JPS6014033B2 - ４−メチルオキサゾ−ルの製造法 - Google Patents
４−メチルオキサゾ−ルの製造法Info
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- JPS6014033B2 JPS6014033B2 JP9935977A JP9935977A JPS6014033B2 JP S6014033 B2 JPS6014033 B2 JP S6014033B2 JP 9935977 A JP9935977 A JP 9935977A JP 9935977 A JP9935977 A JP 9935977A JP S6014033 B2 JPS6014033 B2 JP S6014033B2
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Landscapes
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は４ーメチル−２−オキサゾールチオールの酸化
による４ーメチルオキサゾールの製法に関する。
による４ーメチルオキサゾールの製法に関する。
４−メチルオキサゾールは染料、医薬品等の中間体とし
て、例えばビタミン＆の原料として極めて重要な化合物
であり、これまでいくつかの製造法が公知にされている
。
て、例えばビタミン＆の原料として極めて重要な化合物
であり、これまでいくつかの製造法が公知にされている
。
例えば、（ｉ）４−メチルオキサゾールー５−カルボン
酸の脱炭酸による方法（ジャーナル・オプ・ザ・ケミカ
ル・ソサエティー第９３頁（１９５３））、（ｉｉ）ホ
ルムァミドとギ酸アセトニルェステルの反応による方法
（椿公昭４３一１８９０び号公報）、Ｇｉｉ）ハイドロ
キシアセトンとホルムィミドェーテルの反応による方法
（特開昭５１一６８５６４号公報）などが知られている
。しかしながら、これらの方法は収率、純度の点で満足
できるものではない。即ち、（ｉ）の方法は固相反応に
よるものであり、粉末原料と触媒を乾留し脱炭酸する方
法であるが、生成物が不純であり、実験室内での製法と
してはともかく、到底、工業的製法として採用すること
のできないものである。また、（ｉｉ）の方法はギ酸プ
ロパルギルェステルからの通算収率はわずか７．２％で
あり、中間体ギ酸２一ケトプロピルェステルからの収率
でさえ１５．２％に過ぎない。また、（ｉｉｉ）の方法
は前記（ｉ）（ｉｉ）の方法より工業的価値は高いと考
えられるが原料であるホルムィミドェーテルの浪費が多
く更に、後処理の点においても反応溶媒、残存原料と沸
点の近似する目的化合物を分留によって採取せねばなら
ず、化学操作上、必ずしも合理的な製法とは言えない。
本発明者は上記公知方法に代わる合理的な４ーメチルオ
キサゾールの工業的製法について鋭意研究を重ねた結果
、原料として４−メチル−２一オキサゾールチオールを
使用すれば安価で収率もよく、且つ、後処理が簡単な上
に純度の高い（ガスクロマトグラフイ一による定量では
純度１００％）４ーメチルオキサゾールが得られること
を発見し、本発明を完成した。
酸の脱炭酸による方法（ジャーナル・オプ・ザ・ケミカ
ル・ソサエティー第９３頁（１９５３））、（ｉｉ）ホ
ルムァミドとギ酸アセトニルェステルの反応による方法
（椿公昭４３一１８９０び号公報）、Ｇｉｉ）ハイドロ
キシアセトンとホルムィミドェーテルの反応による方法
（特開昭５１一６８５６４号公報）などが知られている
。しかしながら、これらの方法は収率、純度の点で満足
できるものではない。即ち、（ｉ）の方法は固相反応に
よるものであり、粉末原料と触媒を乾留し脱炭酸する方
法であるが、生成物が不純であり、実験室内での製法と
してはともかく、到底、工業的製法として採用すること
のできないものである。また、（ｉｉ）の方法はギ酸プ
ロパルギルェステルからの通算収率はわずか７．２％で
あり、中間体ギ酸２一ケトプロピルェステルからの収率
でさえ１５．２％に過ぎない。また、（ｉｉｉ）の方法
は前記（ｉ）（ｉｉ）の方法より工業的価値は高いと考
えられるが原料であるホルムィミドェーテルの浪費が多
く更に、後処理の点においても反応溶媒、残存原料と沸
点の近似する目的化合物を分留によって採取せねばなら
ず、化学操作上、必ずしも合理的な製法とは言えない。
本発明者は上記公知方法に代わる合理的な４ーメチルオ
キサゾールの工業的製法について鋭意研究を重ねた結果
、原料として４−メチル−２一オキサゾールチオールを
使用すれば安価で収率もよく、且つ、後処理が簡単な上
に純度の高い（ガスクロマトグラフイ一による定量では
純度１００％）４ーメチルオキサゾールが得られること
を発見し、本発明を完成した。
以下、本発明を更に詳細に説明する。本発明は極めて安
価な物質であるロダン塩とオキシアセトンとの反応によ
って容易に高収率（約８０％）で得られる４ーメチル−
２−オキサゾールチオールを嫌料とし、これを酸化する
という簡単な操作により高収率で目的物質４−メチルオ
キサゾールを製造する方法であり、本発明反応は次の反
応式によって示される。
価な物質であるロダン塩とオキシアセトンとの反応によ
って容易に高収率（約８０％）で得られる４ーメチル−
２−オキサゾールチオールを嫌料とし、これを酸化する
という簡単な操作により高収率で目的物質４−メチルオ
キサゾールを製造する方法であり、本発明反応は次の反
応式によって示される。
本反応に使用する酸化剤としては過酸化水素、過マンガ
ン酸カリ、硝酸等通常の酸化剤が用いられ、特に硝酸、
過酸化水素が工業的に有利である。
ン酸カリ、硝酸等通常の酸化剤が用いられ、特に硝酸、
過酸化水素が工業的に有利である。
反応は室温でも進行するが、加温によって促進される。
反応には溶媒を使用しても良いが、酸化試剤が溶媒をか
ねることも出来る。溶媒としては水、酢酸、プロピオン
酸などが用いられる。４−メチルオキサゾールは通常そ
の分離、精製が困難であり、特に４ーメチルオキサゾー
ルの沸点に近似の沸点をもつ化合物との分離が困難であ
るが、本発明方法によれば、酸化反応終了後反応液をア
ルカリ水溶液で中和するだけで残存原料は塩として水層
に移行するので４−メチルオキサゾールを油層として容
易に分離することが出来る。
反応には溶媒を使用しても良いが、酸化試剤が溶媒をか
ねることも出来る。溶媒としては水、酢酸、プロピオン
酸などが用いられる。４−メチルオキサゾールは通常そ
の分離、精製が困難であり、特に４ーメチルオキサゾー
ルの沸点に近似の沸点をもつ化合物との分離が困難であ
るが、本発明方法によれば、酸化反応終了後反応液をア
ルカリ水溶液で中和するだけで残存原料は塩として水層
に移行するので４−メチルオキサゾールを油層として容
易に分離することが出来る。
油層を脱水後蒸留すればきわめて純度の高い４ーメチル
オキサゾールを得ることが出来る。次に実施例を挙げて
説明する。
オキサゾールを得ることが出来る。次に実施例を挙げて
説明する。
実施例 １
４−メチル−２−オキサゾールチオール１１．５夕を硝
酸１５の‘、水３０の‘、亜硝酸ソーダ０．０２夕の混
液中に徐々に加える。
酸１５の‘、水３０の‘、亜硝酸ソーダ０．０２夕の混
液中に徐々に加える。
反応液を４５ｑｏで１時間燈拝し、反応液を苛性ソーダ
で中和し、塩析する。油層を分離、蒸留すれば、沸点８
８〜８９ｑｏの４−メチルオキサゾール６．２夕（収率
７４．７％）を得る。実施例 ２４ーメチル−２一オキ
サゾールチオール１１．５夕を硝酸３０の‘、水３０地
、亜硝酸ソーダ０．０２夕の濠液中に５５〜６０℃で徐
々に加える。同温度で１．虫時間鷹拝する。反応液を苛
性ソーダで中和後塩化メチレンで抽出、塩化メチレン層
を分留し、４−メチルオキサゾール６．５夕（収率７８
．３％）を得る。実施例 ３４ーメチル−２一オキサゾ
ールチオール５夕、過酸化水素水４０夕の混液を０〜５
℃にて５時間、室温で１幼時間反応させる。
で中和し、塩析する。油層を分離、蒸留すれば、沸点８
８〜８９ｑｏの４−メチルオキサゾール６．２夕（収率
７４．７％）を得る。実施例 ２４ーメチル−２一オキ
サゾールチオール１１．５夕を硝酸３０の‘、水３０地
、亜硝酸ソーダ０．０２夕の濠液中に５５〜６０℃で徐
々に加える。同温度で１．虫時間鷹拝する。反応液を苛
性ソーダで中和後塩化メチレンで抽出、塩化メチレン層
を分留し、４−メチルオキサゾール６．５夕（収率７８
．３％）を得る。実施例 ３４ーメチル−２一オキサゾ
ールチオール５夕、過酸化水素水４０夕の混液を０〜５
℃にて５時間、室温で１幼時間反応させる。
反応液を実施例２と同様に処理し、４−メチルオキサゾ
ール３．２９（収率８８．６％）を得る。実施例 ４ ４−メチル−２一オキサゾールチオール５夕、酢酸５０
の‘および過酸化水素水３０夕の混液を０〜５℃にて２
４時間、室温にて２４時間反応させる。
ール３．２９（収率８８．６％）を得る。実施例 ４ ４−メチル−２一オキサゾールチオール５夕、酢酸５０
の‘および過酸化水素水３０夕の混液を０〜５℃にて２
４時間、室温にて２４時間反応させる。
Claims (1)
- １ ４−メチル−２−オキサゾールチオールに酸化剤を
反応せしめることを特徴とする４−メチルオキサゾール
の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9935977A JPS6014033B2 (ja) | 1977-08-19 | 1977-08-19 | ４−メチルオキサゾ−ルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9935977A JPS6014033B2 (ja) | 1977-08-19 | 1977-08-19 | ４−メチルオキサゾ−ルの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5432465A JPS5432465A (en) | 1979-03-09 |
| JPS6014033B2 true JPS6014033B2 (ja) | 1985-04-11 |
Family
ID=14245381
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9935977A Expired JPS6014033B2 (ja) | 1977-08-19 | 1977-08-19 | ４−メチルオキサゾ−ルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6014033B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63117952U (ja) * | 1987-01-27 | 1988-07-30 | ||
| JPH0477782B2 (ja) * | 1985-11-07 | 1992-12-09 | Hideharu Osada |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS572714A (en) * | 1980-06-10 | 1982-01-08 | Ikeda Bussan Co Ltd | Patterning method and device of sheet cover |
| JPS572713A (en) * | 1980-06-10 | 1982-01-08 | Ikeda Bussan Co Ltd | Patterning method of sheet cover |
| JPS57204997A (en) * | 1981-06-10 | 1982-12-15 | Matsushita Electric Works Ltd | Input signal control circuit |
| JPH0421926Y2 (ja) * | 1987-08-11 | 1992-05-19 |
-
1977
- 1977-08-19 JP JP9935977A patent/JPS6014033B2/ja not_active Expired
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0477782B2 (ja) * | 1985-11-07 | 1992-12-09 | Hideharu Osada | |
| JPS63117952U (ja) * | 1987-01-27 | 1988-07-30 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5432465A (en) | 1979-03-09 |
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