JPH10282501A - 配向膜、その形成方法及び該配向膜を採用した液晶表示素子 - Google Patents
配向膜、その形成方法及び該配向膜を採用した液晶表示素子Info
- Publication number
- JPH10282501A JPH10282501A JP9359447A JP35944797A JPH10282501A JP H10282501 A JPH10282501 A JP H10282501A JP 9359447 A JP9359447 A JP 9359447A JP 35944797 A JP35944797 A JP 35944797A JP H10282501 A JPH10282501 A JP H10282501A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin layer
- thermosetting resin
- liquid crystal
- layer
- crystal display
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
- G02F1/133788—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation by light irradiation, e.g. linearly polarised light photo-polymerisation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 配向膜、その形成方法及び該配向膜を採用し
た液晶表示素子を提供する。 【解決手段】 マイクログルーブが形成された熱硬化性
樹脂層と、その上部にコーティングされた光配向性高分
子層とを含むことにより、熱的安定性が著しく改善さ
れ、表示性能の向上した液晶表示素子を得ることができ
る。
た液晶表示素子を提供する。 【解決手段】 マイクログルーブが形成された熱硬化性
樹脂層と、その上部にコーティングされた光配向性高分
子層とを含むことにより、熱的安定性が著しく改善さ
れ、表示性能の向上した液晶表示素子を得ることができ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示素子に係
り、特に配向性と熱的安定性に優れた配向膜、該配向膜
を形成する方法及び該配向膜を採用する液晶表示素子に
関する。
り、特に配向性と熱的安定性に優れた配向膜、該配向膜
を形成する方法及び該配向膜を採用する液晶表示素子に
関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、液晶（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓ
ｔａｌ）とは液体の流動性と結晶の光学的性質を兼備し
た物質のことであり、電界または熱により光学的異方性
が変化する。このような液晶の性質を用いた表示素子と
して液晶表示素子がある。
ｔａｌ）とは液体の流動性と結晶の光学的性質を兼備し
た物質のことであり、電界または熱により光学的異方性
が変化する。このような液晶の性質を用いた表示素子と
して液晶表示素子がある。
【０００３】図１は一般的な液晶表示素子の構造を示す
断面図である。これを参照すれば、上，下の一対の透明
基板１２及び１２’の上部には透明電極１３及び１３’
が形成されており、前記透明電極１３及び１３’の上部
には絶縁層１４及び１４’と配向膜１５及び１５’が各
々形成されている。
断面図である。これを参照すれば、上，下の一対の透明
基板１２及び１２’の上部には透明電極１３及び１３’
が形成されており、前記透明電極１３及び１３’の上部
には絶縁層１４及び１４’と配向膜１５及び１５’が各
々形成されている。
【０００４】前記上部透明基板１２と下部透明基板１
２’の間にはスペーサ１６があって、セルギャップを一
定の厚さに保っており、このセルギャップには液晶層１
７が形成されている。
２’の間にはスペーサ１６があって、セルギャップを一
定の厚さに保っており、このセルギャップには液晶層１
７が形成されている。
【０００５】一方、前記基板１２及び１２’の外側面に
は入射光の偏光のための偏光板１１及び１１’が各々設
けられている。
は入射光の偏光のための偏光板１１及び１１’が各々設
けられている。
【０００６】前述のような構造の液晶表示素子におい
て、光透過性、応答時間、視野角、コントラストなどの
表示素子としての性能は、液晶分子の配列特性に応じて
決められる。したがって、液晶分子の配向を均一に制御
することは非常に重要である。
て、光透過性、応答時間、視野角、コントラストなどの
表示素子としての性能は、液晶分子の配列特性に応じて
決められる。したがって、液晶分子の配向を均一に制御
することは非常に重要である。
【０００７】液晶の均一な配向状態は、単に液晶を上，
下基板の間に介在させるだけでは得られ難いことから、
図１に示される液晶表示素子の構造からわかるように、
透明電極１２及び１２’の上部に配向膜１５及び１５’
が形成されている。
下基板の間に介在させるだけでは得られ難いことから、
図１に示される液晶表示素子の構造からわかるように、
透明電極１２及び１２’の上部に配向膜１５及び１５’
が形成されている。
【０００８】前記配向膜は、ポリイミド、ポリアミドな
どの有機高分子物質からなる薄膜を基板上に形成して硬
化した後、特殊な形態の布でラビングする方法により形
成されることが多い。
どの有機高分子物質からなる薄膜を基板上に形成して硬
化した後、特殊な形態の布でラビングする方法により形
成されることが多い。
【０００９】前記配向膜の形成方法は、施しやすくかつ
工程が簡単であるという長所を有する。しかしながら、
ラビング時に用いられた特殊な形態の布から微細粒子ま
たは繊維素が離脱して配向膜を汚染させる場合があり、
配向膜の材料に応じて配向が十分に行われない場合があ
る上に、ラビング時に発生する静電気により薄膜トラン
ジスタなどが損なわれる問題点があった。
工程が簡単であるという長所を有する。しかしながら、
ラビング時に用いられた特殊な形態の布から微細粒子ま
たは繊維素が離脱して配向膜を汚染させる場合があり、
配向膜の材料に応じて配向が十分に行われない場合があ
る上に、ラビング時に発生する静電気により薄膜トラン
ジスタなどが損なわれる問題点があった。
【００１０】前述の問題点を解決するために、ほこりや
静電気を発生させることなく工程が清潔に行われる光配
向方法が開発された。この方法は非破壊的な配向方法で
あり、偏光された光が光配向膜に照射されれば非等方性
光重合が起こって光配向膜が配向性を有するようにな
り、液晶が均一に配向する。
静電気を発生させることなく工程が清潔に行われる光配
向方法が開発された。この方法は非破壊的な配向方法で
あり、偏光された光が光配向膜に照射されれば非等方性
光重合が起こって光配向膜が配向性を有するようにな
り、液晶が均一に配向する。
【００１１】前記光配向膜形成用の高分子としてはポリ
ビニルシンナメート（以下、ＰＶＣＮともいう）、ポリ
ビニルメトキシシンナメート（以下、ＰＶＭＣともい
う）などが主に用いられるが、このような高分子は光配
向性には非常に優れているが熱的安定性に劣るという問
題があった。すなわち、配向膜の熱的安定性は高分子の
熱的安定性に応じて左右され、これは高分子のガラス転
移温度と架橋密度に頼るが、ポリシンナメート系の高分
子はガラス転移温度が通常１００℃以下であり、固体状
態で５０％以上光反応させるのが難しいので架橋密度を
増加させるには限界があり、配向膜の熱的安定性が落ち
る。
ビニルシンナメート（以下、ＰＶＣＮともいう）、ポリ
ビニルメトキシシンナメート（以下、ＰＶＭＣともい
う）などが主に用いられるが、このような高分子は光配
向性には非常に優れているが熱的安定性に劣るという問
題があった。すなわち、配向膜の熱的安定性は高分子の
熱的安定性に応じて左右され、これは高分子のガラス転
移温度と架橋密度に頼るが、ポリシンナメート系の高分
子はガラス転移温度が通常１００℃以下であり、固体状
態で５０％以上光反応させるのが難しいので架橋密度を
増加させるには限界があり、配向膜の熱的安定性が落ち
る。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記のような
問題点を解決するために案出されたものであり、熱的安
定性に非常に優れた配向膜を提供することにその目的が
ある。
問題点を解決するために案出されたものであり、熱的安
定性に非常に優れた配向膜を提供することにその目的が
ある。
【００１３】また、本発明の他の目的は前記配向膜の形
成方法を提供することにある。
成方法を提供することにある。
【００１４】さらに、本発明の他の目的は前記配向膜を
採用した液晶表示素子を提供することにある。
採用した液晶表示素子を提供することにある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めに本発明の配向膜は、マイクログルーブ（または微細
なみぞ）の形成された熱硬化性樹脂層と、その上部にコ
ーティングされた光配向性高分子層とを含むことを特徴
とする。
めに本発明の配向膜は、マイクログルーブ（または微細
なみぞ）の形成された熱硬化性樹脂層と、その上部にコ
ーティングされた光配向性高分子層とを含むことを特徴
とする。
【００１６】また、本発明の他の目的を達成するために
本発明の配向膜の形成方法は、（ａ）電極が形成されて
いる基板上に熱硬化性樹脂層を形成する段階と、（ｂ）
前記熱硬化性樹脂層の表面にマイクログルーブを形成す
る段階と、（ｃ）マイクログルーブの形成された熱硬化
性樹脂層の上部に光配向性高分子をコーティングし、そ
の後紫外線を照射する段階とを含むことを特徴とする。
本発明の配向膜の形成方法は、（ａ）電極が形成されて
いる基板上に熱硬化性樹脂層を形成する段階と、（ｂ）
前記熱硬化性樹脂層の表面にマイクログルーブを形成す
る段階と、（ｃ）マイクログルーブの形成された熱硬化
性樹脂層の上部に光配向性高分子をコーティングし、そ
の後紫外線を照射する段階とを含むことを特徴とする。
【００１７】さらに、本発明の他の目的を達成するため
に本発明の液晶表示素子は、上，下基板、前記基板に各
々形成されている透明電極及び前記透明電極の上部に各
々形成された配向膜を含む液晶表示素子において、前記
配向膜が熱硬化性樹脂層と光配向性高分子層を含む二層
構造であることを特徴とする。
に本発明の液晶表示素子は、上，下基板、前記基板に各
々形成されている透明電極及び前記透明電極の上部に各
々形成された配向膜を含む液晶表示素子において、前記
配向膜が熱硬化性樹脂層と光配向性高分子層を含む二層
構造であることを特徴とする。
【００１８】
【発明の実施の形態】本発明の一実施態様によれば、配
向膜は熱硬化性樹脂層と光配向性高分子層の二層構造か
らなっている。したがって、配向膜の熱的安定性と液晶
の配向安全性が著しく改善される。この際、マイクログ
ルーブの形成による配向膜の配向方向と光の照射による
配向膜の配向方向が相互一致するように適切に制御する
ことが望ましい。また、マイクログルーブは層全面に形
成することが最も好ましい。
向膜は熱硬化性樹脂層と光配向性高分子層の二層構造か
らなっている。したがって、配向膜の熱的安定性と液晶
の配向安全性が著しく改善される。この際、マイクログ
ルーブの形成による配向膜の配向方向と光の照射による
配向膜の配向方向が相互一致するように適切に制御する
ことが望ましい。また、マイクログルーブは層全面に形
成することが最も好ましい。
【００１９】以下、図２を参照して、本発明による配向
膜、その形成方法及び前記配向膜を具備している液晶表
示素子について説明する。
膜、その形成方法及び前記配向膜を具備している液晶表
示素子について説明する。
【００２０】最初に、ＩＴＯ電極２２の形成されたガラ
ス基板２１の上に熱硬化性樹脂層２３を形成する。前記
熱硬化性樹脂層の形成物質としては一般的な熱硬化性樹
脂ならば全て使用可能であり、そのうちでも特にエポキ
シ樹脂が望ましい。
ス基板２１の上に熱硬化性樹脂層２３を形成する。前記
熱硬化性樹脂層の形成物質としては一般的な熱硬化性樹
脂ならば全て使用可能であり、そのうちでも特にエポキ
シ樹脂が望ましい。
【００２１】その後、前記熱硬化性樹脂層２３の表面に
マイクログルーブを形成する。熱硬化性樹脂層にマイク
ログルーブを形成する方法としては一般的なマイクログ
ルーブ形成方法の全てを用いることができるが、本発明
ではプレス（ｐｒｅｓｓ）を用いた方法が好ましい。
マイクログルーブを形成する。熱硬化性樹脂層にマイク
ログルーブを形成する方法としては一般的なマイクログ
ルーブ形成方法の全てを用いることができるが、本発明
ではプレス（ｐｒｅｓｓ）を用いた方法が好ましい。
【００２２】前記マイクログルーブの深さは５０ないし
５００Åであることが望ましく、マイクログルーブの幅
は１０００ないし１００００Åであることが望ましい。
このような範囲の深さと幅を有するマイクログルーブを
形成する時に液晶の配向性能が最も優れている。
５００Åであることが望ましく、マイクログルーブの幅
は１０００ないし１００００Åであることが望ましい。
このような範囲の深さと幅を有するマイクログルーブを
形成する時に液晶の配向性能が最も優れている。
【００２３】前記熱硬化性樹脂層２３の上部に光配向性
高分子をコーティングし、乾燥して光配向性高分子層２
４を形成することにより、二層構造の光配向膜２５を完
成する。ここで、光配向性高分子層形成用の物質が特別
に制限されることはない。
高分子をコーティングし、乾燥して光配向性高分子層２
４を形成することにより、二層構造の光配向膜２５を完
成する。ここで、光配向性高分子層形成用の物質が特別
に制限されることはない。
【００２４】次いで、線偏光（波長：３００ないし４０
０ｎｍ）を照射して光反応を施した後、スペーサを用い
て一定のギャップが保たれた状態で二枚の基板を接合し
て空セル完成する。その後、前記空セルに公知の液晶、
例えばネマチックタイプを注入することにより液晶表示
素子を完成させる。
０ｎｍ）を照射して光反応を施した後、スペーサを用い
て一定のギャップが保たれた状態で二枚の基板を接合し
て空セル完成する。その後、前記空セルに公知の液晶、
例えばネマチックタイプを注入することにより液晶表示
素子を完成させる。
【００２５】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて説明する
が、本発明が実施例だけに限定されるものではない。
が、本発明が実施例だけに限定されるものではない。
【００２６】＜実施例＞清潔に洗浄された二枚のガラス
基板に各々ＩＴＯ電極を形成した後、この基板上にエポ
キシ樹脂をコーティングしてエポキシ樹脂層を形成し
た。前記エポキシ樹脂層を乾燥した後、マイクログルー
ブの形成されたモールドを用いてプレスし、約１５０℃
で１時間の間熱処理してモールドのマイクログルーブ形
状をエポキシ樹脂層に転写させた。このとき、マイクロ
グルーブは層全面に形成されており、その深さは１００
Å、その幅は２０００Åであった。
基板に各々ＩＴＯ電極を形成した後、この基板上にエポ
キシ樹脂をコーティングしてエポキシ樹脂層を形成し
た。前記エポキシ樹脂層を乾燥した後、マイクログルー
ブの形成されたモールドを用いてプレスし、約１５０℃
で１時間の間熱処理してモールドのマイクログルーブ形
状をエポキシ樹脂層に転写させた。このとき、マイクロ
グルーブは層全面に形成されており、その深さは１００
Å、その幅は２０００Åであった。
【００２７】その後、マイクログルーブの形成されたエ
ポキシ樹脂層の上部にポリビニルシンナメート（アルド
リチ社）０．２ｇをＮＭＰ（Ｎ−ｍｅｔｈｙｌ−２−ｐ
ｙｒｒｏｌｉｄｏｎｅ）１０ｇに溶解させた組成物をス
ピンコーティングした。次いで、約１００℃で１時間の
間乾燥させて光配向性高分子層を形成することにより二
層構造の配向膜を完成した。
ポキシ樹脂層の上部にポリビニルシンナメート（アルド
リチ社）０．２ｇをＮＭＰ（Ｎ−ｍｅｔｈｙｌ−２−ｐ
ｙｒｒｏｌｉｄｏｎｅ）１０ｇに溶解させた組成物をス
ピンコーティングした。次いで、約１００℃で１時間の
間乾燥させて光配向性高分子層を形成することにより二
層構造の配向膜を完成した。
【００２８】それから、約１０ｍｗ／ｃｍ2 の光強度を
有する高圧水銀ランプを用いて線偏光（波長：約３１３
ｎｍ）を約５分間照射した。
有する高圧水銀ランプを用いて線偏光（波長：約３１３
ｎｍ）を約５分間照射した。
【００２９】スペーサを用いて配向膜の形成された二枚
のガラス基板の間隔を一定な厚さで保ちながら、前記二
枚のガラス基板を接合して空きセルを製造した。この空
きセルに液晶（ｍｅｒｃｋ社、ＺＬ２３０９）を注入し
て約１００℃で２５分間熱処理して液晶表示素子を完成
した。
のガラス基板の間隔を一定な厚さで保ちながら、前記二
枚のガラス基板を接合して空きセルを製造した。この空
きセルに液晶（ｍｅｒｃｋ社、ＺＬ２３０９）を注入し
て約１００℃で２５分間熱処理して液晶表示素子を完成
した。
【００３０】＜比較例１＞エポキシ樹脂層の上部にマイ
クログルーブを形成しないことを除いては、実施例と同
じ方法で施した。
クログルーブを形成しないことを除いては、実施例と同
じ方法で施した。
【００３１】＜比較例２＞表面が清潔に洗浄された二枚
のガラス基板に各々ＩＴＯ電極を形成した後、前記基板
上にポリイミド（日産化学、ＲＮ７１５）を塗布した。
次に、約２２０℃で約１時間の間熱処理して配向膜とし
て作用するポリイミド層を形成した。
のガラス基板に各々ＩＴＯ電極を形成した後、前記基板
上にポリイミド（日産化学、ＲＮ７１５）を塗布した。
次に、約２２０℃で約１時間の間熱処理して配向膜とし
て作用するポリイミド層を形成した。
【００３２】次いで、前記ポリイミド層を布で摩擦して
ラビング処理した後、スペーサを用いてポリイミド層の
形成された二枚のガラス基板の間隔を一定な厚さで保ち
ながら、前記二枚のガラス基板を接合して空セルを製造
した。この空セルに液晶を注入して約１００℃で２５分
間熱処理して液晶表示素子を完成した。
ラビング処理した後、スペーサを用いてポリイミド層の
形成された二枚のガラス基板の間隔を一定な厚さで保ち
ながら、前記二枚のガラス基板を接合して空セルを製造
した。この空セルに液晶を注入して約１００℃で２５分
間熱処理して液晶表示素子を完成した。
【００３３】前記実施例及び比較例１〜２で製造された
液晶表示素子において、配向膜の配向度と熱的安定性を
測定した。この際、配向膜の熱的安定性は約２００℃で
所定時間だけ放置させた後に室温に冷却してから配向膜
の変性程度を偏光フィルムを通じて観察する方式により
測定し、配向度は偏光フィルムを通じて観察した。
液晶表示素子において、配向膜の配向度と熱的安定性を
測定した。この際、配向膜の熱的安定性は約２００℃で
所定時間だけ放置させた後に室温に冷却してから配向膜
の変性程度を偏光フィルムを通じて観察する方式により
測定し、配向度は偏光フィルムを通じて観察した。
【００３４】その結果、実施例で製造された液晶表示素
子においては配向性に優れ、温度を２００℃まで上げた
場合にもその配向状態がほとんど変化しなかったので、
熱的安定性が非常に優れていることがわかった。また、
光を用いて液晶を配向させるので配向膜の汚染度が非常
に低かった。
子においては配向性に優れ、温度を２００℃まで上げた
場合にもその配向状態がほとんど変化しなかったので、
熱的安定性が非常に優れていることがわかった。また、
光を用いて液晶を配向させるので配向膜の汚染度が非常
に低かった。
【００３５】その反面、比較例１〜２の場合には配向性
が優秀であるが、熱的安定性が低下して約１００℃から
配向膜の配向状態が変性される現像を観察することがで
きた。特に、比較例２の場合にはラビング処理中に生成
したほこりや静電気により配向膜の汚染度が高かった。
が優秀であるが、熱的安定性が低下して約１００℃から
配向膜の配向状態が変性される現像を観察することがで
きた。特に、比較例２の場合にはラビング処理中に生成
したほこりや静電気により配向膜の汚染度が高かった。
【００３６】
【発明の効果】以上、述べたように本発明によると、熱
的安定性が著しく改善され、表示性能が向上した液晶表
示素子を得ることができる。
的安定性が著しく改善され、表示性能が向上した液晶表
示素子を得ることができる。
【図１】一般的な液晶表示素子の断面図である。
【図２】本発明の一実施例による液晶表示素子の配向膜
構造を示した断面図である。
構造を示した断面図である。
１１・・偏光板 １２・・透明基板 １３・・透明電極 １４・・絶縁層 １５・・配向膜 １６・・スペーサ １７・・液晶層 ２１・・ガラス基板 ２２・・ＩＴＯ電極 ２３・・熱硬化性樹脂層 ２４・・光配向性高分子層
Claims (12)
- 【請求項１】 マイクログルーブの形成された熱硬化性
樹脂層と、その上部にコーティングされた光配向性高分
子層とを含むことを特徴とする配向膜。 - 【請求項２】 前記熱硬化性樹脂層がエポキシ樹脂から
なることを特徴とする請求項１に記載の配向膜。 - 【請求項３】 前記マイクログルーブの深さは５０ない
し５００Åであることを特徴とする請求項１に記載の配
向膜。 - 【請求項４】 前記マイクログルーブの幅が１０００な
いし１００００Åであることを特徴とする請求項１に記
載の配向膜。 - 【請求項５】 （ａ）電極が形成されている基板上に熱
硬化性樹脂層を形成する段階と、 （ｂ）前記熱硬化性樹脂層の表面にマイクログルーブを
形成する段階と、 （ｃ）マイクログルーブの形成された熱硬化性樹脂層の
上部に光配向性高分子をコーティングし紫外線を照射す
る段階とを含むことを特徴とする配向膜の形成方法。 - 【請求項６】 前記熱硬化性樹脂層がエポキシ樹脂から
なることを特徴とする請求項５に記載の配向膜の形成方
法。 - 【請求項７】 前記マイクログルーブの深さは５０ない
し５００Åであることを特徴とする請求項５に記載の配
向膜の形成方法。 - 【請求項８】 前記マイクログルーブの幅が１０００な
いし１００００Åであることを特徴とする請求項５に記
載の配向膜の形成方法。 - 【請求項９】 上，下基板、前記基板に各々形成されて
いる透明電極及び前記透明電極の上部に各々形成された
配向膜を含む液晶表示素子において、 前記配向膜が熱硬化性樹脂層と光配向性高分子層を含む
二層構造であることを特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項１０】 前記熱硬化性樹脂層がエポキシ樹脂か
らなることを特徴とする請求項９に記載の液晶表示素
子。 - 【請求項１１】 前記マイクログルーブの深さは５０な
いし５００Åであることを特徴とする請求項９に記載の
液晶表示素子。 - 【請求項１２】 前記マイクログルーブの幅は１０００
ないし１００００Åであることを特徴とする請求項９に
記載の液晶表示素子。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960076942A KR19980057643A (ko) | 1996-12-30 | 1996-12-30 | 배향막, 그 형성방법 및 상기 배향막을 구비한 액정표시소자 |
| KR96P76942 | 1996-12-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10282501A true JPH10282501A (ja) | 1998-10-23 |
Family
ID=19492374
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9359447A Withdrawn JPH10282501A (ja) | 1996-12-30 | 1997-12-26 | 配向膜、その形成方法及び該配向膜を採用した液晶表示素子 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5946064A (ja) |
| JP (1) | JPH10282501A (ja) |
| KR (1) | KR19980057643A (ja) |
| CN (1) | CN1200525A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006251765A (ja) * | 2005-03-07 | 2006-09-21 | Lg Philips Lcd Co Ltd | 液晶表示装置の配向膜形成方法及びこれを用いて形成された配向膜を備える液晶表示装置 |
| KR100957618B1 (ko) | 2009-11-17 | 2010-05-13 | 디씨피 (주) | 디스플레이 코팅 플레이트 |
| JP2013050724A (ja) * | 2012-09-27 | 2013-03-14 | Jsr Corp | 液晶表示装置用基板の製造方法及び液晶表示装置用基板並びに液晶表示装置 |
| JP2013178593A (ja) * | 2011-04-28 | 2013-09-09 | Nissha Printing Co Ltd | 相互静電容量方式タッチパネル |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100480812B1 (ko) * | 1999-05-18 | 2005-04-06 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자의 배향막 제조방법 |
| US20030090012A1 (en) * | 2001-09-27 | 2003-05-15 | Allen Richard Charles | Methods of making polarization rotators and articles containing the polarization rotators |
| US6985291B2 (en) * | 2001-10-01 | 2006-01-10 | 3M Innovative Properties Company | Non-inverting transflective assembly |
| EP1546981A4 (en) * | 2002-09-23 | 2008-01-23 | Columbia Technologies Llc | SYSTEM, METHOD AND COMPUTER PROGRAM PRODUCT FOR SUB-SURFACE POLLUTION DETECTION AND ANALYSIS |
| US20050266175A1 (en) * | 2004-05-27 | 2005-12-01 | Yong Hsu | Retardation coating |
| JP4999476B2 (ja) * | 2007-01-24 | 2012-08-15 | スタンレー電気株式会社 | 液晶表示素子 |
| JP5306600B2 (ja) * | 2007-01-25 | 2013-10-02 | スタンレー電気株式会社 | 液晶表示素子 |
| KR101525802B1 (ko) * | 2008-12-11 | 2015-06-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR970004881B1 (ko) * | 1991-07-08 | 1997-04-08 | 알프스 덴기 가부시기가이샤 | 액정의 배향막, 그 제조방법, 액정소자 및 그 제조방법 |
| US5648860A (en) * | 1992-10-09 | 1997-07-15 | Ag Technology Co., Ltd. | Projection type color liquid crystal optical apparatus |
| US5657102A (en) * | 1993-01-29 | 1997-08-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display apparatus, a method for producing the same, and a substrate having an alignment layer with different degrees of roughness |
| US5592190A (en) * | 1993-04-28 | 1997-01-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display apparatus and drive method |
| US5371717A (en) * | 1993-06-15 | 1994-12-06 | Hewlett-Packard Company | Microgrooves for apodization and focussing of wideband clinical ultrasonic transducers |
| KR0148669B1 (ko) * | 1994-06-24 | 1998-11-16 | 가다오까 마사다까 | 액정소자, 그의 제조방법, 액정소자배향막의 형성방법, 액정소자배향막형성용 전사형, 그의 제조방법 및 배향막에 대한 요철모양의 전사장치 |
| KR960011520A (ko) * | 1994-09-30 | 1996-04-20 | 엄길용 | 액정표시소자의 배향막 형성방법 |
| KR100412080B1 (ko) * | 1996-07-08 | 2004-05-24 | 삼성에스디아이 주식회사 | 액정표시소자의배향막형성용조성물 |
-
1996
- 1996-12-30 KR KR1019960076942A patent/KR19980057643A/ko not_active Application Discontinuation
-
1997
- 1997-12-26 JP JP9359447A patent/JPH10282501A/ja not_active Withdrawn
- 1997-12-29 US US08/998,480 patent/US5946064A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-30 CN CN97129725A patent/CN1200525A/zh active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006251765A (ja) * | 2005-03-07 | 2006-09-21 | Lg Philips Lcd Co Ltd | 液晶表示装置の配向膜形成方法及びこれを用いて形成された配向膜を備える液晶表示装置 |
| JP4488363B2 (ja) * | 2005-03-07 | 2010-06-23 | エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド | 液晶表示装置の配向膜形成方法及びこれを用いて形成された配向膜を備える液晶表示装置 |
| KR100957618B1 (ko) | 2009-11-17 | 2010-05-13 | 디씨피 (주) | 디스플레이 코팅 플레이트 |
| JP2013178593A (ja) * | 2011-04-28 | 2013-09-09 | Nissha Printing Co Ltd | 相互静電容量方式タッチパネル |
| JP2013050724A (ja) * | 2012-09-27 | 2013-03-14 | Jsr Corp | 液晶表示装置用基板の製造方法及び液晶表示装置用基板並びに液晶表示装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1200525A (zh) | 1998-12-02 |
| KR19980057643A (ko) | 1998-09-25 |
| US5946064A (en) | 1999-08-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2971838B2 (ja) | 磁場処理による液晶配向膜の製造方法 | |
| JP4515984B2 (ja) | 光学的要素 | |
| JP3452621B2 (ja) | 液晶表示素子用配向膜の形成方法 | |
| JP3893659B2 (ja) | 液晶配向処理方法 | |
| US6027772A (en) | Optical alignment composition, alignment layer formed using the same and LCD having the alignment layer | |
| JPH08328005A (ja) | 液晶配向膜、液晶配向膜の処理方法、液晶挟持基板、液晶表示素子、液晶表示素子の製造方法及び液晶配向膜用材料 | |
| JP2008076950A (ja) | 液晶表示パネル及びその製造方法 | |
| JPH08122750A (ja) | 液晶電気光学装置、それを利用した投射型表示装置及びそれらの駆動方法 | |
| JP6250544B2 (ja) | 強いｕｖ二色性を有する光配向層 | |
| JPH10282501A (ja) | 配向膜、その形成方法及び該配向膜を採用した液晶表示素子 | |
| JPH08114804A (ja) | 液晶表示素子およびその製造方法 | |
| JPH0772483A (ja) | 液晶素子用配向膜付基板およびその製造方法ならびに液晶素子 | |
| JPS6298326A (ja) | 液晶セル | |
| JP3107534B2 (ja) | 液晶表示素子及びその製造方法 | |
| KR980010518A (ko) | 액정표시소자의 배향막 형성용 조성물 | |
| CN104808392A (zh) | 显示基板、显示基板的制备方法和显示装置 | |
| JPH0194318A (ja) | 液晶表示素子 | |
| JP3173750B2 (ja) | 電気光学装置の作製方法 | |
| KR100268031B1 (ko) | 액정표시소자의 광배향막 형성방법 | |
| KR101166831B1 (ko) | 액정표시소자의 제조방법 및 제조장치 | |
| JP2000035578A (ja) | 配向膜形成方法及び液晶表示素子 | |
| JPH06337418A (ja) | 液晶電気光学装置 | |
| JP3026786B2 (ja) | 液晶表示素子及びその製造方法 | |
| JPH07239475A (ja) | 液晶分子の配向法 | |
| JP3212976B2 (ja) | 液晶電気光学装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050301 |