[go: up one dir, main page]

JPH09252005A - バンプ形成方法 - Google Patents

バンプ形成方法

Info

Publication number
JPH09252005A
JPH09252005A JP8087609A JP8760996A JPH09252005A JP H09252005 A JPH09252005 A JP H09252005A JP 8087609 A JP8087609 A JP 8087609A JP 8760996 A JP8760996 A JP 8760996A JP H09252005 A JPH09252005 A JP H09252005A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
capillary
wire
ball
clamper
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP8087609A
Other languages
English (en)
Inventor
Nobuhito Yamazaki
信人 山崎
Motohiko Kato
元彦 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shinkawa Ltd
Original Assignee
Shinkawa Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shinkawa Ltd filed Critical Shinkawa Ltd
Priority to JP8087609A priority Critical patent/JPH09252005A/ja
Priority to KR1019960072266A priority patent/KR100250870B1/ko
Priority to TW086100090A priority patent/TW344106B/zh
Priority to US08/814,799 priority patent/US5981371A/en
Publication of JPH09252005A publication Critical patent/JPH09252005A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/11Manufacturing methods
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/31Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers
    • H01L21/3205Deposition of non-insulating-, e.g. conductive- or resistive-, layers on insulating layers; After-treatment of these layers
    • H01L21/321After treatment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the groups H01L21/18 - H01L21/326 or H10D48/04 - H10D48/07 e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/60Attaching or detaching leads or other conductive members, to be used for carrying current to or from the device in operation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/11Manufacturing methods
    • H01L2224/113Manufacturing methods by local deposition of the material of the bump connector
    • H01L2224/1133Manufacturing methods by local deposition of the material of the bump connector in solid form
    • H01L2224/1134Stud bumping, i.e. using a wire-bonding apparatus
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099Material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • H01L2224/85009Pre-treatment of the connector or the bonding area
    • H01L2224/8503Reshaping, e.g. forming the ball or the wedge of the wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00013Fully indexed content
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01004Beryllium [Be]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01005Boron [B]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01006Carbon [C]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01033Arsenic [As]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01039Yttrium [Y]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/013Alloys
    • H01L2924/014Solder alloys

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】微小突起の長さが短く、かつ該微小突起の長さ
も安定すると共に、生産性の向上が図れる。 【解決手段】ワイヤ4にボール4bを形成し(図1
(b))、ボール4bを半導体デバイス6の電極7に押
し付けてボンディングする(図1(c))。その後キャ
ピラリ3を一定量Z上昇させ、キャピラリ3に超音波振
動を与えてボンディングされたボール4bからキャピラ
リ3下端までのワイヤ4に共振させる(図1(d))。
これによってボンディングされたボール4bとワイヤ4
の付け根部分4cからワイヤ4が切断して電極7上にバ
ンプ8を形成する(図1(d)(e))。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体デバイスの電極
上にバンプを形成する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、ワイヤボンディング装置を利用し
て半導体デバイスの電極上にバンプを形成する方法とし
て、例えば特開昭54ー2662号公報(第1の方法)
及び特公平4ー41519号公報(第1及び第2の方
法)に示すものが知られている。
【0003】第1の方法は、ワイヤボンディング装置の
キャピラリに挿通されたワイヤに放電等によってボール
を形成する。次にキャピラリを下降させてボールを1つ
の半導体デバイスの電極上に押し付けてボンディングす
る。その後、キャピラリを僅かに上昇させる。次にクラ
ンパを閉じてワイヤをクランプし、キャピラリ及びクラ
ンパを上昇させてボールを切断する。これにより、電極
上にバンプが形成される。
【0004】第2の方法は、ボール形成して該ボールを
電極上に押し付けてボンディングするまでの動作は前記
第1の方法と同じであるが、電極上にボールを押し付け
てボンディングした後は、キャピラリを上昇及び横方向
に少距離だけ移動させ、次にキャピラリを再び下降させ
てワイヤに脆弱部を形成する。その後は再びキャピラリ
を上昇させる。そして、クランパを閉じてワイヤをクラ
ンプし、キャピラリ及びクランパを上昇させてボールを
切断する。これにより、電極上にバンプが形成される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】前記第1の方法は、ボ
ールを電極上に押し付けてボンディングした後、単にキ
ャピラリを上昇させて切断してバンプを形成するので、
バンプ上面に残る微小突起の長さが長く形成される。ま
たワイヤの切断位置が安定しないので、前記微小突起の
長さもバラツクという問題点を有する。前記第2の方法
は、ボールを電極上に押し付けてボンディングした後に
キャピラリを上昇、横方向に移動及び下降させる動作を
必要とするので、生産性に劣る。特に半導体の製造にお
いては、生産性は重要な要素である。
【0006】本発明の課題は、微小突起の長さが短く、
かつ該微小突起の長さも安定すると共に、生産性の向上
が図れるバンプ形成方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の第1の手段は、キャピラリに挿通されたワイ
ヤにボールを形成し、このボールを半導体デバイスの電
極に押し付けてボンディングし、その後キャピラリを一
定量上昇させ、キャピラリに超音波振動を与えて前記ボ
ンディングされたボールからキャピラリ下端までのワイ
ヤに共振させ、これによってボンディングされたボール
とワイヤの付け根部分からワイヤを切断して電極上にバ
ンプを形成することを特徴とする。
【0008】上記課題を解決するための本発明の第2の
手段は、キャピラリと共に上下動する第1クランパと、
上下動しない第2クランパを有するワイヤボンディング
装置を用い、第1クランパを閉じた状態でキャピラリに
挿通されたワイヤにボールを形成し、次に第1クランパ
を開いて前記ボールを半導体デバイスの電極に押し付け
てボンディングし、その後キャピラリを一定量上昇さ
せ、このキャピラリの上昇直前又は上昇途中或いは上昇
後若しくは同時に第2クランパを閉じてワイヤをクラン
プし、次いでキャピラリに超音波振動をかけることによ
ってボンディングされたボールとワイヤの付け根部分か
らワイヤを切断して電極上にバンプを形成し、その後第
1クランパ及びキャピラリを下降させてキャピラリ下端
より伸びたワイヤのワイヤ長をボール形成に必要なテー
ル長とすることを特徴とする。
【0009】上記課題を解決するための本発明の第3の
手段は、上記第1及び第2の手段において、ボールをボ
ンディング後にキャピラリを上昇させる一定量は、前記
ボンディングされたボールからキャピラリ下端までのワ
イヤがキャピラリに与える超音波振動に共振する長さで
あることを特徴とする。
【0010】上記課題を解決するための本発明の第4の
手段は、上記第1及び第2の手段において、キャピラリ
に与える超音波振動は、キャピラリのワイヤ挿通穴とワ
イヤのギャップ分又は該ギャップ分以上にキャピラリを
移動させた後に与えることを特徴とする。
【0011】
【発明の実施の形態】本実施の形態においては、2つの
第1クランパ1及び第2クランパ2を有し、第1クラン
パ1がキャピラリ3と共に上下動し、第2クランパ2が
上下動しないワイヤボンディング装置を用いた。またキ
ャピラリ3には、ワイヤ4が挿通され、キャピラリ3の
下端より伸びたテール長4aには、電気トーチ5により
ボール4bが形成される。なお、キャピラリ3は、図示
しない超音波発振源を有する超音波ホーンの端部に取付
けられている。
【0012】まず、図1(a)に示すように、第1クラ
ンパ1が閉じた状態で、キャピラリ3の下端より伸びた
テール長4aの先端に電気トーチ5によって高電圧を印
加し、図1(b)に示すように、ボール4bを形成す
る。次に第1クランパ1が開き、図1(c)に示すよう
に、キャピラリ3を下降させてボール4bを半導体デバ
イス6の電極7上に押し付けてボンディングする。次に
図1(d)に示すように、第2クランパ2が閉じ、第1
クランパ1及びキャピラリ3は一定量Z、例えば0.5
〜1.5mmの範囲だけ上昇する。
【0013】この上昇量Z、即ちボンディングされたボ
ール4bからキャピラリ3の下端までのワイヤ4の長さ
Zは、キャピラリ3が取付けられた図示しない超音波ホ
ーンを超音波発振させた時、前記ワイヤ長さZの部分が
共振する長さになっている。この上昇量Z、即ち共振す
るワイヤ長さZは、ワイヤ4の太さ、材質、また超音波
発振の強さ、振幅等によって異なるので、予め実験によ
って定める。
【0014】図1(d)に示すように、予め設定された
共振のための上昇量Zだけ第1クランパ1及びキャピラ
リ3が上昇した後、超音波ホーンを一定時間超音波発振
させる。超音波ホーンの超音波振動は、キャピラリ3を
介してワイヤ4に伝達される。これにより、前記ワイヤ
長さZの部分が共振する。ボール4bとワイヤ4の付け
根部分4cは、ボール4b形成による熱エネルギーによ
って脆弱化しているので、前記したワイヤ長さZの部分
の共振振動により、図1(e)に示すように、前記付け
根部分4cからワイヤ4は切断される。これにより、電
極7上にはバンプ8が形成される。
【0015】ところで、キャピラリ3のワイヤ挿通穴
は、ワイヤ4の線径より約10〜20μm大きく形成さ
れている。そこで、前記したように超音波ホーンに超音
波振動を与える前に、超音波ホーン、即ちキャピラリ3
をキャピラリ3のワイヤ挿通穴とワイヤ4のギャップ分
又は該ギャップ分以上に超音波ホーンの伸びたY方向に
移動させ、その後に超音波ホーンに振動を与えると、キ
ャピラリ3の超音波振動は効率良くワイヤ4に伝達され
る。
【0016】このように、ボール4bをボンディング
後、キャピラリ3を上昇させてボンディングされたボー
ル4bからキャピラリ3下端までのワイヤ長さZを共振
する長さにし、キャピラリ3に超音波振動を与えてワイ
ヤ4を切断するので、バンプ8上面に残る微小突起8a
の長さは短く、またワイヤ4の切断位置が安定し、微小
突起8aのバラツキも小さくなる。また従来技術のよう
に、ボール4bを電極7に押し付けてボンディングした
後、キャピラリ3を上昇、横方向に移動及び下降させる
必要がなく、ボール4bを電極7に押し付けてボンディ
ングした後、キャピラリ3を上昇させて超音波振動を与
えるので、動作時間の短縮が図れ、生産性が向上する。
【0017】図1(e)に示すように、ワイヤ長さZを
一定時間共振させて付け根部分4cが切断すると、図1
(f)に示すように、第1クランパ1及びキャピラリ3
が下降し、キャピラリ3の下端より伸びたワイヤ長はボ
ール4bを形成するに必要なテール長4aとなる。次に
第1クランパ1が閉じ、第2クランパ2が開き、図1
(a)に示すように、第1クランパ1及びキャピラリ3
はボール形成レベルまで上昇する。
【0018】なお、前記図1(d)に示す工程において
は、第2クランパ2が閉じた後に第1クランパ1及びキ
ャピラリ3が上昇したが、第2クランパ2は、第1クラ
ンパ1及びキャピラリ3の上昇途中又は上昇後或いは同
時に閉じるようにしてもよい。
【0019】
【発明の効果】本発明によれば、キャピラリに挿通され
たワイヤにボールを形成し、このボールを半導体デバイ
スの電極に押し付けてボンディングし、その後キャピラ
リを一定量上昇させ、キャピラリに超音波振動を与えて
前記ボンディングされたボールからキャピラリ下端まで
のワイヤに共振させ、これによってボンディングされた
ボールとワイヤの付け根部分からワイヤを切断して電極
上にバンプを形成するので、微小突起の長さが短く、か
つ該微小突起の長さも安定すると共に、生産性の向上が
図れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のバンプ形成方法の一実施の形態を示す
動作説明図である。
【符号の説明】
1 第1クランパ 2 第2クランパ 3 キャピラリ 4 ワイヤ 4b ボール 4c 付け根部分 6 半導体デバイス 7 電極 8 バンプ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 キャピラリに挿通されたワイヤにボール
    を形成し、このボールを半導体デバイスの電極に押し付
    けてボンディングし、その後キャピラリを一定量上昇さ
    せ、キャピラリに超音波振動を与えて前記ボンディング
    されたボールからキャピラリ下端までのワイヤに共振さ
    せ、これによってボンディングされたボールとワイヤの
    付け根部分からワイヤを切断して電極上にバンプを形成
    することを特徴とするバンプ形成方法。
  2. 【請求項2】 キャピラリと共に上下動する第1クラン
    パと、上下動しない第2クランパを有するワイヤボンデ
    ィング装置を用い、第1クランパを閉じた状態でキャピ
    ラリに挿通されたワイヤにボールを形成し、次に第1ク
    ランパを開いて前記ボールを半導体デバイスの電極に押
    し付けてボンディングし、その後キャピラリを一定量上
    昇させ、このキャピラリの上昇直前又は上昇途中或いは
    上昇後若しくは同時に第2クランパを閉じてワイヤをク
    ランプし、次いでキャピラリに超音波振動をかけること
    によってボンディングされたボールとワイヤの付け根部
    分からワイヤを切断して電極上にバンプを形成し、その
    後第1クランパ及びキャピラリを下降させてキャピラリ
    下端より伸びたワイヤのワイヤ長をボール形成に必要な
    テール長とすることを特徴とするバンプ形成方法。
  3. 【請求項3】 ボールをボンディング後にキャピラリを
    上昇させる一定量は、前記ボンディングされたボールか
    らキャピラリ下端までのワイヤがキャピラリに与える超
    音波振動に共振する長さであることを特徴とする請求項
    1又は2記載のバンプ形成方法。
  4. 【請求項4】 キャピラリに与える超音波振動は、キャ
    ピラリのワイヤ挿通穴とワイヤのギャップ分又は該ギャ
    ップ分以上にキャピラリを移動させた後に与えることを
    特徴とする請求項1又は2記載のバンプ形成方法。
JP8087609A 1996-03-15 1996-03-15 バンプ形成方法 Withdrawn JPH09252005A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8087609A JPH09252005A (ja) 1996-03-15 1996-03-15 バンプ形成方法
KR1019960072266A KR100250870B1 (ko) 1996-03-15 1996-12-26 범프형성방법
TW086100090A TW344106B (en) 1996-03-15 1997-01-07 Method for forming bumps
US08/814,799 US5981371A (en) 1996-03-15 1997-03-10 Bump forming method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8087609A JPH09252005A (ja) 1996-03-15 1996-03-15 バンプ形成方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09252005A true JPH09252005A (ja) 1997-09-22

Family

ID=13919718

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8087609A Withdrawn JPH09252005A (ja) 1996-03-15 1996-03-15 バンプ形成方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5981371A (ja)
JP (1) JPH09252005A (ja)
KR (1) KR100250870B1 (ja)
TW (1) TW344106B (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012523118A (ja) * 2009-04-01 2012-09-27 クリック アンド ソッファ インダストリーズ、インク. 導電性バンプ、ワイヤループ、およびそれらを形成する方法
WO2022130617A1 (ja) * 2020-12-18 2022-06-23 株式会社新川 ワイヤボンディング装置、ワイヤ切断方法及びプログラム

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3349886B2 (ja) * 1996-04-18 2002-11-25 松下電器産業株式会社 半導体素子の2段突起形状バンプの形成方法
US6098868A (en) * 1997-05-23 2000-08-08 Masushita Electric Industrial Co., Ltd. Bump forming method and bump bonder
DE19809081A1 (de) * 1998-03-04 1999-09-16 Bosch Gmbh Robert Verfahren und Kontaktstelle zur Herstellung einer elektrischen Verbindung
JP2000150560A (ja) * 1998-11-13 2000-05-30 Seiko Epson Corp バンプ形成方法及びバンプ形成用ボンディングツール、半導体ウエーハ、半導体チップ及び半導体装置並びにこれらの製造方法、回路基板並びに電子機器
JP3455126B2 (ja) * 1999-03-02 2003-10-14 株式会社新川 ワイヤボンデイング方法
US6386433B1 (en) 1999-08-24 2002-05-14 Kulicke & Soffa Investments, Inc. Solder ball delivery and reflow apparatus and method
US6227437B1 (en) 1999-08-24 2001-05-08 Kulicke & Soffa Industries Inc. Solder ball delivery and reflow apparatus and method of using the same
JP2002064118A (ja) * 2000-08-22 2002-02-28 Shinkawa Ltd ワイヤボンディング装置
JP4679427B2 (ja) * 2006-04-24 2011-04-27 株式会社新川 ボンディング装置のテールワイヤ切断方法及びプログラム
JP4467631B1 (ja) * 2009-01-07 2010-05-26 株式会社新川 ワイヤボンディング方法
US8459530B2 (en) * 2009-10-29 2013-06-11 Asm Technology Singapore Pte Ltd Automatic wire feeding method for wire bonders
KR101312148B1 (ko) * 2012-01-04 2013-09-26 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 와이어 본더의 캐필러리 클리닝 방법
RU2510545C1 (ru) * 2012-10-01 2014-03-27 Федеральное государственное унитарное предприятие "Ростовский-на-Дону научно-исследовательский институт радиосвязи" (ФГУП "РНИИРС") Способ вибрационной пайки кристаллов бескорпусных транзисторов
US8919632B2 (en) * 2012-11-09 2014-12-30 Asm Technology Singapore Pte. Ltd. Method of detecting wire bonding failures
JP5686912B1 (ja) * 2014-02-20 2015-03-18 株式会社新川 バンプ形成方法、バンプ形成装置及び半導体装置の製造方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS542662A (en) * 1977-06-08 1979-01-10 Seiko Epson Corp Semiconductor device
US5014111A (en) * 1987-12-08 1991-05-07 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Electrical contact bump and a package provided with the same
JPH0212919A (ja) * 1988-06-30 1990-01-17 Nec Kansai Ltd バンプ電極の形成方法
US5176310A (en) * 1988-11-28 1993-01-05 Hitachi, Ltd. Method and apparatus for wire bond
JPH03208354A (ja) * 1990-01-10 1991-09-11 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置およびその製造方法
JPH0441519A (ja) * 1990-06-07 1992-02-12 Daicel Chem Ind Ltd 単量体を含む反応性組成物およびその製造方法
US5485949A (en) * 1993-04-30 1996-01-23 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Capillary for a wire bonding apparatus and a method for forming an electric connection bump using the capillary
US5559054A (en) * 1994-12-23 1996-09-24 Motorola, Inc. Method for ball bumping a semiconductor device
US5686353A (en) * 1994-12-26 1997-11-11 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Semiconductor device and manufacturing method thereof
KR100186752B1 (ko) * 1995-09-04 1999-04-15 황인길 반도체 칩 본딩방법
US5687901A (en) * 1995-11-14 1997-11-18 Nippon Steel Corporation Process and apparatus for forming ball bumps
JP3074517B2 (ja) * 1995-12-05 2000-08-07 株式会社新川 被覆ワイヤのワイヤボンディング方法
US5894983A (en) * 1997-01-09 1999-04-20 Harris Corporation High frequency, low temperature thermosonic ribbon bonding process for system-level applications

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012523118A (ja) * 2009-04-01 2012-09-27 クリック アンド ソッファ インダストリーズ、インク. 導電性バンプ、ワイヤループ、およびそれらを形成する方法
TWI511209B (zh) * 2009-04-01 2015-12-01 Kulicke & Soffa Ind Inc 傳導凸塊、線環及其形成方法
WO2022130617A1 (ja) * 2020-12-18 2022-06-23 株式会社新川 ワイヤボンディング装置、ワイヤ切断方法及びプログラム
JPWO2022130617A1 (ja) * 2020-12-18 2022-06-23
CN115315792A (zh) * 2020-12-18 2022-11-08 株式会社新川 打线接合装置、打线切断方法以及程序
US12107067B2 (en) 2020-12-18 2024-10-01 Shinkawa Ltd. Wire bonding device, wire cutting method and non-transitory computer-readable recording medium recording program

Also Published As

Publication number Publication date
US5981371A (en) 1999-11-09
KR100250870B1 (ko) 2000-04-01
KR19980053197A (ko) 1998-09-25
TW344106B (en) 1998-11-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH09252005A (ja) バンプ形成方法
JP2001118873A (ja) ピン状ワイヤ等の形成方法
KR19990013284A (ko) 캡슐봉입 볼본딩 장치 및 방법
JPH02101754A (ja) ボンディング方法及びボンディング装置
US5115960A (en) Wire bonding method
KR100303052B1 (ko) 범프형성장치및방법
JP2969953B2 (ja) 半導体装置の製造方法及びその装置
JP6966815B2 (ja) ピン状ワイヤ成形方法及びワイヤボンディング装置
JPH08181175A (ja) ワイヤボンディング方法
TWI834288B (zh) 接腳引線形成方法、打線結合裝置以及結合工具
JPS62140428A (ja) ワイヤボンデイング方法
JP3457196B2 (ja) ボールボンディング方法
JP3223804B2 (ja) バンプの形成方法
JP3082657B2 (ja) バンプ形成装置およびバンプ形成方法
TW202512326A (zh) 打線接合裝置
KR100715978B1 (ko) 스파크 발생수단을 갖는 와이어 본딩용 캐필러리
KR0136528Y1 (ko) 와이어 본딩 장치
JPH11163029A (ja) ワイヤボンディング方法とワイヤボンディング装置
JP2004158583A (ja) 金属電極形成方法及び金属電極形成装置
JP2001338941A (ja) バンプ形成装置及びバンプ形成方法
JPH08191087A (ja) ワイヤボンディング方法及びワイヤボンディング装置
JP2002164378A (ja) ワイヤボンディング方法及び装置
JPH03263842A (ja) ワイヤボンディング方法
JPH0322545A (ja) ワイヤボンディング方法
JPH0574779A (ja) バンプ形成方法

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20030603