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JPH08295513A - 酸化インジウムオルガノゾル、その製造方法および導電性被膜付基材 - Google Patents

酸化インジウムオルガノゾル、その製造方法および導電性被膜付基材

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Publication number
JPH08295513A
JPH08295513A JP9715795A JP9715795A JPH08295513A JP H08295513 A JPH08295513 A JP H08295513A JP 9715795 A JP9715795 A JP 9715795A JP 9715795 A JP9715795 A JP 9715795A JP H08295513 A JPH08295513 A JP H08295513A
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JP
Japan
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indium oxide
organic solvent
sol
organosol
fine particles
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JP9715795A
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English (en)
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JP3906933B2 (ja
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Masayuki Matsuda
田 政 幸 松
Toshiharu Hirai
井 俊 晴 平
Tsuguo Koyanagi
柳 嗣 雄 小
Michio Komatsu
松 通 郎 小
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JGC Catalysts and Chemicals Ltd
Original Assignee
Catalysts and Chemicals Industries Co Ltd
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Publication date
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Priority to JP09715795A priority Critical patent/JP3906933B2/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 高温で焼成しなくても導電性に優れた酸化イ
ンジウム被膜が基材上に形成できるような塗布液に用い
られる酸化インジウムゾルおよびその製造方法、ならび
に導電性酸化インジウム被膜がプラスチックまたはガラ
ス基材上に形成された導電性被膜付基材を提供する。 【構成】 異種元素を含有する結晶性酸化インジウム微
粒子が、1.9[Debye]以上の双極子モーメントを有す
る有機溶媒または該有機溶媒を含む混合有機溶媒に分散
されている酸化インジウムオルガノゾル、異種元素を含
有する結晶性酸化インジウムの粉末を、直接、1.9[D
ebye] 以上の双極子モーメントを有する有機溶媒または
該有機溶媒を含む混合有機溶媒に分散させる酸化インジ
ウムオルガノゾルの製造方法、前記酸化インジウムオル
ガノゾルから形成された導電性被膜を基材上に有する導
電性被膜付基材。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の技術分野】本発明は、酸化インジウムオルガノ
ゾル、その製造方法および導電性被膜付基材に関する。
【0002】
【発明の技術的背景】従来より、Snなどの異種元素を
含有する導電性酸化インジウム被膜は、液晶表示素子の
透明電極などとして用いられている。
【0003】この種の導電性酸化インジウム被膜は、真
空蒸着法、スパッタリング法などの乾式法、または以下
に述べる湿式法で基材上に形成されている。しかしなが
ら、乾式法で導電性酸化インジウム被膜を形成する場
合、被膜形成用装置が高価であり、しかも大面積の被膜
が得難いといった問題点があった。
【0004】また、湿式法では、無機または有機のイン
ジウム化合物を水および/または有機溶媒に溶解または
分散して含む塗布液を基材上に塗布し、乾燥・焼成する
ことにより導電性酸化インジウム被膜が形成されてい
る。
【0005】たとえば、特開昭59−223229号公
報には、In・Sn複合酸化物ゾル組成物を塗布液とし
て用い、この塗布液を基材上に塗布し、乾燥・焼成する
ことにより、導電性酸化インジウム被膜を形成する方法
が開示されている。
【0006】これら従来の湿式法においては、塗布液に
含まれるインジウム化合物は、無機または有機のインジ
ウム塩などいわゆる酸化インジウムの前駆体である。上
記特開昭59−223229号公報に開示されているI
n・Sn複合酸化物ゾル中の複合酸化物微粒子も、その
製造法からみて、非晶質の酸化物である。
【0007】したがって、このような塗布液を基材上に
塗布した後に乾燥しただけでは高い導電性を示す結晶性
酸化インジウムの被膜は得られず、基材上に塗布した後
の塗膜を400℃以上の高温で焼成してインジウム塩を
熱分解するとともに得られた酸化インジウムを結晶化す
ることにより、はじめて高導電性の酸化インジウム被膜
が形成される。上記特開昭59−223229号公報の
実施例でも500℃で焼成する工程を経て導電性被膜が
形成されている。
【0008】しかしながら、このように焼成工程で50
0℃程度の温度で加熱すると、基材がプラスチック基材
である場合には基材が損傷してしまい、また、基材がガ
ラス基材である場合には基材に歪み、割れなどが生じる
という問題点があった。
【0009】本発明者らは、上記のような従来技術に伴
う問題点を解決するため、高温で焼成することにより、
導電性が付与された結晶性酸化インジウム粉末であっ
て、異種元素を含有する結晶性酸化インジウム粉末を予
め調製し、この粉末を粉砕した後、酸性水溶液またはア
ルカリ性水溶液に分散させることによって得られた結晶
性酸化インジウムゾル、および該ゾルを用いて形成され
た導電性酸化インジウム被膜付基材について、すでに特
願平6−278148号明細書で提案している。この発
明によれば、従来のように基材上に酸化インジウムゾル
を塗布して得られた塗膜を高温で焼成しなくても導電性
に優れた酸化インジウム被膜が得られる。
【0010】しかしながら、その後の本発明者らの検討
によれば、上述した結晶性酸化インジウムゾルは、その
分散媒が水であるか、たとえこの水が有機溶媒で置換さ
れていたとしても、ゾル中の結晶性酸化インジウム微粒
子が有機溶媒で置換する前に水と接触していたことに起
因して、ゾル中の結晶性酸化インジウム微粒子表面が水
和されており、このため、このゾルを用いて形成された
被膜の導電性が若干低くなるという問題点があることが
判明した。
【0011】本発明者らは、上記知見に基づいて鋭意研
究を重ねた結果、結晶性酸化インジウムゾルの分散媒と
して双極子モーメントが特定された有機溶媒を用いるこ
とにより、さらにゾル製造過程で結晶性酸化インジウム
粉末を水と接触させないようにすればより効果的に上記
問題点が解決できることを見出し、本発明を完成させる
に至った。
【0012】
【発明の目的】本発明は、上記の如き従来の結晶性酸化
インジウムゾルから形成された導電性被膜に比較してよ
り一層導電性の高い被膜が基材上に形成できるような酸
化インジウムゾル、その製造方法およびこのような高導
電性酸化インジウム被膜がプラスチックまたはガラス基
材上に形成された高導電性被膜付基材を提供することを
目的としている。
【0013】
【発明の概要】本発明に係る酸化インジウムオルガノゾ
ルは、異種元素を含有する結晶性酸化インジウム微粒子
が1.9[Debye] 以上の双極子モーメントを有する有機
溶媒または該有機溶媒を含む混合有機溶媒に分散されて
いることを特徴としている。
【0014】本発明に係る酸化インジウムオルガノゾル
の製造方法は、異種元素を含有する結晶性酸化インジウ
ム微粒子を、直接、1.9[Debye] 以上の双極子モーメ
ントを有する有機溶媒または該有機溶媒を含む混合有機
溶媒に分散させることを特徴としている。
【0015】本発明に係る導電性被膜付基材は、上記酸
化インジウムオルガノゾルから形成された導電性被膜を
基材上に有することを特徴としている。
【0016】
【発明の具体的説明】酸化インジウムオルガノゾル まず、本発明に係る酸化インジウムオルガノゾルにつき
具体的に説明する。
【0017】本発明に係る酸化インジウムオルガノゾル
では、異種元素を含有する結晶性酸化インジウム微粒子
が1.9[Debye] 以上の双極子モーメントを有する有機
溶媒または該有機溶媒を含む混合有機溶媒に分散されて
いる。
【0018】本明細書中で異種元素を含有する結晶性酸
化インジウムとは、酸化インジウム中に1種または2種
以上の異種元素(In以外の元素)が含有されていて、
これらの異種元素がInに代わって酸化インジウム結晶
の一部を構成しているか、あるいは酸化インジウムと固
溶した状態で存在している結晶性の酸化インジウムを意
味し、異種元素化合物と酸化インジウムとの単なる混合
物ではない。
【0019】このような結晶性酸化インジウムを形成す
るのに適当な異種元素としては、Si、Ge、Sn、Z
r、Ti、Fなどが挙げられる。これらの異種元素の含
有量が少なすぎると、酸化インジウム結晶中を伝導する
電子の密度が低くなり、充分な導電性を有する酸化イン
ジウムが得られないことがある。逆にこれらの異種元素
の含有量が多すぎると、酸化インジウムの結晶性が低下
して酸化インジウム結晶中を伝導する電子の移動度が低
くなり、充分な導電性を有する酸化インジウム微粒子が
得られないことがある。
【0020】このような点から、異種元素がSi、G
e、Sn、ZrおよびTiから選ばれる1種または2種
以上である場合、これらの異種元素は、酸化インジウム
中に酸化物換算量(ただし、異種元素がSnである場合
はSnO2 換算量であり、異種元素がTiである場合は
TiO2 換算量である)で1〜20重量%含まれていこ
とが好まく、また、異種元素がFである場合には、Fと
して酸化インジウム中に0.1〜10重量%含まれてる
いことが好ましい。
【0021】本発明の酸化インジウムオルガノゾルに用
いられる異種元素を含有する結晶性酸化インジウム微粒
子は、結晶性であり、500℃以上の高温焼成を経て得
られるbixbyite型酸化インジウムと同様のX線回折パタ
ーンを示す。
【0022】この微粒子の平均粒径は約5〜250nm
であることが好ましく、このような平均粒径を有する微
粒子を用いると、安定性に優れた酸化インジウムオルガ
ノゾルを製造することができると同時に透明性に優れた
導電性被膜が形成できる。
【0023】また、この微粒子は、ゾル中に約30重量
%以下の量で含まれていることが好ましく、この量を越
えるとゾルの安定性が損なわれる場合がある。上記範囲
の平均粒径を有する酸化インジウム微粒子を上記のよう
な量で含む酸化インジウムオルガノゾルは、ゲル化を起
こすこともなく、また長期間、たとえば室温で1年以上
にわたって微粒子の凝集・沈降もなく、安定である。
【0024】本発明に係る酸化インジウムオルガノゾル
では、1.9[Debye] 以上の双極子モーメントを有する
有機溶媒または該有機溶媒を含む混合有機溶媒が、上述
したような異種元素を含有する結晶性酸化インジウム微
粒子の分散媒として用いられる。
【0025】双極子モーメントが1.9[Debye] 以上で
ある有機溶媒としては、たとえば分子内にカルボニル基
および/またはエーテル基を有する有機溶媒、あるいは
複素環を有する有機溶媒が用いられ、具体的にはアセト
ン、メチルエチルケトン、ジアセトンアルコールなどの
ケトン類、アセチルアセトン、アセトニルアセトンなど
のβ−ジケトン類、アセト酢酸エステル、乳酸エステ
ル、2−メトキシエチルアセテート、2−エトキシエチ
ルアセテートなどのエステル類、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルなどのエーテル類、フルフリル
アルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、N−
メチルピロリドンなどの複素環化合物、N,N−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられ
る。
【0026】上記のような1.9[Debye] 以上の双極子
モーメントを有する有機溶媒が酸化インジウムオルガノ
ゾル中に存在すると、ゾルの安定性が向上する。これ
は、ゾル中の酸化インジウム微粒子が1.9[Debye] 以
上の双極子モーメントを有する有機溶媒と溶媒和を形成
し、酸化インジウム微粒子の凝集を防止する、すなわ
ち、酸化インジウム微粒子の分散剤として作用している
ためと推定される。
【0027】本発明に係る酸化インジウムオルガノゾル
では、1.9[Debye] 以上の双極子モーメントを有する
有機溶媒と1.9[Debye] 未満の双極子モーメントを有
する有機溶媒との混合有機溶媒を分散媒として用いても
よい。
【0028】この混合有機溶媒に用いられる1.9[Deb
ye] 未満の双極子モーメントを有する有機溶媒として
は、従来のオルガノゾルの分散媒、たとえばメタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアル
コール類、エチレングリコール、トリメチレングリコー
ルなどのグリコール類などが挙げられる。
【0029】本発明に係る酸化インジウムオルガノゾル
の分散媒が、1.9[Debye] 以上の双極子モーメントを
有する有機溶媒と1.9[Debye] 未満の双極子モーメン
トを有する有機溶媒との混合溶媒である場合、安定性に
優れたゾルを提供するためには、1.9[Debye] 以上の
双極子モーメントを有する有機溶媒の量が、ゾル中の酸
化インジウム微粒子1重量部当り0.1重量部以上であ
ることが好ましい。
【0030】また、本発明に係る酸化インジウムオルガ
ノゾルでは、水分濃度が5重量%以下、好ましくは1重
量%以下であることが望ましい。ゾル中の水分濃度が5
重量%を越えると、ゾル中で酸化インジウム微粒子の表
面が水和し、得られる導電性酸化インジウム被膜の導電
性が低下するおそれがある。
【0031】酸化インジウムオルガノゾルの製造方法 次いで、本発明に係る酸化インジウムオルガノゾルの製
造方法について説明する。
【0032】本発明に係る酸化インジウムオルガノゾル
は、異種元素を含有する結晶性酸化インジウム粉末を上
述したような特定の双極子モーメントを有する有機溶媒
を含む分散媒中に、必要に応じて粉砕処理を施して分散
させることによって製造される。
【0033】本発明に係る酸化インジウムオルガノゾル
の原料として用いられる異種元素を含有する結晶性酸化
インジウム粉末は、たとえば異種元素の塩とインジウム
塩との混合水溶液中でこれらの塩を加水分解し、得られ
た加水分解物を乾燥・焼成することにより得られる。好
ましくは特開昭63−11519号公報に開示された方
法で製造された導電性酸化インジウム微粉末が用いられ
る。
【0034】このような方法で得られた異種元素を含有
する結晶性酸化インジウム粉末は、この粉末を構成する
微粒子が良好な導電性を示すようにするために、通常、
400℃以上で加熱処理がなされる。この結果、一次粒
子が焼結して数μm〜数百μmの平均粒径を有する二次
粒子からなる粉末が得られる。このような粒径の大きな
粉末を用いて酸化インジウムゾルを製造するためには、
これらの粉末を粉砕する必要がある。
【0035】しかし、これらの粉末を水に分散させてボ
ールミルやサンドミルなどによる通常の方法でコロイド
次元の粒径まで粉砕しようとすると、粉砕効率が悪く、
また得られた粉砕粒子は不安定で分散媒中ですぐに凝集
してしまう。
【0036】そこで、これらの焼結二次粒子からなる粉
末を機械的手段で予め粉砕した後、分散媒として水を用
いることなく、直接、1.9[Debye] 以上の双極子モー
メントを有する有機溶媒または該有機溶媒を含む混合有
機溶媒に分散させることによって酸化インジウムオルガ
ノゾルが製造される。この過程で酸化インジウム微粒子
は有機溶媒と溶媒和を形成する。この際、特に加熱処理
を行う必要はないが、異種元素を含有する結晶性酸化イ
ンジウム粉末を構成している二次粒子の焼結が強固な場
合には、これら粉末を、分散媒に分散した後、サンドミ
ル、ボールミルなどの粉砕手段で粉砕処理することが好
ましい。
【0037】導電性被膜付基材 本発明に係る導電性被膜付基材は、ガラス、プラスチッ
ク、金属、セラミックなどからなる平板、立体物、フィ
ルムなどの基材上に上記のようにして製造された本発明
に係る酸化インジウムゾルからなる塗布液から形成され
た通常、10〜300nm、好ましくは30〜200n
mの膜厚の導電性被膜を有している。
【0038】この導電性被膜付基材は、導電性被膜の表
面抵抗が小さく、透明性に優れ、しかもヘーズが小さい
ので液晶表示素子やタッチパネルの透明電極付基板、陰
極線管の前面板、その他の電極付基材などに好適に応用
することができる。
【0039】この導電性被膜付基材は、基材上に本発明
に係る酸化インジウムオルガノゾルをディッピング法、
スピナー法、スプレー法、ロールコーター法、フレキソ
印刷法などの方法で塗布し、次いで得られた塗膜を乾燥
・焼成することによって製造される。
【0040】本発明では、上記の焼成を200℃以下の
低温で行っても従来の導電性酸化インジウム被膜と同等
の高い導電性を示す。したがって、従来の導電性酸化イ
ンジウム被膜付基材のように500℃以上の温度で加熱
する必要はなく、このため、このような高温を加熱する
ことに起因する基材の損傷、歪み、割れなどが生じるこ
とはない。
【0041】この導電性被膜付基材を製造する際、本発
明に係る酸化インジウムオルガノゾルのみを用いてもよ
いが、これに染料、有機顔料、あるいはカーボンブラッ
クなどの無機顔料を本発明の目的を損なわない範囲の量
で加えててもよい。このような着色剤を含む酸化インジ
ウムオルガノゾルからは着色された導電性被膜が基材上
に形成される。
【0042】上記のようにして形成された導電性被膜に
機械的強度が要求されるときは、この導電性被膜上に保
護膜を形成すればよい。この保護膜を形成する際には、
通常の保護膜形成用塗布液、例えばアルコキシシラン加
水分解物を含むシリカ系被膜形成用塗布液が用いられ
る。
【0043】また、上記のようにして形成された導電性
被膜上に、この導電性被膜よりも屈折率の低い透明被膜
をその光学的膜厚をコントロールしながら形成すれば、
反射防止性の導電性被膜付基材が得られる。さらに、こ
の屈折率の低い透明被膜を上述したようなシリカ系被膜
形成用塗布液を用いて形成すれば、反射防止性能に優
れ、しかも機械的強度が高い導電性被膜付基材が得られ
る。
【0044】
【発明の効果】本発明に係る酸化インジウムオルガノゾ
ルは、異種元素を含有する結晶性酸化インジウム微粒子
のゾルであるので、基材上にこのゾルを含む塗布液を塗
布し、200℃以下の低温で乾燥・焼成して酸化インジ
ウム被膜を形成しても高い導電性を有する被膜付基材が
得られる。
【0045】このため、本発明によれば、酸化インジウ
ム被膜に高導電性を付与するために塗布後、500℃以
上の焼成過程を経て製造する必要がある従来の導電性酸
化インジウム被膜付基材に比較して耐熱性の低い基材に
も導電性被膜付基材が形成できる。
【0046】また、本発明に係る酸化インジウムオルガ
ノゾルは、ゾル製造過程で水を用いることなく、異種元
素を含有する結晶性酸化インジウム微粒子を、直接、
1.9[Debye] 以上の双極子モーメントを有する有機溶
媒または該有機溶媒を含む混合有機溶媒に分散して製造
されるので、分散後にゾル中の微粒子が凝集することは
なく、水を用いて製造された従来の酸化インジウムゾル
に比較して微粒子の分散性に優れている。
【0047】このため、本発明に係る酸化インジウムオ
ルガノゾルから得られた被膜は、酸化インジウム微粒子
の凝集に起因する斑点、白濁、むらなどがなく、外観に
優れている。
【0048】さらに、本発明に係る酸化インジウムオル
ガノゾルを用いると、水を用いて製造された従来の酸化
インジウムゾルを用いた場合に比較して導電性の高い被
膜を基材上に形成することができる。
【0049】したがって、本発明によれば、ゾル中の異
種元素を含有する結晶性酸化インジウム微粒子の粒径を
小さくすることにより、ヘーズが低く、しかも導電性の
高い被膜を基材上に形成することができる。
【0050】さらにまた、本発明に係る酸化インジウム
オルガノゾル中の異種元素を含有する酸化インジウム微
粒子が結晶性であるため、このゾルからなる塗布液から
基材上に形成された導電性被膜の屈折率は、1.7〜
2.0と高い。このようにして基材上に形成された導電
性酸化インジウム被膜上に低屈折率の被膜を積層すれ
ば、導電性および反射防止性に優れた導電性被膜付基材
を提供することが可能である。
【0051】すなわち、本発明によれば、導電性および
反射防止性に優れた導電性被膜付基材が提供可能であ
る。
【0052】
【実施例】以下、本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【0053】
【実施例1】硝酸インジウム79.9gを水686gに
溶解した硝酸インジウム水溶液と、スズ酸カリウム1
2.7gを10重量%水酸化カリウム水溶液に溶解した
スズ酸カリウム水溶液とを調製した。
【0054】50℃に加熱された1000gの水に攪拌
しながら前記硝酸インジウム水溶液と前記スズ酸カリウ
ム水溶液とを添加し、系内のpHを11に保持しながら
水溶液中の硝酸インジウムとスズ酸カリウムとを加水分
解した。このようにして生成した微粒子をろ別し、洗浄
し、乾燥した後、窒素中300℃で3時間焼成し、さら
に窒素中500℃で6時間焼成してSnがドープされた
In2 3 (SnO2:17.5重量%)の微粉末
(A)を得た。
【0055】この微粉末(A)100gをアセチルアセ
トン40gに充分に混合・分散させてからエタノール3
60gを加えた後、この分散液をサンドミルに収容し、
この分散液中の微粉末(A)をサンドミルで5時間粉砕
して固形分濃度20重量%のゾルAを得た。
【0056】このゾルA中の微粒子の平均粒径は40n
mであり、ゾルA中の水分濃度は0.3%であった。こ
のようにして得られたゾルAは、6ケ月以上にわたって
微粒子の凝集・沈降もなく、安定であった。
【0057】このゾルA中に含まれている微粒子の乾燥
後のX線回折図を図1に示す。図1は、この微粒子がBi
xbyite型のIn2 3 であることを示している。
【0058】
【実施例2】スズ酸カリウムの量を7.3gに代えた以
外は実施例1と同様にしてSnがドープされたIn2
3 (SnO2 :10.5重量%)の微粉末(B)を得
た。
【0059】この微粉末(B)100gをメチルエチル
ケトン400gに充分に混合・分散させた後、この分散
液をサンドミルに収容し、この分散液中の微粉末(B)
をサンドミルで3時間粉砕して固形分濃度20重量%の
ゾルBを得た。
【0060】このゾルB中の微粒子の平均粒径は60n
mであり、ゾルB中の水分濃度は0.2%であった。こ
のようにして得られたゾルBは、6ケ月以上にわたって
微粒子の凝集・沈降もなく、安定であった。
【0061】
【実施例3】スズ酸カリウムの量を9.5gに代えた以
外は実施例1と同様にしてSnがドープされたIn2
3 (SnO2 :13.3重量%の微粉末(C)を得た。
【0062】この微粉末(C)100gをメチルセロソ
ルブ300gに充分に混合・分散させてからメタノール
100gを加えた後、この分散液をサンドミルに収容
し、この分散液中の微粉末(C)をサンドミルで8時間
粉砕して固形分濃度20重量%のゾルCを得た。
【0063】このゾルC中の微粒子の平均粒径は10n
mであり、ゾルC中の水分濃度は0.4%であった。こ
のようにして得られたゾルCは、6ケ月以上にわたって
微粒子の凝集・沈降もなく、安定であった。
【0064】
【実施例4】塩化インジウム66.0gと塩化スズ7.
0gとを水788gに溶解した塩化インジウム−塩化ス
ズ水溶液と、10重量%水酸化カリウム水溶液とをそれ
ぞれ調製した。
【0065】50℃に加熱された1000gの水に、攪
拌しながら前記塩化インジウム−塩化スズ水溶液と前記
水酸化カリウム水溶液とを添加し、系内のpHを11に
保持しながら水溶液中の塩化インジウムと塩化スズとを
加水分解した。このようにして生成した微粒子をろ別
し、洗浄し、乾燥した後、窒素中300℃で3時間焼成
し、さらに窒素中500℃で6時間焼成してSnがドー
プされたIn2 3 (SnO2 :13.0重量%)の微
粉末(D)を得た。
【0066】この微粉末(D)100gをメチルセロソ
ルブ300gに充分に混合・分散させてからエタノール
86gと純水24gとを加えた後、この分散液をサンド
ミルに収容し、この分散液中の微粉末(D)をサンドミ
ルで5時間粉砕して固形分濃度20重量%のゾルDを得
た。
【0067】このゾルD中の微粒子の平均粒径は40n
mであり、ゾルD中の水分濃度は5.0%であった。こ
のようにして得られたゾルDは、6ケ月以上にわたって
微粒子の凝集・沈降もなく、安定であった。
【0068】
【実施例5】スズ酸カリウム12.7gに代えてフッ化
アンモニウム1.79g用いた以外は実施例1と同様に
してSnおよびFがドープされたIn2 3 (Sn
2 :17.1重量%、F:2.0重量%)の微粉末
(E)を得た。
【0069】この微粉末(E)100gをアセト酢酸エ
チル200gに充分に混合・分散させてからイソプロピ
ルアルコール200gを加えた後、この分散液をサンド
ミルに収容し、この分散液中の微粉末(E)をサンドミ
ルで2時間粉砕して固形分濃度20重量%のゾルEを得
た。
【0070】このゾルE中の微粒子の平均粒径は70n
mであり、ゾルE中の水分濃度は0.2%であった。こ
のようにして得られたゾルEは、6ケ月以上にわたって
微粒子の凝集・沈降もなく、安定であった。
【0071】
【実施例6】実施例1の加水分解工程で得られた微粒子
をろ別し、洗浄した後、この微粒子をSiO2 換算量で
20重量%のシリカゾル(触媒化成工業(株)製S−5
50、平均粒径5.5nm)5gとを混合した。この混
合物を乾燥し、次いで実施例1と同様にして焼成してS
nおよびSiがドープされたIn2 3 (SnO2 :1
7.1重量%、SiO2 :2.2重量%)の微粉末
(F)を得た。
【0072】この微粉末(F)100gをN−メチルピ
ロリドン10gに充分に混合・分散させてからn−ブタ
ノール390gを加えた後、この分散液をサンドミルに
収容し、この分散液中の微粉末(F)をサンドミルで4
時間粉砕して固形分濃度20重量%のゾルFを得た。
【0073】このゾルF中の微粒子の平均粒径は50n
mであり、ゾルF中の水分濃度は0.8%であった。こ
のようにして得られたゾルFは、6ケ月以上にわたって
微粒子の凝集・沈降もなく、安定であった。
【0074】
【実施例7】シリカゾルの代わりにZrO2 換算量で5
重量%の炭酸ジルコニウム・アンモニウム水溶液3g用
いた以外は実施例3と同様にしてSnおよびZrがドー
プされたIn2 3 (SnO2 :17.4重量%、Z
r:0.3重量%)の微粉末(G)を得た。
【0075】この微粉末(G)100gをジアセトンア
ルコール300gに充分に混合・分散させてからエチレ
ングリコール100gを加えた後、この分散液をサンド
ミルに収容し、この分散液中の微粉末(G)をサンドミ
ルで2時間粉砕して固形分濃度20重量%のゾルGを得
た。
【0076】このゾルG中の微粒子の平均粒径は100
nmであり、ゾルG中の水分濃度は0.1%であった。
このようにして得られたゾルGは、6ケ月以上にわたっ
て微粒子の凝集・沈降もなく、安定であった。
【0077】
【実施例8】微粉末(C)100gにメチルセロソルブ
300gに充分に混合・分散させてからメタノール61
gと純水39gを加えた後、この分散液をサンドミルに
収容し、この分散液中の微粉末(C)をサンドミルで5
時間粉砕して固形分濃度20重量%のゾルHを得た。
【0078】このゾルH中の微粒子の平均粒径は80n
mであり、ゾルH中の水分濃度は8.0%であった。こ
のようにして得られたゾルHは、6ケ月以上にわたって
微粒子の凝集・沈降もなく、安定であった。
【0079】
【実施例9】微粉末(A)200gを純水500gに分
散した分散液のpHを濃塩酸で1.0に調整した後、こ
の分散液をサンドミルに収容し、この分散液中の微粉末
(A)をサンドミルで5時間粉砕した。次いで、この分
散液をオートクレーブ中で液相に保ちながら250℃で
1時間加熱して固形分濃度20重量%の水性ゾルを得
た。
【0080】この水性ゾルにメチルセルソルブを加え、
減圧蒸留法(90℃)で溶媒置換して水分濃度0.8重
量%、固形分濃度20重量%のメチルセロソルブを分散
媒とするオルガノゾルIを得た。
【0081】このゾルI中の微粒子の平均粒径は40n
mであった。このようにして得られたゾルIは、6ケ月
以上にわたって微粒子の凝集・沈降もなく、安定であっ
た。
【0082】
【比較例1】微粉末(A)100gにアセチルアセトン
を加えず、エタノール400gのみを加えた以外は実施
例1と同様にして固形分濃度20重量%のゾルJを得
た。
【0083】このゾルJ中の微粒子の平均粒径は200
0nmであり、ゾルJ中の水分濃度は0.2%であっ
た。このようにして得られたゾルJでは、1日後に微粒
子の凝集および沈降が生じていることが観察された。
【0084】なお、上記ゾルA〜Jの平均粒径および水
分濃度は次のようにして測定した。 平均粒径 :粒径測定機(日立製作所(株)製CAPA−
700)で測定した。水分濃度 :カールフィッシャー(京都電子(株)製)で
測定した。
【0085】上記ゾルA〜Jの性状を表1に示す。
【0086】
【表1】
【0087】
【実施例10〜18、比較例2】実施例1〜9、比較例
1で得られたゾルA〜Jを、エタノール70%、イソプ
ロピルアルコール15%、プロピレングリコールモノメ
チルエーテル10%、ジアセトンアルコール5%(重量
比)の混合溶媒で、固形分濃度5.0重量%まで希釈
し、さらにエタノールで希釈して固形分濃度2.0重量
%の塗布液を調製した。
【0088】この塗布液をブラウン管用14”パネル上
に塗布し、下記条件で導電性被膜を形成した。 パネル表面温度:40℃ 塗布法 :スピナー法(100rpm、60秒) 焼成条件 :200℃、30分 このようにして得られた導電性被膜付基材につき、下記
項目の測定・評価を行った。
【0089】表面抵抗:表面抵抗計(三菱化学(株)製
LORESTA)で測定した。 ヘーズ :ヘーズコンピュータ(スガ試験機製)で測定
した。 外観 :目視観察により、白濁、微小斑点およびむら
のないものを良(○)として評価した。
【0090】以上の結果を表2に示す。
【0091】
【表2】
【0092】
【実施例19〜27、比較例3】エチルシリケート(S
iO2 :28重量%)100g、エタノール390g、
純水67.2g、61%HNO3 2.8gの混合液を、
エタノール60g、ブタノール20g、ジアセトンアル
コール20gからなる希釈液で固形分濃度0.85重量
%に希釈した被膜形成用塗布液を調製した。
【0093】実施例10〜17および比較例2で得られ
た導電性塗布液を、ブラウン管用14”パネル上に、そ
の表面温度を40℃に保持しながらスピナー法(100
rpm、60秒)で塗布した。
【0094】次いで、上記パネルの表面温度を引続き4
0℃に保持しながら、得られた導電性被膜上に、上記被
膜形成用塗布液を、上記と同様にして塗布した。しかる
後、得られた積層被膜付基材を200℃で30分間焼成
して積層導電性被膜付基材を得た。
【0095】このようにして得られた導電性被膜付基材
につき、それぞれの反射率を分光光度計(日本分光社:
U−best)で測定した。結果を表3に示す。
【0096】
【表3】
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明に係る酸化インジウムオルガノ
ゾルの一例につき、その中に含まれている結晶性酸化イ
ンジウム微粒子のX線回折図である。
フロントページの続き (72)発明者 小 松 通 郎 福岡県北九州市若松区北湊町13番2号 触 媒化成工業株式会社若松工場内

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 異種元素を含有する結晶性酸化インジウ
    ム微粒子が、1.9[Debye] 以上の双極子モーメントを
    有する有機溶媒または該有機溶媒を含む混合有機溶媒に
    分散されていることを特徴とする酸化インジウムオルガ
    ノゾル。
  2. 【請求項2】 前記異種元素が、Si、Ge、Sn、Z
    rおよびTiから選ばれる1種または2種以上であり、
    前記結晶性酸化インジウム微粒子中に酸化物換算量で
    0.1〜20重量%含まれていることを特徴とする請求
    項1に記載の酸化インジウムオルガノゾル。
  3. 【請求項3】 前記異種元素が、Fであり、前記結晶性
    酸化インジウム微粒子中に0.1〜10重量%含まれて
    いることを特徴とする請求項1に記載の酸化インジウム
    オルガノゾル。
  4. 【請求項4】 前記1.9[Debye] 以上の双極子モーメ
    ントを有する有機溶媒が、分子内にカルボニル基および
    /またはエーテル基を有する有機溶媒であることを特徴
    とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の酸化イ
    ンジウムオルガノゾル。
  5. 【請求項5】 前記1.9[Debye] 以上の双極子モーメ
    ントを有する有機溶媒が、複素環を有する有機溶媒であ
    ることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に
    記載の酸化インジウムオルガノゾル。
  6. 【請求項6】 水分濃度が5重量%以下であることを特
    徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の酸化
    インジウムオルガノゾル。
  7. 【請求項7】 異種元素を含有する結晶性酸化インジウ
    ム微粒子を、直接、1.9[Debye] 以上の双極子モーメ
    ントを有する有機溶媒または該有機溶媒を含む混合有機
    溶媒に分散させることを特徴とする酸化インジウムオル
    ガノゾルの製造方法。
  8. 【請求項8】 請求項1に記載の酸化インジウムオルガ
    ノゾルから形成された導電性被膜を基材上に有すること
    を特徴とする導電性被膜付基材。
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