JPH10503046A - 電気化学セル用修飾ポリマーカチオン交換膜及びその製造方法 - Google Patents
電気化学セル用修飾ポリマーカチオン交換膜及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
電気化学セル用修飾ポリマーカチオン交換膜において、前記膜が、ポリマーマトリクス内に析出した銀塩、タングステン塩、またはモリブデン塩、あるいはそれらの混合物であるイオン性塩を有し、前記塩が、使用時に膜のいずれかの側に接触する電解液に溶解しないことを特徴とする膜。この膜は、特に電気化学セルに用いられ、低い電気抵抗及び高い選択透過性を有している。
Description
【発明の詳細な説明】
電気化学セル用修飾ポリマーカチオン交換膜及びその製造方法
本発明は、電気化学セル用カチオン交換膜またはその改良、特に、低い電解抵
抗と高い選択透過性を併せ持った高度なカチオン選択性の膜、及びその製造方法
に関する。
クロル(chlor)−アルカリ電池、燃料電池、及びエネルギー貯蔵/電力供給(po
wer delivery)装置を含む種々の電気化学的応用におけるカチオン交換膜の使用
が提案されている。これらの装置において、カチオン交換膜は、セルの隔室(com
partment)間を分離する一方、セルを通じたカチオンの導通路を与えている。ク
ロル−アルカリ過程での使用や燃料電池での応用といったある種の応用において
は、この膜は、表面に形成された金属製触媒電極を有していることもある。その
ような膜/電極複合体の調製について、米国特許第4959132号公報に開示
されているように、金属を形成するように膜内に含浸させた水溶性金属塩を還元
することによって金属製触媒フィルムを膜表面に形成することが提案されている
。
電気化学的応用においては、カチオン交換膜には高電圧効率、即ち低抵抗が要
求される。低抵抗膜は一般に高い水含量を有し、選択性がそれほど高くなく、即
ち低い電流効率を有する。膜に求められるものは、低抵抗及び高選択性の両方で
ある。
カチオン交換膜の選択透過性、即ち、カチオンは通すがアニオンは通さない能
力を向上させるために、様々な試みがなされてきた。
一つの試みは、低水含量のアニオン排除層の一方の表面に低抵抗膜を設けた2
層膜を製造することであった。この2層膜は、低抵抗のバルク部分と高度にカチ
オン選択性の表面層を有する。このような膜の例としては、低イオン交換容量(
高当量重量)膜がアニオン排除表面層をなすもの(DuPont社 Nafion 300 シリー
ズ)、及び、カルボン酸膜がアニオン排除表面層をなすもの(DuPont社 Nafion
900 シリーズ)がある。これらの2層膜は、特定の方向でのアニオン排除のため
に、一方の表面にのみ設けられている。両方の場合(300 及び 900)、アニオ
ン排除は膜表面の水含量を低減することによって達成される。
他の試みは、膜の水含量を低減させるためにナフィオン(Nafion)スルホン酸に
二酸化ケイ素を析出させることである。(多層ポリマー:ブレンドとアイオノマ
ー(Multiphase polymers: blends and ionomers)、第16章、L.A.Utracki 及
び R.A.Weiss,ACS Symposium series 395,1988年6月5-11日,401-417頁。)
この処理の結果、膜の水含量の減少によって膜の選択性は向上したが、膜抵抗も
上昇した。
我々はここに、カチオン交換膜の水含量を減少させる一方、イオン交換容量及
び選択透過性は同等に維持する方法を開発した。そのようにして製造されたカチ
オン交換膜は、低い電解抵抗及び高い選択透過性を有する。
即ち、本発明は、電気化学セル用修飾ポリマーカチオン交換膜を提供するが、
前記膜は、ポリマーマトリクス内に析出した銀塩、タングステン塩、またはモリ
ブデン塩、あるいはそれらの混合物であるイオン性塩を有し、前記塩は、使用時
に膜のいずれかの側に接触する電解液に不溶である。
膜のポリマーマトリクス内に析出されるこの不溶性の塩は、銀、タングステン
、またはモリブデンの臭化物、塩化物、硫化物、または水酸化物、あるいはそれ
らの混合物であるのが好ましい。
本発明に従って修飾される膜の一例は、ガンマ線照射によってスチレンをグラ
フト化し、続いてスルホン化してスルホン酸ペンダント鎖を形成したフルオロカ
ーボンポリマー、または、アクリル酸あるいはメタクリル酸等の不飽和カルボン
酸とともにガンマ線照射してグラフト化してカルボン酸ペンダント鎖を形成した
フルオロカーボンポリマーから形成したカチオン交換膜である。フルオロカーボ
ンは、ポリテトラフルオロエチレンまたはフッ素化エチレン−プロピレンコポリ
マーが好ましい。膜は、フルオロカーボンポリマー上に、ガンマ線照射を用いて
スチレンをグラフト化し、グラフト化したポリマーを、例えばクロロスルホン酸
を用いてスルホン化することにより、あるいは、フルオロカーボンポリマー上に
、ガンマ線照射を用いて不飽和カルボン酸をグラフト化することによって合成さ
れる。
本発明の修飾膜は、好ましくは0.005から0.0175cm(0.002
から0.007インチ)の厚さ、より好ましくは約0.0125cm(0.00
5インチ)の厚さを有する。修飾される膜は、所定の厚さのポリテトラフルオロ
エチレンまたはエチレン−プロピレンコポリマーのベースフィルムから作製され
るが、このベースフィルムは、例えばコバルト−60源からのガンマ線を介して
スチレンをグラフト化される。ポリテトラフルオロエチレン及びポリオレフィン
フィルムへのビニル−置換モノマーの照射によるグラフト化は、当業者には周知
であり、米国特許第4230549号及び第4339473号を参考にすること
ができる。
フルオロカーボンのガンマ線照射によって、フリーラジカル部位が形成され、
次いで、それらはスチレンなどの不飽和モノマーと反応しうる。イオン交換膜の
電解抵抗は、グラフト化されたスチレンが続いてスルホン化された場合、その比
率に関係し、グラフト化率が増加するに伴って電解抵抗が低下する。一般に、有
効なグラフト化率は10から50パーセント、好ましくは10から20パーセン
トである。グラフト化率は、グラフト化によって増加した重量をポリマーフィル
ムの初期重量で割った値に100を乗じたものと定義する。
本発明に従って修飾される他の膜は、テトラフルオロエチレンとスルホン化ま
たはカルボキシル化ビニルエーテルとのコポリマーであり、例えば、Nafion 112
,112または117といった Nafion という商品名(Du pont社)、または Flemion(
旭硝子社)という商品名で市販されているものから形成されたカチオン交換膜で
ある。
本発明に従って修飾される他の膜は、徳山曹達社からNeosepta CM1,Neosepta
CM2,Neosepta CMH 及び Neosepta CMS として、及び、Selemion(旭硝子社)
として市販されているポリスチレンスルホン酸膜からなるカチオン交換膜である
。
本発明で用いられる他の膜として、ポリスチレンスルホン酸イオン交換樹脂を
ベースとし、ポリエチレンなどの他のポリマーを混合した不均一膜などがある。
用いることのできる他のタイプの膜は、ポスト−照射(post-irradiation)グラフ
ト化膜である。用いられるさらに他のタイプの膜は、例えばケルバ−タイプ(Kel
var type)のような架橋芳香族ポリアミドである。
カチオン交換膜は、以下の工程からなる方法によって修飾することができる。
(i)膜を、銀、タングステン、モリブデンの水溶性塩またはそれらの水溶性
塩混合物の水溶液に接触させ、
(ii)工程(i)の水溶性塩を不溶性塩に変換する。
好ましくは、上記(i)の工程に先立って膜を脱水素する。この脱水素は、膜
内に水溶性塩の溶液を均一に吸収するために有効である。
上記の方法で用いられる水溶性塩としては硝酸塩が好ましいが、過塩素酸塩や
フッ化物塩などの他の塩も用いることができる。
膜内に吸収された水溶性塩は、一般に、溶液からポリマーマトリクス中に析出
することによって水不溶性塩に変換される。好ましい不溶性塩は、前記金属の臭
化物、塩化物、硫化物、及び水酸化物であり、それらは、例えばナトリウムまた
はカリウムの臭化物、塩化物、硫化物または水酸化物といった適当な臭化物、塩
化物、硫化物、または水酸化物イオンを含有する溶液で膜を処理することによっ
て、膜のポリマーマトリクス中に析出する。また、臭化物は、臭素ガスを用いた
析出によって形成することもできる。臭素ガスは窒素などの不活性ガスと混合し
て使用することもできる。
本発明の方法を用いれば、膜の各側に異なる不溶性塩を析出させた修飾カチオ
ン交換膜を調製することもできる。これは、工程(i)の膜を反応器セルに配置
し、一方の表面を一の試薬で処理し、他方の試薬を他の試薬で処理することによ
り、膜のポリマーマトリクス内に2つの異なる不溶性塩を析出させることによっ
て達成される。
例えば、膜の一方の表面を臭化物含有溶液または臭素ガスに曝露して不溶性臭
化物を形成し、膜の他方の表面を硫化物含有溶液に曝露して不溶性硫化物を形成
するようにしてもよい。
好ましくは、膜のポリマーマトリクス中に析出される不溶性のイオン性塩は、
使用時に曝されるアノライト(anolyte)及びカソライト(catholyte)に対する化学
的耐性を有しているべきである。即ちイオン性塩は、電解液に不溶性であるばか
りでなく、使用時に曝される電解液によって、決して還元されたり酸化されたり
変質したりしないのが好ましい。膜の各側において、ポリマーマトリクスに異な
る不溶性塩を形成することが可能であるので、膜はアノライト及びカソライトに
個別に合わせることができる。
本発明は、その範囲内に、単一のセルまたはセルのアレー(array)からなり、
各セルが+ve電極及び電解液を備えた容器(+ve容器)と、−ve電極及び電解液
を備えた容器(−ve容器)とを具備し、前記+ve容器と−ve容器とが修飾カチオ
ン交換膜で互いに分離された電気化学装置を含む。本発明の修飾膜が組み込まれ
る電気化学装置は、エネルギー貯蔵用及びまたは電力供給用の装置であるのが好
ましい。この−ve容器内の電解液は、電力供給時に硫化物を含み、+ve容器内の
電解液は、電力供給時に臭素、鉄、空気または酸素を含むのが好ましい。これら
3つの系に含まれる化学反応は以下の通りである。
(1) Br2 + S2- ←→ 2Br- + S
上記の反応は、正確には別々に起こり、臭素反応とイオウ反応とに依っている。
臭素反応は膜の+ve容器側で起こり、イオウ反応は膜の−ve容器側で起こる。
(2) 2Fe3+ + S2- ←→ 2Fe2+ + S
この場合も、反応は正確には別々に起こり、鉄反応とイオウ反応とに依っている
。鉄反応は膜の+ve容器側で起こり、イオウ反応は膜の−ve容器側で起こる。
(3) 4H2O + 4S2- + 2O2 ←→ 8OH- + 4S
この反応も正確には別々に起こり、酸素反応とイオウ反応とに依っている。酸素
反応は膜の+ve容器側で起こり、イオウ反応は膜の−ve容器側で起こる。
上記の臭素/イオウ系で用いる場合には、修飾膜は二官能性であるのが好まし
く、膜のセルの臭素側に面した側には、その中に析出した銀、タングステン、ま
たはモリブデンの臭化物あるいはそれらの混合物を有し、膜のセルの硫化物側に
面した側には、その中に析出した銀、タングステン、またはモリブデンの硫化物
あるいはそれらの混合物を有するのが好ましい。
本発明を、添付した図面に例示したような修飾膜を組み込んだ電気化学装置を
参照して、さらに説明する。
図1Aは、本発明の好ましい実施態様によるセルの基本要素の模式図である。
図1Bは、図1Aの系を用いたセル・アレーを示す図である。
以下の説明では、臭化ナトリウム/ポリ硫化ナトリウムを用いた特別な系が参
照される。しかし、必要ならば、これらの塩は他の塩に置き換えられると理解さ
れる。
図面を参照すると、図1Aには、+ve電極12と−ve電極14、及び電荷キャ
リアを与えるスチレンスルホン酸官能基を持つフルオロカーボンポリマーから形
成されたカチオン膜16を備えたセル10が記載されている。このカチオン膜1
6は、隔室22に面した側のポリマーマトリクス中に臭化銀を取り入れ、隔室2
4Cに面した側のポリマーマトリクス中に硫化銀を取り入れることによって修飾
してある。膜16は、セル10の+ve側と−ve側とを分離するとともに、+ve側
から−ve側への臭素の泳動を最小にし、−ve側から+ve側へのS2-イオンの泳動
を最小にするよう選択される。NaBrの水溶液22は、+ve電極12と膜16
との間に形成された容器22Cに供給され、Na2Sx水溶液24は、−ve側と膜
16との間に形成された容器24Cに供給される。
セルが放電状態のとき、6.0モル濃度までのNaBr溶液がセルの容器22
Cに存在し、0.5から1.0モル濃度のNa2S5溶液がセルの容器24Cに存
在する。
セルが充電されると、図1Aに示したように、Na+イオンがカチオン膜16
を通ってセルの+ve側から−ve側と移動する。+ve電極での臭化物イオンの酸化
によってフリーな臭素が生成され、トリブロミドまたはペンタブロミドイオンと
して溶解する。イオウは−ve電極で還元され、ペンタスルフィド、Na2S5、塩
が、充電が完了するに従ってモノスルフィドになる。+ve側では以下の反応が起
こる。
2Br- → Br2 + 2e-
−ve側では以下の反応が起こる。
S + 2e- → S2-
膜は、これら2つの電解液を分離し、バルクの混合を防止し、さらに、−ve側
からのS2-イオンの泳動及び+ve側から−ve側へのBr-及びBr2の泳動(拡散
)を妨害する。S2-の拡散は、電気量的損失をもたらすと同時に、+ve側電解質
中に懸濁した析出物を生じさせる。+ve側に存在するS2-イオンは、充電中に生
成されたBr2によって酸化される。イオウは水またはNaBr溶液に溶解しな
いので、微粒子懸濁物または析出物として現れる。
サイクルを繰り返すと、セルの+ve側にイオウが蓄積されることがある。イオ
ウを、イン−ライン・フィルター(in-line filter)で捕捉すれば、作動中の適当
な時間に、−ve側に戻して再溶解することができる。
電力を供給すると、セルは放電される。この作用の間、2つの電極では可逆反
応が起こっている。+ve側電極12では、臭素がBr-に還元され、−ve側電極
では、S2-イオンが酸化されてS分子となる。−ve側電極で生成された電子は、
負荷を通る電流となる。+ve側電極での化学反応は、1.06から1.09ボル
トを発生し、−ve側電極での反応は、0.48から0.52ボルトを発生する。
これらの化学反応の組合せにより、各セル毎に、1.54から1.61ボルトの
開回路電圧を発生する。
図1Bは、電気的に連続して接続された多重セル及び並記された流体のセル・
アレー20を示す。多数の中間電極13(各々が、+ve側電極12Aと−ve側電
極14Aとを備えている)、末端電極12E(+ve)及び14E(−ve)が、全
てのセル容器(22C、24C)において、膜16と、スクリーンまたはメッシ
ュのスペーサ(22D,24D)によって互いに離間しており(22D、24D
の2つを例として図示した)、末端セルCE1及びCE2、及びn個の中間セルCM
が形成されている(中間セルの個数は、典型的には10−20であるが、さらに
少ないセル個数またはさらに多いセル個数とすることも可能である)。膜は、図
1Aを参照して既に説明したタイプのものである。末端電極12E(+ve)と1
4E(−ve)は、内部導電体12F及び14F(典型的には銅箔)を有し、これ
らの内部導電体は末端電極内に包まれ(encapsulated)、外部端子12G、14G
に接続され、これらの端子は、外部負荷(例えば、制御回路を介したモーター、
車を運転させるモーター)、または電源(例えば、負荷−平均デバイス(load-le
velling device)として使用したときのユーティリティ・パワー・グリッド(util
ity power grid))に接続されている。
本発明は、以下の実施例を参照してさらに説明される。
実施例1
照射によって約15%のスチレンをグラフト化し、約17%のスルホン酸基を
含むように機能化されたポリテトラフルオロエチレンフィルムをRAI社から入
手した。このフィルムは、約0.0125cm(0.005インチ)の厚さを有
する。
この膜のサンプルを乾燥オーブン内で、40℃で10分間乾燥させた。乾燥後
、乾燥させた膜を乾燥処理を施していないサンプルとともに、1リットル当たり
に20gのAgNO3を含む硝酸銀水溶液中に10分間浸漬した。浸漬後、両方
の膜サンプルを、30秒間滴らせた後、1リットル当たりに30.0gのNa2
S・9H2Oを含む硫化ナトリウム水溶液中に、60℃で10分間浸漬した。こ
の処理の後、黒色の膜サンプルを乾燥させた。
硫化銀を析出させた膜と、RAI社からの未処理の膜サンプルの膜抵抗を測定
した。測定は、両方の隔室内の溶液中に浸漬された白金電極を備えた2隔室セル
を用いて行った。測定される膜は、2つの隔室を分離するように用いた。白金電
極は、80から400Hzのモードで測定できるフィリップス(Philips)社製デ
ジタル導電率計(Digital Conductivity Meter)PW 9527に接続した。セル
内の溶液は、25℃に温度調節され、デジタル導電率計は、各測定の前に校正し
てから値を読み取った。
膜抵抗は、セル内の膜の有無による測定値の違いとして決定した。
表1に、0.1MのNaBr、Na2S及びNa2Sx溶液中でのイオン性AC
抵抗率を示す。面積抵抗(Area resistance)RAはΩ/cm2で表し、比抵抗RSは
Ωcmで表した。平均値を示してある。測定した種々のサンプルは以下の通りで
ある。
A − RAI社から入手したままのもの。
B − 脱水素無しでAgNO3ドープで修飾したもの。
CI − 脱水素し、AgNO3ドープで修飾したもの(第1のサンプル)。
CII − 脱水素し、AgNO3ドープで修飾したもの(第2のサンプル)。
平衡膨潤容量及び水取り込み量を、AgNO3ドープ有無の膜について、長方
形(4×1cm寸法)のサンプルを用いて測定した。膨潤したサンプル及び乾燥
したサンプルの寸法(dimension)(長さ、幅)は、光学的比較器を用いて測定し
、重量は秤量によって決定した。結果を下記の表2に示す。
ドープした膜サンプルであるCI及びCIIの容積膨潤及び水取り込み量は、
ともに未ドープ膜Aに比較して有意に減少していることがわかる。
NaOHでの直接滴定による膜のイオン交換容量を下記の表3に示す。
実施例2
Nafion 117 膜を、50/50の硝酸(s.g.1.42)と高純水中で30分間煮沸
して前処理した。この膜を洗浄し、高純水中で30分間煮沸した。膜をペーパー
タオルで乾燥させ、室温で攪拌しながら0.1MのHClに48時間浸漬して膜
をプロトン(H+)型に調製した。
この膜を硝酸銀水溶液(5×10-3M)に浸漬し、攪拌を続けながら、暗中に
約4週間保持した。
この銀塩を含浸した膜を、高純水で洗浄し、ペーパータオルで乾燥させた後、
硫酸ナトリウムの濃厚溶液(2.4M)に室温で24時間浸漬した。次いで、膜
を高純水で数回洗浄し、湿らせたまま保存した。
これらの処理をした Nafion 117膜のイオン交換容量は、0.95meq/g
であるのに対し、未処理の Nafion 117膜では0.96meq/gであった。
処理した Nafion 117膜及び未処理の Nafion 117膜の膜抵抗を、実施例1に記
載した方法で、異なる臭化ナトリウム濃度において測定した。これらを比較した
結果を、添付した図面の図2に示す。処理した Nafion 117膜の抵抗率は濃度依
存性ではないのに対し、未処理の Nafion 117膜の抵抗率は、濃度とともにかな
り増加することがわかる。
実施例3
照射によって約15%のスチレンをグラフト化し、約17%のスルホン酸基を
含むように機能化されたポリ四フッ化エチレンフィルムをRAI社から入手した
。このフィルムは、約0.0125cm(0.005インチ)の厚さを有する。
このフィルムに、実施例2に記載したのと同様の処理を施して、銀スルフィド
塩を含浸した処理フィルムを調製した。
この処理したRAI膜のイオン交換容量は0.74meq/gであるのに対し
、未処理のRAIでは0.77meq/gであった。
実施例4
Neosepta CM1 膜を、超音波バスを用いて高純水で2時間洗浄することによっ
て前処理した。次いで、膜を高純水で洗浄した。これで膜をプロトン(H+)型
とした。
膜を、硝酸銀水溶液(5×10-3M)に浸漬し、攪拌を続けながら、暗中に約
2週間保持した。銀塩を含浸させた膜を高純水で洗浄し、ペーパータオルで乾燥
し、硫酸ナトリウムの濃厚溶液(2.4M)に室温で24時間浸漬した。次いで
、膜を数回高純水で洗浄し、表面の過剰な析出物を拭き取った。次いで、膜を湿
らせたまま保存した。
処理した Neosepta CM1 膜、及び、未処理の Neosepta CM1 膜の膜抵抗を、実
施例1に記載した方法で、異なる臭化ナトリウム濃度において測定した。結果の
比較を、添付した図面の図3に示す。処理した Neosepta CM1 膜の抵抗率が、濃
度によって有意には変化しないことがわかる。
実施例5
Neosepta CM2 膜を用いて、実施例4の処理を繰り返した。
処理した Neosepta CM2 膜、及び、未処理の Neosepta CM2 膜の膜抵抗を、実
施例1に記載した方法で、異なる臭化ナトリウム濃度において測定した。結果の
比較を、添付した図面の図4に示す。この図から、処理及び未処理の Neosepta
CM2 膜の抵抗率が、極めて類似していることがわかる。
実施例6
硫酸ナトリウム水溶液を臭化ナトリウム溶液(溶液1リットル当たり30g)
に置き換えた以外は実施例1の一般的方法に従って、同様にポリマーマトリクス
内にブロミドを析出させた膜を調製した。浸漬は、60℃で10分間行った。こ
の処理の後、膜を乾燥させたところ、実施例1の膜は黒色に着色されていたのに
対して、膜は明るい茶色を呈していた。
実施例7
Nafion 117 膜を、実施例2に記載した方法に従って処理した後、5mMの塩
化モリブデン(MoCl3)水溶液に浸漬し、攪拌を続けながら暗中に4日間保
持した。
膜を高純水で洗浄し、ペーパータオルで乾燥し、硫酸ナトリウムの濃厚溶液(
2.4M)に1時間浸漬した。次いで、膜を数回高純水で洗浄し、過剰なスルフ
ィドを取り除いた。
Na2Sに浸漬して10分以内に、Nafion 膜は透明からオレンジ色を帯びるよ
うに変化した。
実施例8
Neosepta CM1 膜を、実施例4に記載した方法に従って処理した後、5mMの
四塩化タングステン(WCl4)水溶液に浸漬し、攪拌を続けながら暗中に8日
間保持した。
膜を高純水で洗浄し、ペーパータオルで乾燥し、硫酸ナトリウムの濃厚溶液(
2.4M)に1時間浸漬した。次いで、膜を数回高純水で洗浄し、過剰なスルフ
ィドを取り除いた。
Na2Sに浸漬すると、Neosepta CM1 膜は暗色化した。
実施例9
実施例2、3、4及び5の処理及び未処理の膜の選択性を、膜の拡散係数を測
定することによって比較した。拡散係数は、添付した図面の図1を参照して説明
した臭化ナトリウム/ポリ硫化ナトリウム系からなる酸化還元セル内で、動的に
測定した。
膜を通して拡散すると、硫化物は酸化されてイオウになり、+ve電極における
臭化物の酸化によって生成されたフリーな臭素を含む臭化ナトリウム溶液に受容
される。全ての場合で、40kAm-2の電流密度を用いた。結果を下記の表4に
示す。
【手続補正書】特許法第184条の8
【提出日】1996年4月10日
【補正内容】
ン排除は膜表面の水含量を低減することによって達成される。
他の試みは、膜の水含量を低減させるためにナフィオン(Nafion)スルホン酸に
二酸化ケイ素を析出させることである。(多層ポリマー:ブレンドとアイオノマ
ー(Multiphase polymers: blends and ionomers)、第16章、L.A.Utracki 及
び R.A.Weiss,ACS Symposium series 395,1988年6月5-11日,401-417頁。)
この処理の結果、膜の水含量の減少によって膜の選択性は向上したが、膜抵抗も
上昇した。
我々はここに、カチオン交換膜の水含量を減少させる一方、イオン交換容量及
び選択透過性は同等に維持する方法を開発した。そのようにして製造されたカチ
オン交換膜は、低い電解抵抗及び高い選択透過性を有する。
即ち、本発明は、電気化学セル用修飾ポリマーカチオン交換膜を提供するが、
前記膜は、ポリマーマトリクス内に析出した銀塩、タングステン塩、またはモリ
ブデン塩、あるいはそれらの混合物である水に不溶のイオン性塩を有し、前記塩
は、使用時に膜のいずれかの側に接触する電解液に不溶である。
膜のポリマーマトリクス内に析出されるこの水に不溶性の塩は、銀、タングス
テン、またはモリブデンの臭化物、塩化物、硫化物、または水酸化物、あるいは
それらの混合物であるのが好ましい。
本発明に従って修飾される膜の一例は、ガンマ線照射によってスチレンをグラ
フト化し、続いてスルホン化してスルホン酸ペンダント鎖を形成したフルオロカ
ーボンポリマー、または、アクリル酸あるいはメタクリル酸等の不飽和カルボン
酸とともにガンマ線照射してグラフト化してカルボン酸ペンダント鎖を形成した
フルオロカーボンポリマーから形成したカチオン交換膜である。フルオロカーボ
ンは、ポリテトラフルオロエチレンまたはフッ素化エチレン−プロピレンコポリ
マーが好ましい。膜は、フルオロカーボンポリマー上に、ガンマ線照射を用いて
スチレンをグラフト化し、グラフト化したポリマーを、例えばクロロスルホン酸
を用いてスルホン化することにより、あるいは、フルオロカーボンポリマー上に
、ガンマ線照射を用いて不飽和カルボン酸をグラフト化することによって合成さ
れる。
(i)膜を、銀、タングステン、モリブデンの水溶性塩またはそれらの水溶性
塩混合物の水溶液に接触させ、
(ii)工程(i)の水溶性塩を不溶性塩に変換する。
好ましくは、上記(i)の工程に先立って膜を脱水素する。この脱水素は、膜
内に水溶性塩の溶液を均一に吸収するために有効である。
上記の方法で用いられる水溶性塩としては硝酸塩が好ましいが、過塩素酸塩や
フッ化物塩などの他の塩も用いることができる。
膜内に吸収された水溶性塩は、一般に、溶液からポリマーマトリクス中に析出
することによって水不溶性塩に変換される。好ましい不溶性塩は、前記金属の臭
化物、塩化物、硫化物、及び水酸化物であり、それらは、例えばナトリウムまた
はカリウムの臭化物、塩化物、硫化物または水酸化物といった適当な臭化物、塩
化物、硫化物、または水酸化物イオンを含有する溶液で膜を処理することによっ
て、膜のポリマーマトリクス中に析出する。また、臭化物は、臭素ガスを用いた
析出によって形成することもできる。臭素ガスは窒素などの不活性ガスと混合し
て使用することもできる。
本発明の方法を用いれば、膜の各側に異なる水に不溶性の塩を析出させた修飾
カチオン交換膜を調製することもできる。これは、工程(i)の膜を反応器セル
に配置し、一方の表面を一の試薬で処理し、他方の試薬を他の試薬で処理するこ
とにより、膜のポリマーマトリクス内に2つの異なる水に不溶性の塩を析出させ
ることによって達成される。
例えば、膜の一方の表面を臭化物含有溶液または臭素ガスに曝露して水に不溶
性の臭化物を形成し、膜の他方の表面を硫化物含有溶液に曝露して水に不溶性の
硫化物を形成するようにしてもよい。
好ましくは、膜のポリマーマトリクス中に析出される水に不溶性のイオン性塩
は、使用時に曝されるアノライト(anolyte)及びカソライト(catholyte)に対する
化学的耐性を有しているべきである。即ちイオン性塩は、電解液に不溶性である
ばかりでなく、使用時に曝される電解液によって、決して還元されたり酸化され
たり変質したりしないのが好ましい。膜の各側において、ポリマーマトリクスに
異なる水に不溶性の塩を形成することが可能であるので、膜はアノライト及びカ
請求の範囲
1.電気化学セル用修飾ポリマーカチオン交換膜において、前記膜が、ポリマー
マトリクス内に析出した銀塩、タングステン塩、またはモリブデン塩、あるいは
それらの混合物である水に不溶性のイオン性塩を有し、前記塩が、使用時に膜の
いずれかの側に接触する電解液に不溶であることを特徴とする膜。
2.前記水に不溶性の塩が、硫化物、塩化物、臭化物、または水酸化物であるこ
とを特徴とする請求項1記載の膜。
3.ガンマ線照射を介してスチレンをグラフト化し、スルホン酸基またはカルボ
ン酸基で機能化されたフルオロカーボンポリマーからなることを特徴とする請求
項1または2記載の膜。
4.スチレンスルホン酸鎖をグラフト化したポリテトラフルオロエチレンからな
ることを特徴とする請求項3記載の膜。
5.スチレンスルホン酸鎖をグラフト化したフッ素化エチレン−プロピレンコポ
リマーからなることを特徴とする請求項3記載の膜。
6.テトラフルオロエチレンと、スルホン化またはカルボキシル化ビニルエーテ
ルとのコポリマーからなることを特徴とする請求項3記載の膜。
7.ポリスチレンスルホン酸からなることを特徴とする請求項1または2記載の
膜。
8.単一のセルまたはセルのアレーからなり、各セルが+ve電極及び電解液を備
えた容器(+ve容器)と、−ve電極及び電解液を備えた容器(−ve容器)とを具
備し、前記+ve容器と−ve容器とが請求項1から7のいずれかに記載の修飾カチ
オン交換膜で分離されたことを特徴とする電気化学装置。
9.エネルギー貯蔵用及びまたは電力供給用であることを特徴とする請求項8記
載の電気化学装置。
10.電力供給中の前記+ve容器内の電解液が臭化物を含み、電力供給中の前記
−ve容器内の電解液が硫化物を含むことを特徴とする請求項9記載の電気化学装
置。
11.電力供給中の前記+ve容器内の電解液が空気と酸素を含み、電力供給中の
前記−ve容器内の電解液が硫化物を含むことを特徴とする請求項9記載の電気化
学装置。
12.電力供給中の前記+ve容器内の電解液が鉄を含み、電力供給中の前記−ve
容器内の電解液が硫化物を含むことを特徴とする請求項9記載の電気化学装置。
13.前記膜が、0.005から0.018cm(0.002から0.007イ
ンチ)の範囲の厚さを有することを特徴とする請求項8記載の電気化学装置。
14.修飾カチオン交換膜の製造方法であって、
(i)カチオン交換膜を、銀、タングステン、モリブデンの水溶性塩またはそれ
らの水溶性塩混合物の水溶液に接触させ、
(ii)工程(i)からの水溶性塩を不溶性塩に変換することを特徴とする製造
方法。
15.前記膜を、工程(i)に先立って脱水素することを特徴とする請求項14
記載の方法。
16.前記工程(i)からの水に不溶性の塩が、水に不溶性の臭化物、塩化物、
硫化物、または水酸化物塩に変換されることを特徴とする請求項14または15
に記載の方法。
17.前記変換が、工程(i)からの膜を臭化物、塩化物、硫化物、または水酸
化物イオン含有溶液に接触させることによって行われることを特徴とする請求項
16記載の方法。
18.前記水に不溶性の塩が臭化物であり、前記変換が工程(i)からの膜を臭
素ガスに接触させることによって行われることを特徴とする請求項16記載の方
法。
19.前記膜の各側に異なる水に不溶性の塩が形成されることを特徴とする請求
項14から18のいずれかに記載の方法。
20.前記異なる不溶性塩が、工程(i)からの膜を反応容器中に配置し、一方
の面を一の試薬に曝露し、他方の面を他の試薬に曝露することにより、不溶性塩
を析出させることによって形成されることを特徴とする請求項19記載の方法。
21.前記膜の一方の面を臭化物含有溶液に曝露して水に不溶性の臭化物を形成
し、膜の他方の面を硫化物含有溶液に曝露して水に不溶性の硫化物を形成するこ
とを特徴とする請求項20記載の方法。
22.前記膜の一方の面を臭素ガスに曝露して水に不溶性の臭化物を形成し、膜
の他方の面を硫化物含有溶液に曝露して水に不溶性の硫化物を形成することを特
徴とする請求項20記載の方法。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI
C25B 13/08 301 9541−4K C25B 13/08 301
H01M 2/16 9351−4K H01M 2/16 P
10/36 7738−4K 10/36
//(C08F 259/08
212:14)
(81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE,
DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M
C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG
,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN,
TD,TG),AP(KE,MW,SD,SZ,UG),
AM,AT,AU,BB,BG,BR,BY,CA,C
H,CN,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,GB
,GE,HU,IS,JP,KE,KG,KP,KR,
KZ,LK,LR,LT,LU,LV,MD,MG,M
N,MW,MX,NL,NO,NZ,PL,PT,RO
,RU,SD,SE,SG,SI,SK,TJ,TM,
TT,UA,UG,US,UZ,VN
(72)発明者 ダゴスティノ, ヴィンセント エフ.
アメリカ合衆国 ニューヨーク 11746
ディックス ヒルズ ディアナ コート
2
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.電気化学セル用修飾ポリマーカチオン交換膜において、前記膜が、ポリマー マトリクス内に析出した銀塩、タングステン塩、またはモリブデン塩、あるいは それらの混合物であるイオン性塩を有し、前記塩が、使用時に膜のいずれかの側 に接触する電解液に不溶であることを特徴とする膜。 2.前記不溶性の塩が、硫化物、塩化物、臭化物、または水酸化物であることを 特徴とする請求項1記載の膜。 3.ガンマ線照射を介してスチレンをグラフト化し、スルホン酸基またはカルボ ン酸基で機能化されたフルオロカーボンポリマーからなることを特徴とする請求 項1または2記載の膜。 4.スチレンスルホン酸鎖をグラフト化したポリテトラフルオロエチレンからな ることを特徴とする請求項3記載の膜。 5.スチレンスルホン酸鎖をグラフト化したフッ素化エチレン−プロピレンコポ リマーからなることを特徴とする請求項3記載の膜。 6.テトラフルオロエチレンと、スルホン化またはカルボキシル化ビニルエーテ ルとのコポリマーからなることを特徴とする請求項3記載の膜。 7.ポリスチレンスルホン酸からなることを特徴とする請求項1または2記載の 膜。 8.単一のセルまたはセルのアレーからなり、各セルが+ve電極及び電解液を備 えた容器(+ve容器)と、−ve電極及び電解液を備えた容器(−ve容器)とを具 備し、前記+ve容器と−ve容器とが請求項1から7のいずれかに記載の修飾カチ オン交換膜で分離されたことを特徴とする電気化学装置。 9.エネルギー貯蔵用及びまたは電力供給用であることを特徴とする請求項8記 載の電気化学装置。 10.電力供給中の前記+ve容器内の電解液が臭化物を含み、電力供給中の前記 −ve容器内の電解液が硫化物を含むことを特徴とする請求項8または9記載の電 気化学装置。 11.電力供給中の前記+ve容器内の電解液が空気と酸素を含み、電力供給中の 前記−ve容器内の電解液が硫化物を含むことを特徴とする請求項8または9記載 の電気化学装置。 12.電力供給中の前記+ve容器内の電解液が鉄を含み、電力供給中の前記−ve 容器内の電解液が硫化物を含むことを特徴とする請求項8または9記載の電気化 学装置。 13.前記膜が、0.005から0.018cm(0.002から0.007イ ンチ)の範囲の厚さを有することを特徴とする請求項8記載の電気化学装置。 14.修飾カチオン交換膜の製造方法であって、 (i)カチオン交換膜を、銀、タングステン、モリブデンの水溶性塩またはそれ らの水溶性塩混合物の水溶液に接触させ、 (ii)工程(i)からの水溶性塩を不溶性塩に変換することを特徴とする製造 方法。 15.前記膜を、工程(i)に先立って脱水素することを特徴とする請求項14 記載の方法。 16.前記工程(i)からの水に不溶性の塩が、不溶性の臭化物、塩化物、硫化 物、または水酸化物塩に変換されることを特徴とする請求項14または15に記 載の方法。 17.前記変換が、工程(i)からの膜を臭化物、塩化物、硫化物、または水酸 化物イオン含有溶液に接触させることによって行われることを特徴とする請求項 16記載の方法。 18.前記不溶性の塩が臭化物であり、前記変換が工程(i)からの膜を臭素ガ スに接触させることによって行われることを特徴とする請求項16記載の方法。 19.前記膜の各側に異なる不溶性塩が形成されることを特徴とする請求項14 から18のいずれかに記載の方法。 20.前記異なる不溶性塩が、工程(i)からの膜を反応容器中に配置し、一方 の面を一の試薬に曝露し、他方の面を他の試薬に曝露することにより、不溶性塩 を析出させることによって形成されることを特徴とする請求項19記載の方法。 21.前記膜の一方の面を臭化物含有溶液に曝露して不溶性臭化物を形成し、膜 の他方の面を硫化物含有溶液に曝露して不溶性硫化物を形成することを特徴とす る請求項20記載の方法。 22.前記膜の一方の面を臭素ガスに曝露して不溶性臭化物を形成し、膜の他方 の面を硫化物含有溶液に曝露して不溶性硫化物を形成することを特徴とする請求 項20記載の方法。
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