[go: up one dir, main page]

JPH10507735A - 室温でアンモニアから酸素を除去するための方法 - Google Patents

室温でアンモニアから酸素を除去するための方法

Info

Publication number
JPH10507735A
JPH10507735A JP9508285A JP50828597A JPH10507735A JP H10507735 A JPH10507735 A JP H10507735A JP 9508285 A JP9508285 A JP 9508285A JP 50828597 A JP50828597 A JP 50828597A JP H10507735 A JPH10507735 A JP H10507735A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ammonia
getter material
room temperature
manganese
purifier
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP9508285A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3231781B2 (ja
Inventor
ベルガニ,ジョルジオ
スッチ,マルコ
ソルチア,カロリナ
Original Assignee
サエス ゲッタース ソチエタ ペル アツィオニ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=11372160&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JPH10507735(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by サエス ゲッタース ソチエタ ペル アツィオニ filed Critical サエス ゲッタース ソチエタ ペル アツィオニ
Publication of JPH10507735A publication Critical patent/JPH10507735A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3231781B2 publication Critical patent/JP3231781B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01CAMMONIA; CYANOGEN; COMPOUNDS THEREOF
    • C01C1/00Ammonia; Compounds thereof
    • C01C1/02Preparation, purification or separation of ammonia
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01CAMMONIA; CYANOGEN; COMPOUNDS THEREOF
    • C01C1/00Ammonia; Compounds thereof
    • C01C1/02Preparation, purification or separation of ammonia
    • C01C1/024Purification
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J20/00Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
    • B01J20/30Processes for preparing, regenerating, or reactivating
    • B01J20/32Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating
    • B01J20/3202Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating characterised by the carrier, support or substrate used for impregnation or coating
    • B01J20/3204Inorganic carriers, supports or substrates
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J20/00Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
    • B01J20/30Processes for preparing, regenerating, or reactivating
    • B01J20/32Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating
    • B01J20/3231Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating characterised by the coating or impregnating layer
    • B01J20/3234Inorganic material layers
    • B01J20/3236Inorganic material layers containing metal, other than zeolites, e.g. oxides, hydroxides, sulphides or salts

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 精製されるべきアンモニアの流れを約7:1と1:1との間の範囲の重量比を有する金属鉄及びマンガンの混合物からなりそして約100m2/gを超える比表面積を有するゲッタ材料と接触することからなる室温でアンモニアから酸素を除去する方法。精製されるべきアンモニアの流れは好ましくは、その水分を除去するように、ゲッタ材料に加えて、乾燥用材料と接触せしめられる。

Description

【発明の詳細な説明】 室温でアンモニアから酸素を除去するための方法 本発明は、室温においてアンモニアから酸素を除去するための方法に関係す るものである。 アンモニア(NH3)は、固態電子デバイスにおいて窒化物層の形成のため に、特にCVD(化学蒸着)及びエピタキシープロセスを通して窒化物層の形成 のために半導体業界において広く使用されている気体である。 電子デバイスにおいて見いだされる欠陥の数(その結果として、廃棄デバイ スの数)が、正確な定量的関係は得られていないけれども、プロセスガスにおけ る不純物の水準の増加と共に増大することが斯界では良く知られている。この点 で特に有害な種は酸素であり、それはその高い反応性による。 本件出願人に係る欧州特許EP−B−484301号は、アンモニアの流れ を様々の気体、中でも特に酸素を除去することにより精製するためのプロセスを 開示する。このプロセスは、精製されるべきアンモニア流れをZr−V−Fe組 成を有するゲッタ合金と接触することからなる。好ましいゲッタ合金は、重量% で表して、Zr:70%−V:24.6%−Fe:5.4%の組成を有する、商 品名「St707」のもとで本件出願人により製造されそして販売されている合 金である。この方法は、アンモニアを精製するのに有効であるが、精製装置の操 作温度により生じるある種の欠点を有する。実は、このゲッタ合金は、その適正 な作用を発揮するためには100〜150℃の範囲の動作温度を必要とする。し かし、精製装置を構成する材料は、これらの温度においては、アンモニアを分解 する危険がある。更に、アンモニア中の酸素含有量が高い場合には、St707 合金は、これら温度において急速に起こる酸素吸収により過熱し、自触媒反応の 引き金となり、結局これは大量の熱の発生を通して短時間で精製装置の破壊につ ながる。併せて、アンモニアは可燃性でありそして潜在的に爆発性の気体である という事実をも考慮しなければならない。最後に、室温で操作できることが、そ れがプロセス及び関連生産ラインを簡易化するから、産業界では一般に好ましい ことである。 本発明の目的は、室温においてアンモニアから酸素を除去するための方法を 提供することである。 この目的及び他の目的は、精製されるべきアンモニアの流れを約7:1と1 :1との間の範囲の重量比を有する金属鉄及びマンガンの混合物からなりそして 約100m2/gを超える比表面積を有するゲッタ材料と室温において接触する ことからなる本発明プロセスを通して達成される。 以下、図面を参照して本発明について具体的に説明する。 図面において、 第1図は、本発明プロセスを実施することができる精製装置の可能な一具体 例を示す。 第2図は、本発明に従うアンモニア精製装置の可能な別の具体例を示す。 本発明のゲッタ材料は元素形態の鉄とマンガンとの混合物から構成される。 鉄とマンガンとの間での重量比は、約7:1と1:1との間で変更することがで きる。ゲッタ材料による酸素吸収における効率はこれら限界を超えると著しく減 少することが見いだされた。既に述べたように、ゲッタ材料は100m2/gを 超える高い比表面積を持たねばならない。この高い比表面積条件は、細分された 金属粉末を使用することにより実現されうる。しかし、好ましくは、高い比表面 積の不活性担体、例えばゼオライトのようなモレキュラーシーブ、多孔質アルミ ナ、多孔質シリカ、その他斯界で知られる類似の材料にそれらを付着することに より担持された形態で使用される。 担体上への金属層の形成は一般に、先駆物質として以下に示される鉄及びマ ンガンの可溶性化合物を溶解した溶液からの共沈技術を通して達成される。こう して、金属の化合物、一般に酸化物もしくは水酸化物、もしくはより一般的には オキソ−水酸化物(oxo-hydroxides)タイプの中間体種から成る第1層が得られ る。担体上の金属のオキソ−水酸化物から成る生成物は以下中間体として定義さ れる。オキソ−水酸化物はその後熱的に分解され、こうして元素形態の金属を得 る。出発溶剤及び先駆物質は、先駆物質が選択された溶剤中に可溶であるという 制約のみでもって、広い範囲の候補のうちから選択することができる。例えば、 アルコールやエステルのような有機溶剤が金属が有機バインダーと錯体化された 先駆物質と共に使用されうる。この場合、アセチルアセトンとの金属錯体が代表 的に使用される。しかし、水溶液が好ましくは使用される。この場合、使用され る先駆物質は、例えば塩化物、硝酸塩もしくは酢酸塩のような金属の可溶性塩で ある。第1層を構成する化合物の担体材料上への沈殿は一般に、溶液の酸性度条 件を変えることにより、特に酸性度を減じることにより、すなわち溶液のpHを 増大することにより行われる。ひとたび中間体生成物が得られると、溶液は遠心 分離もしくは濾過され、そして湿った粉末はまず乾燥されそして後高温で処理さ れて鉄化合物及びマンガン化合物を金属に変換する。オキソ−水酸化物の金属形 態への還元は、2段階熱処理を通して行われ、この場合第1段階において水素気 流が中間体生成物上に300℃を超える温度で少なくとも4時間通され、そして 第1段階にすぐ続いての第2段階において精製アルゴン気流が還元された中間体 生成物上に300℃を超える温度で少なくとも4時間通される。ゲッタ材料の調 製に関してのもっと詳細な説明については実施例を参照されたい。約1.8の鉄 とマンガンとの間での重量比を有する、本発明におけるのと類似の材料は、ヘリ ウム、アルゴンもしくは窒素のような不活性気体の精製目的で日本の会社である 日産ガードラー触媒株式会社(Nissan Girdler Catalyst Co.Ltd.)により販売 されている。 アンモニアから酸素を除去する精製プロセスは、汚染されたアンモニアを室 温において上述したゲッタ材料の床を通して流すことにより行われる。ゲッタ材 料は一般に、アンモニアの導入及び導出のための通路を2つの対向端に備える、 精製装置の本体を形成する室内に収蔵される。精製装置本体は様々の形状におい て作製することができる。好ましい形状は、第1図に例示されるように円筒状で ある。この場合、精製装置10は、気体入口12及び出口13を2つの対向ベー ス部にそして同軸に備える本体11から構成される。ゲッタ材料14が本体11 の内部に収蔵される。気体入口12及び出口13には好ましくは、精製装置の上 流及び下流に気体管路を接続するため、斯界でVCRタイプとして知られる標準 的な接続部(図示なし)が設けられる。 精製装置本体は様々の金属材料で作製することができる。この使用のための 好ましい材料はAISI 316鋼である。気体と接触状態となる精製装置本体 の内面は好ましくは、約0.5μm未満の表面粗さを実現するように電解仕上さ れる。微量のゲッタ材料粉末が精製装置を離れるアンモニア流れにより連行され るのを防止するために、ゲッタ材料は、第1図に示したように粉末を圧縮するこ とにより得られるペレットの形態で使用されうるし、別様には気体のゲッタ材料 への容易な接近を許容する一般に金属質の網もしくは多孔質のダイアフラムによ り精製装置本体内部に保持されうる。 精製されるべきアンモニア流れは好ましくは、水分を除去するために乾燥用 材料と接触せしめられる。実際上、アンモニウムは常に微量の水を含んでおり、 これは非常に反応性の気体であり、従って半導体工業にとって有害である。例え ば酸化バリウム、酸化カルシウム或いは酸化ストロンチウムのような化学的吸水 剤が乾燥剤として使用できるし、また例えば3Åゼオライト(即ち3Å空隙を有 する結晶格子を有するゼオライト)のような物理的吸水剤を使用することができ る。乾燥用材料は、ゲッタ材料と混合してもしくはゲッタ材料とは別に、精製装 置本体内に導入されうる。後者の場合、乾燥器をアンモニウム流れ方向において ゲッタ材料より上流にもしくはその下流に置くことができる。 ゲッタ材料より下流に乾燥器を配した精製装置が第2図に例示される。第2 図は、精製装置10の場合と同じく、本体21、気体入口22及び気体出口23 から構成される精製装置20の一部断面を示す。精製装置20の内部には、ゲッ タ材料24が入口22側に置かれそして乾燥用材料25が出口23側に置かれて いる。好ましくは、ワイヤ網のような気体を容易に通過させることのできる機械 的部材26が、両材料の分離を維持しそして両材料の最初の幾何学的配列を維持 するのを助成するように、2つの材料間に位置付けられる。別の構成例は、ゲッ タ材料及び乾燥用材料を2つの独立したハウジング内に配列することである。例 えば、乾燥用材料のハウジングがゲッタ材料を収納する精製装置と同じ形状のも のとなしうる。 次の例は単に例示目的で提示されるものであり、本発明の範囲をいかように も限定することを意図するものではない。 例1 この例は、本発明のゲッタ材料の調製に関係する。 96.0gの塩化第2鉄六水和物、FeCl3・6H2O、及び41.7gの 塩化マンガン四水和物、MnCl2・4H2O、を500ccの蒸留水に溶解した 。塩の溶解を促進するように溶液を振盪しそして50℃に加熱した。溶液を60 ℃に増大しながら溶液の容積を1リットルにした。GRACE社から市販入手し うる、あらかじめ粉砕したM.S.13Xゼオライト7.5gを溶液に約5分間 攪拌しながら添加した。その後、温度を40℃に下げそして濃縮アンモニアを添 加し、溶液のpHを7.5に調節した。鉄及びマンガンの水酸化物から成る沈殿 物を得た。沈殿を促進するため溶液を60℃において約5分間加熱した。溶液を 30℃に冷却しそして濃縮アンモニアを用いてpH9に調節した。5分後、溶液 を遠心分離しそして沈殿物を約50℃の温度及びpH8における水溶液で繰り返 し洗浄した。得られた沈殿物に材料の機械的堅固さを改善する非晶質シリカを4 g均質な混合物が得られるまで攪拌しながら加えた。これを75℃に24時間加 熱して沈殿物を乾燥した。沈殿物を最後に700℃で4時間焼いて鉄及びマンガ ンの水酸化物を対応する酸化物に変換した。こうして得られた材料の22gを第 2図に示したような精製装置の鋼製本体内に装入した。本体を入口及び出口接続 部を介して気体管路に接続した。気体流れを遮断するための弁を精製装置の上流 及び下流に配置した。遮断弁を開き、室温における水素を精製装置内に流した。 一方で、適当な加熱用スリーブにより精製装置の本体の室温から400℃への加 熱を開始した。精製装置外壁における温度を熱電対により測定した。熱電対によ り読まれる温度が400℃に達した時点から水素を4時間流した。この期間後、 水素流れは中断され、そして高純度アルゴンを温度を400℃に維持したまま精 製装置内に4時間流した。4時間後加熱を停止し、そしてアルゴン流れを維 持したまま精製装置を冷却した。精製装置が室温に達した時、アルゴン流れを遮 断しそして弁を閉じることにより精製装置を断路した。この過程の終了時におい て、担持された鉄及びマンガンから成るゲッタ材料が精製装置本体内部に存在す る。 例2 この例は、本発明の精製装置の操作例を示す。試験は、ゲッタ材料をアンモ ニア中で10日間コンディショニングした後、窒素流れ中に水素を発生すること なく、酸素を除去するための精製装置の能力を証明することにより間接的な態様 で行った。これは、アンモニア中の酸素の濃度を測定するための信頼性のある測 定器が現在のところ得られないためである。 23gのゲッタ材料を収納する例1の精製装置を、4段階における室温処理 を通してアンモニア中でコンディショニングした。第1段階において、気体状ア ンモニアを精製装置を通して2.2barの圧力で0.1リットル/分において 4時間流した。第2段階において、精製装置を2.2barにおけるアンモニア を満たして10日間断路した。第3段階において、アンモニアを再度精製装置を 通して2.2barの圧力で0.1リットル/分において1時間流した。第4の 最後の段階において、純アルゴンを精製装置を通して2barで0.3リットル /分において1/2時間流した。これら処理の終了時において、精製装置を通し て純窒素を流すことにより、精製装置から流出する水素の量を、「Trace Analytical RGA3」分析装置により測定した。測定された水素濃 度は測定器の感度限界未満であり、従って上述したようにしてコンディショニン グされた触媒はアンモニアを解離しないことを示した。 100ppmの酸素を含有する窒素流れが、室温においてそして3barの 圧力で、0.1リットル/分の流量においてコンディショニングされた精製装置 に流された。流出気体を酸素濃度を確認するべく「Osaka MK3Y」分析 器により分析した。精製装置を有効に作動中であるとして考慮するための確立さ れた基準は、流出気体流れ中の酸素濃度が精製装置に流入する酸素濃度に基づい て1%以下でなければならないことである。この場合、それを超えると精製装置 の能力が消耗したと考えられる流出酸素濃度は1ppmである。この水準は7日 間の試験後に達した。精製装置に流された気体混合物の総容積からそして入来酸 素濃度の知識から、本発明のゲッタ材料の吸収容量を床材料単位リットル当り約 4リットルの酸素であるとして計算することができ、これは先行技術の精製装置 により達成された1〜2リットル/リットルよりはるかによい値である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.精製されるべきアンモニアの流れをゲッタ材料と接触することから成る室温 でアンモニアから酸素を除去する方法であって、ゲッタ材料が約7:1と1:1 との間の範囲の重量比を有する金属鉄及びマンガンの混合物からなり、そして約 100m2/gを超える比表面積を有することを特徴とする室温でアンモニアか ら酸素を除去する方法。 2.鉄及びマンガンがゼオライト、多孔質アルミナ、多孔質シリカ及び他の種の モレキュラーシーブの内から選択された材料上に担持された形態で存在する請求 項1に従う方法。 3.鉄とマンガンとの間の重量比が5:1である請求項1に従う方法。 4.アンモニアが、ゲッタ材料に加えて、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化 ストロンチウム及び3Åゼオライトのうちから選択される乾燥用材料と接触せし められる請求項1に従う方法。 5.ゲッタ材料と乾燥用材料が精製装置本体内部で混合される請求項4に従う方 法。 6.ゲッタ材料と乾燥用材料が精製装置本体内部で別々に存在する請求項4に従 う方法。 7.アンモニア流れがゲッタ材料と接触した後乾燥用材料と接触する請求項4に 従う方法。
JP50828597A 1995-08-07 1996-08-02 室温でアンモニアから酸素を除去するための方法 Expired - Lifetime JP3231781B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
IT95MI001756A IT1277458B1 (it) 1995-08-07 1995-08-07 Processo per la rimozione di ossigeno da ammoniaca a temperatura ambiente
IT95A001756 1995-08-07
PCT/IT1996/000158 WO1997006104A1 (en) 1995-08-07 1996-08-02 Process for removing oxygen from ammonia at room temperature

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10507735A true JPH10507735A (ja) 1998-07-28
JP3231781B2 JP3231781B2 (ja) 2001-11-26

Family

ID=11372160

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP50828597A Expired - Lifetime JP3231781B2 (ja) 1995-08-07 1996-08-02 室温でアンモニアから酸素を除去するための方法

Country Status (9)

Country Link
US (1) US5716588A (ja)
EP (1) EP0784595B1 (ja)
JP (1) JP3231781B2 (ja)
KR (1) KR100255427B1 (ja)
CN (1) CN1078871C (ja)
DE (1) DE69600293T2 (ja)
IT (1) IT1277458B1 (ja)
MY (1) MY113676A (ja)
WO (1) WO1997006104A1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002037624A (ja) * 2000-07-28 2002-02-06 Japan Pionics Co Ltd アンモニアの精製方法
JP2002037623A (ja) * 2000-07-28 2002-02-06 Japan Pionics Co Ltd アンモニアの精製方法
JP2002526369A (ja) * 1998-10-02 2002-08-20 エアロネクス インコーポレイテッド 水素化物ガス流の精製方法および装置
JP2019098215A (ja) * 2017-11-29 2019-06-24 東洋製罐グループホールディングス株式会社 酸素吸収剤、多孔質シリカ、及びそれらの製造方法

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6776970B1 (en) * 1995-08-07 2004-08-17 Giorgio Vergani Getter materials for deoxygenating ammonia/oxygen gas mixtures at low temperature
US6719842B2 (en) * 1998-09-07 2004-04-13 Showa Denko Kabushiki Kaisha Ammonia for use in manufacture of GaN-type compound semiconductor and method for manufacturing GaN-type compound semiconductor
US7465692B1 (en) 2000-03-16 2008-12-16 Pall Corporation Reactive media, methods of use and assemblies for purifying
TW550307B (en) * 2000-04-19 2003-09-01 Getters Spa A process for the purification of organometallic compounds or heteroatomic organic compounds with hydrogenated getter alloys
US6749819B2 (en) 2000-07-28 2004-06-15 Japan Pionics Co., Ltd. Process for purifying ammonia
US6524544B1 (en) * 2000-10-27 2003-02-25 Aeronex, Inc. Self-regenerative process for contaminant removal from ammonia
US6576138B2 (en) * 2000-12-14 2003-06-10 Praxair Technology, Inc. Method for purifying semiconductor gases
ITMI20010018A1 (it) * 2001-01-08 2002-07-08 Getters Spa Metodo per la misura della concentrazione di impurezze in elio mediante spettroscopia di mobilita' ionica
US6468333B2 (en) 2001-01-22 2002-10-22 Aeronex, Inc. Gas purifier apparatus
US6350300B1 (en) 2001-01-26 2002-02-26 Aeronex, Inc. Gas purification apparatus
EP1276140A3 (en) * 2001-07-04 2007-10-24 FUJIFILM Corporation Substrate including wide low-defect region for use in semiconductor element
US6790363B2 (en) * 2001-07-24 2004-09-14 Chk Group, Inc. Method of treating arsenic-contaminated waters
US6733734B2 (en) 2001-10-31 2004-05-11 Matheson Tri-Gas Materials and methods for the purification of hydride gases
US6824589B2 (en) * 2001-10-31 2004-11-30 Matheson Tri-Gas Materials and methods for the purification of inert, nonreactive, and reactive gases
DE10217811C1 (de) * 2002-04-22 2003-11-27 Wolf Gmbh Richard Codiersystem zur Kennzeichnung von Werkzeugen in medizinischen Geräten
JP2004142987A (ja) * 2002-10-24 2004-05-20 Japan Pionics Co Ltd アンモニアの精製方法
US6953763B2 (en) * 2003-05-06 2005-10-11 Chk Group, Inc. Solid support stabilized Mn(III) and Mn(VII) and method of preparation
JP4664913B2 (ja) * 2003-07-21 2011-04-06 インテグリス・インコーポレーテッド 半導体産業用水素化物ガスの精製
US20050019244A1 (en) * 2003-07-23 2005-01-27 Spiegelman Jeffrey J. Method for the point of use production of ammonia from water and nitrogen
US20050069475A1 (en) * 2003-09-30 2005-03-31 Hage Daniel B. System and process for reducing impurities
US6892473B1 (en) 2003-12-08 2005-05-17 Air Products And Chemicals, Inc. Process for removing water from ammonia
US7160360B2 (en) * 2003-12-08 2007-01-09 Air Products And Chemicals, Inc. Purification of hydride gases
US7297181B2 (en) * 2004-07-07 2007-11-20 Air Liquide America L.P. Purification and transfilling of ammonia
CN100556533C (zh) * 2006-12-18 2009-11-04 北京三聚环保新材料股份有限公司 一种高活性脱氧剂及其制备方法
ITMI20091465A1 (it) 2009-08-12 2011-02-13 Getters Spa Assorbitore di ossigeno
US8449654B2 (en) 2011-08-22 2013-05-28 Air Products And Chemicals, Inc. Method and apparatus for the supply of dry gases
TWI592205B (zh) 2012-02-10 2017-07-21 美商恩特葛瑞斯股份有限公司 氣體純化器
PL224195B1 (pl) * 2012-06-08 2016-11-30 Sławomir Andrzej Maculewicz Sposób oczyszczania amoniaku, mieszanin azotu i wodoru albo azotu, wodoru i amoniaku
GB202103659D0 (en) * 2021-03-17 2021-04-28 Johnson Matthey Plc Getter activation and use
CN114560476B (zh) * 2022-02-23 2025-04-04 湖北和远气体股份有限公司 一种制备半导体用超纯氨的装置及工艺

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US458561A (en) * 1891-09-01 Method of extinguishing fires
US4586561A (en) * 1984-02-27 1986-05-06 Exxon Research And Engineering Co. Low temperature heat pipe employing a hydrogen getter
US4713224A (en) * 1986-03-31 1987-12-15 The Boc Group, Inc. One-step process for purifying an inert gas
IT1227219B (it) * 1988-09-26 1991-03-27 Getters Spa Apparecchiatura e metodo relativo per asportare impurezze gassose da gas inerti ed assicurare livelli estremamente bassi di idrogeno
IT1244006B (it) * 1990-11-02 1994-06-28 Getters Spa Procedimento di purificazione dell'ammoniaca.
RU2123971C1 (ru) * 1993-04-29 1998-12-27 Саес Геттерс С.П.А. Способ удаления газообразных примесей из потока водорода и устройство для его осуществления

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002526369A (ja) * 1998-10-02 2002-08-20 エアロネクス インコーポレイテッド 水素化物ガス流の精製方法および装置
JP2002037624A (ja) * 2000-07-28 2002-02-06 Japan Pionics Co Ltd アンモニアの精製方法
JP2002037623A (ja) * 2000-07-28 2002-02-06 Japan Pionics Co Ltd アンモニアの精製方法
JP4640882B2 (ja) * 2000-07-28 2011-03-02 日本パイオニクス株式会社 アンモニアの供給方法及び再利用方法
JP2019098215A (ja) * 2017-11-29 2019-06-24 東洋製罐グループホールディングス株式会社 酸素吸収剤、多孔質シリカ、及びそれらの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
ITMI951756A0 (it) 1995-08-07
IT1277458B1 (it) 1997-11-10
KR100255427B1 (ko) 2000-05-01
US5716588A (en) 1998-02-10
DE69600293T2 (de) 1998-10-22
DE69600293D1 (de) 1998-06-18
MY113676A (en) 2002-04-30
CN1161031A (zh) 1997-10-01
EP0784595B1 (en) 1998-05-13
KR970706207A (ko) 1997-11-03
EP0784595A1 (en) 1997-07-23
ITMI951756A1 (it) 1997-02-07
CN1078871C (zh) 2002-02-06
WO1997006104A1 (en) 1997-02-20
JP3231781B2 (ja) 2001-11-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3231781B2 (ja) 室温でアンモニアから酸素を除去するための方法
CA2177912C (en) Adsorbent for removal of trace oxygen from inert gases
US5635148A (en) Reactive membrane for filtration and purification of gases of impurities and method utilizing the same
JPS62269728A (ja) 不活性ガスを精製する1工程方法
EP1028800B1 (en) Process and apparatus for removing metal carbonyls and moisture from a gas
US3909455A (en) Catalyst and process for making same
AU3258399A (en) Decarbonating gas streams using zeolite adsorbents
TW445170B (en) Process for the removal of water from evacuated chambers or from gases
US6589493B2 (en) Gas purification-treating agents and gas purifying apparatuses
EP0484301A1 (en) Process for the purification of ammonia
US6447576B1 (en) Cleaning agent and cleaning process of harmful gas
Madhusudhan et al. Chemical reactivity of ruthenium complexes supported on Y-type zeolites
JP2003531150A (ja) ゼオライト上に支持された鉄及びマンガンに基づく触媒による有機金属化合物又はヘテロ原子有機化合物の純化方法
JP3390444B2 (ja) 不純物を含むガスを濾過および精製するための反応性膜およびそれを使用する方法
EP1076633A1 (en) Reactive matrix for removing moisture from a fluorine containing gas and process
US7011799B2 (en) Method for deoxygenating ammonia with reduced oxides of iron and manganese
JPH01164418A (ja) 二酸化炭素の除去方法
JPS62286522A (ja) 排ガスの浄化方法
JPS61242638A (ja) Co分離回収用吸着剤、その製造法およびそれを用いて高純度coを分離回収する方法
US20040086447A1 (en) Method for purifying carbon monoxide
JP3330412B2 (ja) 空気中又は不活性ガス中の水素の除去方法
JP2902317B2 (ja) 不活性ガスの常温精製方法および装置
JPH02144114A (ja) 水素化物ガスの精製方法
JPS6360101A (ja) 水素ガスの精製方法
JP2002060209A (ja) 窒素精製方法及び精製装置

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080914

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080914

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090914

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090914

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100914

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110914

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110914

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120914

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120914

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130914

Year of fee payment: 12

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term