JP2536528B2 - 光重合開始剤およびこれを用いた光重合性組成物 - Google Patents
光重合開始剤およびこれを用いた光重合性組成物Info
- Publication number
- JP2536528B2 JP2536528B2 JP14490287A JP14490287A JP2536528B2 JP 2536528 B2 JP2536528 B2 JP 2536528B2 JP 14490287 A JP14490287 A JP 14490287A JP 14490287 A JP14490287 A JP 14490287A JP 2536528 B2 JP2536528 B2 JP 2536528B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- alkyl
- aryl
- halogen atom
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は新規な付加重合性化合物の重合に用いる光重
合開始剤（以下、これを単に「光開始剤」という）およ
びこれを用いた光重合性組成物に関する。
合開始剤（以下、これを単に「光開始剤」という）およ
びこれを用いた光重合性組成物に関する。
（従来技術） 光重合性組成物は一般にUV光源が用いられ凸版用，レ
リーフ像用，フオトレジスト用等に広く適用されている
が，その感度はより高い系が望まれている。特にレーザ
ービームによる走査露光を目的とする場合には高感度で
あることと同時に，例えばアルゴンイオンレーザーの場
合はその主出力波長である458,488,514nm等可視光に対
し十分な感度をもつことが必要である。従来より，この
分野では感度を増大させるための光開始剤系について多
くの研究がなされている。光開始剤としてはベンゾイン
およびその誘導体，置換または非置換の多核キノン類等
多くの物質が既に知られているが，特に可視光において
十分な感度を有するものは知られていない。
リーフ像用，フオトレジスト用等に広く適用されている
が，その感度はより高い系が望まれている。特にレーザ
ービームによる走査露光を目的とする場合には高感度で
あることと同時に，例えばアルゴンイオンレーザーの場
合はその主出力波長である458,488,514nm等可視光に対
し十分な感度をもつことが必要である。従来より，この
分野では感度を増大させるための光開始剤系について多
くの研究がなされている。光開始剤としてはベンゾイン
およびその誘導体，置換または非置換の多核キノン類等
多くの物質が既に知られているが，特に可視光において
十分な感度を有するものは知られていない。
また，例えばＮ−フエニルグリシンのようなＮ−アリ
ール−α−アミノ酸と種々の光吸収性化合物とを組み合
わせた組成物が知られている（特開昭57−83501号公報
等）。
ール−α−アミノ酸と種々の光吸収性化合物とを組み合
わせた組成物が知られている（特開昭57−83501号公報
等）。
しかしながらこの組成物も感度が十分ではない。
（発明が解決しようとする問題点） 本発明は可視光に対して高い感度を有する光重合性組
成物を与える光開始剤およびこれを用いた可視光に対し
て高い感度を有する光重合性組成物を提供するものであ
る。
成物を与える光開始剤およびこれを用いた可視光に対し
て高い感度を有する光重合性組成物を提供するものであ
る。
（問題点を解決するための手段） 第１の発明は （１） 下記式〔Ｉ〕で表わされるＮ−アリール−α−
アミノ酸 （式中,R1,R2,R3,R4およびR5は水素原子，炭素数１〜12
のアルキル基またはハロゲン原子であり,R6は水素原
子，炭素数１〜12のアルキル基，シクロアルキル基，炭
素数１〜12のヒドロキシアルキル基，炭素数１〜12のア
ルコキシアルキル基，炭素数１〜12のアミノアルキル基
またはアリール基であり,R7およびR8は水素原子または
炭素数１〜８のアリキル基であり,R1,R2,R3,R4,R5,R6,R
7およびR8は同一の場合もある。） および （２） 下記式〔II〕で表わされる芳香族アミノケトン （式中,R9およびR10は炭素数１〜４のアルキル基であ
り,R11,R12,R13およびR14は水素原子，炭素数１〜４の
アルキル基，炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲ
ン原子であり,R15およびR16は水素原子または炭素数１
〜４のアルキル基であり,Zはアリール基（アリール基は
ハロゲン原子，シアノ基，炭素数１〜４のアルキル基，
炭素数１〜４のアルコキシ基，炭素数２〜８のジアルキ
ルアミノ基，炭素数１〜８のアシル基，カルボキシル基
または炭素数１〜８のアルコキシカルボニル基で置換さ
れてもよい），スチリル基（スチリル基はハロゲン原
子，シアノ基，炭素数１〜４のアルキル基，炭素数１〜
４のアルコキシ基，炭素数２〜８のジアルキルアミノ
基，炭素数１〜８のアシル基，カルボキシル基または炭
素数１〜８のアルコキシカルボニル基で置換されてもよ
い）またはR16と置換もしくは無置換のメチレン基，エ
チレン基もしくはプロピレン基を介して環を形成した上
記の置換もしくは無置換のアリール基もしくは上記の置
換もしくは無置換のスチリル基である） を含有してなる光開始剤に関する。
アミノ酸 （式中,R1,R2,R3,R4およびR5は水素原子，炭素数１〜12
のアルキル基またはハロゲン原子であり,R6は水素原
子，炭素数１〜12のアルキル基，シクロアルキル基，炭
素数１〜12のヒドロキシアルキル基，炭素数１〜12のア
ルコキシアルキル基，炭素数１〜12のアミノアルキル基
またはアリール基であり,R7およびR8は水素原子または
炭素数１〜８のアリキル基であり,R1,R2,R3,R4,R5,R6,R
7およびR8は同一の場合もある。） および （２） 下記式〔II〕で表わされる芳香族アミノケトン （式中,R9およびR10は炭素数１〜４のアルキル基であ
り,R11,R12,R13およびR14は水素原子，炭素数１〜４の
アルキル基，炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲ
ン原子であり,R15およびR16は水素原子または炭素数１
〜４のアルキル基であり,Zはアリール基（アリール基は
ハロゲン原子，シアノ基，炭素数１〜４のアルキル基，
炭素数１〜４のアルコキシ基，炭素数２〜８のジアルキ
ルアミノ基，炭素数１〜８のアシル基，カルボキシル基
または炭素数１〜８のアルコキシカルボニル基で置換さ
れてもよい），スチリル基（スチリル基はハロゲン原
子，シアノ基，炭素数１〜４のアルキル基，炭素数１〜
４のアルコキシ基，炭素数２〜８のジアルキルアミノ
基，炭素数１〜８のアシル基，カルボキシル基または炭
素数１〜８のアルコキシカルボニル基で置換されてもよ
い）またはR16と置換もしくは無置換のメチレン基，エ
チレン基もしくはプロピレン基を介して環を形成した上
記の置換もしくは無置換のアリール基もしくは上記の置
換もしくは無置換のスチリル基である） を含有してなる光開始剤に関する。
本発明において用いられるＮ−アリール−α−アミノ
酸は上記の式〔Ｉ〕で表わされるが，式〔Ｉ〕において
R1,R2,R3,R4およびR5は水素原子，炭素数１〜12のアル
キル基またはハロゲン原子であり,R6は水素原子，炭素
数１〜12のアルキル基，シクロアルキル基，炭素数１〜
12のヒドロキシアルキル基，炭素数１〜12のアルコキシ
アルキル基，炭素数１〜12のアミノアルキル基またはア
リール基であり,R7およびR8は水素原子または炭素数１
〜８のアルキル基であり,R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7およびR
8は同一の場合もある。
酸は上記の式〔Ｉ〕で表わされるが，式〔Ｉ〕において
R1,R2,R3,R4およびR5は水素原子，炭素数１〜12のアル
キル基またはハロゲン原子であり,R6は水素原子，炭素
数１〜12のアルキル基，シクロアルキル基，炭素数１〜
12のヒドロキシアルキル基，炭素数１〜12のアルコキシ
アルキル基，炭素数１〜12のアミノアルキル基またはア
リール基であり,R7およびR8は水素原子または炭素数１
〜８のアルキル基であり,R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7およびR
8は同一の場合もある。
Ｎ置換−Ｎ−アリール−α−アミノ酸は，例えばＮ−
アリール−α−アミノ酸から誘導される。
アリール−α−アミノ酸から誘導される。
例えばR6をアルキル基とＮ置換−Ｎ−アリール−α−
アミノ酸はＮ−アリール−α−アミノ酸とハロゲン化ア
ルキルとをアルカリの存在下に，溶剤を用いて30〜150
℃で,2〜６時間反応させて,N−アルキル−Ｎ−アリール
−α−アミノ酸アルキルエステルを得る。ついでこのア
ルキルエステルをアルコール性アルカリの作用で加水分
解してＮ−アルキル−Ｎ−アリール−α−アミノ酸が得
られる。
アミノ酸はＮ−アリール−α−アミノ酸とハロゲン化ア
ルキルとをアルカリの存在下に，溶剤を用いて30〜150
℃で,2〜６時間反応させて,N−アルキル−Ｎ−アリール
−α−アミノ酸アルキルエステルを得る。ついでこのア
ルキルエステルをアルコール性アルカリの作用で加水分
解してＮ−アルキル−Ｎ−アリール−α−アミノ酸が得
られる。
Ｎ−アリール−α−アミノ酸として好ましい化合物と
しては,N−メチル−Ｎ−フエニルグリシン,N−エチル−
Ｎ−フエニルグリシン,N−（ｎ−プロピル）−Ｎ−フエ
ニルグリシン,N−（ｎ−ブチル）−Ｎ−フエニルグリシ
ン,N−（２−メトキシエチル）−Ｎ−フエニルグリシ
ン,N−メチル−Ｎ−フエニルアラニン,N−エチル−Ｎ−
フエニルアラニン,N−（ｎ−プロピル）−Ｎ−フエニル
アラニン,N−（ｎ−ブチル）−Ｎ−フエニルアラニン,N
−メチル−Ｎ−フエニルバリン,N−メチル−Ｎ−フエニ
ルロイシン,N−メチル−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン,N
−エチル−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン,N−（ｎ−プロ
ピル）−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン,N−（ｎ−ブチ
ル）−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン,N−メチル−Ｎ−
（ｐ−クロロフエニル）グリシン,N−エチル−Ｎ−（ｐ
−クロロフエニル）グリシン,N−（ｎ−プロピル）−Ｎ
−（ｐ−クロロフエニル）グリシン,N−メチル−Ｎ−
（ｐ−ブロモフエニル）グリシン,N−エチル−Ｎ−（ｐ
−ブロモフエニル）グリシン,N−（ｎ−ブチル）−Ｎ−
（ｐ−ブロモフエニル）グリシン,N,N−ジフエニルグリ
シン,N−メチル−Ｎ−（ｐ−ヨードフエニル）グリシン
等がある。
しては,N−メチル−Ｎ−フエニルグリシン,N−エチル−
Ｎ−フエニルグリシン,N−（ｎ−プロピル）−Ｎ−フエ
ニルグリシン,N−（ｎ−ブチル）−Ｎ−フエニルグリシ
ン,N−（２−メトキシエチル）−Ｎ−フエニルグリシ
ン,N−メチル−Ｎ−フエニルアラニン,N−エチル−Ｎ−
フエニルアラニン,N−（ｎ−プロピル）−Ｎ−フエニル
アラニン,N−（ｎ−ブチル）−Ｎ−フエニルアラニン,N
−メチル−Ｎ−フエニルバリン,N−メチル−Ｎ−フエニ
ルロイシン,N−メチル−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン,N
−エチル−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン,N−（ｎ−プロ
ピル）−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン,N−（ｎ−ブチ
ル）−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン,N−メチル−Ｎ−
（ｐ−クロロフエニル）グリシン,N−エチル−Ｎ−（ｐ
−クロロフエニル）グリシン,N−（ｎ−プロピル）−Ｎ
−（ｐ−クロロフエニル）グリシン,N−メチル−Ｎ−
（ｐ−ブロモフエニル）グリシン,N−エチル−Ｎ−（ｐ
−ブロモフエニル）グリシン,N−（ｎ−ブチル）−Ｎ−
（ｐ−ブロモフエニル）グリシン,N,N−ジフエニルグリ
シン,N−メチル−Ｎ−（ｐ−ヨードフエニル）グリシン
等がある。
R1,R2,R3,R4およびR5の少なくとも１つがハロゲン原
子である場合には，得られる光重合性組成物の保存安定
性が改良されるため特に好ましい。Ｎ−アリール−α−
アミノ酸は単独で使用しても２種以上を併用してもよ
い。
子である場合には，得られる光重合性組成物の保存安定
性が改良されるため特に好ましい。Ｎ−アリール−α−
アミノ酸は単独で使用しても２種以上を併用してもよ
い。
本発明において用いられる芳香族アミノケトンは上記
の式〔II〕で表わされるが，式〔II〕においてR9および
R10は炭素数１〜４のアルキル基であり,R11,R12,R13お
よびR14は水素原子，炭素数１〜４のアルキル基，炭素
数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原子であり,R15
およびR16は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基
である。式〔II〕においてＺは無置換のアリール基，置
換アリール基，無置換のスチリル基または置換スチリル
基であり，アリール基およびスチリル基が置換される場
合には置換基はハロゲン原子，シアノ基，炭素数１〜４
のアルキル基，炭素数１〜４のアルコキシ基，炭素数２
〜８のジアルキルアミノ基，炭素数１〜８のアシル基，
カルボキシル基および炭素数１〜８のアルコキシカルボ
ニル基とされる。Ｚはまた,R16と置換もしくは無置換の
メチレン基，エチレン基またはプロピレン基を介して環
を形成した上記の置換もしくは無置換のアリール基もし
くは上記の置換もしくは無置換のスチリル基であつても
よい。
の式〔II〕で表わされるが，式〔II〕においてR9および
R10は炭素数１〜４のアルキル基であり,R11,R12,R13お
よびR14は水素原子，炭素数１〜４のアルキル基，炭素
数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原子であり,R15
およびR16は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基
である。式〔II〕においてＺは無置換のアリール基，置
換アリール基，無置換のスチリル基または置換スチリル
基であり，アリール基およびスチリル基が置換される場
合には置換基はハロゲン原子，シアノ基，炭素数１〜４
のアルキル基，炭素数１〜４のアルコキシ基，炭素数２
〜８のジアルキルアミノ基，炭素数１〜８のアシル基，
カルボキシル基および炭素数１〜８のアルコキシカルボ
ニル基とされる。Ｚはまた,R16と置換もしくは無置換の
メチレン基，エチレン基またはプロピレン基を介して環
を形成した上記の置換もしくは無置換のアリール基もし
くは上記の置換もしくは無置換のスチリル基であつても
よい。
メチレン基，エチレン基またはプロピレン基はメチル
基，ターシヤリーブチル基，フエニル基，クロルフエニ
ル基等で置換されてもよい。
基，ターシヤリーブチル基，フエニル基，クロルフエニ
ル基等で置換されてもよい。
R16と環を形成する場合の置換のアリール基およびス
チリル基の置換基の種類は，上記のＺがアリール基また
はスチリル基である場合の置換基の種類と同じである。
チリル基の置換基の種類は，上記のＺがアリール基また
はスチリル基である場合の置換基の種類と同じである。
これらの芳香族アミノケトンは，例えばアミノベンズ
アルデヒドと活性メチレン化合物の縮合によつて合成さ
れる既に公知の化合物である。芳香族アミノケトンとし
て好ましい化合物としては,2,6−ビス（４′−ジエチル
アミノベンジリデン）シクロペンタノン,2,6−ビス
（４′−ジメチルアミノベンジリデン）シクロペンタノ
ン,2,6−ビス（４′−ジエチルアミノベンジリデン）シ
クロヘキサノン,2,6−ビス（４′−ジエチルアミノベン
ジリデン）シクロヘキサノン,2,6−ビス（４′−ジメチ
ルアミノ−２′−メチルベンジリデン）シクロヘキサノ
ン,2,6−ビス（４′−ジメチルアミノ−２′−メチルベ
ンジリデン）シクロペンタノン,4′−ジエチルアミノベ
ンジリデン−４−シアノアセトフエノン,4′−ジメチル
アミノ−２′−メチルベンジリデン−４−シアノアセト
フエノン,2−（４′−ジエチルアミノベンジリデン）−
１−インダノン,2−（４′−ジエチルアミノ−２′−メ
チルベンジリデン）−１−インダノン,2−（４′−ジエ
チルアミノ−２′−メトキシベンジリデン）−２−イン
ダノン,2−〔（1,2,6,7−テトラヒドロ−3H,5H−ベンゾ
〔1,j〕キノリジン−９−イル）メチレン〕−１−イン
ダノン,4′ジエチルアミノベンジリデン−４−メトキシ
アセトフエノン,4′−ジエチルアミノ−２′−メチルベ
ンジリデン−４−メトキシアセトフエノン等がある。芳
香族アミノケトンは単独で使用しても２種以上を併用し
てもよい。
アルデヒドと活性メチレン化合物の縮合によつて合成さ
れる既に公知の化合物である。芳香族アミノケトンとし
て好ましい化合物としては,2,6−ビス（４′−ジエチル
アミノベンジリデン）シクロペンタノン,2,6−ビス
（４′−ジメチルアミノベンジリデン）シクロペンタノ
ン,2,6−ビス（４′−ジエチルアミノベンジリデン）シ
クロヘキサノン,2,6−ビス（４′−ジエチルアミノベン
ジリデン）シクロヘキサノン,2,6−ビス（４′−ジメチ
ルアミノ−２′−メチルベンジリデン）シクロヘキサノ
ン,2,6−ビス（４′−ジメチルアミノ−２′−メチルベ
ンジリデン）シクロペンタノン,4′−ジエチルアミノベ
ンジリデン−４−シアノアセトフエノン,4′−ジメチル
アミノ−２′−メチルベンジリデン−４−シアノアセト
フエノン,2−（４′−ジエチルアミノベンジリデン）−
１−インダノン,2−（４′−ジエチルアミノ−２′−メ
チルベンジリデン）−１−インダノン,2−（４′−ジエ
チルアミノ−２′−メトキシベンジリデン）−２−イン
ダノン,2−〔（1,2,6,7−テトラヒドロ−3H,5H−ベンゾ
〔1,j〕キノリジン−９−イル）メチレン〕−１−イン
ダノン,4′ジエチルアミノベンジリデン−４−メトキシ
アセトフエノン,4′−ジエチルアミノ−２′−メチルベ
ンジリデン−４−メトキシアセトフエノン等がある。芳
香族アミノケトンは単独で使用しても２種以上を併用し
てもよい。
これらの芳香族アミノケトンは,400nm以上の波長を有
する光に対して高い吸収を示す化合物である。
する光に対して高い吸収を示す化合物である。
第一の発明においては，上記の式〔Ｉ〕で表わされる
Ｎ−アリール−α−アミノ酸と上記の式〔II〕で表わさ
れる芳香族アミノケトンとの使用割合については特に制
限はない。
Ｎ−アリール−α−アミノ酸と上記の式〔II〕で表わさ
れる芳香族アミノケトンとの使用割合については特に制
限はない。
第二の発明は， （１） 常圧において100℃以上の沸点を有する付加重
合性化合物， （２） 下記式〔Ｉ〕で表わされるＮ−アリール−α−
アミノ酸 （式中,R1,R2,R3,R4およびR5は水素原子，炭素数１〜12
のアルキル基またはハロゲン原子であり,R6は水素原
子，炭素数１〜12のアルキル基，シクロアルキル基，炭
素数１〜12のヒドロキシアルキル基，炭素数１〜12のア
ルコキシアルキル基，炭素数１〜12のアミノアルキル基
またはアリール基であり,R7およびR8は水素原子または
炭素数１〜８のアリキル基であり,R1,R2,R3,R4,R5,R6,R
7およびR8は同一の場合もある。） および （３） 下記式〔II〕で表わされる芳香族アミノケトン （式中,R9およびR10は炭素数１〜４のアルキル基であ
り,R11,R12,R13およびR14は水素原子，炭素数１〜４の
アルキル基，炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲ
ン原子であり,R15およびR16は水素原子または炭素数１
〜４のアルキル基であり,Zはアリール基（アリール基は
ハロゲン原子，シアノ基，炭素数１〜４のアルキル基，
炭素数１〜４のアルコキシ基，炭素数２〜８のジアルキ
ルアミノ基，炭素数１〜８のアシル基，カルボキシル基
または炭素数１〜８のアルコキシカルボニル基で置換さ
れてもよい），スチリル基（スチリル基はハロゲン原
子，シアノ基，炭素数１〜４のアルキル基，炭素数１〜
４のアルコキシ基，炭素数２〜８のジアルキルアミノ
基，炭素数１〜８のアシル基，カルボキシル基または炭
素数１〜８のアルコキシカルボニル基で置換されてもよ
い）またはR16と置換もしくは無置換のメチレン基，エ
チレン基もしくはプロピレン基を介して環を形成した上
記の置換もしくは無置換のアリール基もしくは上記の置
換もしくは無置換のスチリル基である） を含有してなる光重合性組成物に関する。
合性化合物， （２） 下記式〔Ｉ〕で表わされるＮ−アリール−α−
アミノ酸 （式中,R1,R2,R3,R4およびR5は水素原子，炭素数１〜12
のアルキル基またはハロゲン原子であり,R6は水素原
子，炭素数１〜12のアルキル基，シクロアルキル基，炭
素数１〜12のヒドロキシアルキル基，炭素数１〜12のア
ルコキシアルキル基，炭素数１〜12のアミノアルキル基
またはアリール基であり,R7およびR8は水素原子または
炭素数１〜８のアリキル基であり,R1,R2,R3,R4,R5,R6,R
7およびR8は同一の場合もある。） および （３） 下記式〔II〕で表わされる芳香族アミノケトン （式中,R9およびR10は炭素数１〜４のアルキル基であ
り,R11,R12,R13およびR14は水素原子，炭素数１〜４の
アルキル基，炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲ
ン原子であり,R15およびR16は水素原子または炭素数１
〜４のアルキル基であり,Zはアリール基（アリール基は
ハロゲン原子，シアノ基，炭素数１〜４のアルキル基，
炭素数１〜４のアルコキシ基，炭素数２〜８のジアルキ
ルアミノ基，炭素数１〜８のアシル基，カルボキシル基
または炭素数１〜８のアルコキシカルボニル基で置換さ
れてもよい），スチリル基（スチリル基はハロゲン原
子，シアノ基，炭素数１〜４のアルキル基，炭素数１〜
４のアルコキシ基，炭素数２〜８のジアルキルアミノ
基，炭素数１〜８のアシル基，カルボキシル基または炭
素数１〜８のアルコキシカルボニル基で置換されてもよ
い）またはR16と置換もしくは無置換のメチレン基，エ
チレン基もしくはプロピレン基を介して環を形成した上
記の置換もしくは無置換のアリール基もしくは上記の置
換もしくは無置換のスチリル基である） を含有してなる光重合性組成物に関する。
第二の発明における光重合性組成物に含まれる付加重
合性化合物は常圧において100℃以上の沸点を有するも
のが用いられる。常圧において沸点が100℃より低いよ
うなものでは系内に含有する溶剤を乾燥等によつて除去
する際または活性光線を照射する際該付加重合性化合物
が揮散して特性上および作業性上好ましくないからであ
る。また該付加重合性化合物は光開始剤等と均一な組成
物にするために，用いられる有機溶剤に可溶なものが好
ましい。
合性化合物は常圧において100℃以上の沸点を有するも
のが用いられる。常圧において沸点が100℃より低いよ
うなものでは系内に含有する溶剤を乾燥等によつて除去
する際または活性光線を照射する際該付加重合性化合物
が揮散して特性上および作業性上好ましくないからであ
る。また該付加重合性化合物は光開始剤等と均一な組成
物にするために，用いられる有機溶剤に可溶なものが好
ましい。
有機溶剤は，例えばアセトン，メチルエチルケトン，
トルエン，クロロホルム，メタノール，エタノール,1,
1,1−トリクロロエタン等が用いられる。
トルエン，クロロホルム，メタノール，エタノール,1,
1,1−トリクロロエタン等が用いられる。
常圧において100℃以上の沸点を有する付加重合性化
合物としては多価アルコールとα，β−不飽和カルボン
酸とを縮合して得られるもの，例えばジエチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート（ジアクリレートまたはジ
メタアクリレートの意味，以下同じ），トリエチレング
リコール（メタ）アクリレート，テトラエチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート，トリメチロールプロパン
ジ（メタ）アクリレート，トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート,1,3−プロパンジオール（メタ）
アクリレート,1,3−ブタンジオール（メタ）アクリレー
ト，ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト，ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレー
ト，ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレー
ト,2,2−ビス（４−アクリロキシジエトキシフエニル）
プロパン,2,2−ビス（４−メタクリロキシペンタエトキ
シフエニル）プロパン等，グリシジル基含有化合物に
α，β−不飽和カルボン酸を付加して得られるもので，
例えばトリメチロールプロパントリグリシジルエーテル
トリ（メタ）アクリレート，ビスフエノールＡジグリシ
ジルエーテルジ（メタ）アクリレート，新中村化学
（株）製商品名BPE−500（2,2−ビス（４−メタクリロ
キシポリエトキシフエニル）プロパンの混合物等，不飽
和アミド例えばメチレンビスアクリルアミド，エチレン
ビスアクリルアミド,1,6−ヘキサメチレンビスアクリル
アミド等，ビニルエステル例えばジビニルサクシネー
ト，ジビニルアジペート，ジピニルフタレート，ジビニ
ルテレフタレート，ジビニルベンゼン−1,3−ジスルホ
ネートなどがあげられる。
合物としては多価アルコールとα，β−不飽和カルボン
酸とを縮合して得られるもの，例えばジエチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート（ジアクリレートまたはジ
メタアクリレートの意味，以下同じ），トリエチレング
リコール（メタ）アクリレート，テトラエチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート，トリメチロールプロパン
ジ（メタ）アクリレート，トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート,1,3−プロパンジオール（メタ）
アクリレート,1,3−ブタンジオール（メタ）アクリレー
ト，ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト，ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレー
ト，ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレー
ト,2,2−ビス（４−アクリロキシジエトキシフエニル）
プロパン,2,2−ビス（４−メタクリロキシペンタエトキ
シフエニル）プロパン等，グリシジル基含有化合物に
α，β−不飽和カルボン酸を付加して得られるもので，
例えばトリメチロールプロパントリグリシジルエーテル
トリ（メタ）アクリレート，ビスフエノールＡジグリシ
ジルエーテルジ（メタ）アクリレート，新中村化学
（株）製商品名BPE−500（2,2−ビス（４−メタクリロ
キシポリエトキシフエニル）プロパンの混合物等，不飽
和アミド例えばメチレンビスアクリルアミド，エチレン
ビスアクリルアミド,1,6−ヘキサメチレンビスアクリル
アミド等，ビニルエステル例えばジビニルサクシネー
ト，ジビニルアジペート，ジピニルフタレート，ジビニ
ルテレフタレート，ジビニルベンゼン−1,3−ジスルホ
ネートなどがあげられる。
この付加重合性化合物は,1種または２種以上が用いら
れる。
れる。
第二の発明においては，第一の発明における光開始剤
に加えて常圧において100℃以上の沸点を有する付加重
合性化合物が用いられる。
に加えて常圧において100℃以上の沸点を有する付加重
合性化合物が用いられる。
第二の発明においては，常圧において100℃以上の沸
点を有する付加重合性化合物100重量部，高分子量有機
重合体を用いる場合には，この付加重合性化合物と高分
子量有機重合体との総量100重量部に対して，上記の式
〔Ｉ〕で表わされるＮ−アリール−α−アミノ酸を0.05
〜20重量部，上記の式〔II〕で表わされる芳香族アミノ
ケトンを0.01〜10重量部の範囲で用いることが好まし
い。
点を有する付加重合性化合物100重量部，高分子量有機
重合体を用いる場合には，この付加重合性化合物と高分
子量有機重合体との総量100重量部に対して，上記の式
〔Ｉ〕で表わされるＮ−アリール−α−アミノ酸を0.05
〜20重量部，上記の式〔II〕で表わされる芳香族アミノ
ケトンを0.01〜10重量部の範囲で用いることが好まし
い。
本発明になる光重合性組成物は，必要に応じて１種類
以上の高分子量有機重合体を含有しても良い。該高分子
量有機重合体は熱可塑性であり，分子量は,10,000〜70
0,000を有するものが好ましい。例えば次のものが用い
られる。
以上の高分子量有機重合体を含有しても良い。該高分子
量有機重合体は熱可塑性であり，分子量は,10,000〜70
0,000を有するものが好ましい。例えば次のものが用い
られる。
（Ａ） コポリエステル 多価アルコール，例えばジエチレングリコール，トリ
エチレングリコール，テトラエチレングリコール，トリ
メチロールプロパン，ネオペンチルグリコール等と多価
カルボン酸，例えばテレフタル酸，イソフタル酸，セバ
シン酸，アジピン酸等とから製造したコポリエステル。
エチレングリコール，テトラエチレングリコール，トリ
メチロールプロパン，ネオペンチルグリコール等と多価
カルボン酸，例えばテレフタル酸，イソフタル酸，セバ
シン酸，アジピン酸等とから製造したコポリエステル。
（Ｂ） ビニルポリマ メタクリル酸，アクリル酸，メタクリル酸またはアク
リル酸のアルキルエステル例えばメチル（メタ）アクリ
レート，エチル（メタ）アクリレート，ブチル（メタ）
アクリレート，β−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
ート，スチレン，ビニルトルエン，ビニルクロライド，
ビニルブチラール等のビニル単量体のホモポリマまたは
コポリマ。
リル酸のアルキルエステル例えばメチル（メタ）アクリ
レート，エチル（メタ）アクリレート，ブチル（メタ）
アクリレート，β−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
ート，スチレン，ビニルトルエン，ビニルクロライド，
ビニルブチラール等のビニル単量体のホモポリマまたは
コポリマ。
（Ｃ） ポリホルムアルデヒド （Ｄ） ポリウレタン （Ｅ） ポリカーボネート （Ｆ） ナイロンまたはポリアミド （Ｇ） セルロースエステル例えばメチルセルロース，
エチルセルロース 光重合性組成物に高分子量有機重合体を加えることに
よつて基体への接着性，耐薬品性，フイルム性等の特性
を改良することができる。この高分子量有機重合体は該
高分子量有機重合体と前記の付加重合性化合物の合計重
量を基準として80重量％以下の範囲とされる。80重量％
を越えるような量を含有する場合は光硬化が十分に進ま
ず好ましくない。
エチルセルロース 光重合性組成物に高分子量有機重合体を加えることに
よつて基体への接着性，耐薬品性，フイルム性等の特性
を改良することができる。この高分子量有機重合体は該
高分子量有機重合体と前記の付加重合性化合物の合計重
量を基準として80重量％以下の範囲とされる。80重量％
を越えるような量を含有する場合は光硬化が十分に進ま
ず好ましくない。
本発明になる光重合性組成物はまた必要に応じて染
料，顔料等の着色物質を含有してもよい。着色物質は公
知のものが用いられ，例えばフクシン，クリスタルバイ
オレツト，メチルオレンジ，ナイルブルー2B,ビクトリ
アピユアブルー，マラカイトグリーン，ナイトグリーン
B,スピロンブルー等がある。
料，顔料等の着色物質を含有してもよい。着色物質は公
知のものが用いられ，例えばフクシン，クリスタルバイ
オレツト，メチルオレンジ，ナイルブルー2B,ビクトリ
アピユアブルー，マラカイトグリーン，ナイトグリーン
B,スピロンブルー等がある。
本発明になる光重合性組成物は保存時の安定性を高め
るためにラジカル重合禁止剤またはラジカル重合抑制剤
を含有してもよい。このようなものとしてはｐ−メトキ
シフエノール，ハイドロキノン，ピロガロール，ナフチ
ルアミン，フエノチアジン，ピリジン，ニトロベンゼ
ン，アリールフオスフアイト等がある。
るためにラジカル重合禁止剤またはラジカル重合抑制剤
を含有してもよい。このようなものとしてはｐ−メトキ
シフエノール，ハイドロキノン，ピロガロール，ナフチ
ルアミン，フエノチアジン，ピリジン，ニトロベンゼ
ン，アリールフオスフアイト等がある。
また，本発明になる光重合性組成物は光重合性組成物
に用いることが知られている他の添加物，例えば可塑
剤，接着促進剤等の添加物を含有してもよい。
に用いることが知られている他の添加物，例えば可塑
剤，接着促進剤等の添加物を含有してもよい。
本発明になる光重合性組成物は支持体上に塗布されて
活性光線に露光されて印刷刷版を製造したり，エツチン
グ又はメツキにより回路を形成するためのホトレジスト
として使用できる。使用される活性光線源は250nm〜550
nmの波長の活性光線を発生するものが用いられる。
活性光線に露光されて印刷刷版を製造したり，エツチン
グ又はメツキにより回路を形成するためのホトレジスト
として使用できる。使用される活性光線源は250nm〜550
nmの波長の活性光線を発生するものが用いられる。
このような光線としてはカーボンアーク灯，水銀灯，
キセノンアーク灯，アルゴングローランプ，アルゴンイ
オンレーザー等がある。支持体としてはポリエチレンフ
イルム，ポリプロピレンフイルム，ポリエチレンテレフ
タレートフイルム等の有機重合体フイルム，銅板，アル
ミニユーム板，鉄板等の金属板，銅はくを表面に張つた
絶縁板（ガラスエポキシ基材，紙エポキシ基材，紙フエ
ノール基材等）などが用いられる。
キセノンアーク灯，アルゴングローランプ，アルゴンイ
オンレーザー等がある。支持体としてはポリエチレンフ
イルム，ポリプロピレンフイルム，ポリエチレンテレフ
タレートフイルム等の有機重合体フイルム，銅板，アル
ミニユーム板，鉄板等の金属板，銅はくを表面に張つた
絶縁板（ガラスエポキシ基材，紙エポキシ基材，紙フエ
ノール基材等）などが用いられる。
（作用） 本発明においては，上記の（３）の成分が光を吸収し
て酸化活性な状態となり上記の（２）の成分と酸化還元
反応を行ない，重合に対し活性なラジカルを有効に発生
することにより高感度の光重合性組成物が得られるもの
と推定される。
て酸化活性な状態となり上記の（２）の成分と酸化還元
反応を行ない，重合に対し活性なラジカルを有効に発生
することにより高感度の光重合性組成物が得られるもの
と推定される。
（発明の効果） 本発明になる光開始剤により可視光に対して高い感度
を有する光重合性組成物が得られる。
を有する光重合性組成物が得られる。
（実施例） 本発明の実施例を説明する。ここで，部，％はそれぞ
れ重量部，重量％を示す。
れ重量部，重量％を示す。
実施例 光重合性組成物の調製 アクリルポリマ（メタクリル酸／メチルメタクリレート
／ブチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレー
ト＝23/51/6/20の重量部比の共重合体，重量平均分子量
約90,000）の40％エチルセロソルブ溶液 120 部 テトラエチレングリコールジアクリレート 25 部 ハイドロキノン 0.04部 光開始剤（表１に示す） ビクトリアピユアブルー 0.8 部 メチルエチルケトン 20 部 上記に示す光重合性組成物の成分を撹拌溶解し,23μ
ｍ厚のポリエチレンテレフタレートフイルム（東レ
（株）社製，商品名「ルミラー」）上にバーコーターを
用いて塗布し100℃の熱風対流式乾燥機で約３分間乾燥
して光重合性エレメントを得た。乾燥した光重合性組成
物層の厚さは30μｍであつた。
／ブチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレー
ト＝23/51/6/20の重量部比の共重合体，重量平均分子量
約90,000）の40％エチルセロソルブ溶液 120 部 テトラエチレングリコールジアクリレート 25 部 ハイドロキノン 0.04部 光開始剤（表１に示す） ビクトリアピユアブルー 0.8 部 メチルエチルケトン 20 部 上記に示す光重合性組成物の成分を撹拌溶解し,23μ
ｍ厚のポリエチレンテレフタレートフイルム（東レ
（株）社製，商品名「ルミラー」）上にバーコーターを
用いて塗布し100℃の熱風対流式乾燥機で約３分間乾燥
して光重合性エレメントを得た。乾燥した光重合性組成
物層の厚さは30μｍであつた。
次にゴムロールで加圧・加熱して積層するラミネータ
ーを用いて清浄な表面を有する1.6mm厚のガラスエポキ
シ銅張積層板上に光重合性組成物層と銅面が接するよう
にゴムロール温度を160℃として光重合性エレメントを
積層した。
ーを用いて清浄な表面を有する1.6mm厚のガラスエポキ
シ銅張積層板上に光重合性組成物層と銅面が接するよう
にゴムロール温度を160℃として光重合性エレメントを
積層した。
積層したサンプルのポリエチレンテレフタレートフイ
ルム上にステツプタブレツト（大日本スクリーン（株）
製，商標グレースケール，光学濃度段差0.15,最小光学
濃度0.05,最大光学濃度3.05,21段差のネガフイルム）を
密着し,3KWの超高圧水銀灯（オーク製作所（株）製，商
標フエニツクス3000）で３秒間露光を行なつた。（株）
オーク製作所「紫外線照度計UV−M01」で420nmに分光感
度極大を有するセンサを使用して測定した照射面での露
光照射強度は21.2mW/cm2,また350nmに分光感度極大を有
するセンサを使用して測定した露光量は6.4mW/cm2であ
つた。その後ポリエチレンテレフタレートフイルムを除
去し30℃,2％Na2CO3水溶液中に40秒間揺動浸漬すること
によつて未硬化部分を溶出させステツプタブレツトの段
数を光重合性組成物の感度とした（段数が多い程度感度
が高い）。表１に感度の比較を示す。
ルム上にステツプタブレツト（大日本スクリーン（株）
製，商標グレースケール，光学濃度段差0.15,最小光学
濃度0.05,最大光学濃度3.05,21段差のネガフイルム）を
密着し,3KWの超高圧水銀灯（オーク製作所（株）製，商
標フエニツクス3000）で３秒間露光を行なつた。（株）
オーク製作所「紫外線照度計UV−M01」で420nmに分光感
度極大を有するセンサを使用して測定した照射面での露
光照射強度は21.2mW/cm2,また350nmに分光感度極大を有
するセンサを使用して測定した露光量は6.4mW/cm2であ
つた。その後ポリエチレンテレフタレートフイルムを除
去し30℃,2％Na2CO3水溶液中に40秒間揺動浸漬すること
によつて未硬化部分を溶出させステツプタブレツトの段
数を光重合性組成物の感度とした（段数が多い程度感度
が高い）。表１に感度の比較を示す。
実施例において，本発明になる光重合性組成物は，可
視光に対し高い感度を有することが示される。
視光に対し高い感度を有することが示される。
Claims (2)
- 【請求項１】（１） 下記式〔Ｉ〕で表わされるＮ−ア
リール−α−アミノ酸 （式中、R1、R2、R3、R4およびR5は水素原子、炭素数１
〜12のアルキル基またはハロゲン原子であり、R6は水素
原子、炭素数１〜12のアルキル基、シクロアルキル基、
炭素数１〜12のヒドロキシアルキル基、炭素数１〜12の
アルコキシアルキル基、炭素数１〜12のアミノアルキル
基またはアリール基であり、R7およびR8は水素原子また
は炭素数１〜８のアルキル基であり、R1、R2、R3、R4、
R5、R6、R7およびR8は同一の場合もある。） および （２） 下記式〔II〕で表わされる芳香族アミノケトン （式中、R9およびR10は炭素数１〜４のアルキル基であ
り、R11、R12、R13およびR14は水素原子、炭素数１〜４
のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロ
ゲン原子であり、R15およびR16は水素原子または炭素数
１〜４のアルキル基であり、Ｚはアリール基（アリール
基はハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜４のアルキル
基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数２〜８のジア
ルキルアミノ基、炭素数１〜８のアシル基、カルボキシ
ル基または炭素数１〜８のアルコキシカルボニル基で置
換されてもよい）、スチリル基（スチリル基はハロゲン
原子、シアノ基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１
〜４のアルコキシ基、炭素数２〜８のジアルキルアミノ
基、炭素数１〜８のアシル基、カルボキシル基または炭
素数１〜８のアルコキシカルボニル基で置換されてもよ
い）またはR16と置換もしくは無置換のメチレン基、エ
チレン基もしくはプロピレン基を介して環を形成した上
記の置換もしくは無置換のアリール基もしくは上記の置
換もしくは無置換のスチリル基である） を含有してなる付加重合性化合物の重合に用いる光重合
開始剤。 - 【請求項２】（１） 常圧において100℃以上の沸点を
有する付加重合性化合物、 （２） 下記式〔Ｉ〕で表わされるＮ−アリール−α−
アミノ酸 （式中、R1、R2、R3、R4およびR5は水素原子、炭素数１
〜12のアルキル基またはハロゲン原子であり、R6は水素
原子、炭素数１〜12のアルキル基、シクロアルキル基、
炭素数１〜12のヒドロキシアルキル基、炭素数１〜12の
アルコキシアルキル基、炭素数１〜12のアミノアルキル
基またはアリール基であり、R7およびR8は水素原子また
は炭素数１〜８のアルキル基であり、R1、R2、R3、R4、
R5、R6、R7およびR8は同一の場合もある。） および （３） 下記式〔II〕で表わされる芳香族アミノケトン （式中、R9およびR10は炭素数１〜４のアルキル基であ
り、R11、R12、R13およびR14は水素原子、炭素数１〜４
のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロ
ゲン原子であり、R15およびR16は水素原子または炭素数
１〜４のアルキル基であり、Ｚはアリール基（アリール
基はハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜４のアルキル
基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数２〜８のジア
ルキルアミノ基、炭素数１〜８のアシル基、カルボキシ
ル基または炭素数１〜８のアルコキシカルボニル基で置
換されてもよい）、スチリル基（スチリル基はハロゲン
原子、シアノ基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１
〜４のアルコキシ基、炭素数２〜８のジアルキルアミノ
基、炭素数１〜８のアシル基、カルボキシル基または炭
素数１〜８のアルコキシカルボニル基で置換されてもよ
い）またはR16と置換もしくは無置換のメチレン基、エ
チレン基もしくはプロピレン基を介して環を形成した上
記の置換もしくは無置換のアリール基もしくは上記の置
換もしくは無置換のスチリル基である） を含有してなる光重合性組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14490287A JP2536528B2 (ja) | 1987-06-10 | 1987-06-10 | 光重合開始剤およびこれを用いた光重合性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14490287A JP2536528B2 (ja) | 1987-06-10 | 1987-06-10 | 光重合開始剤およびこれを用いた光重合性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63309502A JPS63309502A (ja) | 1988-12-16 |
| JP2536528B2 true JP2536528B2 (ja) | 1996-09-18 |
Family
ID=15372966
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14490287A Expired - Lifetime JP2536528B2 (ja) | 1987-06-10 | 1987-06-10 | 光重合開始剤およびこれを用いた光重合性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2536528B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2607094B2 (ja) * | 1987-09-03 | 1997-05-07 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
| JPH01303430A (ja) * | 1988-05-31 | 1989-12-07 | Toyobo Co Ltd | 光重合性組成物 |
| JP2757375B2 (ja) * | 1988-06-02 | 1998-05-25 | 東洋紡績株式会社 | 光重合性組成物 |
| JPH02114266A (ja) * | 1988-10-24 | 1990-04-26 | Toyobo Co Ltd | 光重合性組成物 |
| JPH02294649A (ja) * | 1989-05-09 | 1990-12-05 | Toray Ind Inc | 化学線感応性重合体組成物 |
| US5415976A (en) * | 1991-10-25 | 1995-05-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Aminoketone sensitizers for photopolymer compositions |
| US5455143A (en) * | 1991-10-25 | 1995-10-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Aminoketone sensitizers for aqueous soluble photopolymer compositions |
| JP4651524B2 (ja) * | 2005-07-22 | 2011-03-16 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成材料、並びに、パターン形成装置及びパターン形成方法 |
| JP5063764B2 (ja) * | 2005-07-22 | 2012-10-31 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成材料、並びに、パターン形成装置及びパターン形成方法 |
-
1987
- 1987-06-10 JP JP14490287A patent/JP2536528B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63309502A (ja) | 1988-12-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2757375B2 (ja) | 光重合性組成物 | |
| JP2536594B2 (ja) | 光重合開始剤及びこれを用いた光重合性組成物 | |
| JPH04261544A (ja) | 光重合性記録材料の造像的照射による印刷板またはフォトレジストの製法 | |
| JP2536528B2 (ja) | 光重合開始剤およびこれを用いた光重合性組成物 | |
| JPH0466503B2 (ja) | ||
| JP2551232B2 (ja) | 新規な光開始剤系及びこれを用いた光重合性組成物 | |
| JPH0458802B2 (ja) | ||
| JPS6057832A (ja) | 光重合性組成物 | |
| JPS59229553A (ja) | 光重合性組成物 | |
| JPH0437986B2 (ja) | ||
| JPH0427541B2 (ja) | ||
| JPH06332173A (ja) | 光重合性組成物 | |
| JPH0588244B2 (ja) | ||
| JP2540910B2 (ja) | 光重合性組成物 | |
| JP4230209B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JPH0980750A (ja) | 光重合性組成物 | |
| JPS61144641A (ja) | 光重合性組成物 | |
| JPH06167807A (ja) | 光重合性組成物 | |
| JPH05301910A (ja) | 新規な光開始剤、光開始剤系及びこれを用いた光重合性組成物 | |
| JPH0438345B2 (ja) | ||
| JPH01205153A (ja) | 光重合性組成物 | |
| JPH06332172A (ja) | 光重合性組成物 | |
| JPH1020494A (ja) | 光重合性組成物、それを用いた感光性原版およびその露光方法 | |
| JPH09216907A (ja) | 光重合性組成物およびそれを用いた感光性原版およびその露光方法 | |
| JP2701453B2 (ja) | 光重合性組成物 |