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JPH09297003A - Displacement detection apparatus - Google Patents

Displacement detection apparatus

Info

Publication number
JPH09297003A
JPH09297003A JP8110959A JP11095996A JPH09297003A JP H09297003 A JPH09297003 A JP H09297003A JP 8110959 A JP8110959 A JP 8110959A JP 11095996 A JP11095996 A JP 11095996A JP H09297003 A JPH09297003 A JP H09297003A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thick film
resistors
thick
offset adjustment
displacement
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8110959A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Yokoya
昌広 横谷
Hideki Umemoto
英樹 梅元
Naoki Hiraoka
直樹 平岡
Wataru Fukui
渉 福井
Yutaka Ohashi
豊 大橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP8110959A priority Critical patent/JPH09297003A/en
Publication of JPH09297003A publication Critical patent/JPH09297003A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
  • Indication And Recording Devices For Special Purposes And Tariff Metering Devices (AREA)
  • Transmission And Conversion Of Sensor Element Output (AREA)
  • Measuring Instrument Details And Bridges, And Automatic Balancing Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a displacement detection apparatus whose offset adjusting accuracy and output characteristic accuracy are enhanced and which is adjusted easily by a method wherein an offset adjusting means which is composed of a plurality of resistors is installed at least at one out of components for a Whetstone bridge circuit. SOLUTION: One end of a magnetism detection element 1 and one end of a thick-film resistance 10a are connected to a power-supply terminal (+B). One end of a magnetism detection element 2 and one end of a thick-film resistance 11a are grounded. Ends, on the other side, of the magnetism detection elements 1, 2 are connected to a connection point 5. The other end of the thick-film resistance 10a and one end of a thick-film resistance 10b are connected in common. The other end of the thick-film resistance 11a and one end of the thick-film resistance 11b are connected in common. Respective end, on the other side, of the thick-film resistances 10b, 11b are connected to a connection point 6. The resistances 10a, 10b, 11a, 11b form an offset adjusting means. Then, the output of the connection point 5 by the elements 1, 2 whose resistance is changed by an applied magnetic field and the output of the connection point 6 by the resistances 10b, 11b which are arranged so as to be faced together with the resistances 10a, 11a are amplified by a differential amplifier 7, and an output which corresponds to a rotating displacement or a linear displacement is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、変位検出装置に
関し、特に例えば磁気検出素子にて回転変位あるいは直
線変位を検出する変位検出装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a displacement detecting device, and more particularly to a displacement detecting device which detects a rotational displacement or a linear displacement by a magnetic detecting element.

【0002】[0002]

【従来の技術】図5は、磁気検出素子を用いた従来の変
位検出装置を概略的に示す構成図である。図において、
1および2は構成要素としての磁気検出素子、3および
4は例えばセラミック基板上に印刷された厚膜抵抗であ
って、磁気検出素子1と厚膜抵抗3の各一端は共通接続
されて電源端子+Bに接続され、磁気検出素子2と厚膜
抵抗4の各一端は共通接続されて接地され、磁気検出素
子1および2の各他端は接続点5に接続され、厚膜抵抗
3および4の各他端は接続点6に接続され、ホイートス
トンブリッジ回路を構成している。7は差動増幅回路で
あって、その各入力端子がそれぞれ接続点5および6に
接続されている。
2. Description of the Related Art FIG. 5 is a schematic diagram showing a conventional displacement detecting device using a magnetic detecting element. In the figure,
1 and 2 are magnetic detection elements as constituent elements, and 3 and 4 are thick film resistors printed on, for example, a ceramic substrate, and one end of each of the magnetic detection element 1 and the thick film resistor 3 is commonly connected to a power supply terminal. + B, one ends of the magnetic detection element 2 and the thick film resistor 4 are commonly connected and grounded, and the other ends of the magnetic detection elements 1 and 2 are connected to the connection point 5, and the thick film resistors 3 and 4 are connected. The other end is connected to the connection point 6 to form a Wheatstone bridge circuit. Reference numeral 7 denotes a differential amplifier circuit whose input terminals are connected to the connection points 5 and 6, respectively.

【0003】次に、動作について説明する。印加磁界に
より抵抗変化を生じる磁気検出素子1および2の接続点
5の出力と、磁気検出素子1および2とそれぞれ対向し
て配置されている厚膜抵抗3および4の接続点6の出力
を差動増幅回路7により増幅し、回転変位あるいは直線
変位に対応した出力を得る。
Next, the operation will be described. The output of the connection point 5 of the magnetic detection elements 1 and 2 which causes a resistance change due to the applied magnetic field and the output of the connection point 6 of the thick film resistors 3 and 4 which are arranged so as to face the magnetic detection elements 1 and 2 respectively differ. It is amplified by the dynamic amplification circuit 7 and an output corresponding to the rotational displacement or the linear displacement is obtained.

【0004】ところで、このような変位検出装置におい
ては、一般的に厚膜抵抗3または4をトリミングするこ
とによりホイートストンブリッジ回路のオフセット調整
を行っている。ここで問題となるのがオフセット調整の
精度である。磁気検出素子1および2は、通常、所定の
パターンに形成された感磁面を有し、この感磁面のパタ
ーンに対して垂直な方向に、或いは飽和磁界以上で所定
の角度で磁界を印加することにより、磁気抵抗素子を形
成する上記所定のパターンの抵抗値が、図6に示すよう
に、非印加時を最大値(Rmax)として印加される磁界
の磁束密度に応じて最小値(Rmin)まで変化する。一
例として、磁気抵抗素子1および2が強磁性体磁気抵抗
素子の場合、その抵抗値の最大値と最小値の差をΔRと
すると、磁界印加時の抵抗変化率(ΔR/Rmax)は、例
えばNi−Feで約3%と小さい。従って、後段に差動
増幅回路7を設けて増幅をする必要があり、このため、
オフセット調整精度によりその出力特性が左右される。
By the way, in such a displacement detecting device, the offset adjustment of the Wheatstone bridge circuit is generally performed by trimming the thick film resistors 3 or 4. The problem here is the accuracy of offset adjustment. The magnetic detection elements 1 and 2 usually have a magnetic sensitive surface formed in a predetermined pattern, and apply a magnetic field in a direction perpendicular to the pattern of the magnetic sensitive surface or at a predetermined angle equal to or higher than the saturation magnetic field. By doing so, the resistance value of the predetermined pattern forming the magnetoresistive element is, as shown in FIG. 6, the minimum value (Rmin) according to the magnetic flux density of the applied magnetic field with the maximum value (Rmax) when not applied. ). As an example, when the magnetoresistive elements 1 and 2 are ferromagnetic magnetoresistive elements, if the difference between the maximum value and the minimum value of the resistance value is ΔR, the resistance change rate (ΔR / Rmax) when a magnetic field is applied is, for example, Ni-Fe is as small as about 3%. Therefore, it is necessary to provide the differential amplifier circuit 7 in the subsequent stage to perform amplification.
The output characteristics depend on the offset adjustment accuracy.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の変位
検出装置では、このオフセット調整をホイートストンブ
リッジ回路のアームに挿入された抵抗値の大きい単一の
厚膜抵抗3または4を直接トリミングして行っており、
トリミングした量に対して抵抗値の値が大きく変化する
ので、良好なオフセット調整精度を確保できないという
問題点があった。即ち、いま、例えば、電源端子+Bの
電圧をVとすると、オフセット調整が完全であれば、接
続点5および6には同電位の電圧V/2が現れ、差動増
幅回路7の両方の入力端子間の電位差は0である。従っ
て、差動増幅回路7の出力側には、これに対応した図4
に実線で示すような差動増幅回路7の増幅度だけ増幅さ
れた出力電圧(V1+V2)/2が中点電圧として出力さ
れる。
However, in the conventional displacement detecting device, this offset adjustment is performed by directly trimming the single thick film resistor 3 or 4 having a large resistance value inserted in the arm of the Wheatstone bridge circuit. And
Since the resistance value greatly changes with respect to the trimmed amount, there is a problem that good offset adjustment accuracy cannot be ensured. That is, for example, assuming that the voltage of the power supply terminal + B is V, the voltage V / 2 of the same potential appears at the connection points 5 and 6 if the offset adjustment is complete, and both inputs of the differential amplifier circuit 7 are input. The potential difference between the terminals is zero. Therefore, the output side of the differential amplifier circuit 7 is provided with the corresponding FIG.
The output voltage (V 1 + V 2 ) / 2 amplified by the amplification degree of the differential amplifier circuit 7 as shown by the solid line is output as the midpoint voltage.

【0006】この状態で、磁気検出素子1および2によ
り被検出体の変位が検出されると、ホイートストンブリ
ッジ回路のオフセット電圧はこの場合0Vであるので、
ホイートストンブリッジ回路の接続点5および6の電位
差は実質的に0Vを基準に上下に変化することになる。
この結果、この変化分が検出出力として差動増幅回路7
で増幅され、その出力電圧は図4に示すように中点電圧
(V1+V2)/2を中心に上下に電圧V1,V2の間で変
化する。ここで、電圧V1,V2は被検出体が0を基準に
して左右(−X側およびX側)に変位したときの差動増
幅回路7の出力電圧のそれぞれの側における最大値を実
質的に表している。
In this state, when the displacement of the object is detected by the magnetic detection elements 1 and 2, the offset voltage of the Wheatstone bridge circuit is 0V in this case,
The potential difference between the connection points 5 and 6 of the Wheatstone bridge circuit changes up and down substantially with 0V as a reference.
As a result, this change is detected as a detection output by the differential amplifier circuit 7.
And the output voltage changes vertically between the voltages V 1 and V 2 around the midpoint voltage (V 1 + V 2 ) / 2 as shown in FIG. Here, the voltages V 1 and V 2 are substantially the maximum values on the respective sides of the output voltage of the differential amplifier circuit 7 when the detected body is displaced to the left and right (−X side and X side) with reference to 0. It represents.

【0007】ところが、ホイートストンブリッジ回路の
オフセット調整が悪いと、その調整ずれによるオフセッ
ト電圧だけ基準値よりシフトした状態で、ホイートスト
ンブリッジ回路および差動増幅回路7は上述の動作を行
うことになり、その変位検出は正確でないものになる。
図4において、破線で示す特性は、オフセット調整後の
従来の変位検出装置における差動増幅回路7の実際の出
力電圧を示したもので、オフセット調整が完全な実線で
示す理想的な特性に対して、厚膜抵抗3または4のトリ
ミングによるオフセット調整の結果としてそれぞれ上下
にずれ分D1を生じる。
However, if the offset adjustment of the Wheatstone bridge circuit is poor, the Wheatstone bridge circuit and the differential amplifier circuit 7 perform the above-mentioned operation in a state where the offset voltage is shifted from the reference value due to the adjustment deviation. Displacement detection becomes inaccurate.
In FIG. 4, the characteristic indicated by the broken line shows the actual output voltage of the differential amplifier circuit 7 in the conventional displacement detection device after the offset adjustment, and the offset adjustment is compared with the ideal characteristic indicated by the solid line. As a result of the offset adjustment by trimming the thick film resistors 3 or 4, a vertical shift amount D 1 is generated.

【0008】因みに、従来の変位検出装置のホイートス
トンブリッジ回路におけるオフセット電圧は、トリミン
グの仕方によっても異なるが、大体10mV程度であり、
差動増幅回路7の増幅度を約67倍(例えばホイートス
トンブリッジ回路の接続点5および6の電位差の基準値
(中位電圧)に対する変化量を±30mV、V1を0.5V、
2を4.5V、フルスケール時の差動増幅回路7の出力電
圧VFS(=V2−V1)を4Vとした場合)とすると、上
述のずれ分D1は670mVとなる。
By the way, the offset voltage in the Wheatstone bridge circuit of the conventional displacement detecting device is about 10 mV, although it depends on the trimming method.
The amplification degree of the differential amplifier circuit 7 is about 67 times (for example, the amount of change of the potential difference between the connection points 5 and 6 of the Wheatstone bridge circuit with respect to the reference value (medium voltage) is ± 30 mV, V 1 is 0.5 V,
Assuming that V 2 is 4.5 V and the output voltage V FS (= V 2 −V 1 ) of the differential amplifier circuit 7 at full scale is 4 V), the above-mentioned deviation D 1 becomes 670 mV.

【0009】このように、従来の変位検出装置では、こ
のオフセット調整をホイートストンブリッジ回路の厚膜
抵抗3または4をトリミングして行っているので、良好
なオフセット調整精度を確保できず、出力特性が劣化す
るという問題点があった。また、ホイートストンブリッ
ジ回路の辺に挿入された抵抗値が大きい単一の厚膜抵抗
3または4だけのトリミングでオフセット調整精度を上
げるには、上述のごとくトリミングした量に対して抵抗
値の値が大きく変化するので、所望の値まで追い込むに
は調整が困難で、しかも、手間がかかり作業性も悪いと
いう問題点があった。
As described above, in the conventional displacement detection device, this offset adjustment is performed by trimming the thick film resistors 3 or 4 of the Wheatstone bridge circuit, so that good offset adjustment accuracy cannot be ensured and the output characteristics are improved. There was a problem of deterioration. Further, in order to improve the offset adjustment accuracy by trimming only the single thick film resistor 3 or 4 having a large resistance value inserted in the side of the Wheatstone bridge circuit, the value of the resistance value with respect to the trimmed amount as described above is set. Since there is a large change, it is difficult to make adjustments to reach the desired value, and it is troublesome and the workability is poor.

【0010】この発明はこのような問題点を解決するた
めになされたもので、ホイートストンブリッジ回路のオ
フセット調整精度を向上できると共に、出力特性精度も
向上でき、しかもオフセット調整を容易に行うことがで
きる作業性の優れた変位検出装置を提供することを目的
とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and can improve the offset adjustment accuracy of the Wheatstone bridge circuit and the output characteristic accuracy, and can easily perform the offset adjustment. An object of the present invention is to provide a displacement detection device with excellent workability.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明に係
る変位検出装置は、四辺の構成要素の少なくとも一つに
検出素子を用いるブリッジ回路を備えた変位検出装置で
あって、構成要素の少なくとも一つに複数の抵抗体から
なるオフセット調整手段を用いるものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a displacement detecting device comprising a bridge circuit using a detecting element as at least one of the four side components, the displacement detecting device comprising: At least one of them uses an offset adjusting means composed of a plurality of resistors.

【0012】請求項2記載の発明に係る変位検出装置
は、請求項1の発明において、複数の抵抗体が直列接続
され、これら複数の抵抗体の少なくとも一つを用いてオ
フセット調整を行うものである。
A displacement detecting device according to a second aspect of the present invention is the displacement detecting device according to the first aspect of the invention, wherein a plurality of resistors are connected in series, and offset adjustment is performed using at least one of the plurality of resistors. is there.

【0013】請求項3記載の発明に係る変位検出装置
は、請求項1の発明において、複数の抵抗体が並列接続
され、これら複数の抵抗体の少なくとも一つを用いてオ
フセット調整を行うものである。
A displacement detecting device according to a third aspect of the present invention is the displacement detecting device according to the first aspect of the invention, wherein a plurality of resistors are connected in parallel, and offset adjustment is performed using at least one of the plurality of resistors. is there.

【0014】請求項4記載の発明に係る変位検出装置
は、請求項1〜3のいずれかの発明において、複数の抵
抗体の抵抗値比率を異なる値としたものである。
A displacement detecting device according to a fourth aspect of the present invention is the displacement detecting device according to any one of the first to third aspects, in which the resistance value ratios of the plurality of resistors are different.

【0015】請求項5記載の発明に係る変位検出装置
は、請求項1〜4のいずれかの発明において、複数の抵
抗体が厚膜抵抗であるものである。
A displacement detecting device according to a fifth aspect of the present invention is the displacement detecting device according to any one of the first to fourth aspects, wherein the plurality of resistors are thick film resistors.

【0016】請求項6記載の発明に係る変位検出装置
は、請求項1〜5のいずれかの発明において、検出素子
として磁気検出素子を用いたものである。
According to a sixth aspect of the invention, there is provided a displacement detecting device according to any one of the first to fifth aspects, wherein a magnetic detecting element is used as the detecting element.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施の形態
を、検出素子として磁気検出素子を用いた場合を例に取
り、図について説明する。 実施の形態1.図1はこの発明の実施の形態1を示す構
成図であり、図5と対応する部分には同一符号を付し、
その詳細説明は省略する。図において、10aおよび1
0bは例えばセラミック基板上に直列に印刷された互い
に抵抗値の異なるオフセット調整手段である抵抗体とし
ての厚膜抵抗,11aおよび11bは同じく例えばセラ
ミック基板上に直列に印刷された互いに抵抗値の異なる
オフセット調整手段である抵抗体としての厚膜抵抗であ
る。これらの厚膜抵抗10aと10bおよび11aと1
1bの抵抗値比率は、例えば1:2〜1:100程度と
される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings, taking a case where a magnetic detection element is used as a detection element. Embodiment 1. 1 is a configuration diagram showing a first embodiment of the present invention, in which parts corresponding to those in FIG.
The detailed description is omitted. In the figure, 10a and 1
0b is a thick film resistor as a resistor which is an offset adjusting means having different resistance values printed in series on a ceramic substrate, and 11a and 11b are different resistance values which are also printed in series on a ceramic substrate. It is a thick film resistor as a resistor which is an offset adjusting means. These thick film resistors 10a and 10b and 11a and 1
The resistance value ratio of 1b is, for example, about 1: 2 to 1: 100.

【0018】磁気検出素子1と厚膜抵抗10aの各一端
は共通接続されて電源端子+Bに接続され、磁気検出素
子2と厚膜抵抗11aの各一端は共通接続されて接地さ
れ、磁気検出素子1および2の各他端は接続点5に接続
され、厚膜抵抗10aの他端と厚膜抵抗10bの一端は
共通接続され、厚膜抵抗11aの他端と厚膜抵抗11b
の一端は共通接続され、厚膜抵抗10bおよび11bの
各他端は接続点6に接続され、ホイートストンブリッジ
回路を構成している。
Each end of the magnetic detecting element 1 and the thick film resistor 10a is commonly connected and connected to the power supply terminal + B, and each end of the magnetic detecting element 2 and the thick film resistor 11a is commonly connected and grounded. The other ends of 1 and 2 are connected to a connection point 5, the other end of the thick film resistor 10a and one end of the thick film resistor 10b are commonly connected, and the other end of the thick film resistor 11a and the thick film resistor 11b are connected.
Has one end connected in common, and the other ends of the thick film resistors 10b and 11b are connected to the connection point 6 to form a Wheatstone bridge circuit.

【0019】次に、動作について説明する。印加磁界に
より抵抗変化を生じる磁気検出素子1および2の接続点
5の出力と、磁気検出素子1および2に対してそれぞれ
厚膜抵抗10aおよび11aと共に対向して配置されて
いる厚膜抵抗10bおよび11bの接続点6の出力を差
動増幅回路7により増幅し、回転変位あるいは直線変位
に対応した出力を得る。
Next, the operation will be described. The output of the connection point 5 of the magnetic detection elements 1 and 2 that causes a resistance change due to the applied magnetic field, and the thick film resistance 10b and the thick film resistance 10b that are arranged to face the magnetic detection elements 1 and 2 together with the thick film resistances 10a and 11a, respectively. The output of the connection point 6 of 11b is amplified by the differential amplifier circuit 7, and the output corresponding to the rotational displacement or the linear displacement is obtained.

【0020】ここで、ホイートストンブリッジ回路のオ
フセット調整について考える。これには、幾通りかの方
法が考えられる。第1の方法として、例えば、抵抗値の
大きな厚膜抵抗10aおよび11aをある値に固定し、
抵抗値の小さい厚膜抵抗10bおよび11bを調整に必
要な抵抗値変動分のみ見込んだ厚膜抵抗として構成す
る。そして、調整する場合には、これら厚膜抵抗10b
および11bの少なくとも一方をトリミングして調整を
行う。
Here, the offset adjustment of the Wheatstone bridge circuit will be considered. There are several possible ways to do this. As a first method, for example, by fixing the thick film resistors 10a and 11a having a large resistance value to a certain value,
The thick film resistors 10b and 11b having a small resistance value are configured as thick film resistors in consideration of only the variation in the resistance value necessary for adjustment. When adjusting, these thick film resistors 10b
Adjustment is performed by trimming at least one of and 11b.

【0021】第2の方法として、厚膜抵抗10aと10
bおよび厚膜抵抗11aと11bは互いにその抵抗値が
異なるので、少なくとも一方の側において、先ず、抵抗
値の大きい方の厚膜抵抗10aまたは11aに対してト
リミングを施して粗調整を行い、次いで、抵抗値の小さ
い方の厚膜抵抗10bまたは11bに対してトリミング
を施して微調整を行う。
As a second method, thick film resistors 10a and 10
Since b and the thick film resistors 11a and 11b have different resistance values from each other, first, on at least one side, the thick film resistor 10a or 11a having the larger resistance value is trimmed for rough adjustment, and then, The trimming is performed on the thick film resistor 10b or 11b having the smaller resistance value for fine adjustment.

【0022】図4において、一点鎖線で示すのは、本実
施の形態におけるオフセット調整後の差動増幅回路7の
実際の出力電圧を示したもので、オフセット調整が完全
な実線で示す理想的な特性に対して、上述のごとく厚膜
抵抗10a,10b或いは厚膜抵抗11a,11bに対
してトリミングを施してそれぞれ調整を行った結果とし
てそれぞれ上下にずれ分D2(≪D1)を生じるが、本実
施の形態では、上述のごとく、オフセット調整を行う際
に、最終的に抵抗値の小さい方の厚膜抵抗の調整で所望
の値まで追い込むので、トリミングした量に対して抵抗
値の値が変化が小さく、高精度のオフセット調整が可能
となり、上述のずれ分D2を従来のずれ分D1の数十分の
一程度例えば50mV程度の相当小さい値に抑えることが
でき、トリミングのやり方によってはこのずれ分D2
0即ちオフセット電圧を0とすることができる。
In FIG. 4, the alternate long and short dash line shows the actual output voltage of the differential amplifier circuit 7 after the offset adjustment in the present embodiment, and the ideal offset adjustment is shown by the complete solid line. With respect to the characteristics, as described above, the thick film resistors 10a and 10b or the thick film resistors 11a and 11b are trimmed and adjusted, respectively, and as a result, a vertical shift amount D 2 (<< D 1 ) occurs. In the present embodiment, as described above, when performing the offset adjustment, the thick film resistance of the smaller resistance value is finally adjusted to the desired value, so the value of the resistance value with respect to the trimmed amount is set. There change is small, it is possible to offset adjustment precision, it is possible to suppress the shift amount D 2 mentioned above considerably smaller value of about several tenths of a degree for example 50mV conventional shift amount D 1, trimming Depending manner of the deviation amount D 2 0 or offset voltage can be set to 0.

【0023】このように、本実施の形態では、オフセッ
ト調整を行う厚膜抵抗を実質的に2つに分割して配置
し、調整に必要な抵抗値変動分のみ見込んだ厚膜抵抗を
トリミングして調整をするか、或いは、先ず、抵抗値の
大きい方の厚膜抵抗を粗調整し、次いで、抵抗値の小さ
い方の厚膜抵抗を微調整し、いずれの場合も、最終的に
抵抗値の小さい方の厚膜抵抗の調整で所望の値まで追い
込むので、トリミングした量に対して抵抗値の値が変化
が小さく、高精度のオフセット調整が可能となり、ホイ
ートストンブリッジ回路のオフセット調整精度を向上す
ることができ、また、厚膜抵抗に対する調整が容易にな
り、作業性の効率化を図ることができる。
As described above, in the present embodiment, the thick film resistor for offset adjustment is substantially divided into two, and the thick film resistor is trimmed in consideration of only the resistance value variation necessary for the adjustment. Adjustment, or first, the thick film resistance with the larger resistance value is roughly adjusted, and then the thick film resistance with the smaller resistance value is finely adjusted. Since the smaller thick film resistance adjusts to the desired value, the resistance value changes little with respect to the trimmed amount, enabling highly accurate offset adjustment and improving the offset adjustment accuracy of the Wheatstone bridge circuit. In addition, the adjustment of the thick film resistance can be facilitated, and the workability can be improved.

【0024】実施の形態2.図2はこの発明の実施の形
態2を示す構成図であり、図1と対応する部分には同一
符号を付し、その詳細説明は省略する。上記、実施の形
態1では、ホイートストンブリッジ回路を構成する磁気
検出素子1および2に対してそれぞれ直列を成す2つの
厚膜抵抗10a,10bおよび11a,11bを対向し
て配置する場合であったが、本実施の形態においては、
磁気検出素子1および2に対してそれぞれ直列を成すn
個の厚膜抵抗10a〜10nおよび11a〜11nを対
向して配置する場合である。10a〜10cは例えばセ
ラミック基板上に印刷された互いに抵抗値の異なるオフ
セット調整手段である抵抗体としての厚膜抵抗、11a
〜11cは同じく例えばセラミック基板上に印刷された
互いに抵抗値の異なるオフセット調整手段である抵抗体
としての厚膜抵抗である。
Embodiment 2 FIG. 2 is a configuration diagram showing a second embodiment of the present invention. The portions corresponding to those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. In the first embodiment described above, the two thick film resistors 10a, 10b and 11a, 11b, which are respectively in series with the magnetic detection elements 1 and 2 forming the Wheatstone bridge circuit, are arranged so as to face each other. In the present embodiment,
N in series with each of the magnetic detection elements 1 and 2
This is a case where the thick film resistors 10a to 10n and 11a to 11n are arranged to face each other. Reference numerals 10a to 10c are thick film resistors as resistors, which are offset adjusting means having different resistance values printed on a ceramic substrate, for example, 11a.
11c are thick film resistors as resistors, which are offset adjusting means having different resistance values printed on a ceramic substrate, for example.

【0025】次に、動作について説明する。印加磁界に
より抵抗変化を生じる磁気検出素子1および2の接続点
5の出力と、磁気検出素子1および2に対してそれぞれ
対向して配置されている10a〜10nおよび11a〜
11nの内の厚膜抵抗10nおよび11nの接続点6の
出力を差動増幅回路7により増幅し、回転変位あるいは
直線変位に対応した出力を得る。
Next, the operation will be described. The outputs of the connection points 5 of the magnetic detection elements 1 and 2 that cause a resistance change due to the applied magnetic field, and 10a to 10n and 11a, which are arranged to face the magnetic detection elements 1 and 2, respectively.
The output of the connection point 6 of the thick film resistors 10n and 11n of 11n is amplified by the differential amplifier circuit 7, and the output corresponding to the rotational displacement or the linear displacement is obtained.

【0026】ここで、ホイートストンブリッジ回路のオ
フセット調整について考える。この場合も、幾通りかの
方法が考えられる。第1の方法として、例えば、抵抗値
の大きい方の厚膜抵抗10aおよび11aをある値に固
定し、抵抗値の小さい方の厚膜抵抗10b〜10nおよ
び11b〜11nを調整に必要な抵抗値変動分のみ見込
んだ厚膜抵抗として構成する。そして、調整する場合に
は、これら厚膜抵抗10b〜10nおよび11b〜11
nの少なくとも一方をトリミングして調整を行う。この
場合、抵抗値を固定する厚膜抵抗の数は、少なくとも最
終的に調整可能な抵抗値の小さい厚膜抵抗が1個存在す
れば、任意の値に設定され得るものである。
Here, the offset adjustment of the Wheatstone bridge circuit will be considered. Also in this case, several methods are possible. As a first method, for example, the thick film resistors 10a and 11a having a larger resistance value are fixed to a certain value, and the thick film resistors 10b to 10n and 11b to 11n having a smaller resistance value are required to be adjusted. It is configured as a thick film resistor that allows for only fluctuations. When adjusting, the thick film resistors 10b to 10n and 11b to 11 are to be adjusted.
Adjustment is performed by trimming at least one of n. In this case, the number of thick film resistors for fixing the resistance value can be set to any value as long as at least one thick film resistor having a small adjustable resistance value is finally present.

【0027】第2の方法として、厚膜抵抗10a〜10
nおよび厚膜抵抗11a〜11nは互いにその抵抗値が
異なるので、少なくとも一方の側において、先ず、抵抗
値の大きい方の厚膜抵抗10aまたは11aに対してト
リミングを施して粗調整を行い、次いで、抵抗値の小さ
い方の厚膜抵抗10b〜10nまたは11b〜11nに
対してトリミングを施して微調整を行う。この場合、粗
調整および微調整の対象となる厚膜抵抗の数は、任意の
値に設定され得るものである。
As a second method, thick film resistors 10a-10
n and the thick film resistors 11a to 11n have different resistance values from each other. Therefore, at least on one side, the thick film resistor 10a or 11a having the larger resistance value is first trimmed to perform rough adjustment, and The trimming is performed on the thick film resistor 10b to 10n or 11b to 11n having the smaller resistance value to perform fine adjustment. In this case, the number of thick film resistors to be subjected to rough adjustment and fine adjustment can be set to any value.

【0028】この場合も、上述のごとく、オフセット調
整を行う際に、最終的に抵抗値の小さい方の厚膜抵抗の
調整で所望の値まで追い込むことができるので、トリミ
ングした量に対して抵抗値の変化が小さく、高精度のオ
フセット調整が可能となり、上述のずれ分D2を従来の
ずれ分D1の数十分の一程度に抑えることができ、場合
によってはこのずれ分D2を0即ちオフセット電圧を0
とすることができる。
Also in this case, as described above, when the offset adjustment is performed, it is possible to finally reach the desired value by adjusting the thick-film resistance of the smaller resistance value, so that the resistance with respect to the trimmed amount is reduced. The change in the value is small, the offset adjustment can be performed with high accuracy, and the above-mentioned deviation D 2 can be suppressed to about several tenths of the conventional deviation D 1. In some cases, the deviation D 2 can be reduced. 0, that is, the offset voltage is 0
It can be.

【0029】このように、本実施の形態では、オフセッ
ト調整を行う厚膜抵抗を実質的にn個に分割して直列に
配置し、調整に必要な抵抗値変動分のみ見込んだ厚膜抵
抗をトリミングして調整をするか、或いは、先ず、抵抗
値の大きい方の厚膜抵抗を粗調整し、次いで、抵抗値の
小さい方の厚膜抵抗を微調整し、いずれの場合も、最終
的に抵抗値の小さい方の厚膜抵抗の調整で所望の値まで
追い込むので、トリミングした量に対して抵抗値の変化
が小さく、高精度のオフセット調整が可能となり、ホイ
ートストンブリッジ回路のオフセット調整精度を向上す
ることができ、また、厚膜抵抗に対する調整が容易にな
り、作業性の効率化を図ることができる。
As described above, in the present embodiment, the thick film resistors for performing the offset adjustment are substantially divided into n pieces and arranged in series, and the thick film resistors in consideration of only the resistance value variation necessary for the adjustment are provided. Adjust by trimming, or first, roughly adjust the thick film resistance of the larger resistance value, and then finely adjust the thick film resistance of the smaller resistance value. By adjusting the thick film resistance of the smaller resistance value to the desired value, the resistance value changes little with respect to the trimmed amount, enabling highly accurate offset adjustment and improving the offset adjustment accuracy of the Wheatstone bridge circuit. In addition, the adjustment of the thick film resistance can be facilitated, and the workability can be improved.

【0030】実施の形態3.図3はこの発明の実施の形
態3を示す構成図であり、図2と対応する部分には同一
符号を付し、その詳細説明は省略する。上記、実施の形
態2では、ホイートストンブリッジ回路を構成する磁気
検出素子1および2に対してそれぞれ直列を成すn個の
厚膜抵抗10a〜10nおよび11a〜11nを対向し
て配置する場合であったが、本実施の形態においては、
磁気検出素子1および2に対してそれぞれ並列を成すn
個の厚膜抵抗10a〜10nおよび11a〜11nを対
向して配置する場合である。なお、この並列構成の厚膜
抵抗10a〜10nおよび厚膜抵抗、11a〜11nは
任意の数に設定され得るものである。
Embodiment 3 FIG. 3 is a configuration diagram showing a third embodiment of the present invention. The portions corresponding to those in FIG. 2 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. In the above-described second embodiment, n thick film resistors 10a to 10n and 11a to 11n, which are in series with the magnetic detection elements 1 and 2 forming the Wheatstone bridge circuit, are arranged to face each other. However, in the present embodiment,
N in parallel with the magnetic detection elements 1 and 2
This is a case where the thick film resistors 10a to 10n and 11a to 11n are arranged to face each other. The thick film resistors 10a to 10n and the thick film resistors 11a to 11n of this parallel configuration can be set to arbitrary numbers.

【0031】次に、動作について説明する。印加磁界に
より抵抗変化を生じる磁気検出素子1および2の接続点
5の出力と、磁気検出素子1および2に対してそれぞれ
対向して並列に配置されている10a〜10nおよび1
1a〜11nの接続点6の出力を差動増幅回路7により
増幅し、回転変位あるいは直線変位に対応した出力を得
る。
Next, the operation will be described. The outputs of the connection points 5 of the magnetic detection elements 1 and 2 that cause a resistance change due to the applied magnetic field, and 10a to 10n and 1 that are arranged in parallel facing the magnetic detection elements 1 and 2, respectively.
The output of the connection point 6 of 1a to 11n is amplified by the differential amplifier circuit 7, and the output corresponding to the rotational displacement or the linear displacement is obtained.

【0032】ここで、ホイートストンブリッジ回路のオ
フセット調整について考える。この場合も、幾通りかの
方法が考えられる。第1の方法として、例えば、抵抗値
の小さい方の厚膜抵抗10nおよび11nをある値に固
定し、抵抗値の大きい方の厚膜抵抗10a〜10n-1お
よび11a〜11n-1を調整に必要な抵抗値変動分のみ
見込んだ厚膜抵抗として構成する。そして、調整する場
合には、これら厚膜抵抗10a〜10n-1および11a
〜11n-1の少なくとも一方をトリミングして調整を行
う。この場合、抵抗値を固定する厚膜抵抗の数は、少な
くとも最終的に調整可能な抵抗値の大きい厚膜抵抗が1
個存在すれば、任意の値に設定され得るものである。
Here, the offset adjustment of the Wheatstone bridge circuit will be considered. Also in this case, several methods are possible. As a first method, for example, the thick film resistors 10n and 11n having a smaller resistance value are fixed to a certain value, and the thick film resistors 10a to 10n-1 and 11a to 11n-1 having a larger resistance value are adjusted. It is configured as a thick film resistor that allows for only the necessary resistance value fluctuations. When adjusting, the thick film resistors 10a to 10n-1 and 11a are to be adjusted.
Adjustment is performed by trimming at least one of 11n-1. In this case, the number of the thick film resistors that fix the resistance value is at least one thick film resistor with a large adjustable resistance value.
If they exist, they can be set to arbitrary values.

【0033】第2の方法として、厚膜抵抗10a〜10
nおよび厚膜抵抗11a〜11nは互いにその抵抗値が
異なるので、少なくとも一方の側において、先ず、抵抗
値の小さい方の厚膜抵抗10nまたは11nに対してト
リミングを施して粗調整を行い、次いで、抵抗値の大き
い方の厚膜抵抗10a〜10n-1および11a〜11n-1
に対してトリミングを施して微調整を行う。この場合、
粗調整および微調整の対象となる厚膜抵抗の数は、任意
の値に設定され得るものである。
As a second method, thick film resistors 10a to 10 are used.
Since n and the thick film resistors 11a to 11n have different resistance values from each other, on at least one side, first, the thick film resistor 10n or 11n having a smaller resistance value is trimmed to perform rough adjustment, and , Thick film resistors 10a to 10n-1 and 11a to 11n-1 having a larger resistance value
Trimming is performed on and fine adjustment is performed. in this case,
The number of thick film resistors that are the targets of rough adjustment and fine adjustment can be set to any value.

【0034】この場合も、上述のごとく、オフセット調
整を行う際に、最終的に抵抗値の大きい方の厚膜抵抗の
調整で所望の値まで追い込むことができるので、トリミ
ングした量に対して抵抗値の変化が小さく、高精度のオ
フセット調整が可能となり、上述のずれ分D2を従来の
ずれ分D1の数十分の一程度に抑えることができ、場合
によってはこのずれ分D2を0即ちオフセット電圧を0
とすることができる。
Also in this case, as described above, when the offset adjustment is performed, it is possible to finally reach the desired value by adjusting the thick film resistance having the larger resistance value. The change in the value is small, the offset adjustment can be performed with high accuracy, and the above-mentioned deviation D 2 can be suppressed to about several tenths of the conventional deviation D 1. In some cases, the deviation D 2 can be reduced. 0, that is, the offset voltage is 0
It can be.

【0035】このように、本実施の形態では、オフセッ
ト調整を行う厚膜抵抗を実質的にn個に分割して並列に
配置し、調整に必要な抵抗値変動分のみ見込んだ厚膜抵
抗をトリミングして調整をするか、或いは、先ず、抵抗
値の小さい方の厚膜抵抗を粗調整し、次いで、抵抗値の
大きい方の厚膜抵抗を微調整し、いずれの場合も、最終
的に抵抗値の大きい方の厚膜抵抗の調整で所望の値まで
追い込むので、トリミングした量に対して抵抗値の変化
が小さく、高精度のオフセット調整が可能となり、ホイ
ートストンブリッジ回路のオフセット調整精度を向上す
ることができ、また、厚膜抵抗に対する調整が容易にな
り、作業性の効率化を図ることができる。
As described above, in the present embodiment, the thick film resistors for performing the offset adjustment are substantially divided into n pieces and arranged in parallel, and the thick film resistors that allow only the variation in the resistance value necessary for the adjustment are provided. Trimming and adjustment, or first, roughly adjusting the thick film resistance of the smaller resistance value, and then finely adjusting the thick film resistance of the larger resistance value. By adjusting the thick film resistance of the larger resistance value to the desired value, the resistance value changes little with respect to the trimmed amount, enabling highly accurate offset adjustment and improving the offset adjustment accuracy of the Wheatstone bridge circuit. In addition, the adjustment of the thick film resistance can be facilitated, and the workability can be improved.

【0036】実施の形態4.なお、上述の各実施の形態
では、ホイートストンブリッジ回路を構成する磁気検出
素子に対向して各辺に配置される厚膜抵抗は、それぞれ
複数個の場合について説明したが、少なくとも一方の辺
のみを調整用の厚膜抵抗を少なくとも1個含む複数個の
厚膜抵抗とし、他方の辺に挿入される厚膜抵抗は、単一
の厚膜抵抗としてもよい。また、上記実施の形態3で
は、並列構成の厚膜抵抗をトリミングする場合である
が、抵抗値の小さい厚膜抵抗に対して抵抗値の大きい厚
膜抵抗を順次追加して微調整を行ってもよいし、或い
は、予め並列構成とされた厚膜抵抗を順次切断して微調
整するようにしてもよく、若しくは、粗調整で抵抗値の
小さい厚膜抵抗を切断し、微調整で抵抗値の大きい厚膜
抵抗をトリミングして微調整するようにしてもよい。こ
の切断による調整の場合、トリミングの際のレーザ光に
よる熱の影響を受けないので、より精度よく調整可能と
なる。上述の各実施の形態では、検出素子として磁気検
出素子の場合について説明したが、これに限定されるこ
となく、その他の素子、例えば圧力を検出する圧電素子
や歪みを検出する歪みゲージ等を用いてもよく、同様の
効果を奏する。また、オフセット調整は、磁気検出素子
1または2側を用いて行ってもよい。
Embodiment 4 FIG. In each of the above-described embodiments, the thick film resistors arranged on each side facing the magnetic detection element forming the Wheatstone bridge circuit have been described for a plurality of cases, but only at least one side is described. A plurality of thick film resistors including at least one adjusting thick film resistor may be used, and the thick film resistor inserted on the other side may be a single thick film resistor. In the third embodiment, the thick film resistors having the parallel configuration are trimmed. However, the thick film resistors having the large resistance values are sequentially added to the thick film resistors having the small resistance values to perform fine adjustment. Alternatively, the thick film resistors configured in parallel in advance may be sequentially cut and finely adjusted, or the thick film resistor having a small resistance value may be cut by coarse adjustment and the resistance value may be finely adjusted. The thick film resistor having a large value may be trimmed and finely adjusted. In the case of the adjustment by this cutting, the influence of heat by the laser light at the time of trimming is not applied, so that the adjustment can be performed more accurately. In each of the above-described embodiments, the case where the magnetic detection element is used as the detection element has been described, but the present invention is not limited to this, and other elements such as a piezoelectric element that detects pressure and a strain gauge that detects strain are used. However, the same effect can be obtained. The offset adjustment may be performed using the magnetic detection element 1 or 2 side.

【0037】[0037]

【発明の効果】以上のように、請求項1記載の発明によ
れば、四辺の構成要素の少なくとも一つに検出素子を用
いるブリッジ回路を備えた変位検出装置であって、構成
要素の少なくとも一つに複数の抵抗体からなるオフセッ
ト調整手段を用いるので、高精度のオフセット調整が可
能となり、ブリッジ回路のオフセット調整精度を向上す
ることができ、また、オフセット調整が容易になり、作
業性の効率化を図ることができるという効果がある。
As described above, according to the first aspect of the present invention, there is provided a displacement detecting device provided with a bridge circuit using a detecting element as at least one of the four side components, and at least one of the components. Since the offset adjusting means composed of a plurality of resistors is used, it is possible to perform highly accurate offset adjustment, improve the offset adjustment accuracy of the bridge circuit, and make the offset adjustment easy and improve work efficiency. The effect is that it can be realized.

【0038】請求項2記載の発明によれば、請求項1の
発明において、複数の抵抗体が直列接続され、これら複
数の抵抗体の少なくとも一つを用いてオフセット調整を
行うので、高精度のオフセット調整が可能となり、ブリ
ッジ回路のオフセット調整精度を向上することができ、
また、オフセット調整が容易になり、作業性の効率化を
図ることができるという効果がある。また、複数の抵抗
体の両方を用いてオフセット調整する場合には、一方を
粗調整、次いで、他方を微調整して所望の値まで追い込
むことができ、より高精度のオフセット調整が可能にな
るという効果がある。
According to the invention of claim 2, in the invention of claim 1, the plurality of resistors are connected in series, and the offset adjustment is performed using at least one of the plurality of resistors. Offset adjustment is possible, the offset adjustment accuracy of the bridge circuit can be improved,
Further, there is an effect that the offset adjustment becomes easy and the workability can be improved. Also, when offset adjustment is performed using both of a plurality of resistors, one can be roughly adjusted and then the other can be finely adjusted to drive it to a desired value, enabling more accurate offset adjustment. There is an effect.

【0039】請求項3記載の発明によれば、請求項1の
発明において、複数の抵抗体が並列接続され、これら複
数の抵抗体の少なくとも一つを用いてオフセット調整を
行うので、高精度のオフセット調整が可能となり、ブリ
ッジ回路のオフセット調整精度を向上することができ、
また、オフセット調整が容易になり、作業性の効率化を
図ることができるという効果がある。また、複数の抵抗
体の両方を用いてオフセット調整する場合には、一方を
粗調整、次いで、他方を微調整して所望の値まで追い込
むことができ、より高精度のオフセット調整が可能にな
るという効果がある。さらに、抵抗体に対して切断によ
るオフセット調整の場合、トリミングの際のレーザ光に
よる熱の影響を受けず、より精度よく調整ができるとい
う効果がある。
According to the invention of claim 3, in the invention of claim 1, a plurality of resistors are connected in parallel, and the offset adjustment is performed using at least one of the plurality of resistors, so that a high precision is achieved. Offset adjustment is possible, the offset adjustment accuracy of the bridge circuit can be improved,
Further, there is an effect that the offset adjustment becomes easy and the workability can be improved. Further, when offset adjustment is performed using both of a plurality of resistors, one can be roughly adjusted and then the other can be finely adjusted to reach a desired value, which enables more accurate offset adjustment. There is an effect. Further, in the case of the offset adjustment by cutting the resistor, there is an effect that the adjustment can be performed more accurately without being affected by the heat of the laser light during the trimming.

【0040】請求項4記載の発明によれば、請求項1〜
3のいずれかの発明において、複数の抵抗体の抵抗値比
率を異なる値としたので、より的確にオフセット調整を
行うことができるという効果がある。
According to the invention described in claim 4,
In any one of the third aspect, since the resistance value ratios of the plurality of resistors have different values, there is an effect that the offset adjustment can be performed more accurately.

【0041】請求項5記載の発明によれば、請求項1〜
4のいずれかの発明において、複数の抵抗体が厚膜抵抗
であるので、より精度の高いオフセット調整ができると
いう効果がある。
According to the invention described in claim 5,
In any one of the fourth aspect, since the plurality of resistors are thick film resistors, there is an effect that offset adjustment can be performed with higher accuracy.

【0042】請求項6記載の発明に係る変位検出装置
は、請求項1〜5のいずれかの発明において、検出素子
として磁気検出素子を用いたので、印加磁界変化によっ
て抵抗値が変化し、確実に被検出体の変位を検出できる
という効果がある。
In the displacement detecting device according to the invention of claim 6, in the invention of any one of claims 1 to 5, the magnetic detecting element is used as the detecting element, so that the resistance value changes due to the change of the applied magnetic field, and Moreover, there is an effect that the displacement of the object to be detected can be detected.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 この発明に係る変位検出装置の実施の形態1
を示す構成図である。
FIG. 1 is a first embodiment of a displacement detecting device according to the present invention.
It is a block diagram which shows.

【図2】 この発明に係る変位検出装置の実施の形態2
を示す構成図である。
FIG. 2 is a second embodiment of the displacement detecting device according to the present invention.
It is a block diagram which shows.

【図3】 この発明に係る変位検出装置の実施の形態3
を示す構成図である。
FIG. 3 is a third embodiment of the displacement detecting device according to the present invention.
It is a block diagram which shows.

【図4】 この発明に係る変位検出装置の実施の形態と
従来例を対比して示す特性図である。
FIG. 4 is a characteristic diagram showing an embodiment of a displacement detecting device according to the present invention and a conventional example in comparison.

【図5】 従来の変位検出装置を示す構成図である。FIG. 5 is a configuration diagram showing a conventional displacement detection device.

【図6】 一般的な磁気検出素子の動作説明に供するた
めの特性図である。
FIG. 6 is a characteristic diagram for explaining the operation of a general magnetic detection element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2 磁気検出素子、7 差動増幅回路、10a〜1
0n,11a〜11n厚膜抵抗。
1, 2 magnetic detection elements, 7 differential amplifier circuits, 10a to 1
0n, 11a-11n thick film resistors.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 福井 渉 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 大橋 豊 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Wataru Fukui 2-3-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Mitsui Electric Corporation (72) Inventor Yutaka Ohashi 2-3-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Rishi Electric Co., Ltd.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 四辺の構成要素の少なくとも一つに検出
素子を用いるブリッジ回路を備えた変位検出装置であっ
て、上記構成要素の少なくとも一つに複数の抵抗体から
なるオフセット調整手段を用いることを特徴とする変位
検出装置。
1. A displacement detection device comprising a bridge circuit using a detection element as at least one of the four side components, wherein at least one of the above components comprises an offset adjusting means composed of a plurality of resistors. Displacement detection device characterized by.
【請求項2】 上記複数の抵抗体は直列接続され、該複
数の抵抗体の少なくとも一つを用いてオフセット調整を
行うことを特徴とする請求項1記載の変位検出装置。
2. The displacement detecting device according to claim 1, wherein the plurality of resistors are connected in series, and offset adjustment is performed using at least one of the plurality of resistors.
【請求項3】 上記複数の抵抗体は並列接続され、該複
数の抵抗体の少なくとも一つを用いてオフセット調整を
行うことを特徴とする請求項1記載の変位検出装置。
3. The displacement detection device according to claim 1, wherein the plurality of resistors are connected in parallel, and offset adjustment is performed using at least one of the plurality of resistors.
【請求項4】 上記複数の抵抗体の抵抗値比率を異なる
値としたことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記
載の変位検出装置。
4. The displacement detection device according to claim 1, wherein the resistance value ratios of the plurality of resistors are different values.
【請求項5】 上記複数の抵抗体が厚膜抵抗であること
を特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の変位検出
装置。
5. The displacement detecting device according to claim 1, wherein the plurality of resistors are thick film resistors.
【請求項6】 上記検出素子として磁気検出素子を用い
たことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の変
位検出装置。
6. The displacement detection device according to claim 1, wherein a magnetic detection element is used as the detection element.
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