JPH1057784A

JPH1057784A - ゼオライト分離膜及びその製造方法

Info

Publication number: JPH1057784A
Application number: JP23469696A
Authority: JP
Inventors: Shinichi Nakao; 真一中尾; Izumi Kumakiri; 泉熊切; Takehisa Yamaguchi; 猛央山口
Original assignee: Noritake Co Ltd
Current assignee: Noritake Co Ltd
Priority date: 1996-08-16
Filing date: 1996-08-16
Publication date: 1998-03-03
Anticipated expiration: 2016-08-16
Also published as: JP3128517B2

Abstract

(57)【要約】【課題】使用耐圧が大きく、分離性能に優れ、逆浸透膜
やナノ濾過膜としても使用できるゼオライト分離膜とそ
の製造方法を提供する。【解決手段】多孔質基材の表面に、基材の平均気孔径の
０．４〜８倍の平均結晶粒径を有するゼオライト種結晶
を一面に付着させ、基材をＳｉとＡｌを合わせた濃度が
１０００〜１００００ｐｐｍであり、アルカリイオン濃
度が１００００〜６００００ｐｐｍである原料溶液中に
浸して水熱合成し、基材に厚さ０．５〜３０μｍの緻密
なゼオライト結晶の膜が密着した使用耐圧が１．０ＭＰ
ａ以上のゼオライト分離膜を得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、分離膜として使用
できる使用耐圧が高く、逆浸透膜用にも好適なゼオライ
ト分離膜とその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ゼオライト結晶は結晶中に数オングスト
ロームの細孔を有しており、この細孔の分子ふるい特性
や特異な吸着特性を利用したガス分離膜、浸透気化分離
膜（以下、ＰＶ膜という）、逆浸透分離膜（以下ＲＯ膜
という）、メンブレンリアクター、ガスセンサー等への
応用が期待されている。特にＲＯ膜では有機溶剤に対す
る安定性が高く、細孔径が揃っていて、耐熱性と耐薬品
性があり、使用耐圧を高められると期待できることか
ら、ゼオライト分離膜は水と有機溶剤との混合液から有
機溶剤を分離する分離膜として有機物のＲＯ膜等と比べ
て優れた分離性能と耐久性を期待される。また、ゼオラ
イト膜はゼオライトの種類による吸着性の違いを利用し
て水や有機溶剤を選択的に透過させることができるた
め、ゼオライトの種類を選択して有機溶剤の混合液から
特定の有機溶剤を分離するなど、目的に応じた分離が可
能である。

【０００３】ＲＯ膜やＰＶ膜を使用する分離方法によれ
ば、従来行なわれている蒸留法と比べて分離に要するエ
ネルギーが少なくてすみ、分離のランニングコストが安
い等のメリットがあるので、研究が盛んに行なわれてい
る。

【０００４】ゼオライト分離膜の製造方法としては、特
公平４−８０７２６号に開示されているようにゾル又は
ゲルの懸濁液中に基材を浸漬して水熱合成する方法、特
開平７−８９７１４号に開示されているように基材表面
にコーティングしたゾル又はゲルを蒸気中で水熱処理し
てゼオライト膜を合成する方法、特開平６−９９０４４
号に開示されているように希薄な合成原料のゾルに基材
を浸漬し、水熱合成によって基材上にゼオライト膜を形
成する方法が知られている。

【０００５】従来のゼオライト膜は、高アルカリアルミ
ノシリカゲルあるいはゾルを原料とする水熱処理によっ
て合成され、ゼオライト膜の形成過程は基材に付着せし
めたゲルがアモルファス状態から結晶化してゼオライト
膜になるモデルや、反応液中に生成したゼオライト結晶
が基材上に沈積して膜になるモデルがある。これらの水
熱合成法によるゼオライト膜は、通常膜厚が数十〜数百
μｍと厚く、図２に示すように膜内に大きな空隙のある
ブリッジ構造を有している。

【０００６】ブリッジ構造を有するゼオライト膜が形成
される理由は、反応液中に多くの結晶核が発生して基材
上に沈積したり、ゲルが結晶化するに際して大きい体積
減少を伴うことによると考えられる。膜内にブリッジ構
造（空隙）を有するゼオライト膜はブリッジ構造の部分
の強度が弱いため使用耐圧が劣るという欠点がある。ま
た、膜厚が数十〜数百μｍと厚いと透過流束が小さいと
いう問題がある。このようなゼオライト膜はＲＯ膜には
適さず、今のところゼオライト膜をＲＯ膜に使用したと
いう報告はない。

【０００７】特開平７−１０９１１６号にはこれらの欠
点が改善されたゼオライト膜の製造方法が開示されてい
る。すなわち、希薄なシリカゾルの溶液にゼオライト種
結晶を懸濁させてスラリーとし、このスラリーをアルミ
ナ基板に含浸してゼオライト結晶を付着せしめた後、必
要に応じて基板を洗浄、乾燥する。この基板をゼオライ
ト前駆体を含む反応液に浸漬して水熱合成し、付着した
ゼオライト結晶を核として基板上にゼオライト膜を形成
する。

【０００８】このゼオライトの水熱合成法では、ゼオラ
イト前駆体を含む反応液中に結晶核が生成してゼオライ
ト結晶が成長する副生ゼオライト結晶の生成を大幅に少
なくでき、基材上に結晶粒界の少ない緻密なゼオライト
膜を形成できるという。結晶核は反応液の過飽和度が高
いほど生成しやすく、反応液の過飽和度が高いとゼオラ
イトイの結晶成長が抑制される。反応液の過飽和度を低
くすると、結晶核の生成速度を一桁少なくでき、ゼオラ
イトが結晶成長しやすいので、予め基材に付着させてあ
る種結晶を成長させることによって緻密で結晶粒界の少
ないゼオライト結晶層からなるゼオライト膜を水熱合成
できるとしている。

【０００９】しかし、特開平７−１０９１１６号で得ら
れたゼオライト膜がどのような構造と特性を有している
かについて実施例等による具体的なデータが示されてい
ない。実施例による具体的な成膜条件は不明であるが、
過飽和度の小さい反応液中で成膜するとしている。この
場合、過飽和度が小さいといっても反応溶液は過飽和で
あり、反応溶液中にも結晶核が生成してゼオライト結晶
が成長している。このことは、水熱合成時に反応液中で
生成したゼオライト結晶を分離して種結晶に利用するフ
ローシートが図示されていることから明白である。した
がって、特開平７−１０９１１６号に記載の方法によっ
てもゼオライト膜中にブリッジ構造ができるのを充分に
防げない。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本願発明は基材上に形
成されたゼオライト膜の使用耐圧が大きく、分離性能に
優れ、かつＲＯ膜としても使用できるゼオライト分離膜
とその製造方法を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本願発明のゼオライト分
離膜は、多孔質基材上に厚さ０．５〜３０μｍの緻密な
ゼオライト結晶の膜が密着して形成されており、その分
離膜としての使用耐圧が１．０ＭＰａ以上あることを特
徴とする。

【００１２】使用耐圧が１．０ＭＰａ以上という密着性
に優れたゼオライト膜は従来知られていない。このよう
に密着性、すなわち使用耐圧に優れたゼオライト膜は、
水熱合成の初期において種結晶の一部が消失して他の種
結晶が成長するような薄い原料溶液を水熱合成に用いる
ことによって始めて形成できる。この条件下で合成され
たゼオライト膜は、ゼオライト種結晶が多孔質基材上で
結晶成長してゼオライト結晶同志、及びゼオライト結晶
と多孔質基材とが密着した状態になる。使用される多孔
質基材の平均気孔径にもよるが、水熱合成時に多孔質基
材の平均気孔径の８倍以下のゼオライトの種結晶を使用
すれば、多孔質基材と密着した緻密なゼオライト結晶膜
となる。

【００１３】ゼオライト膜の厚さは、あまり大きいと合
成するのに長時間を要し、長時間かけて、あるいは繰り
返し水熱合成を行なうとゼオライト分離膜がコスト高に
なり、透過性能が低下することになるため、ゼオライト
膜の厚さは３０μｍ以下としてある。ゼオライト膜の厚
さは、好ましくは１〜１０μｍである。

【００１４】本発明では、ゼオライト分離膜の使用耐圧
は、ゼオライト膜が形成されている側から多孔質基材の
方向に圧力を加えたときの使用耐圧をいう。ゼオライト
膜のゼオライト結晶が隙間なく多孔質基材の表面を覆う
ようにするには、ゼオライト種結晶は多孔質基材の表面
の一面に付着させなければならない。

【００１５】ゼオライト膜が０．５μｍより薄いと使用
耐圧が劣ることになるが、ゼオライト結晶が３０μｍよ
り厚く形成されているゼオライト膜では、ゼオライト膜
中にブリッジ（空隙）が形成されやすく、ゼオライト膜
の耐圧強度が損なわれることがある。ゼオライト分離膜
の膜厚を０．５〜３０μｍの範囲とすることによって比
較的低コストで分離性能に優れたゼオライト分離膜を提
供できる。ゼオライト膜の膜厚は、安定して良好な耐圧
強度が得られるように、好ましくは１〜１０μｍとす
る。緻密なゼオライト膜とは、その断面を走査型電子顕
微鏡（ＳＥＭ）で５００倍に拡大して調べるとき、識別
しうる空隙が膜内に認められないものをいう。

【００１６】本発明のゼオライト分離膜の製造方法は、
多孔質基材の表面に、多孔質基材の平均気孔径の０．４
〜８倍の平均結晶粒径を有するゼオライト種結晶を一面
に付着させ、該多孔質基材をＳｉとＡｌを合わせた濃度
が１０００〜１００００ｐｐｍであり、アルカリイオン
濃度が１００００〜６００００ｐｐｍである原料溶液中
に浸漬して水熱合成することを特徴とする。

【００１７】水熱合成に先立ってゼオライト種結晶を、
均等に一面に多孔質基材に付着させやすいことから、ゼ
オライト種結晶の平均結晶粒径は、多孔質基材の平均気
孔径の０．４〜８倍とする。ゼオライト種結晶の平均結
晶粒径は、好ましくは多孔質基材の平均気孔径の０．５
〜３倍とする。細か過ぎる種結晶を使用すると、基材中
に種結晶が侵入して種結晶の付着が不均一になる。種結
晶が大き過ぎると多孔質基材上に種結晶を付着させるの
が難しい。種結晶の基材への付着方法には、乾いたゼオ
ライト結晶の粉末を多孔質基材にこすり付けたり、種結
晶を水中に分散させた分散液を塗布したり、分散液中に
基材を浸漬するなどの方法がある。

【００１８】多孔質基材表面に種結晶を一面に付着させ
た後、この多孔質基材を原料溶液中に浸漬して水熱合成
を行なう。水熱合成にはＳｉとＡｌを合せた濃度が１０
００〜１００００ｐｐｍであり、アルカリイオン濃度が
１００００〜６００００ｐｐｍである希薄な原料溶液を
使用する。ＳｉとＡｌを併せた濃度が１０００ｐｐｍ未
満であるとゼオライト結晶の成長速度が非常に遅く、好
ましい膜厚のゼオライト膜を形成しにくい。

【００１９】また、ＳｉとＡｌを合せた濃度が１０００
０ｐｐｍ超であると、原料溶液が過飽和になって原料溶
液中にゼオライトの結晶核が生成し、原料溶液中で結晶
成長したゼオライト結晶が基材上に沈積して形成される
ゼオライト膜が不均質になり、膜中にブリッジ（空隙）
ができやすく、使用耐圧の高い分離膜を得るのが難し
い。アルカリイオン濃度は、大きい方がＳｉとＡｌを合
わせた濃度を高くでき、実用的なゼオライト結晶の成長
速度を確保できるので、アルカリイオン濃度は１０００
０ｐｐｍ以上とする。しかし、アルカリイオン濃度が大
き過ぎるとゼオライト結晶が原料溶液中に溶ける速度が
速くなり、結晶成長が進まないので６００００ｐｐｍ以
下とする。

【００２０】原料溶液中のシリカ、アルミナ及びアルカ
リの濃度は、種結晶の成長を最優先する組成になってい
なければならず、原料溶液は基材が配置されている水熱
合成の系内でゼオライト結晶について概ね飽和状態にな
っていなければならない。上記原料溶液の組成はこの条
件を充たすものであり、この構成の原料溶液を使用する
ことによって形成されるゼオライト膜中にブリッジ（空
隙）が生じない。

【００２１】

【発明の実施の形態】多孔質基材の気孔率は、少ないと
分離膜の透過性が小さくなり、ゼオライト膜の有効膜面
積も小さくなるので、多孔質基材の気孔率は１０％以上
であるのが好ましい。また、多孔質基材の気孔率が大き
過ぎると基材自体の強度が低下し、ゼオライト膜の使用
耐圧が小さくなるので、多孔質基材の気孔率は５０％以
下であるのが好ましい。基材のより好ましい気孔率は３
０〜４０％である。

【００２２】多孔質基材の形状は、その表面にゼオライ
ト膜を形成し得るものであればよく、薄板状、筒状、ペ
レット状、中空糸状、ハニカム状などの形状のものを使
用できる。これらの基材の製造方法には、目的とする形
状に合わせてプレス成形法、押し出し成形法、泥漿鋳込
み法などを採用する。複層構造の基材の使用ももちろん
可能であり、この場合、たとえば第１の基材層の上にデ
ィップコート、スピンコートなどで第２の基材層を積層
したものを使用すればよい。

【００２３】多孔質基材には、アルミナ質、ムライト
質、ジルコニア質、コージライト質等の各種のセラミッ
クス基材やステンレス鋼の粉末を焼結した多孔質金属等
を使用できるが、ゼオライト結晶との密着性が特に優れ
ていることから、多孔質基材としてはアルミナ質セラミ
ックスが好ましい。また、多孔質基材の平均気孔径は、
小さ過ぎると種結晶を付着させにくいので０．０５μｍ
以上であるのが好ましい。逆に大き過ぎると種結晶が多
孔質基材中に侵入して種結晶の付着が不均一になるの
で、多孔質基材の平均気孔径は１０μｍ以下とするのが
好ましい。より好ましい平均気孔径は０．１〜５μｍで
ある。

【００２４】ゼオライト分離膜のゼオライト膜が形成さ
れている側から流体圧力を加える使用耐圧は、１．０Ｍ
Ｐａ以上の圧力で分離膜として使用することができる。
使用耐圧が１．０ＭＰ以上あれば、従来使用耐圧が低か
ったために使用できないと考えられていたＲＯ膜にも本
発明のゼオライト分離膜を使用できる。ＲＯ膜としては
使用耐圧の高い方が好ましいので、１．５ＭＰａ以上、
さらには２ＭＰａ以上の使用耐圧のある分離膜を使用す
るのが好ましい。ゼオライト分離膜の他の用途に、ナノ
濾過膜、ガス分離膜、ＰＶ膜などの分離膜があり、ガス
センサーにも使用できる。ナノ濾過膜としては使用耐圧
の大きいものが適している。

【００２５】ゼオライト結晶にはＡ型、Ｙ型等のアルミ
ナ／シリカのモル比が大きい親水性のものから、ＺＳＭ
−５、シリカライト等のようにアルミナ／シリカのモル
比が低い疎水性のものがある。また、ゼオライト結晶中
のＡｌの個所にＦｅ、Ｃｒ、Ｙ等の元素を導入したゼオ
ライト結晶もある。ゼオライト膜にはこれらの中から使
用目的に合わせた種類のゼオライト結晶を選択するのが
好ましい。この場合、種結晶として目的とする種類のゼ
オライト種結晶を使用して水熱合成条件を調整すれば、
単一種のゼオライト結晶からなるゼオライト分離膜を製
造できる。

【００２６】本発明の好ましいゼオライト分離膜では、
ゼオライト膜の密着強度が大きくなるように多孔質基材
にアルミナ質基材が使用される。アルミナ質基材を用い
るときにゼオライト膜の密着強度が大きくなる理由は、
アルミナ結晶中の原子間距離がゼオライト結晶中の原子
間距離と近いためと推定される。

【００２７】基材表面への種結晶の付着量が少ないと緻
密なゼオライト膜の形成が困難であり、逆に多過ぎると
膜中に空隙が形成されやすいので、ゼオライト種結晶の
基材表面への付着量は０．２〜３ｍｇ／ｃｍ²とするの
が好ましい。ゼオライト種結晶の基材表面へのより好ま
しい付着量は０．３〜１ｍｇ／ｃｍ²である。

【００２８】原料溶液の出発原料には、シリカ源として
シリカゾル、水ガラス、珪酸ナトリウムを使用でき、ア
ルミナ源としてアルミン酸ナトリウム、硝酸アルミニウ
ム、水酸化アルミニウムを使用でき、アルカリ源として
水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウムなどを使用できる。
また、原料溶液に臭化テトラプロピルアンモニウム、水
酸化テトラプロピルアンモニウム等の結晶化剤を混合し
てもよい。

【００２９】ゼオライト膜の水熱合成は、耐圧容器中に
密閉した状態、又は図３に示す冷却器を取り付けた常圧
下の容器中において、通常８０〜２５０℃に加熱して３
〜１８０時間保持して行なう。水熱合成後、ゼオライト
を形成した基材は水で洗浄し、次いで乾燥する。結晶化
促進剤等の熱分解性成分を添加したときには、次いで熱
処理してこれらを除去する。ゼオライト膜の水熱合成
は、一回のみで好ましい性能が得られないとき、複数回
水熱合成を繰り返してゼオライト結晶を成長させて結晶
粒界を埋めることによって分離性能が向上することがあ
る。

【００３０】

【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。

【００３１】［実施例１］約２０℃の室内で、逆浸透法
で精製した水（以下、逆浸透水という）に珪酸ナトリウ
ム、水酸化アルミニウム、水酸化ナトリウムを溶かし、
Ｎａ₂Ｏ、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂及びＨ₂Ｏのモル比が９
０：１：９：５７６０の原料溶液（Ａｌを６０８ｐｐ
ｍ、Ｓｉを２７１０ｐｐｍ、Ｎａを４０３００ｐｐｍ含
む）とした。気孔率が３８％、平均細孔径が１μｍ（水
銀ポロシメータによる積算気孔容積が５０％の細孔
径）、厚さ３ｍｍ、直径４７ｍｍのアルミナ質基材（Ａ
ｌ₂Ｏ₃９９．９重量％）の表面に平均結晶粒径が１μｍ
のＡ型ゼオライトの種結晶を直接基材表面に擦り込んで
付着させた。

【００３２】この基材の表面には一面に、約０．６ｍｇ
／ｃｍ²の種結晶が付着していた。次いでこの基材を前
記原料溶液を充たした図３に示す構成の水熱合成容器に
挿入し、原料溶液に浸して１００ｒｐｍで撹拌しつつ常
圧下で８０℃に加熱して５時間保持し、このアルミナ質
基材上にゼオライト膜を形成した。次いで容器から基材
を取り出し、洗浄後乾燥してゼオライト分離膜を得た。
また、水熱合成を開始５時間経過後に原料溶液の一部を
取り出して分析した結果、Ａｌ５５３ｐｐｍ、Ｓｉ２８
７０ｐｐｍ、Ｎａ４２２００ｐｐｍであった。また、水
熱合成後の原料溶液をろ過したが、ろ紙上にはろ過物が
ほとんど残留しなかった。

【００３３】得られたゼオライト分離膜の表面を走査型
電子顕微鏡（ＳＥＭ）によって観察したところ、立方体
形状の結晶が基材の表面に一様に形成されていた。Ｘ線
回折で調べた結果、ゼオライト膜はＡ型ゼオライトのみ
からなることが分かった。ゼオライト膜の断面をＳＥＭ
で５０００倍に拡大して観察して調べた結果、ゼオライ
ト膜中にはブリッジ構造（空隙）が認められず、緻密で
あった。また、ゼオライト膜の厚さは約６．３μｍであ
った。図１は、実施例１で製造された緻密で使用耐圧の
大きいゼオライト分離膜の断面の模式図である。このゼ
オライト膜の使用耐圧は、後述するように６ＭＰａ以上
であった。

【００３４】［実施例２］実施例１と同じ原料を使用し
てＮａ₂Ｏ、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂及びＨ₂Ｏのモル比が
３．２：１：２．５：１５６の懸濁液を作り、これをろ
過した液（Ａｌを６１０ｐｐｍ、Ｓｉを２７２０ｐｐ
ｍ、Ｎａを３８４００ｐｐｍ含む）を原料溶液に使用
し、他は実施例１と同じ条件で水熱合成を行なった。Ｓ
ＥＭとＸ線回折で調べた結果、合成されたゼオライト膜
はＡ型ゼオライト結晶のみからなり、緻密で厚さが約
６．５μｍ、使用耐圧が５ＭＰａであった。また、水熱
合成を開始５時間経過後に原料溶液の一部を取り出して
分析したところ、Ａｌを５５７ｐｐｍ、Ｓｉを２８２０
ｐｐｍ、Ｎａを３５７００ｐｐｍ含んでいた。また、水
熱合成後の原料溶液をろ過したが、ろ紙上にはろ過物が
ほとんど残留せず、Ｘ線回折では調べられなかった。

【００３５】［実施例３、４］実施例１において水熱合
成条件を９０℃で５時間とし、他は実施例１と同じ条件
で水熱合成してゼオライト分離膜（実施例３）を得た。
また、実施例３で得られたゼオライト分離膜の上に、同
様に種結晶を塗布して同じ条件で水熱合成を行なう操作
を２回追加（合計３回）してゼオライト分離膜（実施例
４）を得た。これらをＳＥＭとＸ線回折で調べた結果、
Ａ型ゼオライト結晶のみからなる緻密なゼオライト膜が
基材上に形成されていた。基材上に形成されたゼオライ
ト膜の厚さは、それぞれ約７．７μｍと約８．９μｍで
あり、使用耐圧はいずれも６ＭＰａ以上であった。

【００３６】［実施例５］実施例１において、多孔質基
材にＳＵＳ３０４の粉末を焼結した気孔率が３０％で平
均気孔径が１５μｍの多孔質金属を使用し、他は実施例
１と同じ条件で水熱合成を行ない、ゼオライト膜の厚さ
が５．３μｍのゼオライト分離膜を得た。このゼオライ
ト分離膜の使用耐圧は、後述するように６ＭＰａ以上で
あった。

【００３７】［比較例１］実施例１と同じ原料を使用し
てＮａ₂Ｏ、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂及びＨ₂Ｏのモル比が
３．２：１：２．５：７８の懸濁液を作り、これをろ過
した液（Ａｌを７５２ｐｐｍ、Ｓｉを１０２００ｐｐ
ｍ、Ｎａを４２８００ｐｐｍ含む）を原料溶液に使用
し、他は実施例１と同じ条件で水熱合成を行なった。Ｓ
ＥＭとＸ線回折で調べた結果、基材の表面に塗布したＡ
型ゼオライト種結晶はほとんど成長しておらず、形成さ
れた厚さ約１５μｍの膜は緻密でなく、使用耐圧は０．
８ＭＰａ以下であった。この膜中には少量のフォージャ
サイトの混在が確認された。また、水熱合成後の原料溶
液をろ過したところ、ろ紙上に残留するろ過物中にフォ
ージャサイトが検出された。

【００３８】［比較例２、３］比較例１において、水熱
合成の条件を、温度８０℃で１０時間（比較例２）、温
度１００℃で５時間（比較例３）とし、他は比較例１と
同じ条件で水熱合成を行ない、基材上にゼオライト膜を
形成した。ＳＥＭとＸ線回折で調べた結果、いずれにつ
いても基材の表面に塗布したＡ型ゼオライト結晶はほと
んど成長しておらず、形成された厚さ約１５μｍのゼオ
ライト膜は緻密でなく、使用耐圧は０．８ＭＰａ以下で
あった。この膜中には少量のフォージャサイト結晶の混
在が確認された。また、水熱合成後の原料溶液をろ過し
たところ、ろ紙上に残留したろ過物中にはフォージャサ
イト結晶が検出された。

【００３９】［比較例４、５］実施例１と同じ原料を使
用してＮａ₂Ｏ、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂及びＨ₂Ｏのモル比
が２：１：２：１２０の過飽和の原料溶液（Ａｌを２５
０００ｐｐｍ、Ｓｉを２５９００ｐｐｍ、Ｎａを４２６
００ｐｐｍ含む）を作り、水熱合成の条件を温度１００
℃で３．５時間（比較例４）、温度１００℃で５時間
（比較例５）とし、他は実施例１と同じ条件で水熱合成
を行なった。得られた分離膜をＳＥＭとＸ線回折で調べ
た結果、いずれについても基材の表面に塗布したＡ型ゼ
オライト結晶はほとんど成長しておらず、形成された膜
の厚さは約７０μｍであり、ゼオライト膜は緻密といえ
ず、種結晶の隙間にはゲル状物質が存在しているのを認
めた。このゼオライト膜の使用耐圧は０．８ＭＰａ以下
であった。また、水熱合成後の原料溶液をろ過し、洗浄
後乾燥したろ過物をＸ線回折で調べた結果、Ａ型ゼオラ
イトとフォージャサイトの存在を認めた。

【００４０】［比較例６］比較例５において、水熱合成
条件を８０℃とし、他は比較例５と同じ条件で水熱合成
を行なった。得られた分離膜をＳＥＭとＸ線回折で調べ
た結果、いずれについても基材の表面に塗布したＡ型ゼ
オライト結晶はほとんど成長しておらず、形成されたゼ
オライト膜は厚さ約５０μｍであって緻密でなく、種結
晶の隙間にゲル状物質が存在しているのを認めた。この
ゼオライト膜の使用耐圧は０．８ＭＰａ以下であった。
また、水熱合成後の原料溶液をろ過し、洗浄後乾燥した
ろ過物をＸ線回折で調べた結果、Ａ型ゼオライトとフォ
ージャサイトの存在を認めた。

【００４１】［比較例７］実施例１と同じ原料を使用し
てＮａ₂Ｏ、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂及びＨ₂Ｏのモル比が
１：０．５：１：６０の過飽和の原料溶液（Ａｌを２５
０００ｐｐｍ、Ｓｉを２５９００ｐｐｍ、Ｎａを４２６
００ｐｐｍ含む）を使用し、水熱合成の条件を温度１０
０℃で３時間とした以外は実施例１と同じ条件で水熱合
成を行ない、ゼオライト膜の膜厚が３０μｍのＡ型ゼオ
ライトの分離膜を得た。この分離膜は後述するように、
使用耐圧が０．８ＭＰａであった。

【００４２】［比較例８］実施例１と同じ原料を使用し
てＮａ₂Ｏ、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂及びＨ₂Ｏのモル比が
１：０．５：１：１２０の原料溶液（Ａｌを１２５００
ｐｐｍ、Ｓｉを１３０００ｐｐｍ、Ｎａを２１０００ｐ
ｐｍ含む）を使用し、水熱合成の条件を温度１００℃で
３時間とした以外は実施例１と同じ条件で水熱合成を行
ない、ゼオライト膜の膜厚が３０μｍのＡ型ゼオライト
の分離膜を得た。この分離膜は後述するように、使用耐
圧が０．９ＭＰａであった。

【００４３】以上の水熱合成試験の結果から、ＳｉとＡ
ｌを合わせた濃度が１０００〜１００００ｐｐｍであ
り、アルカリイオン濃度が１００００〜６００００ｐｐ
ｍである原料溶液中に種結晶を一面に塗布された多孔質
基材を浸漬して水熱合成を行なうと、多孔質基材の表面
に緻密なゼオライト膜が密着したゼオライト分離膜を製
造できることが分かる。また、本発明によるゼオライト
膜の実施例では、水熱合成の少なくとも初期において原
料溶液中のＡｌとＳｉの濃度がほとんど変わっておら
ず、ゼオライト膜の形成に原料溶液中のＡｌとＳｉが消
費されていないことから、主として基材に塗布された種
結晶がゼオライト膜の形成に使用されたと考える。

【００４４】［試験例１］実施例１で製造したゼオライ
ト分離膜を逆浸透水中に保管しておいたものを使用して
ＲＯ分離試験を行なった。すなわち、図４に示す構成の
装置を使用し、３０℃の恒温槽中において、１０重量％
のエタノール水溶液を供給液とし、１００ｒｐｍで撹拌
しつつ膜面における濃度分極の影響を抑えた。また、操
作圧力を最大８ＭＰａまで上げ、透過液側に氷のコール
ドトラップを用いてエタノールの蒸発を防ぎ、供給液と
透過液の濃度をガスクロマトグラフで測定した。

【００４５】供給側のエタノール濃度をＣｆ（重量％）
とし、透過側のエタノール濃度をＣｐ（重量％）とする
とき、見かけの阻止率ＲｏｂｓをＲｏｂｓ＝（Ｃｆ−Ｃ
ｐ）／Ｃｆによって求めた。操作圧１．５ＭＰａにおけ
るＲＯ試験の結果を図５に示す。図５−ａから、試験開
始直後には基材中に含まれる水が混じるため阻止率が高
いが、徐々に減少して６０時間経過後に定常状態になっ
た。このゼオライト分離膜では１．５ＭＰａの操作圧で
１０重量％のエタノール水溶液から４０％以上の阻止率
でＲＯ分離が可能であることが分かった。図５−ｂは透
過流束の経時変化を示すが、経時変化は認められなかっ
た。

【００４６】また、操作圧を４、６、８ＭＰａと上げた
ときの透過流束（Ｆｌｕｘ）と阻止率の経時変化を図６
に示す。図６−ａから分かるように、操作圧を４、６Ｍ
Ｐａと上げても膜構造は安定しており、透過流束と阻止
率は５０時間後も経時変化を示さず、１０重量％のエタ
ノール水溶液で２０％程度の阻止率が得られた。このＲ
Ｏ分離膜は８ＭＰａの操作圧においても、１０時間まで
安定した性能を示したが、２０時間経過後に透過流束が
急激に増加し、阻止性能が損なわれた。試験後のこのＲ
Ｏ分離膜の表面には、幅０．２μｍ程度の亀裂が縦横に
生じているのが認められ、膜の断面についても亀裂が観
察された。

【００４７】また、実施例５で製造したゼオライト分離
膜及び比較例７と比較例８で製造したゼオライト分離膜
をそれぞれＲＯ分離試験に供した。実施例５で製造した
ゼオライト分離膜は６ＭＰａの圧力を５０時間かけても
実施例１のゼオライト分離膜と同様に安定した分離性能
を示した。他方、比較例７と比較例８で製造したゼオラ
イト分離膜はそれぞれ０．８ＭＰａと０．９ＭＰａに圧
力を上げたときに、透過率が急激に上昇して分離膜が破
損した。破損したゼオライト分離膜には、ＳＥＭによる
観察でいずれもクラックが認められた。

【００４８】［試験例２］実施例３、４で製造したゼオ
ライト分離膜を使用してＰＶ分離試験を行なった。すな
わち、図７に示す構成の装置を用い、３０℃の恒温槽中
において、供給液を０〜９０重量％のエタノール水溶液
とし、供給液及び透過液の濃度をガスクロマトグラフで
測定した。供給側のエタノールと水のモル濃度をそれぞ
れＸ₁モル％とＸ₂モル％とし、透過側のエタノールと水
のモル濃度をそれぞれＹ₁モル％とＹ₂モル％とすると
き、分離係数αをα＝（Ｘ₁・Ｙ₂）／（Ｘ₂・Ｙ₁）によ
って計算し、求めた。得られた結果を図８に示す。図８
−ａから分かるように、実施例４のゼオライト分離膜を
使用したＰＶ分離試験では、９０重量％のエタノール水
溶液を供給液とするとき、約４００という高い分離性能
が得られた。図８−ｂは透過流束を示す。

【００４９】

【発明の効果】本発明により、緻密で薄く、使用圧力の
高いゼオライト分離膜の提供が可能になった。本発明に
よるゼオライト分離膜は使用圧力が高いので、従来のゼ
オライト分離膜では適さなかったＲＯ膜やナノ濾過膜の
用途にも好適である。このような使用耐圧の高いゼオラ
イト膜は、多孔質基材の表面一面に種結晶を付着せしめ
ておき、少なくとも水熱合成の初期において、主に種結
晶がゼオライト膜の形成に使用されるような薄い原料溶
液を使用することによって形成できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明によるゼオライト分離膜の断面を示す模
式図

【図２】従来のゼオライト分離膜の断面を示す模式図

【図３】本発明の実施例において使用された水熱合成装
置の概要を示す断面図

【図４】本発明の試験例で使用した逆浸透分離装置の概
要図

【図５】本発明のゼオライト分離膜を逆浸透分離に使用
したときの透過流束と見掛け阻止率Ｒｏｂｓの経時変化
を示すグラフ

【図６】本発明のゼオライト分離膜を逆浸透分離に使用
し、圧力を変えたときの透過流束と見掛け阻止率Ｒｏｂ
ｓの経時変化を示すグラフ

【図７】本発明の試験例で使用した浸透気化分離装置の
概要図

【図８】本発明のゼオライト分離膜を浸透気化分離に使
用したときの透過流束と分離係数αを示すグラフ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】多孔質基材上に厚さ０．５〜３０μｍの緻
密なゼオライト結晶の膜が密着して形成されており、そ
の分離膜としての使用耐圧が１．０ＭＰａ以上あること
を特徴とするゼオライト分離膜。
【請求項２】多孔質基材の気孔率が１０〜５０％で、そ
の平均気孔径が０．０５〜１０μｍである請求項１に記
載のゼオライト分離膜。
【請求項３】多孔質基材がアルミナ質である請求項１又
は２に記載のゼオライト分離膜。
【請求項４】ゼオライト分離膜が逆浸透膜用又はナノ濾
過膜用である請求項１〜３のいずれかに記載のゼオライ
ト分離膜。
【請求項５】多孔質基材の表面に、多孔質基材の平均気
孔径の０．４〜８倍の平均結晶粒径を有するゼオライト
種結晶を一面に付着させた後、該多孔質基材をＳｉとＡ
ｌを合わせた濃度が１０００〜１００００ｐｐｍであ
り、アルカリイオン濃度が１００００〜６００００ｐｐ
ｍである原料溶液中に浸漬して水熱合成することを特徴
とするゼオライト分離膜の製造方法。
【請求項６】基材の表面に０．２〜３ｍｇ／ｃｍ²のゼ
オライト種結晶を付着させる請求項５に記載のゼオライ
ト分離膜の製造方法。