心とした同心円状の強度分布になるので、より
好ましいスポットを形成することができる。As shown in FIG. 10 (cross-sectional view of the objective lens), when the pigment 26 is applied to the surface of the objective lens 25, the following effects can be obtained. Usually, the objective lens always moves using a servo mechanism in order to follow a track of the optical recording medium (hereinafter, referred to as a tracking operation). Apply dye to optical elements other than the objective lens,
When the diameter of the light beam is controlled, the intensity distribution in the cross section of the light beam does not move together with the tracking operation of the objective lens, but when the pigment is applied to the objective lens, the tracking operation is performed. However, since the intensity distribution is always concentric about the optical axis of the objective lens, a more preferable spot can be formed.
【0084】尚、対物レンズ駆動手段上に色素を塗布し
た光学素子を設置しても同様の効果を期待できるが、ト
ラッキング動作及び焦点合わせ動作をする可動部の質量
は軽い方が望ましいため、別個の光学素子を設けるより
も対物レンズ表面に直接色素を塗布した方が好ましい。The same effect can be expected even if an optical element coated with a dye is provided on the objective lens driving means. However, it is desirable that the mass of the movable part for performing the tracking operation and the focusing operation be smaller, It is preferable to apply the dye directly to the surface of the objective lens, rather than providing the optical element described above.
【0085】以上に説明したように本発明の光学ピック
アップ装置に於いては、発振波長の異なる2つ光源(半
導体レーザー)で、光学系を共用し、発振波長が長い方
の半導体レーザーから出力された光ビームについては、
スポットの形成に寄与する光束を調整することにより、
のスポットの径(有効開口数、超解像効果)の調整や、
球面収差の影響の低減を行っている。As described above, in the optical pickup device of the present invention, two light sources (semiconductor lasers) having different oscillation wavelengths share an optical system and output from the semiconductor laser having the longer oscillation wavelength. Light beam
By adjusting the luminous flux that contributes to the formation of the spot,
Adjustment of spot diameter (effective numerical aperture, super-resolution effect),
The effect of spherical aberration is reduced.
【0086】そして、記録媒体に記録されている信号を
再生する場合は、記録媒体の記録密度に応じて、発振波
長が短い方の半導体レーザーから出力された光ビーム又
は発振波長が長い方の半導体レーザーから出力された光
ビームを使用している。When reproducing a signal recorded on a recording medium, a light beam output from a semiconductor laser having a shorter oscillation wavelength or a semiconductor having a longer oscillation wavelength is used in accordance with the recording density of the recording medium. The light beam output from the laser is used.
【0087】一方、記録媒体に信号を記録する場合は、
記録媒体の記録密度に応じて、発振波長が長い方の半導
体レーザーから出力された光ビーム、又は発振波長が長
い方の半導体レーザーから出力された光ビームと発振波
長が短い方の半導体レーザーから出力された光ビームの
双方を使用している。On the other hand, when recording a signal on a recording medium,
Depending on the recording density of the recording medium, a light beam output from a semiconductor laser with a longer oscillation wavelength or a light beam output from a semiconductor laser with a longer oscillation wavelength and a light beam output from a semiconductor laser with a shorter oscillation wavelength Both light beams are used.
【0088】このように記録媒体に信号を記録する場合
には、記録媒体の記録密度にかかわらず発振波長が長い
方の半導体レーザーだけは必ず用い、信号を記録するの
に十分な光強度を確保している。In recording a signal on a recording medium in this way, regardless of the recording density of the recording medium, only the semiconductor laser having a longer oscillation wavelength is used, and light intensity sufficient to record a signal is secured. doing.
【0089】尚、本発明の光学ピックアップ装置は、3
個以上のビーム源を有する光学ピックアップ装置や、有
限系光学ピックアップ装置等に広く適用できる。Incidentally, the optical pickup device of the present invention
The present invention can be widely applied to an optical pickup device having more than two beam sources, a finite system optical pickup device, and the like.
【0090】又、本発明の光学ピックアップ装置に於い
ては、スポットの形成に寄与する光束を調整する手段と
して、誘電体多層膜を用いたダイクロイックミラー等の
波長によって透過率が異なる光学素子を用いてもよい。In the optical pickup device of the present invention, as a means for adjusting a light beam contributing to the formation of a spot, an optical element having a different transmittance depending on the wavelength, such as a dichroic mirror using a dielectric multilayer film, is used. You may.
【0091】又、色素膜によりスポットの形成に寄与す
る光束を調整する場合の色素の材料については、光ビー
ムの波長に応じて透過率が変化する色素であれば、ナフ
タロシアニン色素以外の色素であってもよい。The dye material for adjusting the luminous flux contributing to the formation of spots by the dye film is a dye other than the naphthalocyanine dye as long as its transmittance changes according to the wavelength of the light beam. There may be.
【0092】又、色素膜の形成方法についても、塗布
(色素を有機溶剤中に分散させたものを塗布乾燥させ
る)以外の方法、例えば、蒸着法(物理蒸着法、化学蒸
着法)、スパッタリング法等によって形成してもよい。Regarding the method of forming the dye film, a method other than coating (coating and drying a dispersion of a dye in an organic solvent), for example, a vapor deposition method (physical vapor deposition method, chemical vapor deposition method) and a sputtering method Or the like.
【0093】又、色素の材料についても、光ビームの波
長に応じて透過率が変化する色素であれば、ナフタロシ
アニン色素以外の色素であってもよい。The dye material may be a dye other than the naphthalocyanine dye, as long as the transmittance changes according to the wavelength of the light beam.
【0094】又、色素の膜形状や膜厚分布についても、
特に限定されないが、光記録媒体の記録密度や基板(保
護層)の厚み等を考慮して、適宜これらを設定する必要
がある。Further, regarding the film shape and film thickness distribution of the dye,
Although not particularly limited, it is necessary to appropriately set these in consideration of the recording density of the optical recording medium, the thickness of the substrate (protective layer), and the like.
【0095】ここで、高密度記録媒体を扱う場合と低密
度記録媒体を扱う場合の開口数の相対関係については、
低密度記録媒体を扱う場合の対物レンズの実効開口数
は、高密度記録媒体を扱う場合の40%〜85%の範囲
が望ましく、より望ましくは50%〜80%の範囲であ
る。Here, the relative relationship between the numerical apertures when handling a high-density recording medium and when dealing with a low-density recording medium is as follows.
The effective numerical aperture of the objective lens when handling low-density recording media is preferably in the range of 40% to 85% when handling high-density recording media, and more preferably in the range of 50% to 80%.
【0096】又、低密度記録媒体を扱う場合の中央部と
外周部(透過部と遮断部)の光強度の比率は、2:1〜
100:1の範囲であることが望ましく、より望ましく
は4:1〜50:1の範囲である。もちろん、理想的には
外周部の光強度は全くない、つまり完全に遮断されるこ
とが望ましいが、波長780nmの場合(低密度記録媒
体を扱う場合)に外周部の光強度を減らすために色素の
膜厚をあまり厚くすると、波長650nmの場合(高密
度記録媒体を扱う場合)にも外周部の光強度が低下する
ので、高密度記録媒体を扱う場合と低密度記録媒体を扱
う場合の双方を考慮して膜厚を設定することが望まし
い。又、色素の膜厚が50A〜2000Aの範囲であれ
ば、色素の膜部分で発生する波面収差量はほぼ無視でき
るので、色素の膜厚はこの範囲であることが望ましい。When a low-density recording medium is handled, the ratio of the light intensity between the central portion and the outer peripheral portion (transmitting portion and blocking portion) is 2: 1 to 1
It is preferably in the range of 100: 1, more preferably in the range of 4: 1 to 50: 1. Of course, ideally, there is no light intensity at the outer periphery, that is, it is desirable that the light be completely blocked. If the film thickness is too large, the light intensity at the outer peripheral portion is reduced even at a wavelength of 650 nm (when dealing with a high-density recording medium). It is desirable to set the film thickness in consideration of the following. Further, if the thickness of the dye is in the range of 50A to 2000A, the amount of wavefront aberration generated in the film portion of the dye can be almost ignored, so that the thickness of the dye is desirably in this range.
【0097】又、超解像効果を利用するために光ビーム
中央部の光を遮蔽する場合、光を遮蔽する部分の形状
は、必ずしも同心円状である必要はなく、楕円形、方形
等の形状であってもよい。When the light at the center of the light beam is shielded in order to utilize the super-resolution effect, the shape of the light shielding portion does not necessarily have to be concentric, but may be elliptical, square, or the like. It may be.
【0098】又、超解像効果を利用する場合に光を遮蔽
する部分の面積は、超解像効果を利用しない場合の透過
部分の30%以下であることが望ましく、より望ましく
は5%以上15%以下である。The area of the portion that blocks light when the super-resolution effect is used is preferably 30% or less, more preferably 5% or more of the transmission portion when the super-resolution effect is not used. 15% or less.
【0099】又、記録媒体は円板状のディスク以外の光
カードや光テープ等の光記録媒体であってもよい。The recording medium may be an optical recording medium such as an optical card or an optical tape other than the disc.
【0100】[0100]
【発明の効果】本発明は、以上の構成により、次のよう
な効果が得られる。According to the present invention, the following effects can be obtained by the above configuration.
【0101】(1)液晶素子を使用した場合に比べ、光
学ピックアップ装置の構成が簡単になり、製品コストも
低減される。(1) Compared to the case where a liquid crystal element is used, the configuration of the optical pickup device is simplified, and the product cost is reduced.
【0102】(2)対物レンズに入射する光ビームの径
の制御については、特に切り替え操作等を行う必要がな
いので、光学ピックアップ装置の消費電力が増加させる
ことなく光ビームの径を制御することができる。(2) Regarding the control of the diameter of the light beam incident on the objective lens, it is not necessary to perform a switching operation or the like, so that the diameter of the light beam is controlled without increasing the power consumption of the optical pickup device. Can be.
【0103】(3)本発明に於いて、スポットの形成に
寄与する光束を調整する手段は収差の発生及び光量の損
失がわずかなので、光ビームを効率的に使用することが
できる。(3) In the present invention, since the means for adjusting the light beam contributing to the formation of the spot has a small amount of aberration and a small loss of light amount, the light beam can be used efficiently.
【0104】(4)有機色素を用いた書き込み可能型記
録媒体(例えば、CD−WO規格のごときもの)に於い
て、記録表面に塗布された色素に波長依存性がある場合
には、複数の異なる波長の光ビームを出力する光源を用
いる必要が生じることがあるが、そのような場合に、製
品コスト、消費電力をあまり増加させることなく光学ピ
ックアップ装置を構成することができる。(4) In a writable recording medium using an organic dye (for example, according to the CD-WO standard), if the dye applied to the recording surface has wavelength dependency, a plurality of In some cases, it is necessary to use a light source that outputs light beams of different wavelengths. In such a case, the optical pickup device can be configured without significantly increasing product cost and power consumption.
【0105】(5)記録媒体に信号を記録する場合に必
要となる高出力の半導体レーザは、長波長の半導体レー
ザだけでよいので、安価で光学ピックアップ装置を提供
することができる。(5) Only a long-wavelength semiconductor laser is required as a high-output semiconductor laser required for recording a signal on a recording medium, so that an inexpensive optical pickup device can be provided.
【0106】(6)トラッキング動作に対する許容幅が
広い(トラッキング動作による波面収差の変動が小さ
い)ので、偏心量が大きい記録媒体に対応することがで
きる。つまり、記録媒体の偏心に対する耐力が高い。(6) Since the allowable width for the tracking operation is wide (the fluctuation of the wavefront aberration due to the tracking operation is small), it is possible to correspond to a recording medium having a large eccentricity. That is, the recording medium has a high resistance to eccentricity.
【0107】(7)記録媒体の傾きに対する許容量が大
きいため、反りが大きい記録媒体に対応することができ
る。つまり、記録媒体の反りに対する耐力が高い。(7) Since the tolerance for the inclination of the recording medium is large, it is possible to cope with a recording medium having a large warpage. That is, the recording medium has a high resistance to warpage.
【0108】(8)記録媒体の基板(保護層)の厚みに
応じて補正用の光学素子を着脱するような機械的機構が
不要なので、光学ピックアップ装置の構成を簡素化する
ことができる。(8) Since there is no need for a mechanical mechanism for attaching and detaching an optical element for correction according to the thickness of the substrate (protective layer) of the recording medium, the configuration of the optical pickup device can be simplified.
【図1】本発明の光学ピックアップ装置の構成を示した
説明図である(半導体レーザ1を点灯させた場合)FIG. 1 is an explanatory diagram showing a configuration of an optical pickup device of the present invention (when a semiconductor laser 1 is turned on).
【図2】本発明の光学ピックアップ装置の構成を示した
説明図である(半導体レーザ2を点灯させた場合)FIG. 2 is an explanatory diagram showing the configuration of the optical pickup device of the present invention (when the semiconductor laser 2 is turned on).
【図3】透明基材の入射面又は出射面に塗布された色素
を示した斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a dye applied to an entrance surface or an exit surface of a transparent substrate.
【図4】色素の透過率と光ビームの波長との関係を示し
たグラフである。FIG. 4 is a graph showing the relationship between the transmittance of a dye and the wavelength of a light beam.
【図5】色素が塗布された光学素子(図3(a)に示し
た光学素子)の断面図(図3(a)に示したAA’断
面)と、その断面に沿った透過率分布である。FIG. 5 is a cross-sectional view of an optical element coated with a dye (the optical element shown in FIG. 3A) (AA ′ cross section shown in FIG. 3A) and the transmittance distribution along the cross section. is there.
【図6】色素が塗布された光学素子(図3(b)に示し
た光学素子)の断面図(図3(b)に示したBB’断
面)と、その断面に沿った透過率分布である。6 is a cross-sectional view (BB ′ cross section shown in FIG. 3B) of an optical element coated with a dye (the optical element shown in FIG. 3B) and a transmittance distribution along the cross section. is there.
【図7】スポットの径方向に沿った光強度分布である。FIG. 7 is a light intensity distribution along a radial direction of a spot.
【図8】透明基材の入射面又は出射面に塗布された色素
を示した斜視図と断面図(CC’断面)である(超解像
効果を利用した場合)。FIG. 8 is a perspective view and a cross-sectional view (CC ′ cross-section) showing a dye applied to an incident surface or an outgoing surface of a transparent base material (when the super-resolution effect is used).
【図9】スポットの径方向に沿った光強度分布である
(超解像効果を利用した場合)。FIG. 9 is a light intensity distribution along the radial direction of a spot (when the super-resolution effect is used).
【図10】対物レンズの表面に色素を塗布した場合を示
した断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a case where a pigment is applied to the surface of the objective lens.
【図11】開口数を説明するための説明図である。FIG. 11 is an explanatory diagram for explaining a numerical aperture.
【図12】基板(保護層)で生じる球面収差を説明する
ための説明図である。FIG. 12 is an explanatory diagram for describing spherical aberration generated on a substrate (protective layer).
【図13】光記録媒体(光ディスク)の傾きを示した説
明図である。FIG. 13 is an explanatory diagram showing an inclination of an optical recording medium (optical disc).
【図14】従来の光学ピックアップ装置の構成を示した
説明図である(液晶素子を用いた場合)。FIG. 14 is an explanatory diagram showing a configuration of a conventional optical pickup device (when a liquid crystal element is used).
【図15】液晶素子の平面図と液晶素子を透過する光ビ
ームを示した説明図である(高密度記録媒体を再生する
の場合)。FIG. 15 is an explanatory view showing a plan view of a liquid crystal element and a light beam transmitted through the liquid crystal element (when reproducing a high-density recording medium).
【図16】液晶素子の平面図と液晶素子を透過する光ビ
ームを示した説明図である(低密度記録媒体を再生する
の場合)。FIG. 16 is an explanatory view showing a plan view of a liquid crystal element and a light beam transmitted through the liquid crystal element (when reproducing a low-density recording medium).
【図17】従来の光学ピックアップ装置の構成を示した
説明図である(補正素子を用いた場合)。FIG. 17 is an explanatory diagram showing a configuration of a conventional optical pickup device (when a correction element is used).
【図18】フォーカシング動作とその動作時の波面収差
量の変化を示した説明図である。FIG. 18 is an explanatory diagram showing a focusing operation and a change in the amount of wavefront aberration during the operation.
【図19】トラッキング動作とその動作時の波面収差量
の変化を示した説明図である。FIG. 19 is an explanatory diagram illustrating a tracking operation and a change in a wavefront aberration amount during the operation.
1、2 半導体レーザ 3 ダイクロイックミラー 4 回折格子 5 コリメータレンズ 6 ビームスプリッタ 7 光学素子(色素が塗布された光学素子) 7a 透明基材 7b 色素 8 対物レンズ 9 光記録媒体 10 集光レンズ 11 アナモフィックレンズ 12 受光素子 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 2 Semiconductor laser 3 Dichroic mirror 4 Diffraction grating 5 Collimator lens 6 Beam splitter 7 Optical element (optical element coated with pigment) 7a Transparent substrate 7b Pigment 8 Objective lens 9 Optical recording medium 10 Condensing lens 11 Anamorphic lens 12 Light receiving element
Claims (6)
光源を有し、該光源より出射した光ビームを光記録媒体
に導くための光学手段を有している光学ピックアップ装
置に於いて、波長の異なる2つの光ビームが共に通過す
る光路に、波長の長い方の光ビームの透過率が主に低下
する部分があり、記録時には、波長の長い方の光源の
み、又は両方の光源が点灯し、再生時には、いずれか一
方の光源のみが点灯することを特徴とする光学ピックア
ップ装置。1. An optical pickup device comprising two light sources for generating light beams having different wavelengths and optical means for guiding a light beam emitted from the light sources to an optical recording medium. There is a portion where the transmittance of the longer wavelength light beam mainly decreases in the optical path through which the two different light beams pass together. During recording, only the longer wavelength light source or both light sources are turned on. An optical pickup device characterized in that only one of the light sources is turned on during reproduction.
於いて、上記波長の長い方の光ビームの透過率が主に低
下する部分が、波長によって透過率が異なる色素を被着
した透明基材であることを特徴とする光学ピックアップ
装置。2. The optical pickup device according to claim 1, wherein a portion where the transmittance of the light beam having the longer wavelength mainly decreases is coated with a dye having a transmittance different depending on the wavelength. An optical pickup device, characterized in that:
於いて、色素を被着した上記透明基材が、対物レンズで
あることを特徴とする光学ピックアップ装置。3. The optical pickup device according to claim 2, wherein the transparent substrate coated with the dye is an objective lens.
装置に於いて、上記色素がナフタロシアニンであること
を特徴とする光学ピックアップ装置。4. The optical pickup device according to claim 2, wherein the dye is naphthalocyanine.
かの光学ピックアップ装置に於いて、波長の長い方の光
ビームの透過率が主に低下する部分で、光ビームの断面
外周部の透過率が主に低下することを特徴とする光学ピ
ックアップ装置。5. The optical pickup device according to claim 1, wherein the transmittance of the light beam having a longer wavelength mainly decreases in the portion of the outer periphery of the cross section of the light beam. An optical pickup device characterized in that transmittance is mainly reduced.
かの光学ピックアップ装置に於いて、波長の長い方の光
ビームの透過率が主に低下する部分で、光ビームの断面
外周部及び中央部が主に低下し、該断面外周部と中央部
との間に、透過率がほとんど低下しない部分があること
を特徴とする光学ピックアップ装置。6. The optical pickup device according to claim 1, wherein the transmittance of a light beam having a longer wavelength is mainly reduced at an outer peripheral portion of a cross section of the light beam. An optical pickup device characterized in that a central portion is mainly reduced, and a portion where transmittance is hardly reduced between the outer peripheral portion of the cross section and the central portion.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8222206A JPH1064099A (en) | 1996-08-23 | 1996-08-23 | Optical pickup device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8222206A JPH1064099A (en) | 1996-08-23 | 1996-08-23 | Optical pickup device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1064099A true JPH1064099A (en) | 1998-03-06 |
Family
ID=16778807
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8222206A Withdrawn JPH1064099A (en) | 1996-08-23 | 1996-08-23 | Optical pickup device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1064099A (en) |
-
1996
- 1996-08-23 JP JP8222206A patent/JPH1064099A/en not_active Withdrawn
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6985293B2 (en) | Optical pickup using an optical phase plate and which is compatible with optical media for different types | |
US6043912A (en) | Optical pickup compatible with a digital versatile disk and a recordable compact disk using a holographic ring lens | |
USRE43106E1 (en) | Optical pickup compatible with a digital versatile disk and a recordable compact disk using a holographic ring lens | |
US20080089195A1 (en) | Optical pick-up head, optical information apparatus, and optical information reproducing method | |
US5493554A (en) | 2-laser optical head and recording/reproducing apparatus | |
KR20010033409A (en) | Optical head and recording/reproducing device | |
EP1557829A2 (en) | Optical pickup and recording/reproducing apparatus | |
JPH11296893A (en) | Optical pickup | |
US20020084405A1 (en) | Information reading and recording apparatus for recording media | |
JPH10188320A (en) | Optical disk recording and reproducing device and its method | |
US7233562B2 (en) | Optical pickup device | |
JP2005508560A (en) | Optical scanning device | |
US6342976B1 (en) | Luminous flux diameter variable type objective lens and optical apparatus using the same | |
JPH1116194A (en) | Optical head device | |
US6876620B2 (en) | Optical storage device | |
JP2000501545A (en) | Apparatus for writing to and / or reading from optical storage media having different structures | |
JPH10134399A (en) | Optical head | |
JPH10134394A (en) | Optical pickup device and its adjusting method | |
JPH1064099A (en) | Optical pickup device | |
JP3426087B2 (en) | Optical recording / reproducing device | |
JP3619747B2 (en) | Optical pickup device | |
JPH10134398A (en) | Optical head | |
US20040190425A1 (en) | Optical pickup device | |
JPH1196581A (en) | Objective lens and optical pickup | |
JPH10233031A (en) | Optical pickup device and adjusting method therefor |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20031104 |