JPH10330696A - 多層配線板用接着フィルム - Google Patents
多層配線板用接着フィルムInfo
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- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 title claims abstract description 83
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 47
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 47
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 29
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims abstract description 25
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 claims abstract description 21
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims abstract description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 20
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 17
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 11
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 61
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 61
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 32
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 29
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 28
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 20
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims description 18
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 17
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 11
- 229910001410 inorganic ion Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 11
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 10
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 10
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 claims description 10
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 claims description 9
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 9
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims description 8
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 claims description 7
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 claims description 6
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 5
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 claims description 5
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 claims description 5
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 5
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 17
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 17
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000010408 film Substances 0.000 description 14
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 14
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 12
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- -1 antimony pentoxide Chemical class 0.000 description 9
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 9
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 7
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N salicylaldehyde Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=O SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 5
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 5
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 5
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 4
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- BVYPJEBKDLFIDL-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylimidazol-1-yl)propanenitrile Chemical compound N#CCCN1C=CN=C1C1=CC=CC=C1 BVYPJEBKDLFIDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropylurea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(N)=O LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 3
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Chemical compound O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 2
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 2
- PWZFXELTLAQOKC-UHFFFAOYSA-A dialuminum;hexamagnesium;carbonate;hexadecahydroxide;tetrahydrate Chemical compound O.O.O.O.[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Al+3].[Al+3].[O-]C([O-])=O PWZFXELTLAQOKC-UHFFFAOYSA-A 0.000 description 2
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical class O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 229960001545 hydrotalcite Drugs 0.000 description 2
- 229910001701 hydrotalcite Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)sulfanyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1SC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-[1-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butyl]-5-methylphenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=C(O)C=C(C)C=1C(CCC)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWKSKIMOESPYIA-BYPYZUCNSA-N L-N-acetyl-Cysteine Chemical compound CC(=O)N[C@@H](CS)C(O)=O PWKSKIMOESPYIA-BYPYZUCNSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- SNAAJJQQZSMGQD-UHFFFAOYSA-N aluminum magnesium Chemical compound [Mg].[Al] SNAAJJQQZSMGQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJMOMXZKOWKUTA-UHFFFAOYSA-N aluminum;borate Chemical compound [Al+3].[O-]B([O-])[O-] OJMOMXZKOWKUTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEEDYJQEMCKDDX-UHFFFAOYSA-N antimony bismuth Chemical compound [Sb].[Bi] PEEDYJQEMCKDDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- FSBVERYRVPGNGG-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[[oxido(oxo)silyl]oxy]silane hydrate Chemical compound O.[Mg+2].[Mg+2].[O-][Si](=O)O[Si]([O-])([O-])O[Si]([O-])=O FSBVERYRVPGNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- VQYKQHDWCVUGBB-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynezirconium Chemical compound [Zr]#P VQYKQHDWCVUGBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000009849 vacuum degassing Methods 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
- 150000003755 zirconium compounds Chemical class 0.000 description 1
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- Adhesive Tapes (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
ビティ部への樹脂浸出量が少なく、安定した多層配線板
用接着フィルムを提供する。 【解決手段】 少なくとも2枚以上の基板を多層化積層
して作製する多層配線板に用いる接着フィルムにおい
て、加熱積層プレス時の最低粘度が3×104〜1×1
05Pa・sの範囲である多層配線板用接着フィルム。
加熱積層プレス時の昇温速度が5〜10℃/分で、また
前記昇温速度と保持温度170〜180℃で前記最低粘
度範囲の多層配線板用接着フィルム。このような粘度特
性は、特定の共重合体であるエポキシ基含有アクリルゴ
ムを必須成分として含有する多層配線板用接着フィルム
で得られる。
Description
フィルムに関する。
板に対する配線の高密度化の要求はますます厳しくなっ
ている。特にPGAやBGA等の半導体パッケージに用
いられる多層配線板では出力信号線数の増大に伴い、半
導体素子との接合に用いられるワイヤボンディング用パ
ッド数が増大している。そのため、多段のキャビティを
形成するなど、複雑な形状加工が必要となってきてい
る。
パッケージ用配線板の多層化用接着材料としては、ガラ
ス繊維を補強材とするプリプレグや、ポリイミド樹脂系
接着剤、エポキシ樹脂系接着剤、ゴム−エポキシ樹脂系
接着剤などが知られている。
どの複雑な形状加工を必要とする配線板に用いた場合、
キャビティ部を設ける加工の際に発生した樹脂粉が多層
化積層時にワイヤボンディング用パッドに付着してワイ
ヤボンディング工程での接続不良を起こしやすい。さら
に、積層時の加熱加圧工程での樹脂流動性の制御が困難
である。樹脂流動性が高いと、キャビティ部への浸出量
が増大し、ワイヤボンデイング用パッドを樹脂が被覆す
ることになり接続不良が増加する。また、樹脂流動量が
少ないとキャビティ部への浸出量が少なく良好となる
が、内層回路の銅箔パターン側面に空隙が発生しやすく
なり、絶縁信頼性が低下する。このように、プリプレグ
を用いると歩留まりが低く生産効率に劣る欠点があっ
た。このような加工性等の問題を解決するために、近
年、層間接着剤として、発塵がなく流動量制御が容易
な、織布状もしくは不織布状の補強材を含まない、接着
フィルムの使用の要望が多くなってきた。
作製する場合に、どのような接着フィルムを用いてもよ
いというわけにはいかない。接着フィルムは、プリプレ
グよりも高分子量樹脂が多いために、積層時の加熱加圧
工程で樹脂流動量の制御、すなわち、キャビティ部への
樹脂浸出量の抑制と内層回路の銅箔パターン側面の空隙
の発生を抑制することは比較的容易となった。しかし、
工業製品として安定した歩留りを確保するためには、接
着フィルムの物性と成形性との関係を把握する必要があ
り、製造設備に対応した接着フィルムおよびその物性管
理手段が求められていた。
の成形性、特に加熱プレス積層時の加熱加圧工程でキャ
ビティ部への樹脂浸出量のバラツキがなく安定した多層
化用接着材料はなかった。本発明は、成形性、特に積層
時の加熱加圧工程でのキャビティ部への樹脂浸出量の安
定した多層化用接着材料を提供するものである。
枚以上の基板を多層化積層して作製する多層配線板に用
いる接着フィルムにおいて、加熱積層プレス時の最低粘
度が3×104〜1×105Pa・sの範囲であることを
特徴とする多層配線板用接着フィルムである。また、加
熱積層プレス時の昇温速度が5〜10℃/分であり、そ
の際の最低粘度が3×104〜1×105Pa・sの範囲
であることを特徴とする多層配線板用接着フィルムであ
る。さらに、加熱積層プレス時の昇温速度が5〜10℃
/分で、保持温度170〜180℃であり、その際の最
低粘度が3×104〜1×105Pa・sの範囲であるこ
とを特徴とする多層配線板用接着フィルムである。
フィルムは、アクリロニトリル18〜40重量%、官能
基モノマーとしてグリシジル(メタ)アクリレート2〜
6重量%及び残部がエチル(メタ)アクリレート若しく
はブチル(メタ)アクリレートまたは両者の混合物から
得られる共重合体で、Tg(ガラス転移点)が−10℃
以上でかつ重量平均分子量が10万以上であるエポキシ
基含有アクリルゴムを必須成分として含有すると好まし
い。 そして、(a)アクリロニトリル18〜40重量
%、官能基モノマーとしてグリシジル(メタ)アクリレ
ート2〜6重量%及び残部がエチル(メタ)アクリレー
ト若しくはブチル(メタ)アクリレートまたは両者の混
合物から得られる共重合体で、Tg(ガラス転移点)が
−10℃以上でかつ重量平均分子量が10万以上である
エポキシ基含有アクリルゴム30〜100重量部、
(b)エポキシ樹脂及びその硬化剤を合わせて50〜7
0重量部、(c)エポキシ樹脂と相溶性でありかつ重量
平均分子量3万以上の高分子量樹脂10〜60重量部及
び(d)硬化促進剤0.1〜5重量部を含む多層配線板
用接着フィルムであると好ましいものである。 そし
て、さらに(a)アクリロニトリル18〜40重量%、
官能基モノマーとしてグリシジル(メタ)アクリレート
2〜6重量%及び残部がエチル(メタ)アクリレート若
しくはブチル(メタ)アクリレートまたは両者の混合物
から得られる共重合体で、Tg(ガラス転移点)が−1
0℃以上でかつ重量平均分子量が10万以上であるエポ
キシ基含有アクリルゴム30〜100重量部、(b)エ
ポキシ樹脂及びその硬化剤を合わせて50〜70重量
部、(c)エポキシ樹脂と相溶性でありかつ重量平均分
子量3万以上の高分子量樹脂10〜60重量部、(d)
硬化促進剤0.1〜5重量部及び(e)無機フィラーを
全接着剤組成物の10〜60体積%含む多層配線板用接
着フィルムであると好ましいものである。そして、本発
明は、上記のような多層配線板用接着フィルムに、カッ
プリング剤0.5〜10重量部及び無機イオン吸着剤
0.5〜10重量部、または、カップリング剤0.5〜
10重量部及び銅害防止剤0.5〜10重量部を含むと
好ましいものである。
ィルムを用いた多層配線板の例を図1に示す。図1は、
本発明の多層配線板用接着フィルム1を用いた例であ
り、予め回路加工して接続端子5、ワイヤボンディング
用パッド4を形成した基板2、2にキャビティ3を形成
し、多層配線板用接着フィルム1を介して多層化して得
られた半導体パッケージ用多層配線板である。本発明
は、少なくとも2枚以上の基板を多層化積層して作製す
る多層配線板に用いる接着フィルムにおいて、加熱積層
プレス時の最低粘度が3×104〜1×105Pa・sの
範囲であることを特徴とする多層配線板用接着フィルム
である。
制御するためには、流動性の尺度を示すパラメータの制
御が必要である。発明者らはそのパラメータとして粘度
に注目した。すなわち、粘度が高い接着剤は流動量が小
さく、粘度が低い接着剤は流動量が大きい。この粘度
は、接着剤組成、硬化状態、温度によって決まるもので
ある。接着剤組成の面では、高分子鎖をもつ樹脂が多く
添加されているほど粘度は高くなる。これは、樹脂の分
子運動が制限されるためである。また、フィラーなどの
充填材を添加する場合でも、フィラーの形状により、流
動粘度が異なることが半導体パッケージ用封止材では公
知となっている。硬化状態については、硬化反応が進む
ほど、粘度は高くなる。これは硬化が進むにつれて分子
鎖が結合していくために分子運動が制限されていくため
である。また、硬化状態が同じ場合には、高い温度の方
が粘度は低くなる。これは高い温度の方が分子運動が活
発となるためである。
態のものが積層に用いられる。この半硬化状態のものは
加熱すると最初粘度が低下し、硬化が進むにつれて上昇
する特性を示す。その例を図2に示す。
低下する。これは、その接着剤の硬化反応による粘度上
昇よりも、温度上昇による粘度低下が支配的となるため
である。最低粘度の低下は、流動量の増大を招く。した
がって、温度上昇による粘度低下と接着剤の硬化反応に
よる粘度上昇のバランスをとって流動量を制御するため
に、温度勾配を設定して加熱積層することが望ましい。
温度勾配を設ける場合、積層プレス設備の能力、積層す
る際に用いる緩衝材(紙やプラスチックフィルムなど)
の影響、積層時間を考慮すると実測で5〜10℃/分が
実用的である。また、汎用配線板に用いられているガラ
スエポキシ材料を用いる場合、エポキシ樹脂の反応温度
との関係から170〜180℃で積層プレスするのが一
般的であり、汎用配線板の積層プレス設備の能力もこれ
に準じているものが多い。
の検討により、樹脂流動量の制御を図ってきているが、
樹脂流動量と相関性のある接着フィルム特性の定量化と
適正範囲の把握、そしてそれを満足する接着フィルムの
開発が課題であった。
る接着フィルム特性について鋭意検討を重ね、樹脂流動
量と粘度、特に最低粘度が相関性のあることを明らかに
した。すなわち、最低粘度が低すぎると流動性が良いた
めにキャビティ部分への浸出量が大きくなってしまう。
また、最低粘度が高すぎると流動性が悪く、信号回路を
形成している銅箔パターン側面に気泡が残ってしまい、
絶縁信頼性が低下する。発明者らは、浸出量が0〜30
0μmかつ35μm銅箔回路の充填性に問題ないことを
満足するためには最低粘度が3×104〜1×105Pa
・sの範囲であることが望ましいことを明らかにした。
最低粘度が3×104Pa・s未満であると樹脂流動量
(浸出量)が300μmを超えてしまい、1×105P
a・sを超えると35μm銅箔パターン側面に気泡が発
生することがわかった。
しては、アクリロニトリル18〜40重量%、官能基モ
ノマーとしてグリシジル(メタ)アクリレート2〜6重
量%及び残部がエチル(メタ)アクリレート若しくはブ
チル(メタ)アクリレートまたは両者の混合物から得ら
れる共重合体で、Tg(ガラス転移点)が−10℃以上
でかつ重量平均分子量が10万以上であるエポキシ基含
有アクリルゴムを必須成分として含み、この(a)エポ
キシ基含有アクリルゴム30〜100重量部、(b)エ
ポキシ樹脂及びその硬化剤を合わせて50〜70重量
部、(c)エポキシ樹脂と相溶性でありかつ重量平均分
子量3万以上の高分子量樹脂10〜60重量部及び
(d)硬化促進剤0.1〜5重量部を配合した接着剤を
用いることが好ましい。また、上記(a)〜(d)に加
えて(e)無機フィラーを全接着剤組成物の10〜60
体積%含むことが好ましい。さらに、本発明では、上記
の(a)〜(d)に(f)エポキシ樹脂と非相溶性であ
る重量平均分子量3万以上の高分子量樹脂を0〜50重
量部配合すると好ましい。
を、動的粘弾性測定装置で測定した時に得られた値であ
る。
ル18〜40重量%、官能基モノマーとしてグリシジル
(メタ)アクリレート2〜6重量%及び残部がエチル
(メタ)アクリレート若しくはブチル(メタ)アクリレ
ートまたは両者の混合物から得られる共重合体で、Tg
(ガラス転移点)が−10℃以上でかつ重量平均分子量
が10万以上であるエポキシ基含有アクリルゴムは、市
販品を使用することができ例えば、帝国化学産業株式会
社から市販されている商品名HTR−860P−3を使
用することができる。官能基モノマーが、カルボン酸タ
イプのアクリル酸や、水酸基タイプのヒドロキシメチル
(メタ)アクリレートを用いると、架橋反応が進行しや
すく、ワニス状態でのゲル化、Bステージ状態での硬化
度の上昇による接着力の低下等の問題があるため好まし
くない。また、官能基モノマーとして用いるグリシジル
(メタ)アクリレートの量は、2〜6重量%の共重合体
比とする。接着力を得るため、2重量%以上とし、ゴム
のゲル化を防止するために6重量以下とされる。残部は
エチル(メタ)アクリレート若しくはブチル(メタ)ア
クリレートまたは両者の混合物を用いるが、混合比率
は、共重合体のTgを考慮して決定する。Tgが−10
℃未満であるとBステージ状態での接着フィルムのタッ
ク性が大きくなり取扱性が悪化するので,−10℃以上
とされる。重合方法はパール重合、乳化重合等が挙げら
れ、これらにより得ることができる。
ニトリル量は18〜40重量%であることが必要であ
る。各種後工程において接着剤が溶剤におかされてしま
うという耐溶剤性から18重量%以上とされ、また、他
成分との相溶性や重合の困難性から40重量%以下とさ
れる。エポキシ基含有アクリルゴムの重量平均分子量は
10万以上とされ、好ましくは80万以上とされる。こ
の範囲では、シート状、フィルム状での強度や可とう性
の低下やタック性の増大がなく、フロー性が大きくなり
すぎてしまい浸出量の制御が困難になるのを抑制できる
からである。また、分子量が大きくなるにつれフロー性
が小さく、回路充填性が低下してくるので、エポキシ基
含有アクリルゴムの重量平均分子量は200万以下であ
ることが望ましい。
シ樹脂は、硬化して接着作用を呈するものであればよ
く、二官能以上で、分子量が5,000未満、好ましく
は3,000未満のエポキシ樹脂が使用される。特に分
子量が500以下のビスフェノールA型またはF型液状
樹脂を用いると、積層時の流動性を向上することができ
て好ましい。
またはF型液状樹脂は、油化シェルエポキシ株式会社か
ら、エピコート807、エピコート827、エピコート
828という商品名で市販されている。また、ダウケミ
カル日本株式会社からは、D.E.R.330、D.
E.R.331、D.E.R.361という商品名で市
販されている。さらに、東都化成株式会社から、YD8
125、YDF170という商品名で市販されている。
また、難燃化をはかることを目的に、Br化エポキシ樹
脂、非ハロゲン系の難燃性エポキシ樹脂等を使用しても
よい。このようなものとして例えば住友化学工業株式会
社からESB400という商品名で市販されている。
キシ樹脂を加えてもよい。多官能エポキシ樹脂として
は、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹
脂、サリチルアルデヒドノボラック型エポキシ樹脂が例
示される。
日本化薬株式会社から、EPPN−201という商品名
で市販されている。また、クレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂は住友化学工業株式会社から、EOCN101
2、EOCN1025、EOCN1027という商品名
で市販されている。さらに、大日本インキ化学工業株式
会社からN−673−80Mという商品名で市販されて
いる。また、ナフタレン型エポキシ樹脂は大日本インキ
化学工業株式会社からHP−4032という商品名で市
販されている。また、サリチルアルデヒドノボラック型
エポキシ樹脂は日本化薬株式会社からEPPN502と
いう商品名で市販されている。
酸基を1分子中に2個以上有する化合物である、フェノ
ールノボラック樹脂、ビスフェノールノボラック樹脂、
クレゾールノボラック樹脂、サリチルアルデヒドノボラ
ック樹脂を用いるのが好ましい。吸湿時の耐電食性に優
れるからである。
業株式会社から、フェノライトLF2882、バ−カム
TD−2090、バ−カムTD−2149、フェノライ
トVH4150、フェノライトVH4170という商品
名で市販されている。
性でありかつ重量平均分子量が3万以上の高分子量樹脂
としては、フェノキシ樹脂、平均分子量が3万〜8万の
高分子量エポキシ樹脂、平均分子量が8万より大きい超
高分子量エポキシ樹脂、極性の大きい官能基含有反応性
ゴムなどが挙げられる。極性の大きい官能基含有反応性
ゴムは、アクリロニトリル−ブタジエンゴムやアクリル
ゴムに、カルボキシル基のような極性が大きい官能基を
付加したゴムであり、例えばカルボキシル基含有アクリ
ロニトリルブタジエンゴムなどである。
ら、フェノトートYP−40、フェノトートYP−50
という商品名で市販されている。高分子量エポキシ樹脂
は、分子量が3〜8万の高分子量エポキシ樹脂、さらに
は、分子量が8万を越える超高分子量エポキシ樹脂があ
り、いずれも日立化成工業株式会社でHMEという商品
名で市販している。カルボキシル基含有アクリロニトリ
ル−ブタジエンゴムは、日本合成ゴムから、PNR−1
という商品名で、また、日本ゼオン株式会社から、ニポ
ール1072という商品名で市販されている。カルボキ
シル基含有アクリルゴムは、帝国化学産業株式会社か
ら、HTR−860Pという商品名で市販されている。
キシ樹脂と非相溶性でありかつ重量平均分子量が3万以
上の高分子量樹脂としては、未変性アクリルゴム、極性
の小さい官能基含有ゴムなどがある。極性の小さい官能
基含有反応性ゴムは、アクリロニトリル−ブタジエンゴ
ムやアクリルゴムにエポキシのような極性が小さい官能
基を付加したゴムである。
量樹脂および(f)エポキシ樹脂と非相溶性である高分
子量樹脂の平均分子量は、いずれも3万以上である必要
がある。エポキシ樹脂と相溶性の分子とエポキシ樹脂と
非相溶性の分子とが互いに絡み合うことにより、相分離
を防ぐためである。
子量樹脂の配合量は10〜60重量部とする。エポキシ
樹脂と相溶性のよい高分子量樹脂が10重量部未満であ
ると、エポキシ樹脂を主成分とする相(以下、エポキシ
樹脂相という)の可とう性が不足し取扱性が低下する。
60重量部を超えると、柔軟相が多くなり、エポキシ樹
脂相が少なくなるため、熱膨張率の上昇、高温での絶縁
信頼性の低下、取扱性の低下が起こるため不適当であ
る。
量樹脂の配合量は0〜50重量部とする。エポキシ樹脂
と非相溶性の高分子量樹脂が50重量部を超えると、柔
軟相が多くなり、エポキシ樹脂相が少なくなるため、熱
膨張率の上昇、高温での絶縁信頼性の低下、取扱性の低
下が起こるため不適当である。
イミダゾール類を用いるのが好ましい。イミダゾールと
しては、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メ
チルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイ
ミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾ
リウムトリメリテート等が挙げられる。イミダゾール類
は、四国化成工業株式会社から、2E4MZ、2PZ−
CN、2PZ−CNSという商品名で市販されている。
率の制御のために(e)無機フィラーを全接着剤組成物
100に対して10〜60体積%配合することもでき
る。10体積%未満では、配合効果に乏しく、60体積
%を超えると接着剤の弾性率が高くなりすぎ好ましくな
い。配合比率は、接着剤の弾性率、熱膨張率を考慮して
決定する。
ム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネ
シウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、酸化
カルシウム、酸化マグネシウム、アルミナ、窒化アルミ
ニウム、窒化ホウ素、結晶性シリカ、非晶性シリカ、ほ
う酸アルミウイスカなどが挙げられる。
合をよくするために、カップリング剤を配合することが
好ましい。カップリング剤としては、シランカップリン
グ剤が好ましい。シランカップリング剤としては、γ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカ
プトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピル
トリエトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキ
シシラン、N−β−アミノエチル−γ−アミノプロピル
トリメトキシシランなどが挙げられる。
リシドキシプロピルトリメトキシシランがNUC A−
187、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランが
NUC A−189、γ−アミノプロピルトリエトキシ
シランNUC A−1100、γ−ウレイドプロピルト
リエトキシシランがNUC A−1160、N−β−ア
ミノエチル−γ−アミノプロピルトリメトキシシランが
NUC A−1120という商品名で、いずれも日本ユ
ニカー株式会社から市販されている。
重量部とする。好ましくは0.5〜5重量部である。
0.5重量部未満では配合の効果に乏しく、10重量部
を超えると、耐熱性の低下、コストの上昇などをまね
く。
不純物を吸着して、吸湿時の絶縁信頼性をよくするため
に、無機イオン吸着剤を配合してもよい。無機イオン吸
着剤の配合量は、0.5〜10重量部が好ましい。より
好ましくは0.5〜5重量部である。0.5重量部未満
では配合の効果に乏しく、10重量部を超えると、耐熱
性の低下、コストの上昇などをまねく。
るものと、イオン交換反応を示す無機イオン交換体と、
この両者の性質を併せ持つものとがある。無機イオン吸
着剤は、多孔性固体の吸着性を利用して液体、固体から
物質移動を行いイオンを分離する無機物質であり、耐熱
性、耐薬品性に優れた活性炭、天然及び合成ゼオライ
ト、シリカゲル、活性アルミナ、活性白土などが挙げら
れる。無機イオン交換体は、イオン交換反応により液
体、固体からイオンを分離するものであり、合成アルミ
ノケイ酸塩例えば合成ゼオライト、金属の含水酸化物例
えば水和五酸化アンチモン、多価金属の酸性塩例えばリ
ン酸ジルコニウム、などが挙げられる。シリカゲルや活
性白土も無機イオン交換体として作用する。ハイドロタ
ルサイトは、ハロゲンを捕捉することが知られており、
無機イオン交換体の一種である。
系化合物を成分とするものがIXE−100、アンチモ
ンビスマス系化合物を成分とするものがIXE−60
0、マグネシウムアルミニウム系化合物を主成分とする
ものがIXE−700という商品名で、いずれも東亜合
成化学工業株式会社から市販されている。また、ハイド
ロタルサイトは、協和化学工業株式会社から、DHT−
4Aという商品名で市販されている。
イオン化して溶け出すのを防止するため、銅害防止剤
0.5〜10重量部配合することが好ましい。0.5重
量部未満では配合の効果に乏しく、10重量部を超える
と、耐熱性の低下、コストの上昇などをまねく。銅害防
止剤は、例えば、トリアジンチオール化合物、ビスフェ
ノール系還元剤が例示され、ビスフェノール系還元剤と
しては、2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6
−第3−ブチルフェノール)、4,4’−チオ−ビス−
(3−メチル−6−第3−ブチルフェノール)が挙げら
れる。
害防止剤は、三協製薬株式会社から、ジスネットDBと
いう商品名で市販されている。またビスフェノール系還
元剤を成分とする銅害防止剤は、吉富製薬株式会社か
ら、ヨシノックスBBという商品名で市販されている。
溶解・分散してワニスとし、基材フィルム上に塗布し、
加熱して溶剤を除去して使用する。また、接着フィルム
の保護を目的に基材フィルムと接する接着フィルム面と
反対側の面に、カバーフィルムを使用してもよい。基材
フィルム及びカバーフィルムに用いるフィルムとして
は、ポリエチレンテレフタレートフィルム、離型処理し
たポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレン
フィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリイミドフィル
ムなどが使用される。プラスチックフィルムは接着剤の
使用時に剥離される。
ルムがカプトン(東レ、デュポン社製)、アピカル(鐘
淵化学工業株式会社製)等の商品名で、ポリエチレンテ
レフタレートフィルムがルミラー(東レ、デュポン社
製)、ピューレックス(帝人株式会社製)等の商品名で
それぞれ市販されている。
ルエチルケントン、アセトン、メチルイソブチルケト
ン、2−エトキシエタノール、トルエン、ブチルセルソ
ルブ、メタノール、エタノール、2−メトキシエタノー
ルなどを用いるのが好ましい。また接着フィルムの塗膜
性を向上するなどの目的で、高沸点溶剤を加えてもよ
い。高沸点溶剤としては、ジメチルアセトアミド、ジメ
チルホルムアミド、メチルピロリドン、シクロヘキサン
などが挙げられる。
法であれば特に制限が無く、プロペラ攪拌等の方法が挙
げられる。また、無機フィラーを添加する場合には、無
機フィラーの分散を十分に行なうことができる混練法な
らばどのような方法でもよい。らいかい機、3本ロール
及びビーズミルなどを組み合わせて行なうことができ
る。フィラーと低分子量成分とをあらかじめ混合した
後、高分子量成分を配合することにより、混合に要する
時間を短縮することが可能である。これらのワニスを作
製した後、真空脱気により、ワニス中の気泡を除去する
ことが望ましい。以下本発明を実施例により具体的に説
明する。
た。 (多層配線板用接着フィルム1) (a)アクリロニトリル18〜40重量%、官能基モノ
マーとしてグリシジル(メタ)アクリレート2〜6重量
%及び残部がエチル(メタ)アクリレート若しくはブチ
ル(メタ)アクリレートまたは両者の混合物から得られ
る共重合体で、Tg(ガラス転移点)が−10℃以上で
かつ重量平均分子量が10万以上であるエポキシ基含有
アクリルゴムとして、 HTR−860P−3(分子量
100万、帝国化学産業株式会社製商品名)32重量
部、(b)のエポキシ樹脂としてビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂エピコート828(油化シェルエポキシ株式
会社製商品名、エポキシ当量200)30重量部及びク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂であるESCN00
1(住友化学工業株式会社製商品名、エポキシ当量22
0)10重量部、エポキシ樹脂の硬化剤として、ビスフ
ェノールAノボラック樹脂であるフェノライトLF28
82(大日本インキ化学工業株式会社製商品名)24重
量部、(c)のエポキシ樹脂と相溶性でありかつ重量平
均分子量3万以上の高分子量樹脂として、フェノキシ樹
脂であるフェノトートYP−50(東都化成株式会社製
商品名、分子量5万)10重量部、及び(d)硬化促進
剤として1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール
であるキュアゾール2PZ−CN(四国化成工業株式会
社製商品名)0.5重量部から成る接着剤組成物に、メ
チルエチルケトンを加えた。これを混合、真空脱気し接
着剤ワニスを調整した。このワニスを基材フィルムとな
る厚さ50μmポリエチレンテレフタレートフィルム
(帝人株式会社製のS−31を使用した)に塗布し、1
40℃で5分間、加熱乾燥させることにより、厚さ10
0μmの多層配線板用接着フィルム1を得た。
板用接着フィルム1の作製において、(a)のエポキシ
基含有アクリルゴムであるHTR−860P−3の配合
量、32重量部を96重量部としたこと以外同様にして
行い厚さ100μmの多層配線板用接着フィルム2を得
た。
0P−3(帝国化学産業株式会社製商品名、分子量10
0万)96重量部、(b)エポキシ樹脂であるビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂エピコート828(油化シェル
エポキシ株式会社製商品名、エポキシ当量200)30
重量部及びクレゾールノボラック型エポキシ樹脂である
ESCN001(住友化学工業株式会社製商品名、エポ
キシ当量220)10重量部に硬化剤であるビスフェノ
ールAノボラック樹脂フェノライトLF2882(大日
本インキ化学工業株式会社製商品名)24重量部、
(c)エポキシ樹脂と相溶性でありかつ重量平均分子量
3万以上の高分子量樹脂としてフェノキシ樹脂であるフ
ェノトートYP−50(東都化成株式会社製商品名、分
子量5万)10重量部そして(e)無機フィラーとして
アルミナフィラー72重量部から成る組成物にメチルエ
チルケトンを加え予めビーズミルで混練したものに、
(d)硬化促進剤として1−シアノエチル−2−フェニ
ルイミダゾールであるキュアゾール2PZ−CN(四国
化成工業株式会社製商品名)0.5重量部を混合し、真
空脱気しワニスを調整した。この接着剤用ワニスを基材
フィルムとなる厚み50μmのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム(帝人株式会社製商品名、S−31)に塗
布し、140℃で5分間、加熱乾燥させることにより、
厚さ100μmの多層配線板用接着フィルム3を得た。
板用接着フィルム1の作製において、(a)のエポキシ
基含有アクリルゴムであるHTR−860P−3の配合
量、32重量部を10重量部としたこと以外同様にして
行い厚さ100μmの多層配線板用接着フィルム4を得
た。
シ積層板MCL−E−679(日立化成工業株式会社製
商品名、銅箔厚み35μm)の表面にエッチングレジス
トを形成し、不要な銅箔をエッチング除去して、回路パ
ターンを有する回路板を作製した。この回路板にキャビ
ティとなる部分(1辺が17mmの正方形)を数値制御
のルーターを用いてキャビティを形成し、回路基材Aを
得た。同様にして、回路基材B(キャビティは1辺が1
5mmの正方形)を作製した。多層配線板用接着フィル
ム1を1辺が17mmの正方形の刃が回路基材Aと同じ
座標に配置された刃型を用いて打抜き、回路基材Aと同
じ形状のキャビティを有する多層配線板用接着フィルム
Aを作製した。同様にして、多層配線板用接着フィルム
B(キャビティは1辺が15mmの正方形)を作製し
た。さらに、多層配線板用接着フィルムC(キャビティ
は1辺が13mmの正方形)も作製した。 黒化処理を
施した前記回路基材A、回路基材Bおよび厚さ0.4m
mの片面銅張積層板MCL−E−679(日立化成工業
株式会社製商品名)2枚(基板は1枚は最下層で1枚は
最上層、銅箔はいずれも最外層)で、図3のような構成
で、昇温速度5℃/分、保持温度170℃、圧力3MP
a、高温保持時間60分間のプレス条件で加熱積層プレ
スし積層一体化した。この基板に、0.5mmのドリル
で穴明けをし、洗浄、触媒付与、密着促進後無電解銅め
っきを行い、スルーホール内壁と銅箔表面に約20μm
の無電解銅めっき層を形成した。この基板表面のパッド
や回路パターンなど必要な箇所にエッチングレジストを
形成し、不要な銅をエッチング除去した。さらに、キャ
ビティを覆う部分の基材を数値制御のルーターを用いて
除去してキャビティ構造の多層配線板を得た。
を10℃/分とした他は実施例1と同様の条件でキャビ
ティ構造の多層配線板を作製した。
を多層配線板用接着フィルム2とした他は実施例1と同
様の条件でキャビティ構造の多層配線板を作製した。
を多層配線板用接着フィルム2とした他は実施例2と同
様の条件でキャビティ構造の多層配線板を作製した。
を多層配線板用接着フィルム3とした他は実施例1と同
様の条件でキャビティ構造の多層配線板を作製した。
を多層配線板用接着フィルム3とした他は実施例2と同
様の条件でキャビティ構造の多層配線板を作製した。
を多層配線板用接着フィルム4とした他は実施例1と同
様の条件でキャビティ構造の多層配線板を作製した。
を多層配線板用接着フィルム4とした他は実施例2と同
様の条件でキャビティ構造の多層配線板を作製した。
を3℃/分とした他は実施例3と同様の条件でキャビテ
ィ構造の多層配線板を作製した。このようにして得られ
たキャビティ構造の多層配線板と多層配線板用接着フィ
ルム1〜4について下記のような評価方法で最低粘度、
キャビティ浸出量、回路充填性について測定しその結果
を表1に示した。
ータを用い、パラレルプレートモードで動的粘弾性率を
測定した。加熱積層プレス時の昇温速度と同じ昇温速度
で加熱して、粘度の最低値を求めた。 キャビティ浸出量:倍率200倍の顕微鏡にビデオスケ
ーラーを取り付け、5μm以下の精度でガラスエポキシ
基材で作製した回路板のキャビティ部端部からの樹脂浸
出量を測定した。キャビティ4辺それぞれの浸出量を評
価し、最大、最小、平均を求めた。キャビティの評価数
は20とした。 回路充填性:基板断面をエポキシ樹脂で注型研磨し、倍
率500倍の顕微鏡で内層回路の銅箔パターン側面に空
隙が発生していないかを観察した。
用接着フィルムの最低粘度が3×104〜1×105Pa
・sであり、何れも、最大浸出量が300μm未満で、
かつ回路充填性に問題なく、本発明による多層配線板用
接着フィルムはキャビティ形成性に優れていることがわ
かる。
多層配線板用接着フィルムの最低粘度が3×104Pa・
s未満であり、浸出量が多く、比較例3では、加熱積層
時の最低粘度が1×105Pa・sを超えており、回路充
填性が悪い。
配線板用接着フィルムは、加熱積層時におけるキャビテ
ィ部への浸出量が小さく安定しており、かつ回路充填性
にも優れている。
ムを用いたキャビティ構造の多層配線板を示す斜視図。
おける動的粘弾性率測定による粘度の経時変化の一例を
示す。
を加熱積層プレスするときの基板構成を表わす図であ
る。
Claims (9)
- 【請求項1】 少なくとも2枚以上の基板を多層化積層
して作製する多層配線板に用いる接着フィルムにおい
て、加熱積層プレス時の最低粘度が3×104〜1×1
05Pa・sの範囲であることを特徴とする多層配線板
用接着フィルム。 - 【請求項2】 少なくとも2枚以上の基板を多層化積層
して作製する多層配線板に用いる接着フィルムにおい
て、加熱積層プレス時の昇温速度が5〜10℃/分であ
り、その際の最低粘度が3×104〜1×105Pa・s
の範囲であることを特徴とする多層配線板用接着フィル
ム。 - 【請求項3】 少なくとも2枚以上の基板を多層化積層
して作製する多層配線板に用いる接着フィルムにおい
て、加熱積層プレス時の昇温速度が5〜10℃/分で、
保持温度170〜180℃であり、その際の最低粘度が
3×104〜1×105Pa・sの範囲であることを特徴
とする多層配線板用接着フィルム。 - 【請求項4】 アクリロニトリル18〜40重量%、官
能基モノマーとしてグリシジル(メタ)アクリレート2
〜6重量%及び残部がエチル(メタ)アクリレート若し
くはブチル(メタ)アクリレートまたは両者の混合物か
ら得られる共重合体で、Tg(ガラス転移点)が−10
℃以上でかつ重量平均分子量が10万以上であるエポキ
シ基含有アクリルゴムを必須成分として含有する請求項
1ないし請求項3にいずれかに記載の多層配線板用接着
フィルム。 - 【請求項5】 (a)アクリロニトリル18〜40重量
%、官能基モノマーとしてグリシジル(メタ)アクリレ
ート2〜6重量%及び残部がエチル(メタ)アクリレー
ト若しくはブチル(メタ)アクリレートまたは両者の混
合物から得られる共重合体で、Tg(ガラス転移点)が
−10℃以上でかつ重量平均分子量が10万以上である
エポキシ基含有アクリルゴム30〜100重量部、
(b)エポキシ樹脂及びその硬化剤を合わせて50〜7
0重量部、(c)エポキシ樹脂と相溶性でありかつ重量
平均分子量3万以上の高分子量樹脂10〜60重量部及
び(d)硬化促進剤0.1〜5重量部を含む請求項1な
いし請求項4のいずれかに記載の多層配線板用接着フィ
ルム。 - 【請求項6】 (a)アクリロニトリル18〜40重量
%、官能基モノマーとしてグリシジル(メタ)アクリレ
ート2〜6重量%及び残部がエチル(メタ)アクリレー
ト若しくはブチル(メタ)アクリレートまたは両者の混
合物から得られる共重合体で、Tg(ガラス転移点)が
−10℃以上でかつ重量平均分子量が10万以上である
エポキシ基含有アクリルゴム30〜100重量部、
(b)エポキシ樹脂及びその硬化剤を合わせて50〜7
0重量部、(c)エポキシ樹脂と相溶性でありかつ重量
平均分子量3万以上の高分子量樹脂10〜60重量部、
(d)硬化促進剤0.1〜5重量部及び(e)無機フィ
ラーを全接着剤組成物の10〜60体積%含む請求項1
ないし請求項5のいずれかに記載の多層配線板用接着フ
ィルム。 - 【請求項7】 カップリング剤0.5〜10重量部及び
無機イオン吸着剤0.5〜10重量部を含む請求項4な
いし請求項6のいずれかに記載の多層配線板用接着フィ
ルム。 - 【請求項8】 カップリング剤0.5〜10重量部及び
銅害防止剤0.5〜10重量部を含む請求項4ないし請
求項6のいずれかに記載の多層配線板用接着フィルム。 - 【請求項9】 エポキシ樹脂と相溶性でありかつ重量平
均分子量3万以上の高分子量樹脂が、フェノキシ樹脂、
カルボキシル基含有アクリロニトリルブタジエンゴム、
重量平均分子量が3万〜8万の高分子量エポキシ樹脂及
び重量平均分子量が8万より大きい超高分子量エポキシ
樹脂から選ばれた1種以上である請求項5ないし請求項
8のいずれかに記載の多層配線板用接着フィルム。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13801597A JP3615906B2 (ja) | 1997-05-28 | 1997-05-28 | 多層配線板用接着フィルム |
EP97115563A EP0831528A3 (en) | 1996-09-10 | 1997-09-08 | Multilayer wiring board for mounting semiconductor device and method of producing the same |
US08/925,440 US6090468A (en) | 1996-09-10 | 1997-09-09 | Multilayer wiring board for mounting semiconductor device and method of producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13801597A JP3615906B2 (ja) | 1997-05-28 | 1997-05-28 | 多層配線板用接着フィルム |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003413434A Division JP4039363B2 (ja) | 2003-12-11 | 2003-12-11 | 多層配線板用接着フィルム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10330696A true JPH10330696A (ja) | 1998-12-15 |
JP3615906B2 JP3615906B2 (ja) | 2005-02-02 |
Family
ID=15212073
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13801597A Expired - Lifetime JP3615906B2 (ja) | 1996-09-10 | 1997-05-28 | 多層配線板用接着フィルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3615906B2 (ja) |
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EXPY | Cancellation because of completion of term |