JPH09169673A - 3,5−ビス(トリフルオロメチル)ブロムベンゼンの製造法 - Google Patents
3,5−ビス(トリフルオロメチル)ブロムベンゼンの製造法Info
- Publication number
- JPH09169673A JPH09169673A JP33440495A JP33440495A JPH09169673A JP H09169673 A JPH09169673 A JP H09169673A JP 33440495 A JP33440495 A JP 33440495A JP 33440495 A JP33440495 A JP 33440495A JP H09169673 A JPH09169673 A JP H09169673A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bis
- trifluoromethyl
- sulfuric acid
- reaction
- brominating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
- C07C17/10—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of hydrogen atoms
- C07C17/12—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of hydrogen atoms in the ring of aromatic compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
体として重要な,3,5−ビス(トリフルオロメチル)
ブロムベンゼンを高収率で得られる製造方法の提供を目
的とする。 【解決手段】 1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベ
ンゼンを濃度85%以上の硫酸の存在下に、N−ブロム
イミド型ブロム化剤(N−ブロムサクシイミド、N−ブ
ロムグルタルイミド等)を用いることを特徴とする3,
5−ビス(トリフルオロメチル)ブロムベンゼンの製造
方法に関する。
Description
される1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン
(以下、BTFBと略記する。)をN−ブロムイミド型
ブロム化剤を用いて3,5ビス(トリフルオロメチル)
ブロムベンゼン(以下、BTFBBと略記する。)の製
造法に関する。
れる有機化学品の中間体として重要になって来ている。
2例がある。 ブルティン・オブ・ケミカル・ソサイヤティ・ジャパ
ン1988年61巻5号1625−31頁(Bull.
Chem.Soc.Jpn.(1988),61
(5),1625−31);原料BTFBをリチオ化し
た後に臭素によってブロム化する方法。この方法では、
1−ブロム−2,4−,−2,6−,−3,5−ビス
(トリフルオロメチル)ベンゼンが、それぞれ35,3
1,8%の収率で得られた。即ち、目的とするBTFB
Bの収率は、わずかでありかつ高価なリチオ化を経てい
る。
巻9号2012−16頁(Zh.Prikl.Khi
m.(1973),46(9),2012−16)BT
FBを5塩化アンチモンの存在下オートクレーブ中高温
高圧の臭化塩素によって反応させ、(転化率不明)選択
率で74.1%のBTFBBと24.6%の3,5−ビ
ス(トリフルオロメチル)クロルベンゼンを得ている。
この方法では、高価な耐酸性用オートクレーブが必要で
あり、また5塩化アンチモンの廃棄処理の問題、さら
に、副生するクロル化物の分離精製の問題も抱え実用的
方法とはなり得ない。
ず、かつ温和な反応条件で反応を行うことができ、また
多量の廃金属がなく、高収率でBTFBBを生成する製
造法の提供を目的とする。
温和な反応条件で、BTFBBを高収率で得られる条件
を鋭意検討した結果、濃度81%以上の硫酸の存在下に
N−ブロムイミド型ブロム化剤を用いてブロム化するこ
とにより高収率で目的とするBTFBBを得ることがで
きることを見出し、本発明を完成させた。
オロメチル)ベンゼンを濃度85%以上の硫酸の存在下
に、N−ブロムイミド型ブロム化剤を用いることを特徴
とする3,5−ビス(トリフルオロメチル)ブロムベン
ゼンの製造法に関する。
まず原料の1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼ
ンは、通常入手できる純度のものをそのまま使用でき
る。本発明の第1の特徴は、ブロム化剤である。下記構
造式で表されるN−ブロムイミド型ブロム化剤を用いる
ところにある。
−ブロムグルタルイミド、1,3−ジブロム−5,5−
ジメチルヒダントイン、N,N′,N″−トリブロムイ
ソシアヌール酸、N,N′−ジブロムイソヌール酸ナト
リウム及びN,N′−ジブロムイソシアヌール酸カリウ
ムを挙げることができる。これらの中で、入手容易なN
−ブロムサクシイミドが特に好ましい。
ム原子で当量以上あれば充分であり、通常1.0〜1.
5当量使用するのが好ましい。次に本発明の第2の特徴
は、溶媒にある。即ち濃度85%以上の硫酸から110
%硫酸(三酸化硫黄濃度が10%までの発煙硫酸)を用
いることことができる。発煙硫酸を用いると副生物が生
成する場合もあり、好ましくは硫酸濃度90%より10
0%で迅速にかつ選択的に目的とするBTFBBが得ら
れる。より好ましい硫酸濃度は95%から100%であ
る。硫酸濃度85%未満では、反応速度が遅くなり好ま
しくない。
0重量部が好ましい。使用量が多い方が原料BTFB及
びブロム化剤が溶解するところから反応が速くなるが、
経済的には、通常3〜10重量倍の範囲で行うのが好ま
しい。本反応の反応温度は、−10〜100℃間で行う
のが好ましいが、特には0〜70℃間がBTFBBの選
択性と転化率との兼合いから好ましい。
液体クロマトガラフィー等で反応進跡することにより決
定することができる。反応終了後は、反応液の有機分を
有機溶媒で抽出した後、水洗、濃縮してから蒸留するこ
とにより目的生成物BTFBBを得ることができる。以
下、実施例によってさらに具体的に説明するが、本発明
は、これらによって限定されるものではない。
B)10.7g(50mmol)、N−ブロムサクシイ
ミド9.8g(55mmol)及び97%硫酸53.5
gを反応フラスコに仕込み40℃で6時間30分攪拌し
た。反応終了後、室温に戻してから1,2−ジクロロエ
タン(EDC)で抽出した。このEDC層を水洗、10
%NaOH水溶液洗さらに水洗を行った後、芒硝で脱水
した。その後この含水芒硝をろ別後EDC溶液を蒸留に
供した。常圧で151〜152℃の主留分9.8gが得
られた。
から分析の結果、目的とする1,3−ビス(トリフルオ
ロメチル)ブロムベンゼン(BTFBB)であることを
確認した。なお、反応直後のEDC抽出液をガスクロマ
トグラフィー内標法で定量した結果、BTFBB収率は
92.1%であった。
溶媒、温度及び時間等を変えて、反応を行い、得られた
反応液からEDC抽出し、EDC溶液を内標法で定量し
た結果を、次表に示す。尚、原料のBTFBは、2.14g
(10mmol)を用いた。
−トリブロムイソシアヌール酸1.8g(5mmol)
及び97%硫酸12gを40℃で5時間攪拌した。この
反応液を室温に戻してからEDC抽出し、得られたED
C溶液を定量した。未反応BTFB32.0%、生成B
TFBB収率51.1%であった。
ロムイミド型ブロム化剤を用いて、1,3−ビス(トリ
フルオロメチル)ベンゼンをブロム化することにより高
収率で、3,5−ビス(トリフルオロメチル)ブロムベ
ンゼンを得ることができる。
Claims (3)
- 【請求項1】 1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベ
ンゼンを濃度85%以上の硫酸の存在下に、N−ブロム
イミド型ブロム化剤を用いることを特徴とする3,5−
ビス(トリフルオロメチル)ブロムベンゼンの製造法。 - 【請求項2】 N−ブロムイミド型ブロム化剤が、N−
ブロムサクシイミド、N−ブロムグルタルイミド、1,
3−ジブロム−5,5−ジメチルヒダントイン又はN,
N′,N″−トリブロムイソシアヌール酸であることを
特徴とする請求項1記載の3,5−ビス(トリフルオロ
メチル)ブロムベンゼンの製造法。 - 【請求項3】 反応温度が0〜70℃で行うことを特徴
とする請求項1又は請求項2記載の3,5−ビス(トリ
フルオロメチル)ブロムベンゼンの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33440495A JP3806962B2 (ja) | 1995-12-22 | 1995-12-22 | 3,5−ビス(トリフルオロメチル)ブロムベンゼンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33440495A JP3806962B2 (ja) | 1995-12-22 | 1995-12-22 | 3,5−ビス(トリフルオロメチル)ブロムベンゼンの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09169673A true JPH09169673A (ja) | 1997-06-30 |
JP3806962B2 JP3806962B2 (ja) | 2006-08-09 |
Family
ID=18276995
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33440495A Expired - Fee Related JP3806962B2 (ja) | 1995-12-22 | 1995-12-22 | 3,5−ビス(トリフルオロメチル)ブロムベンゼンの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3806962B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6255545B1 (en) | 1999-06-11 | 2001-07-03 | Merck & Co., Inc. | Process for the synthesis of 3,5-bis(trifluoromethyl)-bromobenzene |
US6350915B1 (en) | 1999-06-11 | 2002-02-26 | Merck & Co., Inc. | Process for the synthesis of 1-(3,5-bis(trifluoromethyl)-phenyl)ethan-1-one |
WO2002024615A1 (en) * | 2000-09-23 | 2002-03-28 | Synprotec Limited | 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene derivatives |
EP1192116A4 (en) * | 1999-06-11 | 2002-10-24 | Merck & Co Inc | SYNTHESIS OF 3,5-BIS (TRIFLUOROMETHYLE) BROMOBENZENE |
US6506951B1 (en) | 1999-04-20 | 2003-01-14 | Central Glass Company, Limited | Process for producing brominated trifluoromethylbenzenes |
-
1995
- 1995-12-22 JP JP33440495A patent/JP3806962B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6506951B1 (en) | 1999-04-20 | 2003-01-14 | Central Glass Company, Limited | Process for producing brominated trifluoromethylbenzenes |
US6255545B1 (en) | 1999-06-11 | 2001-07-03 | Merck & Co., Inc. | Process for the synthesis of 3,5-bis(trifluoromethyl)-bromobenzene |
US6350915B1 (en) | 1999-06-11 | 2002-02-26 | Merck & Co., Inc. | Process for the synthesis of 1-(3,5-bis(trifluoromethyl)-phenyl)ethan-1-one |
EP1192116A4 (en) * | 1999-06-11 | 2002-10-24 | Merck & Co Inc | SYNTHESIS OF 3,5-BIS (TRIFLUOROMETHYLE) BROMOBENZENE |
WO2002024615A1 (en) * | 2000-09-23 | 2002-03-28 | Synprotec Limited | 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene derivatives |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3806962B2 (ja) | 2006-08-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4769493A (en) | Process for producing tetrafluorophthalic acid | |
JP3166215B2 (ja) | 1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルクロリドの製造方法 | |
JPH09169673A (ja) | 3,5−ビス(トリフルオロメチル)ブロムベンゼンの製造法 | |
CN111170846A (zh) | 一种制备3,3-二甲基-2-氧-丁酸的方法 | |
CN117326961A (zh) | 一种非苏拉赞中间体的绿色合成方法 | |
JPH0390057A (ja) | クロロフルオロベンゾニトリル及びその製造方法 | |
EP0031218A1 (en) | A 2-amino-trifluoromethyl-halogenopyridine compound and a process for producing the same | |
JPS6014033B2 (ja) | 4−メチルオキサゾ−ルの製造法 | |
JP2517304B2 (ja) | ブロモアセトニトリルの製造方法 | |
JP3412246B2 (ja) | 2−ハロゲノ−1−アルケン誘導体の製法 | |
JPH05178833A (ja) | N−シアノアセトアミジン誘導体の製造方法 | |
US5053557A (en) | Process for preparing 2-chloro-4-fluorophenol | |
JP5482233B2 (ja) | ジアリールジスルフィド化合物の製造方法 | |
JPH0987214A (ja) | 4,4’−ビス(クロロメチル)ビフェニルの製造方法 | |
JPS5835136A (ja) | 6−ブロムチモ−ルの製法 | |
JP2664761B2 (ja) | アミノベンザントロン類の製造方法 | |
JP2653138B2 (ja) | ハロアリルフランカルビノール類およびその製法 | |
JP2003081892A (ja) | 3,5−ビス(トリフルオロメチル)ブロムベンゼンの製造方法 | |
JP2876801B2 (ja) | メタンスルホニルエステルの製造法 | |
JPS6115848B2 (ja) | ||
JP4894123B2 (ja) | ペルフルオロアルキルスルホニルハライドの製造方法 | |
JPH10265449A (ja) | 置換ベンゾニトリルの製造方法 | |
US3506664A (en) | Preparation of polybrominated 2-pyrimidineacetonitriles | |
CN111548258A (zh) | 一类磺酰基型化合物用作氯化试剂的用途 | |
JPS6338976B2 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060131 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060331 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060425 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060508 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090526 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100526 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110526 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120526 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130526 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130526 Year of fee payment: 7 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |