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JPH10195641A - 有機薄膜形成装置 - Google Patents

有機薄膜形成装置

Info

Publication number
JPH10195641A
JPH10195641A JP9013351A JP1335197A JPH10195641A JP H10195641 A JPH10195641 A JP H10195641A JP 9013351 A JP9013351 A JP 9013351A JP 1335197 A JP1335197 A JP 1335197A JP H10195641 A JPH10195641 A JP H10195641A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
organic
thin film
vacuum chamber
organic thin
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9013351A
Other languages
English (en)
Inventor
Naoki Nagashima
直樹 長嶋
Natsuki Takahashi
夏木 高橋
Toshio Negishi
敏夫 根岸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ulvac Inc
Original Assignee
Ulvac Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ulvac Inc filed Critical Ulvac Inc
Priority to JP9013351A priority Critical patent/JPH10195641A/ja
Publication of JPH10195641A publication Critical patent/JPH10195641A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/16Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/164Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using vacuum deposition
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/40Thermal treatment, e.g. annealing in the presence of a solvent vapour

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】基体の近傍の壁面等に付着する有機材料の再蒸
発を防止するとともに、成膜時における水や酸素との反
応を防止しうる有機薄膜形成装置を提供する。 【解決手段】真空槽2中で異なる有機材料を蒸発させて
基板8上に有機薄膜を形成するための有機薄膜形成装置
において、基板8の近傍に、真空槽2内の不要な蒸気を
冷却して捕獲するシュラウド12を設ける。シュラウド
12は、基板8の周囲を取り囲むように配置される。シ
ュラウド12は、真空槽2の外部に設けた液体窒素のタ
ンクに連結され、液体窒素が循環されるように構成され
る。各有機材料用蒸発源3A、3Bには、有機エレクト
ロルミネッセンス素子を形成するための有機化合物モノ
マーが収容される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、有機EL
(電界発光)素子等を製造する際に、基板上に有機化合
物の蒸着膜を形成するための有機薄膜形成装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体を中心としたエレクトロニ
クスは無機物を対象として発展してきたが、近年、有機
化合物を用いた機能性薄膜が着目されている。有機化合
物を利用する理由として、 無機物より多様な反応系・特性が利用できる。 無機物より低エネルギーで表面処理ができる。 ということがあげられる。
【0003】このような機能性薄膜として、有機EL素
子・圧電センサ・焦電センサ・電気絶縁膜等がある。こ
のような機能性薄膜は、主として蒸着によって形成され
るが、これらのうち、特に有機EL素子は、広視野角の
ディスプレイパネルとして利用が可能であることから将
来が有望視されており、蒸着成膜の大面積化が求められ
ている。
【0004】図4は、一般的な有機EL素子の構成を示
すものである。図4に示すように、この有機EL素子2
1は、例えばガラス基板22上に形成されたITOから
なるアノード電極23の上に、異なる有機材料からなる
有機薄膜24、25が形成され、さらに、その上にMg
/Agからなるカソード電極26が形成される。そし
て、アノード電極23とカソード電極26との間に約8
V程度の低電圧を印加するように構成される。この場
合、アノード電極23有機薄膜24、25の材料として
は、後述するある種のジアミンとAlq3が用いられ、
例えば、以下に示すような装置によって形成される。
【0005】図5は、従来の有機薄膜形成装置の概略構
成を示すものである。図5に示すように、この有機薄膜
形成装置100は、図示しない真空排気系に連結される
真空槽101を有し、この真空槽101の下部に設けら
れる導入部101A、101Bに、複数の有機材料用蒸
発源102A、102Bが仕切板103を挟んで両側に
配設される。
【0006】有機材料用蒸発源102A、102Bの上
方近傍には、有機材料の蒸気を閉じこめておくためのシ
ャッター104A、104Bがそれぞれ設けられ、これ
らのシャッター104A、104の上方近傍には、成膜
速度を測定するための膜厚モニター105A、105B
が設けられる。
【0007】一方、真空槽101の上部には、蒸着膜を
成膜すべき基板106が配置される。そして、基板54
の上方に、加熱部107を有する加熱手段108が、基
板106に密着するように設けられる。さらに、基板1
06の下方には、有機材料の蒸気を遮るためのメインシ
ャッター109が設けられる。
【0008】この有機薄膜形成装置100を用いて基板
106上に蒸着を行う場合には、真空槽101内の真空
排気を行い、シャッター104A、104B及びメイン
シャッター109を閉じた状態で有機材料用蒸発源10
2A、102B内の有機材料を所定の温度に加熱する。
【0009】そして、各有機材料が所定の温度に達して
所要の蒸発量が得られた後に、例えばシャッター104
A及びメインシャッター109を開き、所定の析出速度
で基板106上に一方の有機材料用蒸発源102Aの有
機材料を蒸着し、堆積させて所定の厚みの有機薄膜を形
成した後にシャッター104A及びメインシャッター1
09を閉じる。
【0010】さらに、同様の方法によって他方のシャッ
ター104B内の有機材料を蒸発させ、上述の有機薄膜
上に有機材料蒸発源102B内の有機材料を蒸着して堆
積させる。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の有機薄膜形成装置においては、次のような問
題があった。すなわち、この種の有機薄膜を形成するた
めの有機材料は、一般的に蒸気圧が高いため、基板の近
傍の壁面や治具に付着した有機材料が再び蒸発する可能
性がある。その結果、図5に示すように、複数の蒸発源
102A、102Bを使用し、異なる有機材料を用いて
複数の有機薄膜を形成する場合には、上述した壁面等か
らの有機材料の再蒸発によって、成膜時にクロスコンタ
ミネーションを引き起こすおそれがある。
【0012】さらに、有機材料は水を吸着して加水分解
を起こしやすく、また、酸素との反応を起こしやすいと
いう問題がある。
【0013】これらの問題は、有機EL素子の有機薄膜
を形成する場合に発光強度の低下となって現れるため、
その解決が要望されていた。
【0014】本発明は、かかる従来の技術の課題を解決
するためになされたもので、基体の近傍の壁面等に付着
する有機材料の再蒸発を防止するとともに、成膜時にお
ける水や酸素との反応を防止しうる有機薄膜形成装置を
提供することを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1記載の発明は、真空槽中で所定の有機材料
を蒸発させて基体上に有機薄膜を形成するための有機薄
膜形成装置であって、上記基体の近傍に、上記真空槽内
の不要な蒸気を捕獲する捕獲手段を設けたことを特徴と
する。
【0016】この場合、請求項2記載の発明のように、
請求項1記載の発明において、基体の周囲を取り囲むよ
うに捕獲手段を配置することも効果的である。
【0017】また、請求項3記載の発明のように、請求
項1又は2のいずれか1項記載の発明において、捕獲手
段が真空槽中の蒸気を冷却するものである場合にも効果
がある。
【0018】さらに、請求項4記載の発明のように、請
求項3記載の発明において、液体窒素によって真空槽中
の蒸気を冷却する冷却手段を有する場合にも効果があ
る。
【0019】さらにまた、請求項5記載の発明のよう
に、請求項1乃至4のいずれかに記載の発明において、
所定の有機材料が有機エレクトロルミネッセンス素子を
形成するための複数の有機化合物モノマーである場合に
特に効果がある。
【0020】請求項1記載の発明の場合、基体の近傍に
設けた捕獲手段によって真空槽内の不要な蒸気が捕獲さ
れる。例えば、異なる有機材料を用いて基体上に複数の
有機薄膜を形成する場合においては、成膜時に有機材料
がこの捕獲手段によって捕獲されるため、他の有機材料
を用いて成膜を行うときに、これが再蒸発することがな
くなる。その結果、有機材料の蒸気同士のクロスコンタ
ミネーションを防止することができる。
【0021】また、真空槽内に残留した基体周辺の水
分、酸素等のガス成分も、同様に捕獲手段によって冷却
されて捕獲されるため、従来の装置のように、成膜時に
有機材料に吸着して加水分解等の化学反応を引き起こす
ことはない。したがって、本発明によれば、発光強度の
高い有機EL素子を作製することができる。
【0022】この場合、請求項2記載の発明のように、
請求項1記載の発明において、捕獲手段を基体の周囲を
取り囲むように配置すれば、この捕獲手段によって基体
周辺の不要な蒸気が確実に捕獲されるようになる。
【0023】また、請求項3記載の発明のように、請求
項1又は2のいずれか1項記載の発明において、捕獲手
段として真空槽中の蒸気を冷却するものを用いれば、容
易に真空槽中の不要な蒸気を捕獲することができる。
【0024】この場合、請求項4記載の発明のように、
液体窒素によって真空槽中の蒸気を冷却する冷却手段を
設ければ、きわめて簡便に真空槽中の蒸気を低温に冷却
することができる。
【0025】また、請求項5記載の発明のように、請求
項1乃至4のいずれかに記載の発明において、所定の有
機材料として有機エレクトロルミネッセンス素子を形成
するための複数の有機化合物モノマーを用いた場合に
は、有機材料同士のクロスコンタミネーションが引き起
こされず、また、成膜時に有機材料に水分、酸素等が吸
着して加水分解等の化学反応を引き起こされないので、
発光強度の高い有機エレクトロルミネッセンス素子が得
られる。
【0026】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る有機薄膜形成
装置の好ましい実施の形態を図1〜3図を参照して詳細
に説明する。
【0027】図1は、本実施の形態に係る有機薄膜形成
装置の一例を示すものである。図1(a)に示すよう
に、この有機薄膜形成装置1は、例えばクライオポンプ
等の真空排気系(図示せず)に連結される真空槽2を有
し、この真空槽2の下部に設けられる複数の導入部2
A、2Bに、有機材料用蒸発源3(3A、3B)が仕切
板15を挟んでそれぞれ配設される。
【0028】各有機材料用蒸発源3A、3Bの内部に
は、例えば、有機EL素子を作製するための有機化合物
モノマーとして、以下に示すような一種のジアミン(Dia
mine)、Alq3[Tris(8-hydroxyquinoline) aluminiu
m, sublimed]、その他のドーパントを含め、種々のもの
が充填される。
【0029】
【化1】
【0030】
【化2】
【0031】
【化3】
【0032】各有機材料用蒸発源3A、3Bの上側近傍
には、有機材料の蒸気を遮断し封じこめておくためのシ
ャッター4(4A、4B)がそれぞれ設けられ、これら
のシャッター4A、4Bの上部には、有機材料を加熱す
るためのヒーター5(5A、5B)がそれぞれ設けられ
ている。なお、各シャッター4A、4Bの上方近傍に
は、成膜速度を測定するための膜厚モニター6(6A、
6B)が設けられる。
【0033】また、各有機材料用蒸発源3A、3Bの周
囲には、シュラウド7が設けられている。このシュラウ
ド7は、その内部に液体窒素等の冷却媒体が循環される
もので、各有機材料用蒸発源3A、3B周辺の水分、酸
素及びシャッター4A、4Bから再蒸発する有機材料1
4の蒸気を捕獲する機能を有するものである。
【0034】一方、真空槽2の上部には、蒸着膜を成膜
すべき基板8が配置される。そして、基板8の上方に、
加熱用の例えば温水パイプ9を有する加熱部10が、基
板8に密着するように設けられる。さらに、基板8の下
方には、有機材料の蒸気を遮るためのメインシャッター
11が設けられる。
【0035】また、真空槽2には、窒素ガス等の不活性
ガスを真空槽2内に導入するためのガス導入手段13が
連結されている。
【0036】さらに、真空槽2の側壁の近傍には、基板
8及びメインシャッター11を取り囲むようにシュラウ
ド12が設けられる。このシュラウド12は、その内部
に液体窒素等の冷却媒体が循環されるもので、基板8の
周辺の水分、酸素及び真空槽2の内壁から再蒸発する有
機材料の蒸気を捕獲する機能を有するものである。
【0037】図1(a)(b)に示すように、シュラウ
ド12は円筒形状を有し、基板8及びメインシャッター
11を取り囲むように設けられる。この場合、シュラウ
ド12は、真空槽2の内壁20から若干離して配置さ
れ、その下端が各シャッター4A、4Bの近傍まで延び
るように構成される。そして、このシュラウド12は、
真空槽2の外部に配され液体窒素を収容したタンク(図
示せず)に連結されている。
【0038】このような構成を有する本実施の形態にお
いて、基板8上に有機薄膜を形成する場合には、真空槽
2内の真空排気を行って真空槽2内を所定の圧力(1×
10-5Pa程度)にした後、シャッター3及びメインシ
ャッター11を閉じた状態で各有機材料用蒸発源3内の
有機材料を所定の温度に加熱する。
【0039】そして、各有機材料用蒸発源3内の有機材
料が所定の温度に達して所要の蒸発量が得られた後に、
例えば一方のシャッター4Aを開くとともにメインシャ
ッター11を開き、所定の析出速度で基板8上に蒸発源
3A内の有機材料を蒸着して堆積させる。そして、所定
の厚みの有機薄膜を形成した後にシャッター4A及びメ
インシャッター11を閉じる。
【0040】さらに、同様に方法によって他方のシャッ
ター4B内の有機材料を蒸発させ、上述の有機薄膜上に
蒸発源3B内の有機材料を蒸着して堆積させる。
【0041】なお、本実施の形態の有機薄膜形成装置1
を用いて有機EL素子を作製する場合には、アノード電
極として例えばITOの蒸着膜が形成されたガラス製の
基板8を真空槽2内に配置し、上述したように、異なる
有機材料を用いて複数の有機薄膜層を形成する。そし
て、この基板8を真空槽2から取り出し、例えばMg/
Ag合金からなるカソード電極を蒸着によって形成す
る。
【0042】図2(a)(b)は、本実施の形態の作用
を説明するための図であり、図2(a)はシュラウド1
2がない場合、図2(b)はシュラウド12がある場合
を示すものである。
【0043】上述したように、有機物は一般的に蒸気圧
が低く、無機物に比べて蒸発しやすいため、真空槽2内
にシュラウド12が設けられていない場合には、図2
(a)に示すように、例えば一方の蒸発源3Aから蒸発
して真空槽2の内壁20に付着した有機材料が、他方の
蒸発源3B内の有機材料を用いて成膜する際に再蒸発
し、その蒸気が混入する場合がある(クロスコンタミネ
ーション)。
【0044】また、有機物は水分(H2O)を吸着しや
すく、また、酸素(O2)と反応しやすいため、真空槽
2内に残留した基板8周辺の水分、酸素等のガス成分が
成膜時に有機材料に吸着して加水分解等の化学反応を引
き起こす場合がある。その結果、特に上述した有機材料
を用いて有機EL素子を作製する場合には、発光強度が
低下するおそれがある。
【0045】かかる問題は、図1(a)(b)に示す本
実施の形態のように、真空槽2内の基板8の近傍に、例
えば液体窒素が循環されるシュラウド12を設けること
によって解決することができる。
【0046】すなわち、図2(b)に示すように、一方
の蒸発源3Aから蒸発した有機材料は、その成膜時にシ
ュラウド12の内壁と接触して冷却され、これによって
捕獲されるため、他方の蒸発源3B内の有機材料を用い
て成膜する際に再蒸発することはない。その結果、上述
したような有機材料の蒸気のクロスコンタミネーション
を防止することができる。
【0047】また、真空槽2内に残留した基板8周辺の
水分、酸素等のガス成分も、同様にシュラウド12によ
って冷却されて捕獲されるため、従来の装置のように成
膜時に有機材料に吸着して加水分解等の化学反応を引き
起こすことはない。したがって、本実施の形態によれ
ば、発光強度の高い有機EL素子を作製することができ
る。
【0048】図3は、本発明に係る有機薄膜形成装置に
よって有機薄膜を形成した有機EL素子と、従来の有機
薄膜形成装置によって有機薄膜を形成した有機EL素子
の発光強度の差を示すグラフである。図3中、グラフA
は、図1に示すようにシュラウド12を有する装置を用
いた場合、グラフBは、図5に示すようにシュラウドを
有しない装置を用いた場合を示す。
【0049】この場合、ともに有機材料として、Alq
3、TPDを用い、成膜条件としては、1×10-5Paの
真空中において、有機EL素子を形成した。このような
方法によって作製した各有機EL素子について、6〜1
0Vの電圧を印加し、それぞれの輝度(cd/m2)を
測定した。
【0050】図3から理解されるように、本発明に係る
有機薄膜形成装置によって有機薄膜を形成した場合、上
述した有機材料のクロスコンタミネーション及び水分等
の吸着が生じないため、従来のシュラウドを有しない装
置によって有機薄膜を形成した場合に比べて約3倍以上
の発光強度の有機EL素子が得られた。
【0051】なお、本発明は上述の実施の形態に限られ
ることなく、種々の変更を行うことができる。例えば、
上述の実施の形態においては、真空槽2の外部に設けた
タンクからシュラウド12に液体窒素を供給するように
したが、本発明はこれに限られず、シュラウド12自体
をタンク式のものとすることもできる。
【0052】また、シュラウド12の形状、大きさは種
々のものとすることができるが、少なくとも基板8を取
り囲むとともに、シャッター4A、4Bまで延びるよう
に構成することが好ましい。このように構成することに
より、蒸発源3から蒸発する有機材料の蒸気や真空槽2
の内壁20に残留した水分等を確実に捕獲することがで
きる。
【0053】さらに、シュラウド12には、液体窒素の
みならず、他の冷却媒体を用いることも可能である。
【0054】さらにまた、本発明は有機EL素子を作製
するための装置のみならず、例えば、有機センサーを作
製する装置や蒸着重合により高分子薄膜を形成する装置
にも適用することができるものである。
【0055】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、異な
る有機材料を用いて基体上に複数の有機薄膜を形成する
場合に、成膜時に付着した有機材料の再蒸発を防止する
ことができので、有機材料のクロスコンタミネーション
を防止することができる。
【0056】また、真空槽内に残留した基板周辺の水
分、酸素等のガス成分も捕獲することができるので、成
膜時の有機材料に吸着による加水分解等の化学反応を防
止することができる。
【0057】このように、本発明によれば、膜質の高い
有機薄膜を形成することができるので、発光強度の高い
有機EL素子を作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a):本発明に係る有機薄膜形成装置の一実
施の形態を示す概略構成図 (b):同実施の形態の基板とシュラウドとの関係を示
す説明図
【図2】(a):シュラウドがない場合の作用を説明す
るための図 (b):シュラウドがある場合の作用を説明するための
【図3】本発明に係る有機薄膜形成装置によって有機薄
膜を形成した有機EL素子と、従来の有機薄膜形成装置
によって有機薄膜を形成した有機EL素子の発光強度の
差を示すグラフ
【図4】一般的な有機EL素子の構成を示す断面図
【図5】従来の有機薄膜形成装置の概略構成図
【符号の説明】
1……有機薄膜形成装置 2……真空槽 3(3
A、3B)……有機材料用蒸発源 4(4A、4B)
……シャッター 8……基板 11……メインシャ
ッター 12……シュラウド(捕獲手段) 20…
…内壁

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】真空槽中で所定の有機材料を蒸発させて基
    体上に有機薄膜を形成するための有機薄膜形成装置であ
    って、 上記基体の近傍に、上記真空槽内の不要な蒸気を捕獲す
    る捕獲手段を設けたことを特徴とする有機薄膜形成装
    置。
  2. 【請求項2】基体の周囲を取り囲むように捕獲手段を配
    置したことを特徴とする請求項1記載の有機薄膜形成装
    置。
  3. 【請求項3】捕獲手段が真空槽中の蒸気を冷却するもの
    であることを特徴とする請求項1又は2のいずれか1項
    記載の有機薄膜形成装置。
  4. 【請求項4】液体窒素によって真空槽中の蒸気を冷却す
    る冷却手段を有することを特徴とする請求項3記載の有
    機薄膜形成装置。
  5. 【請求項5】所定の有機材料が有機エレクトロルミネッ
    センス素子を形成するための複数の有機化合物モノマー
    であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項
    記載の有機薄膜形成装置。
JP9013351A 1997-01-09 1997-01-09 有機薄膜形成装置 Pending JPH10195641A (ja)

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