JPH10125899A - Gate turn-off thyristor - Google Patents
Gate turn-off thyristorInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】大容量GTOにおいて、面内電流集中がなく大
電流を高速に遮断し、可制御電流を向上させること。
【解決手段】上記目的を達成するために、パッケージ内
のゲートリードとそのゲートリードヘッダーの間にカソ
ード電極と同電位の導体を設けた構成である。
【効果】ターンオフ時における電流集中を緩和して単位
素子に過大な電流を流れることを防止でき、大電流を高
速に遮断し、可制御電流を向上させることができる。
(57) [Problem] To improve a controllable current in a large-capacity GTO by rapidly interrupting a large current without in-plane current concentration. To achieve the above object, a conductor having the same potential as a cathode electrode is provided between a gate lead and a gate lead header in a package. [Effect] It is possible to alleviate the current concentration at the time of turn-off, to prevent an excessive current from flowing to the unit element, to cut off the large current at a high speed, and to improve the controllable current.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ゲートターンオフ
サイリスタ(以下GTOと称す)に係り、特に大容量の
電力変換装置に好適なGTO並びにそれを使用した電力
変換装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gate turn-off thyristor (hereinafter referred to as "GTO"), and more particularly to a GTO suitable for a large-capacity power converter and a power converter using the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、GTOは車両制御,製鉄所の制
御や産業用大電力の制御に多く使用されている。このう
ちセンターゲート型GTOを従来例としてその構造等に
ついて説明する。2. Description of the Related Art Generally, a GTO is often used for controlling a vehicle, controlling a steelworks, and controlling large industrial power. The structure and the like of the center gate type GTO will be described as a conventional example.
【0003】図2は従来GTOの摸式的断面図である。
そして図3は構成部品を見やすくするために便宜上加圧
方向に沿って各部品を切り離した状態を示す。外囲器は
底部構体1と頂部構体2とからなる。銅(以下Cuと称
す)製カソード電極ポスト3とセラミックの絶縁物筒体
4の底面とは輪形金属板5を介して銀ローを使用し接合
され、セラミック筒体4の頂面には溶接輪形金属板6
が、またセラミック筒体4の側面にはゲート電極取り出
し用のゲートパイプ7と窒素封入用のピンチパイプ8が
それぞれ銀ロー付けされる。底部構体1は、電極ポスト
3,セラミック筒体4,輪形金属板5,溶接輪形金属板
6,ゲートパイプ7,ピンチパイプ8で構成される。ま
た電極ポスト3にはゲートリード16を取り出すための
切欠部9が設けられている。頂部構体2は、Cu製アノ
ード電極ポスト10とこれに銀ロー付けされた溶接輪形
金属板11で構成される。この外囲器内に後述の符号1
2から23で示す部材を封入する。封止は溶接輪形金属
板6と溶接輪形金属板11とを溶接により接合し、ゲー
トリード16のリードワイヤをゲートパイプ7内に通し
クリンプし、内部に窒素ガスを満たした状態で溶接し最
終封止とする。GTO素子のシリコン(以下Siと称
す)ペレット20のアノード側にはインターナルバッフ
ァとしてモリブデン(以下Moと称す)のディスク22
を、またカソード側には同じくインターナルバッファと
してMoのリング19をテフロンリング23にて挟み込
みサブアセンブリにする。ここでSiペレット20の端
面にはSiペレット20のアノード電極側とカソード電
極側とを絶縁するためのシリコンゴム21を付着してい
る。ゲート電極はゲートリード16とセラミックサポー
ト17をテフロンリング15で挟み込み構成されてい
る。尚、ゲートリード16とカソード電極ポスト3を絶
縁するために、ゲートリード16にテフロンチューブ1
8を通している。このゲート電極の下には、マイカ1
4,座金12,皿ばね13が設けられ、これらの部材で
ゲート電極をSiペレット20のゲート電極部に圧接す
る。上記構成のGTOは外部加圧手段によって、アノー
ド電極ポストとカソード電極ポストとに、対向方向の圧
力が加えられ圧接状態で使用される。FIG. 2 is a schematic sectional view of a conventional GTO.
FIG. 3 shows a state in which the components are separated along the pressing direction for convenience in order to make the components easy to see. The envelope comprises a bottom structure 1 and a top structure 2. The cathode electrode post 3 made of copper (hereinafter referred to as Cu) and the bottom surface of the ceramic insulator cylinder 4 are joined to each other using a silver braid via a ring-shaped metal plate 5. Metal plate 6
A gate pipe 7 for taking out a gate electrode and a pinch pipe 8 for enclosing nitrogen are respectively attached to the side surfaces of the ceramic cylinder 4 by silver brazing. The bottom structure 1 includes an electrode post 3, a ceramic cylinder 4, a ring-shaped metal plate 5, a welded ring-shaped metal plate 6, a gate pipe 7, and a pinch pipe 8. The electrode post 3 is provided with a cutout 9 for taking out the gate lead 16. The top structure 2 is composed of a Cu anode electrode post 10 and a welded ring-shaped metal plate 11 soldered to this. In this envelope, reference numeral 1
Enclose members indicated by 2 to 23. For sealing, the welded ring-shaped metal plate 6 and the welded ring-shaped metal plate 11 are joined by welding, the lead wire of the gate lead 16 is passed through the gate pipe 7, crimped, and welded in a state where the inside is filled with nitrogen gas and finally sealed. Stop. On the anode side of a silicon (hereinafter referred to as Si) pellet 20 of the GTO element, a molybdenum (hereinafter referred to as Mo) disk 22 is used as an internal buffer.
On the cathode side, a Mo ring 19 is also sandwiched between Teflon rings 23 as an internal buffer to form a sub-assembly. Here, a silicon rubber 21 for insulating the anode side and the cathode side of the Si pellet 20 is attached to the end face of the Si pellet 20. The gate electrode has a structure in which a gate lead 16 and a ceramic support 17 are sandwiched between Teflon rings 15. In order to insulate the gate lead 16 from the cathode electrode post 3, a Teflon tube 1 is connected to the gate lead 16.
Through 8. Below this gate electrode, mica 1
4, a washer 12 and a disc spring 13 are provided, and the gate electrode is pressed against the gate electrode portion of the Si pellet 20 by these members. The GTO having the above structure is used in a pressure-contact state by applying a pressure in the opposite direction to the anode electrode post and the cathode electrode post by an external pressing means.
【0004】GTOの動作においてターンオフするため
には、ゲート−カソード間にパルス状の逆電圧を印加
し、オン状態にある素子内部の電荷の一部を瞬間的にゲ
ートから排除することが必要である。この時、GTOは
充分大きなオフゲート電流が必要である。上記構造のG
TOのターンオフ時におけるゲート電流の軌跡を図4に
示す。ゲートドライバはゲートパイプ7と輪形金属板5
に付けられた補助カソード電極24とに接続される。補
助カソード電極24から流れた電流はカソード電極ポス
ト3全面に広がり、その後Moリング19を通りSiペ
レット20に向かって流れる。Siペレット20のカソ
ード全面に流れた電流はペレット内部を通りペレット中
央部のゲート電極に集まり、ゲートリードヘッダー部2
5からゲートリード16を通り、ゲートパイプ7へと流
れる。図5はGTOターンオフ時の電流,電圧波形を示
す。GTOを大電流遮断する為にはオフゲート電流もそ
れと同時に充分大きくし、ゲートリードヘッダー面積も
それと同時に大きくしなければならない。例えば6kA
の電流をターンオフするためには、ピークオフゲート電
流を約1500A程度まで大きくし、ゲートリードヘッ
ダー面積をφ40mm程度まで大きくする必要がある。In order to turn off in the operation of the GTO, it is necessary to apply a pulse-like reverse voltage between the gate and the cathode to instantaneously remove a part of the charge inside the device in the on state from the gate. is there. At this time, the GTO needs a sufficiently large off-gate current. G of the above structure
FIG. 4 shows the locus of the gate current when the TO is turned off. The gate driver consists of a gate pipe 7 and a ring-shaped metal plate 5
Is connected to the auxiliary cathode electrode 24 attached thereto. The current flowing from the auxiliary cathode electrode 24 spreads over the entire surface of the cathode electrode post 3 and thereafter flows toward the Si pellet 20 through the Mo ring 19. The current flowing over the entire surface of the cathode of the Si pellet 20 passes through the inside of the pellet and is collected at the gate electrode at the center of the pellet, and the gate lead header 2
5 flows through the gate lead 16 to the gate pipe 7. FIG. 5 shows current and voltage waveforms when the GTO is turned off. In order to cut off the large current of the GTO, the off-gate current must be sufficiently increased at the same time, and the area of the gate lead header must also be increased at the same time. For example, 6kA
In order to turn off the current, it is necessary to increase the peak off gate current to about 1500 A and to increase the gate lead header area to about φ40 mm.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】大容量のGTOは、多
数の小さな単位素子を円板状の半導体基体に同心リング
状に配列し複数の素子領域とした構造を有する。そし
て、これらの単位素子を、Siペレット上に設けられた
共通のゲート端子から信号電流(ゲート電流)を供給す
ることにより並列に動作させ、電流をオン・オフ制御す
るのであるが、このとき、全ての単位素子が同時にオン
・オフ制御されるのが理想である。A large-capacity GTO has a structure in which a large number of small unit elements are arranged concentrically on a disk-shaped semiconductor substrate in a concentric ring shape to form a plurality of element regions. Then, these unit elements are operated in parallel by supplying a signal current (gate current) from a common gate terminal provided on the Si pellet, and the current is turned on / off. Ideally, all the unit elements are simultaneously controlled on / off.
【0006】上記従来構造を用いたGTOは、ゲートリ
ード16に近いSiペレットではSiペレット表面の単
位GTO間にあるゲート電極をSiペレット中央部のゲ
ート電極に向かって流れる電流とそのゲート電極からゲ
ートパイプに向かって流れる電流との相互インダクタン
スによってSiペレット表面の単位GTO間にあるゲー
ト電極のインダクタンスが小さくなってしまう影響は、
カソード電位と同電位のMoディスクが緩衝材となり防
いでいた。しかしセンターゲート電極とゲートリード1
6の間はセラミックサポート17しか設けておらず相互
インダクタンスの影響をもろに受けてしまっていた。そ
の結果、ゲートリードに近い単位GTOから遮断していく
といった面内での電流遮断の不均一動作が生じていた。
このことはGTOが大電流,大口径になればなるほど顕
著にあらわれる。In the GTO using the above-described conventional structure, in the Si pellet near the gate lead 16, a current flowing toward the gate electrode at the center of the Si pellet and a gate flowing from the gate electrode located between the unit GTOs on the surface of the Si pellet are used. The effect that the inductance of the gate electrode between the unit GTOs on the surface of the Si pellet becomes smaller due to the mutual inductance with the current flowing toward the pipe,
The Mo disk having the same potential as the cathode potential served as a buffer material and prevented. However, center gate electrode and gate lead 1
Between 6, only the ceramic support 17 was provided, and the influence of the mutual inductance was affected. As a result, non-uniform operation of current interruption in a plane, such as interruption from a unit GTO close to a gate lead, has occurred.
This becomes more remarkable as the GTO has a larger current and a larger diameter.
【0007】本発明の目的は、上記した従来構造の問題
点を解決したGTOを提供することにある。An object of the present invention is to provide a GTO that solves the above-mentioned problems of the conventional structure.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】前記目的の達成のため
に、本発明は、単位ゲートターンオフサイリスタが半導
体基体内に並列かつ放射状に配列したペレットをマウン
トしたゲートターンオフサイリスタにおいて、パッケー
ジ内のゲートリードとそのゲートリードのヘッダーの間
にカソード電極と同電位の導体を設ける第1の手段を備
える。In order to achieve the above object, the present invention provides a gate turn-off thyristor in which pellets in which unit gate turn-off thyristors are arranged in parallel and radially in a semiconductor substrate are provided. And a first means for providing a conductor having the same potential as the cathode electrode between the header and the header of the gate lead.
【0009】前記手段によれば、パッケージ内のゲート
リードとそのゲートリードのヘッダーの間にカソード電
極と同電位の導体を設けることにより、この導体がゲー
トリードに流れる電流に誘起される磁界とゲートリード
ヘッダーに流れる電流に誘起される磁界のそれぞれを小
さな渦電流として消滅させてくれるためセンターゲート
電極とゲートリード16の間の相互インダクタンスの影
響を受けずにすむ。According to the above-mentioned means, by providing a conductor having the same potential as the cathode electrode between the gate lead in the package and the header of the gate lead, this conductor causes the magnetic field induced by the current flowing through the gate lead and the gate Since each of the magnetic fields induced by the current flowing through the lead header disappears as a small eddy current, there is no need to be affected by the mutual inductance between the center gate electrode and the gate lead 16.
【0010】従って、電流遮断時において局所的に電流
が集中することはなく、大電流を高速に遮断できる。Therefore, the current does not concentrate locally when the current is interrupted, and a large current can be interrupted at a high speed.
【0011】この手段において、例えば導体にモリブデ
ンやタングステン(以下Wと称す)のような熱膨張率が
Siと近い金属を設けた場合にはゲートリードヘッダー
とゲート電極のスティッキングを充分に押さえることが
でき、またCuのような熱伝導率の高い金属を設けた場
合にはSiの発熱排除に効果的である。In this means, when a metal such as molybdenum or tungsten (hereinafter referred to as W) having a coefficient of thermal expansion close to that of Si is provided in the conductor, sticking between the gate lead header and the gate electrode can be sufficiently suppressed. When a metal having a high thermal conductivity such as Cu is provided, it is effective for eliminating heat generation of Si.
【0012】大電流化すなわち大口径化したGTOでは
ゲートリードに流すオフゲート電流も充分に大きく、ゲ
ートリードヘッダー面積を充分に大きくする必要があ
り、本発明の効果がより顕著にあらわれる。In a GTO with a large current, that is, a large diameter, the off-gate current flowing through the gate lead must be sufficiently large, and the area of the gate lead header must be sufficiently large, so that the effect of the present invention appears more remarkably.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】以下、本発明を実施例として示し
た図面を用いて詳細に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings showing embodiments.
【0014】(実施例1)図1は本発明によるGTOの
摸式的断面図である。従来例とはゲートドライバに接続
されるパッケージ内のゲート構造が相違している。FIG. 1 is a schematic sectional view of a GTO according to the present invention. The gate structure in the package connected to the gate driver is different from the conventional example.
【0015】図6は従来ゲート構造の拡大図で、図7は
本発明ゲート構造の拡大図である。従来構造で設けてい
たセラミックサポート17に変りMo,WもしくはCu
等の導体27を設けている。これによって従来座金12
の上に載せていた絶縁板のマイカ14をゲートリードヘ
ッダー25と導体27の間に挿入してゲート−カソード
間を絶縁している。このとき安心のために、ゲートリー
ドヘッダー径よりもマイカの径を多少大きくしてやる必
要がある。ゲートリード16と導体27との絶縁にはテ
フロンリング26とテフロンチューブ18を設けてい
る。FIG. 6 is an enlarged view of the conventional gate structure, and FIG. 7 is an enlarged view of the gate structure of the present invention. Instead of the ceramic support 17 provided in the conventional structure, Mo, W or Cu
And the like. As a result, the conventional washer 12
Is inserted between the gate lead header 25 and the conductor 27 to insulate between the gate and the cathode. At this time, for security, it is necessary to make the diameter of the mica slightly larger than the diameter of the gate lead header. A Teflon ring 26 and a Teflon tube 18 are provided for insulation between the gate lead 16 and the conductor 27.
【0016】図8,図9は従来パッケージ構造とインタ
ーナルバッファMoリングの内径をφ45からφ20に
縮めたケースにおいて電流分布がどのように変化するか
計算した解析モデルを示す。Siペレット表面のゲート
Al電極は全面Ag電極として簡単化している。このモ
デルを使用し、ゲート配線に近い方からA,B,C,D
と領域を分割してその領域毎の時間と電流値の関係を計
算した。その結果を図10,図11に示す。図10はイ
ンターナルバッファMoリングの内径をφ45としたと
きの計算結果であり、図11はインターナルバッファM
oリングの内径をφ20としたときの計算結果である。
φ45のケースでは各領域によってばらつきが大きい
が、φ20のケースでは各領域でかなり一致している。
この結果からゲート配線とAg電極との間にインターナ
ルバッファMoリングを挿入することで両者の電流にお
けるインダクタンスの面内ばらつきが防げることがわか
る。ゲート配線とAg電極との間を全てインターナルバ
ッファMoで覆ってしまうことが理想的であるが、従来
構造のGTOではゲート電流取り出し口であるセンター
ゲート電極上ではゲートリードヘッダーを皿ばねを通じ
て加圧するといったカソード加圧とは異なる方法を取っ
ているため、インターナルバッファMoリングの径には
制約がある。本発明では従来構造のセラミックサポート
部をカソード電位と同電位の導体を設けているためこの
導体とインターナルバッファMoとでゲート配線とSi
ペレット表面のAl電極を流れる電流による磁界を完全
に遮蔽できる。従って、電流遮断時においてインダクタ
ンスの面内ばらつきがないため局所的に電流が集中する
ことはなく、大電流を高速に遮断できる。例えば導体に
モリブデンやタングステン(以下Wと称す)のような熱
膨張率がSiと近い金属を設けた場合にはゲートリード
ヘッダーとゲート電極のスティッキングを充分に押さえ
ることができ、またCuのような熱伝導率の高い金属を
設けた場合にはSiの発熱排除に効果的である。FIG. 8 and FIG. 9 show an analysis model that calculates how the current distribution changes in the conventional package structure and the case where the inner diameter of the internal buffer Mo ring is reduced from φ45 to φ20. The gate Al electrode on the surface of the Si pellet is simplified as an Ag electrode on the entire surface. Using this model, A, B, C, D
Then, the relationship between time and current value was calculated for each region. The results are shown in FIGS. FIG. 10 shows the calculation results when the inner diameter of the internal buffer Mo ring is φ45, and FIG.
It is a calculation result when the inner diameter of the o-ring is φ20.
In the case of φ45, there is a large variation in each region, but in the case of φ20, there is considerable agreement in each region.
From this result, it can be seen that by inserting an internal buffer Mo ring between the gate wiring and the Ag electrode, it is possible to prevent the in-plane variation of the inductance between the currents of both. Ideally, the entire area between the gate wiring and the Ag electrode is covered with the internal buffer Mo. However, in the conventional GTO, the gate lead header is applied to the center gate electrode, which is the gate current outlet, through a coned disc spring. Since the pressure is different from that of the cathode pressure, the diameter of the internal buffer Mo ring is limited. In the present invention, the conductor having the same potential as the cathode potential is provided in the ceramic support portion of the conventional structure.
The magnetic field due to the current flowing through the Al electrode on the pellet surface can be completely shielded. Therefore, there is no in-plane variation in inductance at the time of current interruption, so that current does not locally concentrate, and a large current can be interrupted at high speed. For example, when a metal such as molybdenum or tungsten (hereinafter referred to as W) having a coefficient of thermal expansion close to that of Si is provided for the conductor, sticking between the gate lead header and the gate electrode can be sufficiently suppressed, and a material such as Cu can be used. When a metal having a high thermal conductivity is provided, it is effective for eliminating heat generation of Si.
【0017】大電流化すなわち大口径化したGTOでは
ゲートリードに流すオフゲート電流も充分に大きく、ゲ
ートリードヘッダー面積を充分に大きくする必要があ
り、本発明の効果がより顕著にあらわれる。In a GTO with a large current, that is, a large diameter, the off-gate current flowing through the gate lead is sufficiently large, and the area of the gate lead header needs to be sufficiently large, so that the effect of the present invention appears more remarkably.
【0018】(実施例2)図12は本発明によるGTO
を使用した電力変換装置の一例で、インバータ装置の主
回路を示す。従来のGTOを使用した場合と比較する
と、本発明によるGTOの方が可制御電流が大きいもの
が得られるので、所望のインバータの電力容量に対して
必要なGTOの個数を低減することができ、従って装置
の小型化や信頼性の向上に効果がある。そして、本発明
によるGTOは、インバータ装置に限らず、それを含め
て順変換装置(整流装置),サイクロコンバータ,チョ
ッパ装置,半導体遮断器、さらには、これらを複数組み
合わせた装置等、各種の電力変換装置に使用が可能であ
る。Embodiment 2 FIG. 12 shows a GTO according to the present invention.
1 shows an example of a power conversion device using a main circuit of an inverter device. Compared with the case where the conventional GTO is used, the GTO according to the present invention has a larger controllable current, so that the number of GTOs required for a desired inverter power capacity can be reduced. Therefore, it is effective in reducing the size of the device and improving the reliability. The GTO according to the present invention is not limited to an inverter device, but includes various types of power including a forward converter (rectifier), a cycloconverter, a chopper device, a semiconductor circuit breaker, and a device combining a plurality of these devices. It can be used for conversion devices.
【0019】[0019]
【発明の効果】本発明によれば、大容量GTOにおける
ターンオフ時に発生する電流集中を緩和することができ
るので、素子の大きさに見合った可制御電流を得ること
が可能になり、さらに大容量のGTOを容易に製造する
ことができる。According to the present invention, current concentration occurring at the time of turn-off in a large-capacity GTO can be reduced, so that a controllable current corresponding to the size of the element can be obtained, and a large-capacity GTO can be obtained. GTO can be easily manufactured.
【図1】本発明第1の実施例を示すGTOの摸式的断面
図である。FIG. 1 is a schematic sectional view of a GTO showing a first embodiment of the present invention.
【図2】従来構造を示すGTOの摸式的断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view of a GTO showing a conventional structure.
【図3】従来構造の構成部品を見やすくするために便宜
上加圧方向に沿って各部品を切り離した状態である。FIG. 3 shows a state in which the components of the conventional structure are separated from each other along the pressing direction for the sake of simplicity.
【図4】従来構造GTOのターンオフ時におけるゲート
電流の軌跡を説明するためのGTOの摸式的断面図であ
る。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a conventional GTO for explaining a locus of a gate current when the GTO is turned off.
【図5】従来構造GTOのターンオフ時における電流,
電圧波形である。FIG. 5 shows the current at the time of turning off the conventional structure GTO,
It is a voltage waveform.
【図6】従来構造GTOのゲート電流取り出し部の拡大
断面図である。FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view of a gate current extraction portion of a conventional GTO.
【図7】本発明第1の実施例を説明するためのGTOの
ゲート電流取り出し部の拡大断面図である。FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view of a GTO gate current extraction portion for explaining the first embodiment of the present invention.
【図8】本発明第1の実施例を説明するための従来パッ
ケージ構造とMoリングの内径を変化させた場合におい
て電流分布を計算した解析モデルである。FIG. 8 is an analysis model for explaining the first embodiment of the present invention, in which a current distribution is calculated when the inner diameter of the conventional package structure and the Mo ring is changed.
【図9】本発明第1の実施例を説明するための従来パッ
ケージ構造とMoリングの内径を変化させた場合におい
て電流分布を計算した解析モデルである。FIG. 9 is an analysis model for explaining the first embodiment of the present invention, in which a current distribution is calculated when the inner diameter of the conventional package structure and the Mo ring are changed.
【図10】図8,図9の解析モデルにおいてMoリング
の内径を従来のφ45とした場合の計算結果である。10 is a calculation result when the inner diameter of the Mo ring is φ45 in the analysis models of FIGS. 8 and 9;
【図11】図8,図9の解析モデルにおいてMoリング
の内径をφ20とした場合の計算結果である。FIG. 11 is a calculation result when the inner diameter of the Mo ring is φ20 in the analysis models of FIGS. 8 and 9;
【図12】本発明によるGTOを使用したインバータ装
置の一例を示す回路図である。FIG. 12 is a circuit diagram showing an example of an inverter device using a GTO according to the present invention.
1…底部構体、2…頂部構体、3…カソード電極ポス
ト、4…セラミック筒体、5…輪型金属板、6,11…
溶接輪型金属板、7…ゲートパイプ、8…ピンチパイ
プ、9…切欠部、10…アノード電極ポスト、12…座
金、13…皿ばね、14…マイカ、15,23,26…
テフロンリング、16…ゲートリード、17…セラミッ
クサポート、18…テフロンチューブ、19…Moリン
グ、20…Siペレット、21…シリコンゴム、22…
Moディスク、24…補助カソード電極、25…ゲート
リードヘッダー、27…導体。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... bottom structure, 2 ... top structure, 3 ... cathode electrode post, 4 ... ceramic cylinder, 5 ... ring-shaped metal plate, 6, 11 ...
Welding wheel type metal plate, 7 gate pipe, 8 pinch pipe, 9 notch, 10 anode electrode post, 12 washer, 13 disc spring, 14 mica, 15, 23, 26 ...
Teflon ring, 16 gate lead, 17 ceramic support, 18 Teflon tube, 19 Mo ring, 20 Si pellet, 21 silicon rubber, 22
Mo disk, 24: auxiliary cathode electrode, 25: gate lead header, 27: conductor.
Claims (2)
基体内に並列かつ放射状に配列したペレットをマウント
したゲートターンオフサイリスタにおいて、パッケージ
内のゲートリードとそのゲートリードのヘッダーの間に
カソード電極と同電位の導体を設けたことを特徴とする
ゲートターンオフサイリスタ。1. A gate turn-off thyristor in which pellets in which unit gate turn-off thyristors are arranged in parallel and radially in a semiconductor substrate are mounted. A gate turn-off thyristor characterized by comprising:
トリードのヘッダーの間に挿入したカソード電極と同電
位の導体にモリブデンやタングステンのような熱膨張率
がシリコンに近い低インピーダンスの金属を設けたこと
を特徴とするゲートターンオフサイリスタ。2. A low-impedance metal such as molybdenum or tungsten having a coefficient of thermal expansion close to that of silicon, such as molybdenum or tungsten, is used for a conductor having the same potential as a cathode electrode inserted between the gate lead and the header of the gate lead according to claim 1. A gate turn-off thyristor characterized by being provided.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28206296A JPH10125899A (en) | 1996-10-24 | 1996-10-24 | Gate turn-off thyristor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28206296A JPH10125899A (en) | 1996-10-24 | 1996-10-24 | Gate turn-off thyristor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10125899A true JPH10125899A (en) | 1998-05-15 |
Family
ID=17647660
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28206296A Pending JPH10125899A (en) | 1996-10-24 | 1996-10-24 | Gate turn-off thyristor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10125899A (en) |
-
1996
- 1996-10-24 JP JP28206296A patent/JPH10125899A/en active Pending
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