JPH09120507A - 磁気ヘッド・アセンブリ - Google Patents
磁気ヘッド・アセンブリInfo
- Publication number
- JPH09120507A JPH09120507A JP8216998A JP21699896A JPH09120507A JP H09120507 A JPH09120507 A JP H09120507A JP 8216998 A JP8216998 A JP 8216998A JP 21699896 A JP21699896 A JP 21699896A JP H09120507 A JPH09120507 A JP H09120507A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- pole piece
- layer
- thin film
- magnetic head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
- G11B5/3143—Disposition of layers including additional layers for improving the electromagnetic transducing properties of the basic structure, e.g. for flux coupling, guiding or shielding
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/4902—Electromagnet, transformer or inductor
- Y10T29/49021—Magnetic recording reproducing transducer [e.g., tape head, core, etc.]
- Y10T29/49032—Fabricating head structure or component thereof
- Y10T29/49036—Fabricating head structure or component thereof including measuring or testing
- Y10T29/49041—Fabricating head structure or component thereof including measuring or testing with significant slider/housing shaping or treating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/4902—Electromagnet, transformer or inductor
- Y10T29/49021—Magnetic recording reproducing transducer [e.g., tape head, core, etc.]
- Y10T29/49032—Fabricating head structure or component thereof
- Y10T29/49036—Fabricating head structure or component thereof including measuring or testing
- Y10T29/49043—Depositing magnetic layer or coating
- Y10T29/49044—Plural magnetic deposition layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】磁気ヘッドにおいて、磁気ギャップ領域のエロ
ージョンを低下させると共に、磁極片の飽和モーメント
のバランスを良くする。 【解決手段】接触記録方式の交互配置型双方向磁気テー
プ・ヘッドは、磁性フェライト製基板（すなわち、第１
磁極片）２２上に軟磁性体の薄膜を付着させることによ
って性能を向上させた磁極端３０を有する。第２磁極片
４０は、軟磁性体の薄膜層である。非磁性セラミック製
クロージャ・ブロック２４は、高さ調整絶縁層４４及び
励起用導体巻線３６の層を囲む。磁性フェライト上に付
着させたストライプの磁極端３０は、第１導体巻線部分
の直近まで延び、磁極片の飽和モーメントの釣り合いを
もたらし、特に、磁性フェライト後端モードでの動作に
おいて特性の良い記録能力を提供する。
ージョンを低下させると共に、磁極片の飽和モーメント
のバランスを良くする。 【解決手段】接触記録方式の交互配置型双方向磁気テー
プ・ヘッドは、磁性フェライト製基板（すなわち、第１
磁極片）２２上に軟磁性体の薄膜を付着させることによ
って性能を向上させた磁極端３０を有する。第２磁極片
４０は、軟磁性体の薄膜層である。非磁性セラミック製
クロージャ・ブロック２４は、高さ調整絶縁層４４及び
励起用導体巻線３６の層を囲む。磁性フェライト上に付
着させたストライプの磁極端３０は、第１導体巻線部分
の直近まで延び、磁極片の飽和モーメントの釣り合いを
もたらし、特に、磁性フェライト後端モードでの動作に
おいて特性の良い記録能力を提供する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、特に磁気記録のた
めの薄膜磁気ヘッドに関し、特には、磁性フェライト製
基板における優れた磁極端を有する磁気ヘッド、及びそ
の製作方法に関する。
めの薄膜磁気ヘッドに関し、特には、磁性フェライト製
基板における優れた磁極端を有する磁気ヘッド、及びそ
の製作方法に関する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】高速データ処理システ
ムにおいては、大容量記憶の必要性から磁気記録の方式
が採用されている。データは、磁気記録媒体に近接して
位置する、一般に磁気ヘッドと呼ばれる磁気トランスデ
ューサを用いて磁気記録媒体上で読み書きが行なわれ
る。接触記録では、磁気記録媒体が磁気ヘッドと接触す
るが、磁極片はその磨耗性から一般に磁性フェライト製
である。磁性フェライト製磁極片は、接触記録、特に磁
気テープにおいて良い耐磨耗性を有するが、しかしなが
ら、現在のデータ記録に要求される高データ密度の高飽
和保磁力記録媒体への記録には効率性において問題があ
る。薄膜磁極片を有する磁気ヘッドは書込み、すなわち
データ記録プロシジャにおける、磁極片の飽和モーメン
トの増強、及びトランスデューサの動作効率の改善のた
めに開発された。
ムにおいては、大容量記憶の必要性から磁気記録の方式
が採用されている。データは、磁気記録媒体に近接して
位置する、一般に磁気ヘッドと呼ばれる磁気トランスデ
ューサを用いて磁気記録媒体上で読み書きが行なわれ
る。接触記録では、磁気記録媒体が磁気ヘッドと接触す
るが、磁極片はその磨耗性から一般に磁性フェライト製
である。磁性フェライト製磁極片は、接触記録、特に磁
気テープにおいて良い耐磨耗性を有するが、しかしなが
ら、現在のデータ記録に要求される高データ密度の高飽
和保磁力記録媒体への記録には効率性において問題があ
る。薄膜磁極片を有する磁気ヘッドは書込み、すなわち
データ記録プロシジャにおける、磁極片の飽和モーメン
トの増強、及びトランスデューサの動作効率の改善のた
めに開発された。
【０００３】しかしながら、薄膜磁極片は、高データ密
度の書込み条件に要求される効率性は良いが、磁気記録
媒体の磨耗、特に接触記録状態における磨耗に耐えるこ
とはできない。高密度記録における第１条件は、媒体表
面と、磁極片の間にある機能的記録ギャップとの間のス
ペースを最小にすることにある。例えば、ニッケル−鉄
の軟磁性体薄膜磁極端を使用する場合、機能的記録ギャ
ップと磁極端は、媒体によって磨耗を受けやすい。記録
ギャップと媒体とのスペースを広げることは、記録特性
を劣化させることになる。
度の書込み条件に要求される効率性は良いが、磁気記録
媒体の磨耗、特に接触記録状態における磨耗に耐えるこ
とはできない。高密度記録における第１条件は、媒体表
面と、磁極片の間にある機能的記録ギャップとの間のス
ペースを最小にすることにある。例えば、ニッケル−鉄
の軟磁性体薄膜磁極端を使用する場合、機能的記録ギャ
ップと磁極端は、媒体によって磨耗を受けやすい。記録
ギャップと媒体とのスペースを広げることは、記録特性
を劣化させることになる。
【０００４】フェライト後端モードにおいて動作する交
互配置型で双方向動作型の磁気ヘッドの書込み飽和特性
は、磁極後端モードの動作の場合の書込み飽和特性ほど
良好ではない。動作モードは、テープの走行方向に依存
する。フェライト後端モードでは、テープは、ギャップ
上を通って薄膜の磁極端の方向へ通過し、磁極後端モー
ドでは、テープは、フェライト磁極端の方向へ走行す
る。書込みモードに係わらず、ヘッドは、高書込み電流
で振幅の損失を被る。しかしながら、薄膜の磁極端と比
較して、フェライト磁極端の飽和モーメントが低いた
め、振幅損失はフェライト後端モードでは問題がある。
このように、ここで提起されている問題は、如何にして
磁極端の飽和モーメントのバランスを得るかである。
互配置型で双方向動作型の磁気ヘッドの書込み飽和特性
は、磁極後端モードの動作の場合の書込み飽和特性ほど
良好ではない。動作モードは、テープの走行方向に依存
する。フェライト後端モードでは、テープは、ギャップ
上を通って薄膜の磁極端の方向へ通過し、磁極後端モー
ドでは、テープは、フェライト磁極端の方向へ走行す
る。書込みモードに係わらず、ヘッドは、高書込み電流
で振幅の損失を被る。しかしながら、薄膜の磁極端と比
較して、フェライト磁極端の飽和モーメントが低いた
め、振幅損失はフェライト後端モードでは問題がある。
このように、ここで提起されている問題は、如何にして
磁極端の飽和モーメントのバランスを得るかである。
【０００５】図１は、磁気テープのような軟質磁気媒体
上への接触記録に使用する典型的な従来の薄膜磁気ヘッ
ドを示す。図１の従来技術の薄膜磁気ヘッドは、一般に
非磁性セラミック製の非磁性基板１を有する。ニッケル
−鉄のような大抵はパーマロイ製の第１薄膜磁極片２
は、基板１上に付着する。同じニッケル−鉄製の第２薄
膜磁極片３は、コイル導体５を囲み、磁気ギャップ６を
形成する絶縁層４上に付着する。通常非磁性である支持
且つ高さ調整材７は、第２薄膜磁極片３上に付着する。
次に、支持且つ高さ調整材７は、非磁性クロージャ片８
によって覆われる。磁気テープ媒体は、接触記録が生ず
るエアー・ベアリング面（ABS: air-bearing surface）
に近接して、第１薄膜磁極片２及び第２薄膜磁極片３
を横切るように矢印９が示す方向に移動する。
上への接触記録に使用する典型的な従来の薄膜磁気ヘッ
ドを示す。図１の従来技術の薄膜磁気ヘッドは、一般に
非磁性セラミック製の非磁性基板１を有する。ニッケル
−鉄のような大抵はパーマロイ製の第１薄膜磁極片２
は、基板１上に付着する。同じニッケル−鉄製の第２薄
膜磁極片３は、コイル導体５を囲み、磁気ギャップ６を
形成する絶縁層４上に付着する。通常非磁性である支持
且つ高さ調整材７は、第２薄膜磁極片３上に付着する。
次に、支持且つ高さ調整材７は、非磁性クロージャ片８
によって覆われる。磁気テープ媒体は、接触記録が生ず
るエアー・ベアリング面（ABS: air-bearing surface）
に近接して、第１薄膜磁極片２及び第２薄膜磁極片３
を横切るように矢印９が示す方向に移動する。
【０００６】図２は、ＡＢＳに磁気テープが接触するこ
とにより生ずる磨耗後の一般の薄膜記録ヘッドのＡＢＳ
上のギャップ・エロージョンの様相を表わす。図２を参
照するに、第１薄膜磁極片２と第２薄膜磁極片３は、セ
ラミック製基板１及びセラミック製クロージャ８に比較
して軟質である。接触記録によって生じる非常に大きい
エロージョンは、機能的ギャップ領域６内に在り、従っ
て、ギャップ・エロージョンとして認識される。エロー
ジョンは又、一般に支持且つ高さ調整材内でも大きい、
しかし、通常この領域は、機能的ギャップ領域６から十
分に離れているので特別に問題はない。ＡＢＳからの有
効ギャップ・スペースは、およそ数マイクロ・インチに
なり得る。磁束変化が２３００／μｍである記録密度に
おいて、スペースでのマイクロ・インチ当たりの信号損
失は１．５８ｄＢである。従って、ギャップ・エロージ
ョンの影響を最小にすることが、実質的に高密度記録の
目的に叶うことになる。
とにより生ずる磨耗後の一般の薄膜記録ヘッドのＡＢＳ
上のギャップ・エロージョンの様相を表わす。図２を参
照するに、第１薄膜磁極片２と第２薄膜磁極片３は、セ
ラミック製基板１及びセラミック製クロージャ８に比較
して軟質である。接触記録によって生じる非常に大きい
エロージョンは、機能的ギャップ領域６内に在り、従っ
て、ギャップ・エロージョンとして認識される。エロー
ジョンは又、一般に支持且つ高さ調整材内でも大きい、
しかし、通常この領域は、機能的ギャップ領域６から十
分に離れているので特別に問題はない。ＡＢＳからの有
効ギャップ・スペースは、およそ数マイクロ・インチに
なり得る。磁束変化が２３００／μｍである記録密度に
おいて、スペースでのマイクロ・インチ当たりの信号損
失は１．５８ｄＢである。従って、ギャップ・エロージ
ョンの影響を最小にすることが、実質的に高密度記録の
目的に叶うことになる。
【０００７】書込み飽和特性に基づき、磁気ヘッドの書
込みモードにおける磁極片後端として薄膜磁極片を使用
するのが良い。図３を参照するに、磁性フェライト製ブ
ロックの磁極片後端の使用における書込み飽和特性は、
短波長では良くない。図４の曲線は、書込み電流を図１
のヘッドのような薄膜磁極片後端で増加した場合の磁気
転移の出力振幅を示す。図４の出力振幅は、書込み電流
約６０ｍＡでピークであり、書込み電流１００ｍＡがヘ
ッドに印加された場合に良い出力となる。図３のフェラ
イト製ブロックの振幅出力は、書込み電流の低いところ
でピークであり、書込み電流１００ｍＡでは実質的にゼ
ロである。振幅出力の低下は、通常、薄膜磁極片に使用
されるニッケル−鉄と比較して、フェライトの低い飽和
モーメントに起因する。従って、磁気ヘッドに必要なの
は、フェライト製ブロックの磁極片後端の磨耗特性と、
薄膜磁極片後端の振幅出力である。
込みモードにおける磁極片後端として薄膜磁極片を使用
するのが良い。図３を参照するに、磁性フェライト製ブ
ロックの磁極片後端の使用における書込み飽和特性は、
短波長では良くない。図４の曲線は、書込み電流を図１
のヘッドのような薄膜磁極片後端で増加した場合の磁気
転移の出力振幅を示す。図４の出力振幅は、書込み電流
約６０ｍＡでピークであり、書込み電流１００ｍＡがヘ
ッドに印加された場合に良い出力となる。図３のフェラ
イト製ブロックの振幅出力は、書込み電流の低いところ
でピークであり、書込み電流１００ｍＡでは実質的にゼ
ロである。振幅出力の低下は、通常、薄膜磁極片に使用
されるニッケル−鉄と比較して、フェライトの低い飽和
モーメントに起因する。従って、磁気ヘッドに必要なの
は、フェライト製ブロックの磁極片後端の磨耗特性と、
薄膜磁極片後端の振幅出力である。
【０００８】ギャップ・エロージョンを減らす従来の試
みは、第１磁極片としての磁性フェライト製基板、及び
第２磁極片としての薄膜磁性層の使用であった。これは
ギャップ・エロージョンの低下に効果があると思える
が、しかし、材質が完全に異なる磁極片の飽和モーメン
トのバランスをとるには大きな問題があり、特に、双方
向に動作する必要がある軟磁性媒体に問題があり、従っ
て、磁性フェライト後端モードで動作しなければならな
かった。
みは、第１磁極片としての磁性フェライト製基板、及び
第２磁極片としての薄膜磁性層の使用であった。これは
ギャップ・エロージョンの低下に効果があると思える
が、しかし、材質が完全に異なる磁極片の飽和モーメン
トのバランスをとるには大きな問題があり、特に、双方
向に動作する必要がある軟磁性媒体に問題があり、従っ
て、磁性フェライト後端モードで動作しなければならな
かった。
【０００９】本発明は、機能的磁気ギャップ領域での接
触結果として生じるエロージョンを低下させる接触記録
の改良型磁気ヘッドを提供し、同時にバランスがとれた
飽和モーメントを有する磁極片を提供する。
触結果として生じるエロージョンを低下させる接触記録
の改良型磁気ヘッドを提供し、同時にバランスがとれた
飽和モーメントを有する磁極片を提供する。
【００１０】本発明の目的は、高性能の磁気ヘッド及び
その製作方法を提供することにある。
その製作方法を提供することにある。
【００１１】本発明の他の目的は、効率の良い薄膜磁極
片を有する接触記録磁気ヘッドと、その簡単な製作方法
を提供することにある。
片を有する接触記録磁気ヘッドと、その簡単な製作方法
を提供することにある。
【００１２】本発明のさらに他の目的は、第１磁極片の
磁性フェライト部分によって磁気ギャップ領域の近接保
護を維持しながら、一方で、釣り合いのとれた磁極片の
飽和モーメントを有する書込みトランスデューサのため
の追加薄膜磁極端を有する交互配置型磁気ヘッドを提供
することにある。
磁性フェライト部分によって磁気ギャップ領域の近接保
護を維持しながら、一方で、釣り合いのとれた磁極片の
飽和モーメントを有する書込みトランスデューサのため
の追加薄膜磁極端を有する交互配置型磁気ヘッドを提供
することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は、記録動作性能
を向上させるために改良された薄膜磁極端を有し、一方
で、エロージョンから保護された磁気変換ギャップ領域
を有する、好ましくは、交互配置型トランスデューサ・
ヘッドである磁気記録ヘッドを提供する。磁気記録ヘッ
ドは、２つの層の薄膜を付着させた磁極端を有する。追
加的な薄膜磁極端は、磁性フェライト製基板上に直接付
着させられ、磁気回路の部分も形成する。非常に薄い
層、例えば、アルミナがエッチング・ストップ層として
最初に磁性フェライト製基板上に付着する。軟磁性体を
アルミナ層上に付着させ、フォトレジスト・マスクを使
用してパターン化し、エッチング・サイクルで追加薄膜
磁極端を生成する。追加薄膜磁極端は、磁性フェライト
磁極片部を覆って延び、すなわち、ほとんどコイルの第
１巻線部分に達するまで、部分的にヘッド構造内に延び
る。寸法的な大きさの限界は、磁性フェライト製基板へ
の確実な密着性、且つ必要な飽和モーメントをもたらす
主に製造プロセスの善し悪しに起因する。ヘッドの構造
は、磁気ギャップ層、コイル巻線、絶縁層、第２薄膜磁
極片、支持絶縁層、及び非磁性セラミック層で構成す
る。両方の磁極端に同一材質の軟磁性体を使用すること
により、これらの飽和モーメントは釣り合いがとれ、磁
性フェライト後端モードの動作に関連する過剰な振幅損
失を除くことができる。実質的に磁気ヘッドは、媒体の
方向に拘わらず、常に磁極後端モードで動作することが
できる。
を向上させるために改良された薄膜磁極端を有し、一方
で、エロージョンから保護された磁気変換ギャップ領域
を有する、好ましくは、交互配置型トランスデューサ・
ヘッドである磁気記録ヘッドを提供する。磁気記録ヘッ
ドは、２つの層の薄膜を付着させた磁極端を有する。追
加的な薄膜磁極端は、磁性フェライト製基板上に直接付
着させられ、磁気回路の部分も形成する。非常に薄い
層、例えば、アルミナがエッチング・ストップ層として
最初に磁性フェライト製基板上に付着する。軟磁性体を
アルミナ層上に付着させ、フォトレジスト・マスクを使
用してパターン化し、エッチング・サイクルで追加薄膜
磁極端を生成する。追加薄膜磁極端は、磁性フェライト
磁極片部を覆って延び、すなわち、ほとんどコイルの第
１巻線部分に達するまで、部分的にヘッド構造内に延び
る。寸法的な大きさの限界は、磁性フェライト製基板へ
の確実な密着性、且つ必要な飽和モーメントをもたらす
主に製造プロセスの善し悪しに起因する。ヘッドの構造
は、磁気ギャップ層、コイル巻線、絶縁層、第２薄膜磁
極片、支持絶縁層、及び非磁性セラミック層で構成す
る。両方の磁極端に同一材質の軟磁性体を使用すること
により、これらの飽和モーメントは釣り合いがとれ、磁
性フェライト後端モードの動作に関連する過剰な振幅損
失を除くことができる。実質的に磁気ヘッドは、媒体の
方向に拘わらず、常に磁極後端モードで動作することが
できる。
【００１４】本発明による磁気記録ヘッドは、好ましい
実施例において、独立した読取り及び書込み素子を含む
少なくとも一列の変換素子を有し、読取り素子は、交互
に配置された書込みトランスデューサと交互に位置する
磁気抵抗（ＭＲ）のストライプから作り出される。書込
みトランスデューサの第１磁極片は、磁性フェライト製
基板上に付着した薄膜磁性体で形成され、テープが最短
距離で接するエアー・ベアリング面（ＡＢＳ）に近接
し、磁性フェライトに良好に密着し、且つ好ましい実施
例では、必要な飽和モーメントを得るために、通常、第
１導体巻線部分にほとんど接触するほどに、近接してい
る。第２磁極片は、磁気ギャップを形成し、導体巻線を
覆う絶縁層上に付着した薄膜磁性体である。磁極片を覆
うために結合されたクロージャ・ブロックは、非磁性セ
ラミック製である。
実施例において、独立した読取り及び書込み素子を含む
少なくとも一列の変換素子を有し、読取り素子は、交互
に配置された書込みトランスデューサと交互に位置する
磁気抵抗（ＭＲ）のストライプから作り出される。書込
みトランスデューサの第１磁極片は、磁性フェライト製
基板上に付着した薄膜磁性体で形成され、テープが最短
距離で接するエアー・ベアリング面（ＡＢＳ）に近接
し、磁性フェライトに良好に密着し、且つ好ましい実施
例では、必要な飽和モーメントを得るために、通常、第
１導体巻線部分にほとんど接触するほどに、近接してい
る。第２磁極片は、磁気ギャップを形成し、導体巻線を
覆う絶縁層上に付着した薄膜磁性体である。磁極片を覆
うために結合されたクロージャ・ブロックは、非磁性セ
ラミック製である。
【００１５】磁気ヘッドの製作方法には、磁性フェライ
ト製基板を得るステップと、ＡＢＳを形成するエッジの
近接位置に、少なくとも１層の薄膜磁性体のストライプ
を付着させるステップを有する。例えば、アルミナの非
常に薄い平滑なエッチング・ストップ層を、基板と軟磁
性体との間に付着させる。次に、ギャップを生み出す絶
縁材がストライプ上に付着させられ、磁気ギャップ層を
形成する。電気的導体の材料がギャップを生み出す絶縁
材上に付着させられ、最初の巻線開始位置が磁性体のス
トライプに近接する、磁気ヘッドのための導体巻線を形
成する。次に、絶縁材が導体巻線を形成する導体全体に
付着する。薄膜磁性体が絶縁材上に及びギャップを生み
出す絶縁材上に付着させられ、磁気ヘッドの第２磁極片
をもたらす。次に、支持絶縁層がエアー・ベアリング面
の磁極端の端部に近接する磁気層上に付着する。高さ調
整絶縁層が、支持絶縁層上及び第２磁極片の残部に付着
する。次に、非磁性セラミック製クロージャ・ブロック
が、高さ調整絶縁層に結合される。
ト製基板を得るステップと、ＡＢＳを形成するエッジの
近接位置に、少なくとも１層の薄膜磁性体のストライプ
を付着させるステップを有する。例えば、アルミナの非
常に薄い平滑なエッチング・ストップ層を、基板と軟磁
性体との間に付着させる。次に、ギャップを生み出す絶
縁材がストライプ上に付着させられ、磁気ギャップ層を
形成する。電気的導体の材料がギャップを生み出す絶縁
材上に付着させられ、最初の巻線開始位置が磁性体のス
トライプに近接する、磁気ヘッドのための導体巻線を形
成する。次に、絶縁材が導体巻線を形成する導体全体に
付着する。薄膜磁性体が絶縁材上に及びギャップを生み
出す絶縁材上に付着させられ、磁気ヘッドの第２磁極片
をもたらす。次に、支持絶縁層がエアー・ベアリング面
の磁極端の端部に近接する磁気層上に付着する。高さ調
整絶縁層が、支持絶縁層上及び第２磁極片の残部に付着
する。次に、非磁性セラミック製クロージャ・ブロック
が、高さ調整絶縁層に結合される。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明は、交互配置型磁気ヘッド
における実施に適する。交互配置型磁気ヘッドは、多重
トラック記録媒体から磁気転移の読取り、書込みを行な
うためのものであり、従って、主としてテープ駆動シス
テムにおいて使用される。現在、よく知られる典型的な
テープ駆動システムはＩＢＭ３４９０型のテープ駆動シ
ステムである。テープ駆動システムではトランスデュー
サは一般に固定され、磁気ヘッドの様々なトランスデュ
ーサで読み書きを行なうためにテープはトランスデュー
サ上を双方向に走行する。ここでは交互配置型ヘッドが
特に重要である。それは媒体に双方向走行を与え、さら
にテープ媒体に書込んだばかりのデータをチェックする
ために直ちに読取る機能を保持しながら、トラック数を
増やすことができるためである。リールからリールへの
テープ駆動及びその制御の詳細に関しては、本発明の譲
受人に譲渡され、本発明の交互配置型磁気ヘッドの使用
に役立つ、Eige、et al. に付与された米国特許第４１
２５８８１号を参照されたい。又、Crannaに付与され、
本発明の譲受人に譲渡された米国特許第４３３５８５８
号は、複雑なテープ通路を通るテープ媒体のスレッディ
ングについてのテープ駆動の例を開示する。Fieldsに付
与され、本発明の譲受人に譲渡された米国特許第４６８
５００５号は、交互配置型磁気ヘッドを開示する。これ
らの特許の開示においては、本発明の好ましい実施例の
詳細のために参照されたい。本発明の実施に使用される
磁気ヘッドは、薄膜の種々の型の任意の構成をとること
ができる。写真製版技術を利用することによって、媒体
の表面を最大限に使用することが可能となる。なぜな
ら、幅が狭く、密集したトラックに書込みが行なえるか
らである。
における実施に適する。交互配置型磁気ヘッドは、多重
トラック記録媒体から磁気転移の読取り、書込みを行な
うためのものであり、従って、主としてテープ駆動シス
テムにおいて使用される。現在、よく知られる典型的な
テープ駆動システムはＩＢＭ３４９０型のテープ駆動シ
ステムである。テープ駆動システムではトランスデュー
サは一般に固定され、磁気ヘッドの様々なトランスデュ
ーサで読み書きを行なうためにテープはトランスデュー
サ上を双方向に走行する。ここでは交互配置型ヘッドが
特に重要である。それは媒体に双方向走行を与え、さら
にテープ媒体に書込んだばかりのデータをチェックする
ために直ちに読取る機能を保持しながら、トラック数を
増やすことができるためである。リールからリールへの
テープ駆動及びその制御の詳細に関しては、本発明の譲
受人に譲渡され、本発明の交互配置型磁気ヘッドの使用
に役立つ、Eige、et al. に付与された米国特許第４１
２５８８１号を参照されたい。又、Crannaに付与され、
本発明の譲受人に譲渡された米国特許第４３３５８５８
号は、複雑なテープ通路を通るテープ媒体のスレッディ
ングについてのテープ駆動の例を開示する。Fieldsに付
与され、本発明の譲受人に譲渡された米国特許第４６８
５００５号は、交互配置型磁気ヘッドを開示する。これ
らの特許の開示においては、本発明の好ましい実施例の
詳細のために参照されたい。本発明の実施に使用される
磁気ヘッドは、薄膜の種々の型の任意の構成をとること
ができる。写真製版技術を利用することによって、媒体
の表面を最大限に使用することが可能となる。なぜな
ら、幅が狭く、密集したトラックに書込みが行なえるか
らである。
【００１７】図５に示すように、薄膜磁気記録ヘッドの
好ましい実施例は、交互配置型磁気ヘッド１０である。
磁気ヘッド１０において、読取り素子はＲ、書込みトラ
ンスデューサは、Ｗと印されている。読取り及び書込み
ギャップは、交互に近接してそれぞれ奇数／偶数の番号
で表されている。ここで使用する用語の交互は他のフォ
ーマットも含むことを意味する。例えば、本発明の好ま
しい実施例では、媒体の幅方向に７２本のトラックのフ
ォーマットを備えており、以後、このフォーマットの媒
体をテープ媒体と呼ぶ。１フォーマットの奇数番号のト
ラック１、３、５は、順方向へのテープ媒体走行中に使
用され、一方、偶数番号のトラック２、４、６は、逆方
向へのテープ媒体走行中に使用される。
好ましい実施例は、交互配置型磁気ヘッド１０である。
磁気ヘッド１０において、読取り素子はＲ、書込みトラ
ンスデューサは、Ｗと印されている。読取り及び書込み
ギャップは、交互に近接してそれぞれ奇数／偶数の番号
で表されている。ここで使用する用語の交互は他のフォ
ーマットも含むことを意味する。例えば、本発明の好ま
しい実施例では、媒体の幅方向に７２本のトラックのフ
ォーマットを備えており、以後、このフォーマットの媒
体をテープ媒体と呼ぶ。１フォーマットの奇数番号のト
ラック１、３、５は、順方向へのテープ媒体走行中に使
用され、一方、偶数番号のトラック２、４、６は、逆方
向へのテープ媒体走行中に使用される。
【００１８】図５を参照するに、磁気テープ１２は一般
にその長さ方向へ矢印１４、１６が示すように順方向及
び逆方向に走行する。矢印１４は磁気テープ１２が順方
向に走行することを示し、矢印１６は磁気テープ１２が
逆方向に走行することを示す。磁気テープ１２は、一般
的に周知のフォーマットで磁気ヘッド１０と接触変換機
能の相互関係がある。磁気ヘッド１０は、ほぼ構造が等
しい２つのモジュール１８と２０を有する。これらの２
つのモジュールは一緒に結合させられ、単一の物理的ユ
ニットを形成する。このように１モジュールの変換ギャ
ップは、他のモジュールの変換ギャップに近接するだけ
でなく、互いのモジュールの変換ギャップは、磁気テー
プの走行方向に正確に一直線上に揃う。個々のモジュー
ル１８、２０には、それぞれ３６個の読取りトランスデ
ューサ及び３６個の書込みトランスデューサがある。従
って、１／２インチ幅の磁気テープ１２は、その方向に
７２のトラックを有することになる。個々のモジュール
１８、２０は、それぞれ磁性フェライト製基板２２及び
非磁性セラミック製クロージャ片２４を有する。個々の
モジュール１８、２０は、ギャップ・ライン２６、２８
をそれぞれ有し、磁気ヘッド１０の単一の物理的ユニッ
トを形成する。交互配置型磁気ヘッドに適する好ましい
実施例の詳細に関しては、前述の米国特許第４６８５０
０５号を参照されたい。又、多重トラック書込み素子を
形成するための磁気フェライト製ブロックの分離方法に
関しては、１９７５年１１月刊行のＩＢＭテクニカル・
ディスクロージャ・ブルテン第１８巻、Ｎｏ．６、１９
８１ページ（IBM TechnicalDisclosure Bulletin） のF
ranklin et al. の記述を参照されたい。
にその長さ方向へ矢印１４、１６が示すように順方向及
び逆方向に走行する。矢印１４は磁気テープ１２が順方
向に走行することを示し、矢印１６は磁気テープ１２が
逆方向に走行することを示す。磁気テープ１２は、一般
的に周知のフォーマットで磁気ヘッド１０と接触変換機
能の相互関係がある。磁気ヘッド１０は、ほぼ構造が等
しい２つのモジュール１８と２０を有する。これらの２
つのモジュールは一緒に結合させられ、単一の物理的ユ
ニットを形成する。このように１モジュールの変換ギャ
ップは、他のモジュールの変換ギャップに近接するだけ
でなく、互いのモジュールの変換ギャップは、磁気テー
プの走行方向に正確に一直線上に揃う。個々のモジュー
ル１８、２０には、それぞれ３６個の読取りトランスデ
ューサ及び３６個の書込みトランスデューサがある。従
って、１／２インチ幅の磁気テープ１２は、その方向に
７２のトラックを有することになる。個々のモジュール
１８、２０は、それぞれ磁性フェライト製基板２２及び
非磁性セラミック製クロージャ片２４を有する。個々の
モジュール１８、２０は、ギャップ・ライン２６、２８
をそれぞれ有し、磁気ヘッド１０の単一の物理的ユニッ
トを形成する。交互配置型磁気ヘッドに適する好ましい
実施例の詳細に関しては、前述の米国特許第４６８５０
０５号を参照されたい。又、多重トラック書込み素子を
形成するための磁気フェライト製ブロックの分離方法に
関しては、１９７５年１１月刊行のＩＢＭテクニカル・
ディスクロージャ・ブルテン第１８巻、Ｎｏ．６、１９
８１ページ（IBM TechnicalDisclosure Bulletin） のF
ranklin et al. の記述を参照されたい。
【００１９】図６は、図５のライン３−３に沿った切断
面であり、本発明の優れた磁極片を開示する。この図
は、本発明の書込みトランスデューサが、磁性フェライ
ト製基板２２と非磁性セラミック製クロージャ・ブロッ
ク２４との間に囲まれていることを示す。各図において
同一の参照番号が、様々な図における同一の構造の特徴
及び動作を示すのに用いられている。磁性フェライト製
基板２２は、磁性ニッケル−亜鉛製フェライト、又は磁
性マンガン−亜鉛製フェライト、又は、磁気ヘッドの使
用に周知されている他の磁性フェライトの材料から製作
することができる。非磁性クロージャ２４は、非磁性フ
ェライトのような任意の非磁性セラミックで形成するこ
とができる。又、繰返して述べるが磁気ヘッドにおいて
は、非磁性セラミックの使用がよく知られている。図５
の交互配置型ヘッドの書込みトランスデューサは、磁性
フェライト後端モード方向で動作する。従って、図６に
示されるトランスデューサの書込み動作において、テー
プ媒体１２は、矢印１６で示される方向に動作する。好
ましくは非結晶のアルミナの、厚さが５００ のエッチ
ング・ストップ層が、後で行なわれる層の付着処理、且
つ平滑面をもたらすために、付着させられている。仮
に、この非結晶のアルミナ層が設けられない場合、フェ
ライト粒子のレプリケーションは、追加第１磁極端３０
の結晶成長を導き、且つ、後で実施されるヘッドの処理
において、後続する薄膜層の付着において、一様でない
厚さを生じさせる粗い薄膜の形成要因となる。しかし、
このエッチング・ストップ層４６は、必要でなければ設
けなくてもよい。ニッケル−鉄のような軟磁性体が、フ
ォトレジストのマスクを使用して付着及びパターン化さ
れ、エッチングを繰返すことにより、追加第１磁極端３
０を生成する。磁気ギャップ領域２６は、好ましくはア
ルミナである非磁性絶縁層３２と３４の２層を有する。
励起用導体コイル部分３６は、ギャップ層の非磁性絶縁
層３２と３４上に付着させられている。導体コイル部分
３６は、銅又は金のような電気的な導体材料で作られ
る。硬化フォトレジストのような電気的絶縁材料３８が
導体コイル部分３６上に付着させられている。ニッケル
−鉄のような軟磁性体の第２薄膜磁極片４０が、ギャッ
プ領域２６及び絶縁層３８上に付着させられている。好
ましくは、硬化フォトレジストである支持絶縁層４２
が、第２薄膜磁極片４０の磁極端部上に形成される。例
えば、アルミナ及び／又はエポキシ材の高さ調整絶縁層
４４を、第２薄膜磁極片４０及び支持絶縁層４２上に形
成し、次に、高さ調整絶縁層を研磨する。非磁性セラミ
ック製クロージャ２４の結合のために、支持絶縁層４２
及び高さ調整絶縁層４４に対して一緒に平滑な面をもた
せ、書込みトランスデューサ素子を完成させる。第１磁
極端３０及び第２薄膜磁極片４０は、ニッケル８０％、
鉄２０％の組成が好ましい。
面であり、本発明の優れた磁極片を開示する。この図
は、本発明の書込みトランスデューサが、磁性フェライ
ト製基板２２と非磁性セラミック製クロージャ・ブロッ
ク２４との間に囲まれていることを示す。各図において
同一の参照番号が、様々な図における同一の構造の特徴
及び動作を示すのに用いられている。磁性フェライト製
基板２２は、磁性ニッケル−亜鉛製フェライト、又は磁
性マンガン−亜鉛製フェライト、又は、磁気ヘッドの使
用に周知されている他の磁性フェライトの材料から製作
することができる。非磁性クロージャ２４は、非磁性フ
ェライトのような任意の非磁性セラミックで形成するこ
とができる。又、繰返して述べるが磁気ヘッドにおいて
は、非磁性セラミックの使用がよく知られている。図５
の交互配置型ヘッドの書込みトランスデューサは、磁性
フェライト後端モード方向で動作する。従って、図６に
示されるトランスデューサの書込み動作において、テー
プ媒体１２は、矢印１６で示される方向に動作する。好
ましくは非結晶のアルミナの、厚さが５００ のエッチ
ング・ストップ層が、後で行なわれる層の付着処理、且
つ平滑面をもたらすために、付着させられている。仮
に、この非結晶のアルミナ層が設けられない場合、フェ
ライト粒子のレプリケーションは、追加第１磁極端３０
の結晶成長を導き、且つ、後で実施されるヘッドの処理
において、後続する薄膜層の付着において、一様でない
厚さを生じさせる粗い薄膜の形成要因となる。しかし、
このエッチング・ストップ層４６は、必要でなければ設
けなくてもよい。ニッケル−鉄のような軟磁性体が、フ
ォトレジストのマスクを使用して付着及びパターン化さ
れ、エッチングを繰返すことにより、追加第１磁極端３
０を生成する。磁気ギャップ領域２６は、好ましくはア
ルミナである非磁性絶縁層３２と３４の２層を有する。
励起用導体コイル部分３６は、ギャップ層の非磁性絶縁
層３２と３４上に付着させられている。導体コイル部分
３６は、銅又は金のような電気的な導体材料で作られ
る。硬化フォトレジストのような電気的絶縁材料３８が
導体コイル部分３６上に付着させられている。ニッケル
−鉄のような軟磁性体の第２薄膜磁極片４０が、ギャッ
プ領域２６及び絶縁層３８上に付着させられている。好
ましくは、硬化フォトレジストである支持絶縁層４２
が、第２薄膜磁極片４０の磁極端部上に形成される。例
えば、アルミナ及び／又はエポキシ材の高さ調整絶縁層
４４を、第２薄膜磁極片４０及び支持絶縁層４２上に形
成し、次に、高さ調整絶縁層を研磨する。非磁性セラミ
ック製クロージャ２４の結合のために、支持絶縁層４２
及び高さ調整絶縁層４４に対して一緒に平滑な面をもた
せ、書込みトランスデューサ素子を完成させる。第１磁
極端３０及び第２薄膜磁極片４０は、ニッケル８０％、
鉄２０％の組成が好ましい。
【００２０】好ましい実施例では、第１磁極片の追加第
１磁極端３０は、幅がＷで、第１コイル部分３６に、非
常に近接して延びる。その差Ｄは、第１コイル部分３６
に対して２μｍ以内が好ましい。この形状寸法は、追加
第１磁極端３０の磁性フェライト製基板２２への強い接
着性、及び磁極端３０とコイル部分３６間の、特に磁極
端３０のエッジにおける電気的短絡を防止するような形
状にしなければならない。磁気ギャップ領域２６は、超
硬質磁性フェライト製基板２２に近接して位置する。こ
の基板２２は、磁気ギャップ領域２６のエロージョンに
対して鈍い反応を示し、且つ高記録密度をもたらす。本
発明の好ましい実施例では、磁性基板２２は、第１コイ
ル部分３６に非常に接近して延びる磁極端３０と共に、
第１磁極片として使用している。磁極端３０は、現在知
られている超高飽和保磁力媒体である１５００エルステ
ッドの金属媒体に対する書込みを行うのに十分な約５０
００ の厚さを持っていればよい。磁性ギャップ領域２
６は、非磁性絶縁層３２と３４の２層の厚さを結合して
形成されるのが好ましく、この非磁性絶縁層３２と３４
は又、コイル部分３６と磁性基板２２との絶縁をもたら
す。好ましい実施例においては、磁極端３０の軟磁性体
の付着を行なう前に、約２００〜５００ の厚さのアル
ミナの薄膜絶縁層４６を磁気基板２２上に付着させる。
図６には、幅Ｗで、第１コイル部分３６から距離Ｄの所
まで延びている、好ましい実施例の磁極端３０が示され
ている。磁極端３０は、バック・ギャップ領域（図示せ
ず）まで延びる第１磁極片のフェライト部分をもたらす
磁性基板２２の表面全体を覆うことも可能である。磁極
端３０の幅のＷの限界は、必要な書込み飽和特性を与
え、且つ、好ましくはゼロ・スロート点で、まだ、約１
２μｍの磁極端３０が存在するように、磁性基板２２に
対して良好な接着性を保つのに十分な幅をもたらすよう
に定められる。図７は、図６の書込み素子において生じ
得るＡＢＳのエロージョンの状態を例示する。
１磁極端３０は、幅がＷで、第１コイル部分３６に、非
常に近接して延びる。その差Ｄは、第１コイル部分３６
に対して２μｍ以内が好ましい。この形状寸法は、追加
第１磁極端３０の磁性フェライト製基板２２への強い接
着性、及び磁極端３０とコイル部分３６間の、特に磁極
端３０のエッジにおける電気的短絡を防止するような形
状にしなければならない。磁気ギャップ領域２６は、超
硬質磁性フェライト製基板２２に近接して位置する。こ
の基板２２は、磁気ギャップ領域２６のエロージョンに
対して鈍い反応を示し、且つ高記録密度をもたらす。本
発明の好ましい実施例では、磁性基板２２は、第１コイ
ル部分３６に非常に接近して延びる磁極端３０と共に、
第１磁極片として使用している。磁極端３０は、現在知
られている超高飽和保磁力媒体である１５００エルステ
ッドの金属媒体に対する書込みを行うのに十分な約５０
００ の厚さを持っていればよい。磁性ギャップ領域２
６は、非磁性絶縁層３２と３４の２層の厚さを結合して
形成されるのが好ましく、この非磁性絶縁層３２と３４
は又、コイル部分３６と磁性基板２２との絶縁をもたら
す。好ましい実施例においては、磁極端３０の軟磁性体
の付着を行なう前に、約２００〜５００ の厚さのアル
ミナの薄膜絶縁層４６を磁気基板２２上に付着させる。
図６には、幅Ｗで、第１コイル部分３６から距離Ｄの所
まで延びている、好ましい実施例の磁極端３０が示され
ている。磁極端３０は、バック・ギャップ領域（図示せ
ず）まで延びる第１磁極片のフェライト部分をもたらす
磁性基板２２の表面全体を覆うことも可能である。磁極
端３０の幅のＷの限界は、必要な書込み飽和特性を与
え、且つ、好ましくはゼロ・スロート点で、まだ、約１
２μｍの磁極端３０が存在するように、磁性基板２２に
対して良好な接着性を保つのに十分な幅をもたらすよう
に定められる。図７は、図６の書込み素子において生じ
得るＡＢＳのエロージョンの状態を例示する。
【００２１】図７を参照するに、書込み素子上に磁気テ
ープ通路の断面が点線で示されている。磁気ギャップ２
６の機能的領域は、磁性基板２２の硬質磁性フェライト
に非常に接近している。追加薄膜磁極端３０は、通常の
使用で予想できる磁気ギャップ２６の実質的なエロージ
ョンが発生しても、非常に高い記録密度能力をもたら
す。
ープ通路の断面が点線で示されている。磁気ギャップ２
６の機能的領域は、磁性基板２２の硬質磁性フェライト
に非常に接近している。追加薄膜磁極端３０は、通常の
使用で予想できる磁気ギャップ２６の実質的なエロージ
ョンが発生しても、非常に高い記録密度能力をもたら
す。
【００２２】図６に示すように、磁極端３０は、自らが
飽和しないように表面をカバーしなければならない。磁
極端３０のストライプの幅のＷは、好ましくは、少なく
とも約２μｍでなければならない。幅が余り狭すぎると
磁極端３０は、書込み電流で飽和状態となり、たとえ、
磁性基板２２上に形成する磁極片が非常に厚くても、高
飽和保磁力磁気テープに磁気転移を形成させる書込みト
ランスデューサの能力を減少させることになる。磁極端
３０は、磁性フェライト製基板２２の表面全体に延びる
ことができ、単一のトラックにおいて図６の磁極片を形
成する。好ましい、この実施例では磁極端３０は、テー
プの下側のエアー・ベアリング面から磁気回路のバック
・ギャップ（図示なし）まで延びている。
飽和しないように表面をカバーしなければならない。磁
極端３０のストライプの幅のＷは、好ましくは、少なく
とも約２μｍでなければならない。幅が余り狭すぎると
磁極端３０は、書込み電流で飽和状態となり、たとえ、
磁性基板２２上に形成する磁極片が非常に厚くても、高
飽和保磁力磁気テープに磁気転移を形成させる書込みト
ランスデューサの能力を減少させることになる。磁極端
３０は、磁性フェライト製基板２２の表面全体に延びる
ことができ、単一のトラックにおいて図６の磁極片を形
成する。好ましい、この実施例では磁極端３０は、テー
プの下側のエアー・ベアリング面から磁気回路のバック
・ギャップ（図示なし）まで延びている。
【００２３】図８は、従来技術の磁気フェライト後端モ
ードの書込み飽和特性を示す。図９は、本発明の後端モ
ードを示す。図８で示される磁性フェライトは、曲線の
高書込み電流である１００ｍＡにおいて、重大な振幅損
失を示す。振幅出力のμＶは、書込み電流が１００ｍＡ
の時に１０００μＶ以下に下がる。書込み電流が、図６
の書込みヘッドと同一構成で、軟磁性ストライプの磁極
端３０が無い場合の書込みヘッドに印加される。書込み
は、ＩＢＭ３４９０型テープ駆動システムの磁気テープ
のような一般の磁気テープで実行される。次にデータ
は、ＩＢＭ３４９０型テープ駆動システムで用いられて
いるような設計の磁気読取りヘッドで読まれる。
ードの書込み飽和特性を示す。図９は、本発明の後端モ
ードを示す。図８で示される磁性フェライトは、曲線の
高書込み電流である１００ｍＡにおいて、重大な振幅損
失を示す。振幅出力のμＶは、書込み電流が１００ｍＡ
の時に１０００μＶ以下に下がる。書込み電流が、図６
の書込みヘッドと同一構成で、軟磁性ストライプの磁極
端３０が無い場合の書込みヘッドに印加される。書込み
は、ＩＢＭ３４９０型テープ駆動システムの磁気テープ
のような一般の磁気テープで実行される。次にデータ
は、ＩＢＭ３４９０型テープ駆動システムで用いられて
いるような設計の磁気読取りヘッドで読まれる。
【００２４】付着薄膜型の磁極端を有する本発明の書込
み磁気ヘッドを使用した場合の出力が、図９に示され
る。読取りヘッドは図８に示すのと同じヘッドが使用さ
れた。高書込み電流１００ｍＡにおいて、読取りヘッド
によって生じる振幅は、３０００μＶ近くに達し、顕著
な改善結果であることを示す。この改善は、磁性フェラ
イト製ブロックに対しての軟磁性膜の高飽和モーメント
Ｂｓに起因する。
み磁気ヘッドを使用した場合の出力が、図９に示され
る。読取りヘッドは図８に示すのと同じヘッドが使用さ
れた。高書込み電流１００ｍＡにおいて、読取りヘッド
によって生じる振幅は、３０００μＶ近くに達し、顕著
な改善結果であることを示す。この改善は、磁性フェラ
イト製ブロックに対しての軟磁性膜の高飽和モーメント
Ｂｓに起因する。
【００２５】図１０は、図１に示される薄膜ヘッドの書
込み飽和特性にほぼ近い本発明の磁気ヘッドの特性を示
す。曲線Ａは、本発明の追加磁極端ストライプに関する
曲線１００及び図１のヘッドの付着薄膜の磁極端に関す
る曲線１０２を示している。曲線Ａは、７４４磁束変化
／ｍｍの波長を印加して得られる。曲線Ｂは、本発明の
追加磁極端ストライプに関する曲線１０４、及び図１の
付着薄膜の磁極端に関する曲線１０６を示す。曲線Ｂ
は、テープ長さ方向に対して９７２磁束変化／ｍｍの波
長を印加して得られる。曲線Ｃは、本発明の追加磁極端
ストライプ３０に関する曲線１０８、及び図１の付着薄
膜型の磁極端に関する曲線１１０を示し、両方の曲線と
も、１４８８磁束変化／ｍｍの波長で動作する場合に得
られる。曲線Ｄは、本発明の追加磁極端３０に関する曲
線１１２、及び図１の付着された薄膜の磁極端に関する
曲線１１４を示し、この両方の曲線とも、同一波長で得
られ、この時の波長は１９４４磁束変化／ｍｍである。
込み飽和特性にほぼ近い本発明の磁気ヘッドの特性を示
す。曲線Ａは、本発明の追加磁極端ストライプに関する
曲線１００及び図１のヘッドの付着薄膜の磁極端に関す
る曲線１０２を示している。曲線Ａは、７４４磁束変化
／ｍｍの波長を印加して得られる。曲線Ｂは、本発明の
追加磁極端ストライプに関する曲線１０４、及び図１の
付着薄膜の磁極端に関する曲線１０６を示す。曲線Ｂ
は、テープ長さ方向に対して９７２磁束変化／ｍｍの波
長を印加して得られる。曲線Ｃは、本発明の追加磁極端
ストライプ３０に関する曲線１０８、及び図１の付着薄
膜型の磁極端に関する曲線１１０を示し、両方の曲線と
も、１４８８磁束変化／ｍｍの波長で動作する場合に得
られる。曲線Ｄは、本発明の追加磁極端３０に関する曲
線１１２、及び図１の付着された薄膜の磁極端に関する
曲線１１４を示し、この両方の曲線とも、同一波長で得
られ、この時の波長は１９４４磁束変化／ｍｍである。
【００２６】上記の曲線Ａ〜Ｄから、たとえ、異なる波
長で動作しても、本発明の磁気ヘッドの特性は、薄膜磁
極片の書込み飽和特性の利点を有していることが明らか
である。本発明の磁気ヘッドは、薄膜ヘッドの特性の利
点をもたらし、一方で、磁気ギャップのエロージョンを
最小に保持する磁気フェライト製ヘッドの磨耗特性を維
持する。
長で動作しても、本発明の磁気ヘッドの特性は、薄膜磁
極片の書込み飽和特性の利点を有していることが明らか
である。本発明の磁気ヘッドは、薄膜ヘッドの特性の利
点をもたらし、一方で、磁気ギャップのエロージョンを
最小に保持する磁気フェライト製ヘッドの磨耗特性を維
持する。
【００２７】本発明の原理が図による実施例で明らかに
なった。この分野の専門家は、本発明の実施に使用され
る構造、配置、形状、素子、材料及び構成物の大部分の
修正が可能であることが直ちに明確にわかる。例えば、
薄膜磁気磁極片及びギャップとして、多数の異なる材料
が使用でき、及び好ましい実施例の磁気ヘッドには他の
絶縁材料が使用できることが明らかである。
なった。この分野の専門家は、本発明の実施に使用され
る構造、配置、形状、素子、材料及び構成物の大部分の
修正が可能であることが直ちに明確にわかる。例えば、
薄膜磁気磁極片及びギャップとして、多数の異なる材料
が使用でき、及び好ましい実施例の磁気ヘッドには他の
絶縁材料が使用できることが明らかである。
【００２８】
【発明の効果】磁気ギャップ領域での磁気テープとの接
触によって生じるエロージョンを低下させ、且つ磁極片
の飽和モーメントのバランスを良くすることができる。
触によって生じるエロージョンを低下させ、且つ磁極片
の飽和モーメントのバランスを良くすることができる。
【図１】従来技術の薄膜記録磁気ヘッドの断面図であ
る。
る。
【図２】従来技術の薄膜記録磁気ヘッドの断面図であ
る。
る。
【図３】従来技術の記録磁気ヘッドの記録特性を示す曲
線図である。
線図である。
【図４】従来技術の記録磁気ヘッドの記録特性を示す曲
線図である。
線図である。
【図５】本発明の素子を用いた交互配置型磁気ヘッドの
断面展開図である。
断面展開図である。
【図６】図５の交互配置型磁気ヘッドの書込み素子の展
開図における、ライン３−３の切断断面図ある。
開図における、ライン３−３の切断断面図ある。
【図７】図６の書込みトランスデューサの断面図であっ
て、記録媒体との接触記録における磨耗パターンを示す
図である。
て、記録媒体との接触記録における磨耗パターンを示す
図である。
【図８】本発明のヘッド以外のヘッドを用いて書込みを
行った場合の出力読取り振幅を示す曲線図である。
行った場合の出力読取り振幅を示す曲線図である。
【図９】本発明のヘッドを用いて書込みを行った場合の
出力読取り振幅を示す曲線図である。
出力読取り振幅を示す曲線図である。
【図１０】図６の本発明の構成と図１の従来技術との比
較関係を示し、異なる波長における書込み飽和特性曲線
を示す図である。
較関係を示し、異なる波長における書込み飽和特性曲線
を示す図である。
１０・・・磁気ヘッド ２２・・・磁性フェライト製基板（第１磁極片） ２４・・・非磁性セラミック製クロージャ・ブロック ２６・・・磁気ギャップ領域 ３０・・・磁極端 ３２・・・非磁性絶縁層 ３４・・・非磁性絶縁層 ３６・・・導体コイル部分 ３８・・・絶縁層 ４０・・・第２磁極片 ４２・・・支持絶縁層 ４６・・・エッチング・ストップ層（アンダコート層）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 エドワード・バージル・デニソン アメリカ合衆国アリゾナ州、ツーソン、イ ースト・ローズウッド 7061番地 (72)発明者 ビンセント・ノエル・カワティ アメリカ合衆国アリゾナ州、ツーソン、イ ースト・ハイビュー・プレイス 7856番地 (72)発明者 ジェラルド・ステービィング アメリカ合衆国アリゾナ州、ツーソン、ノ ース・ロングホーン 2868番地
Claims (27)
- 【請求項１】記録媒体とのベアリング面となる縁を有
し、磁性材料からなる、支持基板と、 記録媒体とのベアリング面となる縁を有し、前記支持基
板とともに磁気ヘッド・アセンブリの第１の磁極片を形
成する、前記支持基板上の、軟磁性材料からなる第１の
薄膜層と、 記録媒体とのベアリング面となる縁を有し、前記第１の
薄膜層及び前記支持基板を覆う、磁気変換ギャップ形成
絶縁層と、 前記ギャップ層のベアリング面となる縁から離隔して前
記ギャップ層上に配置された導体コイルと、 前記導体コイルを覆い、前記コイルから前記ギャップ層
のベアリング面となる縁までの一部分を延びる、コイル
絶縁層と、 記録媒体とのベアリング面となる縁を有し、磁気ヘッド
・アセンブリの第２の磁極片を形成し、前記導体コイル
から絶縁されており、バック・ギャップで前記基板に接
続される、軟磁性材料からなる第２の薄膜層と、 前記第２の磁極片を覆い、記録媒体とのベアリング面と
なる縁を有する、絶縁材料からなる高さ調整層と、 前記高さ調整層に結合された非磁性セラミックからな
り、記録媒体とのベアリング面となる縁を有する、クロ
ージャ・ブロックとを含み、 前記第１の薄膜層、前記磁気変換ギャップ形成絶縁層、
及び前記第２の薄膜層の縁が、前記記録媒体とのベアリ
ング面において前記磁気変換ギャップを形成し、前記第
１の薄膜層は、前記ベアリング面から前記導体コイルま
で、前記ベアリング面から前記導体コイルまでの長さの
８０％以上１００％未満の長さで延びることを特徴とす
る、 磁気ヘッド・アセンブリ。 - 【請求項２】前記基板及び前記第１薄膜層と、前記第２
薄膜層とが、書込みトランスデューサの第１及び第２磁
極片を形成しており、 更に前記書込みトランスデューサに近接して形成された
読取りトランスデューサを有する、 請求項１記載の磁気ヘッド・アセンブリ。 - 【請求項３】交互に配置された複数の書込み及び読取り
トランスデューサによって形成された１つのモジュール
を有する、 請求項２記載の磁気ヘッド・アセンブリ。 - 【請求項４】前記読取りトランスデューサが磁気抵抗素
子である、 請求項２記載の磁気ヘッド・アセンブリ。 - 【請求項５】一方のモジュールの書込みトランスデュー
サが第２のモジュールの読取りトランスデューサと対向
して交互配置型磁気ヘッドを形成する、前記第２のモジ
ュールを含むことを特徴とする、 請求項３記載の磁気ヘッド・アセンブリ。 - 【請求項６】前記第２の磁極片が、前記磁気変換ギャッ
プから最も離れており、かつ前記ベアリング面と実質的
に垂直である、外面を有することを特徴とする、 請求項１記載の磁気ヘッド・アセンブリ。 - 【請求項７】前記第１の薄膜層が、実質的に５０００Å
に等しい厚さであることを特徴とする、 請求項６記載の磁気ヘッド・アセンブリ。 - 【請求項８】前記第１の薄膜層と前記導体コイルとの距
離が実質的に２μｍであることを特徴とする、 請求項６記載の磁気ヘッド・アセンブリ。 - 【請求項９】前記支持基板を前記第１の薄膜層から分離
させるための、前記支持基板上の下地層を含むことを特
徴とする、 請求項１記載の磁気ヘッド・アセンブリ。 - 【請求項１０】フェライト磁性材料製ブロックから成る
第１の底極片であって、下地層を前記底極片の上に有
し、さらに軟磁性体から成る第１の薄膜層を前記下地層
の上に有し、前記下地層は前記第１の薄膜層を前記フェ
ライト材料から分離し、前記底極片は、記録媒体ベアリ
ング面となる前縁を有する、前記底極片と、 記録媒体ベアリング面となる前縁を有する、磁気絶縁材
料からなる磁気変換ギャップと、 前記磁気絶縁材料を覆い、記録媒体ベアリング面となる
前縁を有する、軟磁性体の第２の薄膜層から成る第２の
頂極片とを含み、 前記第１の薄膜層、前記磁気絶縁材料、及び前記第２の
薄膜層の前縁が、前記記録媒体とのベアリング面におい
て前記磁気変換ギャップを形成し、 さらに、バック・ギャップの周囲に形成され、前記第１
及び第２の磁極片を磁気的に励起させるための、前記前
縁から離隔した磁気絶縁材料上にある導体コイルと、 前記前縁から離隔し、前記導体コイルを覆う、コイル絶
縁層と、 前記第２の頂極片に近接して配置された非磁性セラミッ
ク製ブロックとを有する、 磁気ヘッド・アセンブリ。 - 【請求項１１】交互に配置された複数の書込み及び読取
りトランスデューサによって形成された１つのモジュー
ルを有する、 請求項１０記載の磁気ヘッド・アセンブリ。 - 【請求項１２】前記読取りトランスデューサが磁気抵抗
素子である、 請求項１１記載の磁気ヘッド・アセンブリ。 - 【請求項１３】一方のモジュールの書込みトランスデュ
ーサが第２のモジュールの読取りトランスデューサと対
向して交互配置型磁気ヘッドを形成する、前記第２のモ
ジュールを含むことを特徴とする、 請求項１１記載の磁気ヘッド・アセンブリ。 - 【請求項１４】前記第２の磁極片が、前記磁気変換ギャ
ップから最も離れており、かつ前記ベアリング面と実質
的に垂直である、外面を有することを特徴とする、 請求項１０記載の磁気ヘッド・アセンブリ。 - 【請求項１５】前記第１の薄膜層が、実質的に５０００
Åに等しい厚さであることを特徴とする、 請求項１４記載の磁気ヘッド・アセンブリ。 - 【請求項１６】前記第１の薄膜層と前記導体コイルとの
距離が実質的に１２μｍであることを特徴とする、 請求項１５記載の磁気ヘッド・アセンブリ。 - 【請求項１７】前記第１及び第２の極片が書込みトラン
スデューサを形成し、更に前記書込みトランスデューサ
に近接して形成された読取りトランスデューサを有す
る、 請求項１０記載の磁気ヘッド・アセンブリ。 - 【請求項１８】共に結合された第１及び第２のモジュー
ルを有し、各モジュールが複数の交互に配置された読取
り及び書込みトランスデューサを有し、第１モジュール
の個々の読取り及び書込みトランスデューサが、第２モ
ジュールの個々の読取り及び書込みトランスデューサに
対してそれぞれ対向して位置する交互配置型磁気ヘッド
・アセンブリであって、個々の前記書込みトランスデュ
ーサが、 フェライト磁性材料製ブロックから成る第１の底極片で
あって、下地層を前記底極片の上に有し、さらに軟磁性
体から成る第１の薄膜層を前記下地層の上に有し、前記
下地層は前記第１の薄膜層を前記フェライト材料から分
離し、前記底極片は、記録媒体ベアリング面となる前縁
を有する、前記底極片と、 記録媒体ベアリング面となる前縁を有する、磁気絶縁材
料からなる磁気変換ギャップと、 前記磁気絶縁材料を覆い、記録媒体ベアリング面となる
前縁を有する、軟磁性体の第２の薄膜層から成る第２の
頂極片とを含み、 前記第１の薄膜層、前記磁気絶縁材料、及び前記第２の
薄膜層の前縁が、前記記録媒体とのベアリング面におい
て前記磁気変換ギャップを形成し、 さらに、バック・ギャップの周囲に形成され、前記第１
及び第２の磁極片を磁気的に励起させるための、前記前
縁から離隔した磁気絶縁材料上にある導体コイルと、 前記前縁から離隔し、前記導体コイルを覆う、コイル絶
縁層と、 前記第２の頂極片を覆う、非磁性材料からなる高さ調整
層と、 前記高さ調整層を覆う、非磁性セラミック製ブロックと
を有する、 交互配置型磁気ヘッド。 - 【請求項１９】前記各読取りトランスデューサが磁気抵
抗素子である、 請求項１８記載の交互配置型磁気ヘッド。 - 【請求項２０】前記第２の磁極片が、前記磁気変換ギャ
ップから最も離れており、かつ前記ベアリング面と実質
的に垂直である、外面を有することを特徴とする、 請求項１８記載の交互配置型磁気ヘッド。 - 【請求項２１】前記第１の薄膜層が、実質的に５０００
Åに等しい厚さであることを特徴とする、 請求項１８記載の交互配置型磁気ヘッド。 - 【請求項２２】前記第１の薄膜層と前記導体コイルとの
距離が実質的に２μｍであることを特徴とする、 請求項２０記載の交互配置型磁気ヘッド。 - 【請求項２３】記録媒体が磁気ヘッドと接触するための
ベアリングを有する磁気基板と、 前記基板に付着された第１の極片形成層であって、前記
第１の極片形成層は前記記録媒体のベアリング縁を有
し、前記基板及び前記極片形成層は第１の底極片を形成
し、 前記記録媒体のベアリング縁を有する磁気変換ギャップ
層と、 前記ギャップ層を覆い、前記記録媒体のベアリング縁を
有する、第２の薄膜頂極片とを含み、 前記第１の極片形成層、前記ギャップ層、及び前記第２
の極片のベアリング縁が、前記記録媒体に近接して前記
磁気変換ギャップを形成し、 さらに、前記ギャップ層により第１の極片から絶縁さ
れ、絶縁材料により前記第２の極片から絶縁される、前
記ギャップ層上の導体コイルと、 前記導体コイルを覆う、導体コイル絶縁層と、 前記第２の極片に接して配置された非磁性クロージャ層
とを有する、 磁気ヘッド。 - 【請求項２４】前記第２の極片が、前記ギャップ層から
最も離れており、かつ前記ベアリング縁と実質的に垂直
である、外面を有することを特徴とする、 請求項２３記載の磁気ヘッド。 - 【請求項２５】前記第１の極片形成層が、実質的に５０
００Åに等しい厚さであることを特徴とする、 請求項２３記載の磁気ヘッド。 - 【請求項２６】前記第１の極片形成層と前記導体層との
距離が実質的に２μｍであることを特徴とする、 請求項２３記載の磁気ヘッド。 - 【請求項２７】前記非磁性クロージャ層が、 前記第２の極片の終端に形成された非磁性材料の極片保
護層と、 前記極片保護層及び第２の極片を覆う、高さ調整層と、 前記高さ調整層を覆う、セラミック材料のクロージャ・
ブロックとを有する、 請求項２３記載の磁気ヘッド。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/694,611 US5142768A (en) | 1991-05-02 | 1991-05-02 | Method for making magnetic head with enhanced poletip |
| US694611 | 1991-05-02 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4099144A Division JPH07176014A (ja) | 1991-05-02 | 1992-04-20 | 改良磁極端を有する磁気ヘッド及びその制作方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09120507A true JPH09120507A (ja) | 1997-05-06 |
Family
ID=24789561
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4099144A Pending JPH07176014A (ja) | 1991-05-02 | 1992-04-20 | 改良磁極端を有する磁気ヘッド及びその制作方法 |
| JP8216998A Pending JPH09120507A (ja) | 1991-05-02 | 1996-08-19 | 磁気ヘッド・アセンブリ |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4099144A Pending JPH07176014A (ja) | 1991-05-02 | 1992-04-20 | 改良磁極端を有する磁気ヘッド及びその制作方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5142768A (ja) |
| EP (1) | EP0516288B1 (ja) |
| JP (2) | JPH07176014A (ja) |
| KR (1) | KR960001285B1 (ja) |
| CA (1) | CA2064641C (ja) |
| DE (1) | DE69213558T2 (ja) |
| HK (1) | HK210996A (ja) |
Families Citing this family (40)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5264981A (en) * | 1991-08-14 | 1993-11-23 | International Business Machines Corporation | Multilayered ferromagnetic film and magnetic head employing the same |
| US5256249A (en) * | 1991-09-17 | 1993-10-26 | Seagate Technology, Inc. | Method of manufacturing a planarized magnetoresistive sensor |
| JPH06150257A (ja) * | 1992-10-30 | 1994-05-31 | Fujitsu Ltd | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 |
| US5375023A (en) * | 1992-12-29 | 1994-12-20 | International Business Machines Corporation | Submicron thin film inductive head with self-aligned staggered pole-tips |
| US5949627A (en) * | 1993-02-19 | 1999-09-07 | Read-Rite Corporation | Thin film magnetic head with stress relief layering |
| JP2688173B2 (ja) * | 1993-05-18 | 1997-12-08 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 磁気抵抗読取りトランスジューサ |
| US5423116A (en) * | 1993-07-21 | 1995-06-13 | Storage Technology Corporation | Method of manufacturing a multi-track longitudinal, metal-in-gap head |
| US5394285A (en) * | 1993-07-21 | 1995-02-28 | Storage Technology Corporation | Multi-track longitudinal, metal-in-gap head |
| US5546650A (en) * | 1994-06-22 | 1996-08-20 | Storage Technology Corporation | Method of manufacturing a multiple track thin film recording head |
| US5594608A (en) * | 1994-06-22 | 1997-01-14 | Storage Technology Corporation | Magnetic tape head with a high saturation flux density magnetic pole interposed between a nonmagnetic closure section and a magnetic ferrite substrate |
| DE69517106T2 (de) * | 1994-08-26 | 2000-09-21 | Aiwa Co., Ltd. | Dünnfilmmagnetkopf und Verfahren zu seiner Herstellung |
| US5572392A (en) * | 1994-11-17 | 1996-11-05 | International Business Machines Corporation | Arbitrary pattern write head assembly for writing timing-based servo patterns on magnetic storage media |
| JPH0916925A (ja) * | 1995-06-28 | 1997-01-17 | Yamaha Corp | 誘導型・ｍｒ型複合磁気ヘッドおよびその製造方法 |
| US5811018A (en) * | 1996-01-31 | 1998-09-22 | Storage Technology Corporation | Magnetic barrier for gap control in interleaved tape head design |
| US5710683A (en) * | 1996-04-18 | 1998-01-20 | Storage Technology Corporation | Thin film tape head with substrate for reduced pole-tip recession |
| JPH09293217A (ja) * | 1996-04-26 | 1997-11-11 | Fujitsu Ltd | 磁気抵抗効果型ヘッド |
| JPH10241117A (ja) * | 1997-02-24 | 1998-09-11 | Fujitsu Ltd | 単層磁性膜垂直磁化媒体用記録ヘッド |
| US5905613A (en) * | 1997-07-18 | 1999-05-18 | International Business Machines Corporation | Bidirectional flat contour linear tape recording head and drive |
| US5963401A (en) * | 1997-09-29 | 1999-10-05 | Storage Technology Corporation | Magnetic tape head assembly including modules having a plurality of magneto-resistive head elements |
| US5997381A (en) * | 1997-09-29 | 1999-12-07 | Storage Technology Corporation | Lapping sensor for thin film recording elements and method for manufacturing same |
| US5953184A (en) * | 1997-09-30 | 1999-09-14 | Storage Technology Corporation | Transverse slotted magnetic tape head assembly |
| US5923506A (en) * | 1997-10-03 | 1999-07-13 | Storage Technology Corporation | Recording head element with improved coil tap and method for manufacturing same |
| US6002554A (en) * | 1997-10-03 | 1999-12-14 | Storage Technology Corporation | Multitrack coupled element read head with support structure to eliminate shorting and method for manufacturing same |
| US6038108A (en) * | 1997-11-21 | 2000-03-14 | Storage Technology Corporation | Magnetic tape head assembly having segmented heads |
| US6392840B1 (en) | 1997-12-08 | 2002-05-21 | International Business Machines Corporation | Planarized side by side design of an inductive writer and single metallic magnetoresistive reader |
| US6172848B1 (en) | 1998-04-10 | 2001-01-09 | International Business Machines Corporation | Write head with self aligned pedestal shaped pole tips that are separated by a zero throat height defining layer |
| US6204999B1 (en) * | 1998-12-23 | 2001-03-20 | Read-Rite Corporation | Method and system for providing a write head having a conforming pole structure |
| US6362934B1 (en) | 1999-03-24 | 2002-03-26 | Storage Technology Corporation | Highly aligned thin film tape head and method of making same |
| US6477009B1 (en) | 1999-07-29 | 2002-11-05 | Storage Technology Corporation | Read module with hybird closure |
| US6724569B1 (en) | 2000-02-16 | 2004-04-20 | Western Digital (Fremont), Inc. | Thin film writer with multiplayer write gap |
| KR100400736B1 (ko) | 2000-07-07 | 2003-10-08 | 엘지전자 주식회사 | 세탁기의 부분행정 표시장치 및 방법 |
| US6639753B1 (en) * | 2000-09-01 | 2003-10-28 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Method of forming a head assembly, a head assembly, and a linear tape drive |
| US6741429B1 (en) * | 2000-09-25 | 2004-05-25 | International Business Machines Corporation | Ion beam definition of magnetoresistive field sensors |
| US6468376B2 (en) | 2001-01-03 | 2002-10-22 | International Business Machines Corporation | Precision bonding method and apparatus |
| US6857181B2 (en) * | 2002-08-12 | 2005-02-22 | International Business Machines Corporation | Method of making a T-shaped write head with less side writing |
| JP4093250B2 (ja) * | 2004-06-04 | 2008-06-04 | Ｔｄｋ株式会社 | オーバーコート積層体内に発熱体を備えた薄膜磁気ヘッド、該薄膜磁気ヘッドを備えたヘッドジンバルアセンブリ及び該ヘッドジンバルアセンブリを備えた磁気ディスク装置 |
| US7724474B2 (en) * | 2005-08-09 | 2010-05-25 | Tdk Corporation | Thin-film magnetic head comprising contact pad including portions of closure and substrate and magnetic recording apparatus comprising the head |
| JP2007141331A (ja) * | 2005-11-17 | 2007-06-07 | Tdk Corp | クロージャ部を備えた薄膜磁気ヘッド及び該薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
| KR20150010520A (ko) * | 2013-07-19 | 2015-01-28 | 삼성전자주식회사 | 경자성 자기교환결합 복합 구조체 및 이를 포함한 수직자기기록매체 |
| KR20150010519A (ko) * | 2013-07-19 | 2015-01-28 | 삼성전자주식회사 | 연자성 자기교환결합 복합 구조체 및 이를 포함한 고주파소자 부품, 안테나 모듈 및 자기저항소자 |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3829896A (en) * | 1972-11-08 | 1974-08-13 | Ibm | Bias means for batch fabricated magnetic head and method of manufacture thereof |
| JPS54104812A (en) * | 1978-02-03 | 1979-08-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Thin film magnetic head and production of the same |
| JPS5593519A (en) * | 1978-12-28 | 1980-07-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head |
| US4241367A (en) * | 1978-03-03 | 1980-12-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Thin film magnetic head |
| JPS5522275A (en) * | 1978-08-04 | 1980-02-16 | Fujitsu Ltd | Manufacture of thin-film magnetic head |
| US4422117A (en) * | 1980-04-11 | 1983-12-20 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Thin film magnetic head and method of making it |
| JPS57123516A (en) * | 1981-01-23 | 1982-08-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Thin-film magnetic head |
| JPS5924422A (ja) * | 1982-07-30 | 1984-02-08 | Toshiba Corp | 磁気ヘツド |
| JPS5994221A (ja) * | 1982-11-20 | 1984-05-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS59231722A (ja) * | 1983-06-13 | 1984-12-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
| JPH0450562Y2 (ja) * | 1985-04-03 | 1992-11-30 | ||
| US4777074A (en) * | 1985-08-12 | 1988-10-11 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Grooved magnetic substrates and method for producing the same |
| JPS649648A (en) * | 1987-07-02 | 1989-01-12 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor device |
| EP0311854A1 (de) * | 1987-10-16 | 1989-04-19 | Siemens Aktiengesellschaft | Dünnfilm-Magnetkopf mit schichtweisem Aufbau zur senkrechten Magnetisierung |
| JPH01124108A (ja) * | 1987-11-09 | 1989-05-17 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPH0778853B2 (ja) * | 1988-05-06 | 1995-08-23 | 三洋電機株式会社 | 浮動型磁気ヘツド及びその製造方法 |
| JPH0762890B2 (ja) * | 1988-10-04 | 1995-07-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 薄膜磁気ヘッド |
| US5130877A (en) * | 1990-04-26 | 1992-07-14 | Seagate Technology, Inc. | Thin film head on ferrite substrate with inclined top pole |
-
1991
- 1991-05-02 US US07/694,611 patent/US5142768A/en not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-04-01 CA CA002064641A patent/CA2064641C/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-04-02 KR KR1019920005489A patent/KR960001285B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1992-04-20 JP JP4099144A patent/JPH07176014A/ja active Pending
- 1992-04-30 DE DE69213558T patent/DE69213558T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-04-30 EP EP92303899A patent/EP0516288B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-03-10 US US08/029,346 patent/US5296993A/en not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-08-19 JP JP8216998A patent/JPH09120507A/ja active Pending
- 1996-11-28 HK HK210996A patent/HK210996A/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5296993A (en) | 1994-03-22 |
| KR960001285B1 (ko) | 1996-01-25 |
| KR920022205A (ko) | 1992-12-19 |
| DE69213558T2 (de) | 1997-03-13 |
| JPH07176014A (ja) | 1995-07-14 |
| CA2064641A1 (en) | 1992-11-03 |
| EP0516288B1 (en) | 1996-09-11 |
| EP0516288A3 (en) | 1993-08-25 |
| HK210996A (en) | 1996-12-06 |
| DE69213558D1 (de) | 1996-10-17 |
| US5142768A (en) | 1992-09-01 |
| EP0516288A2 (en) | 1992-12-02 |
| CA2064641C (en) | 1998-09-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH09120507A (ja) | 磁気ヘッド・アセンブリ | |
| US5995342A (en) | Thin film heads having solenoid coils | |
| EP0077832B1 (en) | Multitrack transducer for perpendicular recording and method for fabricating | |
| US5572392A (en) | Arbitrary pattern write head assembly for writing timing-based servo patterns on magnetic storage media | |
| JPH11259814A (ja) | 磁気ヘッド | |
| US20020075595A1 (en) | Thin-film magnetic head and method of manufacturing same | |
| US6535361B2 (en) | Contact planar magnetoresistive head | |
| JPH05266426A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPS59193518A (ja) | 書込・読出トランスデユ−サヘツド | |
| JPS61175916A (ja) | ３極磁気読み書きヘツド | |
| JPH0916925A (ja) | 誘導型・ｍｒ型複合磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| US6101067A (en) | Thin film magnetic head with a particularly shaped magnetic pole piece and spaced relative to an MR element | |
| US5594608A (en) | Magnetic tape head with a high saturation flux density magnetic pole interposed between a nonmagnetic closure section and a magnetic ferrite substrate | |
| US5181152A (en) | Leading edge undershoot elimination in thin film heads | |
| JP2001526820A (ja) | データトランスデューサ、および薄膜磁気テープ書込ヘッドの後端縁として底部極を利用してデータを書込むための方法 | |
| US6392840B1 (en) | Planarized side by side design of an inductive writer and single metallic magnetoresistive reader | |
| US5694276A (en) | Shielded magnetic head having an inductive coil with low mutual inductance | |
| JPS59151334A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JP2002208114A (ja) | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPH04356707A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPH0673167B2 (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JP3231510B2 (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH0154766B2 (ja) | ||
| JPH07153022A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JP3611156B2 (ja) | 薄膜コイルを用いたハイブリッド型磁気ヘッドスライダー |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050322 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070528 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070612 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070806 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070904 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080108 |