JPH09249677A - キラルなルテニウム錯体、その製造方法、及びプロキラルなケトンの鏡像選択的なトランスファー水素添加の方法 - Google Patents
キラルなルテニウム錯体、その製造方法、及びプロキラルなケトンの鏡像選択的なトランスファー水素添加の方法Info
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- JPH09249677A JPH09249677A JP8355489A JP35548996A JPH09249677A JP H09249677 A JPH09249677 A JP H09249677A JP 8355489 A JP8355489 A JP 8355489A JP 35548996 A JP35548996 A JP 35548996A JP H09249677 A JPH09249677 A JP H09249677A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 容易に製造でき、高い鏡像選択性を与え、あ
らゆる型のケトンが還元できるトランスファー水素添加
を提供する。 【解決手段】 一般式Ｉ、例えば一般式１のキラルなリ
ガンドを有するルテニウム錯体をプロキラルなケトンの
トランスファー水素添加に使用する。 ＲｕＸ１Ｘ２Ｌ１Ｌ２ （Ｉ） 一般式Ｉの錯体の具体例には次のものがある。
らゆる型のケトンが還元できるトランスファー水素添加
を提供する。 【解決手段】 一般式Ｉ、例えば一般式１のキラルなリ
ガンドを有するルテニウム錯体をプロキラルなケトンの
トランスファー水素添加に使用する。 ＲｕＸ１Ｘ２Ｌ１Ｌ２ （Ｉ） 一般式Ｉの錯体の具体例には次のものがある。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、キラルなリガンド
Ｌ2を有し、プロキラル（ｐｒｏｃｈｉｒａｌ）なケト
ンの鏡像選択的なトランスファー水素添加に好適な、一
般式（Ｉ） ＲｕＸ1Ｘ2Ｌ1Ｌ2 （Ｉ） で表されるキラルなルテニウム錯体に関する。
Ｌ2を有し、プロキラル（ｐｒｏｃｈｉｒａｌ）なケト
ンの鏡像選択的なトランスファー水素添加に好適な、一
般式（Ｉ） ＲｕＸ1Ｘ2Ｌ1Ｌ2 （Ｉ） で表されるキラルなルテニウム錯体に関する。
【０００２】キラルなロジウム又はルテニウム錯体の存
在下におけるプロキラルなケトンの鏡像選択的な水素添
加は、光学的に活性な化合物の製造において大変重要で
ある。使用される錯体は、多くの場合、複雑でさらに通
常技術的に煩雑で費用のかさむラセミ体分割を包含する
製造によるキラルなジホスフィンリガンドを含んでい
る。これらの欠点が、今日まで、これらの錯体の使用を
困難かつ非経済的なものにしている。一方、還元剤とし
ての水素の使用は、一般に高圧用の装置を必要としてお
り、これは高い操作コストを生じている。
在下におけるプロキラルなケトンの鏡像選択的な水素添
加は、光学的に活性な化合物の製造において大変重要で
ある。使用される錯体は、多くの場合、複雑でさらに通
常技術的に煩雑で費用のかさむラセミ体分割を包含する
製造によるキラルなジホスフィンリガンドを含んでい
る。これらの欠点が、今日まで、これらの錯体の使用を
困難かつ非経済的なものにしている。一方、還元剤とし
ての水素の使用は、一般に高圧用の装置を必要としてお
り、これは高い操作コストを生じている。
【０００３】慣用されている側（ｂｅｓｉｄｅ）触媒的
な水素による水素添加は、キラルなロジウム及びルテニ
ウム錯体の存在下における鏡像選択的なトランスファー
水素添加である。しかしながら、触媒的に活性な錯体
は、又一般に製造が複雑なジホスフィンリガンドを有し
ている。加えて、中程度の鏡像体過剰のみが、これらの
錯体の使用時に得られる。従って、ゲネット（Ｇｅｎｅ
ｔ）等は、最良の場合にアセトフェノンのトランスファ
ー水素添加において６２％の鏡像体過剰（ｅｅ）を与え
る、キラルなジホスフィンリガンドを有するルテニウム
錯体を記載している（Ｓｙｎｌｅｔｔ １９９３、４７
８）。
な水素による水素添加は、キラルなロジウム及びルテニ
ウム錯体の存在下における鏡像選択的なトランスファー
水素添加である。しかしながら、触媒的に活性な錯体
は、又一般に製造が複雑なジホスフィンリガンドを有し
ている。加えて、中程度の鏡像体過剰のみが、これらの
錯体の使用時に得られる。従って、ゲネット（Ｇｅｎｅ
ｔ）等は、最良の場合にアセトフェノンのトランスファ
ー水素添加において６２％の鏡像体過剰（ｅｅ）を与え
る、キラルなジホスフィンリガンドを有するルテニウム
錯体を記載している（Ｓｙｎｌｅｔｔ １９９３、４７
８）。
【０００４】ノヨリ（Ｎｏｙｏｒｉ）らは、リガンドと
してキラルなＮ−（ｐ−トシル）ー１（Ｓ），２（Ｓ）
−ジフェニルエチレンジアミンを有し、プロキラルなケ
トンのトランスファー水素添加時において触媒的に高度
な鏡像体過剰として与えるルテニウム錯体を記載してい
る（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９９５、１１７、
７５６２）。しかしながら、空時収率はむしろ中程度で
あり、この系は基質中の立体障害に敏感に反応する。従
って、アセトフェノンの還元は滑らかに行われるが、イ
ソブチロフェノンの還元は存在しない。
してキラルなＮ−（ｐ−トシル）ー１（Ｓ），２（Ｓ）
−ジフェニルエチレンジアミンを有し、プロキラルなケ
トンのトランスファー水素添加時において触媒的に高度
な鏡像体過剰として与えるルテニウム錯体を記載してい
る（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９９５、１１７、
７５６２）。しかしながら、空時収率はむしろ中程度で
あり、この系は基質中の立体障害に敏感に反応する。従
って、アセトフェノンの還元は滑らかに行われるが、イ
ソブチロフェノンの還元は存在しない。
【０００５】マチュウ（Ｍａｔｈｉｅｕ）らは、ドーナ
ー原子としてのＰ、Ｎ、Ｏを有する２座のキラルなリガ
ンドを持つルテニウム錯体を記載している（Ｊ．Ｃｈｅ
ｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．１９９５、１７２
１）。この錯体は、ケトンのトランスファー水素添加の
ために極めて効果的な触媒である。しかしながら、プロ
キラルなケトンの使用時においては、鏡像選択性は観察
されない。
ー原子としてのＰ、Ｎ、Ｏを有する２座のキラルなリガ
ンドを持つルテニウム錯体を記載している（Ｊ．Ｃｈｅ
ｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．１９９５、１７２
１）。この錯体は、ケトンのトランスファー水素添加の
ために極めて効果的な触媒である。しかしながら、プロ
キラルなケトンの使用時においては、鏡像選択性は観察
されない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、プロ
キラルなケトンのトランスファー水素添加用の、一層良
好な触媒を提供することである。特に、本発明は、触媒
が容易に得ることができ、高い鏡像選択性を確保し、か
つあらゆるタイプのケトンを還元する際にも使用可能と
することを意図するものである。
キラルなケトンのトランスファー水素添加用の、一層良
好な触媒を提供することである。特に、本発明は、触媒
が容易に得ることができ、高い鏡像選択性を確保し、か
つあらゆるタイプのケトンを還元する際にも使用可能と
することを意図するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】我々は、この目的が一般
式（Ｉ）： ＲｕＸ1Ｘ2Ｌ1Ｌ2 （Ｉ） ［式中、Ｘ1及びＸ2は、同一又は異なるものであり、ハ
ライドイオン、１、２又は３個の塩素又はフッ素原子を
有していても良いＣ−原子数１〜１０のカルボン酸のア
ニオン、メタンスルホン酸又はトリフルオロメタンスル
ホン酸のアニオンであるか、又はＸ1とＸ2は、一緒にな
って１，３−、１，４−又は１，５−ジカルボン酸のジ
アニオンであり、Ｌ1は５〜６個の環原子を有する環式
エーテル、５〜８個の環原子を有する環状オレフィン、
置換基として１、２又は３個のアルキル基を有してもよ
い芳香族化合物、ＣＯ、ＰＦ3、イソブテン又は一般式
（ＩＩ）： ＰＲ1Ｒ2Ｒ3 （ＩＩ） で表されるリガンド（ここで、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一
又は異なり、Ｃ−原子数１〜４のアルキル基又はＣ−原
子数１〜４のアルコキシ基から互いに独立に選ばれる
１、２又は３個の置換基を有していてもよいアルキル
基、シクロアルキル基又はアリール基である）であり、
Ｌ2は次の一般式（III）：
式（Ｉ）： ＲｕＸ1Ｘ2Ｌ1Ｌ2 （Ｉ） ［式中、Ｘ1及びＸ2は、同一又は異なるものであり、ハ
ライドイオン、１、２又は３個の塩素又はフッ素原子を
有していても良いＣ−原子数１〜１０のカルボン酸のア
ニオン、メタンスルホン酸又はトリフルオロメタンスル
ホン酸のアニオンであるか、又はＸ1とＸ2は、一緒にな
って１，３−、１，４−又は１，５−ジカルボン酸のジ
アニオンであり、Ｌ1は５〜６個の環原子を有する環式
エーテル、５〜８個の環原子を有する環状オレフィン、
置換基として１、２又は３個のアルキル基を有してもよ
い芳香族化合物、ＣＯ、ＰＦ3、イソブテン又は一般式
（ＩＩ）： ＰＲ1Ｒ2Ｒ3 （ＩＩ） で表されるリガンド（ここで、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一
又は異なり、Ｃ−原子数１〜４のアルキル基又はＣ−原
子数１〜４のアルコキシ基から互いに独立に選ばれる
１、２又は３個の置換基を有していてもよいアルキル
基、シクロアルキル基又はアリール基である）であり、
Ｌ2は次の一般式（III）：
【０００８】
【化３】
【０００９】（式中、Ｒ4及びＲ5は同一又は異なり、ア
ルキル基、アルコキシ基又はハロゲンから互いに独立し
て選ばれる、１、２又は３個の置換基を有してＸもよい
アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、
その際、Ｒ4又はＲ5の１個の基は水素原子であってもよ
く、又は、Ｒ4又はＲ5は、これらが結合しているリン原
子と一緒になって１個又は２個のアリール核と融合して
いてもよい、Ｃ−原子数５〜７の飽和環であり、Ｒ6は
ＯＨ、ＮＨ、ＳＨ、ＣＯＯＨ、アリールオキシ、アルコ
キシ、アリールチオ、アルキルチオ、アシルオキシ、ア
ルコキシカルボニル、アシルアミノから選ばれた１個以
上の基を有してもよいアルキル基、又はアラルキル基、
ヘトアラルキル（ｈｅｔａｒａｌｋｙｌ）基、アリール
基又はヘトアリール（ｈｅｔａｒｙｌ）基であり、Ｒ7
は、水素、アルキル、アリール又はアラルキル基であ
り、Ｒ8及びＲ9は、同一又は異なり、水素、Ｃ−原子数
１〜４のアルキル又はＣ−原子数１〜４のアルコキシ基
であり、又はＲ8及びＲ9は、一緒になって、融合したシ
クロアルキル又はアリール環であり、その際、Ｒ6及び
Ｒ7の結合している炭素原子の絶対配置は互いに独立し
て（Ｓ）又は（Ｒ）である）の２座のキラルなリガンド
である］で表される錯体により達成されることを見いだ
した。
ルキル基、アルコキシ基又はハロゲンから互いに独立し
て選ばれる、１、２又は３個の置換基を有してＸもよい
アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、
その際、Ｒ4又はＲ5の１個の基は水素原子であってもよ
く、又は、Ｒ4又はＲ5は、これらが結合しているリン原
子と一緒になって１個又は２個のアリール核と融合して
いてもよい、Ｃ−原子数５〜７の飽和環であり、Ｒ6は
ＯＨ、ＮＨ、ＳＨ、ＣＯＯＨ、アリールオキシ、アルコ
キシ、アリールチオ、アルキルチオ、アシルオキシ、ア
ルコキシカルボニル、アシルアミノから選ばれた１個以
上の基を有してもよいアルキル基、又はアラルキル基、
ヘトアラルキル（ｈｅｔａｒａｌｋｙｌ）基、アリール
基又はヘトアリール（ｈｅｔａｒｙｌ）基であり、Ｒ7
は、水素、アルキル、アリール又はアラルキル基であ
り、Ｒ8及びＲ9は、同一又は異なり、水素、Ｃ−原子数
１〜４のアルキル又はＣ−原子数１〜４のアルコキシ基
であり、又はＲ8及びＲ9は、一緒になって、融合したシ
クロアルキル又はアリール環であり、その際、Ｒ6及び
Ｒ7の結合している炭素原子の絶対配置は互いに独立し
て（Ｓ）又は（Ｒ）である）の２座のキラルなリガンド
である］で表される錯体により達成されることを見いだ
した。
【００１０】本発明において、アルキルとは有利には１
〜６個の、そして特別には１〜４個の炭素原子を有する
直鎖状の又は分枝を有するアルキル基である。アルキル
基の例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピ
ル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル及びｔ−
ブチルである。相応の記述は、アルコキシ、アルキルチ
オ、アルコキシカルボニル等におけるアルキル基にも当
てはまる。シクロアルキルは、好適にはＣ−原子数５〜
８のシクロアルキルであり、特に、シクロペンチル及び
シクロヘキシルである。芳香族化合物及びアリールは、
それぞれベンゼン、ナフタレン及びフェニル、α−又は
β−ナフチルである。Ｃ−原子数１〜４のアルキル置換
芳香族化合物の例は、トルエン、メシチレン又はｐ−シ
メンである。ヘトアリール基は、好適には５員又は６員
環であり、そして１又は２個の窒素原子を有し、さらに
融合された他の芳香族系を有していてもよい。この例
は、ピロリル、イミダゾリル、ピリジル、ピリミジル、
インドリル、キノリニル等である。アラルキル又はヘト
アラルキル基が、その中のＣ−原子数１〜４個のアルキ
レン鎖がアリール又はヘトアリール基を有している一価
の基である。アシルは、Ｒが特にＨ又はＣ−原子数１〜
４個のアルキルである、ＲＣＯである。
〜６個の、そして特別には１〜４個の炭素原子を有する
直鎖状の又は分枝を有するアルキル基である。アルキル
基の例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピ
ル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル及びｔ−
ブチルである。相応の記述は、アルコキシ、アルキルチ
オ、アルコキシカルボニル等におけるアルキル基にも当
てはまる。シクロアルキルは、好適にはＣ−原子数５〜
８のシクロアルキルであり、特に、シクロペンチル及び
シクロヘキシルである。芳香族化合物及びアリールは、
それぞれベンゼン、ナフタレン及びフェニル、α−又は
β−ナフチルである。Ｃ−原子数１〜４のアルキル置換
芳香族化合物の例は、トルエン、メシチレン又はｐ−シ
メンである。ヘトアリール基は、好適には５員又は６員
環であり、そして１又は２個の窒素原子を有し、さらに
融合された他の芳香族系を有していてもよい。この例
は、ピロリル、イミダゾリル、ピリジル、ピリミジル、
インドリル、キノリニル等である。アラルキル又はヘト
アラルキル基が、その中のＣ−原子数１〜４個のアルキ
レン鎖がアリール又はヘトアリール基を有している一価
の基である。アシルは、Ｒが特にＨ又はＣ−原子数１〜
４個のアルキルである、ＲＣＯである。
【００１１】本発明による錯体中のリガンドＸ1又はＸ2
として使用しうるアニオンになるＣ−原子数１〜１０の
カルボン酸は、１、２又は３個の塩素又はフッ素原子を
有してもよい直鎖又は分枝鎖を有するアルカンカルボン
酸であるか、又は安息香酸又はナフトエ酸の相応する誘
導体である。有利な錯体は、それぞれ独立して、Ｘ1又
はＸ2がハライド、特に塩素、臭素及び／又はヨウ素又
はＣ−原子数１〜４のカルボン酸のアニオン、特にはア
セテート、プロピオネート及び／又はブチレートである
ようなものである。同様に好適なものは、トリクロロア
セテート、トリフルオロアセテート、メタンスルフィネ
ート及びトリフルオロメタンスルフィネートアニオンで
ある。Ｘ1及びＸ2は、さらに一緒になって、１，３−、
１，４−又は１，５−ジカルボン酸のジアニオンであっ
てもよい。これにより、マロン酸、コハク酸又はグルタ
ル酸の誘導体が意味される。
として使用しうるアニオンになるＣ−原子数１〜１０の
カルボン酸は、１、２又は３個の塩素又はフッ素原子を
有してもよい直鎖又は分枝鎖を有するアルカンカルボン
酸であるか、又は安息香酸又はナフトエ酸の相応する誘
導体である。有利な錯体は、それぞれ独立して、Ｘ1又
はＸ2がハライド、特に塩素、臭素及び／又はヨウ素又
はＣ−原子数１〜４のカルボン酸のアニオン、特にはア
セテート、プロピオネート及び／又はブチレートである
ようなものである。同様に好適なものは、トリクロロア
セテート、トリフルオロアセテート、メタンスルフィネ
ート及びトリフルオロメタンスルフィネートアニオンで
ある。Ｘ1及びＸ2は、さらに一緒になって、１，３−、
１，４−又は１，５−ジカルボン酸のジアニオンであっ
てもよい。これにより、マロン酸、コハク酸又はグルタ
ル酸の誘導体が意味される。
【００１２】式（Ｉ）で示される本発明により製造され
る錯体における好適なリガンドＬ1は、ＣＯ、ＰＦ3及び
１，５−シクロオクタジエン及び一般式（ＩＩ）のホス
フィンリガンドであり、ここで、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は互
いに独立して、好適には非置換の又は、１、２又は３個
のＣ−原子数１〜４のアルキル基で置換された線状又は
分枝状のＣ−原子数１〜４のアルキル基又はフェニル基
である。これらは、特にメチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル及びｉ−ブチル又はフェ
ニル、オルト−又はパラトリル、パラ−イソプロピルフ
ェニル又はメシチルである。極めて特別に好適な錯体
は、リガンドＬ1として、トリフェニルホスフィン、ト
リ−Ｃ−原子数１〜４のアルキルホスフィン、トリトリ
ルホスフィン又はトリメシチルホスフィンを含有する。
る錯体における好適なリガンドＬ1は、ＣＯ、ＰＦ3及び
１，５−シクロオクタジエン及び一般式（ＩＩ）のホス
フィンリガンドであり、ここで、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は互
いに独立して、好適には非置換の又は、１、２又は３個
のＣ−原子数１〜４のアルキル基で置換された線状又は
分枝状のＣ−原子数１〜４のアルキル基又はフェニル基
である。これらは、特にメチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル及びｉ−ブチル又はフェ
ニル、オルト−又はパラトリル、パラ−イソプロピルフ
ェニル又はメシチルである。極めて特別に好適な錯体
は、リガンドＬ1として、トリフェニルホスフィン、ト
リ−Ｃ−原子数１〜４のアルキルホスフィン、トリトリ
ルホスフィン又はトリメシチルホスフィンを含有する。
【００１３】一般式（ＩＩ）におけるリガンドＬ2中の
基Ｒ4及びＲ5は、互いに独立して、好適にはＣ−原子数
１〜４のアルキル、特に分枝状のＣ−原子数１〜４のア
ルキル又は非置換の又は１、２又は３個のＣ−原子数１
〜４のアルキル基で置換されたアリールである。Ｒ4及
びＲ5は、特に好適には、互いに独立して、メチル、エ
チル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−
ブチル、フェニル、オルト−又はパラ−トリル、メシチ
ル、α−又はβ−ナフチルである。もしＲ4及びＲ5がそ
れらが結合しているＰ−原子と一緒になって複素環を形
成する場合には、Ｒ4及びＲ5は好適には一緒になったｎ
−ブチレン、ｎ−ペンチレン又は２，２′−ビフェニレ
ンである。
基Ｒ4及びＲ5は、互いに独立して、好適にはＣ−原子数
１〜４のアルキル、特に分枝状のＣ−原子数１〜４のア
ルキル又は非置換の又は１、２又は３個のＣ−原子数１
〜４のアルキル基で置換されたアリールである。Ｒ4及
びＲ5は、特に好適には、互いに独立して、メチル、エ
チル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−
ブチル、フェニル、オルト−又はパラ−トリル、メシチ
ル、α−又はβ−ナフチルである。もしＲ4及びＲ5がそ
れらが結合しているＰ−原子と一緒になって複素環を形
成する場合には、Ｒ4及びＲ5は好適には一緒になったｎ
−ブチレン、ｎ−ペンチレン又は２，２′−ビフェニレ
ンである。
【００１４】一般式（III）のリガンドＬ2中のＲ6は、
好適には、Ｃ−原子数１〜４のアルキル、フェニル、
（ＣＨ2）nＸであり、ここでＸはフェニル、４−イミダ
ゾリル、３−インドリル、α−又はβ−ナフチル、ＮＨ
2、ＯＨ、ＳＨ、ＳＣＨ3、ＣＯＯＨ又はＣＯＯ−Ｃ−原
子数１〜４のアルキルであり、ｎは１、２又は３であ
る。
好適には、Ｃ−原子数１〜４のアルキル、フェニル、
（ＣＨ2）nＸであり、ここでＸはフェニル、４−イミダ
ゾリル、３−インドリル、α−又はβ−ナフチル、ＮＨ
2、ＯＨ、ＳＨ、ＳＣＨ3、ＣＯＯＨ又はＣＯＯ−Ｃ−原
子数１〜４のアルキルであり、ｎは１、２又は３であ
る。
【００１５】Ｒ6は、特別には、メチル、エチル、プロ
ピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、２−ブチル、ｉ−ブ
チル、ｔ−ブチル、フェニル及びベンジルであり、特別
好ましいのは、ｉ−プロピル及びｔ−ブチルである。
ピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、２−ブチル、ｉ−ブ
チル、ｔ−ブチル、フェニル及びベンジルであり、特別
好ましいのは、ｉ−プロピル及びｔ−ブチルである。
【００１６】Ｒ7に関する本発明における好適な原子又
は基は、水素、メチル又はフェニルであり、特別好まし
いのは、水素である。
は基は、水素、メチル又はフェニルであり、特別好まし
いのは、水素である。
【００１７】置換基Ｒ6及びＲ7を有するオキサゾリン基
における炭素原子の絶対配置は、互いに独立して（Ｒ）
又は（Ｓ）となり得る。本発明による適当なリガンドＬ
2は、Ｒ6を結合する炭素原子の配置が一律に（Ｒ）又は
（Ｓ）であるもののみである。
における炭素原子の絶対配置は、互いに独立して（Ｒ）
又は（Ｓ）となり得る。本発明による適当なリガンドＬ
2は、Ｒ6を結合する炭素原子の配置が一律に（Ｒ）又は
（Ｓ）であるもののみである。
【００１８】リガンドＬ2は、特に好適には、アルキル
基を有する炭素原子の所で（Ｒ）又は（Ｓ）配置をもつ
式（IIIａ）、（IIIｂ）又は（IIIｃ）の化合物であ
る：
基を有する炭素原子の所で（Ｒ）又は（Ｓ）配置をもつ
式（IIIａ）、（IIIｂ）又は（IIIｃ）の化合物であ
る：
【００１９】
【化４】
【００２０】本発明におけるリガンドＬ2の製造は、公
知であり、又は公知の方法と同様に実施することができ
る。例えば、これらは、一般式（Ｖ）のキラルなアミノ
アルコールから出発して、一般式（ＶＩ）のｏ−フルオ
ロアリールシアニドとの酸触媒による閉環反応により、
一般式（ＶＩＩ）のキラルな２−（ｏ−フルオロアリー
ル）オキサゾリン誘導体を得ることにより製造される
（ボルム（Ｂｏｌｍ）ら、Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．１９９
１，１２４，１１７３）。これを次いで、適当に置換さ
れたホスフィンアニオンと反応させると、一般式（II
I）の所望のリガンドＬ2が与えられる（ウイリアムソン
（Ｗｉｌｌｉａｍｓｏｎ）ら、Ｓｙｎｌｅｔｔ，１９９
３，５０９）。化合物（III）、（Ｖ）、（ＶＩ）及び
（ＶＩＩ）中の基Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、
上述の意味を有する。キラルなアミノアルコールは、例
えば、前述の刊行物（Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．１９９１，１
２４，１１７３）中に引用されている文献に従って、キ
ラルなアミノ酸から出発して得ることができる。
知であり、又は公知の方法と同様に実施することができ
る。例えば、これらは、一般式（Ｖ）のキラルなアミノ
アルコールから出発して、一般式（ＶＩ）のｏ−フルオ
ロアリールシアニドとの酸触媒による閉環反応により、
一般式（ＶＩＩ）のキラルな２−（ｏ−フルオロアリー
ル）オキサゾリン誘導体を得ることにより製造される
（ボルム（Ｂｏｌｍ）ら、Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．１９９
１，１２４，１１７３）。これを次いで、適当に置換さ
れたホスフィンアニオンと反応させると、一般式（II
I）の所望のリガンドＬ2が与えられる（ウイリアムソン
（Ｗｉｌｌｉａｍｓｏｎ）ら、Ｓｙｎｌｅｔｔ，１９９
３，５０９）。化合物（III）、（Ｖ）、（ＶＩ）及び
（ＶＩＩ）中の基Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、
上述の意味を有する。キラルなアミノアルコールは、例
えば、前述の刊行物（Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．１９９１，１
２４，１１７３）中に引用されている文献に従って、キ
ラルなアミノ酸から出発して得ることができる。
【００２１】
【化５】
【００２２】本発明による錯体は、一般式（III）のキ
ラルなリガンドを一般式ＲｕＸ1Ｘ2Ｌ1Ｌ2Ｌ3（ここ
で、Ｘ1、Ｘ2及びＬ1は前記と同じ意味を有し、Ｌ2及び
Ｌ3は同一又は異なっており、ＣＯ、１〜３個のアルキ
ル置換基を有していてもよい芳香族化合物、特にはシメ
ン、ジエン、特には１，５−シクロオクタジエン（ＣＯ
Ｄ）又はトリアリールホスフィン、特にはトリフェニル
ホスフィンから選ばれるものである）の錯体前駆物質と
反応させることにより製造される。リガンドＬ2及びＬ3
は、錯体前駆物質が特にダイマー性又はオリゴマー性の
形状にあるときは、存在しなくてもよい。適当な錯体の
例は、ＲｕＣｌ2（ＰＰｈ3）3、［ＲｕＣｌ2（ｐ−シメ
ン）］2、［ＲｕＣｌ2（ＣＯＤ）］x、［ＲｕＣｌ2（Ｃ
Ｏ）3］2である。この反応は、不活性溶媒中において、
例えば、１〜３個のＣ−原子数１〜４のアルキル置換基
又は塩素原子を有してもよい芳香族化合物、好適にはベ
ンゼン、トルエン、エチルベンゼン、ｐ−シメン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼン、又はエーテル、好適に
はジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルｔ−
ブチルエーテル、アニソール又はハロアルカン、例えば
ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリ
クロロエタン中において、０℃〜１５０℃、好適には１
０℃〜１００℃、特に好適には室温にて行われる。
ラルなリガンドを一般式ＲｕＸ1Ｘ2Ｌ1Ｌ2Ｌ3（ここ
で、Ｘ1、Ｘ2及びＬ1は前記と同じ意味を有し、Ｌ2及び
Ｌ3は同一又は異なっており、ＣＯ、１〜３個のアルキ
ル置換基を有していてもよい芳香族化合物、特にはシメ
ン、ジエン、特には１，５−シクロオクタジエン（ＣＯ
Ｄ）又はトリアリールホスフィン、特にはトリフェニル
ホスフィンから選ばれるものである）の錯体前駆物質と
反応させることにより製造される。リガンドＬ2及びＬ3
は、錯体前駆物質が特にダイマー性又はオリゴマー性の
形状にあるときは、存在しなくてもよい。適当な錯体の
例は、ＲｕＣｌ2（ＰＰｈ3）3、［ＲｕＣｌ2（ｐ−シメ
ン）］2、［ＲｕＣｌ2（ＣＯＤ）］x、［ＲｕＣｌ2（Ｃ
Ｏ）3］2である。この反応は、不活性溶媒中において、
例えば、１〜３個のＣ−原子数１〜４のアルキル置換基
又は塩素原子を有してもよい芳香族化合物、好適にはベ
ンゼン、トルエン、エチルベンゼン、ｐ−シメン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼン、又はエーテル、好適に
はジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルｔ−
ブチルエーテル、アニソール又はハロアルカン、例えば
ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリ
クロロエタン中において、０℃〜１５０℃、好適には１
０℃〜１００℃、特に好適には室温にて行われる。
【００２３】上記錯体は、一般式（VIII）のケトンのト
ランスファー水素添加用触媒として適当である。
ランスファー水素添加用触媒として適当である。
【００２４】
【化６】
【００２５】もしＲ及びＲ′が異なる場合には、ケトン
はプロキラルであり、本発明により得られる錯体により
触媒される相応するアルコールのためのトランスファー
水素添加は鏡像選択的である。鏡像過剰は６０％（ｅ
ｅ）以上、好適には９０％（ｅｅ）以上である。
はプロキラルであり、本発明により得られる錯体により
触媒される相応するアルコールのためのトランスファー
水素添加は鏡像選択的である。鏡像過剰は６０％（ｅ
ｅ）以上、好適には９０％（ｅｅ）以上である。
【００２６】基Ｒ及びＲ′の性質については、一般には
制限はない。これらは、互いに独立して、直鎖状又は分
枝を有するアルキル、アリール、（ヘト）アリール又は
（ヘト）アラルキル基であり、その中にアルキル、（ヘ
ト）アリール又は（ヘト）アラルキル基のような他の基
を有することができる。基Ｒ及びＲ′の一方は、好適に
はアリール又はヘトアリール基である。還元されるカル
ボニル基は、モノ−又はポリ環式系にとり入れることが
可能である。さらに、基Ｒ及びＲ′は、互いに独立し
て、官能基を有することができる。これらに関する唯一
の制限は、これらを分解する触媒と反応しないことであ
り、又は還元されるカルボニル基と反応して最早トラン
スファー水素添加には感受性を有しない官能性を形成さ
せないことである。これらの条件は、ＯＨ、ＳＨ、アリ
ールオキシ、アルキルオキシ、アリールチオ、アルキル
チオ、アシルオキシ、ＣＯＯＨ、アルコキシカルボニ
ル、アシルアミノ、ＣＮ、ＮＯ2、イミン、オレフィン
性二重結合で電子供与体（例えば、エナミン、エノール
エーテル）又は電子受容体（ミカエル系）と共役したも
のにより満たされる。
制限はない。これらは、互いに独立して、直鎖状又は分
枝を有するアルキル、アリール、（ヘト）アリール又は
（ヘト）アラルキル基であり、その中にアルキル、（ヘ
ト）アリール又は（ヘト）アラルキル基のような他の基
を有することができる。基Ｒ及びＲ′の一方は、好適に
はアリール又はヘトアリール基である。還元されるカル
ボニル基は、モノ−又はポリ環式系にとり入れることが
可能である。さらに、基Ｒ及びＲ′は、互いに独立し
て、官能基を有することができる。これらに関する唯一
の制限は、これらを分解する触媒と反応しないことであ
り、又は還元されるカルボニル基と反応して最早トラン
スファー水素添加には感受性を有しない官能性を形成さ
せないことである。これらの条件は、ＯＨ、ＳＨ、アリ
ールオキシ、アルキルオキシ、アリールチオ、アルキル
チオ、アシルオキシ、ＣＯＯＨ、アルコキシカルボニ
ル、アシルアミノ、ＣＮ、ＮＯ2、イミン、オレフィン
性二重結合で電子供与体（例えば、エナミン、エノール
エーテル）又は電子受容体（ミカエル系）と共役したも
のにより満たされる。
【００２７】プロキラルなケトンの鏡像選択的なトラン
スファー水素添加のための本発明による方法は、通常、
触媒量の１種以上の本発明の錯体及び触媒量の塩基の存
在下で、ケトンを水素の供与体、好適には第二級アルコ
ール、特にはｉ−プロパノール、２−ブタノール、シク
ロペンタノール、又はシクロヘキサノール、特別にはｉ
−プロパノールと反応させることにより生じる。これに
関連して、この触媒は還元されるカルボニル基１個当た
り０．００１〜１モル％、特には０．０５〜０．５モル
％の量で使用される。塩基の量は、触媒に基づいて、
０．５〜１００モル当量、好適には１〜５０モル当量、
特には５〜３０モル当量である。好適な塩基は、アルカ
リ金属水酸化物、アルカリ金属Ｃ−原子数１〜４のアル
コレート、アルカリ金属水素化物又は水素化カルシウム
である。アルカリ金属水酸化物又はアルコレートが好適
に使用される。この反応は、液体であるならば、溶媒と
しての第二級アルコール中で実施しうる。さらに、基質
の溶解性が要求する場合には、補助溶媒（ｃｏｓｏｌｖ
ｅｎｔｓ）、好適にはジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、メチル、ｔ−ブチルエーテル、ジオキサン、ピ
ランのようなエーテル、又は炭化水素、軽油留分、好適
にはヘキサン、及び塩素化炭化水素、例えばジクロロメ
タン又はクロロホルムを使用することができる。反応は
−３０℃から１５０℃、好適には２０℃から１００℃の
範囲で実施され、もし溶媒が低沸点であるならば加圧時
に実施される。反応時間は基質及び温度に依存し、１５
分〜１２時間の範囲にある。反応混合物は慣用の方法で
精製され、生成物は、例えば、蒸留又は結晶化により分
離される。
スファー水素添加のための本発明による方法は、通常、
触媒量の１種以上の本発明の錯体及び触媒量の塩基の存
在下で、ケトンを水素の供与体、好適には第二級アルコ
ール、特にはｉ−プロパノール、２−ブタノール、シク
ロペンタノール、又はシクロヘキサノール、特別にはｉ
−プロパノールと反応させることにより生じる。これに
関連して、この触媒は還元されるカルボニル基１個当た
り０．００１〜１モル％、特には０．０５〜０．５モル
％の量で使用される。塩基の量は、触媒に基づいて、
０．５〜１００モル当量、好適には１〜５０モル当量、
特には５〜３０モル当量である。好適な塩基は、アルカ
リ金属水酸化物、アルカリ金属Ｃ−原子数１〜４のアル
コレート、アルカリ金属水素化物又は水素化カルシウム
である。アルカリ金属水酸化物又はアルコレートが好適
に使用される。この反応は、液体であるならば、溶媒と
しての第二級アルコール中で実施しうる。さらに、基質
の溶解性が要求する場合には、補助溶媒（ｃｏｓｏｌｖ
ｅｎｔｓ）、好適にはジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、メチル、ｔ−ブチルエーテル、ジオキサン、ピ
ランのようなエーテル、又は炭化水素、軽油留分、好適
にはヘキサン、及び塩素化炭化水素、例えばジクロロメ
タン又はクロロホルムを使用することができる。反応は
−３０℃から１５０℃、好適には２０℃から１００℃の
範囲で実施され、もし溶媒が低沸点であるならば加圧時
に実施される。反応時間は基質及び温度に依存し、１５
分〜１２時間の範囲にある。反応混合物は慣用の方法で
精製され、生成物は、例えば、蒸留又は結晶化により分
離される。
【００２８】本方法のもう１つの変法において、本発明
によるルテニウム複合体は適当なルテニウム複合体前駆
物質及び一般式（III）のリガンドＬ2より不活性溶媒、
例えば上記共溶媒の一種中で生成され、次いでプロキラ
ルなケトン、第二級アルコール及び塩基が添加され、そ
して混合物を反応させる。
によるルテニウム複合体は適当なルテニウム複合体前駆
物質及び一般式（III）のリガンドＬ2より不活性溶媒、
例えば上記共溶媒の一種中で生成され、次いでプロキラ
ルなケトン、第二級アルコール及び塩基が添加され、そ
して混合物を反応させる。
【００２９】以下の実施例は本発明を説明するためのも
のであり、発明を限定するものではない。
のであり、発明を限定するものではない。
【００３０】
Ｘ1＝Ｘ2＝Ｃｌ、Ｌ1＝Ｐ（Ｃ6Ｈ5）3である一般式
（Ｉ）の本発明によるルテニウム錯体を製造する一般的
方法 トリストリフェニルホスフィンルテニウム（ＩＩ）クロ
リド［ＲｕＣｌ2（ＰＰｈ3）3］０．３ミリモルを含む
無水トルエン６ｍｌの溶液に、一般式（IIIｄ）のリガ
ンドＬ2（第１表参照）０．３ミリモルを含む無水トル
エン４ｍｌの溶液を不活性ガス雰囲気下で添加し、この
混合物を室温で約１２時間撹拌した。沈殿を吸引濾過
し、少量のトルエンで洗い、減圧下で乾燥させた。次の
第１表に掲げる触媒が、こうして褐色の粉末として５５
から９０％の収率で得られた。
（Ｉ）の本発明によるルテニウム錯体を製造する一般的
方法 トリストリフェニルホスフィンルテニウム（ＩＩ）クロ
リド［ＲｕＣｌ2（ＰＰｈ3）3］０．３ミリモルを含む
無水トルエン６ｍｌの溶液に、一般式（IIIｄ）のリガ
ンドＬ2（第１表参照）０．３ミリモルを含む無水トル
エン４ｍｌの溶液を不活性ガス雰囲気下で添加し、この
混合物を室温で約１２時間撹拌した。沈殿を吸引濾過
し、少量のトルエンで洗い、減圧下で乾燥させた。次の
第１表に掲げる触媒が、こうして褐色の粉末として５５
から９０％の収率で得られた。
【００３１】代わりに、反応を行った後に、減圧下でト
ルエンを完全に除去し、残分をＣＨＣｌ3中に入れ、ヘ
キサンを積層させることにより結晶化を誘発させた。
ルエンを完全に除去し、残分をＣＨＣｌ3中に入れ、ヘ
キサンを積層させることにより結晶化を誘発させた。
【００３２】
【表１】
【００３３】例２で得られる錯体に関する1Ｈ−及び13
Ｃ−ＮＭＲデータは以下の通りである：
Ｃ−ＮＭＲデータは以下の通りである：
【００３４】
【化７】
【００３５】プロキラルなケトンを本発明のルテニウム
錯体で還元するための一般的方法触媒（第２表）０．０
１ミリモル、ケトン（第２表）１０ミリモル及び固体Ｋ
ＯＨ ０.２５ミリモルを、２−プロパノール５ｍｌに順
次添加し、引き続きこの混合物を還流加熱した。反応の
進行は、ガスクロマトグラフィーで追跡した。形成され
たアセトン及び過剰の２−プロパノールを次いで、蒸留
により除去した。所望の生成物を得るために、残分を真
空蒸留又は結晶化させた。この結果を第２表に示す。
錯体で還元するための一般的方法触媒（第２表）０．０
１ミリモル、ケトン（第２表）１０ミリモル及び固体Ｋ
ＯＨ ０.２５ミリモルを、２−プロパノール５ｍｌに順
次添加し、引き続きこの混合物を還流加熱した。反応の
進行は、ガスクロマトグラフィーで追跡した。形成され
たアセトン及び過剰の２−プロパノールを次いで、蒸留
により除去した。所望の生成物を得るために、残分を真
空蒸留又は結晶化させた。この結果を第２表に示す。
【００３６】
【表２】
【００３７】トランスファー水素添加は以下のとおりイ
ンシトウ（ｉｎ ｓｉｔｕ）で製造される例１から５の
１の触媒とともに実施することもできる。
ンシトウ（ｉｎ ｓｉｔｕ）で製造される例１から５の
１の触媒とともに実施することもできる。
【００３８】トリストリフェニルホスフィンルテニウム
（ＩＩ）クロリド［ＲｕＣｌ2（ＰＰｈ3）3］０．０１
ミリモルを無水トルエン０．５ｍｌに導入し、リガンド
（第１表参照）０．０１３ミリモルと混合し、室温で
０．５から２０時間撹拌した。次に、イソプロパノール
５ｍｌ、ケトン１０ミリモル及び塩基０．２５ミリモル
を添加し、混合物を還流加熱した。生成したアセトン及
び過剰の２−プロパノールは、次に蒸留して除去した。
要求される生成物は、残分を真空蒸留又は結晶化させて
得られる。
（ＩＩ）クロリド［ＲｕＣｌ2（ＰＰｈ3）3］０．０１
ミリモルを無水トルエン０．５ｍｌに導入し、リガンド
（第１表参照）０．０１３ミリモルと混合し、室温で
０．５から２０時間撹拌した。次に、イソプロパノール
５ｍｌ、ケトン１０ミリモル及び塩基０．２５ミリモル
を添加し、混合物を還流加熱した。生成したアセトン及
び過剰の２−プロパノールは、次に蒸留して除去した。
要求される生成物は、残分を真空蒸留又は結晶化させて
得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 33/14 9155−4Ｈ Ｃ０７Ｃ 33/14 33/20 9155−4Ｈ 33/20 33/22 9155−4Ｈ 33/22 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｆ 9/50 Ｃ０７Ｆ 9/50 Ｃ０７Ｍ 7:00
Claims (13)
- 【請求項１】 次式（Ｉ）： ＲｕＸ1Ｘ2Ｌ1Ｌ2 （Ｉ） ［式中、Ｘ1及びＸ2は、同一又は異なり、ハライドイオ
ン、１、２又は３個の塩素又はフッ素原子を有していて
もよいＣ−原子数１〜１０のカルボン酸のアニオン、メ
タンスルフィン酸又はトリフルオロメタンスルフィン酸
のアニオンであるか、又はＸ1とＸ2は一緒になって、
１，３−，１，４−又は１，５−ジカルボン酸のジアニ
オンであり、Ｌ1は５〜６員環の環状エーテル、５〜８
個の環原子をもつ環状オレフィン、置換基として１、２
又は３個のアルキル基を有してもよい芳香族化合物、Ｃ
Ｏ、ＰＦ3、イソブテン又は一般式（ＩＩ）： ＰＲ1Ｒ2Ｒ3 （ＩＩ） （式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なって、アルキ
ル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、これら
は互いに独立して、Ｃ−原子数１〜４のアルキル基又は
Ｃ−原子数１〜４のアルコキシ基から選択される１、２
又は３個の置換基を有していてもよいものである）のリ
ガンドであり、Ｌ2は一般式（III）： 【化１】 （式中、Ｒ4及びＲ5は同一又は異なり、アルキル基、シ
クロアルキル基又はアリール基であって、これらは互い
に独立に、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子
から選択される１、２又は３個の置換基を有していても
よいものであり、又はＲ4又はＲ5の一方の基は水素原子
であってもよいか又は、Ｒ4とＲ5はそれらが結合してい
るリン原子と一緒になって１又は２個のアリール核が融
合していてもよい飽和のＣ−原子数５〜７の環であり、
Ｒ6はＯＨ、ＳＨ、ＮＨ2、ＣＯＯＨ、アリールオキシ、
アルコキシ、アリールチオ、アルキルチオ、アシルオキ
シ、アルコキシカルボニル、アシルアミノから選ばれる
１以上の基を有していてもよいアルキル基、又はアラル
キル基、ヘトアラルキル基、アリール基又はヘトアリー
ル基であり、Ｒ7は水素、アルキル、アリール又はアラ
ルキル基であり、Ｒ8及びＲ9は同一又は異なり、水素、
Ｃ−原子数１〜４のアルキル又はＣ−原子数１〜４のア
ルコキシ基であるか、又はＲ8及びＲ9は一緒になって融
合したシクロアルキル又はアリール環であり、Ｒ6及び
Ｒ7を有する炭素原子の絶対配置は互いに独立に（Ｓ）
又は（Ｒ）である）の２座キラルリガンドである］で表
されるキラルなルテニウム錯体。 - 【請求項２】 式中のＸ1及びＸ2が同一又は異なり、ハ
ロゲン又はＣ−原子数１〜４のカルボン酸のアニオンで
ある、式（Ｉ）で示される請求項１記載の錯体。 - 【請求項３】 式中のＬ1が式（ＩＩ）のリガンドであ
る、式（Ｉ）で示される請求項１又は２記載の錯体。 - 【請求項４】 式（ＩＩ）において、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3
が同一又は異なり、Ｃ−原子数１〜４のアルキル、又は
フェニル、これは未置換であるか又はＣ−原子数１〜４
のアルキルで置換されている、ものである、請求項３記
載の錯体。 - 【請求項５】 式中のＬ1がトリフェニルホスフィン、
トリ−Ｃ1−Ｃ4−アルキルホスフィン、トリトリルホス
フィン又はトリメシチルホスフィンである、請求項４記
載の錯体。 - 【請求項６】 式（III）におけるＲ4及びＲ5が同一又
は異なり、Ｃ−原子数１〜４のアルキル、特に分枝状の
Ｃ−原子数１〜４のアルキル、アリール、これは未置換
であるか又は１、２又は３個のＣ−原子数１〜４のアル
キル基で置換されている、であるか、又はＲ4及びＲ5が
一緒になってｎ−ブチレン、ｎ−ペンチレン又は２，
２′−ビフェニレンである、請求項１から５までのいず
れか１項記載の錯体。 - 【請求項７】 式（III）におけるＲ6がＣ−原子数１〜
４のアルキル、フェニル又は（ＣＨ2）ｎＸであり、こ
こでＸはフェニル、４−イミダゾリル、３−インドリ
ル、α−又はβ−ナフチル、ＮＨ2、ＯＨ、ＳＨ、ＳＣ
Ｈ3、ＣＯＯＨ又はＣＯＯ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルであ
り、ｎは１、２又は３である、請求項１から６までのい
ずれか１項記載の錯体。 - 【請求項８】 式中のＸ1及びＸ2がハロゲンであり、Ｌ
1がトリフェニルホスフィンである、式（Ｉ）で示され
る、請求項１から７までのいずれか１項記載の錯体。 - 【請求項９】 キラルな２座のリガンドが式（III
ａ）、（IIIｂ）又は（IIIｃ）であり、ここで、アルキ
ル基を有する炭素原子は一律に（Ｒ）又は（Ｓ）であ
る、請求項１から８までのいずれか１項記載の錯体： 【化２】 。 - 【請求項１０】 一般式ＲｕＸ1Ｘ2Ｌ1Ｌ2Ｌ3（式中、
Ｘ1、Ｘ2及びＬ1は請求項１に示された意味を有してお
り、Ｌ2Ｌ3は同一又は異なって、芳香族化合物、トリア
リールホスフィン、トリアルキルホスフィン、ＣＯ又は
ジエンである）で示される錯体前駆物質を、不活性溶媒
中で式（III）の特定のリガンドと反応させることを特
徴とする、請求項１から９までのいずれか１項記載の錯
体を製造する方法。 - 【請求項１１】 請求項１から９までのいずれか１項記
載の錯体を使用する、プロキラルのケトンの鏡像選択的
なトランスファー水素添加の方法。 - 【請求項１２】 水素供与体として第二級アルコール、
特にイソプロパノールを使用する、請求項１１記載の方
法。 - 【請求項１３】 触媒量の塩基、特にアルカリ金属水酸
化物又はアルコラートを存在させる、請求項１１又は１
２記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19548399A DE19548399A1 (de) | 1995-12-22 | 1995-12-22 | Rutheniumkomplexe mit einem chiralen, zweizähnigen Phosphinoxazolin-Liganden zur enantioselektiven Transferhydrierung von prochiralen Ketonen |
| DE19548399.5 | 1995-12-22 |
Publications (2)
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