JPH09505578A - エチレン系不飽和化合物 - Google Patents
エチレン系不飽和化合物Info
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- JPH09505578A JPH09505578A JP7514911A JP51491194A JPH09505578A JP H09505578 A JPH09505578 A JP H09505578A JP 7514911 A JP7514911 A JP 7514911A JP 51491194 A JP51491194 A JP 51491194A JP H09505578 A JPH09505578 A JP H09505578A
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Abstract
(57)【要約】
エチレン系不飽和燐酸エステル化合物、特に2−(メタアクリロイルオキシエチル)−2’(トリメチルアンモニウムエチル)ホスフェート分子内塩(HEMA−PC)を製造する改良方法は、ホスホラン試薬をヒドロキシル含有エチレン系不飽和出発材料と反応させる第一段階そしてこの第一段階で生じる中間体をトリメチルアミンと反応させることで開環を起こさせて双性イオン生成物を生じさせる第二段階から成る2段階反応を含む。この方法では、第一段階後に溶媒を実質的に除去することも添加することもなく同じ溶媒中で上記2段階反応を実施する。この溶媒は好適にはアセトニトリルである。高純度の試薬を用いることで、望まれない副生成物が生じないようにする。この生成物は重合で用いるに適切であり、例えば眼用途で用いられる架橋ヒドロゲルコポリマー類を与える。
Description
【発明の詳細な説明】
エチレン系不飽和化合物
本発明は、エチレン系不飽和燐酸エステル化合物を製造する改良方法に関する
。この方法は、細胞表面に類似したポリマー類の製造で用いるに適した重合性モ
ノマー類を製造する方法の一部として用いるに適切である。詳細には、本方法は
2段階反応を伴い、上記段階を有機溶媒の存在下で逐次的に実施する。本発明は
、眼科学用途で特に使用される透明なポリマー製品の製造、例えばコンタクトレ
ンズ製造などで用いることができる改良された生成物を提供する。
最初に公開(J.P.Appl.No.60−21599、高分子論文集(K
obunshi Ronbunshu)1978、35、7、423)された2
−(メタアクリロイルオキシエチル)−2’(トリメチルアンモニウムエチル)
ホスフェート分子内塩(Hema−PC)のルートをスキームIに示す。
ブロモエタノールとオキシ塩化燐から得られるブロモエチルジクロロホスフェ
ート(1)を2−ヒドロキシエチルメタアクリレートで処理すると燐酸ジエステ
ルクロライド(2)が生じる。加水分解で酸類似物(3)が生じ、これをメタノ
ール中でトリメチルアミンと反応させるとホスホリルコリン誘導体(4)が生じ
る。炭酸銀のメタノール溶液を用いると水酸化物塩(5)への転化が生じる。シ
リカゲル使用カラムクロマトグラフィーを用いて生成物(5)の単離が行われて
おり、その収率は全体で5%以下であった。
このように収率全体が低いことに加えて、カラムクロマトグラフィーを用いた
精製は特に規模をより大きくした場合不便で高価であり、そしてこのような方法
で得られる生成物は水和形態で単離されており、この
ような形態はその生成物のある用途では不適当である可能性があり、実際この形
態は、この生成物の単離を容易に行うには不適当であり、その著者が後に容認し
ている点である(Polymer Journal 1990、22、5、35
5)。
Chabrierおよび彼の同僚は、フランス特許出願公開第2,270,8
87号およびBul.Soc.Chim.de France(1974)66
7−671の中で、ホスホリルコリン含有脂質を2段階反応で製造する合成方法
を記述しており、そこでは、その第一段階においてヒドロキシルで置換されてい
る出発材料をハロホスホランと反応させた後、トリアルキルアミンと反応させる
ことで開環を起こさせている。この第一段階はベンゼン、エーテルおよびテトラ
ヒドロフランから選択される有機溶媒中で実施されている。その第二段階はアセ
トンおよびアセトニトリルから選択される非プロトン溶媒中で実施されている。
また、DongおよびButcherも、Tetrahedron Lette
rs(1991)32、5291−5294の中で、ヒドロキシル基含有化合物
とハロホスホランを反応させた後トリメチルアミンを用いた開環を行うことで合
成スフィンゴミエリンを生じさせる反応を用いた。前者の段階はベンゼン中で実
施されており、そして後者の段階はベンゼンとアセトニトリルの混合溶媒中で実
施されている。
また、Nakaya他も、HEMA−PCの製造で、スキーム2に示す如き同
様な2段階反応を記述している。上記方法は特開昭58−154591号、19
83およびMakromol.Chem.、Rapid Commun.、19
82、3、457に記述されており、これは、2−ヒドロキシエチルメタアクリ
レートをクロロホスホラン(6)に連
成させることで中間体(7)を生じさせそしてこれにトリメチルアミノ化を加圧
下で受けさせてジエステル(8)を生じさせることを伴う。
その著者は、上記反応の第一段階でエーテル溶媒、例えばジエチルエーテルお
よびテトラヒドロフランなどを用いることを記述している。上記反応の副生成物
である塩酸トリエチルアミンが上記溶媒から沈澱し、これを濾過で除去すること
により、ホスホラン(7)の溶液を生じさせている。次に、その溶媒を蒸留で除
去し、残存する材料をアセトニトリルに溶解させ、そして濃縮を行った後、トリ
エチルアミンと一緒に加熱すると生成物(8)が生じる。アセトンを用いて(8
)のクロロホルム溶液から沈澱を起こさせることが、その記述されている精製手
段であった。この基本となる化学過程は我々の初期の公開である国際公開WO−
A−92−07885号に記述してある。
我々はここに、上記様式で製造および精製された生成物(8)は特定用途、例
えば医学デバイスを製造または被覆することを意図したコポリマー類の製造など
では、その望まれる純度を有さない可能性があること
を見い出した。詳細には、それは眼科学用途、例えばコンタクトレンズの製造な
どで用いるには不適切であり得る。残存試薬または副生成物の存在は、例えば毒
物学的に不利であることに結び付く可能性があり、そして不溶不純物の存在は、
眼用デバイスの特性、例えば光透過性または膨張性が悪影響を受けることに結び
付く可能性がある。我々は、Hema−ホスホラン誘導体(7)の製造および単
離中にこの化合物自身が不安定な性質を示す結果としておよびクロロホスホラン
(6)中に見分けるのが容易でない不純物が存在していることが理由で副生成物
が生じることを見い出した。また、我々は、上記過程の規模を大きくした実験で
は時として生成物(8)がほとんど生成しないことが起こることを確認した。更
に、この上に記述した方法では反応の最終段階でトリメチルアミンが5倍過剰量
で用いられており、従って加圧反応槽系を用いる必要がある。そのような系を用
いる必要性を回避することができるならばこれは望ましいことである。我々はこ
こに上記問題を克服する新規な方法を考案した。
本発明に従う新規な方法は、
i)式I
Y−B−OH I
[式中、
Bは、直鎖もしくは分枝アルキレン、オキサアルキレンまたはオリゴ−オキサア
ルキレン鎖であり、
Yは、
から選択される重合性エチレン系不飽和基であり、
ここで、
Rは、水素またはC1−C4アルキル基であり、
Aは、−O−または−NR1−(ここで、R1は水素またはC1−C4アルキル基で
あるか、或はR1は−B−Xであり、ここで、BおよびXは上で定義した通りで
ある)であり、
Kは、基−(CH2)pOC(OC)−、−(CH2)pC(O)O−、−(CH2
)pOC(O)O−、−(CH2)pNR2−、−(CH2)pNR2C(O)−、−
(CH2)pC(O)NR2−、−(CH2)pNR2C(O)−、−(CH2)pOC
(O)NR2−、−(CH2)pNR2C(O)NR2−(ここで、基R2は同一もし
くは異なる)、
−(CH2)pO−、−(CH2)pSO3−
または原子価結合であり、そして
pは、1から12であり、そして
R2は、水素またはC1−C4アルキル基である]
で表されるエチレン系不飽和化合物とホスホラン試薬II
[ここで、
各R3は、同一もしくは異なり、HまたはC1-4アルキルであり、
各R4は、同一もしくは異なり、HまたはC1-4アルキルであり、
Halは、ハロゲン原子である]
を反応させることで式III
[式中、Y、B、R3およびR4は、上で定義した通りである]
で表される生成物であるジエステル化合物とハロゲン化水素副生成物を生じさせ
るが、この反応を該エチレン系不飽和試薬および該ホスホラン試薬が溶解する第
一溶媒の存在下で実施しそして該ハロゲン化水素副生成物を該生成物混合物から
除去する第一段階、および
ii)該ジエステル化合物IIIを第二溶媒の存在下で反応させる第二段階、
を含み、この方法は、該第二溶媒に該第一溶媒および該第一段階で得られる該化
合物IIIを含む生成物混合物を含めそしてこの溶媒を第二段階で該化合物II
Iの単離を行うことなくそして該第一溶媒を該生成物混合物から実質的に除去す
ることなく直接用いることを特徴とする。
好適なエチレン系不飽和化合物は一般式IAまたはIB
[式中、R、A、BおよびKは、式(I)の言及で定義した通りである]
で表される化合物である。化合物IAが好適である。
Rは、好適には水素、メチルまたはエチル、より好適にはメチルであり、その
結果として、式IAで表されるモノマーはアクリル酸、メタアクリル酸またはメ
タアクリル酸誘導体である。
式IBで表される化合物において、Kが原子価結合でBが基であってもよいか
、Kが基でBが原子価結合であってもよいか、KとBの両方が基であってもよい
か、或はKとBが一緒に原子価結合であってもよい。好適には、Bが基でKが原
子価結合である。Kが基である場合、pは好適には1から6、より好適には1、
2または3であり、pは最も好適には1である。Kが基−(CH2)pNR2−、
−(CH2)pNR2C(O)−、−(CH2)pPC(O)NR2−、−(CH2)p
NR2C(O)O−、−(CH2)pOCNR2−、または−(CH2)pNR2C(
O)NR2−である場合、R2は好適には水素、メチルまたはエチル、より好適に
は水素である。
好適には、Bは
式−(CR3 2)a−(式中、基−(CR3 2)−は同一もしくは異なり、そして各
基−(CR3 2)−中の基R3は同一もしくは異なり、そして各基R3は水素または
C1-4アルキル、好適には水素であり、そしてaは1から12、好適には1から
6である)で表されるアルキレン基であるか、或は
オキサアルキレン基、例えば各アルキル部分中に炭素原子を1から6個有するア
ルコキシアルキルなど、より好適には−CH2O(CH2)4−
であるか、或は
式−[(CR4 2)bO]c(CR4 2)b−(式中、基−(CR4 2)−は同一もし
くは異なり、そして各基−(CR4 2)−中の基R4は同一もしくは異なり、そし
て各基R4は水素またはC1-4アルキル、好適には水素であり、そしてbは2また
は3でありそしてcは2から11、好適には2から5である)で表されるオリゴ
−オキサアルキレン基であるか、或は
Yが末端炭素原子を含む場合のみであるが原子価結合である。
好適な基Bには、原子価結合および12個以下の炭素原子を有するアルキレン
、オキサアルキレンおよびオリゴ−オキサアルキレン基が含まれる。Bは最も好
適には基−(CH2)a’−(ここで、a’は2から4である)である.
本発明の方法では、好適には、第一段階のハロゲン化水素副生成物を有機塩基
、好適にはトリアルキルアミンと反応させることでこのトリアルキルアミンのハ
ロゲン化水素塩(これは、これが生じるにつれて生成物混合物から沈澱して来る
)を生じさせることで、このハロゲン化水素副生成物を除去する。このハロゲン
化水素塩は例えば濾過で除去可能である。
第一段階後に上記ハロゲン化水素塩と一緒に第一溶媒が少量除去される可能性
があるが、好適には、第二段階の前に溶媒のさらなる除去を行わない。
ある場合には、第二段階の前に、化合物IIIが入っている溶液に追加的溶媒
を添加するのが望ましい可能性がある。例えば、同じ溶媒か或は適合し得る別の
種類の溶媒を追加的分量で添加することも可能である。
しかしながら、通常、この第二段階では溶媒のさらなる添加を行う必要はない。
本発明の方法において、ホスホラン試薬II中のR3およびR4は好適には各々
水素である。この化合物II中のハロゲン原子は好適には塩素であるが、他のハ
ロゲン化物も使用可能である。上記ハロゲン化水素副生成物をトリアルキルアミ
ンと反応させてこの副生成物を除去する場合、このトリアルキルアミンは好適に
はトリエチルアミンである。
好適なホスホラン出発材料は市販化合物である。我々は、この化合物の純度が
本方法全体にとって非常に重要であることを見い出した。純度が低いホスホラン
を用いると、中間体であるジエステル化合物が不安定になる可能性があり、そし
てこの中間体が時期尚早に重合し得るか、或はある場合には着色が生じる可能性
があり、従って眼科学最終使用に不適切になり得るか、或は結果として最終生成
物が予測不能な重合速度を示すことになり得る。我々は、この反応に悪影響を与
え得る不純物がホスホラン出発材料の中に存在する理由は例えば貯蔵中にこの化
合物が水分と接触することによるものであろうと考える。本発明者らは、水分に
接触する結果として生じ得るポリ燐酸塩種の同定が可能なことから31P核磁気共
鳴分光測定法が上記材料の分析を行うに最も適切な方法であることを確認した。
本発明者らは、研究の過程で、式IIIで表される中間体生成物は室温で水と
迅速に(10分以内に)反応して数多くの生成物を生じることを見い出した。基
Y−Bが2−ヒドロキシエチルメタアクリレート化合物の残基である場合、この
副反応の副生成物には2−ヒドロキシエチルメタアクリレートと開環したヒドロ
キシエチル燐酸ジエステルが含まれ
る。この化合物が存在していると、結果として、例えば式IIIで表される化合
物のホスホラン環による望まれない重合が始まる可能性があると考える。
本方法において、31P NMRで少なくとも90%、より好適には少なくとも
95%、例えば少なくとも99%の純度を示す式IIのホスホラン試薬を出発材
料として用いると、この上に記述した如き副反応が最小限になる。これは、31P
NMR図形が主として単一ピークから成りそしてそれより高いppm値および
低いppm値の所にピークを示す材料の量が少ないか或は僅かのみであることを
意味する。
式IIで表されるホスホラン試薬または式IIIで表されるジエステル中間体
と水分が接触する可能性を最小限にするには、この溶媒の水分含有量を最小限に
保つ必要がある。例えば、この溶媒の水含有量は、好適には0.1重量%未満、
より好適には0.05重量%未満、最も好適には0.01重量%未満でなければ
ならない。
更に、本発明者らは、式IIIで表されるジエステル中間体が熱に不安定であ
ることを確認した。第一段階と第二段階で異なる溶媒を用いる通常方法では、そ
の中間体IIIを第一溶媒から回収する必要がある。そのような方法における回
収はロータリーエバポレーターを用いて行われている。しかしながら、本発明者
らは、その中間体が時おり「暴走」反応を受けて完全にゲル化することで(エチ
レン系不飽和基および/またはホスフェート基が重合することにより)最終生成
物全体が失われることを見い出した。これは特にこの反応を実験室規模からパイ
ロットプラント規模にする時に問題になる。ゲル化が部分的に起こることでも不
溶な不純物が生じ、この不純物の除去は困難なことからその生成物が汚
染され、その結果として不均一な生成物がもたらされる。特に上記中間体が高濃
度形態である場合、そのような中間体回収段階を回避すると、その中間体が熱に
さらされなくなる。また、この生成物の不純物レベルも低くなり、第二段階の生
成物混合物からの回収が容易になることを確認した。
本発明の方法では、この方法の第二段階に開環アミノ化反応を含めるのが特に
望ましく、ここでは、式IIIで表される化合物とトリアルキルアミン(NR5 3
)を上記溶媒中で反応させることで式IV
[式中、
各基R5は、C1-24−アルキル基であり、そしてY、B、R3およびR4は各々上
で定義した通りである]
で表される化合物を生じさせる。
基R5は、同一もしくは異なっていてもよく、C1-24−、好適にはC1-12−ア
ルキルであってもよく、より好適には基R5の少なくとも2つがメチル基である
。
化合物IVは重合性化合物である、即ちこれのエチレン系不飽和基は、通常、
共重合性のエチレン系不飽和コモノマー類の存在下でラジカル開始付加重合を受
け得る。
本方法の第二段階では、好適にはトリメチルアミンであるトリアルキルアミン
を一般に過剰量で用いる。3倍または2倍以上の過剰量で用いる必要はなく、そ
して上記アミンが気体状である場合、加圧反応槽系を
用いる必要性を回避するように、より低い量で用いるのが好適である。約1.5
倍の過剰量(即ち化合物IIIの実際量または理論量と反応する化学量論的量の
1.5倍)が便利であることを確認した。
本発明の方法において、第一段階でニトリル溶媒を用いると、そのような段階
でエーテル溶媒が用いられている従来技術に比べて数多くの理由で改良が得られ
る。1番目として、従来技術に記述されているエーテル溶媒の2つの例であるジ
エチルエーテルおよびテトラヒドロフランはパーオキサイドを生じることが知ら
れており、これらは潜在的に爆発性があることに加えてまたジエステル中間体ま
たは最終生成物のヒドロパーオキサイド化を助長する可能性がある。上記材料は
両方とも不安定になる可能性があり(例えば時期尚早に重合を起こす可能性があ
り)そして/または例えば開始剤として働くことで共重合中の反応速度を高める
可能性がある。更に、ニトリル類はエーテル溶媒に比べて使用における有害さが
低くそして安価である傾向がある。アセトニトリルの場合パーオキサイド生成は
起こらず、その結果として、中間体であるジエステルが比較的安定になる。
本方法における溶媒は好適にはC1-16−カルボン酸のニトリル誘導体である。
最も容易に入手可能で適切な溶媒はアセトニトリルである。本発明者らは、従来
技術の方法においてそれの第二段階で用いられていたアセトニトリルを、上で定
義したように比較的高い純度を有するホスホラン試薬IIを用いることを条件と
して、第一段階でも使用できることを見い出した。さもなくば反応で副反応が起
こる。
一般的には最終生成物混合物から式IVの双性イオン生成物を固体として回収
する。本発明者らは、生成する双性イオン生成物の結晶が非常
に小さくなるような速度で第二段階の反応が起こる傾向があることを見い出した
。その結果として、特に分離が濾過段階を伴う場合、これらをその生成物混合物
から分離するのが困難になる。その生成物のフィルターケーキを、濾過段階中、
空気および水分との接触から保護するのは困難であるが、保護しないと空気と水
分が生成物の中に吸収されてこれを汚染する可能性があり、そして恐らくは副反
応が起こる原因となり得る。本発明者らは、第二段階の生成物混合物に特別な回
収手順を受けさせることによってそのような困難さを最小限にすることができる
ことを見い出した。
この回収手順では、該式IVで表される生成物である双性イオン化合物が全部
該溶媒中で溶液の状態である温度に該生成物混合物を加熱(または保持)した後
、好適には密封容器内か、或は不活性ガスで浄化した後の容器内で、少なくとも
1時間、好適には2−16時間かけて冷却して周囲温度に到達させ、そして次に
、更に−20から−5℃の範囲の温度、好適には約−5℃に冷却し、この温度で
これを少なくとも1時間、例えば1−24時間の範囲、例えば約16時間貯蔵す
るのが好適である。この双性イオン生成物が完全に溶解する温度、例えば60℃
以上、例えば70−80℃から最終の低温にまで冷却する速度を、平均で好適に
は1時間当たり少なくとも10℃、より好適には1時間当たり少なくとも15℃
にする。次に、好適にはこの混合物を温めて周囲温度にした後、その生成物懸濁
液から固体を濾過で回収する。
この最終双性イオン生成物の濾過を不活性雰囲気中で実施するのが好適である
。即ち、この生成物のフィルターケーキの中をその液体が全部通った後にそのフ
ィルターケーキの中を通す如何なる気体も不活性雰囲
気にする。この気体の水分含有量を好適には100ppm未満、より好適には1
0ppm未満、例えば1ppm未満にする。
その後、好適には乾燥させた非溶媒液を用いて上記フィルターケーキを洗浄す
る。例えば、各々の水分含有量が0.1%未満、より好適には0.01%未満の
冷アセトニトリルおよび/または酢酸エチルを用いて上記固体を洗浄することが
できる。
その後、さらなる再結晶化を、例えば乾燥アセトニトリルを用いて(或はこの
溶媒として他の溶媒を用いて)、最初に行った生成物混合物からの双性イオン生
成物回収と同様な条件下で行うことで、この固体の精製を行ってもよい。好適に
は、この生成物混合物の溶媒に入っているか或はこの生成物の再結晶化を起こさ
せるべき溶液の溶媒に入っている双性イオン生成物の溶液に熱濾過段階を受けさ
せることで、この生成物から不溶の不純物または副生成物を除去する。本方法で
記述した冷却手順を用いると、生じる生成物の結晶がより大きくなり、このこと
から濾過段階が容易になり、かつ水分が入っている可能性がある気体に上記固体
がさらされる機会が最小限になる。
本発明で2−ヒドロキシエチルメタアクリレートをエチレン系不飽和出発材料
Iとして用いる場合に適切な反応条件は下記の通りである。
不活性雰囲気下、例えば乾燥窒素雰囲気下で、2−ヒドロキシエチルメタアク
リレートと適切な非求核性有機塩基、例えばトリアルキルアミン、好適にはトリ
エチルアミンなどを乾燥アセトニトリル中で混合した後、−70℃から0℃、好
適には−10℃−−5℃の範囲の温度に冷却し、そして次に、乾燥アセトニトリ
ルに入れた化合物II、好適には2−クロロ−2−オキソ−1,3,2−ジオキ
サホスホランの溶液を反応
温度が−5℃−0℃より高くならないような割合で滴下することにより、これの
処理を行う。この滴下後の反応混合物を温めて0−5℃にして0.2−3時間、
好適には1時間撹拌する。例えば、ぜん動ポンプおよび濾過棒を用いて中間体I
IIが入っている溶液をその反応槽からポンプ輸送して塩酸トリエチルアミンの
沈澱物を後に残すことなどで、濾過を不活性雰囲気下で行うことにより、この沈
澱物を除去する。このIIIが入っているアセトニトリル溶液を反応槽の中に直
接輸送し、この反応槽の中で第二段階のトリメチルアミノ化反応を起こさせる。
この段階におけるアセトニトリルと中間体IIIの比率を好適には約6:1にす
るが、より高い(10:1)または低い(1:1)比率も使用可能である。
不活性ガスで浄化した後、この溶液を乾燥アセトニトリル中のトリメチルアミ
ン混合物(1−5当量、好適には1−2当量)と一緒に50℃に5−24時間、
好適には12−16時間加熱する。
次に、この期間が終了した時点で、低真空をかけることで如何なる過剰量のト
リメチルアミンも除去した後、その溶液を活性炭または他の適切な脱色用材料で
処理し、撹拌しながら20−80℃、好適には70−80℃の温度に0.2−2
時間、好適には0.2−0.5時間温める。次に、濾過助剤、例えばCelit
e(商標)などに通して上記混合物を濾過するか、或はぜん動ポンプおよび濾過
棒を用い、そして望まれるならばインラインフィルターを用いて、この混合物を
晶析槽にポンプ輸送する。
次に、密封容器内で1−24時間、好適には3時間かけてその濾液を周囲温度
に冷却した後、−20℃−−5℃、好適には−5℃で1−24時間、好適には1
6時間貯蔵する。
この混合物を温めて周囲温度にした後、不活性雰囲気下で濾過を行う。その固
体を乾燥ニトリルおよび乾燥酢酸エチルで洗浄する。次に、この生成物を真空中
で乾燥させると、自由流れする白色固体が得られる。
このような段階を用いると高純度のモノマーを単離することが可能になり、そ
してその後望まれるならば、この上に記述した条件と同様な条件下で乾燥アセト
ニトリルを用いて再結晶を行うことにより、これのさらなる精製を行ってもよい
。
薄層クロマトグラフィー(TLC)、高性能液クロ(HPLC)、核磁気共鳴
(NMR)および元素ミクロ分析を含む標準技術を用いて上記材料を分析した結
果、高レベルの純度であることが示された。溶解度評価および色分析により、こ
の単離した材料は特に眼用途で用いるに適切であることが示された。例えば、我
々の初期の公開である国際特許出願WO−A−9305081、WO−A−92
07885およびWO−A−9301221(これらの開示は引用することによ
って本明細書に組み入れられる)の中に記述した方法で上記モノマーを反応、例
えば重合させて使用することができる。
以下に示す実施例を用いて本発明の説明を行う。実施例1
2−(メタアクリロイルオキシエチル)−2’−(トリメチルアンモニウム)エ
チルホスフェート分子内塩(Hema−PC)の製造
31P NMRによる純度が95%以上である2−クロロ−2−オキソ−1,3
,2−ジオキサホスホラン(47.68g、0.335モル)を乾燥アセトニト
リル(100mL)に入れ、これを、−10℃の乾燥アセトニトリル(650m
L)に入れた2−ヒドロキシエチルメタアク
リレート(43.54g、0.335モル)とトリエチルアミン(38.21g
、0.378モル)の撹拌溶液に0.5時間かけて滴下した。この滴下が終了し
た時点で、この撹拌している反応混合物を1.0時間かけて0℃に温め、窒素雰
囲気下で濾過し、沈澱して来た塩酸トリエチルアミンを乾燥アセトニトリル(5
0mL)で洗浄することにより、アセトニトリル中の環状ホスホラン溶液から成
る濾液を得た。
1H−NMR(200MHz)(CDCl3):δ6.19(1H,s)、5.6
1(1H,m)、4.49−4.34(8H,多重線)、1.96(3H,s)p
pm。
このホスホラン溶液を、乾燥アセトニトリル(300mL)に入れたトリメチ
ルアミン(29.56g、0.501モル)の冷溶液に加え、乾燥窒素で浄化し
た後、密封した二酸化炭素固体/アセトンのコンデンサ下で撹拌しながら50℃
に16時間加熱した。過剰量のトリメチルアミンを真空下で除去し、その溶液を
温めて75℃にし、活性炭(3.0g)で処理して0.25時間撹拌した後、窒
素雰囲気下でCelite(商標)パッドに通して濾過した。この濾液を濃縮(
アセトニトリルを約50mL除去)した後、室温で生成物が溶液から3時間かけ
て結晶化して析出して来た。この材料を−20℃で16時間貯蔵した後、20℃
に温めた。
この結晶性生成物を窒素雰囲気下で濾過し、逐次的に乾燥冷アセトニトリル(
50mL)および乾燥酢酸エチル(50mL)で洗浄した後、真空下室温で乾燥
させた。乾燥アセトニトリルから再結晶化させることにより、2−(メタアクリ
ロイルオキシエチル)−2’−(トリメチルアンモニウムエチル)ホスフェート
分子内塩を吸湿性のある白色粉末と
して得た。実施例2
2−(メタアクリロイルオキシエチル)−2’−(トリメチルアンモニウムエチ
ル)ホスフェート分子内塩の大規模製造
乾燥窒素雰囲気下、乾燥アセトニトリル(3.5リットル)に入れた2−ヒド
ロキシエチルメタアクリレート(0.42kg、3.23モル)とトリエチルア
ミン(0.38kg、3.76モル)の溶液を−15℃から−10℃の範囲の温
度に冷却した。次に、温度が0℃より高くならないような割合で、乾燥アセトニ
トリル(0.9リットル)中の2−クロロ−2−オキソ−1,3,2−ジオキサ
ホスホラン(0.48kg、3.37モル)溶液を加えた。次に、この混合物を
−10℃から0℃の範囲の温度で2.5時間撹拌した。沈澱して来た塩酸トリエ
チルアミンを不活性雰囲気下で濾過して除去した後、この連成中間体の溶液をト
リメチルアミン(0.28kg、4.75モル)で18時間60℃で処理した。
次に、過剰量のトリメチルアミンを真空下で除去し、その溶液を濾過した後、
−20℃に16時間放置した。沈澱して来た固体をアルゴン雰囲気下で濾過し、
そのフィルターケーキをアセトニトリル(0.5リットル)に続いて酢酸エチル
(1リットル)で洗浄した。次に、この固体状材料を真空下で乾燥させた。
この粗生成物を乾燥アセトニトリルに溶解させ(1g/5mL)、その熱溶液
を濾過した後、その濾液を−20℃に16時間放置した。この混合物を温めて0
℃にした後、アルゴン雰囲気下で濾過した。この固体を乾燥冷アセトニトリル(
0.5リットル)に続いて乾燥酢酸エチル(1
リットル)で洗浄した後、真空下で乾燥させることにより、表題の化合物を白色
粉末として得た。逆相HPLCで測定してこの材料の純度は98%以上であった
。
【手続補正書】特許法第184条の8
【提出日】1995年12月22日
【補正内容】
分含有量を最小限に保つ必要がある。例えば、この溶媒の水含有量は、好適には
0.1重量%未満、より好適には0.05重量%未満、最も好適には0.01重
量%未満でなければならない。
更に、本発明者らは、式IIIで表されるジエステル中間体が熱に不安定であ
ることを確認した。第一段階と第二段階で異なる溶媒を用いる通常方法では、そ
の中間体IIIを第一溶媒から回収する必要がある。そのような方法における回
収はロータリーエバポレーターを用いて行われている。しかしながら、本発明者
らは、その中間体が時おり「暴走」反応を受けて完全にゲル化することで(エチ
レン系不飽和基および/またはホスフェート基が重合することにより)最終生成
物全体が失われることを見い出した。これは特にこの反応を実験室規模からパイ
ロットプラント規模にする時に問題になる。ゲル化が部分的に起こることでも不
溶な不純物が生じ、この不純物の除去は困難なことからその生成物が汚染され、
その結果として不均一な生成物がもたらされる。特に上記中間体が高濃度形態で
ある場合、そのような中間体回収段階を回避すると、その中間体が熱にさらされ
なくなる。また、この生成物の不純物レベルも低くなり、第二段階の生成物混合
物からの回収が容易になることを確認した。
本発明の方法では、この方法の第二段階に開環アミノ化反応を含めるのが特に
望ましく、ここでは、式IIIで表される化合物とトリアルキルアミン(NR5 3
)を上記溶媒中で反応させることで式IV
[式中、
各基R5は、C1-24−アルキル基であり、そしてY、B、R3およびR4は各々上
で定義した通りである]
で表される化合物を生じさせる。
基R5は、同一もしくは異なっていてもよく、C1-24−、好適にはC1-12−ア
ルキル、好ましくは低級アルキルであってもよく、より好適には基R5の少なく
とも2つがメチル基である。
請求の範囲
1. 下記の段階:
i)式I
Y−B−OH I
[式中、
Bは、式−(CR3 2)a−(式中、基−(CR3 2)−は同一もしくは異なり、そ
して各基−(CR3 2)−中の基R3は同一もしくは異なり、そして各基R3は水素
またはC1-4アルキルであり、そしてaは1から12である)で表されるアルキ
レン基であるか、或は
各アルキル部分中に炭素原子を1から6個有するアルコキシアルキル基であるか
、或は
式−[(CR4 2)bO]c(CR4 2)b−(式中、基−(CR4 2)は同一もしくは
異なり、そして各基−(CR4 2)一中の基R4は同一もしくは異なり、そして各
基R4は水素またはC1-4アルキルであり、そしてbは2または3でありそしてc
は2から11である)で表されるオリゴ−オキサアルキレン基であり、
Yは、
から選択される重合性エチレン系不飽和基であり、
ここで、
Rは、水素またはC1−C4アルキル基であり、
Aは、−O−または−NR1−(ここで、R1は水素またはC1−C4アル
キル基であるか、或はR1は基−B−OHである)であり、
Kは、原子価結合または基−(CH2)pOC(O)C−、−(CH2)pC(O)
O−、−(CH2)pOC(O)O−、−(CH2)pNR2−、−(CH2)pNR2
C(O)−、−(CH2)pC(O)NR2−、(CH2)pNR2C(O)−、−(
CH2)pOC(O)NR2−、−(CH2)pNR2C(O)NR2−(ここで、基
R2は同一もしくは異なる)、
−(CH2)pO−、−(CH2)pSO3−、
であり、
pは、1から12であり、そして
R2は、水素またはC1−C4アルキル基である]
で表されるエチレン系不飽和化合物とホスホラン試薬II
[ここで、
各R3は、同一もしくは異なり、HまたはC1-4アルキルであり、
各R4は、同一もしくは異なり、HまたはC1-4アルキルであり、
Halは、ハロゲン原子である]
を反応させることで式III
[式中、Y、B、R3およびR4は、上で定義した通りである]
で表される生成物であるジエステル化合物とハロゲン化水素副生成物を生じさせ
るが、この反応を該エチレン系不飽和試薬および該ホスホラン試薬が溶解する第
一溶媒の存在下で実施しそして該ハロゲン化水素副生成物を該生成物混合物から
除去する第一段階、ならびに
ii)該式IIIで表される化合物とトリアルキルアミン試薬(N(R5
)3)を反応させることで式IV
[式中、
各基R5は、同一もしくは異なり、C1-24アルキル基であり、そしてY、B、R3
およびR4は各々上で定義した通りである]
で表される化合物を生じさせる開環アミノ化反応である第二段階、
を含んでなり、該第二段階において、該第一溶媒を実質的に全部含む第二溶媒お
よび該第一段階で得られる該ジエステル化合物IIIを含む生成物混合物の存在
下で該ジエステル化合物IIIを反応させ、そして上記第一溶媒のいずれも実質
的に除去しないでこの溶媒を第二段階で直接用い、そしてここで上記第一溶媒が
C1-6−カルボン酸のニトリル誘導体であることを特徴とする方法。
2. 該第一溶媒がアセトニトリルである請求の範囲第1項記載の方法。
3. 該エチレン系不飽和化合物Iを一般式IA
[式中、
Rは、水素、メチルまたはエチル、好適にはメチルであり、
Aは、−O−であり、そして
Bは、請求の範囲第1項で定義した通りであり、好適には、−(CR3 2)a−(
ここで、各R3は水素でありそしてaは2から4の範囲である)である]
で表される化合物から選択する前請求の範囲項いずれか記載の方法。
4. 該ホスホラン試薬II中のR3およびR4が好適には各々水素である前請
求の範囲項いずれか記載の方法。
5. 31P NMRで少なくとも90%、より好適には少なくとも95%、例
えば少なくとも99%の純度を有する式IIのホスホラン試薬を出発材料として
用いる前請求の範囲項いずれか記載の方法。
6. 該第一溶媒および第二溶媒の水含有量が0.1重量%未満、好適には0
.01重量%未満である前請求の範囲項いずれか記載の方法。
7. 基R5の少なくとも2つがメチルであり、好適には基R5が全部メチルで
ある前請求の範囲項いずれか記載の方法。
8. 該第二段階の反応混合物中に該トリアルキルアミン試薬をこれが該式I
IIで表される化合物と反応するための化学量論的量の1から2倍の範囲の量で
存在させる前請求の範囲項いずれか記載の方法。
9. 該式IVで表される生成物である双性イオン化合物が全部該溶
媒中で溶液の状態である温度に該IV含有生成物混合物を加熱(または保持)し
た後、好適には密封容器内か、或は不活性ガスで浄化した後の容器内で、少なく
とも1時間、好適には2−16時間かけて冷却して周囲温度に到達させ、そして
次に、更に−20から−5℃の範囲の温度、好適には約−5℃に冷却し、この温
度でこれを少なくとも1時間、例えば1−24時間の範囲、例えば約16時間貯
蔵する前請求の範囲項いずれか記載の方法。
10. 該生成物IVの固体をその生成物懸濁液から濾過で取り出す前請求の
範囲項いずれか記載の方法。
11. 好適には、フィルターケーキの中に通す如何なる気体の水分含有量も
100ppm未満、好適には1ppm未満になるように、該濾過を不活性雰囲気
中で実施する請求の範囲第10項記載の方法。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 ジヤクソン,デボラ・ジエーン
イギリス・ミドルセツクス ユービー8
3ピーキユー・アクスブリツジ・キングス
トンレイン・ブルネルサイエンスパーク
(番地なし)・バイオコンパテイブルズリ
ミテツド内
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1. 下記の段階: i)式I Y−B−OH I [式中、 Bは、直鎖もしくは分枝アルキレン、オキサアルキレンまたはオリゴ−オキサア ルキレン鎖であり、 Yは、 から選択される重合性エチレン系不飽和基であり、 ここで、 Rは、水素またはC1−C4アルキル基であり、 Aは、−O−または−NR1−(ここで、R1は水素またはC1−C4アルキル基で あるか、或はR1は基−B−OHである)であり、 Kは、原子価結合または基−(CH2)pOC(OC)−、−(CH2)pC(O) O−、−(CH2)pOC(O)O−、−(CH2)pNR2−、−(CH2)pNR2 C(O)−、−(CH2)pC(O)NR2−、(CH2)pNR2C(O)−、−( CH2)pOC(O)NR2−、−(CH2)pNR2C(O)NR2−(ここで、基 R2は同一もしくは異なる)、 −(CH2)pO−、−(CH2)pSO3− であり、 pは、1から12であり、そして R2は、水素またはC1−C4アルキル基である] で表されるエチレン系不飽和化合物とホスホラン試薬II [ここで、 各R3は、同一もしくは異なり、HまたはC1-4アルキルであり、 各R4は、同一もしくは異なり、HまたはC1-4アルキルであり、 Halは、ハロゲン原子である] を反応させることで式III [式中、Y、B、R3およびR4は、上で定義した通りである] で表される生成物であるジエステル化合物とハロゲン化水素副生成物を生じさせ るが、この反応を該エチレン系不飽和試薬および該ホスホラン試薬が溶解する第 一溶媒の存在下で実施しそして該ハロゲン化水素副生成物を該生成物混合物から 除去する第一段階、ならびに ii)該第一溶媒を実質的に全部含む第二溶媒および該第一段階で得ら れる該ジエステル化合物IIIを含む生成物混合物の存在下で該ジエステル化合 物IIIを反応させる第二段階、 を含んでなり、ここで、上記第一溶媒のいずれも実質的に除去しないで この溶媒を第二段階で直接用いることを特徴とする方法。 2. 該第一溶媒がC1-6−カルボン酸のニトリル誘導体、好適にはアセトニ トリルである請求の範囲第1項記載の方法。 3. 該エチレン系不飽和化合物Iを一般式IA [式中、 Rは、水素、メチルまたはエチル、好適にはメチルであり、 Aは、−O−であり、そして Bは、 式−(CR3 2)a−(式中、基−(CR3 2)−は同一もしくは異なり、そして各 基−(CR3 2)−中の基R3は同一もしくは異なり、そして各基R3は水素または C1-4アルキル、好適には水素であり、そしてaは1から12、好適には1から 6である)で表されるアルキレン基であるか、或は オキサアルキレン基、例えば各アルキル部分中に炭素原子を1から6個有するア ルコキシアルキルなど、より好適には−CH2O(CH2)4−であるか、或は 式−[(CR4 2)bO]c(CR4 2)b−(式中、基−(CR4 2)は同一もしく は異なり、そして各基−(CR4 2)−中の基R4は同一もしくは異なり、そして 各基R4は水素またはC1-4アルキル、好適には水素であり、そしてbは2または 3でありそしてcは2から11、好適には2 から5である)で表されるオリゴ−オキサアルキレン基であり、好適には、Bは (−CH2−)a’(ここで、a’は2から4である)である] で表される化合物から選択する前請求の範囲項いずれか記載の方法。 4. 該ホスホラン試薬II中のR3およびR4が好適には各々水素である前請 求の範囲項いずれか記載の方法。 5. 31P NMRで少なくとも90%、より好適には少なくとも95%、例 えば少なくとも99%の純度を有する式IIのホスホラン試薬を出発材料として 用いる前請求の範囲項いずれか記載の方法。 6. 該第一溶媒および第二溶媒の水含有量が0.1重量%未満、好適には0 .01重量%未満である前請求の範囲項いずれか記載の方法。 7. 該方法の第二段階が開環アミノ化反応を含み、ここで、式IIIで表さ れる化合物とトリアルキルアミン試薬(N(R5)3)を反応させることで式IV [式中、 各基R5は、同一もしくは異なり、C1-24、好適にはC1-12−アルキル、より好 適には低級アルキル基であり、最も好適には各R5がメチルであり、そしてY、 B、R3およびR4は各々請求の範囲第1、3または4項で定義した通りである] で表される化合物を生じさせる前請求の範囲項いずれか記載の方法。 8. 該第二段階の反応混合物中に該トリアルキルアミン試薬をこれ が該式IIIで表される化合物と反応するための化学量論的量の1から2倍の範 囲の量で存在させる請求の範囲第7項記載の方法。 9. 該式IVで表される生成物である双性イオン化合物が全部該溶媒中で溶 液の状態である温度に該IV含有生成物混合物を加熱(または保持)した後、好 適には密封容器内か、或は不活性ガスで浄化した後の容器内で、少なくとも1時 間、好適には2−16時間かけて冷却して周囲温度に到達させ、そして次に、更 に−20から−5℃の範囲の温度、好適には約−5℃に冷却し、この温度でこれ を少なくとも1時間、例えば1−24時間の範囲、例えば約16時間貯蔵する請 求の範囲第7または8項記載の方法。 10. 該生成物IVの固体をその生成物懸濁液から濾過で取り出す請求の範 囲第7から9項いずれか記載の方法。 11. 好適には、フィルターケーキの中に通す如何なる気体の水分含有量も 100ppm未満、好適には1ppm未満になるように、該濾過を不活性雰囲気 中で実施する請求の範囲第10項記載の方法。
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