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JPH09187746A - ペリクル - Google Patents

ペリクル

Info

Publication number
JPH09187746A
JPH09187746A JP2049196A JP2049196A JPH09187746A JP H09187746 A JPH09187746 A JP H09187746A JP 2049196 A JP2049196 A JP 2049196A JP 2049196 A JP2049196 A JP 2049196A JP H09187746 A JPH09187746 A JP H09187746A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pellicle
adhesive
frame
film
adhesive layer
Prior art date
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Granted
Application number
JP2049196A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3206417B2 (ja
Inventor
Akihiko Nagata
愛彦 永田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP2049196A priority Critical patent/JP3206417B2/ja
Publication of JPH09187746A publication Critical patent/JPH09187746A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3206417B2 publication Critical patent/JP3206417B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Prevention Of Fouling (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 ペリクルフレーム(1)の上端面に接着
剤層(3)を形成すると共に、この接着剤層(3)上に
ペリクル膜(4)を貼着して上記ペリクルフレーム
(1)に張設してなるペリクルにおいて、上記ペリクル
フレーム(1)の上端内周縁部に内側テーパ面(5)を
形成すると共に、上記接着剤層(3)を上記ペリクルフ
レーム(1)の上端面を越えて上記内側テーパ面(5)
に進出させた状態に形成したことを特徴とするペリク
ル。 【効果】 本発明のペリクルによれば、ペリクル膜と接
着剤層との接着強度が大きく、エアブロー等の処理に対
する十分な接着性を示し、特にペリクル膜を非晶質含フ
ッ素ポリマーとした際に好適である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、リソグラフィー用
ペリクル、特にはLSI、超LSI等の半導体装置ある
いは液晶表示板を製造する際のゴミよけとして使用され
る、実質的に500nm以下の光を用いる露光方式にお
ける帯電防止されたリソグラフィー用ペリクルに関す
る。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】LS
I、超LSI等の半導体装置あるいは液晶表示板などの
製造においては、半導体ウェハーあるいは液晶用原板に
光を照射してパターニングを作成するのであるが、この
場合に用いるフォトマスクやレチクル等の露光原板にゴ
ミが付着していると、このゴミが光を吸収したり曲げて
しまうために、転写したパターンが変形したり、エッジ
ががさついたものになるほか、下地が黒く汚れたりし
て、寸法、品質、外観等が損なわれ、半導体装置や液晶
表示板などの性能や製品歩留りの低下を来すという問題
があった。
【0003】このため、これらの作業は、通常クリーン
ルームで行われているが、このクリーンルーム内でも露
光原板を常に清浄に保つことは難しいので、これには露
光原板の表面にゴミよけのための露光用の光をよく透過
させるペリクルを貼着する方法がとられている。
【0004】ところで、近年、超LSIの高集積化に伴
い回路の線幅が微細化し、リソグラフィー工程において
は、使用される露光用光源が、g線からi線、更にKr
Fエキシマレーザーへと短波長化、高エネルギー化へと
進んでいる。これに伴い、フォトマスク上の防塵カバー
として使用されるペリクルについても、短波長でも高い
光線透過率と優れた耐光性を有するペリクルが求められ
ており、このような使用条件で優れた特性を有する非晶
質含フッ素ポリマーをペリクル膜としたペリクルが使用
されている。
【0005】しかしながら、このような非晶質含フッ素
ポリマーは、従来g線やi線用のペリクル膜の接着剤と
して用いられてきたエポキシ系接着剤やアクリル系接着
剤では接着力が劣るため、従来の接着方式では十分な接
着強度が得られず、ペリクル膜上に付着した異物を除去
するためにエアブローを行った場合、ペリクル膜が接着
面から剥離して、レチクルを汚損する等の重大なトラブ
ルを起こすことがあり、また完全に剥離しないまでも、
ペリクル膜が接着面と部分剥離し、その隙間から異物が
侵入するおそれがあった。
【0006】このような非晶質含フッ素ポリマーを接着
する方法としては、(1)非晶質含フッ素ポリマーの表
面をO2,CF4/O2といったプラズマドライエッチン
グによって粗面化し、接着性を付与する方法、(2)低
圧水銀灯やKrF,ArFエキシマレーザーなどの短波
長の紫外線によって表面を改質して接着する方法、
(3)熱的に融着接合する方法などがある。しかしなが
ら、これらの方法は、いずれも装置が複雑で、処理に時
間がかかるばかりでなく、場合によっては処理中の発塵
によって非晶質含フッ素ポリマーの表面が異物によって
汚染されてしまうなどの問題がある。
【0007】本発明は上記事情に鑑みなされたもので、
特に、接着性の低い非晶質含フッ素ポリマーをペリクル
膜として十分な接着性をもって保持し得るペリクルを提
供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明は、上記目的を達成するため、ペリクルフレームの
上端面に接着剤層を形成すると共に、この接着剤層上に
ペリクル膜を貼着して上記ペリクルフレームに張設して
なるペリクルにおいて、上記ペリクルフレームの上端内
周縁部に内側テーパ面を形成すると共に、上記接着剤層
を上記ペリクルフレームの上端面を越えて上記内側テー
パ面に進出させた状態に形成したことを特徴とするペリ
クルを提供する。この場合、ペリクル膜は、環状パーフ
ルオロエーテル基を有する含フッ素モノマーを単独又は
テトラフルオロエチレンを重合して得られる非晶性重合
体の透明膜にて形成することが好適である。
【0009】本発明によれば、上記のように接着剤層を
ペリクルフレームの内側テーパ面に進出させたことによ
り、接着面積も増大し、フッ素樹脂のような通常の接着
剤に対して接着力の小さい材質のペリクル膜を用いて
も、従来のペリクルフレーム上端面のみに接着剤層を形
成する方式と比べ、ペリクルフレームとの間に高い接着
強度を得ることができ、除塵のためにエアブローを行っ
てもペリクル膜がペリクルフレームから脱離し難いもの
である。またこの場合、接着剤としてそれ自体の接着強
度が比較的低いものでも使用することができるので、耐
光性には優れているが、接着力の劣る接着剤を有効に用
いることができ、ペリクルの性能を向上させることがで
きる。
【0010】以下、本発明につき更に詳しく説明する
と、本発明のペリクルは、図1に示したように、ペリク
ルフレーム1の上端面2に接着剤層3を形成し、この接
着剤層3上にペリクル膜4を貼着してこのペリクル膜4
を上記ペリクルフレーム1に張設するに際し、上記ペリ
クルフレーム1の上端内周縁部に内側テーパ面(糸面)
5を形成すると共に、上記接着剤層3を上端面2を越え
て内側テーパ面5に進出させ、上記ペリクル膜4をこの
内側テーパ面5に進出した“はみ出し”接着剤層3aを
含む接着剤層3に貼着したものである。なお、図1の例
にあっては、ペリクルフレーム1の上端外周縁部にも外
側テーパ面(糸面)6が形成されているが、接着剤層3
はこの外側テーパ面6には進出していない。
【0011】ここで、本発明に使用するペリクル膜とし
ては、従来より使用されている種々の材質のものを用い
ることができるが、本発明では、特に通常の接着剤に対
して十分な接着力を示さない非晶質含フッ素ポリマーな
どを効果的に用いることができる。このような非晶質含
フッ素ポリマーの例としては、サイトップ(旭硝子
(株)製商品名)、テフロンAF(デュポン(株)製商
品名)などが挙げられる。
【0012】また、上記ペリクル膜の接着剤としては、
従来より使用されているものを挙げることができ、例え
ば、アクリル樹脂接着剤、エポキシ樹脂接着剤、シリコ
ーン樹脂接着剤、含フッ素シリコーン接着剤等を好適に
使用することができる。
【0013】ペリクルフレームとしては、材質はSU
S、アルミニウム合金等の金属、ポリアセタール、ポリ
カーボネート、PMMA、アクリル樹脂等の樹脂、青板
ガラス等の材質のものを使用することができる。
【0014】このペリクルフレームの形状は、公知の形
状とすることができるが、上述したように少なくともそ
の上端内周縁部にテーパ面(糸面)5を有していること
が必要である。この場合、テーパ面の幅W(図2参照)
は必ずしも制限されないが、0.05〜0.5mm程
度、特に0.1〜0.35mmがよく、この幅Wが狭す
ぎると接着強度向上の点で劣り、また幅Wが広すぎる
と、膜面異物測定装置等を使用してペリクル膜面の検査
を行う際に、テーパ面部分で光の散乱を起こして測定に
悪影響を与えるおそれがある。また、テーパ面の傾斜角
度θは30〜60°、特に33〜55°であることが好
ましい。傾斜角度θが小さすぎると、接着剤がフレーム
テーパ面より更に内側へ入り込み、ペリクル膜を汚した
り、露光用の光を遮ったりするおそれがある。傾斜角度
θが大きすぎると、接着剤がペリクルフレーム内側面へ
たれ落ちる場合があり、また接着強度の向上が得られな
いおそれがある。
【0015】上記接着剤を用いてペリクルフレームにペ
リクル膜を張設する方法は公知の方法を採用し得るが、
この場合、本発明においては、上述したように接着剤層
を内側テーパ面に進出させるように形成する。具体的に
は、接着剤を上端面全面及び内側テーパ面上にその幅方
向ほぼ中央部に至るまではみ出すように塗布する。この
際、接着剤層が外側テーパ面にはみ出すと、ペリクル膜
の切断を行う場合に切断の障害になるおそれがあるの
で、外側テーパ面にはみ出さないように接着剤を塗布す
る。接着剤の塗布方法としては、刷毛塗り、スプレー、
自動ディスペンサーによる方法などが採用されるが、特
に内側テーパ面に精度よくはみ出させるために、塗布方
法としては、XYステージを使用した自動ディスペンサ
ーを用いることが好ましい。なお、別の方法として、ペ
リクルフレーム上端面に接着剤を適量塗布し、ペリクル
膜を張り合せる際に、適当な荷重により接着剤を加圧
し、接着剤層を内側テーパ面にその幅方向ほぼ中間部ま
ではみ出させて、ペリクル膜を貼着する方法も採用し得
る。
【0016】またこの場合、塗布方法を工夫したり、あ
るいは接着剤層を加圧して、図1に示したように、接着
剤層の内周縁部上側を内方に突出させた状態でペリクル
膜を貼着することが好ましく、これにより例えばエアブ
ローによってペリクル膜内側からエアが当てられ、ペリ
クル膜をフレームから引き剥がすような力を衝いたとし
ても、ペリクル膜の変形に伴ってこの接着剤層の内方突
出部分も同時に変形し、ペリクル膜を接着剤面より引き
剥がす力より十分大きな接着力を生じ、ペリクル膜がペ
リクルフレームより剥がれることを確実に防止すること
ができる。
【0017】
【実施例】以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。
【0018】〔実施例1〕テフロンAF1600(米国
デュポン(株)製商品名)をフッ素系溶剤フロリナート
FC−75(米国スリーエム社製商品名)に溶解させ
て、濃度8%の溶液を調製した。次に、この溶液を直径
250mm、厚さ600μmの鏡面研磨したシリコン基
板面にスピンコーターを用いて塗布し、膜の厚みが0.
8μmの透明膜を形成させた。
【0019】この膜上に外寸200mm×200mm×
幅5mm、厚さ5mmの枠をエポキシ系接着剤アラルダ
イトラピッド(昭和高分子(株)製商品名)を用いて接
着した。接着剤の塗布にはYXZステージを使用した自
動ディスペンサーを使用し、接着剤塗布上端面の内側糸
面部分の半分に接着剤をはみ出させて塗布し、接着した
後、このものを水中で剥離した。
【0020】次に、フレーム外寸100mm×100m
m×幅5mm、フレーム厚さ4mmのアルミニウム合金
製フレームをエポキシ系接着剤アラルダイトラピッド
(昭和高分子(株)製商品名)を用いて成膜したテフロ
ンAF1600の膜表面に接着した。接着剤の塗布には
YXZステージを使用した自動ディスペンサーを使用
し、接着剤塗布上端面の内側テーパ面(幅0.2mm、
傾斜角45°)部分の半分に接着剤をはみ出させて塗布
し、接着した。塗布した接着剤の断面形状は図1と同様
であった。二つのフレームは、ペリクルフレームの接着
面を上向きにして固定用の治具に取り付けて相対的に位
置がずれないように固定した。
【0021】また、別の膜切断用の器具として、スカラ
ーロボットにステンレス製カッター(厚さ0.25m
m)を取り付けた。前記ペリクルフレームの接着剤部分
の周辺部に沿ってカッターを移動しながら、ペリクルフ
レーム外側の不要膜部分を切断除去した。上記と同様に
して20個のサンプルを作製した。
【0022】完成したペリクルについてペリクル膜の接
着強度を測定した。測定にはオートグラフ(島津製作所
(株)製)を使用した。ペリクル膜をフレーム部分を残
して5cm幅に切断し、膜側を上部チャッキング部に取
り付け、フレームを下部チャッキング部に取り付けた。
これを毎分100mmの速度で引っ張り、サンプル20
個について接着剤の剥離強度を測定したところ、平均3
0g/cmの剥離強度が得られた。
【0023】〔比較例1〕接着剤の塗布を、フレームの
内側テーパ面にはみ出さず、上端面のみに塗布した以外
は、実施例1と同様に操作し、図3に示すような状態で
ペリクル膜を接着した。
【0024】完成した20個のペリクルサンプルについ
て、実施例1と同様にして接着剤の剥離強度を測定した
ところ、平均0.5g/cmの剥離強度しか得られなか
った。
【0025】〔実施例2〕サイトップCTX809SP
2(旭硝子(株)製商品名)をフッ素系溶剤CT−SO
LV.180(旭硝子(株)製商品名)に溶解させて、
濃度3%の溶液を調製した。次に、この溶液を直径25
0mm、厚さ600μmの鏡面研磨したシリコン基板面
にスピンコーターを用いて塗布し、膜の厚みが0.8μ
mの透明膜を形成させた。
【0026】この膜上に外寸200mm×200mm×
幅5mm、厚さ5mmの枠をエポキシ系接着剤アラルダ
イトラピッド(昭和高分子(株)製商品名)を用いて接
着した。接着剤の塗布にはYXZステージを使用した自
動ディスペンサーを使用し、接着剤塗布上端面の内側糸
面部分の半分に接着剤をはみ出させて塗布し、接着した
後、このものを水中で剥離した。
【0027】次に、フレーム外寸100mm×100m
m×幅5mm、フレーム厚さ4mmのアルミニウム合金
製フレームをエポキシ系接着剤アラルダイトラピッド
(昭和高分子(株)製商品名)を用いて成膜したサイト
ップの膜表面に接着した。接着剤の塗布にはYXZステ
ージを使用した自動ディスペンサーを使用し、接着剤塗
布上端面の内側テーパ面(幅0.2mm、傾斜角45
°)部分の半分に接着剤をはみ出させて塗布し、接着し
た。塗布した接着剤の断面形状は図1と同様であった。
二つのフレームは、ペリクルフレームの接着面を上向き
にして固定用の治具に取り付けて相対的に位置がずれな
いように固定した。
【0028】また、別の膜切断用の器具として、スカラ
ーロボットにステンレス製カッター(厚さ0.25m
m)を取り付けた。前記ペリクルフレームの接着剤部分
の周辺部に沿ってカッターを移動しながら、ペリクルフ
レーム外側の不要膜部分を切断除去した。上記と同様に
して20個のサンプルを作製した。
【0029】完成したペリクルについてペリクル膜の接
着強度を測定した。測定にはオートグラフ(島津製作所
(株)製)を使用した。ペリクル膜をフレーム部分を残
して5cm幅に切断し、膜側を上部チャッキング部に取
り付け、フレームを下部チャッキング部に取り付けた。
これを毎分100mmの速度で引っ張り、サンプル20
個について接着剤の剥離強度を測定したところ、平均3
0g/cmの剥離強度が得られた。
【0030】〔比較例2〕接着剤の塗布を、フレームの
内側テーパ面にはみ出さず、上端面のみに塗布した以外
は、実施例2と同様に操作し、図3に示すような状態で
ペリクル膜を接着した。
【0031】完成した20個のペリクルサンプルについ
て、実施例2と同様にして接着剤の剥離強度を測定した
ところ、平均0.5g/cmの剥離強度しか得られなか
った。
【0032】
【発明の効果】本発明のペリクルによれば、ペリクル膜
と接着剤層との接着強度が大きく、エアブロー等の処理
に対する十分な接着性を示し、特にペリクル膜を非晶質
含フッ素ポリマーとした際に好適である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例にかかるペリクルを示す部分
拡大断面図である。
【図2】同例のペリクルの一部省略断面図である。
【図3】従来のペリクルにかかる部分拡大断面図であ
る。
【符号の説明】
1 ペリクルフレーム 2 上端面 3 接着剤層 4 ペリクル膜 5 内側テーパ面 6 外側テーパ面

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ペリクルフレーム(1)の上端面に接着
    剤層(3)を形成すると共に、この接着剤層(3)上に
    ペリクル膜(4)を貼着して上記ペリクルフレーム
    (1)に張設してなるペリクルにおいて、上記ペリクル
    フレーム(1)の上端内周縁部に内側テーパ面(5)を
    形成すると共に、上記接着剤層(3)を上記ペリクルフ
    レーム(1)の上端面を越えて上記内側テーパ面(5)
    に進出させた状態に形成したことを特徴とするペリク
    ル。
  2. 【請求項2】 ペリクル膜が環状パーフルオロエーテル
    基を有する含フッ素モノマーを単独又はテトラフルオロ
    エチレンを重合して得られる非晶性重合体の透明膜から
    なる請求項1記載のペリクル。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011164255A (ja) * 2010-02-08 2011-08-25 Shin-Etsu Chemical Co Ltd リソグラフィー用ペリクル
CN103901716A (zh) * 2012-12-25 2014-07-02 信越化学工业株式会社 光刻技术用防尘薄膜组件

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011164255A (ja) * 2010-02-08 2011-08-25 Shin-Etsu Chemical Co Ltd リソグラフィー用ペリクル
CN103901716A (zh) * 2012-12-25 2014-07-02 信越化学工业株式会社 光刻技术用防尘薄膜组件
KR20140082917A (ko) * 2012-12-25 2014-07-03 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 리소그래피용 펠리클
JP2014126569A (ja) * 2012-12-25 2014-07-07 Shin Etsu Chem Co Ltd リソグラフィ用ペリクル
US9268213B2 (en) 2012-12-25 2016-02-23 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Pellicle for lithogrpahy

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