JPH08300844A - 平版印刷版用支持体及びその製造方法並びに感光性平版印刷版 - Google Patents
平版印刷版用支持体及びその製造方法並びに感光性平版印刷版Info
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- JPH08300844A JPH08300844A JP13105195A JP13105195A JPH08300844A JP H08300844 A JPH08300844 A JP H08300844A JP 13105195 A JP13105195 A JP 13105195A JP 13105195 A JP13105195 A JP 13105195A JP H08300844 A JPH08300844 A JP H08300844A
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Abstract
し、調子再現性が良好である平版印刷版用支持体及びそ
の製造方法並びに感光性平版印刷版を提供する。 【構成】本発明は、粗面化、陽極酸化処理を施されたア
ルミニウム板から得られる平版印刷版用支持体におい
て、該粗面に、長さ30〜50μm、幅5〜15μmの
凹部を100〜200μmの間隔で、2.5×103〜
10×103個/cm2有することを特徴とする平版印
刷版用支持体及びその製造方法、並びに前記支持体上に
感光性組成物を含む感光層を塗設してなる感光性平版印
刷版である。
Description
その製造方法並びに感光性平版印刷版に関するものであ
り、特に、非画線部の汚れ難さと耐刷力が両立し、調子
再現性が良好である平版印刷版用支持体及びその製造方
法並びに感光性平版印刷版に関するものである。
持体としては、印刷適性の面から親水性、保水性、感光
層との接着性等に優れたものが要求され、このような観
点から通常粗面化・陽極酸化処理されたアルミニウム板
を親水化処理した支持体が用いられている。
ット径の累積度数分布と中心線平均粗さを規定した技術
が開示され、米国特許第3,861,917号には、粗
面の深さを規定した技術が開示され、カナダ特許第95
5,449号には、粗面の山の高さと直径を規定した技
術が開示され、ドイツ特許第1,813,443号に
は、粗面の高低差を規定した技術が開示され、特開昭5
5−132294号には、平均深さを規定した技術が開
示され、特開平5−24376号には、ピット径と径に
垂直な方向の最大深さを規定した技術が開示されてい
る。
耐刷力が両立し、調子再現性の優れた平版印刷版用支持
体及びその製造方法並びに感光性平版印刷版を提供する
ことである。
ら得られる平版印刷版用支持体において、該粗面に、長
さ30〜50μm、幅5〜15μmの凹部を100〜2
00μmの間隔で、2.5×103〜10×103個/
cm2有することを特徴とする平版印刷版用支持体、
の凹部の深さが3〜6μmであることを特徴とする前記
1記載の平版印刷版用支持体、
より形成させた後、硝酸系電解液中で電気化学的に粗面
化を行うことを特徴とする平版印刷版用支持体の製造方
法、
ミニウム板から得られる平版印刷版用支持体において、
該粗面が、直径5〜12μmの第一次ピットと、直径6
00〜1200nmの第二次ピットを有することを特徴
とする平版印刷版用支持体、
塩酸系電解液中で、直径600〜1200nmの第二次
ピットを硝酸系電解液中でそれぞれ電気化学的粗面化に
より形成することを特徴とする平版印刷版用支持体の製
造方法、
刷版用支持体上に、感光性組成物を含む感光層を塗設し
て成る感光性平版印刷版、
ミニウム板に感光性組成物を含む感光層を塗設して成る
感光性平版印刷版において、粗面化により形成されるピ
ットの平均直径が600〜1000nmであり、前記感
光性組成物がo−キノンジアジド化合物と下記一般式
[I]で表される構造単位を含む重合体とを含有するこ
とを特徴とする感光性平版印刷版、
基を表す。
ミニウム板に感光性組成物を含む感光層を塗設して成る
感光性平版印刷版において、粗面化により形成されるピ
ットの平均直径が600〜1000nmであり、前記感
光性組成物がo−キノンジアジド化合物と包接化合物と
を含有することを特徴とする感光性平版印刷版、
ミニウム板に感光性組成物を含む感光層を塗設して成る
感光性平版印刷版において、粗面化により形成されるピ
ットの平均直径が600〜1000nmであり、前記感
光性組成物がo−キノンジアジド化合物と紫外線吸収染
料とを含有することを特徴とする感光性平版印刷版、
ルミニウム板に感光性組成物を含む感光層を塗設して成
る感光性平版印刷版において、粗面化により形成される
ピットの平均直径が600〜1000nmであり、前記
感光性組成物がo−キノンジアジド化合物と下記一般式
[I]で表される構造単位を含む重合体と包接化合物と
紫外線吸収染料とを含有することを特徴とする感光性平
版印刷版、
基を表す。
リン、シクロデキストリン誘導体から選ばれた少なくと
も一つであることを特徴とする前記8又は10記載の感
光性平版印刷版、
00nmの光に光学的に不活性であり、かつ吸収波長が
420〜520nmの間に吸光度0.1以上の吸収極大
が存在し、かつ該吸収極大の最大値が吸収波長400n
mにおける吸光度の値の2倍以上であることを特徴とす
る前記9又は10記載の感光性平版印刷版、
に、プロピレングリコールモノメチルエーテル、メチル
エチルケトン、乳酸メチル、ジエチルカルビトールより
選ばれた少なくとも一つを含有することを特徴とする前
記7〜12の何れかに記載の感光性平版印刷版、の各々
により達成される。
しては、印刷適性の面から親水性、保水性、感光層との
接着性に優れたものが要求され、このような観点から通
常表面を砂目立てといわれる粗面化処理を施されたアル
ミニウム板が用いられている。粗面化処理は、ボール研
磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、バフ研磨、ホーニング
研磨等の機械的粗面化法、また塩酸、硝酸等の酸性電解
液中で交流あるいは直流によって支持体表面を電解処理
する電気化学的粗面化法等が知られている。このような
方法で砂目立て処理したアルミニウム板は、そのままで
は比較的柔らかく、摩耗しやすいので、次いで陽極酸化
処理を施して酸化皮膜が形成される。このように処理さ
れたアルミニウム板の表面は硬く、耐摩耗性に優れてい
る。
ニウム板からなる感光性平版印刷版でも様々な印刷条件
下では、非画線部の汚れ、耐刷性を満足させるには不十
分である。このような問題を解決するために、非画線部
の汚れを改善するためには、陽極酸化処理の後に親水化
処理が施される。特開昭56−21126号では親水性
樹脂と水溶性塩からなる下塗層を設ける方法、特開昭6
4−14090号ではカルボン酸塩からなる下塗層を設
ける方法、特開昭63−130391号では少なくとも
1つのアミノ基と、カルボキシル基及びスルホ基から選
ばれた少なくとも1つの基とを有する化合物の無機酸塩
及び有機酸塩から選ばれた少なくとも1つからなる親水
層を設ける方法、特開昭63−165183号では少な
くとも1つのアミノ基と、ホスホン基又はホスホン基の
塩を含む親水層を設ける方法、等が提案されているがこ
れらの親水化処理を施すだけでは耐刷性を劣化させるこ
となく汚れ難さを改善するには不十分であった。また、
印刷時に検討合わせや休憩等でしばらく印刷機を停止し
た後、印刷再開時に発生する微点状の汚れは改善されな
かった。さらに、粗面形状では、米国特許第4,30
1,229号ではピット径の累積度分布と中心線平均粗
さを規定、米国特許第3,861,917号では粗面の
深さを規定、カナダ特許第955,449号では粗面の
山の高さと直径を規定、ドイツ特許第1,813,44
3号では粗面の高低差を規定、特開昭55−13229
4号では平均深さを規定、特開平5−24376号では
ピット径と径に垂直な方向の最大深さを規定、等が提案
されているが、これらの形状でも耐刷性と非画線部の汚
れ難さ、特に印刷再開時の微点状の汚れには不十分であ
った。
湿し水の広がり易さ、また、印刷停止時の湿し水の均一
な蒸発しやすさを改善することを見いだした。本発明の
目的である、耐刷性を劣化させることなく、非画線部の
汚れ難さ、特に印刷停止後の微点状の汚れの発生しにく
い、かつ調子再現性の優れた感光性平版印刷版は本発明
によって達成された。
る。 (支持体)本発明に使用されるアルミニウム支持体に
は、純アルミニウムおよびアルミニウム合金よりなる支
持体が含まれる。アルミニウム合金としては種々のもの
が使用でき、例えば珪素、銅、マンガン、マグネシウ
ム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、
ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が用いら
れる。
アルミニウム表面の圧延油を除去するために脱脂処理を
施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、
シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケロシン、トリエ
タノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処
理等が用いられる。また、脱脂処理には、苛性ソーダ等
のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に
苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂
処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去するこ
とができる。
を用いた場合、支持体の表面にはスマットが生成するの
で、この場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の
酸、あるいはそれらの混酸に浸漬しデスマット処理を施
すことが好ましい。
1(〜3及び6)に示す第1の発明では、長さ30〜5
0μm、幅5〜15μmの凹部が100〜200μmの
間隔で、2.5×103〜10×103個/cm2有す
るものとされる。これらの凹部は小さすぎると湿し水が
均一に蒸発しにくくなり、大きすぎると湿し水が均一に
広がり難くなる。間隔、個数も同様に疎らであると湿し
水が均一に蒸発しにくくなり、密すぎると湿し水が均一
に広がり難くなる。これらの凹部は深さが3〜6μmが
好ましい。浅すぎると湿し水が均一に蒸発しにくくな
り、深すぎると湿し水が均一に広がり難くなる。
することができる。機械的粗面化法は特に限定されない
がブラシ研磨、ホーニング研磨が好ましい。ブラシ研磨
では、例えば線径5〜15μm、間隔100〜200μ
mのブラシ毛を植毛したロールブラシを回転し、支持体
表面に押しつけて粗面化を行う。ホーニング研磨では、
例えば粒径5〜15μmのAl2O3の粒子を水に均一
に分散させ、ノズルより圧力をかけ射出し、支持体表面
に斜め角度から衝突させて粗面化を行う。また、あらか
じめ長さ30〜50μm、幅5〜15μmの粒子を10
0〜200μmの間隔で、2.5×103〜10×10
3個/cm2有するように塗布されたシートを支持体表
面に張り合わせ、圧力をかけて粗面パターンを転写する
ことにより粗面化を行うこともできる。
気化学的に粗面化されるが、その前に、機械的粗面化さ
れた支持体の表面に食い込んだ研磨剤、アルミニウム屑
等を取り除くため、酸またはアルカリの水溶液に浸漬す
ることが好ましい。酸としては、例えば硫酸、過硫酸、
弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が含まれ、塩基としては、例
えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が含まれ
る。これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好ま
しい。上記をアルカリの水溶液で浸漬処理を行った場
合、支持体の表面にはスマットが生成するので、この場
合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、あるいは
それらの混酸に浸漬しデスマット処理を施すことが望ま
しい。
面化を行う。酸性電解液は通常電気化学的粗面化法に用
いられるものが使用できるが、特に硝酸系電解液を用い
るのが好ましい。電気化学的粗面化方法については、例
えば、特公昭48−28123号公報、英国特許第89
6,563号明細書、特開昭53−67507号公報に
記載されている方法を用いることができる。
は、1〜50ボルトが好ましく、2〜30ボルトが更に
好ましい。電流密度は、10〜150A/dm2が好ま
しく、20〜100A/dm2が更に好ましい。電気量
は、100〜20000c/dm2、好ましくは100
〜10000c/dm2、より好ましくは200〜50
00c/dm2である。温度は、10〜50℃が好まし
く、15〜45℃が更に好ましい。硝酸濃度は0.1〜
5重量%が好ましい。電解液には、必要に応じて硝酸
塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム
酸、ホウ酸、酢酸、蓚酸等を加えることができる。
発明では、直径5〜12μmの第一次ピットと、直径6
00〜1200nmの第二次ピットを有するものとされ
る。これらのピットは酸性電解液中での電気化学的粗面
化方法を2段階で行うことにより形成できる。酸性電解
液中での電気化学的粗面化法は上述の方法を用いること
ができるが、直径5〜12μmの第一次ピットの形成は
塩酸系電解液を用いて、直径600〜1200nmの第
二次ピットの形成は硝酸系電解液を用いて電気化学的に
粗面化を行うのが好ましい。
において印加される電圧は、1〜50ボルトが好まし
く、2〜30ボルトが更に好ましい。電流密度は、10
〜200A/dm2が好ましく、50〜150A/dm
2が更に好ましい。電気量は、100〜20000c/
dm2が好ましく、100〜10000c/dm2が更
に好ましい。温度は、10〜50℃が好ましく、15〜
45℃が更に好ましい。塩酸濃度は0.1〜5重量%が
好ましい。電解液には、必要に応じて硝酸塩、塩化物、
アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢
酸、蓚酸等を加えることができる。
において印加される電圧は、1〜50ボルトが好まし
く、2〜30ボルトが更に好ましい。電流密度は、10
〜100A/dm2、20〜80A/dm2が更に好ま
しい。電気量は、100〜10000c/dm2、好ま
しくは200〜5000c/dm2、より好ましくは5
00〜2000c/dm2である。温度は、10〜50
℃が好ましく、15〜45℃が更に好ましい。硝酸濃度
は0.1〜1重量%が好ましい。電解液には、必要に応
じて硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、
クロム酸、ホウ酸、酢酸、蓚酸等を加えることができ
る。
のアルミニウム屑等を取り除くため、酸またはアルカリ
の水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例え
ば硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が含まれ、
塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム等が含まれる。これらの中でもアルカリの水溶液を
用いるのが好ましい。上記のアルカリの水溶液で浸漬処
理を行った場合、支持体の表面にはスマットが生成する
ので、この場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の
酸、あるいはそれらの混酸に浸漬しデスマット処理を施
すことが好ましい。第2の発明の第一段階と第二段階の
電気化学的粗面化処理の間にこのような処理を行っても
良い。
と、請求項8(及び11並びに13)に示す第4の発明
と、請求項9(及び12並びに13)に示す第5の発明
と、請求項10(及び11と12並びに13)に示す第
6の選択発明では、ピットの平均直径が600〜100
0nmの範囲のものとされる。ピットの形成は硝酸系電
解液を用いて電気化学的に粗面化される。
において印加される電圧は、1〜50ボルトが好まし
く、2〜30ボルトが更に好ましい。電流密度は、10
〜100A/dm2、20〜80A/dm2が更に好ま
しい。電気量は、100〜10000c/dm2、好ま
しくは200〜5000c/dm2、より好ましくは5
00〜2000c/dm2である。温度は、10〜50
℃が好ましく、15〜45℃が更に好ましい。硝酸濃度
は0.1〜1重量%が好ましい。電解液には、必要に応
じて硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、
クロム酸、ホウ酸、酢酸、蓚酸等を加えることができ
る。
続いて、封孔処理、親水化処理を行っても良い。即ち、
表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が
施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる
電解質としては多孔質酸化皮膜を形成するものならばい
かなるものでも使用することができ、一般には硫酸、り
ん酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられ
る。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜
決められる。陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解
質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は1〜70℃、電
流密度1〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時
間10秒〜5分の範囲にあれば適当である。特に好まし
い硫酸法は通常直流電流で処理が行われるが、交流を用
いることも可能である。硫酸の濃度は5〜30%で使用
され、20〜60℃の温度範囲で5〜250秒間電解処
理される。この電解液には、アルミニウムイオンが含ま
れている方が好ましい。さらにこのときの電流密度は1
〜20A/dm2が好ましい。
極酸化処理の後、封孔処理を施してもよい。封孔処理と
しては、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重
クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモン処
理等が挙げられる。
は、親水性下塗層を設けてもよい。親水性下塗層として
は、米国特許第3,181,461号明細書に記載のア
ルカリ金属珪酸塩、米国特許第1,860,426号明
細書に記載の親水性セルロース、特開昭60−1494
91号公報、同63−165183号公報に記載のアミ
ノ酸及びその塩、特開昭60−232998号公報に記
載の水酸基を有するアミン類及びその塩、特開昭62−
19494号公報に記載の燐酸塩、特開昭59−101
651号公報に記載のスルホ基を有するモノマー単位を
含む高分子化合物等が挙げられる。
光層への擦れ傷を防ぐために、また、現像時、現像液中
へのアルミニウム成分の溶出を防ぐために、特開昭50
−151136号、同57−63293号、同60−7
3538号、同61−67863号、特開平6−351
74号等に記載されている、支持体裏面に保護層を設け
る処理を行うことができる。
ピットの直径は、撮影倍率200〜10000倍で撮影
した電子顕微鏡写真を用いて測定することができる。次
に、上記表面処理された支持体上に、感光性組成物を含
む感光層を塗布することにより本発明に好ましく用いら
れる感光性平版印刷版が得られる。この感光層中に用い
られる感光性物質としては特に限定されるものはなく、
通常、感光性平版印刷版に用いられている種々のものを
用いることができる。以下、この点について説明する。
持体上に感光性組成物からなる感光層を塗布することに
より本発明の感光性平版印刷版が得られる。この感光層
中に用いられる感光性物質は、ポジ型感光性平版印刷版
を得ようとする場合、o−キノンジアジド化合物であれ
ば特に限定されるものではなく、通常、例えば下記のよ
うな各種のものが使用される。
組成物)使用されるo−キノンジアジド化合物を含む感
光性組成物においては、o−キノンジアジド化合物とア
ルカリ可溶性樹脂を併用する。o−キノンジアジド化合
物としては、例えばo−ナフトキノンジアジドスルホン
酸と、フェノール類及びアルデヒドまたはケトンの重縮
合樹脂とのエステル化合物が挙げられる。
ノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾ
ール、3,5−キシレノール、カルバクロール、チモー
ル等の一価フェノール、カテコール、レゾルシン、ヒド
ロキノン等の二価フェノール、ピロガロール、フロログ
ルシン等の三価フェノール等が挙げられる。前記アルデ
ヒドとしてはホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、ア
セトアルデヒド、クロトンアルデヒド、フラフラール等
が挙げられる。これらのうち好ましいものはホルムアル
デヒド及びベンズアルデヒドである。前記ケトンとして
はアセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−、p−混合クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹
脂、ピロガロール・アセトン樹脂等が挙げられる。前記
o−ナフトキノンジアジド化合物のフェノール類のOH
基に対するo−ナフトキノンジアジドスルホン酸の縮合
率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80%が好
ましく、より好ましいのは20〜45%である。
ド化合物としては特開昭58−43451号公報に記載
のある以下の化合物も使用できる。即ち、例えば1,2
−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステル、1,2−
ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、1,2−ベ
ンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、1,2−ナフト
キノンジアジドスルホン酸アミドなどの公知の1,2−
キノンジアジド化合物、更に具体的にはジェイ・コサー
ル(J.Kosar)著「ライト−センシティブ・シス
テムズ」(Light−Sensitive Syst
ems)第339〜352頁(1965年)、ジョン・
ウィリー・アンド・サンズ(JohnWilley &
Sons)社(ニューヨーク)やダブリュ・エス・デ
ィ・フォレスト(W.S.De Forest)著「フ
ォトレジスト」(Photoresist)第50巻
(1975年)、マックローヒル(Mc Graw H
ill)社(ニューヨーク)に記載されている1,2−
ベンゾキノンジアジド−4−スルホン酸フェニルエステ
ル、1,2,1´,2´−ジ−(ベンゾキノンジアジド
−4−スルホニル)−ジヒドロキシビフェニル、1,2
−ベンゾキノンジアジド−4−(N−エチル−M−β−
ナフチル)−スルホンアミド、1,2−ナフトキノンジ
アジド−5−スルホン酸シクロヘキシルエステル、1−
(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−
3,5−ジメチルピラゾール、1,2−ナフトキノンジ
アジド−5−スルホン−4´−ヒドロキシジフェニル−
4´−アゾ−β−ナフトール−エステル、N,N−ジ−
(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−
アニリン、2´−(1,2−ナフトキノンジアジド−5
−スルホニルオキシ)−1−ヒドロキシ−アントラキノ
ン、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン−
2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2
−ナフトキノノジアジド−5−スルホン酸−2,3,4
−トリヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルと
4,4´−ジアミノベンゾフェノン1モルとの縮合物、
1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリ
ド2モルと4,4´−ジヒドロキシ−1,1´−ジフェ
ニルスルホン1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノン
ジアジド−5−スルホン酸クロリド1モルとプルプロガ
リン1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド
−5−(N−ジヒドロアビエチル)−スルホンアミド等
の1,2−キノンジアジド化合物を例示することができ
る。また、特公昭37−1953号、同37−3627
号、同37−13109号、同40−26126号、同
40−3801号、同45−5604号、同45−27
345号、同51−13013号、特開昭48−965
75号、同48−63802号、同48−63803号
各公報に記載された1,2−キノンジアジド化合物も挙
げることができる。
1,2−ベンゾキノンジアジドスルホニルクロリド又は
1,2−ナフトキノンジアジドスルホニルクロリドをピ
ロガロール・アセトン縮合樹脂又は2,3,4−トリヒ
ドロキシベンゾフェノンと反応させて得られるo−キノ
ンジアジドエステル化合物が特に好ましい。本発明に用
いられるo−キノンジアジド化合物としては上記化合物
を各々単独で用いてもよいし、2種以上組合せて用いて
もよい。o−キノンジアジド化合物の感光性組成物中に
占める割合は、5〜60重量%が好ましく、特に好まし
いのは、10〜50重量%である。
0に示す第6の選択発明においては、感光性組成物中に
は、上記o−キノンジアジド化合物の他に下記一般式
[I]で表される構造単位を含む重合体(以下、第3及
び第6の発明の重合体という)を含有している。尚、第
6の選択発明においては、更に他に後述する包接化合物
と紫外線吸収染料をも含有している。 (第3及び第6の発明の重合体)
基を表す。
[I]で示される構造単位より選ばれた少なくとも1つ
の構造単位を含む重合体であればいずれでもよく、具体
的には、重合体に一般式[I]で示される構造単位を導
入するモノマーとしては、例えば、ベンジルメタクリレ
ート、ベンジルアクリレートが挙げられる。
ノマーと他のビニル系のモノマーとを共重合させること
によって得ることができる。上記他のビニル系のモノマ
ーの例としては、(a)脂肪族水酸基を有するアクリル
酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類、例えば、
2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシ
エチルメタクリレート、(b)アクリル酸、メタクリル
酸、無水マレイン酸、イタコン酸等のα,β−不飽和カ
ルボン酸、(c)アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル
酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、
アクリルサン−2−クロロエチル、グリシジルアクリレ
ート、N−ジメチルアミノエチルアクリレート等の(置
換)アルキルアクリレート、(d)メチルメタクリレー
ト、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、
ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、シクロ
ヘキシルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタク
リレート、グリシジルメタクリレート、N−ジメチルア
ミノエチルメタクリレート等の(置換)アルキルメタク
リレート、(e)アクリルアミド、メタクリルアミド、
N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタク
リルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシル
メタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミ
ド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニ
ルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミ
ド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアク
リルアミド若しくはメタクリルアミド類、(f)エチル
ビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒ
ドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテ
ル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、
フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類、(g)
ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブ
チレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類、
(h)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類、(i)メチ
ルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニル
ケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類、
(j)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレン等のオレフィン類、(k)N−ビニルピ
ロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピリジ
ン、アクリロニトリル、メタクリロイトリル等、(l)
芳香族性水酸基を有するビニル単量体、具体的には、
o,m,p−ヒドロキシフェニル(メタ)アクリルアミ
ド、o,m,p−ヒドロキシスチレン、o,m,p−ヒ
ドロキシフェニル(メタ)アクリレート、o,m,p−
ヒドロキシフェニルマレイミド等、が挙げられる。
記モノマーと共重合し得る他のモノマーを共重合させて
もよい。第3及び第6の発明の重合体としては、上記
(l)に挙げた芳香族性水酸基を有するビニル単量体、
特に、フェノール性水酸基を有するビニル単量体を用い
て共重合させて得られた分子内にフェノール性水酸基を
有する重合体が好ましい。第3及び第6の発明の重合体
の好ましい分子量は、20,000〜200,000で
あり、より好ましくは20,000〜130,000で
ある。また第3及び第6の発明の重合体中には一般式
[I]で示される構造単位が3〜40モル%含まれるの
が好ましく、更に、5〜20モル%含まれるのがより好
ましい。第3及び第6の発明の重合体はアルカリ可溶性
であるものが好ましい。ここで、アルカリ可溶性とは、
アルカリ水に可溶性であるものを指すばかりでなく、ア
ルカリ水中において膨潤性を有するものも含まれる。以
下に第3及び第6の発明の重合体の具体例を挙げる。
ブレンドしてもよい。
請求項10に示す第6の選択発明においては、感光性組
成物中には、上記o−キノンジアジド化合物の他に包接
化合物を含有している。尚、第6の選択発明において
は、更に他に前記第3及び第6の発明の発明の重合体と
後述する紫外線吸収染料をも含有している。
きる包接化合物は、化学種を取り込む(包接する)こと
ができる化合物であれば特に限定されないが、組成物の
調製に用いる溶剤に可溶な有機系化合物が好ましい。そ
のような有機系化合物の例としては、例えば、「ホスト
ゲストケミストリー」(平岡道夫ら著、講談社1984
年、東京)などの成書や「テトラヘドロンレポート」
(No.226(1987)P5725A.Colle
tら)、「化学工業4月号」((1991)P278新
海ら)、「化学工業4月号((1991)P288平岡
ら)等に示されているものが挙げられる。
きる包接化合物としては、例えば、環状D−グルカン
類、シクロファン類、中性ポリリガンド、環状ポリアニ
オン、環状ポリカチオン、環状ペプチド、スフェランド
(SPHERANDS)、キャビタンド(CAVITA
NDS)およびそれらの非環状類縁体が挙げられる。こ
れらの中でも、環状D−グルカン類およびその非環状類
縁体、シクロファン類、中性ポリリガンドが更に好まし
い。
体としては、例えば、α−D−グルコピラノースがグリ
コキシド結合によって連なった化合物として挙げられ
る。該化合物としては、デンプン、アミロース、アミロ
ペクトン等のD−グルコピラノース基により構成される
糖質類、α−シクロデキストリン、β−シクロデキスト
リン、γ−シクロデキストリン、D−グルコピラノース
基の重合度が9以上のシクロデキストリン等のシクロデ
キストリンおよびSO3C6H4CH2 C 6H4SO
3基、NHCH2CH2NH基、NHCH2CH2NH
CH2 CH2NH基、SC6H5基、N3基、NH2
基、NEt2基、SC(NH2 +)NH2基、SH基、
SCH2CH2NH2基、イミダゾール基、エチレンジ
アミン基等の置換基を導入した下記式
た、下記一般式[II]および一般式[III]で表さ
れるシクロデキストリン誘導体および分岐シクロデキス
トリン、シクロデキストリンポリマー等も挙げられる。
それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子、アル
キル基または置換アルキル基を表す。特にR1〜R3が
水素原子あるいはヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロ
ピル基であるものが好ましく、1分子中の置換アルキル
基の含有率が15%〜50%であるものが更に好まし
い。n2は4〜10の正の整数を表す。
子、−R2−CO2H、−R2−SO3H、−R2−N
H2または−N−(R3)2(R2は、炭素数1〜5の
直鎖または分岐鎖のアルキレン基を表し、R3は、炭素
数1〜5の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表す。
ounal of the American Che
mical Society」第71巻 第354頁1
949年、「Cheimish Berichte」第
90巻 第2561頁1949年、第90巻 第256
1頁 1957年に記載されているが、勿論これらに限
定されるものではない。
ンとは、公知のシクロデキストリンにグルコース、マル
トース、セロビオーズ、ラクトース、ショ糖、ガラクト
ース、グルコサミン等の単糖類や2糖類等の水溶性物質
を分岐付加ないし結合させたものであり、好ましくは、
シクロデキストリンにマルトースを結合させたマルトシ
ルシクロデキストリン(マルトースの結合分子数は1分
子、2分子、3分子等いずれでもよい)やシクロデキス
トリンにグルコースを結合させたグルコシルシクロデキ
ストリン(グルコースの結合分子数は1分子、2分子、
3分子等いずれもでもよい)が挙げられる。
合成方法は、例えば、澱粉化学、第33巻、第2号、1
19〜126頁(1986)、同127〜132頁(1
986)、澱粉化学、第30巻、第2号、231〜23
9頁(1983)等に記載されており、これら公知の方
法を参照して合成可能であり、例えば、マルトシルシク
ロデキストリンは、シクロデキストリンとマルトースを
原料とし、イソアミラーゼやプルラナーゼ等の酵素を利
用してシクロデキストリンにマルトースを結合させる方
法で製造できる。グルコシルシクロデキストリンも同様
の方法で製造できる。
シクロデキストリンとしては、以下に示す具体的例示化
合物を挙げることができる。 〔例示化合物〕 D−1 マルトースが1分子結合したα−シクロデキス
トリン D−2 マルトースが1分子結合したβ−シクロデキス
トリン D−3 マルトースが1分子結合したγ−シクロデキス
トリン D−4 マルトースが2分子結合したα−シクロデキス
トリン D−5 マルトースが2分子結合したβ−シクロデキス
トリン D−6 マルトースが2分子結合したγ−シクロデキス
トリン D−7 マルトースが3分子結合したα−シクロデキス
トリン D−8 マルトースが3分子結合したβ−シクロデキス
トリン D−9 マルトースが3分子結合したγ−シクロデキス
トリン D−10 グルコースが1分子結合したα−シクロデキ
ストリン D−11 グルコースが1分子結合したβ−シクロデキ
ストリン D−12 グルコースが1分子結合したγ−シクロデキ
ストリン D−13 グルコースが2分子結合したα−シクロデキ
ストリン D−14 グルコースが2分子結合したβ−シクロデキ
ストリン D−15 グルコースが2分子結合したγ−シクロデキ
ストリン D−16 グルコースが3分子結合したα−シクロデキ
ストリン D−17 グルコースが3分子結合したβ−シクロデキ
ストリン D−18 グルコースが3分子結合したγ−シクロデキ
ストリン
いては、HPLC、NMR、TLC(薄層クロマトグラ
フィー)、INEPT法(Insensitive n
uclei enhanced by polariz
ation transfer)等の測定法で種々検討
されてきているが、現在の化学技術をもってしてもいま
だ確定されておらず推定構造の段階にある。しかしなが
ら、各単糖類又は2糖類等がシクロデキストリンに結合
していることは上記測定法で誤りのないことである。こ
の故に、本発明においては、単糖類や2糖類の多分子が
シクロデキストリンに結合している際には、例えば、下
図に示すようにシクロデキストリンの各ぶどう糖に個々
に結合している場合や、1つのぶどう糖に直鎖状に結合
しているものの両方を包含するものである。
既存のシクロデキストリンの環構造はそのまま保持され
ているので、既存のシクロデキストリンと同様な包接作
用を示し、かつ、水溶性の高いマルトースないしグルコ
ースが付加し、水への溶解性が飛躍的に向上しているの
が特徴である。
ンは市販品としての入手も可能であり、例えば、マルト
シルシクロデキストリンは塩水港精糖社製イソエリート
(登録商標)として市販されている。
リンポリマーについて説明する。
リマーとしては、下記一般式[IV]で表されるものが
好ましい。
リマーは、シクロデキストリンを、例えば、エピクロル
ヒドリンにより架橋高分子化して製造できる。
水溶性すなわち水に対する溶解度が、25℃で水100
ミリリットルに対し20g以上あることが好ましく、そ
のためには上記一般式[IV]における重合度n2を3
〜4とすればよく、この値が小さい程シクロデキストリ
ンポリマー自身の水溶性および前記物質の可溶化効果が
高い。
開昭61−97025号公報やドイツ特許第3,54
4,842号明細書等に記載された一般的な方法で合成
できる。該シクロデキストリンポリマーについても、前
記の如くシクロデキストリンポリマーの包接化合物とし
て使用してもよい。
によりつながった構造を有する環状化合物であって、多
くの化合物が知られており、シクロファン類としては、
これら公知の化合物を挙げることができる。
合、−(CR1R2)m−結合、−O(CR1R2)m
O−結合、−NH(CR1R2)mNH−結合、−(C
R1R2)pNR3(CR4R5)q−結合、−(CR
1R2)pN+ R3R4(CR5R6)q−結合、−
(CR1R2)pS+R3 (CR4R5)q−結合、
−CO2−結合、−CONR−結合(ここで、R1、R
2、R3、R4、R5およびR6は、同一でも異なって
いてもよく、水素原子または炭素数1〜3のアルキル基
を示し、m、pおよびqは、同一でも異なっていてもよ
く、1〜4の整数を示す。)等が挙げられる。該化合物
としては、例えば、下記式
ド、シクロトリヴェラトリレンに代表される下記式
ン、カリックスアレン、レゾルシノール−アルデヒド環
状オリゴマー等に代表される下記式
げられる。
物、クリプタンド、環状ポリアミンおよびそれらの非環
状類縁体が挙げられる。該化合物は、金属イオンを有効
に取り込むことが知られているが、カチオン性有機分子
も有効に取り込むことができる。
素、デオキシコール酸、ジニトロジフェニル、ヒドロキ
ノン、o−トリチモチド、オキシフラバン、ジシアノア
ンミンニッケル、ジオキシトリフェニルメタン、トリフ
ェニルメタン、メチルナフタリン、スピロクロマン、ペ
ルヒドロトリフェニレン、粘度鉱物、グラファイト、ゼ
オライト(ホージャサイト、チャバザイト、モルデナイ
ト、レビーナイト、モンモリロナイト、ハロサイト
等)、セルロース、アミロース、タンパク質等が挙げら
れる。
てもよいが、包接化合物自身あるいは分子を取り込んだ
包接化合物の溶剤への溶解性、その他の添加剤との相溶
性を良好にするために包接能を有する置換基をポリマー
にペンダント置換基として懸垂させたポリマーを一緒に
添加してもよい。
501号公報、特開平3−221502号公報、特開平
3−221503号公報、特開平3−221504号公
報、特開平3−221505号公報に開示されているよ
うな方法を用いて容易に得ることができる。
グルカン類、シクロファン類、および非環状シクロファ
ン類縁体が好ましい。更に具体的には、シクロデキスト
リン、カリックスアレン、レゾルシノール−アルデヒド
環状オリゴマー、パラ置換フェノール類非環状オリゴマ
ーが好ましい。
ストリン及びその誘導体が挙げられ、この内、β−シク
ロデキストリン及びその誘導体が更に好ましい。
る割合は0.01〜10重量%が好ましく、0.1〜5
重量%がより好ましい。
請求項10に示す第6の選択発明においては、感光性組
成物中には、上記o−キノンジアジド化合物の他に紫外
線吸収染料を含有している。尚、第6の選択発明におい
ては、更に他に前記第3及び第6の発明の発明の重合体
と前記包接化合物をも含有している。
ができる紫外線吸収染料は、300〜600nmの光に
光学的に不活性であり、かつ吸収波長が420〜520
nmの間に吸光度0.1以上、好ましくは0.2以上、
より好ましくは0.3以上の吸収極大が存在し、かつ該
吸収極大の最大値が吸収波長400nmにおける吸光度
の値の2倍以上、好ましくは2.5倍以上、より好まし
くは3倍以上である。尚、光学的に不活性とは、光によ
り構造等が何ら変化しないことをいう。
ダイアレジン・ブリリアント・イエロー6G、ダイアレ
ジン・イエロー3G、ダイアレジン・イエローF、ダイ
アレジン・レッドZ、ダイアレジン・イエローH2G、
ダイアレジン・イエローHG、ダイアレジン・イエロー
HC、ダイアレジン・イエローHL、ダイアレジン・オ
レンジHS、ダイアレジン・オレンジG、ダイアレジン
・レッドGG、ダイアレジン・イエローGR、ダイアレ
ジン・レッドS、ダイアレジン・レッドHS、ダイアレ
ジン・レッドA、ダイアレジン・レッドH、ダイアシッ
ド・ライド・イエロー2G、日本化薬社製カヤセット・
イエローK−RL、カヤセット・イエローK−CL、カ
ヤセット・イエローE−G、カヤセット・イエローE−
AR、カヤセット・イエローA−G、カヤセット・イエ
ローGN、カヤセット・イエロー2G、カヤセット・イ
エローSF−G、カヤセット・オレンジK−RL、カヤ
セット・オレンジG、カヤセット・オレンジA−N、カ
ヤセット・オレンジSF−R、カヤセット・フラビンF
N、カヤセット・フラビンFG、カヤセット・レッドK
−BL、Kayacryl Golden Yello
w GL−ED等の黄色又はオレンジ色の染料が挙げら
れる。
0.1〜10重量%、更に0.5〜5重量%含有される
ことが好ましい。又、上記範囲内であれば二種以上を組
み合わせて用いることもできる。
印刷版を得ようとする場合、公知のジアゾ化合物を含む
感光性組成物を用いればよい。この感光性組成物中のジ
アゾ化合物は、例えば、好ましくは芳香族ジアゾニウム
塩とホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドとの縮合
物で代表されるジアゾ樹脂である。特に好ましくは、p
−ジアゾフェニルアミンとホルムアルデヒドまたはアセ
トアルデヒドとの縮合物の塩、例えばヘキサフルオロホ
ウ燐酸塩、テトラフルオロホウ酸塩、過塩素酸塩または
過ヨウ素酸塩と前記縮合物との反応生成物であるジアゾ
樹脂無機塩や、米国特許第3,300,309号明細書
中に記載されているような、前記縮合物とスルホン酸類
との反応生成物であるジアゾ樹脂有機塩等が挙げられ
る。さらにジアゾ樹脂は、好ましくは結合剤と共に使用
される。かかる結合剤としては種々の高分子化合物を使
用することができるが、好ましくは特開昭54−986
13号公報に記載されているような芳香族性水酸基を有
する単量体、例えばN−(4−ヒドロキシフェニル)ア
クリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタク
リルアミド、o−、m−、またはp−ヒドロキシスチレ
ン、o−、m−、またはp−ヒドロキシフェニルメタク
リレート等と他の単量体との共重合体、米国特許第4,
123,276号明細書中に記載されているようなヒド
ロキシエチルアクリレート単位またはヒドロキシエチル
メタクリレート単位を主な繰り返し単位として含むポリ
マー、シェラック、ロジン等の天然樹脂、ポリビニルア
ルコール、米国特許第3,751,257号明細書中に
記載されているような線状ポリウレタン樹脂、ポリビニ
ルアルコールのフタレート化樹脂、ビスフェノールAと
エピクロルヒドリンから縮合されたエポキシ樹脂、酢酸
セルロース、セルロースアセテートフタレート等のセル
ロール誘導体が包含される。
いてもよい。 1)光架橋系感光性樹脂組成物 光架橋系感光性樹脂組成物中の感光成分は、分子中に不
飽和二重結合を有する感光性樹脂からなるもので、例え
ば米国特許第3,030,208号明細書、同3,43
5,237号明細書及び同3,622,320号明細書
等に記載されている如き、重合体主鎖中に感光基として
ポリビニルシンナメート等が挙げられる。
て、二重結合を有する単量体、または二重結合を有する
単量体と高分子バインダーとからなり、このような組成
物の代表的なものは、例えば米国特許第2,760,8
63号明細書及び同2,791,504号明細書、特開
昭59−42684号、特公平6−76444号、特開
平5−85562号等に記載されている。
組成物、メタクリル酸メチル及びポリメチルメタクリレ
ートを含む組成物、メタクリル酸メチル、ポリメチルメ
タクリレート及びポリエチレングリコールメタクリレー
トモノマーを含む組成物、メタクリル酸メチル、アルキ
ッド樹脂とポリエチレングリコールジメタクリレートモ
ノマーを含む組成物等の光重合性組成物が用いられる。
この光重合系感光性樹脂組成物には、この技術分野で通
常知られている光重合開始剤(例えばベンゾインメチル
エーテル等のベンゾイン誘導体、ベンゾフェノン等のベ
ンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体、アントラ
キノン誘導体、アクリドン誘導体等)が添加される。
脂としては、ノボラック樹脂、フェノール性水酸基を有
するビニル系重合体、特開昭55−57841号公報に
記載されている多価フェノールとアルデヒド又はケトン
との縮合樹脂等が挙げられる。本発明に使用されるノボ
ラック樹脂としては、例えばフェノール・ホルムアルデ
ヒド樹脂、クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、特開昭
55−57841号公報に記載されているようなフェノ
ール・クレゾール・ホルムアルデヒド共重合体樹脂、特
開昭55−127553号公報に記載されているような
p−置換フェノールとフェノールもしくは、クレゾール
とホルムアルデヒドとの共重合体樹脂等が挙げられる。
ン標準)は、好ましくは数平均分子量Mnが3.00×
102〜7.50×103、重量平均分子量Mwが1.
00×103〜3.00×104、より好ましくはMn
が5.00×102〜4.00×103、Mwが3.0
0×103〜2.00×104である。上記ノボラック
樹脂は単独で用いてもよいし、2種以上組合せて用いて
もよい。
める割合は5〜95重量%が好ましい。又、本発明に好
ましく用いられるフェノール性水酸基を有するビニル系
共重合体としては、該フェノール性水酸基を有する単位
を分子構造中に有する重合体であり、下記一般式[V]
〜[IX]の少なくとも1つの構造単位を含む重合体が
好ましい。
子、アルキル基又はカルボキシル基、好ましくは水素原
子を表わす。R3は水素原子、ハロゲン原子又はアルキ
ル基を表わし、好ましくは水素原子又はメチル基、エチ
ル基等のアルキル基を表わす。R4は水素原子、アルキ
ル基、アリール基又はアラルキル基を表わし、好ましく
は水素原子を表わす。Aは窒素原子又は酸素原子と芳香
族炭素原子とを連結する、置換基を有していてもよいア
ルキレン基を表わし、mは0〜10の整数を表わし、B
は置換基を有していてもよいフェニレン基又は置換基を
有してもよいナフチレン基を表わす。]
体型の構造を有するものが好ましく、前記一般式[V]
〜一般式[IX]でそれぞれ示される構造単位と組合せ
て用いることができる単量体単位としては、例えばエチ
レン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプ
レン等のエチレン系不飽和オフィレン類、例えばスチレ
ン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−ク
ロロスチレン等のスチレン類、例えばアクリル酸、メタ
クリル酸等のアクリル酸類、例えばイタコン、マレイン
酸、無水マレイン酸等の不飽和脂肪族ジカルボン酸類、
例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸−n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ド
デシル、アクリル酸−2−クロロエチル、アクリル酸フ
ェニル、α−クロロアクリル酸メチル、メタクリル酸メ
チル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸エチル等のα
−メチレン脂肪族モノカルボン酸のエステル類、例えば
アクリロニトリル、メタアクリロニトリル等のニトリル
類、例えばアクリルアミド等のアミド類、例えばアクリ
ルアニリド、p−クロロアクリルアニリド、m−ニトロ
アクリルアニリド、m−メトキシアクリルアニリド等の
アニリド類、例えば酢酸ビニル、プロピアン酸ビニル、
ベンゾエ酸ビニル、酢酸ビニル等のビニルエステル類、
例えばメチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、
イソブチルビニルエーテル、β−クロロエチルビニルエ
ーテル等のビニルエーテル類、塩化ビニル、ビニリデン
クロライド、ビニリデンシアナイド、例えば1−メチル
−1−メトキシエチレン、1,1−ジメトキシエチレ
ン、1,2−ジメトキシエチレン、1,1−ジメトキシ
カルボニルエチレン、1−メチル−1−ニトロエチレン
等のエチレン誘導体類、例えばN−ビニルピロール、N
−ビニルカルバゾール、N−ビニルインドール、N−ビ
ニルピロリデン、N−ビニルピロリドン等のN−ビニル
系単量体がある。これらのビニル系単量体は、不飽和二
重結合が開裂した構造で高分子化合物中に存在する。
のエステル類、ニトリル類が本発明の目的に対して優れ
た性能を示し、好ましい。これらの単量体は、本発明に
用いられる重合体中にブロックまたはランダムのいずれ
かの状態で結合していてもよい。
性組成物中に占める割合は0.5〜70重量%であるこ
とが好ましい。ビニル系重合体は、上記重合体を単独で
用いてもよいし、又2種以上組合せて用いてもよい。
又、他の高分子化合物等と組合せて用いることもでき
る。
光性組成物には、有機酸・無機酸・酸無水物が含有され
てもよい。本発明に使用される酸としては、例えば特開
昭60−88942号、特願昭63−293107号に
記載の有機酸と、日本化学会編「化学便覧新版」(丸善
出版)第92〜158頁に記載の無機酸が挙げられる。
有機酸の例としては、p−トルエンスルホン酸、ドデシ
ルベンゼンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、メタン
スルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼルスルホン酸、
m−ベンゼンジスルホン酸等のスルホン酸、p−トルエ
ンスルフィン酸、ベンジルスルフィン酸、メタンスルフ
ィン酸等のスルフィン酸、フェニルホスホン酸、メチル
ホスホン酸、クロルメチルホスホン酸等のホスホン酸、
ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ペンタン
酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸等の脂肪族モノカルボン
酸、シクロヘキサンカルボン酸等の脂環式モノカルボン
酸、安息香酸、o−、m−、p−ヒドロキシ安息香酸、
o−、m−、p−メトキシ安息香酸、o−、m−、p−
メチル安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、フロ
ログリシンカルボン酸、没食子酸、3,5−ジメチル安
息香酸等の芳香族モノカルボン酸が挙げられる。また、
マロン酸、メチルマロン酸、ジメチルマロン酸、コハク
酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン
酸、アゼライン酸、セバシン酸、イタコン酸、リンゴ酸
等の飽和または、不飽和脂肪族ジカルボン酸、テトラヒ
ドロフタル酸、1,1−シクロブタンジカルボン酸、
1,1−シクロペンタンジカルボン酸、1,3−シクロ
ペンタンジカルボン酸、1,1−シクロヘキサンジカル
ボン酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3
−シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環式ジカルボン
酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の芳香族
ジカルボン酸等を挙げることができる。
−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、
メシチレンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスル
ホン酸、ベンゼルスルホン酸、m−ベンゼンジスルホン
酸等のスルホン酸、またはcis−1,2−シクロヘキ
サンジカルボン酸、シリンガ酸等がある。無機酸の例と
しては、硝酸、硫酸、塩酸、ケイ酸、リン酸等が挙げら
れ、さらに好ましくは、硫酸、リン酸である。
も任意であり、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息
香酸等、脂肪族・芳香族モノカルボン酸から誘導される
もの、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水グルタル
酸、無水フタル酸等、脂肪族・芳香族ジカルボン酸から
誘導されるもの等を挙げることができる。好ましい酸無
水物は、無水グルタル酸、無水フタル酸である。これら
の化合物は、単独あるいは2種以上混合して使用でき
る。これらの酸の含有量は、全感光性組成物の全固形分
に対して、一般的に0.05〜5重量%であって、好ま
しくは、0.1〜3重量%の範囲である。
面活性剤を含んでもよい。界面活性剤としては、両性界
面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、
ノニオン界面活性剤、フッ素系界面活性剤等を挙げるこ
とができる。上記両性界面活性剤としては、ラウリルジ
メチルアミンオキサイド、ラウリルカルボキシメチルヒ
ドロキシエチル、イミダゾリニウムベタイン等がある。
アルキル硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸
塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、アルキルスルホ
コハク酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸
塩、アルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキル硫
酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルアリル硫酸
エステル塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、
ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル等がある。
ミン塩、第4級アンモニウム塩、アルキルベタイン等が
ある。ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシエチレ
ンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリ
ルエーテル、ポリオキシエチレン誘導体、オキシエチレ
ン・オキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン
脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸
エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エス
テル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン
脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、
アルキルアルカノールアミド等がある。
肪族基を含むアクリレートまたはメタアクリレートおよ
び(ポリオキシアルキレン)アクリレートまたは(ポリ
オキシアルキレン)メタアクリレートの共重合体等があ
る。これらの化合物は、単独あるいは2種以上混合して
使用することができる。特に好ましくはFC−430
(住友3M(株)製)フッ素系ポリエチレングリコール
#−2000(関東化学(株)製)である。感光性組成
物中に占める割合は、0.01〜10重量%であること
が好ましく、さらに好ましくは0.01〜5重量%で使
用される。
は、露光により可視画像を形成させるプリントアウト材
料を添加することができる。プリントアウト材料は露光
により酸もしくは遊離基を生成する化合物と相互作用す
ることによってその色調を変える有機染料よりなるもの
で、露光により酸もしくは遊離基を生成する化合物とし
ては、例えば特開昭50−36209号公報に記載のo
−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニド、
特開昭53−36223号公報に記載されているo−ナ
フトキノンジアジド−4−スルホン酸クロライドと電子
吸引性置換基を有するフェノール類、またはアニリン酸
とのエステル化合物またはアミド化合物、特開昭55−
77742号公報、特開昭57−148784号公報等
に記載のハロメチルビニルオキサジアゾール化合物及び
ジアゾニウム塩等が挙げられる。
合物)本発明の感光性組成物に用いることができる、露
光により酸または遊離基を生成する化合物としては、例
えば、ハロメチルオキサジアゾール化合物、ハロメチル
−s−トリアジン化合物等が用いられる。
オキサジアゾール類にハロメチル基、好ましくはトリク
ロロメチル基を有する化合物である。これらの化合物は
公知であり、例えば特公昭57−6096号公報、同6
1−51788号公報、特公平1−28369号公報、
特開昭60−138539号公報、同60−17734
0号公報、同60−241049号公報等に記載されて
いる。
とは、s−トリアジン環に1以上のハロメチル基、好ま
しくはトリクロロメチル基を有する化合物である。本発
明の感光性組成物中における前記露光により酸又は遊離
基を生成する化合物の添加量は、0.01〜30重量%
が好ましく、より好ましくは、0.1〜10重量%であ
り、特に好ましくは、0.2〜3重量%である。これら
の化合物は、単独あるいは2種以上混合して使用でき
る。
に色素を用いることができる。該色素は、露光による可
視画像(露光可視画像)と現像後の可視画像を得ること
を目的として使用される。
と反応して色調を変化するものが好ましく使用できる。
ここに「色調が変化する」とは、無色から有色の色調へ
の変化、有色から無色あるいは異なる有色の色調への変
化のいずれをも包含する。好ましい色素は酸と塩を形成
して色調を変化するものである。例えば、ビクトリアピ
ュアブルーBOH(保土谷化学社製)、オイルブルー#
603(オリエント化学工業社製)、パテントピュアブ
ルー(住友三国化学社製)、クリスタルバイオレット、
ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルバ
イオレット、メチルグリーン、エリスロシンB、ペイシ
ックフクシン、マラカイトグリーン、オイルレッド、m
−クレゾールパープル、、ローダミンB、オーラミン、
4−p−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノン、シ
アノ−p−ジエチルアミノフェニルアセトアニリド等に
代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン
系、アゾメチン系またはアントラキノン系の色素が有色
から無色あるいは異なる有色の色調へ変化する変色剤の
例として挙げられる。
ては、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジ
フェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−ト
リフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフ
ェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェ
ニルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,p′,
p″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、
p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミ
ン、p,p′,p″−トリアミノ−o−メチルトリフェ
ニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニ
ル−4−アニリノナフチルメタン、p,p′,p″−ト
リアミノトリフェニルメタンに代表される第1級または
第2級アリールアミン系色素が挙げられる。上記の変色
剤の感光性組成物中に占める割合は、0.01〜10重
量%であることが好ましく、更に好ましくは0.02〜
5重量%で使用される。これらの化合物は、単独あるい
は2種以上混合して使用できる。尚、特に好ましい色素
は、ビクトリアピュアブルーBOH、オイルブルー#6
03である。
ための感脂化剤(例えば、特開昭55−527号公報記
載のスチレン−無水マレイン酸共重合体のアルコールに
よるハーフエステル化物、p−t−ブチルフェノール−
ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂、あるいはこ
れらとo−キノンジアジド化合物との部分エステル化
物、フッ素系界面活性剤、p−ヒドロキシスチレンの5
0%脂肪酸エステル等)、等が好ましく用いられる。こ
れらの添加剤の添加量はその使用対象、目的によって異
なるが、一般には全固形分に対して、0.01〜30重
量%である。
を溶解する際に使用し得る溶媒としては、メタノール、
エタノール、n−プロパノール、i−プロパノール、n
−ブタノール、n−ペンタノール、ヘキサノール等の脂
肪族アルコール類、アリルアルコール、ベンジルアルコ
ール、アニソール、フェネトール、n−ヘキサン、シク
ロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン等の
炭化水素類、ジアセトンアルコール、3−メトキシ−1
−ブタノール、4−メトキシ−1−ブタノール、3−エ
トキシ−1−ブタノール、3−メトキシ−3−メチル−
1−ブタノール、3−メトキシ−3−エチル−1−1ペ
ンタノール−4−エトキシ−1−ペンタノール、5−メ
トキシ−1−ヘキサノール、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルプロピルケトン、ジエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、メチルペンチルケトン、メチルヘキ
シルケトン、エチルブチルケトン、ジブチルケトン、シ
クロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキ
サノン、γ−ブチロラクトン、3−ヒドロキシ−2−ブ
タノン、4−ヒドロキシ−2−ブタノン、4−ヒドロキ
シ−2−ペンタノン、5−ヒドロキシ−2−ペンタノ
ン、4−ヒドロキシ−3−ペンタノン、6−ヒドロキシ
−2−ヘキサノン、3−メチル−3−ヒドロキシ−2−
ペンタノン、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、エチレングリコールモノア
セテート、エチレングリコールジアセテート、プロピレ
ングリコールモノアセテート、プロピレングリコールジ
アセテート、エチレングリコールアルキルエーテル類お
よびそのアセテート(MC、EC、ブチルセロソルブ、
フェニルセロソルブ、エチレングリコールジメチルエー
テル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレン
グリコールジブチルエーテル、MCアセテート、ECア
セテート)、ジエチレングリコールモノアルキルエーテ
ル類およびそのアセテート(ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、モノエチルエーテル、モノi−プロピ
ルエーテル、モノブチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート等)、ジエチレングリ
コールジアルキルエーテル類(DMDG、DEDG、D
BDG、MEDG)、トリエチレングリコールアルキル
エーテル類(モノメチルエーテル、モノエチルエーテ
ル、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチルエチ
ルエーテル等)、プロピレングリコールアルキルエーテ
ル類およびそのアセテート(モノメチルエーテル、モノ
エチルエーテル、n−プロピルエーテル、モノブチルエ
ーテル、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノメ
チルエーテルアセテート、モノエチルエーテルアセテー
ト等)、ジプロピレングリコールアルキルエーテル類
(モノメチルエーテル、モノエチルエーテル、n−プロ
ピルエーテル、モノブチルエーテル、ジメチルエーテ
ル、ジエチルエーテル)、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、
ギ酸ブチル、ギ酸アミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピ
オン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチル等のカルボン酸
エステル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、ジオキサン、テトラヒドロフラン、乳酸メチル、
乳酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、炭酸プ
ロピレン等が挙げられる。これらの溶媒は、単独あるい
は2種以上混合して使用できる。
発明及び第6の選択発明においては、感光性組成物を溶
解する溶剤(上記溶媒)中に、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、メチルエチルケトン、乳酸メチル、
ジエチルカルビトールより選ばれた少なくとも一つを含
有することが好ましい。
は、上記感光層上に皮膜形成能を有する水不溶性で有機
溶媒可溶性の高分子化合物から成る被覆層を形成するこ
とができる。上記のようにして設けられた感光層の表面
には、真空焼き枠を用いた密着露光の際の真空引きの時
間を短縮し、且つ焼きボケを防ぐため、マット層を設け
ることが好ましい。具体的には、特開昭50−1258
05号、特公昭57−6582号、同61−28986
号の各公報に記載されているようなマット層を設ける方
法、特公昭62−62337号公報に記載されているよ
うな固体粉末を熱融着させる方法等が挙げられる。
おける画像フィルムと感光性平版印刷版との真空密着性
を改良することにより、真空引き時間を短縮し、さらに
密着不良による露光時の微小網点のつぶれを防止するこ
とである。マット層の塗布方法としては、特開昭55−
12974号に記載されているパウダリングされた固体
粉末を熱融着する方法、特開昭58−182636号に
記載されているポリマー含有水をスプレーし乾燥させる
方法等があり、どの方法でもよいが、マット層自体がア
ルカリ現像液に溶解するか、あるいはこれにより除去可
能な物が望ましい。
層を支持体表面に塗布する際に用いる塗布方法として
は、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイヤーバー
塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、
ブレード塗布及びカーテン塗布等が用いられる。
版の使用に際しては、従来から常用されている方法を適
用することができ、例えば線画像、網点画像などを有す
る透明原画を感光面に密着して露光し、次いでこれを適
当な現像液を用いて非画像部の感光性層を除去すること
によりレリーフ像が得られる。露光に好適な光源として
は、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、
ケミカルランプ、カーボンアーク灯などが使用される。
版の処理(現像)に用いられる現像液、現像補充液は何
れもアルカリ金属珪酸塩を含むものである。アルカリ金
属珪酸塩のアルカリ金属としては、リチウム、ナトリウ
ム、カリウムが含まれるが、このうちカリウムが最も好
ましい。
に合わせて、適当に現像補充液が補充されることが好ま
しい。好ましい現像液、現像補充液は、〔SiO2〕/
〔M〕(式中、〔SiO2〕はSiO2のモル濃度を示
し、〔M〕はアルカリ金属のモル濃度を示す)が0.5
〜2.0、特に0.15〜1.0であり、SiO2濃度
が総重量に対して0.5〜5.0重量%であるアルカリ
金属珪酸塩の水溶液である。また、特に好ましくは、現
像液の〔SiO2〕/〔M〕が0.25〜0.75であ
り、SiO2濃度が1.0〜4.0重量%、現像補充液
の〔SiO2〕/〔M〕が0.15〜0.5であり、S
iO2濃度が1.0〜3.0重量%である。
アルカリ可溶性の有機および無機の還元剤を含有させる
ことができる。有機の還元剤としては、例えば、ハイド
ロキノン、メトール、メトキシキノン等のフェノール化
合物、フェニレンジアミン、フェニルヒドラジン等のア
ミン化合物を挙げることができ、無機の還元剤として
は、例えば、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫
酸アンモニウム、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素カ
リウム等の亜硫酸塩、亜リン酸ナトリウム、亜リン酸カ
リウム、亜リン酸水素ナトリウム、亜リン酸水素カリウ
ム、亜リン酸二水素ナトリウム、亜リン酸二水素カリウ
ム等の亜リン酸塩、ヒドラジン、チオ硫酸ナトリウム、
亜ジチオン酸ナトリウム等を挙げることができる。これ
ら水溶性又はアルカリ可溶性還元剤は、現像液、現像補
充液に0.05〜10重量%を含有させることができ
る。
ルボン酸を含有させることができる。これら有機酸カル
ボン酸には、炭素原子数6〜20の脂肪族カルボン酸、
およびベンゼン環またはナフタレン環にカルボキシル基
が置換した芳香族カルボン酸が包含される。
0のアルカン酸が好ましく、具体的な例としては、カプ
ロン酸、エナンチル酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カ
プリン酸、ラウリン酸、ミスチリン酸、パルミチン酸、
ステアリン酸等が挙げられ、特に好ましくは、炭素数6
〜12のアルカン酸である。また、脂肪族カルボン酸
は、炭素鎖中に二重結合を有する脂肪酸であっても、枝
分れした炭素鎖を有する脂肪酸であってもよい。上記脂
肪族カルボン酸はナトリウムやカリウムの塩またはアン
モニウム塩として用いてもよい。
は、安息香酸、o−クロロ安息香酸、p−クロロ安息香
酸、o−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒドロキシ安息香
酸、p−tert−ブチル安息香酸、o−アミノ安息香
酸、p−アミノ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香
酸、2,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロ
キシ安息香酸、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、3,5
−ジヒドロキシ安息香酸、没食子酸、1−ヒドロキシ−
2−ナフトエ酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、2
−ヒドロキシ−1−ナフトエ酸、1−ナフトエ酸、2−
ナフトエ酸等が挙げられる。上記芳香族カルボン酸はナ
トリウムやカリウムの塩またはアンモニウム塩として用
いてもよい。脂肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸の含
有量は少なくとも0.1〜30重量%を含有させること
ができる。
オン型、ノニオン型、カチオン型の各界面活性剤および
有機溶媒を含有させることができる。更に、現像液、現
像補充液には、公知の添加物を添加することができる。
に説明する。 実施例1−1 厚さ0.3mmのアルミニウム板(材質1050、調質
H16)を、85℃に保たれた10%水酸化ナトリウム
水溶液中に浸漬し、1分間脱脂処理を行った後、水洗し
た。この脱脂したアルミニウム板を、25℃に保たれた
10%硫酸水溶液中に1分間浸漬し、デスマット処理し
た後、水洗した。次いでこのアルミニウム板に、平均粒
径10μmのAl2O3粒子を水に容積比で10部にな
るように混合し攪拌機にて均一に分散させた分散液を、
口径が直径2mmの60個のノズルより圧力6kg/c
m2で射出し、アルミニウム板表面に対して100mm
の距離から30度の角度で衝突させた。その後、70℃
に保たれた10%水酸化ナトリウム水溶液中で10秒間
浸漬し、次いで25℃に保たれた10%硫酸水溶液中に
10秒間浸漬し、デスマット処理した後、水洗した。次
いでこのアルミニウム板を、1.0%の硝酸水溶液中に
おいて、温度30℃、電流密度80A/dm2の条件で
交流電流により30秒間電解粗面化した。その後、70
℃に保たれた10%水酸化ナトリウム水溶液中で10秒
間浸漬し、次いで25℃に保たれた10%硫酸水溶液中
に10秒間浸漬し、デスマット処理した後、水洗した。
次いで、20%硫酸水溶液中で、温度35℃、電流密度
3A/dm2の条件で1分間陽極酸化処理を行った。そ
の後、80℃に保たれた0.1%酢酸アンモニウム水溶
液中に30秒間浸漬し封孔処理を行い、80℃で5分間
乾燥してアルミニウム支持体1−1を得た。
を、常法により電子顕微鏡にて倍率200倍で撮影観察
したところ、凹部は長さ32〜40μm、幅8〜10μ
m、間隔150〜180μmで約4.0×103個/c
m2有することが確認された。倍率3500倍で撮影観
察したところ深さ4〜5μmであることが確認された。
イヤーバーを用いて塗布し、80℃で2分間乾燥し、感
光性平版印刷版を得た。このとき、感光性組成物塗布液
は乾燥重量として2.0g/m2となるようにした。
ハライドランプを使用し、8mW/cm2で60秒間照
射することにより露光した。この露光済みの感光性平版
印刷版を、市販されている現像液(SDR−1、コニカ
(株)製、6倍に希釈、現像時間20秒、現像温度27
℃)で現像した。このようにして得られた平版印刷版に
ついて、印刷を行ったところ表1に示した結果が得られ
た。
射出、衝突させた以外は実施例1−1と同様にしてアル
ミニウム支持体1−2を得た。得られたアルミニウム支
持体1−2の表面を、常法により電子顕微鏡にて倍率2
00倍で撮影観察したところ、凹部は長さ31〜35μ
m、幅8〜10μm、間隔150〜180μmで約4.
0×103個/cm2有することが確認された。倍率3
500倍で撮影観察したところ深さ2〜2.5μmであ
ることが確認された。実施例1−1と同様にして感光性
組成物を塗布し、露光、現像を行い印刷を行った。
30℃、電流密度100A/dm2の条件で交流電流に
より60秒間行った以外は実施例1−1と同様にしてア
ルミニウム支持体1−3を得た。得られたアルミニウム
支持体1−3の表面を、常法により電子顕微鏡にて倍率
200倍で撮影観察したところ、凹部は長さ32〜40
μm、幅8〜10μm、間隔150〜180μmで約
4.0×103個/cm2有することが確認された。倍
率3500倍で撮影観察したところ深さ4〜5μmであ
ることが確認された。実施例1−1と同様にして感光性
組成物を塗布し、露光、現像を行い印刷を行った。
部になるように混合し攪拌機にて均一に分散させた分散
液を、口径が直径2mmの60個のノズルより圧力10
kg/cm2で射出し、アルミニウム板表面に対して1
00mmの距離から30℃の角度で衝突させた以外は実
施例1と同様にしてアルミニウム支持体1−4を得た。
得られたアルミニウム支持体1−4の表面を、常法によ
り電子顕微鏡にて倍率200倍で撮影観察したところ、
凹部は長さ55〜60μm、幅18〜20μm、間隔5
0〜80μmで約20.0×103個/cm2有するこ
とが確認された。倍率3500倍で撮影観察したところ
深さ8〜10μmであることが確認された。実施例1−
1と同様にして感光性組成物を塗布し、露光、現像を行
い印刷を行った。
なるように混合し攪拌機にて均一に分散させた分散液
を、口径が直径2mmの60個のノズルより圧力3kg
/cm2で射出し、アルミニウム板表面に対して100
mmの距離から30℃の角度で衝突させた以外は実施例
1−1と同様にしてアルミニウム支持体1−5を得た。
得られたアルミニウム支持体1−5の表面を、常法によ
り電子顕微鏡にて倍率200倍で撮影観察したところ、
凹部は長さ15〜20μm、幅3〜4μm、間隔300
〜400μmで約1.0×103個/cm2有すること
が確認された。倍率3500倍で撮影観察したところ深
さ2〜2.5μmであることが確認された。実施例1−
1と同様にして感光性組成物を塗布し、露光、現像を行
い印刷を行った。
に説明する。 実施例2−1 厚さ0.3mmのアルミニウム板(材質1050、調質
H16)を、85℃に保たれた10%水酸化ナトリウム
水溶液中に浸漬し、1分間脱脂処理を行った後、水洗し
た。この脱脂したアルミニウム板を、25℃に保たれた
10%硫酸水溶液中に1分間浸漬し、デスマット処理し
た後、水洗した。次いでこのアルミニウム板を、1.0
%の塩酸水溶液中において、温度30℃、電流密度10
0A/dm2の条件で交流電流により60秒間電解粗面
化した。その後、70℃に保たれた10%水酸化ナトリ
ウム水溶液中で10秒間浸漬し、次いで25℃に保たれ
た10%硫酸水溶液中に10秒間浸漬し、デスマット処
理した後、水洗した。次いでこのアルミニウム板を、
0.5%の硝酸水溶液中において、温度30℃、電流密
度50A/dm2の条件で交流電流により30秒間電解
粗面化した。その後70℃に保たれた10%水酸化ナト
リウム水溶液中で10秒間浸漬し、次いで25℃に保た
れた10%硝酸水溶液中に10秒間浸漬し、デスマット
処理した後、水洗した。次いで、20%硫酸水溶液中
で、温度35℃、電流密度3A/dm2の条件で1分間
陽極酸化処理を行った。その後、80℃に保たれた0.
1%の酢酸アンモニウム水溶液中に30秒間浸漬し封孔
処理を行い、80℃で5分間乾燥してアルミニウム支持
体2−1を得た。
を、常法により電子顕微鏡にて倍率1000倍で撮影観
察したところ、第一次ピットの直径は6〜10μmであ
ることが確認された。倍率10000倍で撮影観察した
ところ、第二次ピットの直径は800〜1000nmで
あることが確認された。実施例1−1と同様にして感光
性組成物を塗布し、露光、現像を行い印刷を行った。
水酸化ナトリウム水溶液処理、硫酸水溶液処理を行わな
かった以外は実施例2−1と同様にしてアルミニウム支
持体2−2を得た。得られたアルミニウム支持体2−2
の表面を、常法により電子顕微鏡にて倍率1000倍で
撮影観察したところ、ピットの直径は6〜10μmであ
ることが確認された。倍率10000倍で撮影観察した
ところ、ピットは確認できなかった。実施例1−1と同
様にして感光性組成物を塗布し、露光、現像を行い印刷
を行った。
水酸化ナトリウム水溶液処理、硫酸水溶液処理を行わな
かった以外は実施例2−1と同様にしてアルミニウム支
持体2−3を得た。得られたアルミニウム支持体2−3
の表面を、常法により電子顕微鏡にて倍率1000倍で
撮影観察したところ、ピットは確認できなかった。倍率
10000倍で撮影観察したところ、ピットの直径は8
00〜1000nmであることが確認された。実施例1
−1と同様にして感光性組成物を塗布し、露光、現像を
行い印刷を行った。
中において、温度60℃、電流密度300A/dm2の
条件で交流電流により70秒間行い、硝酸水溶液中での
粗面化を、2.0%の硝酸水溶液中において、温度60
℃、電流密度200A/dm2の条件で交流電流により
60秒間行った以外は実施例2−1と同様にしてアルミ
ニウム支持体2−4を得た。得られたアルミニウム支持
体2−4の表面を、常法により電子顕微鏡にて倍率10
00倍で撮影観察したところ、第一次ピットの直径は1
3〜15μmであることが確認された。倍率10000
倍で撮影観察したところ、第二次ピットの直径は130
0〜1700nmであることが確認された。実施例1−
1と同様にして感光性組成物を塗布し、露光、現像を行
い印刷を行った。
AIYA1F−1)にかけコート紙、湿し水(東京イン
キ(株)製エッチ液SG−51 濃度1.5%)、イン
キ(東洋インキ製造(株)製ハイプラスM紅)を使用し
て印刷を行い、印刷物の画像部にインキ着肉不良が現れ
るか非画像部にインキが付着するまで印刷を行いその時
の印刷枚数を求め、耐刷性を評価した。
を開始し、きれいで完全な画像が得られる枚数を評価し
た。
刷機を停止し、1時間放置した後、印刷を開始し、発生
した微点状の汚れを100cm2内の個数で評価した。
行ったときの、印刷物上のスクリーン線数150lin
e/inchの50%網点の面積を測定し、印刷版上の
50%網点の面積からのゲイン量を評価した。面積の測
定はマクベス濃度計で行った。
行ったときの、印刷物上のスクリーン線数150lin
e/inchの80%網点の濃度を測定し、以下の式を
用いて評価した。濃度の測定はマクベス濃度計で行っ
た。 K値=(画像部濃度−80%網点濃度)/画像部濃度 K値は大きいほど高濃度網点部の再現性がよい。
下記のネガ型感光性組成物塗布液を用い、他は同様の実
験を行った結果、実施例1−1と同様の効果が得られ
た。
H16)を、85℃に保たれた10%水酸化ナトリウム
水溶液中に浸漬し、1分間脱脂処理を行った後、水洗し
た。この脱脂したアルミニウム板を、25℃に保たれた
10%硫酸水溶液中に1分間浸漬し、デスマット処理し
た後、水洗した。次いでこのアルミニウム板を、0.4
5%の硝酸水溶液中において、温度30℃、電流密度5
0A/dm2の条件で交流電流により30秒間電解粗面
化した。その後70℃に保たれた10%水酸化ナトリウ
ム水溶液中で10秒間浸漬し、次いで25℃に保たれた
10%硫酸水溶液中に10秒間浸漬し、デスマット処理
した後、水洗した。次いで、20%硫酸水溶液中で、温
度35℃、電流密度3A/dm2の条件で1分間陽極酸
化処理を行った。その後、80℃に保たれた0.1%の
酢酸アンモニウム水溶液中に30秒間浸漬し封孔処理を
行い、80℃で5分間乾燥してアルミニウム支持体3−
1を得た。
を、常法により電子顕微鏡にて倍率10000倍で撮影
観察したところ、ピットの平均直径は800nmである
ことが確認された。次に、下記組成の感光性組成物塗布
液をワイヤーバーを用いて塗布し、80℃で2分間乾燥
し、感光性平版印刷版を得た。このとき、感光性組成物
塗布液は乾燥重量として2.0g/m2となるようにし
た。
4kwメタルハライドランプを使用し、8mW/cm2
で60秒間照射することにより露光した。この露光済み
の感光性平版印刷版を、市販されている現像液(SDR
−1、コニカ(株)製、6倍に希釈、現像時間20秒、
現像温度27℃)で現像した。このようにして得られた
平版印刷版について、印刷を行ったところ表4に示した
結果が得られた。
/プロピレングリコールモノメチルエーテルをメチルセ
ロソルブに代えた以外は実施例3−1と同様にして感光
性平版印刷版を得た。実施例3−1と同様にして露光、
現像を行い印刷を行った。結果を表4に示す。
た以外は実施例3−1と同様にして感光性平版印刷版を
得た。実施例3−1と同様にして露光、現像を行い印刷
を行った。結果を表4に示す。
0℃、電流密度200A/dm2の条件で交流電流によ
り70秒間行った以外は実施例3−1と同様にして感光
性平版印刷版を得た。得られたアルミニウム支持体の表
面を、常法により電子顕微鏡にて倍率10000倍で撮
影観察したところ、ピットの平均直径は1700nmで
あることが確認された。実施例3−1と同様にして露
光、現像を行い印刷を行った。結果を表4に示す。
0℃、電流密度200A/dm2の条件で交流電流によ
り70秒間行い、さらに感光性組成物中の高分子化合物
3を除いた以外は実施例3−1と同様にして感光性平版
印刷版を得た。実施例3−1と同様にして露光、現像を
行い印刷を行った。結果を表4に示す。
(イーストマンコダック社製No.2、濃度差0.15
ずつで21段階のグレースケール)を密着して、光源と
して4kwメタルハライドランプを使用し、8mW/c
m2で照射することにより露光した。この露光済の感光
性平版印刷版を、市販されている現像液(SDR−1、
コニカ(株)製、6倍に希釈、現像時間20秒、現像温
度27℃)で現像した。上記ステップタブレットの3.
0段が完全にクリアになる露光時間をもって感度とし
た。
に説明する。 実施例4−1 厚さ0.3mmのアルミニウム板(材質1050、調質
H16)を、85℃に保たれた10%水酸化ナトリウム
水溶液中に浸漬し、1分間脱脂処理を行った後、水洗し
た。この脱脂したアルミニウム板を、25℃に保たれた
10%硫酸水溶液中に1分間浸漬し、デスマット処理し
た後、水洗した。次いでこのアルミニウム板を、0.4
5%の硝酸水溶液中において、温度30℃、電流密度5
0A/dm2の条件で交流電流により30秒間電解粗面
化した。その後70℃に保たれた10%水酸化ナトリウ
ム水溶液中で10秒間浸漬し、次いで25℃に保たれた
10%硫酸水溶液中に10秒間浸漬し、デスマット処理
した後、水洗した。次いで、20%硫酸水溶液中で、温
度35℃、電流密度3A/dm2の条件で1分間陽極酸
化処理を行った。その後、80℃に保たれた0.1%の
酢酸アンモニウム水溶液中に30秒間浸漬し封孔処理を
行い、80℃で5分間乾燥してアルミニウム支持体4−
1を得た。
を、常法により電子顕微鏡にて倍率10000倍で撮影
観察したところ、ピットの平均直径は800nmである
ことが確認された。次に、下記組成の感光性組成物塗布
液をワイヤーバーを用いて塗布し、80℃で2分間乾燥
し、感光性平版印刷版を得た。このとき、感光性組成物
塗布液は乾燥重量として2.0g/m2となるようにし
た。
4kwメタルハライドランプを使用し、8mW/cm2
で60秒間照射することにより露光した。この露光済み
の感光性平版印刷版を、市販されている現像液(SDR
−1、コニカ(株)製、6倍に希釈、現像時間20秒、
現像温度27℃)で現像した。このようにして得られた
平版印刷版について、印刷を行ったところ表5に示した
結果が得られた。
/プロピレングリコールモノメチルエーテルをメチルセ
ロソルブに代えた以外は実施例4−1と同様にして感光
性平版印刷版を得た。実施例4−1と同様にして露光、
現像を行い印刷を行った。結果を表5に示す。
β−シクロデキストリンを除いた以外は実施例4−1と
同様にして感光性平版印刷版を得た。実施例4−1と同
様にして露光、現像を行い印刷を行った。結果を表5に
示す。
0℃、電流密度200A/dm2の条件で交流電流によ
り70秒間行った以外は実施例4−1と同様にして感光
性平版印刷版を得た。得られたアルミニウム支持体の表
面を、常法により電子顕微鏡にて倍率10000倍で撮
影観察したところ、ピットの平均直径は1700nmで
あることが確認された。実施例4−1と同様にして露
光、現像を行い印刷を行った。結果を表5に示す。
(SDR−1、コニカ(株)製)を標準希釈6倍のとこ
ろ、10倍に希釈し、現像時間20秒、現像温度27℃
で現像した。露光された感光層が完全に現像除去されて
いるか確認した。 判定基準 ○:完全に現像除去されている ×:現像除去されていない
に説明する。 実施例5−1 厚さ0.3mmのアルミニウム板(材質1050、調質
H16)を、85℃に保たれた10%水酸化ナトリウム
水溶液中に浸漬し、1分間脱脂処理を行った後、水洗し
た。この脱脂したアルミニウム板を、25℃に保たれた
10%硫酸水溶液中に1分間浸漬し、デスマット処理し
た後、水洗した。次いでこのアルミニウム板を、0.4
5%の硝酸水溶液中において、温度30℃、電流密度5
0A/dm2の条件で交流電流により30秒間電解粗面
化した。その後70℃に保たれた10%水酸化ナトリウ
ム水溶液中で10秒間浸漬し、次いで25℃に保たれた
10%硫酸水溶液中に10秒間浸漬し、デスマット処理
した後、水洗した。次いで、20%硫酸水溶液中で、温
度35℃、電流密度3A/dm2の条件で1分間陽極酸
化処理を行った。その後、80℃に保たれた0.1%の
酢酸アンモニウム水溶液中に30秒間浸漬し封孔処理を
行い、80℃で5分間乾燥してアルミニウム支持体5−
1を得た。
を、常法により電子顕微鏡にて倍率10000倍で撮影
観察したところ、ピットの平均直径は800nmである
ことが確認された。次に、下記組成の感光性組成物塗布
液をワイヤーバーを用いて塗布し、80℃で2分間乾燥
し、感光性平版印刷版を得た。このとき、感光性組成物
塗布液は乾燥重量として2.0g/m2となるようにし
た。
4kwメタルハライドランプを使用し、8mW/cm2
で60秒間照射することにより露光した。この露光済み
の感光性平版印刷版を、市販されている現像液(SDR
−1、コニカ(株)製、6倍に希釈、現像時間20秒、
現像温度27℃)で現像した。このようにして得られた
平版印刷版について、印刷を行ったところ表6に示した
結果が得られた。
/プロピレングリコールモノメチルエーテルをメチルセ
ロソルブに代えた以外は実施例5−1と同様にして感光
性平版印刷版を得た。実施例5−1と同様にして露光、
現像を行い印刷を行った。結果を表6に示す。
K−CLを除いた以外は実施例5−1と同様にして感光
性平版印刷版を得た。実施例5−1と同様にして露光、
現像を行い印刷を行った。結果を表6に示す。
0℃、電流密度200A/dm2の条件で交流電流によ
り70秒間行った以外は実施例5−1と同様にして感光
性平版印刷版を得た。得られたアルミニウム支持体の表
面を、常法により電子顕微鏡にて倍率10000倍で撮
影観察したところ、ピットの平均直径は1700nmで
あることが確認された。実施例5−1と同様にして露
光、現像を行い印刷を行った。結果を表6に示す。
(イーストマンコダック社製No.2、濃度差0.15
ずつで21段階のグレースケール)を密着して、光源と
して4kwメタルハライドランプを使用し、8mW/c
m2で照射することにより露光した。この露光済の感光
性平版印刷版を、市販されている現像液(SDR−1、
コニカ(株)製、6倍に希釈、現像時間20秒、現像温
度27℃)で現像した。上記ステップタブレットの5.
0段が完全にクリアになる露光時間で現像したときのF
OGRA再現性をもって解像性とした。またスクリーン
線数150Line/Inchの50%網点の版上の面
積を測定した。面積の測定はマクベス濃度計で行った。
解像性は細線再現がより小さいμmになる程、また網点
面積率は50%に近い程、小点再現性が良好である。
に説明する。 実施例6−1 実施例5−1の感光性組成物中に高分子化合物3(前記
実施例3−1参照)を0.20gとヒドロキシプロピル
−β−シクロデキストリンを0.20g加えた以外は実
施例5−1と同様にして感光性平版印刷版を得た。実施
例5−1と同様にして露光、現像を行い印刷を行った。
結果を表7に示す。
/プロピレングリコールモノメチルエーテルをメチルセ
ロソルブに代えた以外は実施例6−1と同様にして感光
性平版印刷版を得た。実施例6−1と同様にして露光、
現像を行い印刷を行った。結果を表7に示す。
く、水が絞れ、ドットゲインが良好であり、汚れにく
く、且つ全面汚し回復性が良好であり、調子再現性が良
好である平版印刷版用支持体及びその製造方法並びに感
光性平版印刷版を提供できる。さらに第4の発明によれ
ば、前記効果に加えて現像性にも優れた感光性平版印刷
版を提供できる。さらにまた第5及び第6の発明によれ
ば、前記効果に加えて小点再現性にも優れた感光性平版
印刷版を提供できる。
Claims (13)
- 【請求項1】粗面化、陽極酸化処理を施されたアルミニ
ウム板から得られる平版印刷版用支持体において、該粗
面に、長さ30〜50μm、幅5〜15μmの凹部を1
00〜200μmの間隔で、2.5×103〜10×1
03個/cm2有することを特徴とする平版印刷版用支
持体。 - 【請求項2】長さ30〜50μm、幅5〜15μmの凹
部の深さが3〜6μmであることを特徴とする請求項1
記載の平版印刷版用支持体。 - 【請求項3】請求項1又は2の凹部を機械的粗面化によ
り形成させた後、硝酸系電解液中で電気化学的に粗面化
を行うことを特徴とする平版印刷版用支持体の製造方
法。 - 【請求項4】粗面化、陽極酸化処理を施されたアルミニ
ウム板から得られる平版印刷版用支持体において、該粗
面が、直径5〜12μmの第一次ピットと、直径600
〜1200nmの第二次ピットを有することを特徴とす
る平版印刷版用支持体。 - 【請求項5】直径5〜12μmの第一次ピットを、塩酸
系電解液中で、直径600〜1200nmの第二次ピッ
トを硝酸系電解液中でそれぞれ電気化学的粗面化により
形成することを特徴とする平版印刷版用支持体の製造方
法。 - 【請求項6】請求項1〜5のいずれかに記載の平版印刷
版用支持体上に、感光性組成物を含む感光層を塗設して
成る感光性平版印刷版。 - 【請求項7】粗面化、陽極酸化処理を施されたアルミニ
ウム板に感光性組成物を含む感光層を塗設して成る感光
性平版印刷版において、粗面化により形成されるピット
の平均直径が600〜1000nmであり、前記感光性
組成物がo−キノンジアジド化合物と下記一般式[I]
で表される構造単位を含む重合体とを含有することを特
徴とする感光性平版印刷版。 【化1】 式中、R1〜R4は水素原子、アルキル基又はフェニル
基を表す。 - 【請求項8】粗面化、陽極酸化処理を施されたアルミニ
ウム板に感光性組成物を含む感光層を塗設して成る感光
性平版印刷版において、粗面化により形成されるピット
の平均直径が600〜1000nmであり、前記感光性
組成物がo−キノンジアジド化合物と包接化合物とを含
有することを特徴とする感光性平版印刷版。 - 【請求項9】粗面化、陽極酸化処理を施されたアルミニ
ウム板に感光性組成物を含む感光層を塗設して成る感光
性平版印刷版において、粗面化により形成されるピット
の平均直径が600〜1000nmであり、前記感光性
組成物がo−キノンジアジド化合物と紫外線吸収染料と
を含有することを特徴とする感光性平版印刷版。 - 【請求項10】粗面化、陽極酸化処理を施されたアルミ
ニウム板に感光性組成物を含む感光層を塗設して成る感
光性平版印刷版において、粗面化により形成されるピッ
トの平均直径が600〜1000nmであり、前記感光
性組成物がo−キノンジアジド化合物と下記一般式
[I]で表される構造単位を含む重合体と包接化合物と
紫外線吸収染料とを含有することを特徴とする感光性平
版印刷版。 【化2】 式中、R1〜R4は水素原子、アルキル基又はフェニル
基を表す。 - 【請求項11】前記包接化合物が、シクロデキストリ
ン、シクロデキストリン誘導体から選ばれた少なくとも
一つであることを特徴とする請求項8又は10記載の感
光性平版印刷版。 - 【請求項12】前記紫外線吸収染料が、300〜600
nmの光に光学的に不活性であり、かつ吸収波長が42
0〜520nmの間に吸光度0.1以上の吸収極大が存
在し、かつ該吸収極大の最大値が吸収波長400nmに
おける吸光度の値の2倍以上であることを特徴とする請
求項9又は10記載の感光性平版印刷版。 - 【請求項13】前記感光性組成物を溶解する溶剤中に、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルエチ
ルケトン、乳酸メチル、ジエチルカルビトールより選ば
れた少なくとも一つを含有することを特徴とする請求項
7〜12の何れかに記載の感光性平版印刷版。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP13105195A JP3532297B2 (ja) | 1995-05-01 | 1995-05-01 | 平版印刷版用支持体及びその製造方法並びに感光性平版印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13105195A JP3532297B2 (ja) | 1995-05-01 | 1995-05-01 | 平版印刷版用支持体及びその製造方法並びに感光性平版印刷版 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08300844A true JPH08300844A (ja) | 1996-11-19 |
JP3532297B2 JP3532297B2 (ja) | 2004-05-31 |
Family
ID=15048870
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13105195A Expired - Lifetime JP3532297B2 (ja) | 1995-05-01 | 1995-05-01 | 平版印刷版用支持体及びその製造方法並びに感光性平版印刷版 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP3532297B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1300257A2 (en) | 2001-10-05 | 2003-04-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Support for lithographic printing plate and presensitized plate and method of producing lithographic printing plate |
EP1350633A2 (en) | 2002-04-02 | 2003-10-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Presensitized plate for making lithographic printing plate |
US7048988B2 (en) | 2002-09-06 | 2006-05-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Support for lithographic printing plate and presensitized plate |
WO2009110166A1 (ja) * | 2008-03-06 | 2009-09-11 | パナソニック株式会社 | レジスト材料及びそれを用いたパターン形成方法 |
-
1995
- 1995-05-01 JP JP13105195A patent/JP3532297B2/ja not_active Expired - Lifetime
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EP1300257A2 (en) | 2001-10-05 | 2003-04-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Support for lithographic printing plate and presensitized plate and method of producing lithographic printing plate |
US7029820B2 (en) | 2001-10-05 | 2006-04-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Support for lithographic printing plate and presensitized plate and method of producing lithographic printing plate |
EP1350633A2 (en) | 2002-04-02 | 2003-10-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Presensitized plate for making lithographic printing plate |
EP1350633A3 (en) * | 2002-04-02 | 2006-05-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Presensitized plate for making lithographic printing plate |
US7048988B2 (en) | 2002-09-06 | 2006-05-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Support for lithographic printing plate and presensitized plate |
WO2009110166A1 (ja) * | 2008-03-06 | 2009-09-11 | パナソニック株式会社 | レジスト材料及びそれを用いたパターン形成方法 |
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JP3532297B2 (ja) | 2004-05-31 |
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