JPH10221850A - 水現像性感光組成物及びその製造方法 - Google Patents
水現像性感光組成物及びその製造方法Info
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- JPH10221850A JPH10221850A JP4458997A JP4458997A JPH10221850A JP H10221850 A JPH10221850 A JP H10221850A JP 4458997 A JP4458997 A JP 4458997A JP 4458997 A JP4458997 A JP 4458997A JP H10221850 A JPH10221850 A JP H10221850A
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- water
- meth
- photosensitive composition
- developable photosensitive
- polymer
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
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- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 貯蔵安定性が良好であり、水現像性、耐水性
及び耐インキ性に優れ、良好な反発弾性を有し、ムラの
ない印刷画像を与えることができ、かつ、経時的な変化
を起こすことがないフレキソ版材を得ることができる水
現像性感光組成物及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 熱可塑性弾性高分子(A)、イオン性基
及び光重合性二重結合を有する親水性高分子(B)、上
記イオン性基及び光重合性二重結合を有する親水性高分
子(B)とイオン対を形成することができるイオン性基
を有する架橋樹脂粒子(C)及び光重合開始剤(D)か
らなる水現像性感光組成物。
及び耐インキ性に優れ、良好な反発弾性を有し、ムラの
ない印刷画像を与えることができ、かつ、経時的な変化
を起こすことがないフレキソ版材を得ることができる水
現像性感光組成物及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 熱可塑性弾性高分子(A)、イオン性基
及び光重合性二重結合を有する親水性高分子(B)、上
記イオン性基及び光重合性二重結合を有する親水性高分
子(B)とイオン対を形成することができるイオン性基
を有する架橋樹脂粒子(C)及び光重合開始剤(D)か
らなる水現像性感光組成物。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、フレキソ印刷の版
材として使用される水現像性感光組成物及びその製造方
法に関する。
材として使用される水現像性感光組成物及びその製造方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】フレキソ印刷に使用される版材は、感光
性樹脂組成物からなり、版下を重ねた上から紫外線を照
射した後、紫外線により硬化しなかった部分を溶剤によ
り除去することによって製版することができるものであ
る。このようなフレキソ印刷の版材に使用される感光性
樹脂組成物としては、従来より、有機溶剤で現像するも
のが使用されていたが、毒性、引火性等の人体や環境へ
の安全性に問題があるため、現在では、水現像が可能で
ある感光性樹脂組成物が提案されている。また、フレキ
ソ印刷に使用するインキも、人体や環境への安全性の点
から、水性のものが使用されている。
性樹脂組成物からなり、版下を重ねた上から紫外線を照
射した後、紫外線により硬化しなかった部分を溶剤によ
り除去することによって製版することができるものであ
る。このようなフレキソ印刷の版材に使用される感光性
樹脂組成物としては、従来より、有機溶剤で現像するも
のが使用されていたが、毒性、引火性等の人体や環境へ
の安全性に問題があるため、現在では、水現像が可能で
ある感光性樹脂組成物が提案されている。また、フレキ
ソ印刷に使用するインキも、人体や環境への安全性の点
から、水性のものが使用されている。
【0003】特開昭52−134655号公報、特開昭
53−10648号公報、特開昭61−22339号公
報には、共役ジエン系炭化水素と、α,β−エチレン性
不飽和カルボン酸又はその塩を必須成分とし、これにモ
ノオレフィン系不飽和化合物を含有する共重合体と、光
重合性不飽和単量体と、光増感剤とを添加してなる感光
性樹脂組成物が開示されている。しかしながら、これら
の技術では、例えば、アルカリ水溶液、アルカリ水溶液
−有機溶剤系等の現像液による現像は可能であるが、p
H5.0〜9.0のいわゆる上水道水による現像は困難
であった。
53−10648号公報、特開昭61−22339号公
報には、共役ジエン系炭化水素と、α,β−エチレン性
不飽和カルボン酸又はその塩を必須成分とし、これにモ
ノオレフィン系不飽和化合物を含有する共重合体と、光
重合性不飽和単量体と、光増感剤とを添加してなる感光
性樹脂組成物が開示されている。しかしながら、これら
の技術では、例えば、アルカリ水溶液、アルカリ水溶液
−有機溶剤系等の現像液による現像は可能であるが、p
H5.0〜9.0のいわゆる上水道水による現像は困難
であった。
【0004】特開昭60−211451号公報には、共
役ジエン系炭化水素重合体又は共役ジエン系炭化水素と
モノオレフィン系不飽和化合物との共重合体、親水性高
分子化合物、非気体状エチレン性不飽和化合物及び光重
合開始剤を必須成分として含有する感光性エラストマー
組成物が開示されている。特開昭60−173055号
公報には、α,β−エチレン性不飽和基を含有する疎水
性オリゴマー、エラストマー水膨潤性物質及び光重合開
始剤を必須成分として含有する感光性樹脂組成物が開示
されている。
役ジエン系炭化水素重合体又は共役ジエン系炭化水素と
モノオレフィン系不飽和化合物との共重合体、親水性高
分子化合物、非気体状エチレン性不飽和化合物及び光重
合開始剤を必須成分として含有する感光性エラストマー
組成物が開示されている。特開昭60−173055号
公報には、α,β−エチレン性不飽和基を含有する疎水
性オリゴマー、エラストマー水膨潤性物質及び光重合開
始剤を必須成分として含有する感光性樹脂組成物が開示
されている。
【0005】これらの技術では、水系の現像液で現像す
るために親水性成分が多量に含まれているので水現像性
は良好であるが、親水性成分が多量に含まれることによ
って、従来の有機溶剤現像タイプのフレキソ版材と比較
して、弾性を付与するための熱可塑性エラストマーが格
段に少なくなる結果、得られる版材の弾性が不充分とな
り、印刷画像にムラができ、良好な印刷が行えない問題
があった。
るために親水性成分が多量に含まれているので水現像性
は良好であるが、親水性成分が多量に含まれることによ
って、従来の有機溶剤現像タイプのフレキソ版材と比較
して、弾性を付与するための熱可塑性エラストマーが格
段に少なくなる結果、得られる版材の弾性が不充分とな
り、印刷画像にムラができ、良好な印刷が行えない問題
があった。
【0006】特開平5−178946号公報には、エチ
レン性不飽和結合を有する化合物からなるマイクロゲル
微粒子と、感光性マイクロゲル及びエチレン性不飽和結
合を有する化合物からなる感光性樹脂組成物が開示され
ている。特開平7−114180号公報には、りん含有
親水性共重合体、熱可塑性エラストマー、エチレン性不
飽和結合を有するモノマー及び光重合開始剤からなる感
光性組成物が開示されている。特開平7−178946
号公報には、マイクロゲル・バインダー、エチレン性不
飽和結合を有するモノマー、光重合開始剤及び中和剤か
らなる感光性樹脂組成物が開示されている。
レン性不飽和結合を有する化合物からなるマイクロゲル
微粒子と、感光性マイクロゲル及びエチレン性不飽和結
合を有する化合物からなる感光性樹脂組成物が開示され
ている。特開平7−114180号公報には、りん含有
親水性共重合体、熱可塑性エラストマー、エチレン性不
飽和結合を有するモノマー及び光重合開始剤からなる感
光性組成物が開示されている。特開平7−178946
号公報には、マイクロゲル・バインダー、エチレン性不
飽和結合を有するモノマー、光重合開始剤及び中和剤か
らなる感光性樹脂組成物が開示されている。
【0007】しかしながら、これらの技術では、いずれ
も非気体状のエチレン性不飽和化合物を必須成分として
いることから、得られる樹脂組成物の貯蔵安定性が不充
分であり、得られるフレキソ版材自体の経時安定性も充
分ではなかった。また、未反応の非気体状のエチレン性
不飽和化合物が残存することによって、フレキソ版材の
物理的性質、とりわけ弾性や印刷中の耗滅等の機械的強
度を低下させ、また、印刷中にフレキソ版材がインク膨
潤する等の耐インキ性を低下させる問題があった。
も非気体状のエチレン性不飽和化合物を必須成分として
いることから、得られる樹脂組成物の貯蔵安定性が不充
分であり、得られるフレキソ版材自体の経時安定性も充
分ではなかった。また、未反応の非気体状のエチレン性
不飽和化合物が残存することによって、フレキソ版材の
物理的性質、とりわけ弾性や印刷中の耗滅等の機械的強
度を低下させ、また、印刷中にフレキソ版材がインク膨
潤する等の耐インキ性を低下させる問題があった。
【0008】特開平8−160618号公報には、共役
ジエン系炭化水素、架橋性粒子又は親水性高分子化合
物、非気体状エチレン性不飽和化合物及び光重合開始剤
を必須成分とする感光性樹脂組成物が開示されている。
この技術において、感光性樹脂組成物は親水性化合物か
らなる相が疎水性化合物からなる相の周囲に存在する形
態をとることにより、水現像性及び耐インキ性の相反す
る性能を向上させている。
ジエン系炭化水素、架橋性粒子又は親水性高分子化合
物、非気体状エチレン性不飽和化合物及び光重合開始剤
を必須成分とする感光性樹脂組成物が開示されている。
この技術において、感光性樹脂組成物は親水性化合物か
らなる相が疎水性化合物からなる相の周囲に存在する形
態をとることにより、水現像性及び耐インキ性の相反す
る性能を向上させている。
【0009】しかしながら、この技術では、上述の技術
と同様に、非気体状エチレン性不飽和化合物を必須成分
としているので、貯蔵安定性及びフレキソ版材自体の経
時安定性が不充分であった。更に、相構造のコントロー
ルがしにくいために、フレキソ版材の設計の自由度が小
さく、水現像性及び耐インキ性を向上させるための相構
造を安定して保持することは困難であった。
と同様に、非気体状エチレン性不飽和化合物を必須成分
としているので、貯蔵安定性及びフレキソ版材自体の経
時安定性が不充分であった。更に、相構造のコントロー
ルがしにくいために、フレキソ版材の設計の自由度が小
さく、水現像性及び耐インキ性を向上させるための相構
造を安定して保持することは困難であった。
【0010】上述してきたように、フレキソ版材には、
反発弾性、水現像性、耐水性、耐インキ性等の性能が必
要とされるが、反発弾性を高めようとすると、親水性成
分を少なくしなければならず、水現像性の低下を招来
し、逆に水現像性を向上させるために親水性成分を増加
させると、充分な反発弾性を得ることができない問題が
あった。また、耐水性及び耐インキ性は、親水性成分の
配合量が少ないほど良好になるが、これらの性能を向上
させると、水現像性が低下してしまう。従って、これら
すべての性質を安定してフレキソ版材に付与することが
できる感光性樹脂組成物を設計することは、従来の感光
性樹脂組成物においては非常に困難であった。
反発弾性、水現像性、耐水性、耐インキ性等の性能が必
要とされるが、反発弾性を高めようとすると、親水性成
分を少なくしなければならず、水現像性の低下を招来
し、逆に水現像性を向上させるために親水性成分を増加
させると、充分な反発弾性を得ることができない問題が
あった。また、耐水性及び耐インキ性は、親水性成分の
配合量が少ないほど良好になるが、これらの性能を向上
させると、水現像性が低下してしまう。従って、これら
すべての性質を安定してフレキソ版材に付与することが
できる感光性樹脂組成物を設計することは、従来の感光
性樹脂組成物においては非常に困難であった。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記に鑑
み、貯蔵安定性が良好であり、水現像性、耐水性及び耐
インキ性に優れ、良好な反発弾性を有し、ムラのない印
刷画像を与えることができ、かつ、経時的な変化を起こ
すことがないフレキソ版材を得ることができる水現像性
感光組成物及びその製造方法を提供することを目的とす
る。
み、貯蔵安定性が良好であり、水現像性、耐水性及び耐
インキ性に優れ、良好な反発弾性を有し、ムラのない印
刷画像を与えることができ、かつ、経時的な変化を起こ
すことがないフレキソ版材を得ることができる水現像性
感光組成物及びその製造方法を提供することを目的とす
る。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は、熱可塑性弾性
高分子(A)、イオン性基及び光重合性二重結合を有す
る親水性高分子(B)、上記イオン性基及び光重合性二
重結合を有する親水性高分子(B)とイオン対を形成す
ることができるイオン性基を有する架橋樹脂粒子(C)
及び光重合開始剤(D)からなる水現像性感光組成物で
ある。
高分子(A)、イオン性基及び光重合性二重結合を有す
る親水性高分子(B)、上記イオン性基及び光重合性二
重結合を有する親水性高分子(B)とイオン対を形成す
ることができるイオン性基を有する架橋樹脂粒子(C)
及び光重合開始剤(D)からなる水現像性感光組成物で
ある。
【0013】また、本発明は、上記水現像性感光組成物
の製造方法であって、イオン性基及び光重合性二重結合
を有する親水性高分子(B)、上記イオン性基及び光重
合性二重結合を有する親水性高分子(B)とイオン対を
形成することができるイオン性基を有する架橋樹脂粒子
(C)及び光重合開始剤(D)を溶剤に分散させ、混合
し、更に、熱可塑性弾性高分子(A)を混合分散させた
後、上記溶剤を除去する水現像性感光組成物の製造方法
である。以下に本発明を詳述する。
の製造方法であって、イオン性基及び光重合性二重結合
を有する親水性高分子(B)、上記イオン性基及び光重
合性二重結合を有する親水性高分子(B)とイオン対を
形成することができるイオン性基を有する架橋樹脂粒子
(C)及び光重合開始剤(D)を溶剤に分散させ、混合
し、更に、熱可塑性弾性高分子(A)を混合分散させた
後、上記溶剤を除去する水現像性感光組成物の製造方法
である。以下に本発明を詳述する。
【0014】本発明の水現像性感光組成物は、熱可塑性
弾性高分子(A)、イオン性基及び光重合性二重結合を
有する親水性高分子(B)、上記イオン性基及び光重合
性二重結合を有する親水性高分子(B)とイオン対を形
成することができるイオン性基を有する架橋樹脂粒子
(C)及び光重合開始剤(D)からなる。
弾性高分子(A)、イオン性基及び光重合性二重結合を
有する親水性高分子(B)、上記イオン性基及び光重合
性二重結合を有する親水性高分子(B)とイオン対を形
成することができるイオン性基を有する架橋樹脂粒子
(C)及び光重合開始剤(D)からなる。
【0015】上記熱可塑性弾性高分子(A)としては特
に限定されず、得られる水現像性感光組成物の用途に応
じて適宜選択することができるが、ハードセグメント/
ソフトセグメント/ハードセグメントからなるトリブロ
ック共重合体であることが好ましい。以下、ハードセグ
メント/ソフトセグメント/ハードセグメントからなる
トリブロック共重合体について詳細に説明する。
に限定されず、得られる水現像性感光組成物の用途に応
じて適宜選択することができるが、ハードセグメント/
ソフトセグメント/ハードセグメントからなるトリブロ
ック共重合体であることが好ましい。以下、ハードセグ
メント/ソフトセグメント/ハードセグメントからなる
トリブロック共重合体について詳細に説明する。
【0016】上記ハードセグメントは、ガラス転移温度
(Tg)が40℃以上、好ましくは、60℃以上の熱可
塑性非エラストマー状重合体であり、上記ソフトセグメ
ントは、ガラス転移温度(Tg)が20℃以下、好まし
くは、0℃以下の脂肪族共役ジエン系エラストマー状重
合体である。上記熱可塑性非エラストマー状重合体とし
ては、芳香族ビニル単量体からなるものが好ましい。上
記芳香族ビニル単量体としては特に限定されず、例え
ば、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレ
ン、p−t−ブチルスチレン、N,N−ジメチル−p−
アミノスチレン、N,N−ジエチル−p−アミノスチレ
ン、1,1−ジフェニルスチレン、ジビニルベンゼン、
ビニルピリジン等を挙げることができる。これらは単独
で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。なかで
も、スチレンが好ましい。
(Tg)が40℃以上、好ましくは、60℃以上の熱可
塑性非エラストマー状重合体であり、上記ソフトセグメ
ントは、ガラス転移温度(Tg)が20℃以下、好まし
くは、0℃以下の脂肪族共役ジエン系エラストマー状重
合体である。上記熱可塑性非エラストマー状重合体とし
ては、芳香族ビニル単量体からなるものが好ましい。上
記芳香族ビニル単量体としては特に限定されず、例え
ば、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレ
ン、p−t−ブチルスチレン、N,N−ジメチル−p−
アミノスチレン、N,N−ジエチル−p−アミノスチレ
ン、1,1−ジフェニルスチレン、ジビニルベンゼン、
ビニルピリジン等を挙げることができる。これらは単独
で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。なかで
も、スチレンが好ましい。
【0017】上記熱可塑性非エラストマー状重合体は、
必要により、上記芳香族ビニル単量体と、脂肪族ジエン
系単量体及び官能性単量体のうち少なくとも1種とを共
重合させたものであってもよい。この場合、上記芳香族
ビニル単量体の結合含量は、上記熱可塑性非エラストマ
ー状重合体中、45重量%以上が好ましい。45重量%
未満であると、ガラス転移温度(Tg)が40℃を下回
る結果、エラストマー状になる場合があり、本発明の目
的には合わない。
必要により、上記芳香族ビニル単量体と、脂肪族ジエン
系単量体及び官能性単量体のうち少なくとも1種とを共
重合させたものであってもよい。この場合、上記芳香族
ビニル単量体の結合含量は、上記熱可塑性非エラストマ
ー状重合体中、45重量%以上が好ましい。45重量%
未満であると、ガラス転移温度(Tg)が40℃を下回
る結果、エラストマー状になる場合があり、本発明の目
的には合わない。
【0018】上記脂肪族ジエン系単量体としては特に限
定されず、例えば、ブタジエン、イソプレン、1,3−
ペンタジエン、1,3−ヘキサジエン、2,3−ジメチ
ルブタジエン、2−メチル−1,3−ペンタジエン、
4,5−ジエチル−1,3−オクタジエン、3−ブチル
−1,3−オクタジエン、クロロプレン等を挙げること
ができる。これらは単独で使用してもよく、2種以上を
併用してもよい。なかでも、ブタジエン、イソプレンが
好ましい。上記官能性単量体としては特に限定されず、
例えば、(メタ)アクリル酸、2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート等を挙げることができる。
定されず、例えば、ブタジエン、イソプレン、1,3−
ペンタジエン、1,3−ヘキサジエン、2,3−ジメチ
ルブタジエン、2−メチル−1,3−ペンタジエン、
4,5−ジエチル−1,3−オクタジエン、3−ブチル
−1,3−オクタジエン、クロロプレン等を挙げること
ができる。これらは単独で使用してもよく、2種以上を
併用してもよい。なかでも、ブタジエン、イソプレンが
好ましい。上記官能性単量体としては特に限定されず、
例えば、(メタ)アクリル酸、2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート等を挙げることができる。
【0019】上記芳香族ビニル単量体と、脂肪族ジエン
系単量体及び官能性単量体のうち少なくとも1種との共
重合体としては、ランダム共重合体であってもよく、芳
香族ビニル単量体が重合体末端に向かって漸増したテー
パーブロック共重合体であってもよい。
系単量体及び官能性単量体のうち少なくとも1種との共
重合体としては、ランダム共重合体であってもよく、芳
香族ビニル単量体が重合体末端に向かって漸増したテー
パーブロック共重合体であってもよい。
【0020】上記ランダム共重合体を形成する方法とし
ては特に限定されず、例えば、それぞれの単量体を一定
割合で少量づつ重合系に添加する方法;ランダム化剤の
存在下で重合する方法等を挙げることができる。上記テ
ーパーブロック共重合体を形成する方法としては特に限
定されず、例えば、有効量のランダム化剤を存在させな
いで、それぞれの単量体の共存下で重合する方法等を挙
げることができる。
ては特に限定されず、例えば、それぞれの単量体を一定
割合で少量づつ重合系に添加する方法;ランダム化剤の
存在下で重合する方法等を挙げることができる。上記テ
ーパーブロック共重合体を形成する方法としては特に限
定されず、例えば、有効量のランダム化剤を存在させな
いで、それぞれの単量体の共存下で重合する方法等を挙
げることができる。
【0021】上記ソフトセグメントである脂肪族共役ジ
エン系エラストマー状重合体は、脂肪族共役ジエン系単
量体を主成分とするものである。上記脂肪族共役ジエン
系単量体としては特に限定されず、例えば、脂肪族ジエ
ン系単量体として例示したもの等を挙げることができ
る。これらは単独で使用してもよく、2種以上を併用し
てもよい。なかでも、工業的に利用しやすく、物性が優
れた熱可塑性弾性高分子(A)を得ることができるの
で、ブタジエン、イソプレン、1,3−ペンタジエン、
2,3−メチルブタジエンが好ましい。より好ましく
は、ブタジエン、イソプレンである。
エン系エラストマー状重合体は、脂肪族共役ジエン系単
量体を主成分とするものである。上記脂肪族共役ジエン
系単量体としては特に限定されず、例えば、脂肪族ジエ
ン系単量体として例示したもの等を挙げることができ
る。これらは単独で使用してもよく、2種以上を併用し
てもよい。なかでも、工業的に利用しやすく、物性が優
れた熱可塑性弾性高分子(A)を得ることができるの
で、ブタジエン、イソプレン、1,3−ペンタジエン、
2,3−メチルブタジエンが好ましい。より好ましく
は、ブタジエン、イソプレンである。
【0022】上記脂肪族共役ジエン系エラストマー状重
合体は、必要に応じて、芳香族ビニル単量体とランダム
共重合させたものであってもよい。上記芳香族ビニル単
量体としては特に限定されず、例えば、上述したもの等
を挙げることができる。上記脂肪族共役ジエン系単量体
と上記芳香族ビニル単量体とを共重合させる場合、上記
芳香族ビニル単量体の結合含量は、上記脂肪族共役ジエ
ン系エラストマー状重合体中、35重量%未満であるこ
とが好ましい。35重量%以上であると、ガラス転移温
度(Tg)が20℃を超える結果、エラストマー性が損
なわれる場合がある。上記ソフトセグメントは、上記ト
リブロック共重合体中、50〜95重量%が好ましい。
50重量%未満であると、共重合体が非常に硬いものと
なり、目的とするフレキソ版材の用途適合性がなくな
り、95重量%を超えると、充分なゴム性能、すなわ
ち、低硬度かつ高弾性や、機械的強度が発現されない。
合体は、必要に応じて、芳香族ビニル単量体とランダム
共重合させたものであってもよい。上記芳香族ビニル単
量体としては特に限定されず、例えば、上述したもの等
を挙げることができる。上記脂肪族共役ジエン系単量体
と上記芳香族ビニル単量体とを共重合させる場合、上記
芳香族ビニル単量体の結合含量は、上記脂肪族共役ジエ
ン系エラストマー状重合体中、35重量%未満であるこ
とが好ましい。35重量%以上であると、ガラス転移温
度(Tg)が20℃を超える結果、エラストマー性が損
なわれる場合がある。上記ソフトセグメントは、上記ト
リブロック共重合体中、50〜95重量%が好ましい。
50重量%未満であると、共重合体が非常に硬いものと
なり、目的とするフレキソ版材の用途適合性がなくな
り、95重量%を超えると、充分なゴム性能、すなわ
ち、低硬度かつ高弾性や、機械的強度が発現されない。
【0023】上記トリブロック共重合体は、例えば、上
記ハードセグメントを構成する芳香族ビニル単量体及び
上記ソフトセグメントを構成する脂肪族共役ジエン系単
量体を有機リチウム触媒を用いて重合する、いわゆるリ
ビングアニオン重合法等により得ることができる。上記
リビングアニオン重合法は、例えば、米国特許3317
918号明細書、米国特許3660563号明細書等に
開示されているように、ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒中、例えば、n
−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、ジリチウ
ムブタン等の有機リチウム触媒を用い、通常−30〜1
50℃、好ましくは、15〜130℃で、上記芳香族ビ
ニル単量体と脂肪族共役ジエン系単量体とを重合させる
方法である。上記重合の温度は、一定であってもよく、
熱除去しないで昇温させてもよい。上記リビングアニオ
ン重合法により得られる熱可塑性弾性高分子(A)の数
平均分子量(Mn)は、有機リチウム触媒の添加量によ
り調節することができる。
記ハードセグメントを構成する芳香族ビニル単量体及び
上記ソフトセグメントを構成する脂肪族共役ジエン系単
量体を有機リチウム触媒を用いて重合する、いわゆるリ
ビングアニオン重合法等により得ることができる。上記
リビングアニオン重合法は、例えば、米国特許3317
918号明細書、米国特許3660563号明細書等に
開示されているように、ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒中、例えば、n
−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、ジリチウ
ムブタン等の有機リチウム触媒を用い、通常−30〜1
50℃、好ましくは、15〜130℃で、上記芳香族ビ
ニル単量体と脂肪族共役ジエン系単量体とを重合させる
方法である。上記重合の温度は、一定であってもよく、
熱除去しないで昇温させてもよい。上記リビングアニオ
ン重合法により得られる熱可塑性弾性高分子(A)の数
平均分子量(Mn)は、有機リチウム触媒の添加量によ
り調節することができる。
【0024】上記リビングアニオン重合法に際しては、
例えば、特公昭59−36949号公報、特公昭57−
49049号公報等に開示されているように、重合体鎖
末端に活性リチウムが存在する状態で、カップリング剤
を所定量添加して、2以上、例えば、2〜4の重合体鎖
をカップリングさせることも可能である。上記カップリ
ング剤としては特に限定されず、例えば、アジピン酸ジ
エチル、ジビニルベンゼン、テトラクロロけい素、ブチ
ルトリクロロけい素、テトラクロロすず、ブチルトリク
ロロすず、ジメチルジクロロけい素、テトラクロロゲル
マニウム、1,2−ジブロモエタン、1,4−ジ(クロ
ロメチル)ベンゼン、ビス(トリクロロシリル)エタ
ン、エポキシ化あまに油、トリレンジイソシアネート、
1,2,4−ベンゼントリイソシアネート等を挙げるこ
とができる。
例えば、特公昭59−36949号公報、特公昭57−
49049号公報等に開示されているように、重合体鎖
末端に活性リチウムが存在する状態で、カップリング剤
を所定量添加して、2以上、例えば、2〜4の重合体鎖
をカップリングさせることも可能である。上記カップリ
ング剤としては特に限定されず、例えば、アジピン酸ジ
エチル、ジビニルベンゼン、テトラクロロけい素、ブチ
ルトリクロロけい素、テトラクロロすず、ブチルトリク
ロロすず、ジメチルジクロロけい素、テトラクロロゲル
マニウム、1,2−ジブロモエタン、1,4−ジ(クロ
ロメチル)ベンゼン、ビス(トリクロロシリル)エタ
ン、エポキシ化あまに油、トリレンジイソシアネート、
1,2,4−ベンゼントリイソシアネート等を挙げるこ
とができる。
【0025】上記トリブロック共重合体の数平均分子量
は、1万〜100万が好ましい。1万未満であると、分
子量が低いために、使用目的に応じた物理的性能や機械
的性能が不足してしまい、100万を超えると、非常に
溶液粘度が高いものとなり、溶剤中に分散させる操作等
が困難となる。より好ましくは、5万〜50万である。
は、1万〜100万が好ましい。1万未満であると、分
子量が低いために、使用目的に応じた物理的性能や機械
的性能が不足してしまい、100万を超えると、非常に
溶液粘度が高いものとなり、溶剤中に分散させる操作等
が困難となる。より好ましくは、5万〜50万である。
【0026】上記トリブロック共重合体は、上記ソフト
セグメント中に含まれる共役ジエン部分が水素添加され
ているものであってもよい。上記水素添加は、例えば、
特公昭63−4841号公報、特公昭63−5401号
公報等に開示されているように、上記トリブロック共重
合体を不活性溶媒に溶解し、水素化触媒の存在下、例え
ば、20〜150℃、1〜100kg/cm2 の加圧水
素雰囲気中で処理することにより行うことができる。
セグメント中に含まれる共役ジエン部分が水素添加され
ているものであってもよい。上記水素添加は、例えば、
特公昭63−4841号公報、特公昭63−5401号
公報等に開示されているように、上記トリブロック共重
合体を不活性溶媒に溶解し、水素化触媒の存在下、例え
ば、20〜150℃、1〜100kg/cm2 の加圧水
素雰囲気中で処理することにより行うことができる。
【0027】上記不活性溶媒としては特に限定されず、
例えば、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、エチルベンゼン等の炭化水素系溶媒;メ
チルエチルケトン、酢酸エチル、エチルエーテル、テト
ラヒドロフラン等の極性溶媒等を挙げることができる。
例えば、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、エチルベンゼン等の炭化水素系溶媒;メ
チルエチルケトン、酢酸エチル、エチルエーテル、テト
ラヒドロフラン等の極性溶媒等を挙げることができる。
【0028】上記水素化触媒としては特に限定されず、
例えば、ジシクロペンタジエチニルチタンハライド;有
機カルボン酸ニッケル;有機カルボン酸ニッケルと周期
律表第I〜III族の有機金属化合物とからなる系;カ
ーボン、シリカ、珪藻土等の担体に担持されたニッケ
ル、白金、パラジウム、ルテニウム、レニウム、ロジウ
ム等の金属;カーボン、シリカ珪藻土等の担体に担持さ
れたコバルト、ニッケルロジウム、ルテニウム等の金属
錯体;リチウムアルミニウムハイドライド;p−トルエ
ンスルホニルヒドラジド;Zr−Ti−Fe−V−Cr
合金;Zr−Ti−Nb−Fe−V−Cr合金;LaN
i5 合金等の水素吸蔵合金等を挙げることができる。
例えば、ジシクロペンタジエチニルチタンハライド;有
機カルボン酸ニッケル;有機カルボン酸ニッケルと周期
律表第I〜III族の有機金属化合物とからなる系;カ
ーボン、シリカ、珪藻土等の担体に担持されたニッケ
ル、白金、パラジウム、ルテニウム、レニウム、ロジウ
ム等の金属;カーボン、シリカ珪藻土等の担体に担持さ
れたコバルト、ニッケルロジウム、ルテニウム等の金属
錯体;リチウムアルミニウムハイドライド;p−トルエ
ンスルホニルヒドラジド;Zr−Ti−Fe−V−Cr
合金;Zr−Ti−Nb−Fe−V−Cr合金;LaN
i5 合金等の水素吸蔵合金等を挙げることができる。
【0029】上記水素添加は、上記水素化触媒の添加
量、水素添加時の水素圧力、反応時間等により調節する
ことができる。本発明においては、脂肪族共役ジエン部
分に残存する炭素−炭素二重結合を30モル%以下とす
ることが好ましい。30モル%を超えると、得られる水
現像性感光組成物の使用目的によっては、耐熱性、耐候
性、耐オゾン性等が不充分となるおそれがある。より好
ましくは、20モル%以下であり、更に好ましくは、1
0モル%以下である。
量、水素添加時の水素圧力、反応時間等により調節する
ことができる。本発明においては、脂肪族共役ジエン部
分に残存する炭素−炭素二重結合を30モル%以下とす
ることが好ましい。30モル%を超えると、得られる水
現像性感光組成物の使用目的によっては、耐熱性、耐候
性、耐オゾン性等が不充分となるおそれがある。より好
ましくは、20モル%以下であり、更に好ましくは、1
0モル%以下である。
【0030】上記水素添加されたトリブロック共重合体
は、反応後、水素化触媒を除去し、例えば、フェノール
系、アミン系等の老化防止剤を添加した後、反応溶液か
ら単離される。上記単離は、例えば、反応溶液にアセト
ン、アルコール等の溶剤を添加して上記水素添加された
トリブロック共重合体を沈殿させる方法、反応溶液を攪
拌下で熱湯中に投入した後、溶媒を除去する方法等によ
って行うことができる。
は、反応後、水素化触媒を除去し、例えば、フェノール
系、アミン系等の老化防止剤を添加した後、反応溶液か
ら単離される。上記単離は、例えば、反応溶液にアセト
ン、アルコール等の溶剤を添加して上記水素添加された
トリブロック共重合体を沈殿させる方法、反応溶液を攪
拌下で熱湯中に投入した後、溶媒を除去する方法等によ
って行うことができる。
【0031】上記水素添加されたトリブロック共重合体
の数平均分子量(Mn)は、通常、4万〜70万が好ま
しい。4万未満であると、得られる水現像性感光組成物
の光硬化後の強度、耐熱性等が低下する傾向があり、7
0万を超えると、水現像性感光組成物の流動性や加工性
が低下したり、成形外観が損なわれるおそれがある。よ
り好ましくは、5万〜50万である。
の数平均分子量(Mn)は、通常、4万〜70万が好ま
しい。4万未満であると、得られる水現像性感光組成物
の光硬化後の強度、耐熱性等が低下する傾向があり、7
0万を超えると、水現像性感光組成物の流動性や加工性
が低下したり、成形外観が損なわれるおそれがある。よ
り好ましくは、5万〜50万である。
【0032】上記水素添加されたトリブロック共重合体
としては、市販されているものを使用することもでき
る。例えば、セプトン(クラレ社製)、ダイナロン(日
本合成ゴム社製)等を挙げることができる。
としては、市販されているものを使用することもでき
る。例えば、セプトン(クラレ社製)、ダイナロン(日
本合成ゴム社製)等を挙げることができる。
【0033】上記熱可塑性弾性高分子(A)としては、
市販されているものを使用することもできる。例えば、
タプフレン(旭化成社製)、ソルトプレン(日本エラス
トマー社製)、JSR−DR(日本合成ゴム社製)、エ
ラストマーAR(アロン化成社製)、住友TPE−SP
(住友化学社製)、ユーロプレンSOL T(東ソー社
製)、KRATON Dシリーズ、KRATON Gシ
リーズ(いずれもシェル化学社製)等を挙げることがで
きる。
市販されているものを使用することもできる。例えば、
タプフレン(旭化成社製)、ソルトプレン(日本エラス
トマー社製)、JSR−DR(日本合成ゴム社製)、エ
ラストマーAR(アロン化成社製)、住友TPE−SP
(住友化学社製)、ユーロプレンSOL T(東ソー社
製)、KRATON Dシリーズ、KRATON Gシ
リーズ(いずれもシェル化学社製)等を挙げることがで
きる。
【0034】上記熱可塑性弾性高分子(A)は、カルボ
キシル基、水酸基、アミノ基及びエポキシ基からなる群
より選択される少なくとも1種の官能基を有していても
よい。上記官能基を有する場合には、得られる水現像性
感光組成物の水現像性を更に向上させることができる。
キシル基、水酸基、アミノ基及びエポキシ基からなる群
より選択される少なくとも1種の官能基を有していても
よい。上記官能基を有する場合には、得られる水現像性
感光組成物の水現像性を更に向上させることができる。
【0035】上記熱可塑性弾性高分子(A)に上記官能
基を導入する方法としては、例えば、特開平6−276
64号公報、特開平6−41256号公報等に開示され
ているような、芳香族ビニル単量体及び/又は脂肪族共
役ジエン系単量体と、上記官能基のうち少なくとも1種
を有する単量体とを共重合する方法;特公昭60−49
203号公報、特公平3−66326号公報等に開示さ
れているような、予め製造された熱可塑性弾性高分子
に、上記官能基のうち少なくとも1種を有する反応性化
合物をグラフト反応させる方法等を挙げることができ
る。なかでも、得られる水現像性感光組成物の特性を幅
広い範囲で容易に制御する点において優れているので、
グラフト反応させる方法が現実的であり、好ましい。
基を導入する方法としては、例えば、特開平6−276
64号公報、特開平6−41256号公報等に開示され
ているような、芳香族ビニル単量体及び/又は脂肪族共
役ジエン系単量体と、上記官能基のうち少なくとも1種
を有する単量体とを共重合する方法;特公昭60−49
203号公報、特公平3−66326号公報等に開示さ
れているような、予め製造された熱可塑性弾性高分子
に、上記官能基のうち少なくとも1種を有する反応性化
合物をグラフト反応させる方法等を挙げることができ
る。なかでも、得られる水現像性感光組成物の特性を幅
広い範囲で容易に制御する点において優れているので、
グラフト反応させる方法が現実的であり、好ましい。
【0036】上記官能基のうち少なくとも1種を有する
単量体としては特に限定されず、例えば、アクリル酸、
メタクリル酸、(無水)マレイン酸等のカルボキシル基
含有化合物;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3
−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等の水酸基
含有化合物;2−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリ
レート、2−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレー
ト、2−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレー
ト、3−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート
等のアミノ基含有化合物;グリシジル(メタ)アクリレ
ート等のエポキシ基含有化合物等を挙げることができ
る。
単量体としては特に限定されず、例えば、アクリル酸、
メタクリル酸、(無水)マレイン酸等のカルボキシル基
含有化合物;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3
−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等の水酸基
含有化合物;2−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリ
レート、2−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレー
ト、2−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレー
ト、3−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート
等のアミノ基含有化合物;グリシジル(メタ)アクリレ
ート等のエポキシ基含有化合物等を挙げることができ
る。
【0037】上記官能基の導入割合としては、上記熱可
塑性弾性高分子(A)の全繰り返し単位に対して、通
常、40モル%以下が好ましい。より好ましくは、0.
1〜30モル%である。
塑性弾性高分子(A)の全繰り返し単位に対して、通
常、40モル%以下が好ましい。より好ましくは、0.
1〜30モル%である。
【0038】上記熱可塑性弾性高分子(A)の配合量
は、得られる水現像性感光組成物の使用目的に応じて適
宜設定されるが、水現像性感光組成物の固形分に対し
て、40〜90重量%であることが好ましい。40重量
%未満であると、水現像性感光組成物から形成されるフ
レキソ版材の反発弾性が不充分となるばかりでなく、熱
可塑性弾性高分子(A)以外の成分による性質が強くな
ってしまい、90重量%を超えると、親水性成分が少な
くなって水現像性が低下し、また、親水性成分中に充分
に分散されない。より好ましくは、50〜80重量%で
ある。
は、得られる水現像性感光組成物の使用目的に応じて適
宜設定されるが、水現像性感光組成物の固形分に対し
て、40〜90重量%であることが好ましい。40重量
%未満であると、水現像性感光組成物から形成されるフ
レキソ版材の反発弾性が不充分となるばかりでなく、熱
可塑性弾性高分子(A)以外の成分による性質が強くな
ってしまい、90重量%を超えると、親水性成分が少な
くなって水現像性が低下し、また、親水性成分中に充分
に分散されない。より好ましくは、50〜80重量%で
ある。
【0039】本発明で使用されるイオン性基及び光重合
性二重結合を有する親水性高分子(B)としては特に限
定されず、例えば、重合性単量体からなる重合体等を骨
格とするものであって、イオン性基及び光重合性二重結
合を有するものである。上記重合性単量体としては特に
限定されず、例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシ
プロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレ
ート、ヒドロキシブチルアクリレート、ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、アリルアルコール、メタアリルアル
コール、エチレングリコールモノ(メタ)アクリレー
ト、エチレングリコールモノアルキルエーテルモノ(メ
タ)アクリレート、ジエチレングリコールモノ(メタ)
アクリレート、ジエチレングリコールモノアルキルエー
テルモノ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコー
ルモノ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモ
ノアルキルエーテルモノ(メタ)アクリレート、分子量
200〜1000のポリエチレングリコールモノ(メ
タ)アクリレート、分子量200〜1000のポリエチ
レングリコールモノアルキルエーテルモノ(メタ)アク
リレート等の水酸基含有単量体;メチルアクリレート、
メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメ
タクリレート、n−ブチルアクリレート、n−ブチルメ
タクリレート、イソブチルアクリレート、2−エチルヘ
キシルアクリレート、ラウリルメタクリレート、フェニ
ルアクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、ビニ
ルケトン、t−ブチルスチレン、パラクロロスチレン、
ビニルナフタレン等のビニル単量体等を挙げることがで
きる。これらは単独で使用してもよく、2種以上を併用
してもよい。
性二重結合を有する親水性高分子(B)としては特に限
定されず、例えば、重合性単量体からなる重合体等を骨
格とするものであって、イオン性基及び光重合性二重結
合を有するものである。上記重合性単量体としては特に
限定されず、例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシ
プロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレ
ート、ヒドロキシブチルアクリレート、ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、アリルアルコール、メタアリルアル
コール、エチレングリコールモノ(メタ)アクリレー
ト、エチレングリコールモノアルキルエーテルモノ(メ
タ)アクリレート、ジエチレングリコールモノ(メタ)
アクリレート、ジエチレングリコールモノアルキルエー
テルモノ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコー
ルモノ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモ
ノアルキルエーテルモノ(メタ)アクリレート、分子量
200〜1000のポリエチレングリコールモノ(メ
タ)アクリレート、分子量200〜1000のポリエチ
レングリコールモノアルキルエーテルモノ(メタ)アク
リレート等の水酸基含有単量体;メチルアクリレート、
メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメ
タクリレート、n−ブチルアクリレート、n−ブチルメ
タクリレート、イソブチルアクリレート、2−エチルヘ
キシルアクリレート、ラウリルメタクリレート、フェニ
ルアクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、ビニ
ルケトン、t−ブチルスチレン、パラクロロスチレン、
ビニルナフタレン等のビニル単量体等を挙げることがで
きる。これらは単独で使用してもよく、2種以上を併用
してもよい。
【0040】上記重合性単量体の重合方法としては特に
限定されず、例えば、付加重合、縮合重合、開環重合等
を挙げることができる。上記重合方法は、使用する重合
性単量体の種類に応じて、適宜選択されるが、一般に、
付加重合で行われることが好ましい。
限定されず、例えば、付加重合、縮合重合、開環重合等
を挙げることができる。上記重合方法は、使用する重合
性単量体の種類に応じて、適宜選択されるが、一般に、
付加重合で行われることが好ましい。
【0041】上記親水性高分子(B)において、上記重
合性単量体の種類や組み合わせを適宜選択することによ
り、光硬化後の水現像性感光組成物に所望の特性を付与
することができる。
合性単量体の種類や組み合わせを適宜選択することによ
り、光硬化後の水現像性感光組成物に所望の特性を付与
することができる。
【0042】上記親水性高分子(B)は、後に詳細に説
明する架橋樹脂粒子(C)とイオン対を形成することが
できるイオン性基を少なくとも1種含むものである。上
記イオン性基としては、例えば、カルボキシル基、りん
酸基、スルホン酸基、アミノ基、イミノ基等を挙げるこ
とができる。
明する架橋樹脂粒子(C)とイオン対を形成することが
できるイオン性基を少なくとも1種含むものである。上
記イオン性基としては、例えば、カルボキシル基、りん
酸基、スルホン酸基、アミノ基、イミノ基等を挙げるこ
とができる。
【0043】上記イオン性基の導入方法としては特に限
定されず、例えば、上記イオン性基を有する重合性不飽
和単量体と上記重合性単量体とを共重合させる方法;上
記重合性単量体を予め重合することにより合成された重
合体を変性して、上記イオン性基を導入する方法;上記
重合の際に添加する開始剤として、イオン性基を有する
ものを使用する方法等を挙げることができる。
定されず、例えば、上記イオン性基を有する重合性不飽
和単量体と上記重合性単量体とを共重合させる方法;上
記重合性単量体を予め重合することにより合成された重
合体を変性して、上記イオン性基を導入する方法;上記
重合の際に添加する開始剤として、イオン性基を有する
ものを使用する方法等を挙げることができる。
【0044】上記イオン性基を有する重合性不飽和単量
体と上記重合性単量体とを共重合させる方法において、
上記イオン性基を有する重合性不飽和単量体としては特
に限定されず、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、ク
ロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸等のカル
ボキシル基含有単量体;ジメチルアミノエチルアクリレ
ート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジメチル
アミノプロピルアクリレート、ジメチルアミノプロピル
メタクリレート、ジメチルアミノプロピル(メタ)アク
リルアミド等のアルキル(メタ)アクリレート等のアミ
ノ基含有単量体;ビニルスルホン酸等のスルホン酸基含
有単量体;モノ[2−(メタ)アクリロイルオキシエチ
ル]アシッドホスフェート、3−クロロ−2−アシッド
ホスホオキシプロピル(メタ)アクリレート等のりん酸
基含有単量体等を挙げることができる。
体と上記重合性単量体とを共重合させる方法において、
上記イオン性基を有する重合性不飽和単量体としては特
に限定されず、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、ク
ロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸等のカル
ボキシル基含有単量体;ジメチルアミノエチルアクリレ
ート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジメチル
アミノプロピルアクリレート、ジメチルアミノプロピル
メタクリレート、ジメチルアミノプロピル(メタ)アク
リルアミド等のアルキル(メタ)アクリレート等のアミ
ノ基含有単量体;ビニルスルホン酸等のスルホン酸基含
有単量体;モノ[2−(メタ)アクリロイルオキシエチ
ル]アシッドホスフェート、3−クロロ−2−アシッド
ホスホオキシプロピル(メタ)アクリレート等のりん酸
基含有単量体等を挙げることができる。
【0045】上記重合性単量体を予め重合することによ
り合成された重合体を変性して、上記イオン性基を導入
する方法において、上記変性は、上記重合体を合成する
際に、無水マレイン酸、無水フマル酸、無水イタコン酸
等の環状酸無水物を付加させておき、それを開環させて
目的のイオン性基を導入することにより行うことができ
る。
り合成された重合体を変性して、上記イオン性基を導入
する方法において、上記変性は、上記重合体を合成する
際に、無水マレイン酸、無水フマル酸、無水イタコン酸
等の環状酸無水物を付加させておき、それを開環させて
目的のイオン性基を導入することにより行うことができ
る。
【0046】上記重合の際に添加する開始剤としてイオ
ン性基を有するものを使用する方法において、上記開始
剤としては特に限定されず、例えば、2,2′−アゾビ
ス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]
(VA−061;和光純薬社製)、2,2′−アゾビス
[2−(3,4,5,6−テトラヒドロピリミジン−2
−イル)プロパン]ジヒドロクロライド(VA−05
8;和光純薬社製)等のイミノ基を含有するもの等を挙
げることができる。
ン性基を有するものを使用する方法において、上記開始
剤としては特に限定されず、例えば、2,2′−アゾビ
ス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]
(VA−061;和光純薬社製)、2,2′−アゾビス
[2−(3,4,5,6−テトラヒドロピリミジン−2
−イル)プロパン]ジヒドロクロライド(VA−05
8;和光純薬社製)等のイミノ基を含有するもの等を挙
げることができる。
【0047】上記親水性高分子(B)は、更に、光重合
性二重結合を有するものである。上記光重合性の二重結
合は、後で詳細に説明する光重合開始剤(D)の存在下
における感光により、重合することができる。上記光重
合性二重結合は、光重合性単量体により導入することが
できる。
性二重結合を有するものである。上記光重合性の二重結
合は、後で詳細に説明する光重合開始剤(D)の存在下
における感光により、重合することができる。上記光重
合性二重結合は、光重合性単量体により導入することが
できる。
【0048】上記光重合性単量体としては特に限定され
ず、例えば、以下のものを挙げることができる。スチレ
ン、α−メチルスチレン、o−メチルスチレン、m−メ
チルスチレン、p−メチルスチレン、p−t−ブチルス
チレン、o−メトキシスチレン、m−メトキシスチレ
ン、p−メトキシスチレン、o−クロロスチレン、m−
クロロスチレン、p−クロロスチレン、1,1−ジフェ
ニルエチレン、ジビニルベンゼン、ジイソプロペニルベ
ンゼン等の芳香族ビニル単量体;o−ヒドロキシスチレ
ン、o−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、p−ヒドロ
キシ−α−メチルスチレン、p−ビニルベンジルアルコ
ール等の水酸基含有芳香族ビニル単量体;(メタ)アク
リロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、α−クロ
ロメチルアクリロニトリル、α−メトキシアクリロニト
リル、α−エトキシアクリロニトリル、クロトン酸ニト
リル、桂皮酸ニトリル、イタコン酸ジニトリル、マレイ
ン酸ジニトリル、フマル酸ジニトリル等の不飽和ニトリ
ル類;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)ア
クリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソ
プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)ア
クリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、sec
−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)ア
クリレート、n−アミル(メタ)アクリレート、n−オ
クチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メ
タ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ス
テアリル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)ア
クリレート類;トリフルオロプロピル(メタ)アクリレ
ート、ヘプタフルオロブチル(メタ)アクリレート等の
フルオロアルキル(メタ)アクリレート類;エチレング
リコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパ
ンジオール、3−クロロ−1,2−プロパンジオール、
1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、
1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、
1,6−ヘキサンジオール等のアルキレングリコールの
モノ又はジ(メタ)アクリレート類;ポリエチレングリ
コール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレン
グリコールのモノ又はジ(メタ)アクリレート類;グリ
セリン、1,2,4−ブタントリオール、トリメチロー
ルプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリ
トール等の3価以上の多価アルコールのモノ又はポリ
(メタ)アクリレート類;3価以上の多価アルコールの
ポリアルキレングリコール付加物のモノ又はオリゴ(メ
タ)アクリレート類。
ず、例えば、以下のものを挙げることができる。スチレ
ン、α−メチルスチレン、o−メチルスチレン、m−メ
チルスチレン、p−メチルスチレン、p−t−ブチルス
チレン、o−メトキシスチレン、m−メトキシスチレ
ン、p−メトキシスチレン、o−クロロスチレン、m−
クロロスチレン、p−クロロスチレン、1,1−ジフェ
ニルエチレン、ジビニルベンゼン、ジイソプロペニルベ
ンゼン等の芳香族ビニル単量体;o−ヒドロキシスチレ
ン、o−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、p−ヒドロ
キシ−α−メチルスチレン、p−ビニルベンジルアルコ
ール等の水酸基含有芳香族ビニル単量体;(メタ)アク
リロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、α−クロ
ロメチルアクリロニトリル、α−メトキシアクリロニト
リル、α−エトキシアクリロニトリル、クロトン酸ニト
リル、桂皮酸ニトリル、イタコン酸ジニトリル、マレイ
ン酸ジニトリル、フマル酸ジニトリル等の不飽和ニトリ
ル類;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)ア
クリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソ
プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)ア
クリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、sec
−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)ア
クリレート、n−アミル(メタ)アクリレート、n−オ
クチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メ
タ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ス
テアリル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)ア
クリレート類;トリフルオロプロピル(メタ)アクリレ
ート、ヘプタフルオロブチル(メタ)アクリレート等の
フルオロアルキル(メタ)アクリレート類;エチレング
リコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパ
ンジオール、3−クロロ−1,2−プロパンジオール、
1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、
1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、
1,6−ヘキサンジオール等のアルキレングリコールの
モノ又はジ(メタ)アクリレート類;ポリエチレングリ
コール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレン
グリコールのモノ又はジ(メタ)アクリレート類;グリ
セリン、1,2,4−ブタントリオール、トリメチロー
ルプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリ
トール等の3価以上の多価アルコールのモノ又はポリ
(メタ)アクリレート類;3価以上の多価アルコールの
ポリアルキレングリコール付加物のモノ又はオリゴ(メ
タ)アクリレート類。
【0049】2−メトキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、2−メ
トキシプロピル(メタ)アクリレート、3−メトキシプ
ロピル(メタ)アクリレート、2−エトキシプロピル
(メタ)アクリレート、3−エトキシプロピル(メタ)
アクリレート等のアルコキシアルキル(メタ)アクリレ
ート類;メトキシポリエチレングリコール、エトキシポ
リエチレングリコール、メトキシポリプロピレングリコ
ール、エトキシポリプロピレングリコール等のアルコキ
シポリアルキレングリコールの(メタ)アクリレート
類;2−フェノキシエチル(メタ)アクリレート、2−
フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、3−フェノ
キシプロピレン(メタ)アクリレート等のアリーロキシ
アルキル(メタ)アクリレート類;フェノキシポリエチ
レングリコール、フェノキシポリプロピレングリコール
等のアリーロキシポリアルキレングリコールのモノ(メ
タ)アクリレート類;2−シアノエチル(メタ)アクリ
レート、2−シアノプロピレン(メタ)アクリレート等
のシアノアルキル(メタ)アクリレート類;1,4−シ
クロヘキサンジオール、1,4−ベンゼンジオール、
1,4−ジヒドロキシエチルベンゼン等の環式ポリオー
ルのモノ又はオリゴ(メタ)アクリレート類;両末端ヒ
ドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプ
レン、両末端ヒドロキシブタジエン−アクリロニトリル
共重合体、両末端ヒドロキシポリカプロラクトン等の両
末端に水酸基を有する重合体のジ(メタ)アクリレート
類;ポリエステル樹脂(メタ)アクリレート、エポキシ
樹脂(メタ)アクリレート、ウレタン樹脂(メタ)アク
リレート、アルキド樹脂(メタ)アクリレート、シリコ
ーン樹脂(メタ)アクリレート、スピラン樹脂(メタ)
アクリレート等のオリゴ(メタ)アクリレート類;クロ
トン酸メチル、クロトン酸エチル、クロトン酸プロピ
ル、クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、クロトン
酸オクチル、クロトン酸2−エチルヘキシル、クロトン
酸2−ヒドロキシエチル、クロトン酸2−ヒドロキシプ
ロピル、桂皮酸プロピル、桂皮酸ブチル、桂皮酸ヘキシ
ル、桂皮酸オクチル、桂皮酸2−エチルヘキシル、桂皮
酸2−ヒドロキシエチル、桂皮酸2−ヒドロキシプロピ
ル等の(メタ)アクリル酸以外の不飽和モノカルボン酸
エステル類;マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、
イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、メサコン
酸等の不飽和ジカルボン酸のジメチルエステル、ジエチ
ルエステル、ジプロピルエステル、ジブチルエステル、
ジヘキシルエステル等のジエステル類;不飽和ジカルボ
ン酸のジニトリル類;不飽和ジカルボン酸のジアミド
類。
ト、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、2−メ
トキシプロピル(メタ)アクリレート、3−メトキシプ
ロピル(メタ)アクリレート、2−エトキシプロピル
(メタ)アクリレート、3−エトキシプロピル(メタ)
アクリレート等のアルコキシアルキル(メタ)アクリレ
ート類;メトキシポリエチレングリコール、エトキシポ
リエチレングリコール、メトキシポリプロピレングリコ
ール、エトキシポリプロピレングリコール等のアルコキ
シポリアルキレングリコールの(メタ)アクリレート
類;2−フェノキシエチル(メタ)アクリレート、2−
フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、3−フェノ
キシプロピレン(メタ)アクリレート等のアリーロキシ
アルキル(メタ)アクリレート類;フェノキシポリエチ
レングリコール、フェノキシポリプロピレングリコール
等のアリーロキシポリアルキレングリコールのモノ(メ
タ)アクリレート類;2−シアノエチル(メタ)アクリ
レート、2−シアノプロピレン(メタ)アクリレート等
のシアノアルキル(メタ)アクリレート類;1,4−シ
クロヘキサンジオール、1,4−ベンゼンジオール、
1,4−ジヒドロキシエチルベンゼン等の環式ポリオー
ルのモノ又はオリゴ(メタ)アクリレート類;両末端ヒ
ドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプ
レン、両末端ヒドロキシブタジエン−アクリロニトリル
共重合体、両末端ヒドロキシポリカプロラクトン等の両
末端に水酸基を有する重合体のジ(メタ)アクリレート
類;ポリエステル樹脂(メタ)アクリレート、エポキシ
樹脂(メタ)アクリレート、ウレタン樹脂(メタ)アク
リレート、アルキド樹脂(メタ)アクリレート、シリコ
ーン樹脂(メタ)アクリレート、スピラン樹脂(メタ)
アクリレート等のオリゴ(メタ)アクリレート類;クロ
トン酸メチル、クロトン酸エチル、クロトン酸プロピ
ル、クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、クロトン
酸オクチル、クロトン酸2−エチルヘキシル、クロトン
酸2−ヒドロキシエチル、クロトン酸2−ヒドロキシプ
ロピル、桂皮酸プロピル、桂皮酸ブチル、桂皮酸ヘキシ
ル、桂皮酸オクチル、桂皮酸2−エチルヘキシル、桂皮
酸2−ヒドロキシエチル、桂皮酸2−ヒドロキシプロピ
ル等の(メタ)アクリル酸以外の不飽和モノカルボン酸
エステル類;マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、
イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、メサコン
酸等の不飽和ジカルボン酸のジメチルエステル、ジエチ
ルエステル、ジプロピルエステル、ジブチルエステル、
ジヘキシルエステル等のジエステル類;不飽和ジカルボ
ン酸のジニトリル類;不飽和ジカルボン酸のジアミド
類。
【0050】(メタ)アクリルアミド、N,N′−メチ
レンビス(メタ)アクリルアミド、N,N′−エチレン
ビス(メタ)アクリルアミド、N,N′−ヘキサメチレ
ンビス(メタ)アクリルアミド、クロトン酸アミド、桂
皮酸アミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルア
ミド、N−(2−ヒドロキシエチル)(メタ)アクリル
アミド、N−(2−ヒドロキシプロピル)(メタ)アク
リルアミド、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)
(メタ)アクリルアミド、クロトン酸N−ヒドロキシメ
チルアミド、クロトン酸N−(2−ヒドロキシエチル)
アミド、クロトン酸N−(2−ヒドロキシプロピル)ア
ミド、桂皮酸N−ヒドロキシメチルアミド、桂皮酸N−
(2−ヒドロキシエチル)アミド、桂皮酸N−(2−ヒ
ドロキシプロピル)アミド等の不飽和モノカルボン酸ア
ミド類;(メタ)アリルアルコール、エチレングリコー
ルモノビニルエーテル、エチレングリコールモノアリル
エーテル、プロピレングリコールモノビニルエーテル、
プロピレングリコールモノアリルエーテル等の不飽和ア
ルコール類;グリシジル(メタ)アクリレートアリルグ
リシジルエーテル等のエポキシ基含有不飽和化合物;塩
化ビニル、酢酸ビニル、ジシクロペンタジエン、エチリ
デンノルボネン等。
レンビス(メタ)アクリルアミド、N,N′−エチレン
ビス(メタ)アクリルアミド、N,N′−ヘキサメチレ
ンビス(メタ)アクリルアミド、クロトン酸アミド、桂
皮酸アミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルア
ミド、N−(2−ヒドロキシエチル)(メタ)アクリル
アミド、N−(2−ヒドロキシプロピル)(メタ)アク
リルアミド、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)
(メタ)アクリルアミド、クロトン酸N−ヒドロキシメ
チルアミド、クロトン酸N−(2−ヒドロキシエチル)
アミド、クロトン酸N−(2−ヒドロキシプロピル)ア
ミド、桂皮酸N−ヒドロキシメチルアミド、桂皮酸N−
(2−ヒドロキシエチル)アミド、桂皮酸N−(2−ヒ
ドロキシプロピル)アミド等の不飽和モノカルボン酸ア
ミド類;(メタ)アリルアルコール、エチレングリコー
ルモノビニルエーテル、エチレングリコールモノアリル
エーテル、プロピレングリコールモノビニルエーテル、
プロピレングリコールモノアリルエーテル等の不飽和ア
ルコール類;グリシジル(メタ)アクリレートアリルグ
リシジルエーテル等のエポキシ基含有不飽和化合物;塩
化ビニル、酢酸ビニル、ジシクロペンタジエン、エチリ
デンノルボネン等。
【0051】(メタ)アクリル酸、クロトン酸、桂皮酸
等の不飽和カルボン酸類;マレイン酸、無水マレイン
酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコ
ン酸、メサコン酸等の不飽和ポリカルボン酸(無水物)
類;マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン
酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸等の不
飽和ポリカルボン酸のモノメチルエステル、モノエチル
エステル、モノプロピレンエステル、モノブチルエステ
ル、モノヘキシルエステル、モノオクチルエステル、モ
ノ−2−エチルヘキシルエステル等の遊離カルボキシル
基含有エステル類;不飽和ポリカルボン酸のモノ(2−
ヒドロキシエチル)エステル、モノ(2−ヒドロキシプ
ロピル)エステル等の遊離カルボキシル基含有ヒドロキ
シアルキルエステル類;不飽和ポリカルボン酸のモノニ
トリル等の遊離カルボキシル基含有ニトリル類;不飽和
ポリカルボン酸のモノアミド等の遊離カルボキシル基含
有アミド類;不飽和ポリカルボン酸の遊離カルボキシル
基含有アミドのN−ヒドロキシアルキル誘導体;フタル
酸、コハク酸、アジピン酸等の非重合性ポリカルボン酸
とアリルアルコール、2−ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレート等の水酸基含有不飽和化合物との遊離カルボ
キシル基含有エステル類。
等の不飽和カルボン酸類;マレイン酸、無水マレイン
酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコ
ン酸、メサコン酸等の不飽和ポリカルボン酸(無水物)
類;マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン
酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸等の不
飽和ポリカルボン酸のモノメチルエステル、モノエチル
エステル、モノプロピレンエステル、モノブチルエステ
ル、モノヘキシルエステル、モノオクチルエステル、モ
ノ−2−エチルヘキシルエステル等の遊離カルボキシル
基含有エステル類;不飽和ポリカルボン酸のモノ(2−
ヒドロキシエチル)エステル、モノ(2−ヒドロキシプ
ロピル)エステル等の遊離カルボキシル基含有ヒドロキ
シアルキルエステル類;不飽和ポリカルボン酸のモノニ
トリル等の遊離カルボキシル基含有ニトリル類;不飽和
ポリカルボン酸のモノアミド等の遊離カルボキシル基含
有アミド類;不飽和ポリカルボン酸の遊離カルボキシル
基含有アミドのN−ヒドロキシアルキル誘導体;フタル
酸、コハク酸、アジピン酸等の非重合性ポリカルボン酸
とアリルアルコール、2−ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレート等の水酸基含有不飽和化合物との遊離カルボ
キシル基含有エステル類。
【0052】アミノメチル(メタ)アクリレート、2−
アミノエチル(メタ)アクリレート、2−アミノプロピ
ル(メタ)アクリレート、3−アミノプロピル(メタ)
アクリレート、2−アミノエトキシエチル(メタ)アク
リレート、N−アミノメチル(メタ)アクリルアミド、
N−2−アミノエチル(メタ)アクリルアミド、N−2
−アミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N−3−ア
ミノプロピル(メタ)アクリルアミド、o−アミノスチ
レン、m−アミノスチレン、p−アミノスチレン等の第
1級アミノ基含有単量体;メチルアミノメチル(メタ)
アクリレート、エチルアミノメチル(メタ)アクリレー
ト、2−メチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2
−エチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−プロ
ピルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−メチルア
ミノプロピル(メタ)アクリレート、3−メチルアミノ
プロピル(メタ)アクリレート、2−エチルアミノプロ
ピル(メタ)アクリレート、3−エチルアミノプロピル
(メタ)アクリレート、2−プロピルアミノプロピル
(メタ)アクリレート、3−プロピルアミノプロピル
(メタ)アクリレート、2−メチルアミノエトキシエチ
ル(メタ)アクリレート、2−エチルアミノエトキシエ
チル(メタ)アクリレート、N−メチルアミノメチル
(メタ)アクリルアミド、N−エチルアミノメチル(メ
タ)アクリルアミド、N−2−メチルアミノエチル(メ
タ)アクリルアミド、N−2−エチルアミノエチル(メ
タ)アクリルアミド、N−2−メチルアミノプロピル
(メタ)アクリルアミド、N−3−メチルアミノプロピ
ル(メタ)アクリルアミド、N−メチルo−アミノスチ
レン、N−メチル−m−アミノスチレン、N−メチル−
p−アミノスチレン、N−エチル−o−アミノスチレ
ン、N−エチル−m−アミノスチレン、N−エチル−p
−アミノスチレン等の第2級アミノ基含有単量体。
アミノエチル(メタ)アクリレート、2−アミノプロピ
ル(メタ)アクリレート、3−アミノプロピル(メタ)
アクリレート、2−アミノエトキシエチル(メタ)アク
リレート、N−アミノメチル(メタ)アクリルアミド、
N−2−アミノエチル(メタ)アクリルアミド、N−2
−アミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N−3−ア
ミノプロピル(メタ)アクリルアミド、o−アミノスチ
レン、m−アミノスチレン、p−アミノスチレン等の第
1級アミノ基含有単量体;メチルアミノメチル(メタ)
アクリレート、エチルアミノメチル(メタ)アクリレー
ト、2−メチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2
−エチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−プロ
ピルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−メチルア
ミノプロピル(メタ)アクリレート、3−メチルアミノ
プロピル(メタ)アクリレート、2−エチルアミノプロ
ピル(メタ)アクリレート、3−エチルアミノプロピル
(メタ)アクリレート、2−プロピルアミノプロピル
(メタ)アクリレート、3−プロピルアミノプロピル
(メタ)アクリレート、2−メチルアミノエトキシエチ
ル(メタ)アクリレート、2−エチルアミノエトキシエ
チル(メタ)アクリレート、N−メチルアミノメチル
(メタ)アクリルアミド、N−エチルアミノメチル(メ
タ)アクリルアミド、N−2−メチルアミノエチル(メ
タ)アクリルアミド、N−2−エチルアミノエチル(メ
タ)アクリルアミド、N−2−メチルアミノプロピル
(メタ)アクリルアミド、N−3−メチルアミノプロピ
ル(メタ)アクリルアミド、N−メチルo−アミノスチ
レン、N−メチル−m−アミノスチレン、N−メチル−
p−アミノスチレン、N−エチル−o−アミノスチレ
ン、N−エチル−m−アミノスチレン、N−エチル−p
−アミノスチレン等の第2級アミノ基含有単量体。
【0053】ジメチルアミノメチル(メタ)アクリレー
ト、ジエチルアミノメチル(メタ)アクリレート、2−
ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−ジエ
チルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−ジプロピ
ルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−ジメチルア
ミノプロピル(メタ)アクリレート、3−ジメチルアミ
ノプロピル(メタ)アクリレート、2−ジエチルアミノ
プロピル(メタ)アクリレート、3−ジエチルアミノプ
ロピル(メタ)アクリレート、2−ジプロピルアミノプ
ロピル(メタ)アクリレート、3−ジプロピルアミノプ
ロピル(メタ)アクリレート、2−ジメチルアミノエト
キシエチル(メタ)アクリレート、2−ジエチルアミノ
エトキシエチル(メタ)アクリレート、N−ジメチルア
ミノメチル(メタ)アクリルアミド、N−ジエチルアミ
ノメチル(メタ)アクリルアミド、N−2−ジメチルア
ミノエチル(メタ)アクリルアミド、N−2−ジエチル
アミノエチル(メタ)アクリルアミド、N−2−ジメチ
ルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N−3−ジ
メチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N−2
−ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N
−3−ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミ
ド、N,N−ジメチル−p−アミノスチレン、N,N−
ジエチル−p−アミノスチレン、ビニルピリジン、N,
N−ジメチルアミノエチル−N′−(メタ)アクリロイ
ルカーバメート、N,N−ジエチルアミノエチル−N′
−(メタ)アクリロイルカーバメート等の第3級アミノ
基含有単量体;2−メタクリロイルオキシエチルイソシ
アネート等のイソシアネート類等。これらは単独で使用
してもよく、2種以上を併用してもよい。
ト、ジエチルアミノメチル(メタ)アクリレート、2−
ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−ジエ
チルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−ジプロピ
ルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−ジメチルア
ミノプロピル(メタ)アクリレート、3−ジメチルアミ
ノプロピル(メタ)アクリレート、2−ジエチルアミノ
プロピル(メタ)アクリレート、3−ジエチルアミノプ
ロピル(メタ)アクリレート、2−ジプロピルアミノプ
ロピル(メタ)アクリレート、3−ジプロピルアミノプ
ロピル(メタ)アクリレート、2−ジメチルアミノエト
キシエチル(メタ)アクリレート、2−ジエチルアミノ
エトキシエチル(メタ)アクリレート、N−ジメチルア
ミノメチル(メタ)アクリルアミド、N−ジエチルアミ
ノメチル(メタ)アクリルアミド、N−2−ジメチルア
ミノエチル(メタ)アクリルアミド、N−2−ジエチル
アミノエチル(メタ)アクリルアミド、N−2−ジメチ
ルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N−3−ジ
メチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N−2
−ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N
−3−ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミ
ド、N,N−ジメチル−p−アミノスチレン、N,N−
ジエチル−p−アミノスチレン、ビニルピリジン、N,
N−ジメチルアミノエチル−N′−(メタ)アクリロイ
ルカーバメート、N,N−ジエチルアミノエチル−N′
−(メタ)アクリロイルカーバメート等の第3級アミノ
基含有単量体;2−メタクリロイルオキシエチルイソシ
アネート等のイソシアネート類等。これらは単独で使用
してもよく、2種以上を併用してもよい。
【0054】上記光重合性単量体により上記光重合性二
重結合を導入する方法としては特に限定されず、例え
ば、上記重合性単量体と上記イオン性基を有する重合性
不飽和単量体とを共重合させてなる重合体中に存在する
水酸基又はアミノ基と、2−メタクリロイルオキシエチ
ルイソシアネート等の光重合性二重結合を有するイソシ
アネートを反応させて上記光重合性二重結合を導入する
方法;上記重合体を合成する際に無水マレイン酸、無水
フマル酸、無水イタコン酸等の環状酸無水物を付加させ
ておき、それを水酸基又はアミノ基を有する光重合性不
飽和単量体等により開環させて上記光重合性二重結合を
導入する方法等を挙げることができる。
重結合を導入する方法としては特に限定されず、例え
ば、上記重合性単量体と上記イオン性基を有する重合性
不飽和単量体とを共重合させてなる重合体中に存在する
水酸基又はアミノ基と、2−メタクリロイルオキシエチ
ルイソシアネート等の光重合性二重結合を有するイソシ
アネートを反応させて上記光重合性二重結合を導入する
方法;上記重合体を合成する際に無水マレイン酸、無水
フマル酸、無水イタコン酸等の環状酸無水物を付加させ
ておき、それを水酸基又はアミノ基を有する光重合性不
飽和単量体等により開環させて上記光重合性二重結合を
導入する方法等を挙げることができる。
【0055】上記親水性高分子(B)において、上記光
重合性二重結合としては、上記光重合性単量体により導
入されたものに限定されず、例えば、上記重合性単量体
と上記イオン性基を有する重合性不飽和単量体とを共重
合させてなる重合体中に存在する水酸基を縮合等により
脱水反応させる方法等によって重合体中に形成させても
よい。
重合性二重結合としては、上記光重合性単量体により導
入されたものに限定されず、例えば、上記重合性単量体
と上記イオン性基を有する重合性不飽和単量体とを共重
合させてなる重合体中に存在する水酸基を縮合等により
脱水反応させる方法等によって重合体中に形成させても
よい。
【0056】上記親水性高分子(B)の数平均分子量
(Mn)は、500〜10000が好ましい。500未
満であると、得られる水現像性感光組成物の粘度が不必
要に低下する結果、粘着性の問題等が生じ、10000
を超えると、得られる水現像性感光組成物の粘度が上昇
し、フレキソ版材として形成加工するうえで、加工性が
悪くなる。より好ましくは、1000〜8000であ
る。
(Mn)は、500〜10000が好ましい。500未
満であると、得られる水現像性感光組成物の粘度が不必
要に低下する結果、粘着性の問題等が生じ、10000
を超えると、得られる水現像性感光組成物の粘度が上昇
し、フレキソ版材として形成加工するうえで、加工性が
悪くなる。より好ましくは、1000〜8000であ
る。
【0057】上記親水性高分子(B)の水分散時の粒径
は、50〜500nmが好ましい。50nm未満である
と、耐水性が極度に低下し、500nmを超えると、得
られる水現像性感光組成物の水現像性が乏しくなる。よ
り好ましくは、70〜200nmである。
は、50〜500nmが好ましい。50nm未満である
と、耐水性が極度に低下し、500nmを超えると、得
られる水現像性感光組成物の水現像性が乏しくなる。よ
り好ましくは、70〜200nmである。
【0058】上記親水性高分子(B)としては、感光組
成物に水現像性を付与する必要上、イオン対形成時に水
に溶解又は自己乳化することができるものが好ましい。
成物に水現像性を付与する必要上、イオン対形成時に水
に溶解又は自己乳化することができるものが好ましい。
【0059】上記親水性高分子(B)の配合量は、得ら
れる水現像性感光組成物の固形分に対して、1〜60重
量%が好ましい。1重量%未満であると、得られる水現
像性感光組成物の水現像性が乏しくなり、60重量%を
超えると、耐水性が極度に低下する。より好ましくは、
3〜50重量%である。
れる水現像性感光組成物の固形分に対して、1〜60重
量%が好ましい。1重量%未満であると、得られる水現
像性感光組成物の水現像性が乏しくなり、60重量%を
超えると、耐水性が極度に低下する。より好ましくは、
3〜50重量%である。
【0060】本発明で使用される架橋樹脂粒子(C)
は、エチレン性不飽和単量体及び架橋性共重合単量体か
らなる。上記エチレン性不飽和単量体としては特に限定
されず、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル
(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレー
ト、イソブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキ
シル(メタ)アクリレート等のアクリル酸又はメタクリ
ル酸のアルキルエステル等を挙げることができる。これ
らは単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよ
い。
は、エチレン性不飽和単量体及び架橋性共重合単量体か
らなる。上記エチレン性不飽和単量体としては特に限定
されず、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル
(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレー
ト、イソブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキ
シル(メタ)アクリレート等のアクリル酸又はメタクリ
ル酸のアルキルエステル等を挙げることができる。これ
らは単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよ
い。
【0061】上記エチレン性不飽和単量体は、その他の
共重合可能な単量体とともに重合してもよい。上記その
他の共重合可能な単量体としては特に限定されず、例え
ば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、
t−ブチルスチレン、エチレン、プロピレン、酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等を挙げることができる。これらは単独で使
用してもよく、2種以上を併用してもよい。
共重合可能な単量体とともに重合してもよい。上記その
他の共重合可能な単量体としては特に限定されず、例え
ば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、
t−ブチルスチレン、エチレン、プロピレン、酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等を挙げることができる。これらは単独で使
用してもよく、2種以上を併用してもよい。
【0062】上記架橋性共重合単量体は、分子内に2個
以上のラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有す
る単量体、及び/又は、相互に反応することができる基
を有する少なくとも2種のエチレン性不飽和単量体であ
る。上記分子内に2個以上のラジカル重合可能なエチレ
ン性不飽和結合を有する単量体としては特に限定され
ず、例えば、多価アルコールの重合性不飽和モノカルボ
ン酸エステル、多塩基酸の重合性不飽和アルコールエス
テル、2個以上のビニル基で置換された芳香族化合物等
を挙げることができる。具体的には、エチレングリコー
ルジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレー
ト、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラ
エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブチレ
ングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタ
クリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキ
サンジオールジアクリレート、ペンタエリスリトールジ
アクリレート、ペンタジメタクリレート、ペンタエリス
リトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラメタクリレート、グリセロールジメタクリレート、
グリセロールジアクリレート、グリセロールアリロキシ
ジメタクリレート、1,1,1−トリスヒドロキシメチ
ルエタンジアクリレート、1,1,1−トリスヒドロキ
シメチルエタントリアクリレート、1,1,1−トリス
ヒドロキシメチルエタンジメタクリレート、1,1,1
−トリスヒドロキシメチルエタントリメタクリレート、
1,1,1−トリスヒドロキシメチルプロパンジアクリ
レート、1,1,1−トリスヒドロキシメチルプロパン
ジメタクリレート、1,1,1−トリスヒドロキシメチ
ルプロパントリメタクリレート、トリアリルシアヌレー
ト、トリアリルイソシアヌレート、トリアリルトリメリ
テート、ジアリルテレフタレート、ジアリルフタレー
ト、ジビニルベンゼン等を挙げることができる。これら
は単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
以上のラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有す
る単量体、及び/又は、相互に反応することができる基
を有する少なくとも2種のエチレン性不飽和単量体であ
る。上記分子内に2個以上のラジカル重合可能なエチレ
ン性不飽和結合を有する単量体としては特に限定され
ず、例えば、多価アルコールの重合性不飽和モノカルボ
ン酸エステル、多塩基酸の重合性不飽和アルコールエス
テル、2個以上のビニル基で置換された芳香族化合物等
を挙げることができる。具体的には、エチレングリコー
ルジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレー
ト、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラ
エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブチレ
ングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタ
クリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキ
サンジオールジアクリレート、ペンタエリスリトールジ
アクリレート、ペンタジメタクリレート、ペンタエリス
リトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラメタクリレート、グリセロールジメタクリレート、
グリセロールジアクリレート、グリセロールアリロキシ
ジメタクリレート、1,1,1−トリスヒドロキシメチ
ルエタンジアクリレート、1,1,1−トリスヒドロキ
シメチルエタントリアクリレート、1,1,1−トリス
ヒドロキシメチルエタンジメタクリレート、1,1,1
−トリスヒドロキシメチルエタントリメタクリレート、
1,1,1−トリスヒドロキシメチルプロパンジアクリ
レート、1,1,1−トリスヒドロキシメチルプロパン
ジメタクリレート、1,1,1−トリスヒドロキシメチ
ルプロパントリメタクリレート、トリアリルシアヌレー
ト、トリアリルイソシアヌレート、トリアリルトリメリ
テート、ジアリルテレフタレート、ジアリルフタレー
ト、ジビニルベンゼン等を挙げることができる。これら
は単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
【0063】上記相互に反応することができる基を有す
るエチレン性不飽和単量体の組み合わせとしては特に限
定されず、例えば、グリシジルアクリレート、グリシジ
ルメタクリレート等のエポキシ基含有エチレン性不飽和
単量体と、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の
カルボキシル基含有エチレン性不飽和単量体との組み合
わせ等を挙げることができる。上記相互に反応すること
ができる基としては、上記エポキシ基−カルボキシル基
に限定されるものではなく、例えば、アミノ基−カルボ
ニル基、エポキシ基−カルボン酸無水物、アミノ基−カ
ルボン酸塩化物、アルキレンイミノ基−カルボニル基、
オルガノアルコキシシリル基−カルボキシル基、ヒドロ
キシル基−イソシアネート等を挙げることができる。
るエチレン性不飽和単量体の組み合わせとしては特に限
定されず、例えば、グリシジルアクリレート、グリシジ
ルメタクリレート等のエポキシ基含有エチレン性不飽和
単量体と、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の
カルボキシル基含有エチレン性不飽和単量体との組み合
わせ等を挙げることができる。上記相互に反応すること
ができる基としては、上記エポキシ基−カルボキシル基
に限定されるものではなく、例えば、アミノ基−カルボ
ニル基、エポキシ基−カルボン酸無水物、アミノ基−カ
ルボン酸塩化物、アルキレンイミノ基−カルボニル基、
オルガノアルコキシシリル基−カルボキシル基、ヒドロ
キシル基−イソシアネート等を挙げることができる。
【0064】上記架橋樹脂粒子(C)は、上記分子内に
2個以上のラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を
有する単量体、及び/又は、上記相互に反応することが
できる基を有するエチレン性不飽和単量体2種に、更
に、架橋剤を配合することによって架橋を形成する。上
記架橋剤としては特に限定されず、例えば、エチレング
リコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメ
タクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレー
ト、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート等を挙
げることができる。
2個以上のラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を
有する単量体、及び/又は、上記相互に反応することが
できる基を有するエチレン性不飽和単量体2種に、更
に、架橋剤を配合することによって架橋を形成する。上
記架橋剤としては特に限定されず、例えば、エチレング
リコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメ
タクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレー
ト、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート等を挙
げることができる。
【0065】上記架橋剤の配合量は、上記架橋樹脂粒子
(C)を構成する全組成中、5〜50重量%が好まし
い。上記架橋樹脂粒子(C)の架橋度は、上記架橋剤の
配合量によって調節することができる。
(C)を構成する全組成中、5〜50重量%が好まし
い。上記架橋樹脂粒子(C)の架橋度は、上記架橋剤の
配合量によって調節することができる。
【0066】上記架橋樹脂粒子(C)は、上記イオン性
基及び光重合性二重結合を有する親水性高分子(B)と
イオン対を形成することができる官能基を有するもので
ある。上記イオン対を形成することができる官能基は、
カルボキシル基、りん酸基、スルホン酸基及びアミノ基
からなる群より選択される少なくとも1種である。これ
らは、上記親水性高分子(B)のイオン性基の種類に対
応して、上記親水性高分子(B)が有するイオン性基と
イオン対を形成することができるものが適宜選択され
る。例えば、上記架橋樹脂粒子(C)がカルボキシル基
等の酸性基を有するものである場合には、上記親水性高
分子(B)として、アミノ基等の塩基性基を有するもの
を選択して組み合わせることにより、イオン対を形成さ
せることができる。
基及び光重合性二重結合を有する親水性高分子(B)と
イオン対を形成することができる官能基を有するもので
ある。上記イオン対を形成することができる官能基は、
カルボキシル基、りん酸基、スルホン酸基及びアミノ基
からなる群より選択される少なくとも1種である。これ
らは、上記親水性高分子(B)のイオン性基の種類に対
応して、上記親水性高分子(B)が有するイオン性基と
イオン対を形成することができるものが適宜選択され
る。例えば、上記架橋樹脂粒子(C)がカルボキシル基
等の酸性基を有するものである場合には、上記親水性高
分子(B)として、アミノ基等の塩基性基を有するもの
を選択して組み合わせることにより、イオン対を形成さ
せることができる。
【0067】上記イオン対を形成することができる官能
基の導入は、例えば、上記架橋樹脂粒子(C)を形成す
る架橋性共重合単量体に、上記イオン対を形成すること
ができる官能基を有する単量体を反応させる方法;上記
架橋性共重合単量体を予め重合し、その後変性して上記
イオン性基を導入する方法;上記重合の際に添加する開
始剤として、イオン性基を有するものを使用する方法等
により行われる。
基の導入は、例えば、上記架橋樹脂粒子(C)を形成す
る架橋性共重合単量体に、上記イオン対を形成すること
ができる官能基を有する単量体を反応させる方法;上記
架橋性共重合単量体を予め重合し、その後変性して上記
イオン性基を導入する方法;上記重合の際に添加する開
始剤として、イオン性基を有するものを使用する方法等
により行われる。
【0068】上記官能基を有する単量体としては特に限
定されず、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロト
ン酸等のカルボキシル基含有ビニル単量体;モノ[2−
(メタ)アクリロイルオキシエチル]アシッドホスフェ
ート、3−クロロ−2−アシッドホスホオキシプロピル
(メタ)アクリレート等のりん酸基含有ビニル単量体;
ビニルスルホン酸等のスルホン酸基含有ビニル単量体;
ジメチルアミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエ
チルメタクリレート、ジメチルアミノプロピルアクリレ
ート、ジメチルアミノプロピルメタクリレート、ジメチ
ルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド等のアルキル
(メタ)アクリレート等のアミノ基含有ビニル単量体等
を挙げることができる。これらは単独で使用してもよ
く、2種以上を併用してもよい。
定されず、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロト
ン酸等のカルボキシル基含有ビニル単量体;モノ[2−
(メタ)アクリロイルオキシエチル]アシッドホスフェ
ート、3−クロロ−2−アシッドホスホオキシプロピル
(メタ)アクリレート等のりん酸基含有ビニル単量体;
ビニルスルホン酸等のスルホン酸基含有ビニル単量体;
ジメチルアミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエ
チルメタクリレート、ジメチルアミノプロピルアクリレ
ート、ジメチルアミノプロピルメタクリレート、ジメチ
ルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド等のアルキル
(メタ)アクリレート等のアミノ基含有ビニル単量体等
を挙げることができる。これらは単独で使用してもよ
く、2種以上を併用してもよい。
【0069】上記架橋樹脂粒子(C)を形成する架橋性
共重合単量体に、上記イオン対を形成することができる
官能基を有する単量体を反応させる方法において、上記
共重合の方法としては特に限定されず、必要とされる微
粒子の粒径に応じて適宜選択することができる。例え
ば、粒径0.01〜0.6μmの微粒子を形成する場合
には、乳化重合法により行うことができ、粒径0.2〜
2μmの微粒子を形成する場合には、沈殿重合法により
行うことができ、1〜6μmの微粒子を形成する場合に
は、懸濁重合法により行うことができる。
共重合単量体に、上記イオン対を形成することができる
官能基を有する単量体を反応させる方法において、上記
共重合の方法としては特に限定されず、必要とされる微
粒子の粒径に応じて適宜選択することができる。例え
ば、粒径0.01〜0.6μmの微粒子を形成する場合
には、乳化重合法により行うことができ、粒径0.2〜
2μmの微粒子を形成する場合には、沈殿重合法により
行うことができ、1〜6μmの微粒子を形成する場合に
は、懸濁重合法により行うことができる。
【0070】上記各重合方法において、水性媒体又は非
水性媒体中で重合された架橋樹脂粒子(C)は、濾過、
スプレー乾燥、凍結乾燥等の方法により単離され、その
まま又はミル等を用いて適当な粒径に粉砕して用いるこ
ともできる。
水性媒体中で重合された架橋樹脂粒子(C)は、濾過、
スプレー乾燥、凍結乾燥等の方法により単離され、その
まま又はミル等を用いて適当な粒径に粉砕して用いるこ
ともできる。
【0071】上記架橋性共重合単量体を予め重合し、そ
の後変性して上記イオン性基を導入する方法において、
上記重合の際に無水マレイン酸、無水フマル酸、無水イ
タコン酸等の環状酸無水物を付加させておき、それを開
環させて目的のイオン性基を導入することにより行うこ
とができる。
の後変性して上記イオン性基を導入する方法において、
上記重合の際に無水マレイン酸、無水フマル酸、無水イ
タコン酸等の環状酸無水物を付加させておき、それを開
環させて目的のイオン性基を導入することにより行うこ
とができる。
【0072】上記重合の際に添加する開始剤として、イ
オン性基を有するものを使用する方法において、上記開
始剤としては特に限定されず、例えば、上記親水性高分
子(B)の説明中において例示したもの等を挙げること
ができる。
オン性基を有するものを使用する方法において、上記開
始剤としては特に限定されず、例えば、上記親水性高分
子(B)の説明中において例示したもの等を挙げること
ができる。
【0073】上記架橋樹脂粒子(C)は、上述のほか、
上記親水性高分子(B)を適当な方法によって媒体中に
分散させ、必要に応じて、上記重合性単量体、架橋剤を
加えた後、重合させることによって製造することもでき
る。
上記親水性高分子(B)を適当な方法によって媒体中に
分散させ、必要に応じて、上記重合性単量体、架橋剤を
加えた後、重合させることによって製造することもでき
る。
【0074】上記架橋樹脂粒子(C)は、必要に応じ
て、微粒子表面や内部に紫外線等の高エネルギー線によ
る硬化時に有効な増感剤やその反応を促進させるプロモ
ーター物質;硬化後において高い機能性を発揮させるこ
とができる機能性物質等を担持、包含することができ
る。
て、微粒子表面や内部に紫外線等の高エネルギー線によ
る硬化時に有効な増感剤やその反応を促進させるプロモ
ーター物質;硬化後において高い機能性を発揮させるこ
とができる機能性物質等を担持、包含することができ
る。
【0075】上記架橋樹脂粒子(C)の平均粒径は、
0.01〜6μmが好ましい。0.01μm未満である
と、粒子が飛散しやすく、衛生面に問題があり、6μm
を超えると、得られる水現像性感光組成物をフレキソ版
材として使用した場合に、ムラのない画像が得られな
い。より好ましくは、0.02〜1μmである。
0.01〜6μmが好ましい。0.01μm未満である
と、粒子が飛散しやすく、衛生面に問題があり、6μm
を超えると、得られる水現像性感光組成物をフレキソ版
材として使用した場合に、ムラのない画像が得られな
い。より好ましくは、0.02〜1μmである。
【0076】本発明の水現像性感光組成物において、上
記架橋樹脂粒子(C)は、コア/シェルの2層構造を有
していることが好ましい。上記コア/シェルの2層構造
を形成する方法としては特に限定されないが、通常、上
記エチレン性不飽和単量体及び上記架橋性共重合単量体
をコアとして乳化重合させ、続いて上記エチレン性不飽
和単量体、上記架橋性共重合単量体及び上記イオン対を
形成することができる官能基を有する単量体を乳化重合
させる、いわゆる2段階の乳化重合により行うことがで
きる。上記シェル部には、上記親水性高分子(B)とイ
オン対を形成させる必要上、相対するイオン性基を含ん
でいることが好ましい。上記架橋樹脂粒子(C)が、上
記コア/シェルの2層構造を有する場合には、効率的に
イオン対を形成することができる官能基を微粒子の表面
に保持させることができる。
記架橋樹脂粒子(C)は、コア/シェルの2層構造を有
していることが好ましい。上記コア/シェルの2層構造
を形成する方法としては特に限定されないが、通常、上
記エチレン性不飽和単量体及び上記架橋性共重合単量体
をコアとして乳化重合させ、続いて上記エチレン性不飽
和単量体、上記架橋性共重合単量体及び上記イオン対を
形成することができる官能基を有する単量体を乳化重合
させる、いわゆる2段階の乳化重合により行うことがで
きる。上記シェル部には、上記親水性高分子(B)とイ
オン対を形成させる必要上、相対するイオン性基を含ん
でいることが好ましい。上記架橋樹脂粒子(C)が、上
記コア/シェルの2層構造を有する場合には、効率的に
イオン対を形成することができる官能基を微粒子の表面
に保持させることができる。
【0077】上記コア/シェルの2層構造を有する架橋
樹脂粒子(C)において、コア/シェルの重量比は、5
/5〜9/1が好ましい。コアの重量比が5/5未満で
あると、シェル層が厚くなりすぎる結果、親水性高分子
(B)とイオン対を形成するためのイオン性基が粒子内
部に配向するため、充分なイオン対を形成しにくくな
り、9/1を超えると、シェル層が必要以上に薄層化す
るため、充分なイオン性基を粒子表面に付与することが
困難となる。
樹脂粒子(C)において、コア/シェルの重量比は、5
/5〜9/1が好ましい。コアの重量比が5/5未満で
あると、シェル層が厚くなりすぎる結果、親水性高分子
(B)とイオン対を形成するためのイオン性基が粒子内
部に配向するため、充分なイオン対を形成しにくくな
り、9/1を超えると、シェル層が必要以上に薄層化す
るため、充分なイオン性基を粒子表面に付与することが
困難となる。
【0078】上記コア/シェルの2層構造を有する架橋
樹脂粒子(C)の粒径は、30〜100nmが好まし
く、特に、上記親水性高分子(B)と上記架橋樹脂粒子
(C)とがイオン対を形成した結果、媒体(水)による
溶媒和(水和)効果に基づく粒径が90〜500nmに
なるようにすることが好ましい。
樹脂粒子(C)の粒径は、30〜100nmが好まし
く、特に、上記親水性高分子(B)と上記架橋樹脂粒子
(C)とがイオン対を形成した結果、媒体(水)による
溶媒和(水和)効果に基づく粒径が90〜500nmに
なるようにすることが好ましい。
【0079】上記架橋樹脂粒子(C)において、粒子自
体のガラス転移温度、溶解性パラメーター、屈折率等の
性質は、他の成分との関係を考慮して粒子を構成する成
分を選択することによって制御することができ、所望の
特性を得ることができる。
体のガラス転移温度、溶解性パラメーター、屈折率等の
性質は、他の成分との関係を考慮して粒子を構成する成
分を選択することによって制御することができ、所望の
特性を得ることができる。
【0080】上記架橋樹脂粒子(C)の配合量は、得ら
れる水現像性感光組成物の固形分に対して、0.1〜5
0重量%が好ましい。0.1重量%未満であると、水現
像性や光硬化後の印刷版の耐摩耗性が不充分であり、5
0重量%を超えると、フレキソ版材特有の反発弾性、硬
度等の諸特性を低下させる。より好ましくは、0.5〜
20重量%である。
れる水現像性感光組成物の固形分に対して、0.1〜5
0重量%が好ましい。0.1重量%未満であると、水現
像性や光硬化後の印刷版の耐摩耗性が不充分であり、5
0重量%を超えると、フレキソ版材特有の反発弾性、硬
度等の諸特性を低下させる。より好ましくは、0.5〜
20重量%である。
【0081】本発明の水現像性感光組成物において、互
いにイオン対を形成させる上記親水性高分子(B)及び
上記架橋樹脂粒子(C)は、少なくとも1種がカルボキ
シル基を有していることが最も好ましく、また、この場
合において、残りのうちの1種がアミノ基を有すること
が最も好ましい。この場合、全組成におけるカルボキシ
ル基とアミノ基とのモル比は、カルボキシル基1モルに
対して、アミノ基が0.1〜10モルが好ましい。0.
1モル未満であると、得られる水現像性感光組成物の水
現像性が低くなる傾向があり、10モルを超えると、水
現像性感光組成物の光硬化後の耐水性、耐インキ性が極
度に低下する。より好ましくは、アミノ基が0.4〜2
モルである。
いにイオン対を形成させる上記親水性高分子(B)及び
上記架橋樹脂粒子(C)は、少なくとも1種がカルボキ
シル基を有していることが最も好ましく、また、この場
合において、残りのうちの1種がアミノ基を有すること
が最も好ましい。この場合、全組成におけるカルボキシ
ル基とアミノ基とのモル比は、カルボキシル基1モルに
対して、アミノ基が0.1〜10モルが好ましい。0.
1モル未満であると、得られる水現像性感光組成物の水
現像性が低くなる傾向があり、10モルを超えると、水
現像性感光組成物の光硬化後の耐水性、耐インキ性が極
度に低下する。より好ましくは、アミノ基が0.4〜2
モルである。
【0082】本発明の水現像性感光組成物において、上
記架橋樹脂粒子(C)は、上記親水性高分子(B)とイ
オン対を形成するので、上記架橋樹脂粒子(C)の周囲
には、上記親水性高分子(B)がイオン対を介して存在
している。このため、得られる水現像性感光組成物をフ
レキソ版材とした場合、上記親水性高分子(B)が上記
架橋樹脂粒子(C)より脱離してブリードすることがな
く、フレキソ版材の性能、例えば、水現像性等におい
て、経時的に変化することがない。
記架橋樹脂粒子(C)は、上記親水性高分子(B)とイ
オン対を形成するので、上記架橋樹脂粒子(C)の周囲
には、上記親水性高分子(B)がイオン対を介して存在
している。このため、得られる水現像性感光組成物をフ
レキソ版材とした場合、上記親水性高分子(B)が上記
架橋樹脂粒子(C)より脱離してブリードすることがな
く、フレキソ版材の性能、例えば、水現像性等におい
て、経時的に変化することがない。
【0083】本発明で使用される光重合開始剤(D)
は、光照射により上記イオン性基及び光重合性二重結合
を有する親水性高分子(B)の重合を開始させる成分で
ある。上記光重合開始剤(D)としては特に限定され
ず、例えば、ジアセチル、ベンジル等のα−ジケトン化
合物;ベンゾイン、ピバロイン等のアシロイン類;ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル
類;アントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−
t−ブチルアントラキノン、1,4−ナフトキノン等の
多核キノン類;2,2−ジメトキシフェニルアセトフェ
ノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、トリクロロ
アセトフェノン等のアセトフェノン類;ベンゾフェノ
ン、メチル−o−ベンゾイルベンゾエート、ミヒラーズ
ケトン等のベンゾフェノン類;メルカプタン類;ジスル
フィド類等を挙げることができる。これらは単独で使用
してもよく、2種以上を併用してもよい。
は、光照射により上記イオン性基及び光重合性二重結合
を有する親水性高分子(B)の重合を開始させる成分で
ある。上記光重合開始剤(D)としては特に限定され
ず、例えば、ジアセチル、ベンジル等のα−ジケトン化
合物;ベンゾイン、ピバロイン等のアシロイン類;ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル
類;アントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−
t−ブチルアントラキノン、1,4−ナフトキノン等の
多核キノン類;2,2−ジメトキシフェニルアセトフェ
ノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、トリクロロ
アセトフェノン等のアセトフェノン類;ベンゾフェノ
ン、メチル−o−ベンゾイルベンゾエート、ミヒラーズ
ケトン等のベンゾフェノン類;メルカプタン類;ジスル
フィド類等を挙げることができる。これらは単独で使用
してもよく、2種以上を併用してもよい。
【0084】上記光重合開始剤(D)としては、市販さ
れているものを使用することもできる。例えば、イルガ
キュアシリーズ(ラジカル系光重合開始剤、日本チバガ
イギー社製)等を挙げることができる。
れているものを使用することもできる。例えば、イルガ
キュアシリーズ(ラジカル系光重合開始剤、日本チバガ
イギー社製)等を挙げることができる。
【0085】上記光重合開始剤(D)の配合量は、得ら
れる水現像性感光組成物の固形分に対して、0.01〜
10重量%が好ましい。0.01重量部未満であると、
得られる水現像性感光組成物の光硬化が不充分となるお
それがあり、10重量部を超えると、配合された光重合
開始剤(D)のすべてが光硬化に関与するわけではない
ので、不経済であるうえ、上記親水性高分子(B)との
相溶性が悪いために均一に分散することができない場合
がある。より好ましくは、0.05〜5重量部である。
れる水現像性感光組成物の固形分に対して、0.01〜
10重量%が好ましい。0.01重量部未満であると、
得られる水現像性感光組成物の光硬化が不充分となるお
それがあり、10重量部を超えると、配合された光重合
開始剤(D)のすべてが光硬化に関与するわけではない
ので、不経済であるうえ、上記親水性高分子(B)との
相溶性が悪いために均一に分散することができない場合
がある。より好ましくは、0.05〜5重量部である。
【0086】本発明の水現像性感光組成物は、上記熱可
塑性弾性高分子(A)、上記親水性高分子(B)、上記
架橋樹脂粒子(C)及び上記光重合開始剤(D)からな
るものであるが、本発明の水現像性感光組成物の性能を
損なわない範囲内で、必要に応じて、重合禁止剤、可塑
剤等の添加剤を添加してもよい。
塑性弾性高分子(A)、上記親水性高分子(B)、上記
架橋樹脂粒子(C)及び上記光重合開始剤(D)からな
るものであるが、本発明の水現像性感光組成物の性能を
損なわない範囲内で、必要に応じて、重合禁止剤、可塑
剤等の添加剤を添加してもよい。
【0087】上記重合禁止剤としては特に限定されず、
例えば、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、メト
キシフェノール、N−ニトロソジフェニルアミン等を挙
げることができる。上記重合禁止剤の添加量は、得られ
る水現像性感光組成物の固形分に対して、0.001〜
1重量%が好ましい。
例えば、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、メト
キシフェノール、N−ニトロソジフェニルアミン等を挙
げることができる。上記重合禁止剤の添加量は、得られ
る水現像性感光組成物の固形分に対して、0.001〜
1重量%が好ましい。
【0088】上記可塑剤としては特に限定されず、例え
ば、ジブチルフタレート、ジヘキシルフタレート、ジ−
2−エチルヘキシルフタレート、ジヘプチルフタレー
ト、ジオクチルフタレート、ジノニルフタレート、ジイ
ソデシルフタレート等のジアルキルフタレート類;ジ−
2−エチルヘキシルアジペート、ジオクチルアジペー
ト、ジイソデシルアジペート等のジアルキルアジペート
類;トリオクチルトリメリテート、トリイソデシルトリ
メリテート等のトリアルキルトリメリテート類;アクチ
ルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、ステアリ
ルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル類;ポリ
エチレングリコールフェニルエーテル、ポリプロピレン
グリコールフェニルエーテル等を挙げることができる。
上記可塑剤の添加量は、得られる水現像性感光組成物の
固形分に対して、0.01〜20重量%が好ましい。よ
り好ましくは、0.05〜10重量%である。
ば、ジブチルフタレート、ジヘキシルフタレート、ジ−
2−エチルヘキシルフタレート、ジヘプチルフタレー
ト、ジオクチルフタレート、ジノニルフタレート、ジイ
ソデシルフタレート等のジアルキルフタレート類;ジ−
2−エチルヘキシルアジペート、ジオクチルアジペー
ト、ジイソデシルアジペート等のジアルキルアジペート
類;トリオクチルトリメリテート、トリイソデシルトリ
メリテート等のトリアルキルトリメリテート類;アクチ
ルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、ステアリ
ルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル類;ポリ
エチレングリコールフェニルエーテル、ポリプロピレン
グリコールフェニルエーテル等を挙げることができる。
上記可塑剤の添加量は、得られる水現像性感光組成物の
固形分に対して、0.01〜20重量%が好ましい。よ
り好ましくは、0.05〜10重量%である。
【0089】また、本発明の水現像性感光組成物には、
硬化後の物性、特に、反発弾性を向上させるために、市
販のゴムエマルションを配合してもよい。上記ゴムエマ
ルションとしては特に限定されないが、例えば、カルボ
キシル化ニトリル−ブタジエン共重合体、カルボキシル
化スチレン−ブタジエン共重合体、カルボキシル化クロ
ロプレン共重合体等が好ましい。これらは、平均粒子径
が0.05〜1μmであることが好ましい。上記ゴムエ
マルションの添加量は、得られる水現像性感光組成物の
固形分に対して、0〜20重量%が好ましい。より好ま
しくは、0〜10重量%である。
硬化後の物性、特に、反発弾性を向上させるために、市
販のゴムエマルションを配合してもよい。上記ゴムエマ
ルションとしては特に限定されないが、例えば、カルボ
キシル化ニトリル−ブタジエン共重合体、カルボキシル
化スチレン−ブタジエン共重合体、カルボキシル化クロ
ロプレン共重合体等が好ましい。これらは、平均粒子径
が0.05〜1μmであることが好ましい。上記ゴムエ
マルションの添加量は、得られる水現像性感光組成物の
固形分に対して、0〜20重量%が好ましい。より好ま
しくは、0〜10重量%である。
【0090】更に、本発明の水現像性感光組成物には、
必要に応じて、光重合単量体を添加してもよい。通常、
水現像性感光組成物に上記光重合単量体を添加すると、
フレキソ版材とした場合に、感光後に未反応の上記光重
合単量体が耐インキ性の向上効果を阻害するので、極力
配合しないことが好ましいが、光硬化の際の水現像性感
光組成物内部の架橋密度を適度に向上させ、フレキソ版
材の物性に対して良好な効果を与えることができる範囲
内において、上記光重合単量体を使用してもよい。本発
明の水現像性感光組成物に上記光重合単量体を添加する
際には、架橋剤とともに添加することが好ましい。
必要に応じて、光重合単量体を添加してもよい。通常、
水現像性感光組成物に上記光重合単量体を添加すると、
フレキソ版材とした場合に、感光後に未反応の上記光重
合単量体が耐インキ性の向上効果を阻害するので、極力
配合しないことが好ましいが、光硬化の際の水現像性感
光組成物内部の架橋密度を適度に向上させ、フレキソ版
材の物性に対して良好な効果を与えることができる範囲
内において、上記光重合単量体を使用してもよい。本発
明の水現像性感光組成物に上記光重合単量体を添加する
際には、架橋剤とともに添加することが好ましい。
【0091】上記光重合単量体としては特に限定され
ず、例えば、上記親水性高分子(B)の骨格となる重合
性単量体として例示したもの等を挙げることができる。
上記光重合単量体の添加量は、得られる水現像性感光組
成物の固形分に対して、0〜10重量%が好ましい。よ
り好ましくは、0〜5重量%である。
ず、例えば、上記親水性高分子(B)の骨格となる重合
性単量体として例示したもの等を挙げることができる。
上記光重合単量体の添加量は、得られる水現像性感光組
成物の固形分に対して、0〜10重量%が好ましい。よ
り好ましくは、0〜5重量%である。
【0092】本発明の水現像性感光組成物は、上記熱可
塑性弾性高分子(A)が、上記親水性高分子(B)、上
記架橋樹脂粒子(C)及び上記光重合開始剤(D)と互
いに相溶しないものであることが好ましい。この場合、
上記熱可塑性弾性高分子(A)は、分散相を形成し、そ
の他の上記成分は、連続相を形成することができる。
塑性弾性高分子(A)が、上記親水性高分子(B)、上
記架橋樹脂粒子(C)及び上記光重合開始剤(D)と互
いに相溶しないものであることが好ましい。この場合、
上記熱可塑性弾性高分子(A)は、分散相を形成し、そ
の他の上記成分は、連続相を形成することができる。
【0093】上記分散相を形成する上記熱可塑性弾性高
分子(A)の微粒子の粒径は、0.01〜50μmが好
ましい。0.01μm未満であると、微粒子が過度に緻
密に充填する結果、水現像性の低下を招き、また、フレ
キソ版材とした場合には、充分な反発弾性を得ることが
できず、50μmを超えると、フレキソ版材の解像度が
低下するので好ましくない。より好ましくは、0.05
〜10μmである。
分子(A)の微粒子の粒径は、0.01〜50μmが好
ましい。0.01μm未満であると、微粒子が過度に緻
密に充填する結果、水現像性の低下を招き、また、フレ
キソ版材とした場合には、充分な反発弾性を得ることが
できず、50μmを超えると、フレキソ版材の解像度が
低下するので好ましくない。より好ましくは、0.05
〜10μmである。
【0094】上記分散相における各分散相間の平均距
離、すなわち、上記熱可塑性弾性高分子(A)の微粒子
の間を占める上記連続相の平均幅は、0.001〜10
0μmが好ましい。0.001μm未満であると、水現
像性が不充分であり、100μmを超えると、得られる
水現像性感光組成物が連続相となる上記熱可塑性弾性高
分子(A)以外の成分の影響を強く受けるために、水現
像性は保持することができても、反発弾性が不充分とな
り、硬度が上昇して、フレキソ版材に使用する感光性組
成物としては好ましくない。より好ましくは、0.05
〜5μmである。
離、すなわち、上記熱可塑性弾性高分子(A)の微粒子
の間を占める上記連続相の平均幅は、0.001〜10
0μmが好ましい。0.001μm未満であると、水現
像性が不充分であり、100μmを超えると、得られる
水現像性感光組成物が連続相となる上記熱可塑性弾性高
分子(A)以外の成分の影響を強く受けるために、水現
像性は保持することができても、反発弾性が不充分とな
り、硬度が上昇して、フレキソ版材に使用する感光性組
成物としては好ましくない。より好ましくは、0.05
〜5μmである。
【0095】本発明の水現像性感光組成物は、上記熱可
塑性弾性高分子(A)により充分な反発弾性を得ること
ができるうえ、上記架橋樹脂粒子(C)を用いているの
で、フレキソ版材とした場合、良好な水現像性を確保し
つつ、耐水性を向上させることができる。また、非気体
状のエチレン性不飽和化合物を含有していないので、未
反応のエチレン性不飽和化合物(モノマー)が組成物中
に残存せず、耐インキ性が向上する。更に、上記親水性
高分子(B)が上記架橋樹脂粒子(C)とイオン対を形
成して結合しているので、ブリードがなく、組成物自体
の貯蔵安定性も良好であり、組成物中に親水性成分が少
なくても、優れた水現像性を発揮することができる。
塑性弾性高分子(A)により充分な反発弾性を得ること
ができるうえ、上記架橋樹脂粒子(C)を用いているの
で、フレキソ版材とした場合、良好な水現像性を確保し
つつ、耐水性を向上させることができる。また、非気体
状のエチレン性不飽和化合物を含有していないので、未
反応のエチレン性不飽和化合物(モノマー)が組成物中
に残存せず、耐インキ性が向上する。更に、上記親水性
高分子(B)が上記架橋樹脂粒子(C)とイオン対を形
成して結合しているので、ブリードがなく、組成物自体
の貯蔵安定性も良好であり、組成物中に親水性成分が少
なくても、優れた水現像性を発揮することができる。
【0096】また、本発明の水現像性感光組成物は、上
述した分散相及び連続相からなるものである場合、上記
連続相中に存在するイオン対を形成した上記親水性高分
子(B)及び上記架橋樹脂粒子(C)により、親水性成
分が貫通構造を形成しており、優れた水現像性を発揮す
ることができる。
述した分散相及び連続相からなるものである場合、上記
連続相中に存在するイオン対を形成した上記親水性高分
子(B)及び上記架橋樹脂粒子(C)により、親水性成
分が貫通構造を形成しており、優れた水現像性を発揮す
ることができる。
【0097】本発明の水現像性感光組成物の製造方法
は、イオン性基及び光重合性二重結合を有する親水性高
分子(B)、上記イオン性基及び光重合性二重結合を有
する親水性高分子(B)とイオン対を形成することがで
きるイオン性基を有する架橋樹脂粒子(C)及び光重合
開始剤(D)を溶剤に分散させ、混合し、更に、熱可塑
性弾性高分子(A)を混合分散させた後、上記溶剤を除
去することを特徴とする。
は、イオン性基及び光重合性二重結合を有する親水性高
分子(B)、上記イオン性基及び光重合性二重結合を有
する親水性高分子(B)とイオン対を形成することがで
きるイオン性基を有する架橋樹脂粒子(C)及び光重合
開始剤(D)を溶剤に分散させ、混合し、更に、熱可塑
性弾性高分子(A)を混合分散させた後、上記溶剤を除
去することを特徴とする。
【0098】上記溶剤としては、上記熱可塑性弾性高分
子(A)、上記親水性高分子(B)、上記架橋樹脂粒子
(C)に対して溶解性を示さないものを使用する。本発
明の水現像性感光組成物の製造方法においては、水又は
水と有機溶剤との混合した水性溶剤が好ましい。
子(A)、上記親水性高分子(B)、上記架橋樹脂粒子
(C)に対して溶解性を示さないものを使用する。本発
明の水現像性感光組成物の製造方法においては、水又は
水と有機溶剤との混合した水性溶剤が好ましい。
【0099】上記親水性高分子(B)、上記架橋樹脂粒
子(C)及び上記光重合開始剤(D)を溶剤に分散させ
る方法としては特に限定されず、目的に応じて、例え
ば、加圧ニーダー、プラネタリーミキサー、2本ロー
ル、3本ロール、ホットロール、ディスパー等の公知の
分散方法を適宜選択することができる。上記分散の条件
も、目的に応じて、適宜選択することができる。
子(C)及び上記光重合開始剤(D)を溶剤に分散させ
る方法としては特に限定されず、目的に応じて、例え
ば、加圧ニーダー、プラネタリーミキサー、2本ロー
ル、3本ロール、ホットロール、ディスパー等の公知の
分散方法を適宜選択することができる。上記分散の条件
も、目的に応じて、適宜選択することができる。
【0100】上記熱可塑性弾性高分子(A)を上記親水
性高分子(B)、上記架橋樹脂粒子(C)及び上記光重
合開始剤(D)の分散液中に混合分散させる方法として
は特に限定されないが、上記熱可塑性弾性高分子(A)
の軟化点を低下させて混合を促進するために、加熱溶融
して添加する方法;上記熱可塑性弾性高分子(A)を有
機溶剤に溶解させて添加する方法等により行うことが好
ましい。
性高分子(B)、上記架橋樹脂粒子(C)及び上記光重
合開始剤(D)の分散液中に混合分散させる方法として
は特に限定されないが、上記熱可塑性弾性高分子(A)
の軟化点を低下させて混合を促進するために、加熱溶融
して添加する方法;上記熱可塑性弾性高分子(A)を有
機溶剤に溶解させて添加する方法等により行うことが好
ましい。
【0101】上記熱可塑性弾性高分子(A)を加熱溶融
する場合、加熱温度としては、100〜200℃が好ま
しい。この温度範囲で上記熱可塑性弾性高分子(A)を
溶融させ、上記親水性高分子(B)、上記架橋樹脂粒子
(C)及び上記光重合開始剤(D)の分散液中に混合す
ることができる。
する場合、加熱温度としては、100〜200℃が好ま
しい。この温度範囲で上記熱可塑性弾性高分子(A)を
溶融させ、上記親水性高分子(B)、上記架橋樹脂粒子
(C)及び上記光重合開始剤(D)の分散液中に混合す
ることができる。
【0102】上記熱可塑性弾性高分子(A)を有機溶剤
に溶解させる場合、上記熱可塑性弾性高分子(A)10
0重量部に対して、1〜1000重量部の有機溶剤を添
加して溶解させることができる。300重量部以上の有
機溶剤を添加すると、常温で容易に溶解することができ
る。上記有機溶剤としては特に限定されず、例えば、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼン、シクロヘキサン、n−ヘキサン等を挙げる
ことができる。
に溶解させる場合、上記熱可塑性弾性高分子(A)10
0重量部に対して、1〜1000重量部の有機溶剤を添
加して溶解させることができる。300重量部以上の有
機溶剤を添加すると、常温で容易に溶解することができ
る。上記有機溶剤としては特に限定されず、例えば、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼン、シクロヘキサン、n−ヘキサン等を挙げる
ことができる。
【0103】上記有機溶剤は、上記熱可塑性弾性高分子
(A)を上記親水性高分子(B)、上記架橋樹脂粒子
(C)及び上記光重合開始剤(D)の分散液中に混合分
散させた後の分散体の経時安定性を向上させるために、
上記熱可塑性弾性高分子(A)を分散した後、直ちに減
圧留去等の方法により系外へ除去することが好ましい。
(A)を上記親水性高分子(B)、上記架橋樹脂粒子
(C)及び上記光重合開始剤(D)の分散液中に混合分
散させた後の分散体の経時安定性を向上させるために、
上記熱可塑性弾性高分子(A)を分散した後、直ちに減
圧留去等の方法により系外へ除去することが好ましい。
【0104】本発明の水現像性感光組成物の製造方法に
おいては、上記熱可塑性弾性高分子(A)の混合分散を
促進させることを目的として、上記親水性高分子
(B)、上記架橋樹脂粒子(C)及び上記光重合開始剤
(D)の分散液に乳化分散剤を添加してもよい。
おいては、上記熱可塑性弾性高分子(A)の混合分散を
促進させることを目的として、上記親水性高分子
(B)、上記架橋樹脂粒子(C)及び上記光重合開始剤
(D)の分散液に乳化分散剤を添加してもよい。
【0105】上記乳化分散剤としては、アニオン系界面
活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性
剤、両性の界面活性剤を使用することができるが、アニ
オン系界面活性剤及びノニオン系界面活性剤が好まし
い。より好ましくは、アニオン系界面活性剤である。上
記アニオン系界面活性剤としては、特に下記一般式
(I); R1 −[(Cn H2nO)m ]k −A (I) (式中、R1 は、炭素数8〜22の水素原子含有極性基
の残基を表す。Aは、アニオン塩を表す。nは、2又は
3を表す。mは、1〜10の整数を表す。kは、1又は
2を表す。)で表されるものが好ましい。
活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性
剤、両性の界面活性剤を使用することができるが、アニ
オン系界面活性剤及びノニオン系界面活性剤が好まし
い。より好ましくは、アニオン系界面活性剤である。上
記アニオン系界面活性剤としては、特に下記一般式
(I); R1 −[(Cn H2nO)m ]k −A (I) (式中、R1 は、炭素数8〜22の水素原子含有極性基
の残基を表す。Aは、アニオン塩を表す。nは、2又は
3を表す。mは、1〜10の整数を表す。kは、1又は
2を表す。)で表されるものが好ましい。
【0106】上記R1 としては、例えば、2−エチルヘ
キサノール、オクタノール、デカノール、ドデカノー
ル、テトラデカノール、ヘキサデカノール、オクタデカ
ノール、アルフォール、ドバノール、ベンジルアルコー
ル等の第1級アルコール類;タージトールS、ソフタノ
ール、オキソアルコール等の第2級アルコール類;オク
チルフェノール、ノニルフェノール等のフェノール類;
ラウリルチオール、オレイルチオール等のチオール類;
ラウリルアミン、ラウリルメチルアミン、ジオレイルア
ミン等のアミン類;ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミ
チン酸、オレイン酸、ステアリン酸、ベヘニン酸等のカ
ルボン酸類等の残基等を挙げることができる。
キサノール、オクタノール、デカノール、ドデカノー
ル、テトラデカノール、ヘキサデカノール、オクタデカ
ノール、アルフォール、ドバノール、ベンジルアルコー
ル等の第1級アルコール類;タージトールS、ソフタノ
ール、オキソアルコール等の第2級アルコール類;オク
チルフェノール、ノニルフェノール等のフェノール類;
ラウリルチオール、オレイルチオール等のチオール類;
ラウリルアミン、ラウリルメチルアミン、ジオレイルア
ミン等のアミン類;ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミ
チン酸、オレイン酸、ステアリン酸、ベヘニン酸等のカ
ルボン酸類等の残基等を挙げることができる。
【0107】上記Aのアニオン塩のアニオン成分として
は、例えば、スルホン酸、硫酸エステル、りん酸エステ
ル、酢酸等を挙げることができる。上記アニオン成分の
対イオンとしては、例えば、リチウム、ナトリウム、カ
リウム等のアルカリ金属カチオン;アンモニア、メチル
アミン、エチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン等の低級アミンカ
チオン等を挙げることができる。これらのアニオン塩の
うち、スルホン酸アルカリ金属塩、硫酸エステルアルカ
リ金属塩、酢酸アルカリ金属塩が好ましい。
は、例えば、スルホン酸、硫酸エステル、りん酸エステ
ル、酢酸等を挙げることができる。上記アニオン成分の
対イオンとしては、例えば、リチウム、ナトリウム、カ
リウム等のアルカリ金属カチオン;アンモニア、メチル
アミン、エチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン等の低級アミンカ
チオン等を挙げることができる。これらのアニオン塩の
うち、スルホン酸アルカリ金属塩、硫酸エステルアルカ
リ金属塩、酢酸アルカリ金属塩が好ましい。
【0108】上記一般式(I)において、上記Aが、ス
ルホン酸塩、硫酸エステル塩及び酢酸塩である場合、上
記kは、1であり、上記Aが、りん酸エステル塩である
場合、kは、1又は2である。
ルホン酸塩、硫酸エステル塩及び酢酸塩である場合、上
記kは、1であり、上記Aが、りん酸エステル塩である
場合、kは、1又は2である。
【0109】上記nは、オキシアルキレン単位の炭素数
を示すものであり、オキシエチレン単位とオキシプロピ
レン単位とが共存する場合には、各単位は、ランダムに
結合してもよく、ブロック状に結合してもよい。上記m
は、オキシアルキレン単位の重合度を表す。好ましく
は、2〜4の整数である。
を示すものであり、オキシエチレン単位とオキシプロピ
レン単位とが共存する場合には、各単位は、ランダムに
結合してもよく、ブロック状に結合してもよい。上記m
は、オキシアルキレン単位の重合度を表す。好ましく
は、2〜4の整数である。
【0110】本発明の水現像性感光組成物の製造方法に
おいて、上記アニオン系界面活性剤は、ノニオン系界面
活性剤と併用してもよい。上記ノニオン系界面活性剤と
しては、例えば、下記一般式(II); R2 −(Cp H2pO)q −H (II) (式中、R2 は、炭素数8〜22の水素原子含有極性基
の残基を表す。pは、2又は3を表す。qは、0〜20
の整数を表す。)で表されるものが好ましい。
おいて、上記アニオン系界面活性剤は、ノニオン系界面
活性剤と併用してもよい。上記ノニオン系界面活性剤と
しては、例えば、下記一般式(II); R2 −(Cp H2pO)q −H (II) (式中、R2 は、炭素数8〜22の水素原子含有極性基
の残基を表す。pは、2又は3を表す。qは、0〜20
の整数を表す。)で表されるものが好ましい。
【0111】上記R2 としては、例えば、上記R1 で例
示したもの等を挙げることができる。上記pは、オキシ
アルキレン単位の炭素数を示すものであり、オキシエチ
レン単位とオキシプロピレン単位とが共存する場合に
は、各単位は、ランダムに結合してもよく、ブロック状
に結合してもよい。上記qは、オキシアルキレン単位の
重合度を表す。好ましくは、3〜10の整数である。
示したもの等を挙げることができる。上記pは、オキシ
アルキレン単位の炭素数を示すものであり、オキシエチ
レン単位とオキシプロピレン単位とが共存する場合に
は、各単位は、ランダムに結合してもよく、ブロック状
に結合してもよい。上記qは、オキシアルキレン単位の
重合度を表す。好ましくは、3〜10の整数である。
【0112】上記アニオン系界面活性剤及び上記ノニオ
ン系界面活性剤が併用される場合、上記アニオン系界面
活性剤及び上記ノニオン系界面活性剤の配合割合は、重
量比で、通常、(アニオン系界面活性剤)/(ノニオン
系界面活性剤)=100/0〜10/90が好ましい。
上記アニオン系界面活性剤が10重量%未満であると、
得られる水性乳化分散液の乳化安定性が低下する。より
好ましくは、100/0〜20/80であり、更に好ま
しくは、100/0〜40/60である。
ン系界面活性剤が併用される場合、上記アニオン系界面
活性剤及び上記ノニオン系界面活性剤の配合割合は、重
量比で、通常、(アニオン系界面活性剤)/(ノニオン
系界面活性剤)=100/0〜10/90が好ましい。
上記アニオン系界面活性剤が10重量%未満であると、
得られる水性乳化分散液の乳化安定性が低下する。より
好ましくは、100/0〜20/80であり、更に好ま
しくは、100/0〜40/60である。
【0113】本発明の水現像性感光組成物の製造方法に
おいて、上記親水性高分子(B)、上記架橋樹脂粒子
(C)及び上記光重合開始剤(D)の分散液に上記熱可
塑性弾性高分子(A)の混合分散させた後、溶剤を除去
する方法としては特に限定されず、目的に応じて、公知
の方法、条件を適宜選択することができる。
おいて、上記親水性高分子(B)、上記架橋樹脂粒子
(C)及び上記光重合開始剤(D)の分散液に上記熱可
塑性弾性高分子(A)の混合分散させた後、溶剤を除去
する方法としては特に限定されず、目的に応じて、公知
の方法、条件を適宜選択することができる。
【0114】本発明の水現像性感光組成物の製造方法に
より、上記熱可塑性弾性高分子(A)が分散相を形成
し、上記親水性高分子(B)、上記架橋樹脂粒子(C)
及び上記光重合開始剤(D)が連続相を形成した水現像
性感光組成物を安定して得ることができる。
より、上記熱可塑性弾性高分子(A)が分散相を形成
し、上記親水性高分子(B)、上記架橋樹脂粒子(C)
及び上記光重合開始剤(D)が連続相を形成した水現像
性感光組成物を安定して得ることができる。
【0115】本発明の製造方法により得られる水現像性
感光組成物は、フレキソ版材、フォトレジスト、サンド
プラスト、接着剤、フィルム、塗料等の紫外線により硬
化するエラストマーとしての用途に使用することができ
る。なかでも、フレキソ版材として好適である。
感光組成物は、フレキソ版材、フォトレジスト、サンド
プラスト、接着剤、フィルム、塗料等の紫外線により硬
化するエラストマーとしての用途に使用することができ
る。なかでも、フレキソ版材として好適である。
【0116】本発明の水現像性感光組成物をフレキソ版
材として使用する場合、従来のフレキソ版材を製造する
場合と同様にして、支持体、例えば、鉄板、アルミ板;
ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチ
レン、ポリプロピレン等のフィルム等の表面に水現像性
感光組成物を加熱、圧着して成型する。得られたフレキ
ソ版材には、必要に応じて、上記支持体と反対の面に、
上記支持体と同様のフィルム;水系の現像液に可溶であ
るポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ヒドロ
キシプロピルセルロース等の薄層をコーティング又はラ
ミネートしたフィルム等を設けてもよい。
材として使用する場合、従来のフレキソ版材を製造する
場合と同様にして、支持体、例えば、鉄板、アルミ板;
ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチ
レン、ポリプロピレン等のフィルム等の表面に水現像性
感光組成物を加熱、圧着して成型する。得られたフレキ
ソ版材には、必要に応じて、上記支持体と反対の面に、
上記支持体と同様のフィルム;水系の現像液に可溶であ
るポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ヒドロ
キシプロピルセルロース等の薄層をコーティング又はラ
ミネートしたフィルム等を設けてもよい。
【0117】上記フレキソ版材から版を形成する方法と
しては、上記フレキソ版材に透明画像を有するネガフィ
ルムを当てて紫外線を照射した後、露光されなかった非
画像部を現像液を用いて除去する方法等を挙げることが
できる。上記紫外線の照射は、例えば、高圧水銀灯、メ
タルハライドランプ等を光源として行うことができる。
上記紫外線の照射条件は、500〜5000mJ/cm
2 が好ましい。
しては、上記フレキソ版材に透明画像を有するネガフィ
ルムを当てて紫外線を照射した後、露光されなかった非
画像部を現像液を用いて除去する方法等を挙げることが
できる。上記紫外線の照射は、例えば、高圧水銀灯、メ
タルハライドランプ等を光源として行うことができる。
上記紫外線の照射条件は、500〜5000mJ/cm
2 が好ましい。
【0118】上記現像液としては水系のものであれば特
に限定されず、例えば、pH5.0〜9.0の水道水等
を挙げることができる。上記水道水には、例えば、水酸
化ナトリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ性化合物;
アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アルキルベ
ンゼンスルホン酸ナトリウム等の界面活性剤;水溶性有
機溶剤等を含有していてもよい。上記現像液は、25〜
45℃で用いられることが好ましい。
に限定されず、例えば、pH5.0〜9.0の水道水等
を挙げることができる。上記水道水には、例えば、水酸
化ナトリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ性化合物;
アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アルキルベ
ンゼンスルホン酸ナトリウム等の界面活性剤;水溶性有
機溶剤等を含有していてもよい。上記現像液は、25〜
45℃で用いられることが好ましい。
【0119】
【実施例】以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。
明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。
【0120】製造例1 アニオン性基を有する架橋樹脂
粒子の製造 攪拌加熱装置、温度計、窒素導入管、冷却管を備えた反
応容器に、RA−1022(アニオン性反応乳化剤、日
本乳化剤社製)2重量部、脱イオン水168重量部を仕
込み、80℃に昇温した。これにRA−1022(アニ
オン性反応乳化剤、日本乳化剤社製)18重量部、脱イ
オン水252重量部、スチレン43.7重量部、n−ブ
チルアクリレート41.3重量部及びエチレングリコー
ルジメタクリレート4.5重量部からなるモノマー混合
液(プレエマルション)359.5重量部と、ペルオキ
ソ二硫酸アンモニウム0.5重量部及び脱イオン水62
重量部からなる開始剤水溶液56重量部とを同時に11
0分かけて滴下し、更に60分間反応を継続した後、ア
クリル酸10重量部及びエチレングリコールジメタクリ
レート0.5重量部からなるモノマー混合液10.5重
量部と残りの開始剤水溶液6.5重量部とを同時に10
分かけて滴下し、1時間攪拌を継続し、反応を終了し
た。得られた架橋樹脂粒子エマルションの粒子径は80
nmであった。
粒子の製造 攪拌加熱装置、温度計、窒素導入管、冷却管を備えた反
応容器に、RA−1022(アニオン性反応乳化剤、日
本乳化剤社製)2重量部、脱イオン水168重量部を仕
込み、80℃に昇温した。これにRA−1022(アニ
オン性反応乳化剤、日本乳化剤社製)18重量部、脱イ
オン水252重量部、スチレン43.7重量部、n−ブ
チルアクリレート41.3重量部及びエチレングリコー
ルジメタクリレート4.5重量部からなるモノマー混合
液(プレエマルション)359.5重量部と、ペルオキ
ソ二硫酸アンモニウム0.5重量部及び脱イオン水62
重量部からなる開始剤水溶液56重量部とを同時に11
0分かけて滴下し、更に60分間反応を継続した後、ア
クリル酸10重量部及びエチレングリコールジメタクリ
レート0.5重量部からなるモノマー混合液10.5重
量部と残りの開始剤水溶液6.5重量部とを同時に10
分かけて滴下し、1時間攪拌を継続し、反応を終了し
た。得られた架橋樹脂粒子エマルションの粒子径は80
nmであった。
【0121】製造例2 カチオン性基を有する架橋樹脂
粒子の製造 攪拌加熱装置、温度計、窒素導入管、冷却管を備えた反
応容器に、RA−1022(アニオン性反応乳化剤、日
本乳化剤社製)2重量部、脱イオン水168重量部を仕
込み、80℃に昇温した。これにRA−1022(アニ
オン性反応乳化剤、日本乳化剤社製)18重量部、脱イ
オン水252重量部、スチレン53.5重量部、n−ブ
チルアクリレート20重量部及びエチレングリコールジ
メタクリレート4重量部からなるモノマー混合液(プレ
エマルション)347.5重量部と、ペルオキソ二硫酸
カリウム0.5重量部及び脱イオン水60重量部からな
る開始剤水溶液54重量部とを同時に110分かけて滴
下し、更に60分間反応を継続した後、N,N−ジメチ
ルアミノ−2−エチルメタクリレート21.5重量部及
びエチレングリコールジメタクリレート1重量部からな
るモノマー混合液22.5重量部と残りの開始剤水溶液
6.5重量部とを同時に10分かけて滴下し、1時間攪
拌を継続し、反応を終了した。得られた架橋樹脂粒子エ
マルションの粒子径は80nmであった。
粒子の製造 攪拌加熱装置、温度計、窒素導入管、冷却管を備えた反
応容器に、RA−1022(アニオン性反応乳化剤、日
本乳化剤社製)2重量部、脱イオン水168重量部を仕
込み、80℃に昇温した。これにRA−1022(アニ
オン性反応乳化剤、日本乳化剤社製)18重量部、脱イ
オン水252重量部、スチレン53.5重量部、n−ブ
チルアクリレート20重量部及びエチレングリコールジ
メタクリレート4重量部からなるモノマー混合液(プレ
エマルション)347.5重量部と、ペルオキソ二硫酸
カリウム0.5重量部及び脱イオン水60重量部からな
る開始剤水溶液54重量部とを同時に110分かけて滴
下し、更に60分間反応を継続した後、N,N−ジメチ
ルアミノ−2−エチルメタクリレート21.5重量部及
びエチレングリコールジメタクリレート1重量部からな
るモノマー混合液22.5重量部と残りの開始剤水溶液
6.5重量部とを同時に10分かけて滴下し、1時間攪
拌を継続し、反応を終了した。得られた架橋樹脂粒子エ
マルションの粒子径は80nmであった。
【0122】製造例3 親水性高分子の製造 攪拌加熱装置、温度計、窒素導入管、冷却管を備えた反
応容器に、キシレン400重量部を仕込み、110℃に
昇温した。これにRMA−150M(水溶性モノマー、
日本乳化剤社製)37.1重量部、スチレン52.9重
量部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート5重量部、
ジメチルアミノプロピルメタクリレート5重量部及びカ
ヤエステルO(t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキ
サノエート、重合開始剤、化薬アクゾ社製)からなる混
合液110重量部を60分かけて滴下し、更に120分
間反応を継続した後、70℃に冷却して2−メタクリロ
イルオキシエチルイソシアネート6重量部を30分かけ
て滴下し、2時間攪拌を継続して反応を終了した。減圧
下で反応物の溶剤を留去して、粘性のある樹脂を得た。
不揮発分は90%、数平均分子量は3000であった。
応容器に、キシレン400重量部を仕込み、110℃に
昇温した。これにRMA−150M(水溶性モノマー、
日本乳化剤社製)37.1重量部、スチレン52.9重
量部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート5重量部、
ジメチルアミノプロピルメタクリレート5重量部及びカ
ヤエステルO(t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキ
サノエート、重合開始剤、化薬アクゾ社製)からなる混
合液110重量部を60分かけて滴下し、更に120分
間反応を継続した後、70℃に冷却して2−メタクリロ
イルオキシエチルイソシアネート6重量部を30分かけ
て滴下し、2時間攪拌を継続して反応を終了した。減圧
下で反応物の溶剤を留去して、粘性のある樹脂を得た。
不揮発分は90%、数平均分子量は3000であった。
【0123】製造例4 親水性高分子の製造 攪拌加熱装置、温度計、窒素導入管、冷却管を備えた反
応容器に、ポリブタジエン(Polyoil−110、
独国ヒュルス社製)1800重量部、無水マレイン酸2
94重量部、キシレン18重量部、スミライザーGM
〔2−t−ブチル−6−(3′−t−ブチル−5′−メ
チル−2′−ハイドロキシベンジル)−4−メチルフェ
ニルアクリレート、ゴム熱劣化防止剤、住友化学社製〕
5.4重量部、スミライザーTP−D〔ペンタエリスリ
トールテトラキス(β−ラウリルプロピオネート)、ゴ
ム熱劣化防止剤、住友化学社製〕5.4重量部を仕込
み、190℃に昇温した。1時間ごとにサンプリングを
行い、ジメチルアミノベンジルとの呈色反応にて着色が
消失するまで、反応を5時間継続した。次に、これを1
40℃に冷却し、2−ヒドロキシエチルメタクリレート
260重量部、ポリエチレングリコールモノメチルエー
テル(MPG−081、日本乳化剤社製)692重量部
を30分間で滴下し、更に30分間反応を継続した後、
冷却した。不揮発分は99%、数平均分子量は2100
であった。
応容器に、ポリブタジエン(Polyoil−110、
独国ヒュルス社製)1800重量部、無水マレイン酸2
94重量部、キシレン18重量部、スミライザーGM
〔2−t−ブチル−6−(3′−t−ブチル−5′−メ
チル−2′−ハイドロキシベンジル)−4−メチルフェ
ニルアクリレート、ゴム熱劣化防止剤、住友化学社製〕
5.4重量部、スミライザーTP−D〔ペンタエリスリ
トールテトラキス(β−ラウリルプロピオネート)、ゴ
ム熱劣化防止剤、住友化学社製〕5.4重量部を仕込
み、190℃に昇温した。1時間ごとにサンプリングを
行い、ジメチルアミノベンジルとの呈色反応にて着色が
消失するまで、反応を5時間継続した。次に、これを1
40℃に冷却し、2−ヒドロキシエチルメタクリレート
260重量部、ポリエチレングリコールモノメチルエー
テル(MPG−081、日本乳化剤社製)692重量部
を30分間で滴下し、更に30分間反応を継続した後、
冷却した。不揮発分は99%、数平均分子量は2100
であった。
【0124】実施例1 トルエン800重量部にKRATON D−1107
(ポリスチレン/ポリイソプレン/ポリスチレン型トリ
ブロック共重合体、熱可塑性弾性高分子、シェル化学社
製)200重量部を加え、攪拌して熱可塑性弾性高分子
のトルエン溶液を得た。次に、製造例1で得られたアニ
オン性基を有する架橋樹脂粒子75重量部、製造例4で
得られた親水性高分子16.7重量部、脱イオン水10
重量部、イルガキュア−2959〔4−(2−ヒドロキ
シエチル)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピ
ル)ケトン、ラジカル系光重合開始剤、日本チバガイギ
ー社製〕2.5重量部をディスパーで攪拌し、水分散体
とした後、熱可塑性弾性高分子のトルエン溶液300重
量部を加え、更にディスパーで攪拌し、エマルションを
得た。これをポリプロピレンシートに薄く塗布し、真空
乾燥機で乾燥して水現像性感光組成物を得た。乾燥条件
は、1〜10torr、40℃、8時間であった。乾燥
後の揮発分は3%以下であった。
(ポリスチレン/ポリイソプレン/ポリスチレン型トリ
ブロック共重合体、熱可塑性弾性高分子、シェル化学社
製)200重量部を加え、攪拌して熱可塑性弾性高分子
のトルエン溶液を得た。次に、製造例1で得られたアニ
オン性基を有する架橋樹脂粒子75重量部、製造例4で
得られた親水性高分子16.7重量部、脱イオン水10
重量部、イルガキュア−2959〔4−(2−ヒドロキ
シエチル)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピ
ル)ケトン、ラジカル系光重合開始剤、日本チバガイギ
ー社製〕2.5重量部をディスパーで攪拌し、水分散体
とした後、熱可塑性弾性高分子のトルエン溶液300重
量部を加え、更にディスパーで攪拌し、エマルションを
得た。これをポリプロピレンシートに薄く塗布し、真空
乾燥機で乾燥して水現像性感光組成物を得た。乾燥条件
は、1〜10torr、40℃、8時間であった。乾燥
後の揮発分は3%以下であった。
【0125】このようにして得られた水現像性感光組成
物を、T−ダイを有するニーダー押出機により予めクロ
ロプレン系接着剤(HIBON 1920LT、日立化
成社製)を5μmの厚さに塗工したポリエステルフィル
ム上に押し出し、厚さ約1.7mmの感光性樹脂層を有
する水現像性印刷原板を得た。得られた水現像性印刷原
板の貯蔵安定性、反発弾性、硬度、水溶出速度を評価し
た。結果を表1に示した。貯蔵安定性の評価 得られた水現像性印刷原板を20℃の恒温状態で1か月
貯蔵試験を行い、貯蔵前後における反発弾性、硬度及び
水溶出速度を測定した。
物を、T−ダイを有するニーダー押出機により予めクロ
ロプレン系接着剤(HIBON 1920LT、日立化
成社製)を5μmの厚さに塗工したポリエステルフィル
ム上に押し出し、厚さ約1.7mmの感光性樹脂層を有
する水現像性印刷原板を得た。得られた水現像性印刷原
板の貯蔵安定性、反発弾性、硬度、水溶出速度を評価し
た。結果を表1に示した。貯蔵安定性の評価 得られた水現像性印刷原板を20℃の恒温状態で1か月
貯蔵試験を行い、貯蔵前後における反発弾性、硬度及び
水溶出速度を測定した。
【0126】反発弾性の測定 水現像性印刷原板に、両面よりそれぞれ350W紫外線
ランプで1500mJ/cm2 の紫外線を10分間照射
し、光硬化したものを2cm角に切り取り、5枚重ねた
状態で落球式反発弾性測定試験機にて20℃における跳
ね返り係数(%)を測定した。硬度の測定 上記反発弾性の測定に用いた試験サンプルの20℃にお
けるショアーA硬度を測定した。水溶出速度の測定 未露光の印刷原板を40℃の水で3分間、ブラシ式溶出
機(JW−A2−PD、日本電子精機社製)を用いて溶
出することにより、貯蔵前後の膜厚変化を測定した。
ランプで1500mJ/cm2 の紫外線を10分間照射
し、光硬化したものを2cm角に切り取り、5枚重ねた
状態で落球式反発弾性測定試験機にて20℃における跳
ね返り係数(%)を測定した。硬度の測定 上記反発弾性の測定に用いた試験サンプルの20℃にお
けるショアーA硬度を測定した。水溶出速度の測定 未露光の印刷原板を40℃の水で3分間、ブラシ式溶出
機(JW−A2−PD、日本電子精機社製)を用いて溶
出することにより、貯蔵前後の膜厚変化を測定した。
【0127】実施例2 製造例2で得られたカチオン性基を有する架橋樹脂粒子
100重量部、製造例3で得られた親水性高分子22.
2重量部、脱イオン水10重量部、イルガキュア−29
59(ラジカル系光重合開始剤、日本チバガイギ社製)
2.5重量部をディスパーで攪拌し、水分散体とした
後、熱可塑性弾性高分子のトルエン溶液250重量部を
加え、更にディスパーで攪拌し、エマルションを得た。
これをポリプロピレンシートに薄く塗布し、真空乾燥機
で乾燥して水現像性感光組成物を得た。乾燥条件は、1
〜10torr、40℃、8時間であった。乾燥後の揮
発分は1%以下であった。得られた水現像性感光組成物
を用い、実施例1と同様にして水現像性印刷原板を得
た。得られた水現像性印刷原板の貯蔵安定性、反発弾
性、硬度、水溶出速度を実施例1と同様にして評価し
た。結果を表1に示した。
100重量部、製造例3で得られた親水性高分子22.
2重量部、脱イオン水10重量部、イルガキュア−29
59(ラジカル系光重合開始剤、日本チバガイギ社製)
2.5重量部をディスパーで攪拌し、水分散体とした
後、熱可塑性弾性高分子のトルエン溶液250重量部を
加え、更にディスパーで攪拌し、エマルションを得た。
これをポリプロピレンシートに薄く塗布し、真空乾燥機
で乾燥して水現像性感光組成物を得た。乾燥条件は、1
〜10torr、40℃、8時間であった。乾燥後の揮
発分は1%以下であった。得られた水現像性感光組成物
を用い、実施例1と同様にして水現像性印刷原板を得
た。得られた水現像性印刷原板の貯蔵安定性、反発弾
性、硬度、水溶出速度を実施例1と同様にして評価し
た。結果を表1に示した。
【0128】比較例1 KRATON D−1107のトルエン溶液を添加しな
かったこと以外は実施例1と同様にして感光組成物を得
た。得られた感光組成物を用い、実施例1と同様にして
印刷原板を得た。得られた印刷原板の貯蔵安定性、反発
弾性、硬度、水溶出速度を実施例1と同様にして評価し
た。結果を表1に示した。
かったこと以外は実施例1と同様にして感光組成物を得
た。得られた感光組成物を用い、実施例1と同様にして
印刷原板を得た。得られた印刷原板の貯蔵安定性、反発
弾性、硬度、水溶出速度を実施例1と同様にして評価し
た。結果を表1に示した。
【0129】比較例2 トルエン800重量部にKRATON D−1107
(ポリスチレン/ポリイソプレン/ポリスチレン型トリ
ブロック共重合体、熱可塑性弾性高分子、シェル化学社
製)200重量部及びエチレン性不飽和化合物としてラ
ウリルメタクリレートモノマー40重量部を加え、攪拌
して熱可塑性弾性高分子のトルエン溶液を得た。次に、
製造例1で得られたアニオン性基を有する架橋樹脂粒子
75重量部、製造例4で得られた親水性高分子16.7
重量部、脱イオン水10重量部、イルガキュアー295
9(ラジカル系光重合開始剤、日本チバガイギー社製)
2.5重量部をディスパーで攪拌し、水分散体とした
後、熱可塑性弾性高分子のトルエン溶液300重量部を
加え、更にディスパーで攪拌し、エマルションを得た。
得られたエマルションを用い、実施例1と同様にして印
刷原板を得た。得られた印刷原板の貯蔵安定性、反発弾
性、硬度、水溶出速度を実施例1と同様にして評価し
た。結果を表1に示した。
(ポリスチレン/ポリイソプレン/ポリスチレン型トリ
ブロック共重合体、熱可塑性弾性高分子、シェル化学社
製)200重量部及びエチレン性不飽和化合物としてラ
ウリルメタクリレートモノマー40重量部を加え、攪拌
して熱可塑性弾性高分子のトルエン溶液を得た。次に、
製造例1で得られたアニオン性基を有する架橋樹脂粒子
75重量部、製造例4で得られた親水性高分子16.7
重量部、脱イオン水10重量部、イルガキュアー295
9(ラジカル系光重合開始剤、日本チバガイギー社製)
2.5重量部をディスパーで攪拌し、水分散体とした
後、熱可塑性弾性高分子のトルエン溶液300重量部を
加え、更にディスパーで攪拌し、エマルションを得た。
得られたエマルションを用い、実施例1と同様にして印
刷原板を得た。得られた印刷原板の貯蔵安定性、反発弾
性、硬度、水溶出速度を実施例1と同様にして評価し
た。結果を表1に示した。
【0130】比較例3 製造例1で得られたアニオン性基を有する架橋樹脂粒子
を添加しなかったこと以外は、実施例1と同様にして感
光組成物を得た。得られた感光組成物を用い、実施例1
と同様にして印刷原板を得た。得られた印刷原板の貯蔵
安定性、反発弾性、硬度、水溶出速度を実施例1と同様
にして評価した。結果を表1に示した。
を添加しなかったこと以外は、実施例1と同様にして感
光組成物を得た。得られた感光組成物を用い、実施例1
と同様にして印刷原板を得た。得られた印刷原板の貯蔵
安定性、反発弾性、硬度、水溶出速度を実施例1と同様
にして評価した。結果を表1に示した。
【0131】
【表1】
【0132】実施例1で得られた水現像性感光組成物を
プレス機(100気圧)で、厚み100μmの薄膜状の
シートに成形した。これをプリモシアニン(クリスタル
バイオレット)1.0%水溶液に5分間浸漬し、乾燥
後、顕微鏡1000倍で観察した。結果を図1に示し
た。図1から、実施例1の水現像性感光組成物は、熱可
塑性弾性高分子が分散相であり、その他の成分が連続相
である相構造を形成することができることが判った。同
様にして、実施例2、比較例1〜3の相構造を観察した
ところ、実施例2及び比較例2、3については、実施例
1と同様の相構造を確認することができたが、比較例1
は、感光組成物中に分散相を形成すべき熱可塑性弾性高
分子を含まないため、図2に示したように、分散相/連
続相を形成していなかった。
プレス機(100気圧)で、厚み100μmの薄膜状の
シートに成形した。これをプリモシアニン(クリスタル
バイオレット)1.0%水溶液に5分間浸漬し、乾燥
後、顕微鏡1000倍で観察した。結果を図1に示し
た。図1から、実施例1の水現像性感光組成物は、熱可
塑性弾性高分子が分散相であり、その他の成分が連続相
である相構造を形成することができることが判った。同
様にして、実施例2、比較例1〜3の相構造を観察した
ところ、実施例2及び比較例2、3については、実施例
1と同様の相構造を確認することができたが、比較例1
は、感光組成物中に分散相を形成すべき熱可塑性弾性高
分子を含まないため、図2に示したように、分散相/連
続相を形成していなかった。
【0133】実施例1、2及び比較例1〜3で得られた
水現像性感光組成物に、それぞれネガフィルムを密着さ
せ、高圧水銀灯(350W)を用いて2000mJ/c
m2の紫外線を10分間照射した。ネガフィルムを除い
た後、pH7の脱イオン水を用いて40℃で5分間現像
を行い、画像パターンを得た。また、得られた画像パタ
ーンを用いて、画像パターン作成直後及び15日間経過
後にフレキソ印刷を行い、それぞれについて印刷画像の
状態及び耐インキ性を評価した。結果を表2に示した。
水現像性感光組成物に、それぞれネガフィルムを密着さ
せ、高圧水銀灯(350W)を用いて2000mJ/c
m2の紫外線を10分間照射した。ネガフィルムを除い
た後、pH7の脱イオン水を用いて40℃で5分間現像
を行い、画像パターンを得た。また、得られた画像パタ
ーンを用いて、画像パターン作成直後及び15日間経過
後にフレキソ印刷を行い、それぞれについて印刷画像の
状態及び耐インキ性を評価した。結果を表2に示した。
【0134】印刷画像の評価 フレキソ印刷を行って得られた画像を以下の評価基準に
従って評価した。 ○:印刷画像にムラがない △:印刷画像にわずかにムラがある ×:印刷画像にムラがある耐インキ性の評価 水性インキ(S,Sパーマネントブラック、米国WER
NEKE INK社製)を用いて印刷試験を行い、20
万部印刷した前後における印刷紙上でのドットゲイン、
インク転写性(インク転写濃度、インクかすれ)を3段
階評価した。 ○:20万部印刷前後で変化なし △:ドットゲイン、インクかすれが多少みられる ×:ドットゲイン、インクかすれがかなりみられる
従って評価した。 ○:印刷画像にムラがない △:印刷画像にわずかにムラがある ×:印刷画像にムラがある耐インキ性の評価 水性インキ(S,Sパーマネントブラック、米国WER
NEKE INK社製)を用いて印刷試験を行い、20
万部印刷した前後における印刷紙上でのドットゲイン、
インク転写性(インク転写濃度、インクかすれ)を3段
階評価した。 ○:20万部印刷前後で変化なし △:ドットゲイン、インクかすれが多少みられる ×:ドットゲイン、インクかすれがかなりみられる
【0135】
【表2】
【0136】
【発明の効果】本発明の水現像性感光組成物は、上述の
構成よりなるので、貯蔵安定性に優れており、フレキソ
版材として好適に使用することができる。本発明の水現
像性感光組成物から得られるフレキソ版材は、相反する
性能であるとされている耐水性及び耐インキ性と、水現
像性、反発弾性のいずれも優れたものであり、経時的な
変化を起こしにくく、ムラのない印刷画像を与えること
ができる。また、本発明の水現像性感光組成物の製造方
法は、上述のとおりであるので、本発明の水現像性感光
組成物を安定して製造することができる。
構成よりなるので、貯蔵安定性に優れており、フレキソ
版材として好適に使用することができる。本発明の水現
像性感光組成物から得られるフレキソ版材は、相反する
性能であるとされている耐水性及び耐インキ性と、水現
像性、反発弾性のいずれも優れたものであり、経時的な
変化を起こしにくく、ムラのない印刷画像を与えること
ができる。また、本発明の水現像性感光組成物の製造方
法は、上述のとおりであるので、本発明の水現像性感光
組成物を安定して製造することができる。
【図1】実施例1で得られた水現像性感光組成物の構造
を表す図である。
を表す図である。
【図2】比較例1で得られた水現像性感光組成物の構造
を表す図である。
を表す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03F 7/038 501 G03F 7/038 501 (72)発明者 叶井 裕 大阪府寝屋川市池田中町19番17号 日本ペ イント株式会社内
Claims (6)
- 【請求項1】 熱可塑性弾性高分子(A)、イオン性基
及び光重合性二重結合を有する親水性高分子(B)、前
記イオン性基及び光重合性二重結合を有する親水性高分
子(B)とイオン対を形成することができるイオン性基
を有する架橋樹脂粒子(C)及び光重合開始剤(D)か
らなることを特徴とする水現像性感光組成物。 - 【請求項2】 熱可塑性弾性高分子(A)は、ハードセ
グメント/ソフトセグメント/ハードセグメントからな
るトリブロック共重合体である請求項1記載の水現像性
感光組成物。 - 【請求項3】 熱可塑性弾性高分子(A)の配合量は、
全組成中、40〜90重量%である請求項1又は2記載
の水現像性感光組成物。 - 【請求項4】 熱可塑性弾性高分子(A)は、イオン性
基及び光重合性二重結合を有する親水性高分子(B)、
前記イオン性基及び光重合性二重結合を有する親水性高
分子(B)とイオン対を形成することができるイオン性
基を有する架橋樹脂粒子(C)及び光重合開始剤(D)
と互いに相溶しないものであり、前記熱可塑性弾性高分
子(A)が分散相を形成し、前記イオン性基及び光重合
性二重結合を有する親水性高分子(B)、前記イオン性
基及び光重合性二重結合を有する親水性高分子(B)と
イオン対を形成することができるイオン性基を有する架
橋樹脂粒子(C)及び前記光重合開始剤(D)が連続相
を形成するものである請求項1、2又は3記載の水現像
性感光組成物。 - 【請求項5】 請求項1、2、3又は4記載の水現像性
感光組成物の製造方法であって、イオン性基及び光重合
性二重結合を有する親水性高分子(B)、前記イオン性
基及び光重合性二重結合を有する親水性高分子(B)と
イオン対を形成することができるイオン性基を有する架
橋樹脂粒子(C)及び光重合開始剤(D)を溶剤に分散
させ、混合し、更に、熱可塑性弾性高分子(A)を混合
分散させた後、前記溶剤を除去することを特徴とする水
現像性感光組成物の製造方法。 - 【請求項6】 溶剤は、水又は水と有機溶剤とを混合し
た水性溶剤である請求項5記載の水現像性感光組成物の
製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4458997A JPH10221850A (ja) | 1997-02-12 | 1997-02-12 | 水現像性感光組成物及びその製造方法 |
EP98400325A EP0859284A1 (en) | 1997-02-12 | 1998-02-12 | Water-developable photosensitive composition and production process thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4458997A JPH10221850A (ja) | 1997-02-12 | 1997-02-12 | 水現像性感光組成物及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10221850A true JPH10221850A (ja) | 1998-08-21 |
Family
ID=12695673
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4458997A Pending JPH10221850A (ja) | 1997-02-12 | 1997-02-12 | 水現像性感光組成物及びその製造方法 |
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Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0859284A1 (ja) |
JP (1) | JPH10221850A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006120935A1 (ja) * | 2005-05-11 | 2006-11-16 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | 感光性樹脂組成物 |
JP2007112128A (ja) * | 2005-09-22 | 2007-05-10 | Toppan Printing Co Ltd | 凸版印刷用凸版及び印刷物 |
WO2010098617A3 (ko) * | 2009-02-27 | 2010-12-02 | 주식회사 동진쎄미켐 | 포토레지스트 패턴 코팅용 고분자 및 이를 이용한 반도체 소자의 패턴 형성 방법 |
JP2011018079A (ja) * | 2010-10-01 | 2011-01-27 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 水系現像可能なフレキソ印刷用感光性樹脂 |
WO2013176040A1 (ja) | 2012-05-21 | 2013-11-28 | 富士フイルム株式会社 | レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法、レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版の製版方法及びレリーフ印刷版 |
JP2014038345A (ja) * | 2013-09-20 | 2014-02-27 | Nippon Steel & Sumikin Chemical Co Ltd | 感光性樹脂組成物及び硬化膜 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004038503A1 (ja) * | 2002-10-23 | 2004-05-06 | Kuraray Co., Ltd. | 硬化性樹脂組成物および該硬化性樹脂組成物を用いたフレキソ印刷版材 |
CN113383022B (zh) * | 2019-01-30 | 2023-05-30 | 富士胶片株式会社 | 水显影性柔性版印刷版原版、柔性版印刷版及感光性树脂组合物 |
CN113474178B (zh) * | 2019-01-31 | 2023-09-15 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 |
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---|---|---|---|---|
JP2793068B2 (ja) * | 1991-04-24 | 1998-09-03 | 日本ペイント株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
JPH05333543A (ja) * | 1992-05-27 | 1993-12-17 | Toray Ind Inc | フレキソ印刷版用感光性樹脂組成物 |
JP3240769B2 (ja) * | 1992-10-02 | 2001-12-25 | ジェイエスアール株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
JPH07134411A (ja) * | 1993-11-10 | 1995-05-23 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
US5422225A (en) * | 1994-06-23 | 1995-06-06 | Shell Oil Company | Photopolymerizable recording composition for water-washable printing plates containing a water-dispersible elastomeric polymer blend |
JPH08320561A (ja) * | 1995-05-24 | 1996-12-03 | Nippon Paint Co Ltd | フレキソ版材用感光性樹脂組成物 |
-
1997
- 1997-02-12 JP JP4458997A patent/JPH10221850A/ja active Pending
-
1998
- 1998-02-12 EP EP98400325A patent/EP0859284A1/en not_active Withdrawn
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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EP1881370A1 (en) * | 2005-05-11 | 2008-01-23 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Photosensitive resin composition |
EP1881370A4 (en) * | 2005-05-11 | 2010-03-24 | Asahi Kasei Chemicals Corp | LIGHT-SENSITIVE RESIN COMPOSITION |
US7785765B2 (en) | 2005-05-11 | 2010-08-31 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Photosensitive resin composition |
JP2007112128A (ja) * | 2005-09-22 | 2007-05-10 | Toppan Printing Co Ltd | 凸版印刷用凸版及び印刷物 |
WO2010098617A3 (ko) * | 2009-02-27 | 2010-12-02 | 주식회사 동진쎄미켐 | 포토레지스트 패턴 코팅용 고분자 및 이를 이용한 반도체 소자의 패턴 형성 방법 |
JP2011018079A (ja) * | 2010-10-01 | 2011-01-27 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 水系現像可能なフレキソ印刷用感光性樹脂 |
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JP2014038345A (ja) * | 2013-09-20 | 2014-02-27 | Nippon Steel & Sumikin Chemical Co Ltd | 感光性樹脂組成物及び硬化膜 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
EP0859284A1 (en) | 1998-08-19 |
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