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JPH1017552A - 複素環式芳香族カルボン酸のアリールアミドの製造方法 - Google Patents

複素環式芳香族カルボン酸のアリールアミドの製造方法

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Publication number
JPH1017552A
JPH1017552A JP9068566A JP6856697A JPH1017552A JP H1017552 A JPH1017552 A JP H1017552A JP 9068566 A JP9068566 A JP 9068566A JP 6856697 A JP6856697 A JP 6856697A JP H1017552 A JPH1017552 A JP H1017552A
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JP
Japan
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nitrogen
group
general formula
formula
compound
Prior art date
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Ceased
Application number
JP9068566A
Other languages
English (en)
Inventor
Roduit Jean-Paul
ロデュイ ジャン−ポール
Kalbermatten Georges
カルバーマッテン ジョルジュ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lonza AG
Original Assignee
Lonza AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lonza AG filed Critical Lonza AG
Publication of JPH1017552A publication Critical patent/JPH1017552A/ja
Ceased legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 一般式 【化17】 〔式中、各Anは窒素またはCRn(n=1−5)であ
り、ただし、環のメンバーのうち少なくとも一つが窒素
であり、二つの窒素原子が相互に直接結合することはな
い。 R1 ないしR5 は、存在する場合、相互に独立
に、水素、C1-4 アルキル基またはアリール基であり、
また置換基R1ないしR5のうちの一つが式−ORの基
〔式中、Rは場合によっては置換された、芳香族または
複素環式芳香族の基である。〕を形成することもある。
6は水素またはC1-4アルキル基であり、R7 は場合
によっては置換された芳香族または複素環式芳香族の基
である。〕のアリールアミドの製造方法を提供するこ
と。 この種の化合物、とくに置換基R1ないしR5のう
ちの一つがアルコキシ基であるものは、重要な除草剤で
ある。 【解決手段】 相当する複素環式芳香族ハロゲン化物、
相当する芳香族アミンおよび一酸化炭素を、パラジウム
ジホスフィン錯体の存在下に反応させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は、複素環式芳香族ハロゲン化合物
を一酸化炭素および芳香族アミンと、触媒および塩基の
存在下に反応させることによって、複素環式芳香族アリ
ールアミドの製造方法に関する。 本発明はさらに、複
素環式芳香族ジハロゲン化合物と芳香族または複素環式
芳香族ヒドロキシル化合物とを反応させて(ヘテロ)ア
リーロキシ置換複素環式芳香族モノハロゲン化物とし、
さらにこれら化合物を一酸化炭素および芳香族アミン
と、触媒および塩基の存在下に反応させることによっ
て、複素環式芳香族カルボン酸であって複素環式芳香環
上に置換基としてアリーロキシ基またはヘテロアリーロ
キシ基を有するもののアリールアミドを製造する方法に
も関する。
【0002】本発明に従って製造されるアミドは、一般
【0003】
【化11】
【0004】〔式中、A1は窒素またはCR1、A2は窒
素またはCR2、A3は窒素またはCR3、A4は窒素また
はCR4、A5は窒素またはCR5であり、ただし、環の
メンバーA1ないしA5のうち少なくとも一つが窒素であ
り、ただし、二つの窒素原子が相互に直接結合すること
はない。 R1ないしR5は、存在する場合には、相互に
独立に、水素、C1-4 ルキル基またはアリール基であ
り、また置換基R1ないしR5のうちの一つが式−ORの
基〔式中、Rは場合によっては置換された、芳香族また
は複素環式芳香族の基である。〕を形成することもあ
る。 R6 は水素またはC1-4アルキル基であり、R7
場合によっては置換された芳香族または複素環式芳香族
の基である。〕を有する。
【0005】前記のアミドは、とくにピリジン−、ピリ
ミジン−、ピラジン−および1,3,5−トリアジン−
カルボン酸のアリールアミドを含む。
【0006】この構造の多数の化合物、とくに置換基R
1ないしR5のうちの一つが環の窒素原子に隣接するアリ
ールオキシ基(−OR)であるものは、重要な除草剤で
ある(WO−A94/27974,EP−A00530
11,EP−A0447004)。 これらの既知の化
合物は、対応するカルボン酸またはカルボン酸誘導体
(酸クロライド、エステル、ニトリル)から常法により
合成されるが、それらはしばしば入手困難であり、従っ
て高価である。
【0007】本発明の目的はそれゆえ、もっと容易に入
手できるエダクトから出発する別の製造方法を提供する
ことである。
【0008】この目的は、本発明に従って、請求項1お
よび13の製造方法により達成することができる。
【0009】一般式
【0010】
【化12】
【0011】〔式中、A1ないしA5は上に定義したとお
りであり、Xは塩素、臭素またはヨウ素である。〕のハ
ロゲン化合物を、一酸化炭素および一般式
【0012】
【化13】
【0013】〔式中、R6およびR7は上に定義したとお
り。〕の第一級または第二級アミンと、塩基の存在下に
直接反応させるとき、触媒として、一般式
【0014】
【化14】
【0015】のジホスフィンとパラジウムとの錯体が存
在する場合には、所望の生成物(I)を良好な、または
ほとんど定量的な収率で得ることができる、ということ
が見出された。 前記の式(IV)中では、R8 ないしR11
は、相互に独立に、フェニル基または置換されたフェニ
ル基であり、nは3または4である。
【0016】以下、C1-4 アルキル基は、4箇までの炭
素原子を有する直鎖または分岐鎖の第一級、第二級また
は第三級アルキル基を意味すると理解すべきである。
以下、芳香族または複素環式芳香族の基は、とくに単環
のものまたは多環のものであって、たとえばフェニル
基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントラセニル基、
フリル基、ピロリル基、ピラゾリル基、チオフェニル
基、ピリジル基、インドリル基またはキノリニル基を意
味すると理解すべきである。 これらは、1箇以上の同
一または異なる置換基、たとえばメチル基のような低級
アルキル基、トリフルオロメチル基のようなハロゲン化
アルキル基、メトキシ基のような低級アルコキシ基、ま
たはメチルチオ基もしくはエタンスルフォニル基のよう
な低級アルキルチオ(アルカンスルファニル)基もしくは
アルカンスルフォニル基を有していてもよい。 置換さ
れたフェニル環は、とくに、(p−)フルオロフェニル
基、(p−)メトキシフェニル基、(p−)トリル基ま
たは(p−)トリフルオロメチルフェニル基などを意味
するものと理解すべきである。
【0017】出発物質として使用するハロゲン化物(II)
は、既知の化合物であるか、または既知の化合物と同様
にして調製することができる。 この種の多数の化合物
が、たとえばUS−A4254125およびEP−A0
001187中に公表されている。
【0018】ハロゲン化合物(II)において、環の窒素
原子に隣接する炭素原子に式−ORの基が結合している
ものは、一般式
【0019】
【化15】
【0020】〔式中、A1ないしA5は上に定義したとお
りである。 ただし、基R1ないしR5のうちの一つが、
環の窒素原子に隣接する炭素原子上においてZで置換さ
れていて、Zは塩素、臭素またはヨウ素であり、Xは、
それらと独立に、塩素、臭素またはヨウ素である。〕の
ジハロゲン化合物を、一般式
【0021】
【化16】
【0022】〔式中、Rは上に定義したとおり。〕の芳
香族または複素環式芳香族のヒドロキシル化合物と反応
させることによって、好都合に製造することができる。
この反応と、それに続く、上記した手法による一酸化
炭素およびアミン(III)との反応のコンビネーションか
らなっている二段階の製造方法は、本発明のもうひとつ
の主題であって、以下に記述する態様は、この二段階の
製造方法にも適用可能である。
【0023】本発明に従う製造方法は、アミド(I)に
おいてA2 が窒素であって、残りの環メンバーとピリジ
ン環を形成しているものの製造に、優先的に適してい
る。アミド(I)においてR1 が式−OR基〔式中、R
は上に定義したとおり。〕であるものが、とくに好まし
い。
【0024】その他の好ましいアミド(I)は、A1
窒素であって残りの環メンバーとピリジン環を形成する
もの、A1およびA5が窒素であって残りの環メンバーと
ピリミジン環を形成するもの、A1およびA4が窒素であ
って残りの環メンバーとピラジン環を形成するもの、な
らびに、A1,A3およびA5 が窒素であって残りの環メ
ンバーと1,3,5−トリアジン環を形成するもの、で
ある。 後者の4種類の中でも、R2が式-ORの基〔式
中、Rは上に定義したとおり。〕であるアミドが、とり
わけ好ましい。 その他の好ましいアミド(I)は、R
が、場合によっては置換されたフェニル基であるもので
ある。 このことは、とくにピリジン、ピリミジン、ピ
ラジンまたは1,3,5−トリアジンを含む上記のアミ
ドであって、置換基R1またはR2が式−ORの基である
ものに関していえる。 その他の好ましいアミドは、R
6が水素であり、R7が場合によっては置換されたフェニ
ル基であるものである。
【0025】好ましいハロゲン化物(II)は、塩素化合
物(X=Cl)である。
【0026】触媒的に活性なパラジウムジホスフィン錯
体は、微細な元素形態をしたパラジウム(たとえば、活
性炭上のパラジウム)、Pd(II)塩(たとえば、塩化物
または酢酸塩)または適切なPd(II)錯体(たとえば、
ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(I
I))をジホスフィンと反応させるという製造方法によ
り、その場で好都合に形成される。 パラジウムは、そ
れぞれハロゲン化物(II)を基準として、Pd(II)0.
02〜0.2 mol%またはPd(0)0.5〜2mol%
(Pd/Cとして)の量を使用することが好ましい。
ジホスフィンは、(Pd基準で)過剰量を使用すること
が好都合で、ハロゲン化物(II)を基準としてPd(II)
0.2〜5mol%の量を使用することが好ましい。
【0027】使用する溶媒は、比較的極性のないもの、
たとえばトルエンまたはキシレン、または極性のあるも
の、たとえばアセトニトリル、テトラヒドロフラン、
N,N−ジメチルアセタミドである。
【0028】使用する塩基は、比較的弱い塩基が好まし
い。 この塩基は、使用する溶媒に可溶である必要はな
い。 適切な塩基の例は、炭酸ナトリウムもしくは炭酸
カリウムのような炭酸塩、または酢酸ナトリウムのよう
な酢酸塩である。 酢酸ナトリウムを使用すると、とく
によい結果が得られる。
【0029】反応温度は、80〜250℃が好ましい。
【0030】一酸化炭素の圧力は、1〜50barが好ま
しい。
【0031】以下の実施例により、本発明の製造方法を
どのように実施するかを示す。
【0032】
【実施例】
〔実施例1〕 2−クロロ−6−[3−(トリフルオロメチル)フェノ
キシ]ピリジン 水素化ナトリウム(95%)17.45g(690mmo
l)を、N,N−ジメチルアセトアミド420ml中に懸
濁させた。 そこへ、3−(トリフルオロメチル)フェノ
ール106.7g(658mmol)を、15℃で2時間に
わたり滴下して加えた。 得られたフェノール塩溶液
を、2.5時間にわたり、窒素雰囲気下に、N,N−ジ
メチルアセトアミド330ml中の2,6−ジクロロピリ
ジン162.4g(1.097mol)の溶液であって90℃
に加熱したものに、滴下して加えた。さらに3時間反応
させた後、混合物を室温まで冷却し、塩化ナトリウムの
沈殿物を濾過除去して、濾液を濃縮した。 残渣をトル
エンと0.1N塩酸の混合液に取り、有機相を飽和塩化
ナトリウム溶液で洗浄して濃縮した。 油状の残渣(約
200g)を真空下に蒸留した。
【0033】収率:無色の油状物151.5g(84
%),含有率(GC)99.8% nD 20=1.5267 MS;m/z:273/275;238;391 H NMR(CDCl3):δ= 6.84(d,J=
7.8Hz,1H);7.07(d,J=7.8Hz,1
H);7.35(m,1H);7.42(m,1H);
7.45−7.52(m,2H);7.65(t,J=
7.8Hz,1H).13 C NMR(CDCl3):δ= 109.88(C
H);118.16(CH);119.24(CH);
121.67(CH);123.74(CF3);12
4.50(CH);130.24(CH);132.2
1(CCF3);141.77(CH);149.12
(C);153.89(C);162.28(C)。
【0034】〔実施例2〕 3−クロロ−2−[3−(トリフルオロメチル)フェノ
キシ]ピリジン 水素化ナトリウム分散液(鉱油中約50%)7.68g
を、窒素雰囲気下にペンタンで洗浄したのち、N,N−
ジメチルホルムアミド100mlを加えた。 そこへ、3
−(トリフルオロメチル)フェノール21.92g(1
35mmol)を、30分間にわたり、室温において滴下し
て加えた。 得られたフェノール塩溶液を、2時間にわ
たり、窒素雰囲気下に、N,N−ジメチルホルムアミド
80ml中の2,3−ジクロロピリジン20.1g(13
6mmol)の溶液であって120℃に加熱したものに、滴
下して加えた。 3時間反応させたのち混合物を室温ま
で冷却し、塩化ナトリウムの沈殿物を濾過除去して、濾
液を濃縮した。 残渣をトルエンおよび0.1N塩酸で
抽出し、有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄してか
ら濃縮した。 油状の残渣を真空下に蒸留した。
【0035】収率:無色の油状物24.75g(67
%),含有率(GC)99.7% B.p.18mbar=145−148℃ nD 20=1.5282 MS;m/z:273/2751 H NMR(CDCl3):δ= 6.99(m,1
H);7.36(d,1H);7.45−7.53
(m,3H);7.77(d,1H)8.02(d,1
H).13 C NMR(CDCl3):δ= 118.66(C
H);119.44(C);119.98(CH);1
21.75(CH);123.78(CF3);12
4.94(CH);130.13(CH);132.1
6(CCF3);139.65(CH);145.20
(CH);153.88(C);158.51(C)。
【0036】〔実施例3〕 N−(4−フルオロフェニル)−6−[3−(トリフルオ
ロメチル)フェノキシ]ピリジン−2−カルボキサミド キシレン25ml中の2−クロロ−6−[3−(トリフル
オロメチル)フェノキシ]ピリジン(含有率99.5
%,実施例1で製造したもの)6.84g(25mmo
l)、4−フルオロアニリン4.17g(37.5mmo
l)、炭酸ナトリウム2.92g(27.5mmol)、パラジ
ウム/活性炭(10%Pd)0.27g(0.25mmo
l)、および1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタ
ン(IV,n=4,R8=R9=R10=R11=R12=フェ
ニル基)0.32g(0.75mmol)をキシレン25ml
中に溶解したものを、室温においてオートクレーブに装
入した。
【0037】オートクレーブを不活性気体でフラッシュ
してから一酸化炭素を5bar の圧力で導入し、温度を2
00℃に上昇させた。 CO圧力を14.5bar に上
げ、混合物を16時間、200℃において撹拌した。
室温まで冷却し圧力を解放した後、反応混合物をキシレ
ン50mlおよび水50mlで処理してから濾過した。 水
相をキシレン25mlで抽出し、合わせた有機相を水30
mlで洗浄した。 溶解した生成物の組成を、GCにより
決定した。 表題化合物(アミド)92.1%、エダク
ト1.9%および副生物6.0%(アニリンによるClの
直接置換により形成される第二級アミン3.1%および
水素化分解により生成した2−[3−(トリフルオロメ
チル)フェノキシ]ピリジン2.9%)が定量された。
溶媒の蒸留の後、粗生成物(8.63g)を黄色固体
の形で得た。 この粗生成物を、メチルシクロヘキサン
からの再結晶により精製した。
【0038】収率:無色の結晶6.3g(67%) M.p.=104−105℃ MS;m/z:376(M+),2381 H NMR(CDCl3):δ= 6.99−7.04
(m,2H);7.17(d,J=8.4Hz,1H);
7.40(m,1H);7.46−7.51(m,2
H);7.55−7.63(m,3H);7.93
(t,J=7.8Hz,1H);8.03(d,J=7.
8Hz,1H);9.24(br.m,1H)。
【0039】〔実施例4〕 N−(4−フルオロフェニル)−6−[3−(トリフルオ
ロメチル)フェノキシ]ピリジン−2−カルボキサミド 手順は、パラジウム/活性炭をジクロロビス(トリフェ
ニルホスフィン)パラジウム(II)17.5mg(25
μmol)に替えたこと以外は、実施例3に記述したとおり
とした。 CO圧力を12.8bar、温度を150℃、
反応時間を17.7時間とした。 キシレン相に溶解し
た生成物の組成を、GCにより決定した。表題化合物
(アミド)96.0%および副生物4.0%(第二級アミ
ン2.3%および水素化分解生成物1.7%)が定量さ
れた。
【0040】〔実施例5〕 N−(4−フルオロフェニル)−6−[3−(トリフルオ
ロメチル)フェノキシ]ピリジン−2−カルボキサミド 手順は、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン
を等モル量の1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プ
ロパン(IV,n=3,R8=R9=R10=R11=フェニ
ル基)に替えたこと以外は、実施例4に記述したとおり
とした。 CO圧力を16bar、反応時間を21.6時間
とした。 キシレン相に溶解した生成物の組成を、GC
により決定した。 表題化合物(アミド)98.9%、
エダクト0.1%および副生物1.0%(第二級アミン
0.3%および水素化分解生成物0.7%)が定量され
た。
【0041】〔実施例6〕 N−(2,4−ジフルオロフェニル)−2−[3−(ト
リフルオロメチル)フェノキシ]ピリジン−3−カルボ
キサミド(ジフルフェニカム) 実施例4と同じように、キシレン25ml中の3−クロロ
−2−(3−トリフルオロメチル)フェノキシピリジン
(実施例2で製造したもの)6.84g(25mmol)、
2,4−ジフルオロアニリン4.84g(37.5mmo
l)、炭酸ナトリウム2.92g(27.5mmol)、ジ
クロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(I
I)17.5mg(25μmol)および1,4−ビス(ジフ
ェニルホスフィノ)ブタン0.32g(0.75mmol)を
キシレン25ml中に溶解したものを、15bar のCO圧
力下に、190〜195℃において、19時間にわたり
反応させた。 転化率は約80%であった。 混合物を
実施例3のように処理し、黄色結晶性固体の形で、粗生
成物6gを得た。 それを、メチルシクロヘキサン50
mlからの再結晶により精製した。
【0042】収率:白色固体3.25g(33%) M.p.=157−159℃ MS;m/z:394(M+),266(100%)1 H NMR(CDCl3):δ= 6.89−6.96
(m,2H);7.26(m,1H);7.46(m,
1H);7.54−7.63(m,3H);8.28
(dd,1H);8.52(m,1H);8.71(d
d,1H);9.97(br.s,1H)。
【0043】〔比較例1〕手順は、1,4−ビス(ジフ
ェニルホスフィノ)ブタンを等モル量のトリフェニルホ
スフィンに替えたこと以外は、実施例4に記述のとおり
とした。 15barのCO圧力において15.5時間反
応させた後、キシレン相に溶解していた生成物の組成
を、GCにより決定した。 所望の生成物がわずか4
3.2%しか定量されず、未転化のエダクト56.8%
が検出された。
【0044】〔比較例2〕手順は、1,4−ビス(ジフ
ェニルホスフィノ)ブタンを等モル量のトリ−n−ブチ
ルホスフィンに替えたこと以外は、実施例4に記述した
とおりとした。 14bar のCO圧力において15時間
反応させた後、キシレン相に溶解していた生成物の組成
を、GCにより決定した。 所望の生成物はほんの痕跡
量(0.4%)しか検出されず、未転化のエダクト96.
8%が残っていた。
【0045】〔比較例3〕手順は、1,4−ビス(ジフ
ェニルホスフィノ)ブタンを等モル量の1,2−ビス
(ジフェニルホスフィノ)エタンに替えたこと以外は、
実施例4に記述したとおりとした。 14.7bar のC
O圧力において20.2時間反応させた後、キシレン相
に溶解していた生成物の組成を、GCにより決定した。
所望の生成物がほんの微量(2.2%)検出されただ
けで、未転化のエダクトが97.7%も残っていた。

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式 【化1】 〔式中、A1は窒素またはCR1、A2は窒素またはC
    2、A3は窒素またはCR3、A4は窒素またはCR4
    5は窒素またはCR5であり、ただし、環のメンバーA
    1ないしA5のうち少なくとも一つが窒素であって、二つ
    の窒素原子が相互に直接結合することはない。 R1
    いしR5は、存在する場合には、相互に独立に、水素、
    1-4 アルキル基またはアリール基であり、また置換基
    1ないしR5のうちの一つが式−ORの基〔式中、Rは
    場合によっては置換された、芳香族または複素環式芳香
    族の基である。〕を形成することもある。 R6は水素
    またはC1-4アルキル基であり、R7 は場合によっては
    置換された芳香族または複素環式芳香族の基である。〕
    のアミドの製造方法であって、一般式 【化2】 〔式中、A1ないしA5は上に定義したとおりであり、X
    は塩素、臭素またはヨウ素である。〕のハロゲン化合物
    を、一酸化炭素、一般式 【化3】 〔式中、R6およびR7は上に定義したとおりである。〕
    のアミンおよび塩基と、一般式 【化4】 〔式中、R8 ないしR11は、相互に独立に、フェニル基
    または置換されたフェニル基であり、nは3または4で
    ある。〕のジホスフィンとパラジウムとの錯体の存在下
    に反応させることを特徴とする製造方法。
  2. 【請求項2】 A2 が窒素であり、ピリジン環の一部で
    あることを特徴とする請求項1の製造方法。
  3. 【請求項3】 R1 が式−ORの基〔式中、Rは請求項
    1において定義したとおり。〕であることを特徴とする
    請求項2の製造方法。
  4. 【請求項4】 A1 が窒素であり、ピリジン環の一部で
    あることを特徴とする請求項1の製造方法。
  5. 【請求項5】 A1およびA5が窒素であり、ピリミジン
    環の一部であることを特徴とする請求項1の製造方法。
  6. 【請求項6】 A1およびA4が窒素であり、ピラジン環
    の一部であることを特徴とする請求項1の製造方法。
  7. 【請求項7】 A1,A3およびA5 が窒素であることを
    特徴とする請求項1の製造方法。
  8. 【請求項8】 R2 が式−ORの基〔式中、Rは請求項
    1において定義したとおり。〕であることを特徴とす
    る、請求項4,5,6または7の製造方法。
  9. 【請求項9】 Rが場合によっては置換されたフェニル
    基であることを特徴とする、請求項3または8の製造方
    法。
  10. 【請求項10】 R6が水素であり、R7が場合によって
    は置換されたフェニル基であることを特徴とする、請求
    項1ないし9のいずれかの製造方法。
  11. 【請求項11】 Xが塩素であることを特徴とする、請
    求項1ないし10のいずれかの製造方法。
  12. 【請求項12】 使用するジホスフィン(IV)が、1,
    3−ビス(ジフェニルフォスフィノ)プロパンまたは
    1,4−ビス(ジフェニルフォスフィノ)ブタンである
    ことを特徴とする、請求項1ないし11のいずれかの製
    造方法。
  13. 【請求項13】 一般式 【化5】 のアミドの製造方法であって、第一工程において、一般
    式 【化6】 〔式中、A1ないしA5は上に定義したとおりである。
    ただし、基R1ないしR5のうちの一つが、環の窒素原子
    に隣接する炭素原子上においてZで置換されていて、Z
    は塩素、臭素またはヨウ素であり、Xは、それらと独立
    に、塩素、臭素またはヨウ素である。〕のジハロゲン化
    合物を、一般式 【化7】 〔式中、Rは請求項1において定義したとおり。〕の芳
    香族または複素環式芳香族のヒドロキシル化合物と反応
    させて、一般式 【化8】 〔式中、A1ないしA5およびXは、上に定義したとお
    り。〕の(ヘテロ)アリールオキシハロゲン化物を得、
    第二工程において、上記の生成物を、一酸化炭素、一般
    式 【化9】 〔式中、R6およびR7は上に定義したとおり。〕のアミ
    ンおよび塩基と、一般式 【化10】 〔式中、R8 ないしR11およびnは、請求項1において
    定義したとおり。〕のジホスフィンとパラジウム錯体の
    存在下に反応させることを特徴とする製造方法。
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