JPH0980750A - 光重合性組成物 - Google Patents
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Landscapes
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光重合性組成物の可視光、特に500nm以
上の波長の光に対する感度を向上させる。 【手段】 エチレン性不飽和化合物、チタノセン化合
物、p−アミノフェニル不飽和ジケトン、およびグリシ
ン誘導体を含む光重合性組成物。 【効果】 可視光、特に500nm以上の波長の光に対
して高感度である為、露光光源の選択の幅が広がり、信
頼性の高いレーザーの使用が可能となる。また、低いエ
ネルギーの露光光源を使用することができ、与えられた
時間内に多数の原版を露光および現像ができる。
上の波長の光に対する感度を向上させる。 【手段】 エチレン性不飽和化合物、チタノセン化合
物、p−アミノフェニル不飽和ジケトン、およびグリシ
ン誘導体を含む光重合性組成物。 【効果】 可視光、特に500nm以上の波長の光に対
して高感度である為、露光光源の選択の幅が広がり、信
頼性の高いレーザーの使用が可能となる。また、低いエ
ネルギーの露光光源を使用することができ、与えられた
時間内に多数の原版を露光および現像ができる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は可視光の領域にまで
感度を有する新規な光重合性組成物に関する。
感度を有する新規な光重合性組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】光重合性組成物は多数の用途に広く利用
されており、例えば印刷、複写、レジスト形成その他に
商業的に利用されている。これらの組成物は一般にエチ
レン性不飽和化合物またはその他のタイプの重合性化合
物、光開始剤または光開始剤系そして好ましくは溶媒可
溶性または水性またはアルカリ可溶性有機重合体結合剤
化合物を含有している。ところが、これらの多くの既知
の有用な光重合性組成物は、使用されている開始剤がス
ペクトルの紫外部領域以外では活性化されないものが多
いため、その応用範囲が限定されているのが現状であ
る。また光源として紫外線でなく可視光線を用いたり,
アルゴンイオンレーザー、FD−YAGレーザー、ヘリ
ウム−ネオンレーザーなどの可視部領域に大きな発振強
度を有するレーザーで走査露光することが画像形成技術
として要求されている。 そのために可視光線に対して
高い感度を有する光重合性材料が要望され、可視光に対
して高感度な光開始剤の開発が望まれている。
されており、例えば印刷、複写、レジスト形成その他に
商業的に利用されている。これらの組成物は一般にエチ
レン性不飽和化合物またはその他のタイプの重合性化合
物、光開始剤または光開始剤系そして好ましくは溶媒可
溶性または水性またはアルカリ可溶性有機重合体結合剤
化合物を含有している。ところが、これらの多くの既知
の有用な光重合性組成物は、使用されている開始剤がス
ペクトルの紫外部領域以外では活性化されないものが多
いため、その応用範囲が限定されているのが現状であ
る。また光源として紫外線でなく可視光線を用いたり,
アルゴンイオンレーザー、FD−YAGレーザー、ヘリ
ウム−ネオンレーザーなどの可視部領域に大きな発振強
度を有するレーザーで走査露光することが画像形成技術
として要求されている。 そのために可視光線に対して
高い感度を有する光重合性材料が要望され、可視光に対
して高感度な光開始剤の開発が望まれている。
【0003】そこで高感度を有する光開始剤として、特
開昭54−155292号公報にはヘキサアリールビス
イミダゾールを含む系、特開昭58−15503号公報
には活性ハロゲン化合物と3−ケト置換クマリン化合物
の系、特開昭56−4604号公報には3−ケト置換ク
マリンとN−フェニルグリシンの系、特開昭61−97
650号公報には3−置換クマリンとキナゾリノン誘導
体との組合せ、特開昭61−123603号公報にはヘ
キサアリールビスイミダゾールと3−ケト置換クマリン
との組合せの光開始剤系が開示されている。しかしなが
ら、前記の光開始剤系では感度が不十分である。アルゴ
ンイオンレーザーの波長488nmの発振光に高感度で
ある光重合性組成としては、特開平4−184344号
公報に示されたものがある。ここで用いられている開始
剤系は、鉄アレン錯体とチタノセン化合物と特定の構造
の色素の組み合わせであるが、この組成物は、波長50
0nm以上の光に対する感光性が十分でない。
開昭54−155292号公報にはヘキサアリールビス
イミダゾールを含む系、特開昭58−15503号公報
には活性ハロゲン化合物と3−ケト置換クマリン化合物
の系、特開昭56−4604号公報には3−ケト置換ク
マリンとN−フェニルグリシンの系、特開昭61−97
650号公報には3−置換クマリンとキナゾリノン誘導
体との組合せ、特開昭61−123603号公報にはヘ
キサアリールビスイミダゾールと3−ケト置換クマリン
との組合せの光開始剤系が開示されている。しかしなが
ら、前記の光開始剤系では感度が不十分である。アルゴ
ンイオンレーザーの波長488nmの発振光に高感度で
ある光重合性組成としては、特開平4−184344号
公報に示されたものがある。ここで用いられている開始
剤系は、鉄アレン錯体とチタノセン化合物と特定の構造
の色素の組み合わせであるが、この組成物は、波長50
0nm以上の光に対する感光性が十分でない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は可視光線に対
し高い感光性を有する光重合性組成物、特にアルゴンイ
オンレーザーの波長488nmの発振光のみでなく、ア
ルゴンイオンレーザーの波長515nmの発振光やFD
−YAGレーザーの波長532nmの発振光に対し高い
感光性を有する光重合性組成物を提供せんとするもので
ある。
し高い感光性を有する光重合性組成物、特にアルゴンイ
オンレーザーの波長488nmの発振光のみでなく、ア
ルゴンイオンレーザーの波長515nmの発振光やFD
−YAGレーザーの波長532nmの発振光に対し高い
感光性を有する光重合性組成物を提供せんとするもので
ある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は以上の課題を解
決する目的で光開始剤系について鋭意、研究、努力を行
った結果、チタノセン化合物と特定の構造を有する化合
物の組み合わせが、長波長の可視光に対し高い硬化性を
与える事を発明するに到った。すなわち本発明は少なく
とも (a)少なくとも一種の常温で非ガス状のエチレン性不
飽和化合物 (b)チタノセン化合物 (c)下記一般式化3で示されるp−アミノフェニル不
飽和ジケトン (d)下記一般式化4で示されるグリシン誘導体 を含有する光重合性組成物である。
決する目的で光開始剤系について鋭意、研究、努力を行
った結果、チタノセン化合物と特定の構造を有する化合
物の組み合わせが、長波長の可視光に対し高い硬化性を
与える事を発明するに到った。すなわち本発明は少なく
とも (a)少なくとも一種の常温で非ガス状のエチレン性不
飽和化合物 (b)チタノセン化合物 (c)下記一般式化3で示されるp−アミノフェニル不
飽和ジケトン (d)下記一般式化4で示されるグリシン誘導体 を含有する光重合性組成物である。
【0006】
【化3】 (化3中aは0〜2の自然数で、R1 、R2 、R3 、R
4 、R5 、R6 、R7 、R8 、R9 、R10は水素原子で
もよく、他の基で置換されていてもよい。)
4 、R5 、R6 、R7 、R8 、R9 、R10は水素原子で
もよく、他の基で置換されていてもよい。)
【0007】
【化4】 (化4中R11、R12、R13、R14、R15はそれぞれ独立
に水素原子、置換または非置換のアシル基、またはハロ
ゲン置換アルキル基であり、R11、R12、R13、R14、
R15は同時に水素原子ではない。) 本発明において使用されるエチレン性不飽和化合物は、
遊離ラジカルで開始される連鎖成長付加反応に適した単
量体であり、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、ポリエチレングリコールジアクリレート、トリ
エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリ
コールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジ
メタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレートなど
が挙げられる。
に水素原子、置換または非置換のアシル基、またはハロ
ゲン置換アルキル基であり、R11、R12、R13、R14、
R15は同時に水素原子ではない。) 本発明において使用されるエチレン性不飽和化合物は、
遊離ラジカルで開始される連鎖成長付加反応に適した単
量体であり、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、ポリエチレングリコールジアクリレート、トリ
エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリ
コールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジ
メタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレートなど
が挙げられる。
【0008】第2の成分(b)のチタノセン化合物は下
記一般式化5で表される化合物が好ましい。
記一般式化5で表される化合物が好ましい。
【0009】
【化5】 (化5中、R16、R17はそれぞれ置換または非置換のシ
クロペンタジエニル基である。R18、R19はそれぞれ置
換または非置換のフェニル基であり、特にハロゲン原子
で置換されていることが好ましい。) 好ましい第2成分(b)の具体例を以下に示す。
クロペンタジエニル基である。R18、R19はそれぞれ置
換または非置換のフェニル基であり、特にハロゲン原子
で置換されていることが好ましい。) 好ましい第2成分(b)の具体例を以下に示す。
【0010】
【化6】
【0011】
【化7】
【0012】
【化8】
【0013】
【化9】
【0014】
【化10】
【0015】第3の成分(c)のp−アミノフェニル不
飽和ジケトンは、一般式化1(化3)で示される。一般
式化1において、aは0〜2の自然数で、R1 、R2 、
R3、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 、R9 、R10はそ
れぞれ水素原子でもよく、他の基で置換されていてもよ
い。好ましくは、それぞれ独立に水素原子、C1 〜C 12
のアルキル基、C2 〜C12のアルケニル基、C2 〜C12
のアルキニル基、C1〜C8 のアルコキシ基、C2 〜C
12のアルキルオキシアルキレン基、C1 〜C8のアルキ
ルチオ基、C6 〜C10のアリールオキシ基、C6 〜C20
の置換および非置換アリール基、カルボキシル基、ヒド
ロキシ基、シアノ基、ハロゲン原子、アミノ基、C1 〜
C12のモノアルキルアミノ基、C2 〜C24のジアルキル
アミノ基、C1 〜C12のシアノアルキル基、C1 〜C12
のアルコキシカルボニル基、C2〜C24のアルコキシカ
ルボニルアルキル基、C1 〜C12のヒドロキシカルボニ
ルアルキル基、C1 〜C12のアシロキシ基、またはC2
〜C24のアシルオキシカルボニル基である。また、R6
はR9 とともに、R8 はR10とともにC2 〜C5 のアル
キレン基を形成してもよい。一般式化1で表される化合
物は具体例として以下の構造のものが挙げられる。
飽和ジケトンは、一般式化1(化3)で示される。一般
式化1において、aは0〜2の自然数で、R1 、R2 、
R3、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 、R9 、R10はそ
れぞれ水素原子でもよく、他の基で置換されていてもよ
い。好ましくは、それぞれ独立に水素原子、C1 〜C 12
のアルキル基、C2 〜C12のアルケニル基、C2 〜C12
のアルキニル基、C1〜C8 のアルコキシ基、C2 〜C
12のアルキルオキシアルキレン基、C1 〜C8のアルキ
ルチオ基、C6 〜C10のアリールオキシ基、C6 〜C20
の置換および非置換アリール基、カルボキシル基、ヒド
ロキシ基、シアノ基、ハロゲン原子、アミノ基、C1 〜
C12のモノアルキルアミノ基、C2 〜C24のジアルキル
アミノ基、C1 〜C12のシアノアルキル基、C1 〜C12
のアルコキシカルボニル基、C2〜C24のアルコキシカ
ルボニルアルキル基、C1 〜C12のヒドロキシカルボニ
ルアルキル基、C1 〜C12のアシロキシ基、またはC2
〜C24のアシルオキシカルボニル基である。また、R6
はR9 とともに、R8 はR10とともにC2 〜C5 のアル
キレン基を形成してもよい。一般式化1で表される化合
物は具体例として以下の構造のものが挙げられる。
【0016】
【化11】
【0017】
【化12】
【0018】
【化13】
【0019】
【化14】
【0020】
【化15】
【0021】本発明組成中に鉄アレン錯体を存在させる
と硬化性が低下することがある為、鉄アレン錯体の添加
は好ましくない。第4の成分(d)のグリシン誘導体
は、一般式化2(化4)で示される。一般式化2におい
て、R11、R12、R13、R14、R15はそれぞれ独立に水
素原子、置換または非置換のアシル基、またはハロゲン
置換アルキル基であり、R11、R12、R13、R14、R15
は同時に水素原子ではない。一般式化2で示される化合
物の具体例としては、N−(p−アセチルフェニル)グ
リシン、N−(m−トリフルオロメチルフェニル)グリ
シン、N−(m−アセチルフェニル)グリシン、N−
(p−トリフルオロメチルフェニル)グリシンなどが挙
げられる。
と硬化性が低下することがある為、鉄アレン錯体の添加
は好ましくない。第4の成分(d)のグリシン誘導体
は、一般式化2(化4)で示される。一般式化2におい
て、R11、R12、R13、R14、R15はそれぞれ独立に水
素原子、置換または非置換のアシル基、またはハロゲン
置換アルキル基であり、R11、R12、R13、R14、R15
は同時に水素原子ではない。一般式化2で示される化合
物の具体例としては、N−(p−アセチルフェニル)グ
リシン、N−(m−トリフルオロメチルフェニル)グリ
シン、N−(m−アセチルフェニル)グリシン、N−
(p−トリフルオロメチルフェニル)グリシンなどが挙
げられる。
【0022】本発明組成中には、下記一般式化16で示
される環状ジケトン化合物を存在させてもよい。
される環状ジケトン化合物を存在させてもよい。
【化16】 (式中R20は水素または置換または非置換アルキルまた
はアラルキル基であり、Gは二価の有機基である。) 前記一般式化16で表される環状ジケトン化合物として
は、不安定な水素原子を有する活性メチレン基のある環
状β−ジカルボニル化合物である。式中R20は水素、ア
ルキル、置換アルキル、またはアラルキルであり、Gは
二価の有機基で基の鎖中にヘテロ原子を含有していても
よく、また場合により炭素またはヘテロ原子の一方また
はその両者が置換基を有していてもよいものである。前
記においてアルキル基はC1 〜C12のアルキルであり、
置換アルキルとして、例えばヒドロキシルアルキル、シ
アノアルキル、ハロアルキル、アルコキシアルキレン、
アルキレンチオエーテル、アリールオキシアルキレンな
どが挙げられる。アラルキル基のアリール部分は6〜1
0個の炭素原子を含有し得る。前記二価の有機基Gは環
を完成させるものである。この部分はヘテロ原子、例え
ば窒素、酸素および硫黄を含有し得る。これらの化合物
の具体例として、5,5 −ジメチル−1,3 −シクロヘキサ
ンジオン、2−メチル−1,3 −シクロヘキサンジオン、
2−メチル−1,3 −シクロペンタンジオン、2,4 −ジエ
チル−1,3 −シクロブタンジオン、2−メチル−1,3 −
シクロブタンジオン、5−メチル−2−チオバルビツー
ル酸、バルビツール酸、3−エチルテトロン酸、2,4 −
ジメチル−3−オキソ−5−ヒドロキシ−5−メトキシ
ペンテン酸δ−ラクトン、1,3,5 −トリメチルバルビツ
ール酸、1,3 −ジメチル−5−エチルバルビツール酸、
2−メチルジメドン、1,3 −インダンジオン、2−メチ
ルインダンジオン、ビス−[5−(1,3 −ジメチルバル
ビツリル)]メタン、1,5 −ジフェニル−3−[2−
(フェニルチオ)エチル]−2,4 −ピロリジンジオン、
1−フェニル−3,5 −ジケト−4−n−ブチルテトラヒ
ドロピラゾール、2,2 −ジメチル−m−ジオキサン−4,
6 −ジオン、2,2,5 −トリメチル−m−ジオキサン−4,
6 −ジオンなどが挙げられる。
はアラルキル基であり、Gは二価の有機基である。) 前記一般式化16で表される環状ジケトン化合物として
は、不安定な水素原子を有する活性メチレン基のある環
状β−ジカルボニル化合物である。式中R20は水素、ア
ルキル、置換アルキル、またはアラルキルであり、Gは
二価の有機基で基の鎖中にヘテロ原子を含有していても
よく、また場合により炭素またはヘテロ原子の一方また
はその両者が置換基を有していてもよいものである。前
記においてアルキル基はC1 〜C12のアルキルであり、
置換アルキルとして、例えばヒドロキシルアルキル、シ
アノアルキル、ハロアルキル、アルコキシアルキレン、
アルキレンチオエーテル、アリールオキシアルキレンな
どが挙げられる。アラルキル基のアリール部分は6〜1
0個の炭素原子を含有し得る。前記二価の有機基Gは環
を完成させるものである。この部分はヘテロ原子、例え
ば窒素、酸素および硫黄を含有し得る。これらの化合物
の具体例として、5,5 −ジメチル−1,3 −シクロヘキサ
ンジオン、2−メチル−1,3 −シクロヘキサンジオン、
2−メチル−1,3 −シクロペンタンジオン、2,4 −ジエ
チル−1,3 −シクロブタンジオン、2−メチル−1,3 −
シクロブタンジオン、5−メチル−2−チオバルビツー
ル酸、バルビツール酸、3−エチルテトロン酸、2,4 −
ジメチル−3−オキソ−5−ヒドロキシ−5−メトキシ
ペンテン酸δ−ラクトン、1,3,5 −トリメチルバルビツ
ール酸、1,3 −ジメチル−5−エチルバルビツール酸、
2−メチルジメドン、1,3 −インダンジオン、2−メチ
ルインダンジオン、ビス−[5−(1,3 −ジメチルバル
ビツリル)]メタン、1,5 −ジフェニル−3−[2−
(フェニルチオ)エチル]−2,4 −ピロリジンジオン、
1−フェニル−3,5 −ジケト−4−n−ブチルテトラヒ
ドロピラゾール、2,2 −ジメチル−m−ジオキサン−4,
6 −ジオン、2,2,5 −トリメチル−m−ジオキサン−4,
6 −ジオンなどが挙げられる。
【0023】本発明組成物中には好ましくは熱可塑性高
分子量有機重合体結合剤を存在させてもよい。重合体結
合剤タイプとしては(i)テレフタル酸、イソフタル
酸、セバシン酸、アジピン酸およびヘキサヒドロテレフ
タル酸に基くコポリエステル、(ii)ポリアミド、 (ii
i)ビニリデンクロリド共重合体、(iv)エチレン/ビニ
ルアセテート共重合体、(v)セルロースエーテル、
(vi)ポリエチレン、 (vii)合成ゴム、(viii)セルロー
スエステル、(ix)ポリビニルアセテート/アクリレー
トおよびポリビニルアセテート/メタクリレート共重合
体を含むポリビニルエステル、(x)ポリアクリレート
およびポリα−アルキルアクリレートエステル例えばポ
リメチルアクリレートおよびポリエチルメタクリレー
ト、(xi)(メタ)アクリル酸と(メタ)アクリル酸エ
ステルの共重合体、(xii)4,000 〜4,000,000の重量平
均分子量を有する高分子量エチレンオキシド重合体(ポ
リエチレングリコール)、(xiii)ポリ塩化ビニルおよび
その共重合体、(xiv) ポリビニルアセタール、(xv)ポリ
ホルムアルデヒド、(xvi) ポリウレタン、(xvii)ポリカ
ーボネートおよび(xviii) ポリスチレンが挙げられる。
分子量有機重合体結合剤を存在させてもよい。重合体結
合剤タイプとしては(i)テレフタル酸、イソフタル
酸、セバシン酸、アジピン酸およびヘキサヒドロテレフ
タル酸に基くコポリエステル、(ii)ポリアミド、 (ii
i)ビニリデンクロリド共重合体、(iv)エチレン/ビニ
ルアセテート共重合体、(v)セルロースエーテル、
(vi)ポリエチレン、 (vii)合成ゴム、(viii)セルロー
スエステル、(ix)ポリビニルアセテート/アクリレー
トおよびポリビニルアセテート/メタクリレート共重合
体を含むポリビニルエステル、(x)ポリアクリレート
およびポリα−アルキルアクリレートエステル例えばポ
リメチルアクリレートおよびポリエチルメタクリレー
ト、(xi)(メタ)アクリル酸と(メタ)アクリル酸エ
ステルの共重合体、(xii)4,000 〜4,000,000の重量平
均分子量を有する高分子量エチレンオキシド重合体(ポ
リエチレングリコール)、(xiii)ポリ塩化ビニルおよび
その共重合体、(xiv) ポリビニルアセタール、(xv)ポリ
ホルムアルデヒド、(xvi) ポリウレタン、(xvii)ポリカ
ーボネートおよび(xviii) ポリスチレンが挙げられる。
【0024】本発明組成物において、特に好ましい光重
合性結合剤としては、未露光光重合性コーティングが例
えばアルカリ性溶液である主として水性の溶液には可溶
性であるが、活性線放射の露光後は比較的それに不溶性
となるような重合体結合剤が好ましい。典型的にはこれ
らの要求を満足させる重合体はカルボキシル化重合体、
例えば遊離カルボン酸基含有ビニル付加重合体であるメ
タクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、クロトン酸
共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイ
ン酸共重合体などがある。また側鎖にカルボキシル基を
有するセルロースや、水酸基を側鎖に含有する重合体に
環状酸無水物を付加させた物などがある。
合性結合剤としては、未露光光重合性コーティングが例
えばアルカリ性溶液である主として水性の溶液には可溶
性であるが、活性線放射の露光後は比較的それに不溶性
となるような重合体結合剤が好ましい。典型的にはこれ
らの要求を満足させる重合体はカルボキシル化重合体、
例えば遊離カルボン酸基含有ビニル付加重合体であるメ
タクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、クロトン酸
共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイ
ン酸共重合体などがある。また側鎖にカルボキシル基を
有するセルロースや、水酸基を側鎖に含有する重合体に
環状酸無水物を付加させた物などがある。
【0025】更に、その他に光重合性組成物を製造中あ
るいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和化合
物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合禁止剤
を添加することが望ましい。適当な熱重合禁止剤として
は、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t
−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、ジ−t−ブ
チルカテコール、ベンゾキノン、2−メルカプトベンズ
イミダゾール、N−ニトロフェニルヒドロキシアミン第
一セリウムなどが挙げられる。また必要に応じて、不活
性添加物、例えば非重合性可塑剤、染料、顔料および充
填剤などは光重合性を著しく阻害しない程度に配合して
もよい。
るいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和化合
物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合禁止剤
を添加することが望ましい。適当な熱重合禁止剤として
は、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t
−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、ジ−t−ブ
チルカテコール、ベンゾキノン、2−メルカプトベンズ
イミダゾール、N−ニトロフェニルヒドロキシアミン第
一セリウムなどが挙げられる。また必要に応じて、不活
性添加物、例えば非重合性可塑剤、染料、顔料および充
填剤などは光重合性を著しく阻害しない程度に配合して
もよい。
【0026】本発明の光重合性組成物の好ましい配合比
率を成分(a) であるエチレン性不飽和化合物100 重量部
に対する重量部で表すと、成分(b) であるチタノセン化
合物は0.01〜50重量部、特に好ましくは0.1 〜30重量
部、成分(c)であるp−アミノフェニル不飽和ジケト
ンは、0.01〜20重量部、特に好ましくは0.1 〜20重量
部、成分(d)であるグリシン誘導体は、0.01〜20重量
部、特に好ましくは0.1 〜20重量部、環状ジケトン化合
物は0 〜20重量部、特に好ましくは0.1 〜20重量部、結
合剤は、0 〜1000重量部、好ましくは0 〜200 重量部で
ある。熱重合禁止剤の添加量は、全組成物に対して、0.
01〜5%が好ましい。
率を成分(a) であるエチレン性不飽和化合物100 重量部
に対する重量部で表すと、成分(b) であるチタノセン化
合物は0.01〜50重量部、特に好ましくは0.1 〜30重量
部、成分(c)であるp−アミノフェニル不飽和ジケト
ンは、0.01〜20重量部、特に好ましくは0.1 〜20重量
部、成分(d)であるグリシン誘導体は、0.01〜20重量
部、特に好ましくは0.1 〜20重量部、環状ジケトン化合
物は0 〜20重量部、特に好ましくは0.1 〜20重量部、結
合剤は、0 〜1000重量部、好ましくは0 〜200 重量部で
ある。熱重合禁止剤の添加量は、全組成物に対して、0.
01〜5%が好ましい。
【0027】なお本発明光重合性組成物は広範囲な種類
の基材上にコーティングすることができる。ここで「基
材」とはすべての天然または合成支持体、好ましくは可
撓性または剛性のフィルムまたはシートの形で存在し得
るものを意味している。例えば素材は金属シートまたは
箔、合成有機樹脂のシートまたはフィルム、セルロース
紙、ファイバーボードその他またはこれらの物質の2種
またはそれ以上のものの複合体でありうる。特定の素材
としてはアルミナプラストアルミニウム、アノード処理
アルミニウム、アルミプラストポリエチレンテレフタレ
ートフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、
静電放電処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポ
リビニルアルコールをコーティングした紙、交又結合ポ
リエステルコーティング紙、ナイロン、ガラス、セルロ
ースアセテートフィルムその他が挙げられる。
の基材上にコーティングすることができる。ここで「基
材」とはすべての天然または合成支持体、好ましくは可
撓性または剛性のフィルムまたはシートの形で存在し得
るものを意味している。例えば素材は金属シートまたは
箔、合成有機樹脂のシートまたはフィルム、セルロース
紙、ファイバーボードその他またはこれらの物質の2種
またはそれ以上のものの複合体でありうる。特定の素材
としてはアルミナプラストアルミニウム、アノード処理
アルミニウム、アルミプラストポリエチレンテレフタレ
ートフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、
静電放電処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポ
リビニルアルコールをコーティングした紙、交又結合ポ
リエステルコーティング紙、ナイロン、ガラス、セルロ
ースアセテートフィルムその他が挙げられる。
【0028】特定の素材は一般に関連する適用目的によ
り決定される。例えば印刷回路が製造される場合には、
素材はファイバーボード上に銅をコーティングしたプレ
ートでありうる。平版印刷プレートの製造においては、
素材はアノード処理アルミニウムでありうる。本発明に
おいて、光重合性組成物の厚みは 0.1〜 250μmであ
り、好ましくは0.5〜50μmである。望ましい厚みは用
途により決められる。基板に設けられた光重合性組成物
の層の上には、空気中の酸素による重合抑制作用を防止
するために、ポリビニルアルコールなどのような酸素遮
断性に優れたポリマーよりなる保護層を設けるか、ポリ
エチレンテレフタレートフィルムなどのカバーフィルム
をラミネートしてもよい。本発明光重合性組成物は紫外
光から可視光の幅広い領域の活性光線に対して高い感度
を有する。したがって、光源としては超高圧、高圧、中
圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク
灯、キセノン灯、メタルハライド灯、アルゴンイオンレ
ーザー、FD−YAGレーザー、ヘリウム−ネオンレー
ザー、ヘリウム−カドミウムレーザーなどのレーザー、
蛍光灯、タングステン灯、及び太陽光などが使用でき
る。
り決定される。例えば印刷回路が製造される場合には、
素材はファイバーボード上に銅をコーティングしたプレ
ートでありうる。平版印刷プレートの製造においては、
素材はアノード処理アルミニウムでありうる。本発明に
おいて、光重合性組成物の厚みは 0.1〜 250μmであ
り、好ましくは0.5〜50μmである。望ましい厚みは用
途により決められる。基板に設けられた光重合性組成物
の層の上には、空気中の酸素による重合抑制作用を防止
するために、ポリビニルアルコールなどのような酸素遮
断性に優れたポリマーよりなる保護層を設けるか、ポリ
エチレンテレフタレートフィルムなどのカバーフィルム
をラミネートしてもよい。本発明光重合性組成物は紫外
光から可視光の幅広い領域の活性光線に対して高い感度
を有する。したがって、光源としては超高圧、高圧、中
圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク
灯、キセノン灯、メタルハライド灯、アルゴンイオンレ
ーザー、FD−YAGレーザー、ヘリウム−ネオンレー
ザー、ヘリウム−カドミウムレーザーなどのレーザー、
蛍光灯、タングステン灯、及び太陽光などが使用でき
る。
【0029】
【実施例】以下実施例により本発明を具体的に説明する
が、ここでの部および%は重量基準である。下引き層を
有する 100μm厚さの透明なポリエチレンテレフタレー
トフィルム上に下記組成の感光層塗工液を塗布し、熱風
乾燥機にて90℃1分間乾燥し、厚さ2μmの塗膜を得
た。次いでその上に7%ポリビニルアルコール(完全ケ
ン化、重合度 500)の水溶液を塗布し熱風乾燥機で90℃
1分間乾燥して厚さ1μmのオーバー コート層を設け
て、感度テスト片を得た。この感度テスト片上にグレー
フィルムスケールを重ね、アルゴンイオンレーザの51
5nmの光で走査露光した。この後、30℃、0.7 %炭酸
ナトリウム水溶液に10秒間浸漬し、水洗して未硬化部分
を除去し 乾燥した後、完全硬化の段数(ステップ)を
調べた。 (感光層塗工液組成) (実施例1) ポリ(メタクリル酸メチル/メタクリル酸) 52部 70/30モル比 テトラエチレングリコールジメタクリレート 40部
が、ここでの部および%は重量基準である。下引き層を
有する 100μm厚さの透明なポリエチレンテレフタレー
トフィルム上に下記組成の感光層塗工液を塗布し、熱風
乾燥機にて90℃1分間乾燥し、厚さ2μmの塗膜を得
た。次いでその上に7%ポリビニルアルコール(完全ケ
ン化、重合度 500)の水溶液を塗布し熱風乾燥機で90℃
1分間乾燥して厚さ1μmのオーバー コート層を設け
て、感度テスト片を得た。この感度テスト片上にグレー
フィルムスケールを重ね、アルゴンイオンレーザの51
5nmの光で走査露光した。この後、30℃、0.7 %炭酸
ナトリウム水溶液に10秒間浸漬し、水洗して未硬化部分
を除去し 乾燥した後、完全硬化の段数(ステップ)を
調べた。 (感光層塗工液組成) (実施例1) ポリ(メタクリル酸メチル/メタクリル酸) 52部 70/30モル比 テトラエチレングリコールジメタクリレート 40部
【0030】
【化17】 5部
【0031】
【化18】 3部 N−(p−アセチルフェニル)グリシン 3部 メタノール 200部 酢酸エチル 80部 クロロホルム 120部 (実施例2) ポリ(メタクリル酸メチル/メタクリル酸) 52部 70/30モル比 テトラエチレングリコールジメタクリレート 40部
【0032】
【化19】 5部
【0033】
【化20】 3部 N−(p−アセチルフェニル)グリシン 3部 メタノール 200部 酢酸エチル 80部 クロロホルム 120部 (実施例3) ポリ(メタクリル酸メチル/メタクリル酸) 52部 70/30モル比 テトラエチレングリコールジメタクリレート 40部
【0034】
【化21】 5部
【0035】
【化22】 3部 N−(p−アセチルフェニル)グリシン 3部 メタノール 200部 酢酸エチル 80部 クロロホルム 120部 (実施例4) ポリ(メタクリル酸メチル/メタクリル酸) 52部 70/30モル比 テトラエチレングリコールジメタクリレート 40部
【0036】
【化23】 5部
【0037】
【化24】 3部 N−(p−アセチルフェニル)グリシン 3部 メタノール 200部 酢酸エチル 80部 クロロホルム 120部 (実施例5) ポリ(メタクリル酸メチル/メタクリル酸) 52部 70/30モル比 テトラエチレングリコールジメタクリレート 40部
【0038】
【化25】 5部
【0039】
【化26】 3部 N−(p−アセチルフェニル)グリシン 3部 メタノール 200部 酢酸エチル 80部 クロロホルム 120部 測定結果を表1に示す。
【0040】
【表1】 比較例として下記組成の感光層塗工液を調整し、実施例
と同様の実験を行った。 (感光層塗工液組成) (比較例1) ポリ(メタクリル酸メチル/メタクリル酸) 52部 70/30モル比 テトラエチレングリコールジメタクリレート 40部
と同様の実験を行った。 (感光層塗工液組成) (比較例1) ポリ(メタクリル酸メチル/メタクリル酸) 52部 70/30モル比 テトラエチレングリコールジメタクリレート 40部
【0041】
【化27】 5部
【0042】
【化28】 3部 メタノール 200部 酢酸エチル 80部 クロロホルム 120部 (比較例2) ポリ(メタクリル酸メチル/メタクリル酸) 52部 70/30モル比 テトラエチレングリコールジメタクリレート 40部
【0043】
【化29】 3部 N−(p−アセチルフェニル)グリシン 3部 メタノール 200部 酢酸エチル 80部 クロロホルム 120部 (比較例3) ポリ(メタクリル酸メチル/メタクリル酸) 52部 70/30モル比 テトラエチレングリコールジメタクリレート 40部
【0044】
【化30】 3部 N−(p−アセチルフェニル)グリシン 3部 メタノール 200部 酢酸エチル 80部 クロロホルム 120部 (比較例4) ポリ(メタクリル酸メチル/メタクリル酸) 52部 70/30モル比 テトラエチレングリコールジメタクリレート 40部
【0045】
【化31】 5部
【0046】
【化32】 3部 N−(p−アセチルフェニル)グリシン 3部 メタノール 200部 酢酸エチル 80部 クロロホルム 120部 測定結果を表2に示す。
【0047】
【表2】 表1、表2より明らかなように、本発明の実施例1〜5
は比較例1〜4に比べ515nmの光に対し高感度であ
ることがわかる。
は比較例1〜4に比べ515nmの光に対し高感度であ
ることがわかる。
【0048】
【発明の効果】本発明の光重合性組成物は、可視光、特
に500nm以上の光に対し高い光硬化性を有する為、
露光光源の選択の幅が広がる。また、高感度である為、
与えられた時間内に多数の原版を露光できる。また、露
光源を原版より遠ざけることができるため、その光線が
平行化され、例えば網点画像を形成する場合、垂直の側
部を有するシャープな網点を形成することができるなど
種々の利点を有する。
に500nm以上の光に対し高い光硬化性を有する為、
露光光源の選択の幅が広がる。また、高感度である為、
与えられた時間内に多数の原版を露光できる。また、露
光源を原版より遠ざけることができるため、その光線が
平行化され、例えば網点画像を形成する場合、垂直の側
部を有するシャープな網点を形成することができるなど
種々の利点を有する。
Claims (1)
- 【請求項1】少なくとも、 (a)少なくとも一種の常温で非ガス状のエチレン性不
飽和化合物 (b)チタノセン化合物 (c)下記一般式化1で示されるp−アミノフェニル不
飽和ジケトン (d)下記一般式化2で示されるグリシン誘導体 を含有する光重合性組成物。 【化1】 化1 中aは0 〜2 の自然数で、R1 、R2 、R3 、
R4 、R5 、R6 、R7 、R 8 、R9 、R10は水素原子
でもよく、他の基で置換されていてもよい。) 【化2】 化2中R11、R12、R13、R14、R15はそれぞれ独立に
水素原子、置換または非置換のアシル基、またはハロゲ
ン置換アルキル基であり、R11、R12、R13、R14、R
15は同時に水素原子ではない。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23030395A JPH0980750A (ja) | 1995-09-07 | 1995-09-07 | 光重合性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23030395A JPH0980750A (ja) | 1995-09-07 | 1995-09-07 | 光重合性組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0980750A true JPH0980750A (ja) | 1997-03-28 |
Family
ID=16905725
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23030395A Pending JPH0980750A (ja) | 1995-09-07 | 1995-09-07 | 光重合性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0980750A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1635219A1 (en) | 2004-08-27 | 2006-03-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive lithographic printing plate |
EP1701213A2 (en) | 2005-03-08 | 2006-09-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition |
DE112010000772T5 (de) | 2009-02-13 | 2012-06-14 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Lichtempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial |
DE112011101165T5 (de) | 2010-03-29 | 2013-03-28 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Fotoempfindliche Zusammensetzung und fotoempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial |
-
1995
- 1995-09-07 JP JP23030395A patent/JPH0980750A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1635219A1 (en) | 2004-08-27 | 2006-03-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive lithographic printing plate |
EP1701213A2 (en) | 2005-03-08 | 2006-09-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition |
DE112010000772T5 (de) | 2009-02-13 | 2012-06-14 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Lichtempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial |
DE112011101165T5 (de) | 2010-03-29 | 2013-03-28 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Fotoempfindliche Zusammensetzung und fotoempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial |
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