JPH08295513A - 酸化インジウムオルガノゾル、その製造方法および導電性被膜付基材 - Google Patents
酸化インジウムオルガノゾル、その製造方法および導電性被膜付基材Info
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- Colloid Chemistry (AREA)
Abstract
ンジウム被膜が基材上に形成できるような塗布液に用い
られる酸化インジウムゾルおよびその製造方法、ならび
に導電性酸化インジウム被膜がプラスチックまたはガラ
ス基材上に形成された導電性被膜付基材を提供する。 【構成】 異種元素を含有する結晶性酸化インジウム微
粒子が、1.9[Debye]以上の双極子モーメントを有す
る有機溶媒または該有機溶媒を含む混合有機溶媒に分散
されている酸化インジウムオルガノゾル、異種元素を含
有する結晶性酸化インジウムの粉末を、直接、1.9[D
ebye] 以上の双極子モーメントを有する有機溶媒または
該有機溶媒を含む混合有機溶媒に分散させる酸化インジ
ウムオルガノゾルの製造方法、前記酸化インジウムオル
ガノゾルから形成された導電性被膜を基材上に有する導
電性被膜付基材。
Description
ゾル、その製造方法および導電性被膜付基材に関する。
含有する導電性酸化インジウム被膜は、液晶表示素子の
透明電極などとして用いられている。
空蒸着法、スパッタリング法などの乾式法、または以下
に述べる湿式法で基材上に形成されている。しかしなが
ら、乾式法で導電性酸化インジウム被膜を形成する場
合、被膜形成用装置が高価であり、しかも大面積の被膜
が得難いといった問題点があった。
ジウム化合物を水および/または有機溶媒に溶解または
分散して含む塗布液を基材上に塗布し、乾燥・焼成する
ことにより導電性酸化インジウム被膜が形成されてい
る。
報には、In・Sn複合酸化物ゾル組成物を塗布液とし
て用い、この塗布液を基材上に塗布し、乾燥・焼成する
ことにより、導電性酸化インジウム被膜を形成する方法
が開示されている。
含まれるインジウム化合物は、無機または有機のインジ
ウム塩などいわゆる酸化インジウムの前駆体である。上
記特開昭59−223229号公報に開示されているI
n・Sn複合酸化物ゾル中の複合酸化物微粒子も、その
製造法からみて、非晶質の酸化物である。
塗布した後に乾燥しただけでは高い導電性を示す結晶性
酸化インジウムの被膜は得られず、基材上に塗布した後
の塗膜を400℃以上の高温で焼成してインジウム塩を
熱分解するとともに得られた酸化インジウムを結晶化す
ることにより、はじめて高導電性の酸化インジウム被膜
が形成される。上記特開昭59−223229号公報の
実施例でも500℃で焼成する工程を経て導電性被膜が
形成されている。
0℃程度の温度で加熱すると、基材がプラスチック基材
である場合には基材が損傷してしまい、また、基材がガ
ラス基材である場合には基材に歪み、割れなどが生じる
という問題点があった。
う問題点を解決するため、高温で焼成することにより、
導電性が付与された結晶性酸化インジウム粉末であっ
て、異種元素を含有する結晶性酸化インジウム粉末を予
め調製し、この粉末を粉砕した後、酸性水溶液またはア
ルカリ性水溶液に分散させることによって得られた結晶
性酸化インジウムゾル、および該ゾルを用いて形成され
た導電性酸化インジウム被膜付基材について、すでに特
願平6−278148号明細書で提案している。この発
明によれば、従来のように基材上に酸化インジウムゾル
を塗布して得られた塗膜を高温で焼成しなくても導電性
に優れた酸化インジウム被膜が得られる。
によれば、上述した結晶性酸化インジウムゾルは、その
分散媒が水であるか、たとえこの水が有機溶媒で置換さ
れていたとしても、ゾル中の結晶性酸化インジウム微粒
子が有機溶媒で置換する前に水と接触していたことに起
因して、ゾル中の結晶性酸化インジウム微粒子表面が水
和されており、このため、このゾルを用いて形成された
被膜の導電性が若干低くなるという問題点があることが
判明した。
究を重ねた結果、結晶性酸化インジウムゾルの分散媒と
して双極子モーメントが特定された有機溶媒を用いるこ
とにより、さらにゾル製造過程で結晶性酸化インジウム
粉末を水と接触させないようにすればより効果的に上記
問題点が解決できることを見出し、本発明を完成させる
に至った。
インジウムゾルから形成された導電性被膜に比較してよ
り一層導電性の高い被膜が基材上に形成できるような酸
化インジウムゾル、その製造方法およびこのような高導
電性酸化インジウム被膜がプラスチックまたはガラス基
材上に形成された高導電性被膜付基材を提供することを
目的としている。
ルは、異種元素を含有する結晶性酸化インジウム微粒子
が1.9[Debye] 以上の双極子モーメントを有する有機
溶媒または該有機溶媒を含む混合有機溶媒に分散されて
いることを特徴としている。
の製造方法は、異種元素を含有する結晶性酸化インジウ
ム微粒子を、直接、1.9[Debye] 以上の双極子モーメ
ントを有する有機溶媒または該有機溶媒を含む混合有機
溶媒に分散させることを特徴としている。
化インジウムオルガノゾルから形成された導電性被膜を
基材上に有することを特徴としている。
具体的に説明する。
では、異種元素を含有する結晶性酸化インジウム微粒子
が1.9[Debye] 以上の双極子モーメントを有する有機
溶媒または該有機溶媒を含む混合有機溶媒に分散されて
いる。
化インジウムとは、酸化インジウム中に1種または2種
以上の異種元素(In以外の元素)が含有されていて、
これらの異種元素がInに代わって酸化インジウム結晶
の一部を構成しているか、あるいは酸化インジウムと固
溶した状態で存在している結晶性の酸化インジウムを意
味し、異種元素化合物と酸化インジウムとの単なる混合
物ではない。
るのに適当な異種元素としては、Si、Ge、Sn、Z
r、Ti、Fなどが挙げられる。これらの異種元素の含
有量が少なすぎると、酸化インジウム結晶中を伝導する
電子の密度が低くなり、充分な導電性を有する酸化イン
ジウムが得られないことがある。逆にこれらの異種元素
の含有量が多すぎると、酸化インジウムの結晶性が低下
して酸化インジウム結晶中を伝導する電子の移動度が低
くなり、充分な導電性を有する酸化インジウム微粒子が
得られないことがある。
e、Sn、ZrおよびTiから選ばれる1種または2種
以上である場合、これらの異種元素は、酸化インジウム
中に酸化物換算量(ただし、異種元素がSnである場合
はSnO2 換算量であり、異種元素がTiである場合は
TiO2 換算量である)で1〜20重量%含まれていこ
とが好まく、また、異種元素がFである場合には、Fと
して酸化インジウム中に0.1〜10重量%含まれてる
いことが好ましい。
いられる異種元素を含有する結晶性酸化インジウム微粒
子は、結晶性であり、500℃以上の高温焼成を経て得
られるbixbyite型酸化インジウムと同様のX線回折パタ
ーンを示す。
であることが好ましく、このような平均粒径を有する微
粒子を用いると、安定性に優れた酸化インジウムオルガ
ノゾルを製造することができると同時に透明性に優れた
導電性被膜が形成できる。
%以下の量で含まれていることが好ましく、この量を越
えるとゾルの安定性が損なわれる場合がある。上記範囲
の平均粒径を有する酸化インジウム微粒子を上記のよう
な量で含む酸化インジウムオルガノゾルは、ゲル化を起
こすこともなく、また長期間、たとえば室温で1年以上
にわたって微粒子の凝集・沈降もなく、安定である。
では、1.9[Debye] 以上の双極子モーメントを有する
有機溶媒または該有機溶媒を含む混合有機溶媒が、上述
したような異種元素を含有する結晶性酸化インジウム微
粒子の分散媒として用いられる。
ある有機溶媒としては、たとえば分子内にカルボニル基
および/またはエーテル基を有する有機溶媒、あるいは
複素環を有する有機溶媒が用いられ、具体的にはアセト
ン、メチルエチルケトン、ジアセトンアルコールなどの
ケトン類、アセチルアセトン、アセトニルアセトンなど
のβ−ジケトン類、アセト酢酸エステル、乳酸エステ
ル、2−メトキシエチルアセテート、2−エトキシエチ
ルアセテートなどのエステル類、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルなどのエーテル類、フルフリル
アルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、N−
メチルピロリドンなどの複素環化合物、N,N−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられ
る。
モーメントを有する有機溶媒が酸化インジウムオルガノ
ゾル中に存在すると、ゾルの安定性が向上する。これ
は、ゾル中の酸化インジウム微粒子が1.9[Debye] 以
上の双極子モーメントを有する有機溶媒と溶媒和を形成
し、酸化インジウム微粒子の凝集を防止する、すなわ
ち、酸化インジウム微粒子の分散剤として作用している
ためと推定される。
では、1.9[Debye] 以上の双極子モーメントを有する
有機溶媒と1.9[Debye] 未満の双極子モーメントを有
する有機溶媒との混合有機溶媒を分散媒として用いても
よい。
ye] 未満の双極子モーメントを有する有機溶媒として
は、従来のオルガノゾルの分散媒、たとえばメタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアル
コール類、エチレングリコール、トリメチレングリコー
ルなどのグリコール類などが挙げられる。
の分散媒が、1.9[Debye] 以上の双極子モーメントを
有する有機溶媒と1.9[Debye] 未満の双極子モーメン
トを有する有機溶媒との混合溶媒である場合、安定性に
優れたゾルを提供するためには、1.9[Debye] 以上の
双極子モーメントを有する有機溶媒の量が、ゾル中の酸
化インジウム微粒子1重量部当り0.1重量部以上であ
ることが好ましい。
ノゾルでは、水分濃度が5重量%以下、好ましくは1重
量%以下であることが望ましい。ゾル中の水分濃度が5
重量%を越えると、ゾル中で酸化インジウム微粒子の表
面が水和し、得られる導電性酸化インジウム被膜の導電
性が低下するおそれがある。
造方法について説明する。
は、異種元素を含有する結晶性酸化インジウム粉末を上
述したような特定の双極子モーメントを有する有機溶媒
を含む分散媒中に、必要に応じて粉砕処理を施して分散
させることによって製造される。
の原料として用いられる異種元素を含有する結晶性酸化
インジウム粉末は、たとえば異種元素の塩とインジウム
塩との混合水溶液中でこれらの塩を加水分解し、得られ
た加水分解物を乾燥・焼成することにより得られる。好
ましくは特開昭63−11519号公報に開示された方
法で製造された導電性酸化インジウム微粉末が用いられ
る。
する結晶性酸化インジウム粉末は、この粉末を構成する
微粒子が良好な導電性を示すようにするために、通常、
400℃以上で加熱処理がなされる。この結果、一次粒
子が焼結して数μm〜数百μmの平均粒径を有する二次
粒子からなる粉末が得られる。このような粒径の大きな
粉末を用いて酸化インジウムゾルを製造するためには、
これらの粉末を粉砕する必要がある。
ールミルやサンドミルなどによる通常の方法でコロイド
次元の粒径まで粉砕しようとすると、粉砕効率が悪く、
また得られた粉砕粒子は不安定で分散媒中ですぐに凝集
してしまう。
末を機械的手段で予め粉砕した後、分散媒として水を用
いることなく、直接、1.9[Debye] 以上の双極子モー
メントを有する有機溶媒または該有機溶媒を含む混合有
機溶媒に分散させることによって酸化インジウムオルガ
ノゾルが製造される。この過程で酸化インジウム微粒子
は有機溶媒と溶媒和を形成する。この際、特に加熱処理
を行う必要はないが、異種元素を含有する結晶性酸化イ
ンジウム粉末を構成している二次粒子の焼結が強固な場
合には、これら粉末を、分散媒に分散した後、サンドミ
ル、ボールミルなどの粉砕手段で粉砕処理することが好
ましい。
ク、金属、セラミックなどからなる平板、立体物、フィ
ルムなどの基材上に上記のようにして製造された本発明
に係る酸化インジウムゾルからなる塗布液から形成され
た通常、10〜300nm、好ましくは30〜200n
mの膜厚の導電性被膜を有している。
面抵抗が小さく、透明性に優れ、しかもヘーズが小さい
ので液晶表示素子やタッチパネルの透明電極付基板、陰
極線管の前面板、その他の電極付基材などに好適に応用
することができる。
に係る酸化インジウムオルガノゾルをディッピング法、
スピナー法、スプレー法、ロールコーター法、フレキソ
印刷法などの方法で塗布し、次いで得られた塗膜を乾燥
・焼成することによって製造される。
低温で行っても従来の導電性酸化インジウム被膜と同等
の高い導電性を示す。したがって、従来の導電性酸化イ
ンジウム被膜付基材のように500℃以上の温度で加熱
する必要はなく、このため、このような高温を加熱する
ことに起因する基材の損傷、歪み、割れなどが生じるこ
とはない。
明に係る酸化インジウムオルガノゾルのみを用いてもよ
いが、これに染料、有機顔料、あるいはカーボンブラッ
クなどの無機顔料を本発明の目的を損なわない範囲の量
で加えててもよい。このような着色剤を含む酸化インジ
ウムオルガノゾルからは着色された導電性被膜が基材上
に形成される。
機械的強度が要求されるときは、この導電性被膜上に保
護膜を形成すればよい。この保護膜を形成する際には、
通常の保護膜形成用塗布液、例えばアルコキシシラン加
水分解物を含むシリカ系被膜形成用塗布液が用いられ
る。
被膜上に、この導電性被膜よりも屈折率の低い透明被膜
をその光学的膜厚をコントロールしながら形成すれば、
反射防止性の導電性被膜付基材が得られる。さらに、こ
の屈折率の低い透明被膜を上述したようなシリカ系被膜
形成用塗布液を用いて形成すれば、反射防止性能に優
れ、しかも機械的強度が高い導電性被膜付基材が得られ
る。
ルは、異種元素を含有する結晶性酸化インジウム微粒子
のゾルであるので、基材上にこのゾルを含む塗布液を塗
布し、200℃以下の低温で乾燥・焼成して酸化インジ
ウム被膜を形成しても高い導電性を有する被膜付基材が
得られる。
ム被膜に高導電性を付与するために塗布後、500℃以
上の焼成過程を経て製造する必要がある従来の導電性酸
化インジウム被膜付基材に比較して耐熱性の低い基材に
も導電性被膜付基材が形成できる。
ノゾルは、ゾル製造過程で水を用いることなく、異種元
素を含有する結晶性酸化インジウム微粒子を、直接、
1.9[Debye] 以上の双極子モーメントを有する有機溶
媒または該有機溶媒を含む混合有機溶媒に分散して製造
されるので、分散後にゾル中の微粒子が凝集することは
なく、水を用いて製造された従来の酸化インジウムゾル
に比較して微粒子の分散性に優れている。
ルガノゾルから得られた被膜は、酸化インジウム微粒子
の凝集に起因する斑点、白濁、むらなどがなく、外観に
優れている。
ガノゾルを用いると、水を用いて製造された従来の酸化
インジウムゾルを用いた場合に比較して導電性の高い被
膜を基材上に形成することができる。
種元素を含有する結晶性酸化インジウム微粒子の粒径を
小さくすることにより、ヘーズが低く、しかも導電性の
高い被膜を基材上に形成することができる。
オルガノゾル中の異種元素を含有する酸化インジウム微
粒子が結晶性であるため、このゾルからなる塗布液から
基材上に形成された導電性被膜の屈折率は、1.7〜
2.0と高い。このようにして基材上に形成された導電
性酸化インジウム被膜上に低屈折率の被膜を積層すれ
ば、導電性および反射防止性に優れた導電性被膜付基材
を提供することが可能である。
反射防止性に優れた導電性被膜付基材が提供可能であ
る。
発明はこれら実施例に限定されるものではない。
溶解した硝酸インジウム水溶液と、スズ酸カリウム1
2.7gを10重量%水酸化カリウム水溶液に溶解した
スズ酸カリウム水溶液とを調製した。
しながら前記硝酸インジウム水溶液と前記スズ酸カリウ
ム水溶液とを添加し、系内のpHを11に保持しながら
水溶液中の硝酸インジウムとスズ酸カリウムとを加水分
解した。このようにして生成した微粒子をろ別し、洗浄
し、乾燥した後、窒素中300℃で3時間焼成し、さら
に窒素中500℃で6時間焼成してSnがドープされた
In2 O3 (SnO2:17.5重量%)の微粉末
(A)を得た。
トン40gに充分に混合・分散させてからエタノール3
60gを加えた後、この分散液をサンドミルに収容し、
この分散液中の微粉末(A)をサンドミルで5時間粉砕
して固形分濃度20重量%のゾルAを得た。
mであり、ゾルA中の水分濃度は0.3%であった。こ
のようにして得られたゾルAは、6ケ月以上にわたって
微粒子の凝集・沈降もなく、安定であった。
後のX線回折図を図1に示す。図1は、この微粒子がBi
xbyite型のIn2 O3 であることを示している。
外は実施例1と同様にしてSnがドープされたIn2 O
3 (SnO2 :10.5重量%)の微粉末(B)を得
た。
ケトン400gに充分に混合・分散させた後、この分散
液をサンドミルに収容し、この分散液中の微粉末(B)
をサンドミルで3時間粉砕して固形分濃度20重量%の
ゾルBを得た。
mであり、ゾルB中の水分濃度は0.2%であった。こ
のようにして得られたゾルBは、6ケ月以上にわたって
微粒子の凝集・沈降もなく、安定であった。
外は実施例1と同様にしてSnがドープされたIn2 O
3 (SnO2 :13.3重量%の微粉末(C)を得た。
ルブ300gに充分に混合・分散させてからメタノール
100gを加えた後、この分散液をサンドミルに収容
し、この分散液中の微粉末(C)をサンドミルで8時間
粉砕して固形分濃度20重量%のゾルCを得た。
mであり、ゾルC中の水分濃度は0.4%であった。こ
のようにして得られたゾルCは、6ケ月以上にわたって
微粒子の凝集・沈降もなく、安定であった。
0gとを水788gに溶解した塩化インジウム−塩化ス
ズ水溶液と、10重量%水酸化カリウム水溶液とをそれ
ぞれ調製した。
拌しながら前記塩化インジウム−塩化スズ水溶液と前記
水酸化カリウム水溶液とを添加し、系内のpHを11に
保持しながら水溶液中の塩化インジウムと塩化スズとを
加水分解した。このようにして生成した微粒子をろ別
し、洗浄し、乾燥した後、窒素中300℃で3時間焼成
し、さらに窒素中500℃で6時間焼成してSnがドー
プされたIn2 O3 (SnO2 :13.0重量%)の微
粉末(D)を得た。
ルブ300gに充分に混合・分散させてからエタノール
86gと純水24gとを加えた後、この分散液をサンド
ミルに収容し、この分散液中の微粉末(D)をサンドミ
ルで5時間粉砕して固形分濃度20重量%のゾルDを得
た。
mであり、ゾルD中の水分濃度は5.0%であった。こ
のようにして得られたゾルDは、6ケ月以上にわたって
微粒子の凝集・沈降もなく、安定であった。
アンモニウム1.79g用いた以外は実施例1と同様に
してSnおよびFがドープされたIn2 O3 (Sn
O2 :17.1重量%、F:2.0重量%)の微粉末
(E)を得た。
チル200gに充分に混合・分散させてからイソプロピ
ルアルコール200gを加えた後、この分散液をサンド
ミルに収容し、この分散液中の微粉末(E)をサンドミ
ルで2時間粉砕して固形分濃度20重量%のゾルEを得
た。
mであり、ゾルE中の水分濃度は0.2%であった。こ
のようにして得られたゾルEは、6ケ月以上にわたって
微粒子の凝集・沈降もなく、安定であった。
をろ別し、洗浄した後、この微粒子をSiO2 換算量で
20重量%のシリカゾル(触媒化成工業(株)製S−5
50、平均粒径5.5nm)5gとを混合した。この混
合物を乾燥し、次いで実施例1と同様にして焼成してS
nおよびSiがドープされたIn2 O3 (SnO2 :1
7.1重量%、SiO2 :2.2重量%)の微粉末
(F)を得た。
ロリドン10gに充分に混合・分散させてからn−ブタ
ノール390gを加えた後、この分散液をサンドミルに
収容し、この分散液中の微粉末(F)をサンドミルで4
時間粉砕して固形分濃度20重量%のゾルFを得た。
mであり、ゾルF中の水分濃度は0.8%であった。こ
のようにして得られたゾルFは、6ケ月以上にわたって
微粒子の凝集・沈降もなく、安定であった。
重量%の炭酸ジルコニウム・アンモニウム水溶液3g用
いた以外は実施例3と同様にしてSnおよびZrがドー
プされたIn2 O3 (SnO2 :17.4重量%、Z
r:0.3重量%)の微粉末(G)を得た。
ルコール300gに充分に混合・分散させてからエチレ
ングリコール100gを加えた後、この分散液をサンド
ミルに収容し、この分散液中の微粉末(G)をサンドミ
ルで2時間粉砕して固形分濃度20重量%のゾルGを得
た。
nmであり、ゾルG中の水分濃度は0.1%であった。
このようにして得られたゾルGは、6ケ月以上にわたっ
て微粒子の凝集・沈降もなく、安定であった。
300gに充分に混合・分散させてからメタノール61
gと純水39gを加えた後、この分散液をサンドミルに
収容し、この分散液中の微粉末(C)をサンドミルで5
時間粉砕して固形分濃度20重量%のゾルHを得た。
mであり、ゾルH中の水分濃度は8.0%であった。こ
のようにして得られたゾルHは、6ケ月以上にわたって
微粒子の凝集・沈降もなく、安定であった。
散した分散液のpHを濃塩酸で1.0に調整した後、こ
の分散液をサンドミルに収容し、この分散液中の微粉末
(A)をサンドミルで5時間粉砕した。次いで、この分
散液をオートクレーブ中で液相に保ちながら250℃で
1時間加熱して固形分濃度20重量%の水性ゾルを得
た。
減圧蒸留法(90℃)で溶媒置換して水分濃度0.8重
量%、固形分濃度20重量%のメチルセロソルブを分散
媒とするオルガノゾルIを得た。
mであった。このようにして得られたゾルIは、6ケ月
以上にわたって微粒子の凝集・沈降もなく、安定であっ
た。
を加えず、エタノール400gのみを加えた以外は実施
例1と同様にして固形分濃度20重量%のゾルJを得
た。
0nmであり、ゾルJ中の水分濃度は0.2%であっ
た。このようにして得られたゾルJでは、1日後に微粒
子の凝集および沈降が生じていることが観察された。
分濃度は次のようにして測定した。 平均粒径 :粒径測定機(日立製作所(株)製CAPA−
700)で測定した。水分濃度 :カールフィッシャー(京都電子(株)製)で
測定した。
1で得られたゾルA〜Jを、エタノール70%、イソプ
ロピルアルコール15%、プロピレングリコールモノメ
チルエーテル10%、ジアセトンアルコール5%(重量
比)の混合溶媒で、固形分濃度5.0重量%まで希釈
し、さらにエタノールで希釈して固形分濃度2.0重量
%の塗布液を調製した。
に塗布し、下記条件で導電性被膜を形成した。 パネル表面温度:40℃ 塗布法 :スピナー法(100rpm、60秒) 焼成条件 :200℃、30分 このようにして得られた導電性被膜付基材につき、下記
項目の測定・評価を行った。
LORESTA)で測定した。 ヘーズ :ヘーズコンピュータ(スガ試験機製)で測定
した。 外観 :目視観察により、白濁、微小斑点およびむら
のないものを良(○)として評価した。
iO2 :28重量%)100g、エタノール390g、
純水67.2g、61%HNO3 2.8gの混合液を、
エタノール60g、ブタノール20g、ジアセトンアル
コール20gからなる希釈液で固形分濃度0.85重量
%に希釈した被膜形成用塗布液を調製した。
た導電性塗布液を、ブラウン管用14”パネル上に、そ
の表面温度を40℃に保持しながらスピナー法(100
rpm、60秒)で塗布した。
0℃に保持しながら、得られた導電性被膜上に、上記被
膜形成用塗布液を、上記と同様にして塗布した。しかる
後、得られた積層被膜付基材を200℃で30分間焼成
して積層導電性被膜付基材を得た。
につき、それぞれの反射率を分光光度計(日本分光社:
U−best)で測定した。結果を表3に示す。
ゾルの一例につき、その中に含まれている結晶性酸化イ
ンジウム微粒子のX線回折図である。
Claims (8)
- 【請求項1】 異種元素を含有する結晶性酸化インジウ
ム微粒子が、1.9[Debye] 以上の双極子モーメントを
有する有機溶媒または該有機溶媒を含む混合有機溶媒に
分散されていることを特徴とする酸化インジウムオルガ
ノゾル。 - 【請求項2】 前記異種元素が、Si、Ge、Sn、Z
rおよびTiから選ばれる1種または2種以上であり、
前記結晶性酸化インジウム微粒子中に酸化物換算量で
0.1〜20重量%含まれていることを特徴とする請求
項1に記載の酸化インジウムオルガノゾル。 - 【請求項3】 前記異種元素が、Fであり、前記結晶性
酸化インジウム微粒子中に0.1〜10重量%含まれて
いることを特徴とする請求項1に記載の酸化インジウム
オルガノゾル。 - 【請求項4】 前記1.9[Debye] 以上の双極子モーメ
ントを有する有機溶媒が、分子内にカルボニル基および
/またはエーテル基を有する有機溶媒であることを特徴
とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の酸化イ
ンジウムオルガノゾル。 - 【請求項5】 前記1.9[Debye] 以上の双極子モーメ
ントを有する有機溶媒が、複素環を有する有機溶媒であ
ることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に
記載の酸化インジウムオルガノゾル。 - 【請求項6】 水分濃度が5重量%以下であることを特
徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の酸化
インジウムオルガノゾル。 - 【請求項7】 異種元素を含有する結晶性酸化インジウ
ム微粒子を、直接、1.9[Debye] 以上の双極子モーメ
ントを有する有機溶媒または該有機溶媒を含む混合有機
溶媒に分散させることを特徴とする酸化インジウムオル
ガノゾルの製造方法。 - 【請求項8】 請求項1に記載の酸化インジウムオルガ
ノゾルから形成された導電性被膜を基材上に有すること
を特徴とする導電性被膜付基材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP09715795A JP3906933B2 (ja) | 1995-04-21 | 1995-04-21 | 酸化インジウムオルガノゾルの製造方法 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publication Number | Publication Date |
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JPH08295513A true JPH08295513A (ja) | 1996-11-12 |
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ID=14184744
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP09715795A Expired - Lifetime JP3906933B2 (ja) | 1995-04-21 | 1995-04-21 | 酸化インジウムオルガノゾルの製造方法 |
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JP (1) | JP3906933B2 (ja) |
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---|---|---|---|---|
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- 1995-04-21 JP JP09715795A patent/JP3906933B2/ja not_active Expired - Lifetime
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