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JPH10190038A - 光電変換装置 - Google Patents

光電変換装置

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JPH10190038A
JPH10190038A JP8343150A JP34315096A JPH10190038A JP H10190038 A JPH10190038 A JP H10190038A JP 8343150 A JP8343150 A JP 8343150A JP 34315096 A JP34315096 A JP 34315096A JP H10190038 A JPH10190038 A JP H10190038A
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JP
Japan
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photoelectric conversion
conversion device
mos transistor
output
gain
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JP8343150A
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Hidekazu Takahashi
秀和 高橋
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Canon Inc
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    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光電変換装置において、プロセスバラツキに
よるFPN増加を抑制し、信号の増幅ゲインを可変にで
きることを課題とする。 【解決手段】 光電変換領域で発生した電荷を反転増幅
動作で電荷増幅を行い出力線に出力する増幅型光電変換
装置において、ゲインを設定するサイズの異なる負荷M
OSトランジスタを前記出力線の各々に2個以上設け、
前記負荷MOSトランジスタのゲートにパルスを印加し
て制御することを特徴とする。また、該光電変換装置に
おいて、前記光電変換領域内の画素がフォトダイオード
とMOSトランジスタのみで構成されていることを特徴
とする。さらに該光電変換装置において、MOSトラン
ジスタと容量で構成されたメモリセルを内蔵しているこ
とを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明に属する技術分野】本発明は、光電変換領域のセ
ンサ内部で電荷増幅を行って、そのゲインを可変にでき
る増幅型光電変換装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、オンチップでノイズ除去動作を行
う増幅型光電変換装置の1つに反転増幅型CMOSセン
サというものがある。これらの光電変換装置は、例えば
特願平8−7329号等に記載されている。この回路ブ
ロック図は図6のように構成されている。
【0003】図6において、1は光電変換素子であるフ
ォトダイオード、2は反転アンプ増幅用のアンプMOS
トランジスタ、3は選択スイッチ用MOSトランジス
タ、4はリセット用MOSトランジスタであり、符号1
〜4で1つの光電変換センサセルSを構成している。ま
た、9は蓄積用MOSキャパシタ、10は増幅用MOS
トランジスタ、11は選択スイッチ用MOSトランジス
タ、12はリセット用MOSトランジスタであり、符号
9〜12で1つのメモリセルMを構成している。また、
18はセンサセルSへ電荷をフィードバックさせるフィ
ードバックMOSスイッチ、19は転送回路へ電荷を送
る転送スイッチ、20はメモリセルMへ電荷を送る転送
スイッチ、21はメモリセルMへのフィードバックMO
Sスイッチ、22はクランプ用MOSスイッチ、23は
クランプ容量、24はソースフォロワの増幅用MOSト
ランジスタである。符号19〜24で転送系回路の1ユ
ニットを構成し、各列毎に配列される。15は水平転送
MOSスイッチ、16は出力アンプ、17はリセット用
MOSトランジスタである。5,6はそれぞれパルスφ
SL1,φPS1を制御するトランスミッションゲー
ト、13,14もそれぞれφSL2,φPS2を制御す
るトランスミッションゲートである。
【0004】図7に本光電変換装置の駆動タイミングチ
ャートを示す。垂直走査回路1,2のライン出力V1
1,V21をハイとして、時刻T0 において、φRS,
φPS1,φFT1,φFT2,φPS2をハイとし、
センサセルS、メモリセルM、転送回路のリセットを行
う。時刻T1 においてφSL1とφLSをハイとして、
リセットMOSトランジスタ7をオフとして、トランス
ミッションゲート5をオンとして、センサであるフォト
ダイオード1の信号をアンプMOSトランジスタ2で反
転増幅し、選択スイッチ用MOSトランジスタ3をオン
して転送回路のクランプ容量23へ送る。その後転送パ
ルスφFT1をハイとして転送スイッチ19をオフし、
リセットパルスφRSをハイとしてリセット用MOSト
ランジスタ17をオンしてセンサセルSの出力ラインを
リセットする。次に、時刻T2 において、φPS1,φ
FB1をハイとし転送回路からの信号をセンサセルSの
アンプMOSトランジスタ2のゲートへフィードバック
する。ここで反転アンプ2のゲインと転送回路のクラン
プ回路のゲインの逆位相効果で、センサセルSの初期バ
ラツキ(ノイズ)が除去される。
【0005】この場合、反転アンプゲインをGS 、クラ
ンプ回路ゲインをGT 、初期ノイズNinitとすると、こ
のフィードバック動作後のノイズNは、 N=Ninit(1+GS ×GT ) となる。この式よりノイズを最小化する反転アンプのゲ
インはGS =−1/GTとなる。例えば、クランプゲイ
ンが0.98であれば反転アンプゲインは−1/0.9
8=−1.02に設定すれば良いことになる。
【0006】その後、時刻T3 において、センサセルS
から再び信号を転送回路に送り、クランプする。次の時
刻T4 においてφFB2,φPS2をハイとしてクラン
プ容量23に保持された電荷に比例した電圧をメモリセ
ルMへ書き込む。
【0007】以上の動作を垂直走査を行いながら、全ラ
インについて行いリセット動作を完了させる。その後、
任意の蓄積時間の後、センサセルSから信号読み出しを
行う。時刻T5 において、φSL1をハイとし、センサ
信号の反転増幅読み出しを行う。時刻T6 において、φ
SL2をハイとしてメモリセルMに蓄えられていた初期
信号を読み出しセンサ信号との差分電圧を得る。そして
時刻T7 において、その差分電圧をメモリセルMへ書き
込む。その後、水平走査回路を走査させ、垂直出力外部
へ信号をアンプ16を介して出力させる。最終的にノイ
ズNは、 N=Ninit(1+GM ×GT ) となる。従ってメモリ部の反転ゲインはGM =−1/G
T とすればノイズは最小となる。なお反転アンプ10の
ゲインは、アンプMOS10のコンダクタンスg m と負
荷MOS11のコンダクタンスgm ′の比によって決ま
るため、負荷MOS8のゲート長Lかゲート幅Wを変え
て、コンダクタンスgm ′を変えることにより反転アン
プゲインを設定し、ノイズ成分を最小にすることができ
る。この点はメモリセルMの負荷MOS8によるノイズ
削減と同様に、センサセルSの負荷MOS7によるノイ
ズ低減についても同様に扱える。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例ではプロセス工程のバラツキにより、ロット間、ウ
ェハ間、更にはチップ間において、ウェル濃度、酸化膜
厚、加工寸法が微妙に異なってしまうため、MOSトラ
ンジスタのコンダクタンスgm が変化してしまい、反転
アンプゲインが最適値からずれてしまう場合があった。
ゲインが最適値からずれてしまうと、ノイズ補正効果が
悪くなり、各セル間の出力バラツキいわゆる固定パター
ン雑音(FPN:Fixed Pattern Noise)が増加してし
まい、規定ノイズ以上となる不良チップの割合が増加
し、歩留り悪化の原因となっていた。
【0009】本出願に係る第1の発明の目的は、プロセ
スバラツキによるFPN増加を抑制するものである。そ
して第2の目的は、信号の増幅ゲインを可変にできる光
電変換装置の実現である。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係る第1の発明はサイズを変えた負荷MO
Sトランジスタを各列に数個設けたことを特徴とする。
【0011】本発明の光電変換装置は、光電変換領域で
発生した電荷を反転増幅動作で電荷増幅を行い出力線に
出力する増幅型光電変換装置において、前記反転増幅の
ゲインを設定するサイズの異なる負荷MOSトランジス
タを前記出力線の各々に2個以上設け、前記負荷MOS
トランジスタのゲートにパルスを印加して制御すること
を特徴とする。また、上記光電変換装置において、前記
光電変換領域の画素がフォトダイオードとMOSトラン
ジスタのみで構成されていることを特徴とする。さら
に、上記光電変換装置において、MOSトランジスタと
容量で構成されたメモリセルを内蔵していることを特徴
とする。また、上記光電変換装置において、前記負荷M
OSトランジスタのうち前記出力線の出力信号のバラツ
キ(ノイズ)を最小限になる負荷MOSトランジスタの
みを使用することを特徴とする。
【0012】また、本発明の光電変換装置は、光電変換
領域で発生した電荷を出力線を介して蓄積する暗出力蓄
積手段と信号出力蓄積手段を備えた反転増幅型光電変換
装置において、サイズの異なる負荷MOSトランジスタ
を前記出力線の各々に2個以上設け、前記光電変換領域
内の反転増幅素子のゲインに2種以上のゲイン設定が行
えることを特徴とする。
【0013】上記構成において、ゲート幅W/ゲート長
Lの比、W/Lを変えた負荷MOSトランジスタを数種
類設けておき、画素のアンプMOSトランジスタと組み
合わせてFPNが最も小さくなる負荷MOSトランジス
タを実使用状態とするものである。
【0014】また、信号電荷蓄積キャパシタンスを用い
てノイズ除去を行う構成において、輝度に合わせてゲイ
ンの設定を変えられる光電変換装置が得られる。
【0015】
【発明の実施の形態】
(第1の実施形態)図1に本発明の第1の実施形態を示
す。ここでは簡単のために2×2画素のエリアセンサを
示す。同図において、1はセンサ素子としてのフォトダ
イオード、2は反転増幅用のアンプMOSトランジス
タ、3は選択スイッチ用MOSトランジスタ、4はリセ
ット用MOSトランジスタであり、符号1〜4で1つの
光電変換セルS、又の呼称のセンサセルSを構成してい
る。また、9は蓄積用MOSキャパシタ、10は増幅用
MOSトランジスタ、11は選択スイッチ用MOSトラ
ンジスタ、12はリセット用MOSトランジスタであ
り、符号9〜12で1つのメモリセルMを構成してい
る。
【0016】また、18はセンサセルSへ電荷をフィー
ドバックさせるフィードバックMOSスイッチ、19は
転送回路へ電荷を転送する転送MOSスイッチ、20も
メモリセルMへ電荷を転送する転送MOSスイッチ、2
1はメモリセルMにフィードバックするフィードバック
MOSスイッチ、22は転送回路のクランプ用MOSス
イッチ、23はクランプ容量、24はソースフォロワの
増幅用MOSトランジスタである。符号19〜24で転
送系回路の1ユニットを構成し、各列毎に配列される。
また、15は水平走査回路31からの走査信号H11の
ハイレベルにより出力線34に出力する水平転送MOS
スイッチ、16は出力線34上の信号を増幅する出力ア
ンプ、17はセンサ出力線37の残留信号をリセットす
るリセット用MOSトランジスタである。
【0017】また、71,72,73は光電変換セルで
あるセンサセルSのアンプMOSトランジスタ2に対す
る負荷MOSトランジスタであり、それぞれゲート長
L、ゲート幅W等を変えることにより、gm を変えてい
る。本実施形態では、この様に数種類の負荷MOSトラ
ンジスタを設けたことを特徴とする。同様にメモリセル
Mに対する負荷MOS81,82,83をgm を変えて
複数種類設けている。ここで、プロセス変動に対するM
OSのgm バラツキが±5%であるとすれば、それぞれ
のMOSのgm 設定値も±5%とすることが好ましい。
【0018】上記光電変換装置における動作とタイミン
グは、基本的に上述した図7と共に説明した内容とほぼ
同様であり、以下はその相違点について詳述する。
【0019】図2に本実施形態における出力波形を示
す。図の横軸は、各画素を表し、縦軸は各画素の出力電
圧を示す。また、FPNPPは各画素の出力電圧のピーク
TOピークをしめす。図2において、それぞれ調節用パル
スφLM1,φLM2,φLM3を駆動させた場合であ
る。ここで反転アンプ10のゲインが異なることによ
り、ノイズ除去率がそれぞれ異なってくるため、ノイズ
の大きさがそれぞれ異なる。これらのデータをテスター
等による検査で得ることにより、調節用パルスφLM
1,φLM2,φLM3中で、ノイズが最も小さくなる
調節用パルスを記録しておいて、実使用時にそのパルス
を用いれば良い。例えば、図2(a)に示すAロットで
は、調節用パルスφLM2を用い、図2(b)に示すB
ロットでは、調節用パルスφLM1を用いる様にする。
当然、ロット毎ではなく、ウェハ毎、チップ毎で変える
こともできる。
【0020】以上の様に、ノイズが最も小さくなる調節
用パルスを選択することにより、FPNに対する歩留り
が向上することが可能となった。本実施形態では、セン
サセルS、メモリセルMに対する負荷MOSトランジス
タ71〜73,81〜83を3ヶずつ設けたが、2ヶず
つでも、4ヶ以上でも可能であるのは当然である。又、
pMOS構成、nMOS構成、両者でも増幅用MOSト
ランジスタ2,10の負荷MOSトランジスタと成り得
るならば対応可能である。
【0021】(実施形態2)図3に本発明の第2の実施
形態について示す。本実施形態ではセンサセル用の負荷
MOSトランジスタは従来通り1つ設け、メモリセル用
の負荷MOSトランジスタを数ヶ設けたことを特徴とす
る。メモリセルMの反転ゲイン設定が最適値(=−1/
T )であれば、センサのノイズは除去できるので、メ
モリ出力しか必要としないアプリケーションには本実施
形態が適用できる。
【0022】本実施形態による光電変換装置の基本的な
動作は、上述の図7によるタイミングチャートと同様で
あり、以下はその相違点について詳述する。
【0023】本実施形態においては、あまりチップサイ
ズ及び、駆動パルス数を増加させることなく、FPNに
対する歩留り向上を達成することが可能となる。
【0024】動作的には、図6の回路図で説明し、また
実施形態1で説明した内容と同様であり、ウエハー段
階、又はチップ状態で、調節用パルスφLM1〜φLM
3を印加してFPNが最低となる調節用パルスを定めて
おき、本光電変換装置を機能させるときに、該調節用パ
ルスをメモリセルMの負荷になるときにローレベルとし
て特定の負荷MOSトランジスタを動作させる。
【0025】(実施形態3)図4に本発明の第3の実施
形態を示す。本実施形態は、メモリセルを用いずに、信
号用、ノイズ用の蓄積キャパシタを用いてノイズ除去を
行うタイプの反転アンプ型CMOSセンサである。
【0026】同図において、40は暗出力電位蓄積キャ
パシタCTN、41は信号出力蓄積キャパシタCTS、42
は暗出力電位蓄積キャパシタCTNへの転送MOSスイッ
チ、43は信号出力蓄積キャパシタCTSへの転送MOS
スイッチであり、44,45は信号線47及びノイズ線
48に出力する転送MOSスイッチであり、46は信号
と暗出力を減算する差動アンプである。また、センサセ
ルSの符号1〜4、及びセンサセルSの負荷MOSトラ
ンジスタ71〜73は第2の実施形態で説明したものと
同様である。
【0027】本実施形態での読み出しタイミングは、ま
ずセンサセルからの画像信号を信号出力蓄積キャパシタ
TS41に蓄積し、次にセンサセル自体のノイズ成分を
暗出力電位蓄積キャパシタCTN40に蓄積し、水平走査
回路31からの読み出し走査信号H11により、転送M
OSスイッチ44,45をオンして各出力線47,48
に読み出し、差動アンプ46の出力にノイズ成分を除去
した画像信号を得ることができる。
【0028】本実施形態においても、負荷MOSトラン
ジスタを数個設けることにより、ゲインを可変にでき、
ウエハー状態又はチップ状態の時、FPNが最低となる
負荷MOSトランジスタを特定しておき、実使用段階で
その動作を制御する調節用パルスφLを印加することを
特徴としている。
【0029】本実施形態においては、同一の反転ゲイン
で信号読み出し、暗出力読み出しを行えれば、最終段の
差動アンプでノイズ除去が行えるため、メモリセルでノ
イズ除去を行う場合の条件であった反転ゲイン=−1/
T にする必要はない。従って反転ゲインを−1,−2
倍、−4倍になる様に設定しても良い。従来は、ゲイン
をかける場合、外部回路で行っていたが、この場合、ノ
イズに対して弱くなり、S/Nを満足できるものが少な
かった。しかし、本実施形態の場合、画素部のセンサセ
ルMで電荷増幅を行えるので、ノイズに対して強くな
り、高いS/Nを得ることが可能となる。
【0030】本実施形態において、低照度の場合、ゲイ
ンを上げて信号を読み出し、高照度の場合、ゲインを下
げて信号読み出しを行う、ゲイン可変型光電変換装置を
得ることができる。
【0031】本実施形態では、2×2の画素について述
べたか、複数のエリアセンサとしても同様に読み出しで
き、ラインセンサとしてもよい。ただし、ラインセンサ
の場合、垂直走査回路33の出力V11,V12等は常
にハイレベルにしておけばよいし、不必要である。
【0032】(実施形態4)図5に本発明の第4実施形
態を示す。本実施形態において回路構成は実施形態3と
同じであるが画素の構成を変えてある。本実施形態にお
いて、転送ゲート49をフォトダイオード1とアンプM
OSトランジスタ2の間に設け、フォトダイオード1で
発生した電荷をアンプMOSトランジスタ2のゲートに
完全空乏化転送を行うことを特徴とする。完全空乏化転
送により転送された電荷によりゲート電位が変化し、そ
の電位変化を反転増幅されることにより読み出しを行
う。この反転増幅のゲインを負荷MOSトランジスタ7
1〜73により可変にできることが本発明の特徴であ
り、それによりFPNを最小の状態で使用できる。
【0033】本実施形態により、高S/N、高感度のゲ
イン可変型光電変換装置が可能となる。なお、他の構成
要素の機能、動作は第1乃至第3の実施形態と同様であ
る。
【0034】また、上記実施形態において、ゲイン可変
型用の負荷MOSトランジスタを複数個設ける例を示し
たが、この負荷MOSトランジスタの製造方法及び製造
するためのエリアの増加量については、他のMOSトラ
ンジスタと同一工程でパターニングして製造でき、また
専用エリアとしてもMOS構造であるのでチップサイズ
に大きな影響を与えることもない。
【0035】
【発明の効果】以上説明したように、第1の発明によれ
ば、反転アンプゲインを常に最適値に設定することによ
り、ノイズの少ない信号が得られるため、FPNに対す
る歩留りが向上し、コストダウンが実現する。
【0036】又、第2の発明によれば、光量に応じたゲ
イン設定を行うことにより、高S/N、高感度、広いダ
イナミックレンジを持った光電変換装置が実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態の回路構成図である。
【図2】本発明の第1実施形態の信号出力波形例であ
る。
【図3】本発明の第2実施形態の回路構成図である。
【図4】本発明の第3実施形態の回路構成図である。
【図5】本発明の第4実施形態の回路構成図である。
【図6】従来例の回路構成図である。
【図7】従来例の駆動タイミングチャートである。
【符号の説明】
1 フォトダイオード 2,10 反転アンプMOSトランジスタ 3,11 選択MOSトランジスタ 4,12 リセットMOSトランジスタ 5,6,13,14 トランスミッションゲート 9 蓄積キャパシタ 15 水平転送スイッチMOSトランジスタ 16 出力アンプ 17 リセットMOSトランジスタ 7,71,72,73 負荷MOSトランジスタ 8,81,82,83 負荷MOSトランジスタ

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光電変換領域で発生した電荷を反転増幅
    動作で電荷増幅を行い出力線に出力する増幅型光電変換
    装置において、 前記反転増幅のゲインを設定するサイズの異なる負荷M
    OSトランジスタを前記出力線の各々に2個以上設け、
    前記負荷MOSトランジスタのゲートにパルスを印加し
    て制御することを特徴とする光電変換装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の光電変換装置におい
    て、前記光電変換領域の画素がフォトダイオードとMO
    Sトランジスタのみで構成されていることを特徴とする
    光電変換装置。
  3. 【請求項3】 請求項1に記載の光電変換装置におい
    て、MOSトランジスタと容量で構成されたメモリセル
    を内蔵していることを特徴とする光電変換装置。
  4. 【請求項4】 請求項1に記載の光電変換装置におい
    て、前記負荷MOSトランジスタのうち前記出力線の出
    力信号のバラツキ(ノイズ)を最小限になる負荷MOS
    トランジスタのみを使用することを特徴とする光電変換
    装置。
  5. 【請求項5】 光電変換領域で発生した電荷を出力線を
    介して蓄積する暗出力蓄積手段と信号出力蓄積手段を備
    えた反転増幅型光電変換装置において、サイズの異なる
    負荷MOSトランジスタを前記出力線の各々に2個以上
    設け、前記光電変換領域内の反転増幅素子のゲインに2
    種以上のゲイン設定が行えることを特徴とする光電変換
    装置。
JP34315096A 1996-12-24 1996-12-24 光電変換装置 Expired - Fee Related JP3495866B2 (ja)

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EP97310430A EP0851670B1 (en) 1996-12-24 1997-12-22 Photoelectric conversion apparatus
US08/996,318 US6147338A (en) 1996-12-24 1997-12-22 Photoelectric converting apparatus with gain-adjustable amplification
DE69728636T DE69728636T2 (de) 1996-12-24 1997-12-22 Photoelektrisches Umwandlungsgerät

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