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JPH10335395A - プローブカードの接触位置検出方法 - Google Patents

プローブカードの接触位置検出方法

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Publication number
JPH10335395A
JPH10335395A JP9138632A JP13863297A JPH10335395A JP H10335395 A JPH10335395 A JP H10335395A JP 9138632 A JP9138632 A JP 9138632A JP 13863297 A JP13863297 A JP 13863297A JP H10335395 A JPH10335395 A JP H10335395A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
contact
wafer
stage
pins
set amount
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP9138632A
Other languages
English (en)
Inventor
Toru Abiko
透 安彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Advantest Corp
Original Assignee
Advantest Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Advantest Corp filed Critical Advantest Corp
Priority to JP9138632A priority Critical patent/JPH10335395A/ja
Priority to US09/082,934 priority patent/US6191596B1/en
Priority to TW087108058A priority patent/TW410412B/zh
Priority to KR1019980019078A priority patent/KR19980087379A/ko
Priority to DE19823729A priority patent/DE19823729A1/de
Publication of JPH10335395A publication Critical patent/JPH10335395A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/06794Devices for sensing when probes are in contact, or in position to contact, with measured object
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B7/00Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques
    • G01B7/002Constructional details of contacts for gauges actuating one or more contacts
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2886Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks
    • G01R31/2887Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks involving moving the probe head or the IC under test; docking stations

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  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウェーハとプローブピンの1stタッチ位置
の検出を短い時間で行う。 【解決手段】 先ず、設定量aでステージ5を上昇さ
せ、ウェーハ6と接触しているプローブピン8の数であ
る接触ピン数が一定値以上となると、今度は設定量aで
ステージ5を下降させ、接触ピン数がある一定値以下と
なると、設定量aよりも小さい設定量bでステージ5を
再度上昇させ接触ピン数がある一定値を越えるとその時
のステージ5の位置を1stタッチ位置とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ICのテストを行
う際にプローブピンとウェーハの1stタッチ位置を検
出するプローブカードの接触位置検出方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ICのウェーハ段階での検査を行うため
に、EB(Electoron Beam:電子ビー
ム)を用いてウェーハの検査を行うEBテストシステム
が用いられている。このEBテストシステムでは、半導
体試験装置に接続されたプローブピンを移動させ、ウェ
ーハと最初に接触する位置である1stタッチ位置を検
出し、プローブピンをその位置から一定の距離だけウェ
ーハに押し付け、ウェーハとプローブピンが確実にコン
タクトするようにしている。
【0003】このようなEBテストシステムにおいて、
従来のプローブカードの接触位置検出方法では、半導体
試験装置でウェーハとプローブピンの接触状態を確認し
ながら手動でウェーハを少しづつ移動させることにより
1stタッチ位置の検出を行っていた。
【0004】このような従来のプローブカードの接触位
置検出方法を図3のフローチャートを用いて説明する。
【0005】先ず、半導体試験装置においてコンタクト
テストを行う(ステップ31)、そしてウェーハとプロ
ーブピンが接触していなければ(ステップ32)、手動
によりウェーハを載せたステージを1ピッチ上昇させる
(ステップ33)。そして、再度コンタクトテストを行
い(ステップ31)、ウェーハとプローブピンが接触し
ていなければステップ33とステップ31の動作を繰り
返すが、ウェーハとプローブピンが接触していれは処理
を終了する(ステップ32)。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のプロー
ブカードの接触位置検出方法では、ウェーハとプローブ
ピンの1stタッチ位置の検出を手動で行っているた
め、検出するために要する時間が長いという問題点があ
った。
【0007】本発明の目的は、ウェーハとプローブピン
の1stタッチ位置の検出を短い時間で行うことのでき
るプローブカードの接触位置検出方法を提供することで
ある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のプローブカードの接触位置検出方法は、ウ
ェーハと接触しているプローブピンの数である接触ピン
数が予め定められた一定の数以上であることが検出され
るまで第1の設定量で前記ウェーハが載せられたステー
ジを上昇させ、前記接触ピン数が予め定められた一定の
数以上であることが検出されると、前記接触ピン数が一
定の数以下となるまで前記第1の設定量で前記ステージ
を下降させ、前記接触ピン数が一定の数以下であること
が検出されると、前記接触ピン数が一定の数以上となる
まで前記第1の設定量よりも小さい第2の設定量で前記
ステージを上昇させ、前記接触ピン数が一定の数以上で
あることが検出されると、その時の前記ステージの位置
を1stタッチ位置とする。
【0009】本発明は、第1の設定量でステージを上昇
させ、ウェーハと接触しているプローブピンの数が予め
定められたある一定値以上となると、第1の設定量でス
テージを下降させ、接触ピン数がある一定値以下となる
と、今度は、第1の設定量よりも小さい第2の設定量で
ステージを再度上昇させ接触ピン数がある一定値を越え
ると、その時のステージの位置を1stタッチ位置とす
るようにしたものである。
【0010】したがって、ステージの移動を全て大きな
第1の設定量で行う場合よりも正確な1stタッチ位置
の検出をすることができ、ステージの移動を全て小さな
第2の設定量で行った場合に比べてより短い時間で位置
検出を行うことができるので、ウェーハとプローブピン
の1stタッチ位置を自動で検出することができるとと
もに、手動で位置検出を行うよりも位置検出の時間を短
くすることができる。
【0011】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態について
図面を参照して詳細に説明する。
【0012】図1は本発明の一実施形態のプローブカー
ドの接触位置検出方法を説明するためのEBテストシス
テムの構成図、図2は本発明の一実施形態のプローブカ
ードの接触位置検出方法を示したフローチャートであ
る。
【0013】このEBテストシステムは、EB用ウェー
ハプローバ1と、ポゴピン7によりEB用ウェーハプロ
ーバ1と接続され、プローブピン8のコンタクトテスト
を行う半導体試験装置2と、ウェーハプローバコントロ
ールユニット3とから構成されている。
【0014】EB用ウェーハプローバ1は、ウェーハプ
ローバコントロール信号101により制御されて上下に
移動するステージ5と、ウェーハ6と接触してポゴピン
7からの信号をウェーハ6に伝達するプローブピン8
と、プローブピン8が設けられているプローブカード4
とから構成されている。
【0015】また、ウェーハプローバコントロールユニ
ット3は、半導体試験装置制御信号102を介して半導
体試験装置2から移動要求が伝達されるとウェーハプロ
ーバコントロール信号101によりステージ5を上下に
移動させ、移動が終了すると移動終了通知を半導体試験
装置制御信号102により半導体試験装置2に伝達す
る。ここで、1度のウェーハプローバコントロール信号
101によりステージ5を上下させる距離である設定量
は任意に設定することができるものであり、設定量aは
設定量bより大きいものとする。
【0016】半導体試験装置2は、半導体試験装置制御
信号102を介してウェーハプローバコントロールユニ
ット3から動作開始の指示が伝達されるとプローブカー
ド4に対してコンタクトテストを行い、移動終了通知が
伝達されるとクリア通知をウェーハプローバコントロー
ルユニット3に伝達する。
【0017】次に、本実施形態の動作について図1およ
び図2を参照して説明する。
【0018】先ず、ウェーハプローバコントロールユニ
ット3は、半導体試験装置2に半導体試験装置制御信号
102を介して動作開始の指示を伝達する。半導体試験
装置2では、その動作開始の指示が伝達されるとポゴピ
ン7を通してプローブカード4に対してコンタクトテス
トを行う(ステップ21)。そして、ウェーハ6と接触
しているプローブピン8の数が予め定められた設定数以
上でない場合(ステップ22)、半導体試験装置2は半
導体試験装置制御信号102を介してウェーハプローバ
コントロールユニット3にステージ移動要求を伝達す
る。ウェーハプローバコントロールユニット3では、そ
の移動要求を受けてウェーハプローバコントロール信号
101によりステージ5を設定量aだけ上昇させる(ス
テップ23)。そして、ウェーハプローバコントロール
ユニット3はステージ5の上昇が終了すると移動終了通
知を半導体試験装置2に伝達する。半導体試験装置2で
は移動終了通知を受けてクリア通知をウェーハプローバ
コントロールユニット3に伝達する。ウェーハプローバ
コントロールユニット3は、クリア通知を受けて保持し
ているデータをクリアし半導体試験装置2に動作開始の
指示を伝達する。そして、半導体試験装置2は、その動
作開始の指示が伝達されるとポゴピン7を通してプロー
ブカード4に対してコンタクトテストを行う(ステップ
21)。
【0019】上記のステップ21〜ステップ23の動作
を、ステップ22で設定数以上の接触ピン数が検出され
るまで繰り返し続ける。
【0020】そして、ステップ22で設定数以上の接触
ピン数が検出されると、半導体試験装置2は、ステージ
下降要求をウェーハプローバコントロールユニット3に
伝達する。ウェーハプローバコントロールユニット3で
は、ステージ下降要求を受けて設定量aだけステージ5
を下降させた後に、半導体試験装置2に移動終了通知を
伝達する。半導体試験装置2では移動終了通知を受けて
クリア通知をウェーハプローバコントロールユニット3
に伝達する。ウェーハプローバコントロールユニット3
は、クリア通知を受けて保持しているデータをクリアし
半導体試験装置2に動作開始の指示を伝達する。そし
て、半導体試験装置2は、その動作開始の指示が伝達さ
れるとポゴピン7を通してプローブカード4に対してコ
ンタクトテストを行う(ステップ21)。
【0021】上記のステップ24〜ステップ26の動作
を、ステップ26で接触ピン数が設定数以下であると検
出されるまで繰り返し続ける。
【0022】そして、ステップ26で接触ピン数が設定
数以下であることが検出されると、半導体試験装置2
は、クリア通知をウェーハプローバコントロールユニッ
ト3に伝達する。ウェーハプローバコントロールユニッ
ト3は、クリア通知を受けて保持しているデータをクリ
アし半導体試験装置2に動作開始の指示を伝達する。そ
して、半導体試験装置2は、その動作開始の指示が伝達
されるとポゴピン7を通してプローブカード4に対して
コンタクトテストを行う(ステップ27)。そして、接
触ピン数が設定数以上でなければ、ステージ5を設定量
aより小さい設定量bだけ上昇させる(ステップ2
9)。
【0023】上記のステップ27〜ステップ29の動作
を、ステップ28で設定数以上の接触ピン数が検出され
るまで繰り返し続ける。
【0024】そして、ステップ28で設定数以上の接触
ピン数が検出されると、半導体試験装置2は終了通知を
ウェーハプローバコントロールユニット3に伝達する。
そして、ウェーハプローバコントロールユニット3で
は、終了通知を受けて動作を終了し、その時のステージ
5の位置を1stタッチ位置とする。
【0025】本実施形態では、ステージ5の移動を全て
設定量aで行う場合よりも正確な1stタッチ位置の検
出をすることができるとともに、ステージ5の移動を全
て設定量bで行った場合に比べてより短い時間で位置検
出を行うことができる。
【0026】この結果、ウェーハ5とプローブピン8の
1stタッチ位置の検出をウェーハプローバコントロー
ルユニット3を用いて自動的に行うことができるため、
位置検出のための時間を従来より短くすることができ
る。
【0027】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、ウェー
ハとプローブピンの1stタッチ位置を自動的に検出す
るための時間を短くすることができるという効果を有す
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態のプローブカードの接触位
置検出方法を説明するためのEBテストシステムの構成
図である。
【図2】本発明の一実施形態のプローブカードの接触位
置検出方法を示したフローチャートである。
【図3】従来のプローブカードの接触位置検出方法を示
したフローチャートである。
【符号の説明】 1 EB用ウェーハプローバ 2 半導体試験装置 3 ウェーハプローバコントロールユニット 4 プローブカード 5 ステージ 6 ウェーハ 7 ポゴピン 8 プローブピン 21〜29 ステップ 31〜33 ステップ 101 ウェーハプローバコントロール信号 102 半導体試験装置制御信号

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ウェーハと接触しているプローブピン
    の数である接触ピン数が予め定められた一定の数以上で
    あることが検出されるまで第1の設定量で前記ウェーハ
    が載せられたステージを上昇させ、 前記接触ピン数が予め定められた一定の数以上であるこ
    とが検出されると、前記接触ピン数が一定の数以下とな
    るまで前記第1の設定量で前記ステージを下降させ、 前記接触ピン数が一定の数以下であることが検出される
    と、前記接触ピン数が一定の数以上となるまで前記第1
    の設定量よりも小さい第2の設定量で前記ステージを上
    昇させ、 前記接触ピン数が一定の数以上であることが検出される
    と、その時の前記ステージの位置を1stタッチ位置と
    するプローブカードの接触位置検出方法。
JP9138632A 1997-05-28 1997-05-28 プローブカードの接触位置検出方法 Withdrawn JPH10335395A (ja)

Priority Applications (5)

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JP9138632A JPH10335395A (ja) 1997-05-28 1997-05-28 プローブカードの接触位置検出方法
US09/082,934 US6191596B1 (en) 1997-05-28 1998-05-22 Method for detecting a contact position between an object to be measured and measuring pins
TW087108058A TW410412B (en) 1997-05-28 1998-05-25 Method for detecting a contact position between an object to be measured and measuring pins
KR1019980019078A KR19980087379A (ko) 1997-05-28 1998-05-26 측정될 대상물과 측정 핀 사이의 접촉위치를 검출하는 방법 및 이 방법을 사용하는 반도체 테스트 시스템
DE19823729A DE19823729A1 (de) 1997-05-28 1998-05-27 Verfahren zum Ermitteln einer Kontaktposition zwischen einem zu messendem Gegenstand und Meßstiften

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104748658A (zh) * 2013-12-31 2015-07-01 上海华虹宏力半导体制造有限公司 探针卡针尖端损耗量的自动测量方法及仪器

Families Citing this family (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5345170A (en) 1992-06-11 1994-09-06 Cascade Microtech, Inc. Wafer probe station having integrated guarding, Kelvin connection and shielding systems
US6380751B2 (en) 1992-06-11 2002-04-30 Cascade Microtech, Inc. Wafer probe station having environment control enclosure
US5561377A (en) * 1995-04-14 1996-10-01 Cascade Microtech, Inc. System for evaluating probing networks
US6232789B1 (en) * 1997-05-28 2001-05-15 Cascade Microtech, Inc. Probe holder for low current measurements
US6429670B2 (en) * 1995-07-18 2002-08-06 Murata Manufacturing Co., Ltd. Method of examining posture of an electronic part
US5914613A (en) 1996-08-08 1999-06-22 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system with local contact scrub
US6002263A (en) 1997-06-06 1999-12-14 Cascade Microtech, Inc. Probe station having inner and outer shielding
US6256882B1 (en) 1998-07-14 2001-07-10 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system
US6578264B1 (en) 1999-06-04 2003-06-17 Cascade Microtech, Inc. Method for constructing a membrane probe using a depression
US6445202B1 (en) 1999-06-30 2002-09-03 Cascade Microtech, Inc. Probe station thermal chuck with shielding for capacitive current
US6838890B2 (en) 2000-02-25 2005-01-04 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system
US6965226B2 (en) 2000-09-05 2005-11-15 Cascade Microtech, Inc. Chuck for holding a device under test
US6914423B2 (en) * 2000-09-05 2005-07-05 Cascade Microtech, Inc. Probe station
DE10143173A1 (de) * 2000-12-04 2002-06-06 Cascade Microtech Inc Wafersonde
US6970634B2 (en) * 2001-05-04 2005-11-29 Cascade Microtech, Inc. Fiber optic wafer probe
AU2002327490A1 (en) 2001-08-21 2003-06-30 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system
US6777964B2 (en) * 2002-01-25 2004-08-17 Cascade Microtech, Inc. Probe station
US7352258B2 (en) * 2002-03-28 2008-04-01 Cascade Microtech, Inc. Waveguide adapter for probe assembly having a detachable bias tee
EP1509776A4 (en) 2002-05-23 2010-08-18 Cascade Microtech Inc PROBE TO TEST ANY TESTING EQUIPMENT
US6847219B1 (en) 2002-11-08 2005-01-25 Cascade Microtech, Inc. Probe station with low noise characteristics
US6724205B1 (en) 2002-11-13 2004-04-20 Cascade Microtech, Inc. Probe for combined signals
US7250779B2 (en) 2002-11-25 2007-07-31 Cascade Microtech, Inc. Probe station with low inductance path
US6861856B2 (en) 2002-12-13 2005-03-01 Cascade Microtech, Inc. Guarded tub enclosure
US7221172B2 (en) 2003-05-06 2007-05-22 Cascade Microtech, Inc. Switched suspended conductor and connection
US7057404B2 (en) 2003-05-23 2006-06-06 Sharp Laboratories Of America, Inc. Shielded probe for testing a device under test
US7492172B2 (en) 2003-05-23 2009-02-17 Cascade Microtech, Inc. Chuck for holding a device under test
US7250626B2 (en) 2003-10-22 2007-07-31 Cascade Microtech, Inc. Probe testing structure
WO2005065258A2 (en) 2003-12-24 2005-07-21 Cascade Microtech, Inc. Active wafer probe
US7187188B2 (en) 2003-12-24 2007-03-06 Cascade Microtech, Inc. Chuck with integrated wafer support
DE202005021434U1 (de) * 2004-06-07 2008-03-20 Cascade Microtech, Inc., Beaverton Thermooptische Einspannvorrichtung
US7330041B2 (en) 2004-06-14 2008-02-12 Cascade Microtech, Inc. Localizing a temperature of a device for testing
KR101157449B1 (ko) 2004-07-07 2012-06-22 캐스케이드 마이크로테크 인코포레이티드 멤브레인 서스펜디드 프로브를 구비한 프로브 헤드
EP1789812A2 (en) 2004-09-13 2007-05-30 Cascade Microtech, Inc. Double sided probing structures
US7656172B2 (en) 2005-01-31 2010-02-02 Cascade Microtech, Inc. System for testing semiconductors
US7535247B2 (en) 2005-01-31 2009-05-19 Cascade Microtech, Inc. Interface for testing semiconductors
US7449899B2 (en) * 2005-06-08 2008-11-11 Cascade Microtech, Inc. Probe for high frequency signals
JP5080459B2 (ja) * 2005-06-13 2012-11-21 カスケード マイクロテック インコーポレイテッド 広帯域能動/受動差動信号プローブ
US7609077B2 (en) 2006-06-09 2009-10-27 Cascade Microtech, Inc. Differential signal probe with integral balun
US7443186B2 (en) 2006-06-12 2008-10-28 Cascade Microtech, Inc. On-wafer test structures for differential signals
US7723999B2 (en) 2006-06-12 2010-05-25 Cascade Microtech, Inc. Calibration structures for differential signal probing
US7403028B2 (en) * 2006-06-12 2008-07-22 Cascade Microtech, Inc. Test structure and probe for differential signals
US7764072B2 (en) 2006-06-12 2010-07-27 Cascade Microtech, Inc. Differential signal probing system
US7876114B2 (en) 2007-08-08 2011-01-25 Cascade Microtech, Inc. Differential waveguide probe
KR101040285B1 (ko) * 2008-08-04 2011-06-10 주식회사 쎄믹스 웨이퍼 프로버의 z축에 대한 외부압력 측정 장치
US7888957B2 (en) 2008-10-06 2011-02-15 Cascade Microtech, Inc. Probing apparatus with impedance optimized interface
WO2010059247A2 (en) 2008-11-21 2010-05-27 Cascade Microtech, Inc. Replaceable coupon for a probing apparatus
US8319503B2 (en) 2008-11-24 2012-11-27 Cascade Microtech, Inc. Test apparatus for measuring a characteristic of a device under test
JP6267928B2 (ja) * 2013-10-29 2018-01-24 東京エレクトロン株式会社 ウエハ検査装置の整備用台車及びウエハ検査装置の整備方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4201939A (en) * 1978-06-26 1980-05-06 Texas Instruments Incorporated Multiprobe contact monitor and control system
US4780836A (en) * 1985-08-14 1988-10-25 Kabushiki Kaisha Toshiba Method of testing semiconductor devices using a probe card
US4864227A (en) * 1987-02-27 1989-09-05 Canon Kabushiki Kaisha Wafer prober
KR0138754B1 (ko) * 1990-08-06 1998-06-15 이노우에 아키라 전기회로측정용 탐침의 접촉검지장치 및 이 접촉검지장치를 이용한 전기회로 측정장치
JP3208734B2 (ja) * 1990-08-20 2001-09-17 東京エレクトロン株式会社 プローブ装置
US5777485A (en) * 1995-03-20 1998-07-07 Tokyo Electron Limited Probe method and apparatus with improved probe contact

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104748658A (zh) * 2013-12-31 2015-07-01 上海华虹宏力半导体制造有限公司 探针卡针尖端损耗量的自动测量方法及仪器

Also Published As

Publication number Publication date
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