JPH09323960A - ３−アミノ−１，２−オキシランの製造方法 - Google Patents
３−アミノ−１，２−オキシランの製造方法Info
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Landscapes
- Epoxy Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ３−アミノ−１，２−オキシランの工業的な
製造方法を提供する。 【構成】 Ｎ−保護された３−アミノ−１，２−ジオー
ルを酸触媒下、オルト酢酸エステル又はオルト蟻酸エス
テルと反応させてアルコキシエチリデン体に誘導後、ハ
ロゲン化剤を作用させて２−アルコキシ−３−アミノ−
１−ハロゲン化物に変換し、これを塩基処理して目的と
する３−アミノ−１，２−オキシランを合成する方法。 【効果】 本発明により、各種ＨＩＶプロテアーゼ阻害
剤の中間体である３−アミノ−１，２−オキシランを簡
便かつ安価に製造できる３−アミノ−１，２−ジオール
より高収率で得ることが可能となった。
製造方法を提供する。 【構成】 Ｎ−保護された３−アミノ−１，２−ジオー
ルを酸触媒下、オルト酢酸エステル又はオルト蟻酸エス
テルと反応させてアルコキシエチリデン体に誘導後、ハ
ロゲン化剤を作用させて２−アルコキシ−３−アミノ−
１−ハロゲン化物に変換し、これを塩基処理して目的と
する３−アミノ−１，２−オキシランを合成する方法。 【効果】 本発明により、各種ＨＩＶプロテアーゼ阻害
剤の中間体である３−アミノ−１，２−オキシランを簡
便かつ安価に製造できる３−アミノ−１，２−ジオール
より高収率で得ることが可能となった。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】ＨＩＶプロテアーゼ等の酵素
阻害剤の構成要素の中間体として重要な３−アミノ−
１，２−オキシランの製造方法に関する。さらに具体的
に３−アミノ−１，２−オキシランを例示するならばＲ
ｏ−３１−８９５９（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９９
４，５９，３６５６．）、ＳＣ−５２１５１（Ｊ．Ｍｅ
ｄ．Ｃｈｅｍ．，１９９３，３６，２８８．）及びＶＸ
−４７８（ＷＯ９４０５６３９）の中間体として（２
Ｓ，３Ｓ）−３−アミノ−４−フェニル−１−ブテンオ
キシド、ＣＧＰ−５３８２０（Ｂｉｏｏｒｇ．Ｍｅｄ．
Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．，１９９３，３，２８３７．）の
中間体として（２Ｒ，３Ｓ）−３−アミノ−４−フェニ
ル−１−ブテンオキシド、ＡＧ−１３４３（ＷＯ９５２
１１６４）の中間体として（２Ｓ，３Ｓ）−３−アミノ
−４−フェニルチオメチル−１−ブテンオキシド等をあ
げることができる。
阻害剤の構成要素の中間体として重要な３−アミノ−
１，２−オキシランの製造方法に関する。さらに具体的
に３−アミノ−１，２−オキシランを例示するならばＲ
ｏ−３１−８９５９（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９９
４，５９，３６５６．）、ＳＣ−５２１５１（Ｊ．Ｍｅ
ｄ．Ｃｈｅｍ．，１９９３，３６，２８８．）及びＶＸ
−４７８（ＷＯ９４０５６３９）の中間体として（２
Ｓ，３Ｓ）−３−アミノ−４−フェニル−１−ブテンオ
キシド、ＣＧＰ−５３８２０（Ｂｉｏｏｒｇ．Ｍｅｄ．
Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．，１９９３，３，２８３７．）の
中間体として（２Ｒ，３Ｓ）−３−アミノ−４−フェニ
ル−１−ブテンオキシド、ＡＧ−１３４３（ＷＯ９５２
１１６４）の中間体として（２Ｓ，３Ｓ）−３−アミノ
−４−フェニルチオメチル−１−ブテンオキシド等をあ
げることができる。
【０００２】
【従来の技術】３−アミノ−１，２−オキシランの一般
的な製造方法として、Ｎ−保護された３−アミノ−２−
オキソ−１−ハロゲン化物の２位を立体選択的に還元し
た後、塩基で処理して目的化合物に変換する方法が知ら
れている（Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１９９３，３６，
２８８．，Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．，１９８
８，３６，４７９４．，ＥＰ３４６８６７．，Ｊ．Ｍｅ
ｄ．Ｃｈｅｍ．，１９９１，３４，３２６７．）。しか
しながら、この方法では、３−アミノ−２−オキソ−１
−ハロゲン化物の合成に爆発性があり毒性も強いジアゾ
メタンを用いなければならず工業化には不適な方法であ
る。また、Ｎ−保護された３−アミノ−１−プロペンを
不斉エポキシ化する方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１
９８７，５２，１４８７．等）やＮ−保護された２−ア
ミノ−１−プロパナールにメチレンを挿入する方法（Ｗ
Ｏ９３／２３３８８．等）があるが、前者は不安定なア
ルデヒドのＷｉｔｔｉｇ反応により基質の合成を行わな
ければならないこと、後者は同じく不安定なアルデヒド
に対して、低温で発生させたカルベンを作用させなけれ
ばならずいずれも工業的に適した製造法とは言えない。
一方、３−Ｎ置換−１，２−ジオールを３−Ｎ置換−
１，２−オキシランに変換する方法として、３−アジド
−１，２−ジオールの１級水酸基をスルホニル化した
後、塩基で処理することにより３−アジド−１，２−オ
キシランに誘導する方法が知られている（Ｊ．Ｏｒｇ．
Ｃｈｅｍ．，１９９４，５９，３６５６．）が、２，
４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニリクロリド
を用いた１級水酸基のスルホニル化の収率が極めて低い
という問題があった。
的な製造方法として、Ｎ−保護された３−アミノ−２−
オキソ−１−ハロゲン化物の２位を立体選択的に還元し
た後、塩基で処理して目的化合物に変換する方法が知ら
れている（Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１９９３，３６，
２８８．，Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．，１９８
８，３６，４７９４．，ＥＰ３４６８６７．，Ｊ．Ｍｅ
ｄ．Ｃｈｅｍ．，１９９１，３４，３２６７．）。しか
しながら、この方法では、３−アミノ−２−オキソ−１
−ハロゲン化物の合成に爆発性があり毒性も強いジアゾ
メタンを用いなければならず工業化には不適な方法であ
る。また、Ｎ−保護された３−アミノ−１−プロペンを
不斉エポキシ化する方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１
９８７，５２，１４８７．等）やＮ−保護された２−ア
ミノ−１−プロパナールにメチレンを挿入する方法（Ｗ
Ｏ９３／２３３８８．等）があるが、前者は不安定なア
ルデヒドのＷｉｔｔｉｇ反応により基質の合成を行わな
ければならないこと、後者は同じく不安定なアルデヒド
に対して、低温で発生させたカルベンを作用させなけれ
ばならずいずれも工業的に適した製造法とは言えない。
一方、３−Ｎ置換−１，２−ジオールを３−Ｎ置換−
１，２−オキシランに変換する方法として、３−アジド
−１，２−ジオールの１級水酸基をスルホニル化した
後、塩基で処理することにより３−アジド−１，２−オ
キシランに誘導する方法が知られている（Ｊ．Ｏｒｇ．
Ｃｈｅｍ．，１９９４，５９，３６５６．）が、２，
４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニリクロリド
を用いた１級水酸基のスルホニル化の収率が極めて低い
という問題があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】簡便に製造できる３−
アミノ−１，２−ジオールを原料として、３−アミノ−
１，２−オキシランに変換する工業的な製造方法を提供
することにある。
アミノ−１，２−ジオールを原料として、３−アミノ−
１，２−オキシランに変換する工業的な製造方法を提供
することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく検討を重ねた結果、３−アミノ−１，２−
ジオールを酸触媒存在下、オルト酢酸エステル又はオル
ト蟻酸エステルと反応させて対応するアルコキシアルキ
リデン体に誘導後、ハロゲン化剤を作用させ２−アセト
キシ−３−アミノ−１−ハロゲン化物に変換し、これを
塩基処理することにより３−アミノ−１，２−オキシラ
ンを合成する方法を見出し、本発明を完成するに至っ
た。
を解決すべく検討を重ねた結果、３−アミノ−１，２−
ジオールを酸触媒存在下、オルト酢酸エステル又はオル
ト蟻酸エステルと反応させて対応するアルコキシアルキ
リデン体に誘導後、ハロゲン化剤を作用させ２−アセト
キシ−３−アミノ−１−ハロゲン化物に変換し、これを
塩基処理することにより３−アミノ−１，２−オキシラ
ンを合成する方法を見出し、本発明を完成するに至っ
た。
【０００５】すなわち、本発明は、下記一般式（Ｉ）で
示されるＮ−保護された３−アミノ−１，２−ジオール
を、
示されるＮ−保護された３−アミノ−１，２−ジオール
を、
【０００６】
【化６】
【０００７】（式中のＲ1は、置換基を有していてもよ
い炭素数２〜18個の直鎖、分岐もしくは環状のアルカノ
イル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜18個の直
鎖、分岐もしくは環状のアルコキシカルボニル基、置換
基を有していてもよいベンジル基またはＲ2と一緒にな
って炭素数８〜18個の２塩基酸の残基を示し、Ｒ2は水
素、置換基を有していてもよいベンジル基またはＲ1と
一緒になって炭素数８〜18個の２塩基酸の残基を示し、
Ｒ3は、置換基を有していてもよい炭素数１〜18個の直
鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、炭素数７〜18個ア
ラルキル基、または炭素数６〜18個のアリール基を示
す。）
い炭素数２〜18個の直鎖、分岐もしくは環状のアルカノ
イル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜18個の直
鎖、分岐もしくは環状のアルコキシカルボニル基、置換
基を有していてもよいベンジル基またはＲ2と一緒にな
って炭素数８〜18個の２塩基酸の残基を示し、Ｒ2は水
素、置換基を有していてもよいベンジル基またはＲ1と
一緒になって炭素数８〜18個の２塩基酸の残基を示し、
Ｒ3は、置換基を有していてもよい炭素数１〜18個の直
鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、炭素数７〜18個ア
ラルキル基、または炭素数６〜18個のアリール基を示
す。）
【０００８】酸触媒存在下でオルト酢酸エステルまたは
オルト蟻酸エステルと反応させることにより下記一般式
（ＩＩ）で示されるアルコキシアルキリデン体とし、
オルト蟻酸エステルと反応させることにより下記一般式
（ＩＩ）で示されるアルコキシアルキリデン体とし、
【０００９】
【化７】
【００１０】（但し、Ｒ1，Ｒ2及びＲ3は上記と同じで
あり、Ｒ4は炭素数１〜４個のアルキル基を示し、Ｒ5は
水素またはメチル基を示す。）
あり、Ｒ4は炭素数１〜４個のアルキル基を示し、Ｒ5は
水素またはメチル基を示す。）
【００１１】更にこれをハロゲン化剤と反応させること
により下記一般式（ＩＩＩ）で示されるアルコキシハロ
ゲン化物に導き、
により下記一般式（ＩＩＩ）で示されるアルコキシハロ
ゲン化物に導き、
【００１２】
【化８】
【００１３】（但し、Ｒ1，Ｒ2、Ｒ3及びＲ5は上記と同
じであり、Ｘは塩素または臭素を示す。）
じであり、Ｘは塩素または臭素を示す。）
【００１４】これを塩基で処理することにより下記一般
式（ＩＶ）で示されるエポキシド体に変換することを特
徴とする３−アミノ−１，２−オキシランの製造方法、
式（ＩＶ）で示されるエポキシド体に変換することを特
徴とする３−アミノ−１，２−オキシランの製造方法、
【００１５】
【化９】
【００１６】（但し、Ｒ1，Ｒ2及びＲ3は上記と同じで
ある。）
ある。）
【００１７】並びにその重要中間体である上記一般式
（ＩＩＩ）で示されるアルコキシハロゲン化物である。
（ＩＩＩ）で示されるアルコキシハロゲン化物である。
【００１８】
【発明の実施の形態】本発明に用いるＮ−保護された３
−アミノ−１，２−ジオール（Ｉ）は、相当するα−ア
ミノ酸より種々の方法により合成することができる。例
えば、１：相当するＮ−保護されたα−アミノ酸から出
発し、これをジアゾメタンと反応させてジアゾメチルケ
トンにした後、トリフルオロ酢酸で処理し、水素化ホウ
素ナトリウムで還元する方法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，１９７９，８５．）、
２：Ｎ−フタロイル保護されたα−アミノ酸塩化物をト
リストリメチルシリルオキシエテンと反応させてヒドロ
キシメチルケトンとし、これを水素化ホウ素ナトリウム
で還元する方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５９，３６
５６，（１９９４）．）、３：α−アミノ酸より誘導さ
れるα−アミノアルデヒドに対し、ビニルマグネシウム
クロリドを反応させて２炭素増炭した後、酸化的に１炭
素減炭し、還元する方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ，５
０，５３９９（１９８５））、４：Ｎ−保護されたα−
アミノ酸エステルを出発原料として、これをメチルスル
ホキシド由来の炭素アニオンと反応させて、β−ケト−
スルホキシドに誘導した後、酸等によりα−ケト−ヘミ
メルカプタールに変換し、これを複合金属水素化物によ
り還元する方法（特願平７−３３０２１２）、α−アミ
ノ酸を出発原料として用いない方法として、５：アリル
アルコールを不斉エポキシ化した後、アジドで開裂する
方法（Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．３６，２３００（１９９
３）．）、あるいは６：酒石酸またはアスコルビン酸等
を不斉源として誘導する方法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１９９２，２７
３．、Ｂｕｌｌ．Ｓｏｃ．Ｃｈｉｍ．Ｆｒ．１２９、５
８５（１９９３）．）等により合成することができる。
−アミノ−１，２−ジオール（Ｉ）は、相当するα−ア
ミノ酸より種々の方法により合成することができる。例
えば、１：相当するＮ−保護されたα−アミノ酸から出
発し、これをジアゾメタンと反応させてジアゾメチルケ
トンにした後、トリフルオロ酢酸で処理し、水素化ホウ
素ナトリウムで還元する方法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，１９７９，８５．）、
２：Ｎ−フタロイル保護されたα−アミノ酸塩化物をト
リストリメチルシリルオキシエテンと反応させてヒドロ
キシメチルケトンとし、これを水素化ホウ素ナトリウム
で還元する方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５９，３６
５６，（１９９４）．）、３：α−アミノ酸より誘導さ
れるα−アミノアルデヒドに対し、ビニルマグネシウム
クロリドを反応させて２炭素増炭した後、酸化的に１炭
素減炭し、還元する方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ，５
０，５３９９（１９８５））、４：Ｎ−保護されたα−
アミノ酸エステルを出発原料として、これをメチルスル
ホキシド由来の炭素アニオンと反応させて、β−ケト−
スルホキシドに誘導した後、酸等によりα−ケト−ヘミ
メルカプタールに変換し、これを複合金属水素化物によ
り還元する方法（特願平７−３３０２１２）、α−アミ
ノ酸を出発原料として用いない方法として、５：アリル
アルコールを不斉エポキシ化した後、アジドで開裂する
方法（Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．３６，２３００（１９９
３）．）、あるいは６：酒石酸またはアスコルビン酸等
を不斉源として誘導する方法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１９９２，２７
３．、Ｂｕｌｌ．Ｓｏｃ．Ｃｈｉｍ．Ｆｒ．１２９、５
８５（１９９３）．）等により合成することができる。
【００１９】本発明のＮ−保護された３−アミノ−１，
２−ジオール（Ｉ）におけるＲ1及びＲ2は、アミノ基の
保護された状態を示すものである。例えばＲ1は、置換
基を有していてもよい炭素数２〜18個の直鎖、分岐もし
くは環状のアルカノイル基、置換基を有していてもよい
炭素数２〜１８個の直鎖、分岐もしくは環状のアルコキ
シカルボニル基、置換基を有していてもよいベンジル基
またはＲ2と一緒になって炭素数８〜18個の２塩基酸の
残基を示し、Ｒ2は水素、置換基を有していてもよいベ
ンジル基またはＲ1と一緒になって炭素数８〜18個の２
塩基酸の残基を示すものである。すなわち、互いに独立
して水素またはアミノ保護基であるか、またはＲ1及び
Ｒ2が一体となって二官能性のアミノ保護基を示す。ア
ミノ基の保護基としては、具体的には、ベンジルオキシ
カルボニル基、ｔ−ブチルオキシカルボニル基のような
いわゆるウレタン型の保護基、アセチル基、ベンゾイル
基のようなアシル型保護基、あるいは、ベンジル基、ジ
ベンジル基のようなベンジル型保護基である。また、二
官能性のアミノ保護基としてはフタロイル基等をあげる
ことができる。
２−ジオール（Ｉ）におけるＲ1及びＲ2は、アミノ基の
保護された状態を示すものである。例えばＲ1は、置換
基を有していてもよい炭素数２〜18個の直鎖、分岐もし
くは環状のアルカノイル基、置換基を有していてもよい
炭素数２〜１８個の直鎖、分岐もしくは環状のアルコキ
シカルボニル基、置換基を有していてもよいベンジル基
またはＲ2と一緒になって炭素数８〜18個の２塩基酸の
残基を示し、Ｒ2は水素、置換基を有していてもよいベ
ンジル基またはＲ1と一緒になって炭素数８〜18個の２
塩基酸の残基を示すものである。すなわち、互いに独立
して水素またはアミノ保護基であるか、またはＲ1及び
Ｒ2が一体となって二官能性のアミノ保護基を示す。ア
ミノ基の保護基としては、具体的には、ベンジルオキシ
カルボニル基、ｔ−ブチルオキシカルボニル基のような
いわゆるウレタン型の保護基、アセチル基、ベンゾイル
基のようなアシル型保護基、あるいは、ベンジル基、ジ
ベンジル基のようなベンジル型保護基である。また、二
官能性のアミノ保護基としてはフタロイル基等をあげる
ことができる。
【００２０】式中のＲ3は、置換基を有していてもよい
炭素数１〜18個の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル
基、炭素数７〜18個のアラルキル基、または炭素数６〜
18個のアリール基を示すが具体的にはベンジル、フェニ
ルチオメチル、シクロヘキシルメチル、イソプロピル、
イソブチルおよびｓｅｃ−ブチル基であり、出発原料の
アミノ酸としては、フェニルアラニン、Ｓ−フェニルシ
ステイン、シクロヘキシルアラニン、バリン、ロイシ
ン、イソロイシンをあげることができる。
炭素数１〜18個の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル
基、炭素数７〜18個のアラルキル基、または炭素数６〜
18個のアリール基を示すが具体的にはベンジル、フェニ
ルチオメチル、シクロヘキシルメチル、イソプロピル、
イソブチルおよびｓｅｃ−ブチル基であり、出発原料の
アミノ酸としては、フェニルアラニン、Ｓ−フェニルシ
ステイン、シクロヘキシルアラニン、バリン、ロイシ
ン、イソロイシンをあげることができる。
【００２１】３−アミノ−１，２−ジオール（Ｉ）は酸
触媒存在下、オルト酢酸エステル又はオルトギ酸エステ
ルと反応させてそれぞれ対応するアルコキシエチリデン
体又はアルコキシメチリデン体に（ＩＩ）に変換され
る。反応溶媒としてはジクロロメタン、クロロホルム等
のハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢
酸イソプロピル等のエステル系溶媒あるいはトルエン、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセト
ニトリル等の有機溶媒を用いることができる。また、酸
触媒としては、トシル酸、メタンスルホン酸、トリフル
オロ酢酸、硫酸等の酸、あるいはトシル酸ピリジン塩の
ような酸性塩等を用いることができる。酸触媒は基質に
対して０．０５当量〜１．５当量で、通常０．０５当量
で十分であるが、反応基質に塩基性官能基が存在する場
合には１当量以上用いることもある。オルト酢酸エステ
ルとしては、例えばオルト酢酸メチル、オルト酢酸エチ
ル、またオルト蟻酸エステルとしては、例えばオルト蟻
酸メチルあるいはオルト蟻酸エチルをあげることができ
る。これらオルトエステルの当量は基質（３−アミノ−
１，２−ジオール）に対して１〜５当量であり、好まし
くは２〜４当量である。 反応濃度は、基質に対して
０．５〜３０Ｌ／ｍｏｌで好ましくは１〜１０Ｌ／ｍｏ
ｌである。反応温度は０〜６０℃で好ましくは１０〜３
０℃である。反応時間は１〜１２時間程度である。特別
な後処理操作は必要でなく、濃縮するのみで次の反応に
供せられる。
触媒存在下、オルト酢酸エステル又はオルトギ酸エステ
ルと反応させてそれぞれ対応するアルコキシエチリデン
体又はアルコキシメチリデン体に（ＩＩ）に変換され
る。反応溶媒としてはジクロロメタン、クロロホルム等
のハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢
酸イソプロピル等のエステル系溶媒あるいはトルエン、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセト
ニトリル等の有機溶媒を用いることができる。また、酸
触媒としては、トシル酸、メタンスルホン酸、トリフル
オロ酢酸、硫酸等の酸、あるいはトシル酸ピリジン塩の
ような酸性塩等を用いることができる。酸触媒は基質に
対して０．０５当量〜１．５当量で、通常０．０５当量
で十分であるが、反応基質に塩基性官能基が存在する場
合には１当量以上用いることもある。オルト酢酸エステ
ルとしては、例えばオルト酢酸メチル、オルト酢酸エチ
ル、またオルト蟻酸エステルとしては、例えばオルト蟻
酸メチルあるいはオルト蟻酸エチルをあげることができ
る。これらオルトエステルの当量は基質（３−アミノ−
１，２−ジオール）に対して１〜５当量であり、好まし
くは２〜４当量である。 反応濃度は、基質に対して
０．５〜３０Ｌ／ｍｏｌで好ましくは１〜１０Ｌ／ｍｏ
ｌである。反応温度は０〜６０℃で好ましくは１０〜３
０℃である。反応時間は１〜１２時間程度である。特別
な後処理操作は必要でなく、濃縮するのみで次の反応に
供せられる。
【００２２】３−アミノ−１，２−ジオール−アルコキ
シアルキリデン体（ＩＩ）を２−アルコキシ−３−アミ
ノ−１−ハロゲン化物（ＩＩＩ）に変換するには、３−
アミノ−１，２−ジオール−アルコキシアルキリデン体
（ＩＩ）をジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン
系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエ
ーテル等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロ
ピル等のエステル系溶媒あるいはトルエン、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニトリル等
の有機溶媒に溶解させ、これにハロゲン化剤を作用させ
ればよい。ハロゲン化剤としては、クロロトリメチルシ
ラン、臭化アセチル、塩化アセチル等を用いることがで
きる。ハロゲン化剤の当量は１〜５当量で好ましくは
１．５〜３当量である。また、反応基質中に酸に弱い官
能基等がある場合には塩基を共存させることができる。
塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン等があげら
れる。反応濃度としては、基質に対して０．５〜３０Ｌ
／ｍｏｌで好ましくは１〜１０Ｌ／ｍｏｌである。反応
温度は０〜６０℃で好ましくは１０〜３０℃である。反
応時間は基質により異なるが、１〜２４時間である。後
処理は、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ水溶液を加え
て中和した後、通常の抽出操作を行う。
シアルキリデン体（ＩＩ）を２−アルコキシ−３−アミ
ノ−１−ハロゲン化物（ＩＩＩ）に変換するには、３−
アミノ−１，２−ジオール−アルコキシアルキリデン体
（ＩＩ）をジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン
系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエ
ーテル等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロ
ピル等のエステル系溶媒あるいはトルエン、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニトリル等
の有機溶媒に溶解させ、これにハロゲン化剤を作用させ
ればよい。ハロゲン化剤としては、クロロトリメチルシ
ラン、臭化アセチル、塩化アセチル等を用いることがで
きる。ハロゲン化剤の当量は１〜５当量で好ましくは
１．５〜３当量である。また、反応基質中に酸に弱い官
能基等がある場合には塩基を共存させることができる。
塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン等があげら
れる。反応濃度としては、基質に対して０．５〜３０Ｌ
／ｍｏｌで好ましくは１〜１０Ｌ／ｍｏｌである。反応
温度は０〜６０℃で好ましくは１０〜３０℃である。反
応時間は基質により異なるが、１〜２４時間である。後
処理は、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ水溶液を加え
て中和した後、通常の抽出操作を行う。
【００２３】２−アルコキシ−３−アミノ−１−ハロゲ
ン化物（ＩＩＩ）は塩基で処理することにより３−アミ
ノ−１，２−オキシラン（ＩＶ）に変換される。反応溶
媒としては、メタノール、エタノール等のアルコール系
溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエー
テル等の塩基により影響を受けないものなら用いること
ができるが、好ましくはメタノール、エタノールであ
り、場合により、水との混合溶媒を用いる。使用する塩
基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水
酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩、ナ
トリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等の金属ア
ルコキシド、水素化ナトリウム等の金属水素化物等を用
いることができるが、好ましくは安価で汎用性に富む炭
酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムであ
る。塩基の当量は１〜５当量で好ましくは２〜３当量で
ある。反応濃度としては、基質に対して０．５〜３０Ｌ
／ｍｏｌで好ましくは１〜１０Ｌ／ｍｏｌである。反応
温度は０〜６０℃で好ましくは１０〜３０℃である。反
応時間は基質により異なるが、１〜２４時間である。後
処理は、通常の抽出操作を行うのみで高純度の目的物を
得ることができるが、必要であれば、晶析あるいはカラ
ムクロマトグラフィー等でさらに精製することもでき
る。
ン化物（ＩＩＩ）は塩基で処理することにより３−アミ
ノ−１，２−オキシラン（ＩＶ）に変換される。反応溶
媒としては、メタノール、エタノール等のアルコール系
溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエー
テル等の塩基により影響を受けないものなら用いること
ができるが、好ましくはメタノール、エタノールであ
り、場合により、水との混合溶媒を用いる。使用する塩
基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水
酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩、ナ
トリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等の金属ア
ルコキシド、水素化ナトリウム等の金属水素化物等を用
いることができるが、好ましくは安価で汎用性に富む炭
酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムであ
る。塩基の当量は１〜５当量で好ましくは２〜３当量で
ある。反応濃度としては、基質に対して０．５〜３０Ｌ
／ｍｏｌで好ましくは１〜１０Ｌ／ｍｏｌである。反応
温度は０〜６０℃で好ましくは１０〜３０℃である。反
応時間は基質により異なるが、１〜２４時間である。後
処理は、通常の抽出操作を行うのみで高純度の目的物を
得ることができるが、必要であれば、晶析あるいはカラ
ムクロマトグラフィー等でさらに精製することもでき
る。
【００２４】
【実施例】以下に実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２５】（参考例１） Ｎ，Ｎ−ジベンジル−
（Ｌ）−フェニルアラニンベンジルエステルの製造 ２５．０ｇ（１５１．３ｍｍｏｌ）の（Ｌ）−フェニル
アラニンおよび６６．６７ｇ（４８２．４ｍｍｏｌ）の
炭酸カリウムを水１００ｍｌに溶解した後、塩化ベンジ
ル５７．５１ｇ（４５４．３ｍｍｏｌ）を加え、９５℃
で１９時間加熱攪拌した。室温まで冷却した後、ｎ−ヘ
プタン６７ｍｌおよび水５０ｍｌを加え分層した。有機
層を５０ｍｌのメタノール／水＝１／２の溶液で２回洗
浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。これを濾
過、濃縮し、上記表題化合物を６１．６４ｇ（９０．５
ｗｔ％，１２１．８ｍｍｏｌ）を得た（収率８４．７
％）。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：３．０
０（ｄｄ，１Ｈ），３．１４（ｄｄ，１Ｈ），３．５３
（ｄ，２Ｈ），３．７１（ｔ，１Ｈ），３．９２（ｄ，
２Ｈ），５．１２（ｄ，１Ｈ），５．２３（ｄ，１
Ｈ），６．９９−７．４０（ｍ，２０Ｈ）． マススペクトル（ＦＡＢ） ４３６（ＭＨ+）
（Ｌ）−フェニルアラニンベンジルエステルの製造 ２５．０ｇ（１５１．３ｍｍｏｌ）の（Ｌ）−フェニル
アラニンおよび６６．６７ｇ（４８２．４ｍｍｏｌ）の
炭酸カリウムを水１００ｍｌに溶解した後、塩化ベンジ
ル５７．５１ｇ（４５４．３ｍｍｏｌ）を加え、９５℃
で１９時間加熱攪拌した。室温まで冷却した後、ｎ−ヘ
プタン６７ｍｌおよび水５０ｍｌを加え分層した。有機
層を５０ｍｌのメタノール／水＝１／２の溶液で２回洗
浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。これを濾
過、濃縮し、上記表題化合物を６１．６４ｇ（９０．５
ｗｔ％，１２１．８ｍｍｏｌ）を得た（収率８４．７
％）。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：３．０
０（ｄｄ，１Ｈ），３．１４（ｄｄ，１Ｈ），３．５３
（ｄ，２Ｈ），３．７１（ｔ，１Ｈ），３．９２（ｄ，
２Ｈ），５．１２（ｄ，１Ｈ），５．２３（ｄ，１
Ｈ），６．９９−７．４０（ｍ，２０Ｈ）． マススペクトル（ＦＡＢ） ４３６（ＭＨ+）
【００２６】（参考例２） （３Ｓ）−３−Ｎ，Ｎ−ジ
ベンジルアミノ−１−メチルスルフィニル−２−オキソ
−４−フェニルブタンの製造 ナトリウムアミド３．７６ｇ（９６．３９ｍｍｏｌ）を
ジメチルスルホキシド４０ｍｌに懸濁し、３０分、７４
〜７５℃に加熱した。この溶液にテトラヒドロフラン４
０ｍｌを加え、０℃に冷却した。これにＮ，Ｎ−ジベン
ジル−（Ｌ）−フェニルアラニンベンジルエステル１
５．４７ｇ（９０．５ｗｔ％，３２．１４ｍｍｏｌ）を
テトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解した溶液を０℃に保
ちながら滴下した。０℃で３０分反応させた後、１０％
クエン酸水溶液１２０ｍｌおよび酢酸エチル１００ｍｌ
を加え、分層した。水層からさらに酢酸エチル５０ｍｌ
で１回抽出し、有機層を合わせ、飽和食塩水６０ｍｌで
洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過、濃縮
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（展開系はヘキサン／酢酸エチル＝２／１→１／３）
により精製した後、トルエン／ヘキサン系で晶析し、上
記表題化合物１１．１６ｇ（収率８５．６％）を得た。
得られた化合物は1Ｈ−ＮＭＲの積分比より、ジアステ
レオマー比率は約１：１であった。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：２．２
７（ｓ，３／２Ｈ），２．３５（ｓ，３／２Ｈ），２．
９７（ｄｄ，１Ｈ），３．１４（ｄｄ，１／２Ｈ），
３．１９（ｄｄ，１／２Ｈ），３．５５−３．６５
（ｍ，７／２Ｈ），３．７５（ｄ，１／２Ｈ），３．８
５（ｄ，２Ｈ），４．０１（ｄ，１／２Ｈ），４．０７
（ｄ，１／２Ｈ），７．１０−７．４０（ｍ，１５
Ｈ）． マススペクトル（ＦＡＢ） ４０６（ＭＨ+）
ベンジルアミノ−１−メチルスルフィニル−２−オキソ
−４−フェニルブタンの製造 ナトリウムアミド３．７６ｇ（９６．３９ｍｍｏｌ）を
ジメチルスルホキシド４０ｍｌに懸濁し、３０分、７４
〜７５℃に加熱した。この溶液にテトラヒドロフラン４
０ｍｌを加え、０℃に冷却した。これにＮ，Ｎ−ジベン
ジル−（Ｌ）−フェニルアラニンベンジルエステル１
５．４７ｇ（９０．５ｗｔ％，３２．１４ｍｍｏｌ）を
テトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解した溶液を０℃に保
ちながら滴下した。０℃で３０分反応させた後、１０％
クエン酸水溶液１２０ｍｌおよび酢酸エチル１００ｍｌ
を加え、分層した。水層からさらに酢酸エチル５０ｍｌ
で１回抽出し、有機層を合わせ、飽和食塩水６０ｍｌで
洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過、濃縮
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（展開系はヘキサン／酢酸エチル＝２／１→１／３）
により精製した後、トルエン／ヘキサン系で晶析し、上
記表題化合物１１．１６ｇ（収率８５．６％）を得た。
得られた化合物は1Ｈ−ＮＭＲの積分比より、ジアステ
レオマー比率は約１：１であった。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：２．２
７（ｓ，３／２Ｈ），２．３５（ｓ，３／２Ｈ），２．
９７（ｄｄ，１Ｈ），３．１４（ｄｄ，１／２Ｈ），
３．１９（ｄｄ，１／２Ｈ），３．５５−３．６５
（ｍ，７／２Ｈ），３．７５（ｄ，１／２Ｈ），３．８
５（ｄ，２Ｈ），４．０１（ｄ，１／２Ｈ），４．０７
（ｄ，１／２Ｈ），７．１０−７．４０（ｍ，１５
Ｈ）． マススペクトル（ＦＡＢ） ４０６（ＭＨ+）
【００２７】（参考例３） （３Ｓ）−３−Ｎ，Ｎ−ジ
ベンジルアミノ−１−ヒドロキシ−１−メチルチオ−２
−オキソ−４−フェニルブタンの製造 （３Ｓ）−３−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−１−メチル
スルフィニル−２−オキソ−４−フェニルブタン９４．
３ｍｇ（０．２３３ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド
１．６ｍｌに溶解し、２Ｎ塩酸０．４ｍｌを加え、室温
で１５時間攪拌した。氷浴で冷却下、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液１．５ｍｌを加え中和し、酢酸エチル８ｍ
ｌおよび水４ｍｌを加え分層し、さらに水層から酢酸エ
チル３ｍｌで２回抽出した。有機層を合わせ、水５ｍｌ
さらに飽和食塩水５ｍｌで洗浄した後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。濾過、濃縮し上記表題化合物の粗製物
を得た。特に精製することなく次の反応に使用した。
ベンジルアミノ−１−ヒドロキシ−１−メチルチオ−２
−オキソ−４−フェニルブタンの製造 （３Ｓ）−３−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−１−メチル
スルフィニル−２−オキソ−４−フェニルブタン９４．
３ｍｇ（０．２３３ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド
１．６ｍｌに溶解し、２Ｎ塩酸０．４ｍｌを加え、室温
で１５時間攪拌した。氷浴で冷却下、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液１．５ｍｌを加え中和し、酢酸エチル８ｍ
ｌおよび水４ｍｌを加え分層し、さらに水層から酢酸エ
チル３ｍｌで２回抽出した。有機層を合わせ、水５ｍｌ
さらに飽和食塩水５ｍｌで洗浄した後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。濾過、濃縮し上記表題化合物の粗製物
を得た。特に精製することなく次の反応に使用した。
【００２８】（参考例４） （３Ｓ）−３−Ｎ，Ｎ−ジ
ベンジルアミノ−１，２−ジヒドロキシ−４−フェニル
−ブタンの製造 実施例３により得られた（３Ｓ）−３−Ｎ，Ｎ−ジベン
ジルアミノ−１−ヒドロキシ−１−メチルチオ−２−オ
キソ−４−フェニルブタンをエタノール２ｍｌおよび水
０．２ｍｌに溶解し０℃に冷却した後、水素化ホウ素ナ
トリウム１８．４ｍｇを加えた。０〜５℃で５０分攪拌
した後、１Ｎ塩酸を加えてｐＨを４．８に調製した。減
圧濃縮してエタノールを留去した後、水５ｍｌを加え酢
酸エチル２０ｍｌで抽出した。有機層を飽和食塩水５ｍ
ｌで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過、濃
縮した後、分取薄層クロマトグラフィーで精製し、上記
表題化合物の（２Ｓ，３Ｓ）体７．０ｍｇおよび（２
Ｒ，３Ｓ）体５６．２ｍｇを得た（収率７５．１％）。 （２Ｓ，３Ｓ）体 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：２．９
３−３．０６（ｍ，２Ｈ），３．１６（ｄｄ，１Ｈ），
３．５４（ｄ，２Ｈ），３．６０−３．６７（ｍ，２
Ｈ），３．７８（ｄ，２Ｈ），３．８４（ｍ，１Ｈ），
７．２１−７．３４（ｍ，１５Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ３６２（ＭＨ+） （２Ｓ，３Ｒ）体 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：２．７
９（ｍ，１Ｈ），３．０６−３．２３（ｍ，３Ｈ），
３．４２（ｄ，２Ｈ），３．５２−３．６０（ｍ，２
Ｈ），３．９９（ｄ，２Ｈ），７．２１−７．３６
（ｍ，１５Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ３６２（ＭＨ+）
ベンジルアミノ−１，２−ジヒドロキシ−４−フェニル
−ブタンの製造 実施例３により得られた（３Ｓ）−３−Ｎ，Ｎ−ジベン
ジルアミノ−１−ヒドロキシ−１−メチルチオ−２−オ
キソ−４−フェニルブタンをエタノール２ｍｌおよび水
０．２ｍｌに溶解し０℃に冷却した後、水素化ホウ素ナ
トリウム１８．４ｍｇを加えた。０〜５℃で５０分攪拌
した後、１Ｎ塩酸を加えてｐＨを４．８に調製した。減
圧濃縮してエタノールを留去した後、水５ｍｌを加え酢
酸エチル２０ｍｌで抽出した。有機層を飽和食塩水５ｍ
ｌで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過、濃
縮した後、分取薄層クロマトグラフィーで精製し、上記
表題化合物の（２Ｓ，３Ｓ）体７．０ｍｇおよび（２
Ｒ，３Ｓ）体５６．２ｍｇを得た（収率７５．１％）。 （２Ｓ，３Ｓ）体 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：２．９
３−３．０６（ｍ，２Ｈ），３．１６（ｄｄ，１Ｈ），
３．５４（ｄ，２Ｈ），３．６０−３．６７（ｍ，２
Ｈ），３．７８（ｄ，２Ｈ），３．８４（ｍ，１Ｈ），
７．２１−７．３４（ｍ，１５Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ３６２（ＭＨ+） （２Ｓ，３Ｒ）体 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：２．７
９（ｍ，１Ｈ），３．０６−３．２３（ｍ，３Ｈ），
３．４２（ｄ，２Ｈ），３．５２−３．６０（ｍ，２
Ｈ），３．９９（ｄ，２Ｈ），７．２１−７．３６
（ｍ，１５Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ３６２（ＭＨ+）
【００２９】（参考例５） Ｎ−ベンジルオキシカルボ
ニル−（Ｌ）−フェニルアラニンメチルエステルの製造 （Ｌ）−フェニルアラニンメチルエステル塩酸塩２０．
０ｇ（９２．７３ｍｍｏｌ）をトルエン９３ｍｌに懸濁
し、クロルギ酸ベンジル１５．８２ｇ（９２．７３ｍｍ
ｏｌ）を加えた。これに１Ｍ炭酸ナトリウム水溶液１３
０ｍｌを７℃以下に保ちながら滴下し、３時間攪拌し
た。分層した後、有機層を０．１Ｎ塩酸６０ｍｌおよび
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液６０ｍｌで洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を濾過、濃縮し、
上記目的化合物２８．７５ｇ（９６．８ｗｔ％，８８．
８１ｍｍｏｌ）を得た（収率９５．８％）。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：３．１
１（ｍ，２Ｈ），３．７２（ｓ，３Ｈ），４．６６
（ｍ，１Ｈ），５．０９（ｓ，２Ｈ），５．２１（ｂ
ｒ．ｄ，１Ｈ、−ＮＨ），７．０８−７．３９（ｍ，１
０Ｈ）． マススペクトル（ＦＡＢ） ３１４（ＭＨ+）
ニル−（Ｌ）−フェニルアラニンメチルエステルの製造 （Ｌ）−フェニルアラニンメチルエステル塩酸塩２０．
０ｇ（９２．７３ｍｍｏｌ）をトルエン９３ｍｌに懸濁
し、クロルギ酸ベンジル１５．８２ｇ（９２．７３ｍｍ
ｏｌ）を加えた。これに１Ｍ炭酸ナトリウム水溶液１３
０ｍｌを７℃以下に保ちながら滴下し、３時間攪拌し
た。分層した後、有機層を０．１Ｎ塩酸６０ｍｌおよび
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液６０ｍｌで洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を濾過、濃縮し、
上記目的化合物２８．７５ｇ（９６．８ｗｔ％，８８．
８１ｍｍｏｌ）を得た（収率９５．８％）。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：３．１
１（ｍ，２Ｈ），３．７２（ｓ，３Ｈ），４．６６
（ｍ，１Ｈ），５．０９（ｓ，２Ｈ），５．２１（ｂ
ｒ．ｄ，１Ｈ、−ＮＨ），７．０８−７．３９（ｍ，１
０Ｈ）． マススペクトル（ＦＡＢ） ３１４（ＭＨ+）
【００３０】（参考例６） （３Ｓ）−３−Ｎ−ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ−１−メチルスルフィニル−
２−オキソ−４−フェニルブタンの製造 ナトリウムアミド４．９８ｇ（１２７．７ｍｍｏｌ）を
ジメチルスルホキシド４０ｍｌに懸濁し、５０分、７２
〜７６℃に加熱した。この溶液にテトラヒドロフラン５
０ｍｌを加え、０℃に冷却した。これにＮ−ベンジルオ
キシカルボニル−（Ｌ）−フェニルアラニンメチルエス
テル１０．３３ｇ（９６．８ｗｔ％，３１．９１ｍｍｏ
ｌ）をテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解した溶液を０
℃に保ちながら滴下した。０℃で１時間反応させた後、
１０％クエン酸水溶液１２０ｍｌおよびジクロロメタン
１００ｍｌを加え抽出した。水層からさらにジクロロメ
タン６０ｍｌで１回抽出し、有機層を合わせ、飽和食塩
水８０ｍｌで洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、
濾過、濃縮し、得られた残渣をジクロロメタン／ヘキサ
ン系で晶析し、上記表題化合物８．１４ｇ（２２．６５
ｍｍｏｌ）を得た（収率７１．０％）。得られた化合物
は1Ｈ−ＮＭＲの積分比より、約３：１のジアステレオ
マー混合物であった。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：２．６
３（ｓ，３／４Ｈ），２．６６（ｓ，９／４Ｈ），２．
９４−３．０１（ｍ，１Ｈ），３．１２−３．２１
（ｍ，１Ｈ），３．５７（ｄ，３／４Ｈ），３．６９
（ｄ，１／４Ｈ），３．８９（ｄ，１／４Ｈ），４．０
４（ｄ，３／４Ｈ），４．４５−４．５９（ｍ，１
Ｈ），５．０７（ｍ，２Ｈ），５．４４（ｂｒ．ｄ，１
／４Ｈ），５．６４（ｂｒ．ｓ，３／４Ｈ），７．１４
−７．３９（ｍ，１０Ｈ）． マススペクトル（ＦＡＢ） ３６０（ＭＨ+）
ルオキシカルボニルアミノ−１−メチルスルフィニル−
２−オキソ−４−フェニルブタンの製造 ナトリウムアミド４．９８ｇ（１２７．７ｍｍｏｌ）を
ジメチルスルホキシド４０ｍｌに懸濁し、５０分、７２
〜７６℃に加熱した。この溶液にテトラヒドロフラン５
０ｍｌを加え、０℃に冷却した。これにＮ−ベンジルオ
キシカルボニル−（Ｌ）−フェニルアラニンメチルエス
テル１０．３３ｇ（９６．８ｗｔ％，３１．９１ｍｍｏ
ｌ）をテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解した溶液を０
℃に保ちながら滴下した。０℃で１時間反応させた後、
１０％クエン酸水溶液１２０ｍｌおよびジクロロメタン
１００ｍｌを加え抽出した。水層からさらにジクロロメ
タン６０ｍｌで１回抽出し、有機層を合わせ、飽和食塩
水８０ｍｌで洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、
濾過、濃縮し、得られた残渣をジクロロメタン／ヘキサ
ン系で晶析し、上記表題化合物８．１４ｇ（２２．６５
ｍｍｏｌ）を得た（収率７１．０％）。得られた化合物
は1Ｈ−ＮＭＲの積分比より、約３：１のジアステレオ
マー混合物であった。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：２．６
３（ｓ，３／４Ｈ），２．６６（ｓ，９／４Ｈ），２．
９４−３．０１（ｍ，１Ｈ），３．１２−３．２１
（ｍ，１Ｈ），３．５７（ｄ，３／４Ｈ），３．６９
（ｄ，１／４Ｈ），３．８９（ｄ，１／４Ｈ），４．０
４（ｄ，３／４Ｈ），４．４５−４．５９（ｍ，１
Ｈ），５．０７（ｍ，２Ｈ），５．４４（ｂｒ．ｄ，１
／４Ｈ），５．６４（ｂｒ．ｓ，３／４Ｈ），７．１４
−７．３９（ｍ，１０Ｈ）． マススペクトル（ＦＡＢ） ３６０（ＭＨ+）
【００３１】（参考例７） （３Ｓ）−３−Ｎ−ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ−１−ヒドロキシ−１−メチ
ルチオ−２−オキソ−４−フェニルブタンの製造 （３Ｓ）−３−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルアミノ−
１−メチルスルフィニル−２−オキソ−４−フェニルブ
タン７０８．６ｍｇ（１．９７１ｍｍｏｌ）をジメチル
スルホキシド１５ｍｌおよびテトラヒドロフラン６ｍｌ
に溶解し、２Ｎ塩酸７．５ｍｌを加え、室温で１８時間
攪拌した。氷浴で冷却下、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液１５ｍｌを加え中和し、酢酸エチル５０ｍｌおよび水
５０ｍｌを加え分層し、さらに水層から酢酸エチル２５
ｍｌで２回抽出した。有機層を合わせ、水５０ｍｌさら
に飽和食塩水３０ｍｌで洗浄した後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。この溶液を濾過、濃縮し得られた残渣を
ヘキサン／酢酸エチル系で晶析し上記表題化合物６５
９．７ｍｇ（１．８３５ｍｍｏｌ）を得た（収率９３．
２％）。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：１．７
８（ｓ，３Ｈ），２．９７（ｄｄ，１Ｈ），３．２４
（ｄｄ，１Ｈ），３．８７（ｄｄ，１Ｈ），４．８６
（ｍ，１Ｈ），５．０５（ｍ，２Ｈ），５．５５（ｄ，
１Ｈ），７．１８−７．３９（ｍ，１０Ｈ）． マススペクトル（ＦＡＢ） ３６０（ＭＨ+）
ルオキシカルボニルアミノ−１−ヒドロキシ−１−メチ
ルチオ−２−オキソ−４−フェニルブタンの製造 （３Ｓ）−３−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルアミノ−
１−メチルスルフィニル−２−オキソ−４−フェニルブ
タン７０８．６ｍｇ（１．９７１ｍｍｏｌ）をジメチル
スルホキシド１５ｍｌおよびテトラヒドロフラン６ｍｌ
に溶解し、２Ｎ塩酸７．５ｍｌを加え、室温で１８時間
攪拌した。氷浴で冷却下、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液１５ｍｌを加え中和し、酢酸エチル５０ｍｌおよび水
５０ｍｌを加え分層し、さらに水層から酢酸エチル２５
ｍｌで２回抽出した。有機層を合わせ、水５０ｍｌさら
に飽和食塩水３０ｍｌで洗浄した後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。この溶液を濾過、濃縮し得られた残渣を
ヘキサン／酢酸エチル系で晶析し上記表題化合物６５
９．７ｍｇ（１．８３５ｍｍｏｌ）を得た（収率９３．
２％）。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：１．７
８（ｓ，３Ｈ），２．９７（ｄｄ，１Ｈ），３．２４
（ｄｄ，１Ｈ），３．８７（ｄｄ，１Ｈ），４．８６
（ｍ，１Ｈ），５．０５（ｍ，２Ｈ），５．５５（ｄ，
１Ｈ），７．１８−７．３９（ｍ，１０Ｈ）． マススペクトル（ＦＡＢ） ３６０（ＭＨ+）
【００３２】（参考例８） （３Ｓ）−３−Ｎ−ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ−１，２−ジヒドロキシ−４
−フェニルブタンの製造 （３Ｓ）−３−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルアミノ−
１−ヒドロキシ−１−メチルチオ−２−オキソ−４−フ
ェニルブタン９９．４ｍｇ（０．２７７ｍｍｏｌ）を得
たエタノール３ｍｌ，テトラヒドロフラン０．５ｍｌお
よび水０．３ｍｌに溶解し、０℃に冷却し水素化ホウ素
ナトリウム２１．７ｍｇを加えた。０〜５℃で４０分攪
拌した後、１Ｎ塩酸を加え、ｐＨを４．６に調製し、さ
らに水６ｍｌを加えジクロロメタン（１０ｍｌｘ１，５
ｍｌｘ２）で抽出した。飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。濾過、濃縮し、得られた残渣を
シリカゲル分取薄層クロマトグラフィーで精製し、上記
目的化合物７４．９ｍｇを得た（収率８５．７％）。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：２．４
５，２．６２（ｂｒ．，−ＯＨ），２．８１−２．９４
（ｍ，２Ｈ），３．０８−３．１５（ｍ，１Ｈ）、３．
３８−３．７０（ｍ，３Ｈ），３．８６−４．０２
（ｍ，１Ｈ），４．８１−５．１０（ｍ，３Ｈ），７．
１６−７．３８（ｍ，１０Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ３１６（ＭＨ+）
ルオキシカルボニルアミノ−１，２−ジヒドロキシ−４
−フェニルブタンの製造 （３Ｓ）−３−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルアミノ−
１−ヒドロキシ−１−メチルチオ−２−オキソ−４−フ
ェニルブタン９９．４ｍｇ（０．２７７ｍｍｏｌ）を得
たエタノール３ｍｌ，テトラヒドロフラン０．５ｍｌお
よび水０．３ｍｌに溶解し、０℃に冷却し水素化ホウ素
ナトリウム２１．７ｍｇを加えた。０〜５℃で４０分攪
拌した後、１Ｎ塩酸を加え、ｐＨを４．６に調製し、さ
らに水６ｍｌを加えジクロロメタン（１０ｍｌｘ１，５
ｍｌｘ２）で抽出した。飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。濾過、濃縮し、得られた残渣を
シリカゲル分取薄層クロマトグラフィーで精製し、上記
目的化合物７４．９ｍｇを得た（収率８５．７％）。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：２．４
５，２．６２（ｂｒ．，−ＯＨ），２．８１−２．９４
（ｍ，２Ｈ），３．０８−３．１５（ｍ，１Ｈ）、３．
３８−３．７０（ｍ，３Ｈ），３．８６−４．０２
（ｍ，１Ｈ），４．８１−５．１０（ｍ，３Ｈ），７．
１６−７．３８（ｍ，１０Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ３１６（ＭＨ+）
【００３３】（実施例１） （２Ｒ，３Ｓ）−２−アセ
トキシ−１−ブロモ−３−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−
４−フェニルブタンの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−３−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−４−
フェニル−１，２−ブタンジオール５６９．４ｍｇ
（１．５７５ｍｍｏｌ）をジクロロメタン１６ｍｌに溶
解し、オルト酢酸メチル０．５ｍｌおよびトリフルオロ
酢酸０．１３ｍｌを加え、室温で４時間反応を行った。
減圧濃縮して溶媒を留去した後、ジクロロメタン１４ｍ
ｌに溶解し、臭化アセチル０．２９ｍｌのジクロロメタ
ン（２ｍｌ）溶液を４分間かけて滴下した。室温にて５
時間反応を行った後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１
６ｍｌおよびジクロロメタン１０ｍｌを加えて分層し
た。有機層を飽和食塩水１５ｍｌで洗浄した後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。ろ過、濃縮し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製することにより（２Ｒ，
３Ｓ）−２−アセトキシ−１−ブロモ−３−Ｎ，Ｎ−ジ
ベンジルアミノ−４−フェニルブタン５８８．４ｍｇ
（収率８０．１％）を得た。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：２．１
６（ｓ，３Ｈ），２．６６（ｄｄ，１Ｈ），３．１０
（ｄｄ，１Ｈ），３．１７−３．２５（ｍ，２Ｈ），
３．４９（ｄ，２Ｈ），３．５９（ｄｄ，１Ｈ），４．
０４（ｄ，２Ｈ），５．０５（ｍ，１Ｈ）、７．１１−
７．１４（ｍ，２Ｈ），７．１９−７．３５（ｍ，１３
Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ４６６（ＭＨ+）
トキシ−１−ブロモ−３−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−
４−フェニルブタンの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−３−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−４−
フェニル−１，２−ブタンジオール５６９．４ｍｇ
（１．５７５ｍｍｏｌ）をジクロロメタン１６ｍｌに溶
解し、オルト酢酸メチル０．５ｍｌおよびトリフルオロ
酢酸０．１３ｍｌを加え、室温で４時間反応を行った。
減圧濃縮して溶媒を留去した後、ジクロロメタン１４ｍ
ｌに溶解し、臭化アセチル０．２９ｍｌのジクロロメタ
ン（２ｍｌ）溶液を４分間かけて滴下した。室温にて５
時間反応を行った後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１
６ｍｌおよびジクロロメタン１０ｍｌを加えて分層し
た。有機層を飽和食塩水１５ｍｌで洗浄した後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。ろ過、濃縮し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製することにより（２Ｒ，
３Ｓ）−２−アセトキシ−１−ブロモ−３−Ｎ，Ｎ−ジ
ベンジルアミノ−４−フェニルブタン５８８．４ｍｇ
（収率８０．１％）を得た。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：２．１
６（ｓ，３Ｈ），２．６６（ｄｄ，１Ｈ），３．１０
（ｄｄ，１Ｈ），３．１７−３．２５（ｍ，２Ｈ），
３．４９（ｄ，２Ｈ），３．５９（ｄｄ，１Ｈ），４．
０４（ｄ，２Ｈ），５．０５（ｍ，１Ｈ）、７．１１−
７．１４（ｍ，２Ｈ），７．１９−７．３５（ｍ，１３
Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ４６６（ＭＨ+）
【００３４】（実施例２） （２Ｒ，３Ｓ）−３−Ｎ，
Ｎ−ジベンジルアミノ−４−フェニル−１−ブテンオキ
シドの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−２−アセトキシ−１−ブロモ−３−
Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−４−フェニルブタン７５．
１ｍｇ（０．１６１ｍｍｏｌ）をメタノール１．６ｍｌ
に溶解し、炭酸カリウム４５ｍｇを加え、室温で２時間
反応を行った。不溶物をろ別後、減圧濃縮して溶媒を留
去した後、水５ｍｌを加え、酢酸エチル１０ｍｌで抽出
した。有機層を飽和食塩水５ｍｌで洗浄した後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。ろ過、濃縮し、（２Ｒ，３
Ｓ）−３−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−４−フェニル−
１−ブテンオキシド５４．１ｍｇ（収率９７．８％）を
得た。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：２．２
０（ｄｄ，１Ｈ），２．５９（ｄｄ，１Ｈ），２．６９
−２．８０（ｍ，１Ｈ），２．９８（ｍ，１Ｈ），３．
１５（ｍ，１Ｈ），３．８２（ｄ，２Ｈ），３．８８
（ｄ，２Ｈ），７．００−７．０４（ｍ，２Ｈ），７．
１７−７．３３（ｍ，１３Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ３４４（ＭＨ+）
Ｎ−ジベンジルアミノ−４−フェニル−１−ブテンオキ
シドの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−２−アセトキシ−１−ブロモ−３−
Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−４−フェニルブタン７５．
１ｍｇ（０．１６１ｍｍｏｌ）をメタノール１．６ｍｌ
に溶解し、炭酸カリウム４５ｍｇを加え、室温で２時間
反応を行った。不溶物をろ別後、減圧濃縮して溶媒を留
去した後、水５ｍｌを加え、酢酸エチル１０ｍｌで抽出
した。有機層を飽和食塩水５ｍｌで洗浄した後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。ろ過、濃縮し、（２Ｒ，３
Ｓ）−３−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−４−フェニル−
１−ブテンオキシド５４．１ｍｇ（収率９７．８％）を
得た。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：２．２
０（ｄｄ，１Ｈ），２．５９（ｄｄ，１Ｈ），２．６９
−２．８０（ｍ，１Ｈ），２．９８（ｍ，１Ｈ），３．
１５（ｍ，１Ｈ），３．８２（ｄ，２Ｈ），３．８８
（ｄ，２Ｈ），７．００−７．０４（ｍ，２Ｈ），７．
１７−７．３３（ｍ，１３Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ３４４（ＭＨ+）
【００３５】（実施例３） （２Ｒ，３Ｓ）−２−アセ
トキシ−１−クロロ−３−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−
４−フェニルブタンの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−３−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−４−
フェニル−１，２−ブタンジオール３０２．０ｍｇ
（０．８３５ｍｍｏｌ）をジクロロメタン１０ｍｌに溶
解し、オルト酢酸メチル０．２７ｍｌおよびトリフルオ
ロ酢酸０．０７１ｍｌを加え、室温で２時間反応を行っ
た。減圧濃縮して溶媒を留去した後、ジクロロメタン
８．５ｍｌに溶解し、クロロトリメチルシラン０．２７
ｍｌを加え室温で２１時間攪拌した。その後さらにクロ
ロトリメチルシラン０．１１ｍｌを加え室温にて６時間
反応を行った後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１０ｍ
ｌおよびジクロロメタン１０ｍｌを加えて分層した。有
機層を飽和食塩水１０ｍｌで洗浄した後、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。ろ過、濃縮し、シリカゲル分取薄層
クロマトグラフィーで精製することにより（２Ｒ，３
Ｓ）−２−アセトキシ−１−クロロ−３−Ｎ，Ｎ−ジベ
ンジルアミノ−４−フェニルブタン２４８．３ｍｇ（収
率７０．５％）を得た。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：２．１
６（ｓ，３Ｈ），３．０８−３．１８（ｍ，２Ｈ），
３．３２（ｄｄ，１Ｈ），３．４９（ｄ，２Ｈ），３．
７５（ｄｄ，１Ｈ），４．０５（ｄ，２Ｈ），５．０２
（ｍ，１Ｈ），７．１１−７．１４（ｍ，２Ｈ），７．
１８−７．３５（ｍ，１３Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ４２２（ＭＨ+）
トキシ−１−クロロ−３−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−
４−フェニルブタンの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−３−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−４−
フェニル−１，２−ブタンジオール３０２．０ｍｇ
（０．８３５ｍｍｏｌ）をジクロロメタン１０ｍｌに溶
解し、オルト酢酸メチル０．２７ｍｌおよびトリフルオ
ロ酢酸０．０７１ｍｌを加え、室温で２時間反応を行っ
た。減圧濃縮して溶媒を留去した後、ジクロロメタン
８．５ｍｌに溶解し、クロロトリメチルシラン０．２７
ｍｌを加え室温で２１時間攪拌した。その後さらにクロ
ロトリメチルシラン０．１１ｍｌを加え室温にて６時間
反応を行った後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１０ｍ
ｌおよびジクロロメタン１０ｍｌを加えて分層した。有
機層を飽和食塩水１０ｍｌで洗浄した後、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。ろ過、濃縮し、シリカゲル分取薄層
クロマトグラフィーで精製することにより（２Ｒ，３
Ｓ）−２−アセトキシ−１−クロロ−３−Ｎ，Ｎ−ジベ
ンジルアミノ−４−フェニルブタン２４８．３ｍｇ（収
率７０．５％）を得た。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：２．１
６（ｓ，３Ｈ），３．０８−３．１８（ｍ，２Ｈ），
３．３２（ｄｄ，１Ｈ），３．４９（ｄ，２Ｈ），３．
７５（ｄｄ，１Ｈ），４．０５（ｄ，２Ｈ），５．０２
（ｍ，１Ｈ），７．１１−７．１４（ｍ，２Ｈ），７．
１８−７．３５（ｍ，１３Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ４２２（ＭＨ+）
【００３６】（実施例４） （２Ｒ，３Ｓ）−３−Ｎ，
Ｎ−ジベンジルアミノ−４−フェニル−１−ブテンオキ
シドの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−２−アセトキシ−１−クロロ−３−
Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−４−フェニルブタン５１．
０ｍｇ（０．１２１ｍｍｏｌ）をメタノール１．２ｍｌ
に溶解し、炭酸カリウム３３ｍｇを加え、室温で２４時
間反応を行った。水４ｍｌを加え、酢酸エチル１０ｍｌ
で抽出した。有機層を飽和食塩水５ｍｌで洗浄した後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過、濃縮し、（２
Ｒ，３Ｓ）−３−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−４−フェ
ニル−１−ブテンオキシド３３．３ｍｇ（収率８０．１
％）を得た。
Ｎ−ジベンジルアミノ−４−フェニル−１−ブテンオキ
シドの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−２−アセトキシ−１−クロロ−３−
Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−４−フェニルブタン５１．
０ｍｇ（０．１２１ｍｍｏｌ）をメタノール１．２ｍｌ
に溶解し、炭酸カリウム３３ｍｇを加え、室温で２４時
間反応を行った。水４ｍｌを加え、酢酸エチル１０ｍｌ
で抽出した。有機層を飽和食塩水５ｍｌで洗浄した後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過、濃縮し、（２
Ｒ，３Ｓ）−３−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−４−フェ
ニル−１−ブテンオキシド３３．３ｍｇ（収率８０．１
％）を得た。
【００３７】（実施例５） （３Ｓ）−３−Ｎ−ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ−４−フェニル−１−ブテン
オキシドの製造 参考例８で得られた（３Ｓ）−３−Ｎ−ベンジルオキシ
カルボニルアミノ−１，２−ジヒドロキシ−４−フェニ
ルブタン２１６．１ｍｇ（０．６８５ｍｍｏｌ）をジク
ロロメタン７ｍｌに溶解しオルト酢酸メチル０．２２３
ｍｌおよびトリフルオロ酢酸０．０２５ｍｌを加え室温
で１時間攪拌した。減圧濃縮して溶媒を留去した後、ジ
クロロメタン６ｍｌに溶解し臭化アセチル０．１０１ｍ
ｌのジクロロメタン１ｍｌ溶液を滴下した。室温で１．
５時間攪拌した後、炭酸水素ナトリウム水溶液１０ｍｌ
およびジクロロメタン１５ｍｌを加え分層した後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過濃縮した後、シリカゲ
ル分取薄層クロマトグラフィーで精製し２７７．４ｍｇ
を得た。得られた化合物のうち２６４．４ｍｇをメタノ
ール３ｍｌに溶解し、炭酸カリウム１７４ｍｇを加え室
温で１時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液７ｍ
ｌおよびジクロロメタン１０ｍｌを加え分層した後、さ
らに水層よりジクロロメタン（５ｍｌｘ２）で抽出し
た。無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、ろ過、濃縮し、
シリカゲル分取薄層クロマトグラフィーで精製し上記目
的化合物１７１．２ｍｇを得た（収率８８．２％）。得
られたエポキシド体は1Ｈ−ＮＭＲの積分値よりジアス
テレオマー比を調べた結果、（２Ｓ，３Ｓ）：（２Ｒ，
３Ｓ）＝２：１のジアステレオマー混合物であった。 （ジアステレオマー混合物） 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：２．５
２−２．５８（ｍ，１／３Ｈ，（２Ｒ，３Ｓ）），２．
７１−２．８０（ｍ，４／３Ｈ，（２Ｓ，３Ｓ）），
２．８３−２．９５（ｍ，１Ｈ），２．９９（ｄｄ，１
Ｈ），３．６９−３．７２（ｍ，１Ｈ，２／３Ｈ，（２
Ｓ，３Ｓ）），４．１２−４．２５（ｍ，１Ｈ，１／３
Ｈ，（２Ｒ，３Ｓ）），４．６７−４．８０（ｍ，１
Ｈ），５．０３（ｓ，４／３Ｈ，（２Ｓ，３Ｓ），５．
０５（ｓ，２／３Ｈ，（２Ｒ，３Ｓ）），７．１８−
７．３５（ｍ，１０Ｈ）．
ルオキシカルボニルアミノ−４−フェニル−１−ブテン
オキシドの製造 参考例８で得られた（３Ｓ）−３−Ｎ−ベンジルオキシ
カルボニルアミノ−１，２−ジヒドロキシ−４−フェニ
ルブタン２１６．１ｍｇ（０．６８５ｍｍｏｌ）をジク
ロロメタン７ｍｌに溶解しオルト酢酸メチル０．２２３
ｍｌおよびトリフルオロ酢酸０．０２５ｍｌを加え室温
で１時間攪拌した。減圧濃縮して溶媒を留去した後、ジ
クロロメタン６ｍｌに溶解し臭化アセチル０．１０１ｍ
ｌのジクロロメタン１ｍｌ溶液を滴下した。室温で１．
５時間攪拌した後、炭酸水素ナトリウム水溶液１０ｍｌ
およびジクロロメタン１５ｍｌを加え分層した後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過濃縮した後、シリカゲ
ル分取薄層クロマトグラフィーで精製し２７７．４ｍｇ
を得た。得られた化合物のうち２６４．４ｍｇをメタノ
ール３ｍｌに溶解し、炭酸カリウム１７４ｍｇを加え室
温で１時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液７ｍ
ｌおよびジクロロメタン１０ｍｌを加え分層した後、さ
らに水層よりジクロロメタン（５ｍｌｘ２）で抽出し
た。無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、ろ過、濃縮し、
シリカゲル分取薄層クロマトグラフィーで精製し上記目
的化合物１７１．２ｍｇを得た（収率８８．２％）。得
られたエポキシド体は1Ｈ−ＮＭＲの積分値よりジアス
テレオマー比を調べた結果、（２Ｓ，３Ｓ）：（２Ｒ，
３Ｓ）＝２：１のジアステレオマー混合物であった。 （ジアステレオマー混合物） 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：２．５
２−２．５８（ｍ，１／３Ｈ，（２Ｒ，３Ｓ）），２．
７１−２．８０（ｍ，４／３Ｈ，（２Ｓ，３Ｓ）），
２．８３−２．９５（ｍ，１Ｈ），２．９９（ｄｄ，１
Ｈ），３．６９−３．７２（ｍ，１Ｈ，２／３Ｈ，（２
Ｓ，３Ｓ）），４．１２−４．２５（ｍ，１Ｈ，１／３
Ｈ，（２Ｒ，３Ｓ）），４．６７−４．８０（ｍ，１
Ｈ），５．０３（ｓ，４／３Ｈ，（２Ｓ，３Ｓ），５．
０５（ｓ，２／３Ｈ，（２Ｒ，３Ｓ）），７．１８−
７．３５（ｍ，１０Ｈ）．
【００３８】（実施例６） （２Ｒ，３Ｓ）−２−アセ
トキシ−１−ブロモ−３−Ｎ−ｔ−ブチルオキシカルボ
ニルアミノ−４−フェニルブタンの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−３−Ｎ−ブチルオキシカルボニルアミ
ノ−１，２−ジヒドロキシ−４−フェニルブタン１１
４．７ｍｇ（０．４０８ｍｍｏｌ）をジクロロメタン４
ｍｌに溶解しオルト酢酸メチル０．１３ｍｌおよびｐ−
トルエンスルホン酸ピリジン塩１．８ｍｇを加え室温で
１．５時間攪拌した。減圧濃縮して溶媒を留去した後、
ジクロロメタン４ｍｌに溶解しトリエチルアミン０．０
１１ｍｌを加え、臭化アセチル０．１０１ｍｌのジクロ
ロメタン１ｍｌ溶液を滴下した。室温で１時間攪拌した
後、炭酸水素ナトリウム水溶液１０ｍｌおよびジクロロ
メタン１０ｍｌを加え分層した後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。ろ過濃縮した後、シリカゲル分取薄層クロ
マトグラフィーで精製し上記表題化合物９０．３ｍｇを
得た（収率５７．３％）。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：１．３
８（ｓ，９Ｈ），２．１４（ｓ，３Ｈ），２．６８−
２．７６（ｍ，２Ｈ），３．４１−３．４３（ｍ，２
Ｈ），４．２７（ｍ，１Ｈ），４．６４（ｂｒ．ｄ，１
Ｈ），５．１２（ｍ，１Ｈ），７．１７−７．３３
（ｍ，５Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ４１０（Ｍ＋Ｎａ+）
トキシ−１−ブロモ−３−Ｎ−ｔ−ブチルオキシカルボ
ニルアミノ−４−フェニルブタンの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−３−Ｎ−ブチルオキシカルボニルアミ
ノ−１，２−ジヒドロキシ−４−フェニルブタン１１
４．７ｍｇ（０．４０８ｍｍｏｌ）をジクロロメタン４
ｍｌに溶解しオルト酢酸メチル０．１３ｍｌおよびｐ−
トルエンスルホン酸ピリジン塩１．８ｍｇを加え室温で
１．５時間攪拌した。減圧濃縮して溶媒を留去した後、
ジクロロメタン４ｍｌに溶解しトリエチルアミン０．０
１１ｍｌを加え、臭化アセチル０．１０１ｍｌのジクロ
ロメタン１ｍｌ溶液を滴下した。室温で１時間攪拌した
後、炭酸水素ナトリウム水溶液１０ｍｌおよびジクロロ
メタン１０ｍｌを加え分層した後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。ろ過濃縮した後、シリカゲル分取薄層クロ
マトグラフィーで精製し上記表題化合物９０．３ｍｇを
得た（収率５７．３％）。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：１．３
８（ｓ，９Ｈ），２．１４（ｓ，３Ｈ），２．６８−
２．７６（ｍ，２Ｈ），３．４１−３．４３（ｍ，２
Ｈ），４．２７（ｍ，１Ｈ），４．６４（ｂｒ．ｄ，１
Ｈ），５．１２（ｍ，１Ｈ），７．１７−７．３３
（ｍ，５Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ４１０（Ｍ＋Ｎａ+）
【００３９】（実施例７） （２Ｒ，３Ｓ）−３−Ｎ−
ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−４−フェニル−１
−ブテンオキシドの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−２−アセトキシ−１−ブロモ−３−Ｎ
−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−４−フェニルブ
タン６０．１ｍｇをメタノール１．６ｍｌに溶解し、炭
酸カリウム４３ｍｇを加え室温で４．５時間攪拌した。
不溶物をろ別し、減圧濃縮して溶媒を留去した後、水５
ｍｌを加え、酢酸エチル１０ｍｌで抽出した。有機層を
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、ろ過、濃縮し、シリカゲル分取薄層クロマトグラフ
ィーで精製し上記目的化合物４０．５ｍｇを得た（収率
９８．６％）。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：１．３
９（ｓ，９Ｈ），２．５８（ｍ，１Ｈ），２．６４
（ｔ，１Ｈ），２．８４−３．０３（ｍ，３Ｈ），４．
１２（ｍ，１Ｈ），４．４８（ｂｒ．，１Ｈ），７．２
０−７．３４（ｍ，５Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ２８６（Ｍ＋Ｎａ+）
ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−４−フェニル−１
−ブテンオキシドの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−２−アセトキシ−１−ブロモ−３−Ｎ
−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−４−フェニルブ
タン６０．１ｍｇをメタノール１．６ｍｌに溶解し、炭
酸カリウム４３ｍｇを加え室温で４．５時間攪拌した。
不溶物をろ別し、減圧濃縮して溶媒を留去した後、水５
ｍｌを加え、酢酸エチル１０ｍｌで抽出した。有機層を
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、ろ過、濃縮し、シリカゲル分取薄層クロマトグラフ
ィーで精製し上記目的化合物４０．５ｍｇを得た（収率
９８．６％）。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：１．３
９（ｓ，９Ｈ），２．５８（ｍ，１Ｈ），２．６４
（ｔ，１Ｈ），２．８４−３．０３（ｍ，３Ｈ），４．
１２（ｍ，１Ｈ），４．４８（ｂｒ．，１Ｈ），７．２
０−７．３４（ｍ，５Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ２８６（Ｍ＋Ｎａ+）
【００４０】（実施例８） （２Ｒ，３Ｓ）−２−アセ
トキシ−３−Ｎ−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−
１−クロロ−４−フェニルブタンの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−３−Ｎ−ブチルオキシカルボニルアミ
ノ−１，２−ジヒドロキシ−４−フェニルブタン９４．
９ｍｇ（０．３３７ｍｍｏｌ）をジクロロメタン３．４
ｍｌに溶解しオルト酢酸メチル０．１１ｍｌおよびｐ−
トルエンスルホン酸ピリジン塩２．２ｍｇを加え室温で
１時間１０分攪拌した。減圧濃縮して溶媒を留去した
後、ジクロロメタン３．４ｍｌに溶解しトリエチルアミ
ン０．０１０ｍｌおよびクロロトリメチルシラン０．０
６４ｍｌを加えた。室温で６時間４０分攪拌した後クロ
ロトリメチルシラン０．０２１ｍｌを追加し、さらに室
温で３０分攪拌した。炭酸水素ナトリウム水溶液５ｍｌ
およびジクロロメタン１０ｍｌを加え分層した後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過濃縮した後、シリカゲ
ル分取薄層クロマトグラフィーで精製し上記表題化合物
８７．５ｍｇを得た（収率７５．９％）。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：１．３
９（ｓ，９Ｈ），２．１３（ｓ，３Ｈ），２．７４−
２．７７（ｍ，２Ｈ），３．５６−３．５８（ｍ，２
Ｈ），４．２３（ｍ，１Ｈ），４．６５（ｍ，１Ｈ），
５．１０（ｍ，１Ｈ），７．１７−７．３３（ｍ，５
Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ３６４（ｍ＋Ｎａ+）
トキシ−３−Ｎ−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−
１−クロロ−４−フェニルブタンの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−３−Ｎ−ブチルオキシカルボニルアミ
ノ−１，２−ジヒドロキシ−４−フェニルブタン９４．
９ｍｇ（０．３３７ｍｍｏｌ）をジクロロメタン３．４
ｍｌに溶解しオルト酢酸メチル０．１１ｍｌおよびｐ−
トルエンスルホン酸ピリジン塩２．２ｍｇを加え室温で
１時間１０分攪拌した。減圧濃縮して溶媒を留去した
後、ジクロロメタン３．４ｍｌに溶解しトリエチルアミ
ン０．０１０ｍｌおよびクロロトリメチルシラン０．０
６４ｍｌを加えた。室温で６時間４０分攪拌した後クロ
ロトリメチルシラン０．０２１ｍｌを追加し、さらに室
温で３０分攪拌した。炭酸水素ナトリウム水溶液５ｍｌ
およびジクロロメタン１０ｍｌを加え分層した後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過濃縮した後、シリカゲ
ル分取薄層クロマトグラフィーで精製し上記表題化合物
８７．５ｍｇを得た（収率７５．９％）。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：１．３
９（ｓ，９Ｈ），２．１３（ｓ，３Ｈ），２．７４−
２．７７（ｍ，２Ｈ），３．５６−３．５８（ｍ，２
Ｈ），４．２３（ｍ，１Ｈ），４．６５（ｍ，１Ｈ），
５．１０（ｍ，１Ｈ），７．１７−７．３３（ｍ，５
Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ３６４（ｍ＋Ｎａ+）
【００４１】（実施例９） （２Ｒ，３Ｓ）−３−Ｎ−
ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−４−フェニル−１
−ブテンオキシドの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−２−アセトキシ−３−Ｎ−ｔ−ブチル
オキシカルボニルアミノ−１−クロロ−４−フェニルブ
タン５０．２ｍｇをメタノール１．５ｍｌに溶解し、炭
酸カリウム４１ｍｇを加え室温で５時間攪拌した。水５
ｍｌを加え、酢酸エチル１０ｍｌで抽出した後、有機層
を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。ろ過、濃縮し、シリカゲル分取薄層クロマトグラフ
ィーで精製し上記目的化合物３４．６ｍｇを得た（収率
８９．４％）。
ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−４−フェニル−１
−ブテンオキシドの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−２−アセトキシ−３−Ｎ−ｔ−ブチル
オキシカルボニルアミノ−１−クロロ−４−フェニルブ
タン５０．２ｍｇをメタノール１．５ｍｌに溶解し、炭
酸カリウム４１ｍｇを加え室温で５時間攪拌した。水５
ｍｌを加え、酢酸エチル１０ｍｌで抽出した後、有機層
を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。ろ過、濃縮し、シリカゲル分取薄層クロマトグラフ
ィーで精製し上記目的化合物３４．６ｍｇを得た（収率
８９．４％）。
【００４２】（実施例１０） （２Ｓ，３Ｓ）−２−ア
セトキシ−３−Ｎ−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ
−１−クロロ−４−フェニルブタンの製造 （２Ｓ，３Ｓ）−３−Ｎ−ブチルオキシカルボニルアミ
ノ−１，２−ジヒドロキシ−４−フェニルブタン５４．
５ｍｇ（０．３３７ｍｍｏｌ）をジクロロメタン２ｍｌ
に溶解しオルト酢酸メチル０．０６２ｍｌおよびｐ−ト
ルエンスルホン酸ピリジン塩１．０ｍｇを加え室温で１
時間攪拌した。減圧濃縮して溶媒を留去した後、ジクロ
ロメタン２ｍｌに溶解しトリエチルアミン０．００６ｍ
ｌおよびクロロトリメチルシラン０．０４９ｍｌを加え
た。。室温で１６時間攪拌した後クロロトリメチルシラ
ン０．０２５ｍｌを追加し、さらに室温で７時間３０分
攪拌した。炭酸水素ナトリウム水溶液６ｍｌおよびジク
ロロメタン７ｍｌを加え分層した後、有機層を飽和食塩
水６ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ
過濃縮した後、シリカゲル分取薄層クロマトグラフィー
で精製し上記表題化合物３７．３ｍｇを得た（収率５
６．２％）。また、（２Ｒ，３Ｓ）−１−アセトキシ−
３−Ｎ−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−２−クロ
ロ−４−フェニルブタン１５．５ｍｇを得た（収率２
３．４％）。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：１．３
３（ｓ，９Ｈ），２．１４（ｓ，３Ｈ），２．７３
（ｍ，１Ｈ），２．９５（ｄｄ，１Ｈ），３．６１−
３．７３（ｍ，２Ｈ），４．１７（ｍ，１Ｈ），４．４
６（ｍ，１Ｈ），５．１３（ｍ，１Ｈ），７．１７−
７．３３（ｍ，５Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ３６４（Ｍ＋Ｎａ+） （２Ｒ，３Ｓ）−１−アセトキシ−３−Ｎ−ｔ−ブチル
オキシカルボニルアミノ−２−クロロ−４−フェニルブ
タン 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：１．４
１（ｓ，９Ｈ），２．０４（ｓ，３Ｈ），２．８６（ｄ
ｄ，１Ｈ），２．９７（ｄｄ，１Ｈ），４．０３（ｄ
ｔ，１Ｈ），４．２１−４．３２（ｍ，３Ｈ），４．７
８（ｂｒ．ｄ，１Ｈ），７．２１−７．３４（ｍ，５
Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ３６４（Ｍ＋Ｎａ+）
セトキシ−３−Ｎ−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ
−１−クロロ−４−フェニルブタンの製造 （２Ｓ，３Ｓ）−３−Ｎ−ブチルオキシカルボニルアミ
ノ−１，２−ジヒドロキシ−４−フェニルブタン５４．
５ｍｇ（０．３３７ｍｍｏｌ）をジクロロメタン２ｍｌ
に溶解しオルト酢酸メチル０．０６２ｍｌおよびｐ−ト
ルエンスルホン酸ピリジン塩１．０ｍｇを加え室温で１
時間攪拌した。減圧濃縮して溶媒を留去した後、ジクロ
ロメタン２ｍｌに溶解しトリエチルアミン０．００６ｍ
ｌおよびクロロトリメチルシラン０．０４９ｍｌを加え
た。。室温で１６時間攪拌した後クロロトリメチルシラ
ン０．０２５ｍｌを追加し、さらに室温で７時間３０分
攪拌した。炭酸水素ナトリウム水溶液６ｍｌおよびジク
ロロメタン７ｍｌを加え分層した後、有機層を飽和食塩
水６ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ
過濃縮した後、シリカゲル分取薄層クロマトグラフィー
で精製し上記表題化合物３７．３ｍｇを得た（収率５
６．２％）。また、（２Ｒ，３Ｓ）−１−アセトキシ−
３−Ｎ−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−２−クロ
ロ−４−フェニルブタン１５．５ｍｇを得た（収率２
３．４％）。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：１．３
３（ｓ，９Ｈ），２．１４（ｓ，３Ｈ），２．７３
（ｍ，１Ｈ），２．９５（ｄｄ，１Ｈ），３．６１−
３．７３（ｍ，２Ｈ），４．１７（ｍ，１Ｈ），４．４
６（ｍ，１Ｈ），５．１３（ｍ，１Ｈ），７．１７−
７．３３（ｍ，５Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ３６４（Ｍ＋Ｎａ+） （２Ｒ，３Ｓ）−１−アセトキシ−３−Ｎ−ｔ−ブチル
オキシカルボニルアミノ−２−クロロ−４−フェニルブ
タン 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：１．４
１（ｓ，９Ｈ），２．０４（ｓ，３Ｈ），２．８６（ｄ
ｄ，１Ｈ），２．９７（ｄｄ，１Ｈ），４．０３（ｄ
ｔ，１Ｈ），４．２１−４．３２（ｍ，３Ｈ），４．７
８（ｂｒ．ｄ，１Ｈ），７．２１−７．３４（ｍ，５
Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ３６４（Ｍ＋Ｎａ+）
Claims (2)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で示されるＮ−保護さ
れた３−アミノ−１，２−ジオールを、 【化１】 （式中のＲ1は、置換基を有していてもよい炭素数２〜1
8個の直鎖、分岐もしくは環状のアルカノイル基、置換
基を有していてもよい炭素数２〜18個の直鎖、分岐もし
くは環状のアルコキシカルボニル基、置換基を有してい
てもよいベンジル基、またはＲ2と一緒になって炭素数
８〜18個の２塩基酸の残基を示し、Ｒ2は水素、置換基
を有していてもよいベンジル基またはＲ1と一緒になっ
て炭素数８〜18個の２塩基酸の残基を示し、Ｒ3は、置
換基を有していてもよい炭素数１〜18個の直鎖、分岐も
しくは環状のアルキル基、炭素数７〜18個アラルキル
基、または炭素数６〜18個のアリール基を示す。）酸触
媒存在下、オルト酢酸エステルまたはオルト蟻酸エステ
ルと反応させることにより下記一般式（ＩＩ）で示され
るアルコキシアルキリデン体とし、 【化２】 （但し、Ｒ1，Ｒ2及びＲ3は上記と同じであり、Ｒ4は炭
素数１〜４個のアルキル基を示し、Ｒ5は水素またはメ
チル基を示す。）更にこれをハロゲン化剤と反応させる
ことにより下記一般式（ＩＩＩ）で示されるアルコキシ
ハロゲン化物に導き、 【化３】 （但し、Ｒ1，Ｒ2、Ｒ3及びＲ5は上記と同じであり、Ｘ
は塩素または臭素を示す。）これを塩基で処理すること
により下記一般式（ＩＶ）で示されるエポキシド体に変
換することを特徴とする３−アミノ−１，２−オキシラ
ンの製造方法。 【化４】 （但し、Ｒ1，Ｒ2及びＲ3は上記と同じである。） - 【請求項２】 一般式（ＩＩＩ）で表される２−アセト
キシ−３−アミノ−１−ハロゲン化物。 【化５】 （式中のＲ1は、置換基を有していてもよい炭素数２〜1
8個の直鎖、分岐もしくは環状のアルカノイル基、置換
基を有していてもよい炭素数２〜18個の直鎖、分岐もし
くは環状のアルコキシカルボニル基、置換基を有してい
てもよいベンジル基またはＲ2と一緒になって炭素数８
〜18個の２塩基酸の残基を示し、Ｒ2は水素、置換基を
有していてもよいベンジル基またはＲ1と一緒になって
炭素数８〜18個の２塩基酸の残基を示し、Ｒ3は、置換
基を有していてもよい炭素数１〜18個の直鎖、分岐もし
くは環状のアルキル基、炭素数７〜18個アラルキル基、
または炭素数６〜18個のアリール基を示し、Ｘは塩素ま
たは臭素を示す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14273596A JPH09323960A (ja) | 1996-06-05 | 1996-06-05 | ３−アミノ−１，２−オキシランの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14273596A JPH09323960A (ja) | 1996-06-05 | 1996-06-05 | ３−アミノ−１，２−オキシランの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09323960A true JPH09323960A (ja) | 1997-12-16 |
Family
ID=15322368
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14273596A Pending JPH09323960A (ja) | 1996-06-05 | 1996-06-05 | ３−アミノ−１，２−オキシランの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09323960A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000044736A1 (fr) * | 1999-01-29 | 2000-08-03 | Kaneka Corporation | PROCEDE DE PREPARATION DE DERIVES DE threo-1,2-EPOXY-3-AMINO-4-PHENYLBUTANE |
| EP1050532A2 (en) * | 1999-05-03 | 2000-11-08 | Aerojet Fine Chemicals LLC | Preparation of S,S and R,S amino acid isosteres |
| WO2002024671A1 (en) * | 2000-09-18 | 2002-03-28 | Phoenix Chemicals Limited | Process for preparing optically active epoxides |
| CN106380412A (zh) * | 2016-08-31 | 2017-02-08 | 中国科学院新疆生态与地理研究所 | 一种合成利托那韦中间体的方法 |
-
1996
- 1996-06-05 JP JP14273596A patent/JPH09323960A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000044736A1 (fr) * | 1999-01-29 | 2000-08-03 | Kaneka Corporation | PROCEDE DE PREPARATION DE DERIVES DE threo-1,2-EPOXY-3-AMINO-4-PHENYLBUTANE |
| EP1050532A2 (en) * | 1999-05-03 | 2000-11-08 | Aerojet Fine Chemicals LLC | Preparation of S,S and R,S amino acid isosteres |
| EP1050532A3 (en) * | 1999-05-03 | 2001-12-19 | Aerojet Fine Chemicals LLC | Preparation of s,s and r,s amino acid isosteres |
| WO2002024671A1 (en) * | 2000-09-18 | 2002-03-28 | Phoenix Chemicals Limited | Process for preparing optically active epoxides |
| US6693205B2 (en) | 2000-09-18 | 2004-02-17 | Phoenix Chemicals Limited | Process for preparing optically active epoxides |
| CN106380412A (zh) * | 2016-08-31 | 2017-02-08 | 中国科学院新疆生态与地理研究所 | 一种合成利托那韦中间体的方法 |
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