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JPH08215875A - Laser beam machine - Google Patents

Laser beam machine

Info

Publication number
JPH08215875A
JPH08215875A JP7047788A JP4778895A JPH08215875A JP H08215875 A JPH08215875 A JP H08215875A JP 7047788 A JP7047788 A JP 7047788A JP 4778895 A JP4778895 A JP 4778895A JP H08215875 A JPH08215875 A JP H08215875A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser light
objective lens
laser
stage
lens
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7047788A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Joji Iwamoto
譲治 岩本
Ikuo Hikima
郁雄 引間
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP7047788A priority Critical patent/JPH08215875A/en
Publication of JPH08215875A publication Critical patent/JPH08215875A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

PURPOSE: To improve processing capacity in laser machining by providing plural objective lenses. CONSTITUTION: A first and a second objective lenses 26A and 26B respectively are provided; on and off of light modulators 25A, 25B is each controlled by a controller 18; and the irradiation timing is independently controlled of laser beams L1 ', L1 " from the objective lenses 26A, 26B. As a result, in the case of simultaneous irradiation of these laser beams L1 ' L1 ", machining is made possible at plural places simultaneously with a shortened machining time. In addition, in the case of different irradiation timing of the laser beams L1 ', L1 " from the objective lenses 26A, 26B, it is possible to change a machining length at each machining place and to machine the objects simultaneously which have a different pitch for each machining place in the machining direction.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はレーザ加工装置に係り、
更に詳しくは、2次元移動するステージの移動位置デー
タと所定の加工位置データとに基づきステージを被加工
物の加工位置へ位置決めしつつレーザ光を用いてステー
ジ上の被加工物に加工を施すレーザ加工装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser processing apparatus,
More specifically, a laser for processing a workpiece on a stage by using a laser beam while positioning the stage at the processing position of the workpiece based on the moving position data of the stage that moves two-dimensionally and predetermined processing position data. Regarding processing equipment.

【0002】[0002]

【従来の技術】この種のレーザ加工装置は、例えば、特
開平5−115992号公報や特開平6−277864
号公報等に開示されている如く、装置内に固定されたレ
ーザ光の照射光学系を構成する対物レンズと、この対物
レンズの光軸に直交する基準平面内を2次元方向に移動
するXYステージとを備えている。そして、制御手段で
は、干渉計等の位置検出手段により検出されたステージ
の移動位置データと予めメモリ内に記憶されたステージ
上の被加工物の加工位置データとに基づいて被加工物の
加工ポイントが対物レンズの光軸上に来るようにステー
ジを位置決めしつつレーザビームを用いてステージ上の
被加工物に加工を施していた。
2. Description of the Related Art A laser processing apparatus of this type is disclosed, for example, in Japanese Patent Laid-Open No. 5-115992 and Japanese Patent Laid-Open No. 6-277864.
As disclosed in Japanese Patent Laid-Open Publication No. 1989-331, an objective lens which is fixed in the apparatus and constitutes an optical system for irradiating laser light, and an XY stage which moves in a two-dimensional direction within a reference plane orthogonal to the optical axis of the objective lens. It has and. Then, in the control means, based on the moving position data of the stage detected by the position detecting means such as an interferometer and the processing position data of the workpiece on the stage stored in advance in the memory, the processing point of the workpiece is processed. The workpiece was processed on the stage by using the laser beam while positioning the stage so that the laser beam was on the optical axis of the objective lens.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来のレーザ加工装置にあっては、被加工物の加工の
ため、レーザ光を照射するレーザ照射系は1つしかな
く、処理能力に限界があった。
However, in the above-mentioned conventional laser processing apparatus, since there is only one laser irradiation system for irradiating the laser beam for processing the workpiece, the processing capacity is limited. there were.

【0004】本発明は、かかる事情の下になされたもの
で、その目的は処理能力の向上を図ることができるレー
ザ加工装置を提供することにある。
The present invention has been made under the above circumstances, and an object thereof is to provide a laser processing apparatus capable of improving the processing capacity.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、基準平面内を
2次元方向に移動するステージと、前記ステージの移動
位置を検出する位置検出手段とを備え、所定の加工位置
データと前記位置検出手段からの位置データとに基づき
前記ステージを対物レンズ光軸上に位置決めしつつ当該
対物レンズを介してレーザ光を前記ステージ上に載置さ
れた被加工物に照射するレーザ加工装置であって、複数
の対物レンズと、各対物レンズからのレーザ光の照射タ
イミングを独立して制御する制御手段と、を有する。
The present invention comprises a stage that moves in a two-dimensional direction within a reference plane, and position detection means that detects the moving position of the stage, and provides predetermined machining position data and the position detection. A laser processing apparatus for irradiating a workpiece placed on the stage with laser light through the objective lens while positioning the stage on the optical axis of the objective lens based on position data from the means, It has a plurality of objective lenses and control means for independently controlling the irradiation timing of laser light from each objective lens.

【0006】この場合において、前記複数の対物レンズ
は全て固定でも良いが、少なくとも一つが装置に固定さ
れ、残りの対物レンズは移動可能とされていても良い。
かかる場合には、移動可能な各対物レンズの移動位置を
検出するレンズ位置検出手段と、レンズ位置検出手段の
出力に基づいて移動可能な各対物レンズを独立に駆動し
て固定された対物レンズと移動可能な各対物レンズとの
間隔を任意に設定するレンズ間隔設定手段と、を更に設
けても良い。
In this case, all of the plurality of objective lenses may be fixed, but at least one of them may be fixed to the apparatus and the remaining objective lenses may be movable.
In such a case, a lens position detecting means for detecting the moving position of each movable objective lens, and an objective lens fixed by independently driving each movable objective lens based on the output of the lens position detecting means. A lens interval setting means for arbitrarily setting an interval with each movable objective lens may be further provided.

【0007】レーザ光源は単一でも複数でもよい。レー
ザ光源が単一である場合には、このレーザ光源から出射
されるレーザ光を分割する光分割手段と、この光分割手
段で分割された各レーザ光の前記各対物レンズへの入射
・非入射状態を独立して設定する設定手段とを設け、制
御手段がこの設定手段を制御するような構成が望まし
い。
The laser light source may be single or plural. When there is only one laser light source, a light splitting means for splitting the laser light emitted from this laser light source, and the incidence / non-incidence of each laser light split by this light splitting means on the respective objective lens It is desirable that a setting means for independently setting the state is provided and the control means controls the setting means.

【0008】一方、レーザ光源を複数設ける場合には、
この光源の数を対物レンズに対応する数とし、当該各レ
ーザ光源からそれぞれ出射されたレーザ光が各対物レン
ズから照射されるように構成し、制御手段が各レーザ光
源のレーザ光の出射タイミングを独立して制御するよう
にしても良い。
On the other hand, when a plurality of laser light sources are provided,
The number of light sources is set to a number corresponding to the objective lens, and the laser light emitted from each laser light source is configured to be emitted from each objective lens, and the control unit controls the emission timing of the laser light of each laser light source. You may make it control independently.

【0009】[0009]

【作用】上記構成によれば、対物レンズが複数設けられ
ており、制御手段により各対物レンズからのレーザ光の
照射タイミングが独立して制御される。このため、制御
手段が複数の対物レンズからのレーザ光を同時に照射さ
せる場合には、複数箇所で同時に加工を行なうことが可
能となり、加工時間が短縮される。また、制御手段が複
数の対物レンズからのレーザ光の照射タイミングを異な
らせた場合には、個々の加工箇所で加工長を変えたり、
加工方向で加工箇所毎にピッチの異なる被加工物であっ
ても同時加工が可能となる。
According to the above construction, a plurality of objective lenses are provided, and the irradiation timing of the laser beam from each objective lens is independently controlled by the control means. Therefore, when the control means simultaneously irradiates laser light from a plurality of objective lenses, it is possible to perform processing at a plurality of positions at the same time, and the processing time is shortened. Further, when the control means changes the irradiation timing of the laser light from the plurality of objective lenses, the processing length is changed at each processing location,
Simultaneous processing is possible even for workpieces having different pitches in the processing direction at each processing location.

【0010】対物レンズの少なくとも一つが装置に固定
され、残りの対物レンズは移動可能とされ、レンズ位置
検出手段とレンズ間隔設定手段とを更に設けた場合に
は、レンズ間隔設定手段では、レンズ位置検出手段の出
力に基づいて移動可能な各対物レンズを独立に駆動して
固定された対物レンズと移動可能な各対物レンズとの間
隔を任意に設定する。このため、被加工物の非加工方向
のピッチに合せた対物レンズ同士の間隔の設定が可能と
なり、個々の加工箇所で加工長を変えたり、加工方向は
勿論、非加工方向で加工箇所のピッチの異なる被加工物
であっても加工することが可能となる。
At least one of the objective lenses is fixed to the apparatus, the remaining objective lenses are movable, and when the lens position detecting means and the lens interval setting means are further provided, the lens interval setting means uses the lens position. Each movable objective lens is independently driven based on the output of the detection means to arbitrarily set the distance between the fixed objective lens and each movable objective lens. For this reason, it is possible to set the distance between the objective lenses according to the pitch of the workpiece in the non-machining direction, change the machining length at each machining location, and of course the machining direction, as well as the pitch of the machining location in the non-machining direction. It is possible to process workpieces of different types.

【0011】また、レーザ光源が単一で、光分割手段と
設定手段とを設けた場合には、単一のレーザ光源から出
射されるレーザ光が光分割手段で分割され、設定手段で
は制御手段により制御され、分割された各レーザ光の各
対物レンズへの入射・非入射状態を独立して設定する。
このようにして設定手段を介して各対物レンズからのレ
ーザ光の照射タイミングが独立して制御される。この場
合、レーザ光源が単一であるため、また装置の小型化、
コストの低減が図れる。
When the laser light source is single and the light splitting means and the setting means are provided, the laser light emitted from the single laser light source is split by the light splitting means, and the setting means controls the means. The state of incidence / non-incidence of each of the divided laser beams on each objective lens is independently set.
In this way, the irradiation timing of the laser light from each objective lens is independently controlled via the setting means. In this case, since the laser light source is single, downsizing of the device,
The cost can be reduced.

【0012】一方、レーザ光源を対物レンズに対応する
数だけ設け、当該各レーザ光源からそれぞれ出射された
レーザ光が各対物レンズから照射されるように構成する
場合には、制御手段が各レーザ光源のレーザ光の出射タ
イミングを直接独立して制御することにより、各対物レ
ンズからのレーザ光の照射タイミングが独立して制御さ
れる。
On the other hand, when the number of laser light sources corresponding to the objective lenses is provided and the laser light emitted from each laser light source is irradiated from each objective lens, the control means has each laser light source. By directly and independently controlling the emission timing of the laser light, the irradiation timing of the laser light from each objective lens is independently controlled.

【0013】[0013]

【実施例】【Example】

《第1実施例》以下、本発明の第1実施例を図1ないし
図2に基づいて説明する。
<< First Embodiment >> A first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

【0014】図1には、第1実施例に係るレーザ加工装
置10の概略構成が示されている。このレーザ加工装置
10は、図1の紙面に直交する基準平面内を2次元方向
に移動するステージとしてのXYステージ12と、この
XYステージ12上に載置された被加工物14に対し加
工用のレーザ光を照射する第1、第2の照射光学系(こ
れについては後述する)と、被加工部位の観察用光学系
(これについては後述する)と、XYステージ12の移
動位置を検出する位置検出手段としてのステージ座標読
み取り装置16と、XYステージ12の移動位置及びレ
ーザ光の出射タイミング等を制御する制御手段としての
コントローラ18とを、備えている。
FIG. 1 shows a schematic structure of a laser processing apparatus 10 according to the first embodiment. This laser processing apparatus 10 is for processing an XY stage 12 as a stage that moves in a two-dimensional direction within a reference plane orthogonal to the paper surface of FIG. 1 and a workpiece 14 placed on the XY stage 12. The first and second irradiation optical systems (which will be described later) for irradiating the laser beam, the optical system for observing the processed part (which will be described later), and the moving position of the XY stage 12. A stage coordinate reading device 16 as position detecting means and a controller 18 as control means for controlling the moving position of the XY stage 12 and the emission timing of laser light are provided.

【0015】第1の照射光学系は、レーザ光源20から
射出されたレーザ光L1 を分割する光分割手段としての
ハーフミラー(ビームスプリッタ)23と、このハーフ
ミラー23で2分割された一方のレーザ光(透過光)L
1'の光量調整部22Aとレーザ光L1'をXYステージ1
2に向けて反射するダイクロイックミラー24と、この
ダイクロイックミラー24で反射されたレーザ光L1'の
進行方向先に前記基準平面に直交する状態でその光軸が
配置された第1対物レンズ26Aと、を含んで構成され
ている。ここで、第1対物レンズ26Aは装置本体に固
定されている。
The first irradiation optical system is a half mirror (beam splitter) 23 as a light splitting means for splitting the laser light L1 emitted from the laser light source 20, and one of the lasers split by the half mirror 23. Light (transmitted light) L
The XY stage 1 receives the light quantity adjusting unit 22A of 1'and the laser light L1 '.
A dichroic mirror 24 that reflects toward 2 and a first objective lens 26A whose optical axis is arranged in a direction orthogonal to the reference plane ahead of the traveling direction of the laser light L1 ′ reflected by the dichroic mirror 24; It is configured to include. Here, the first objective lens 26A is fixed to the apparatus main body.

【0016】ハーフミラー23とダイクロイックミラー
24との間のレーザ光L1'の光路上には、第1の光変調
器25Aが配置されている。この第1の光変調器25A
は、レーザ光L1'の第1対物レンズ26Aへの入射・非
入射状態(これについては後述する)を設定するために
設けられており、コントローラ18によりオン・オフ制
御されるようになっている。
A first optical modulator 25A is arranged on the optical path of the laser beam L1 'between the half mirror 23 and the dichroic mirror 24. This first optical modulator 25A
Is provided for setting the incident / non-incident state of the laser beam L1 ′ to the first objective lens 26A (this will be described later), and is controlled to be turned on / off by the controller 18. .

【0017】本実施例では、この第1の光変調器25A
としていわゆる音響光学変調器(AOM)が使用されて
いる。周知の通り、この音響光学変調器に周波数fの高
周波信号でドライブすると、レーザビームL1'の光路を
横切るようにその周波数に応じた粗密波が発生し、この
粗密波をレーザビームL1'が通ると、直進する0次光と
ブラッグ回折により周波数fで決まる回折角だけ偏向さ
れた1次回折光が発生するので、周波数fを調整するこ
とにより、直進する0次光のみを第1対物レンズ26A
に入射させ、1次回折光は第1対物レンズ26Aに入射
させないようにすることが可能である。従って、本実施
例では、レーザ加工を行なうときは、第1の光変調器2
5Aをオフにして、当該第1の光変調器25Aに入射し
たレーザビームL1'を減衰(強度低下)させることな
く、第1対物レンズ26Aに入射させ、反対に、レーザ
加工を行なわないときは第1の光変調器25Aをオンに
してレーザビームL1'を大きく減衰させて第1対物レン
ズ26Aへ入射させるようにする。
In the present embodiment, this first optical modulator 25A
A so-called acousto-optic modulator (AOM) is used as the. As is well known, when the acousto-optic modulator is driven by a high frequency signal of frequency f, a compressional wave corresponding to the frequency is generated so as to traverse the optical path of the laser beam L1 ', and the compressional wave is passed by the laser beam L1'. Then, since the 0th-order light traveling straight and the 1st-order diffracted light deflected by the diffraction angle determined by the frequency f by Bragg diffraction are generated, only the 0th-order light traveling straight is adjusted by adjusting the frequency f.
The first-order diffracted light can be prevented from entering the first objective lens 26A. Therefore, in the present embodiment, when laser processing is performed, the first optical modulator 2
When 5A is turned off and the laser beam L1 'incident on the first optical modulator 25A is incident on the first objective lens 26A without being attenuated (decreased in intensity), on the contrary, when laser processing is not performed, The first light modulator 25A is turned on to greatly attenuate the laser beam L1 'so that it is incident on the first objective lens 26A.

【0018】このように、厳密に言うと、第1の光変調
器25Aがオン状態であっても第1対物レンズ26Aに
はレーザビームL1'の0次光が入射するが、この0次光
が第1対物レンズ26Aを介して被加工物14へ照射さ
れても被加工物14に損傷を与えるには至らない程度で
あるから、第1の光変調器25Aがオン状態であれば、
レーザビームL1'は第1対物レンズ26Aへ入射してい
ないと考えて差し支えなく、本実施例中の説明では、こ
の状態を非入射状態という。このように考えることは、
例えば、AOMを複数直列に配置すれば、最終段のAO
Mから射出される0次光の光量を殆ど零にすることがで
きるので実際上も問題はない。
As described above, strictly speaking, even if the first optical modulator 25A is in the ON state, the 0th order light of the laser beam L1 'is incident on the first objective lens 26A. Is irradiating the work piece 14 through the first objective lens 26A, it does not damage the work piece 14, so if the first optical modulator 25A is in the ON state,
It can be considered that the laser beam L1 'is not incident on the first objective lens 26A, and this state is referred to as a non-incident state in the description of the present embodiment. Thinking this way
For example, if multiple AOMs are arranged in series, the AO at the final stage
Since the amount of 0th-order light emitted from M can be made almost zero, there is no problem in practice.

【0019】第2の照射光学系は、前記ハーフミラー2
3と、このハーフミラー23で2分割された他方のレー
ザ光(反射光)L1"の光量調整部22Bと、レーザ光L
1"を順次XYステージ12に向けて反射する2つのミラ
ー27、28と、ミラー28で反射されたレーザ光L1"
の進行方向先に基準平面に直交する状態でその光軸が配
置された第2の対物レンズ26Bと、を含んで構成され
ている。ハーフミラー23とミラー27との間のレーザ
光L1"の光路上には、第2の光変調器25Bが配置され
ている。この第2の光変調器25Bは、第1の光変調器
25Aと同様の機能を有するAOMにより構成され、レ
ーザ光L1"の第2対物レンズ26Bへの入射・非入射状
態を設定するために設けられている。この第2の光変調
器25Bもコントローラ18によりオン・オフ制御され
るようになっている。
The second irradiation optical system is the half mirror 2
3, a light quantity adjusting unit 22B for the other laser light (reflected light) L1 ″ split into two by the half mirror 23, and a laser light L
Two mirrors 27, 28 that sequentially reflect 1 "toward the XY stage 12, and laser light L1" reflected by the mirror 28
And a second objective lens 26B whose optical axis is arranged in a state of being orthogonal to the reference plane in the traveling direction of the above. A second optical modulator 25B is arranged on the optical path of the laser beam L1 ″ between the half mirror 23 and the mirror 27. The second optical modulator 25B is the first optical modulator 25A. It is composed of an AOM having the same function as the above, and is provided to set the incident / non-incident state of the laser beam L1 ″ to the second objective lens 26B. The second optical modulator 25B is also on / off controlled by the controller 18.

【0020】ミラー28と第2対物レンズ26Bとは保
持部材(図示省略)によって一体的に保持されており、
これらによって図1の矢印A方向(XYステージ12の
移動方向であるX軸方向と同じ)に移動可能な駆動部3
0が構成されている。この駆動部30には、図1では図
示を省略したが、実際には、図2に示されるようなレン
ズ位置検出手段32が併設されている。このレンズ位置
検出手段32は、駆動部30の一端面に設けられたいわ
ゆる直角プリズムと同様の一対の反射面33A、33B
を有する反射ミラー34と、この反射ミラー34に向け
て干渉計レーザ光Lを発振する干渉計レーザ光源36
と、レーザ光Lと反射ミラー34の第1、第2反射面3
3A、33Bで順次反射され逆向きに進むレーザ光Lの
反射光L’とを干渉させるレーザ干渉計38と、このレ
ーザ干渉計38で干渉された干渉光をその強度に応じた
電気信号に光電変換する受光器40と、を含んで構成さ
れている。
The mirror 28 and the second objective lens 26B are integrally held by a holding member (not shown),
With these, the drive unit 3 movable in the direction of arrow A in FIG. 1 (the same as the X-axis direction which is the moving direction of the XY stage 12)
0 is configured. Although not shown in FIG. 1, the drive unit 30 is actually provided with a lens position detecting means 32 as shown in FIG. The lens position detecting means 32 is a pair of reflecting surfaces 33A and 33B similar to a so-called right-angle prism provided on one end surface of the driving unit 30.
And the interferometer laser light source 36 that oscillates the interferometer laser light L toward the reflection mirror 34.
And the laser beam L and the first and second reflecting surfaces 3 of the reflecting mirror 34.
Laser interferometer 38 that interferes with reflected light L ′ of laser light L that is sequentially reflected by 3A and 33B and travels in the opposite direction, and the interference light interfered by this laser interferometer 38 is converted into an electric signal according to its intensity. And a light receiver 40 for conversion.

【0021】このような構成のレンズ位置検出手段32
によれば、駆動部30とレーザ干渉計38との距離に応
じて強度の異なる電気信号が受光器40から得られる
が、本第1実施例ではこの受光器40の出力がコントロ
ーラ18に送出されるようになっている。従って、コン
トローラ18では受光器40の出力信号波形に基づいて
駆動部30の移動位置を常にモニタできるようになって
いる。
The lens position detecting means 32 having such a structure
According to the above, an electric signal having a different intensity depending on the distance between the drive unit 30 and the laser interferometer 38 is obtained from the photodetector 40. In the first embodiment, the output of the photodetector 40 is sent to the controller 18. It has become so. Therefore, the controller 18 can always monitor the moving position of the drive unit 30 based on the output signal waveform of the light receiver 40.

【0022】前記観察用光学系は、照明光源42からの
観察用照明光L2 を第1対物レンズ26Aに向けて反射
するハーフミラー44と、この観察用照明光L2 を前記
レーザ光L1'と同一の光軸で被加工物14に照射する第
1対物レンズ26Aと、被加工物14からの反射光を第
1対物レンズ26A、ダイクロイックミラー24及びハ
ーフミラー44を通して受光する被加工物表面と共役に
置かれたCCDカメラ46とを含んで構成されている。
CCDカメラ46には、テレビモニタ48が併設されて
いる。
The observation optical system includes a half mirror 44 that reflects the observation illumination light L2 from the illumination light source 42 toward the first objective lens 26A, and the observation illumination light L2 is the same as the laser light L1 '. The first objective lens 26A that irradiates the work piece 14 with the optical axis of and the surface of the work piece that receives the reflected light from the work piece 14 through the first objective lens 26A, the dichroic mirror 24, and the half mirror 44. And a CCD camera 46 placed on it.
A television monitor 48 is attached to the CCD camera 46.

【0023】この観察用光学系によれば、照明光L2
は、ハーフミラー44で反射された後、第1対物レンズ
26Aによりレーザ光L1'と同一の光軸で被加工物14
に照射される。被加工物14に照射された照明光L2
は、被加工物14で反射され、その反射光はCCDカメ
ラ46で検出され、テレビモニター48により加工状態
が観察できるようになっている。
According to this observation optical system, the illumination light L2
Is reflected by the half mirror 44, and then is processed by the first objective lens 26A along the same optical axis as the laser beam L1 '.
Is irradiated. Illumination light L2 applied to the workpiece 14
Is reflected by the workpiece 14, the reflected light is detected by the CCD camera 46, and the processing state can be observed by the television monitor 48.

【0024】前記XYステージ12上には、被加工物1
4に照射されるレーザ光の光量を検出するエネルギメー
タ50が設けられており、このエネルギメータ50の出
力がコントローラ18に入力されるようになっている。
The workpiece 1 is placed on the XY stage 12.
An energy meter 50 for detecting the light amount of the laser light with which the laser beam 4 is irradiated is provided, and the output of the energy meter 50 is input to the controller 18.

【0025】前記コントローラ18は、マイクロコンピ
ュータで構成されており、ステージ座標読み取り装置1
6の出力(X,Y座標)及び図示しない内部メモリに格
納された被加工物14上の加工部位のデータに基づいて
ステージ駆動用のモータ52を駆動制御することによ
り、XYステージ12の位置決め、即ち被加工物14の
加工部位(加工ポイント)の第1対物レンズ26A、第
2対物レンズ26Bの光軸に対する位置決めを行なう。
The controller 18 comprises a microcomputer, and the stage coordinate reading device 1
Positioning of the XY stage 12 by driving and controlling the motor 52 for driving the stage based on the output (6, X, Y coordinates) of 6 and the data of the processed portion on the workpiece 14 stored in the internal memory (not shown). That is, the processing portion (processing point) of the workpiece 14 is positioned with respect to the optical axes of the first objective lens 26A and the second objective lens 26B.

【0026】また、このコントローラ18は、XYステ
ージ12上のエネルギメータ50の出力に基づいて所定
の設定エネルギーになるように、光量調整部22A、2
2Bを調整する機能をも有している。更に、このコント
ローラ18は、ステージ移動位置制御と共に前述した第
1、第2の光変調器25A、25Bを各別にオン・オフ
制御してレーザ光の出射タイミングを制御する機能をも
備えている。即ち、本実施例では、第1、第2の光変調
器25A、25Bによってハーフミラー23で分割され
た各レーザ光L1'、L1"の各対物レンズ26A,26B
への入射・非入射状態を独立して設定する設定手段が構
成されている。
Further, the controller 18 sets the light amount adjusting units 22A, 2A so that a predetermined set energy is obtained based on the output of the energy meter 50 on the XY stage 12.
It also has the function of adjusting 2B. Further, the controller 18 also has a function of controlling the stage movement position and controlling the emission timing of the laser light by performing on / off control of each of the first and second optical modulators 25A and 25B described above. That is, in this embodiment, the objective lenses 26A and 26B of the laser beams L1 'and L1 "split by the half mirror 23 by the first and second optical modulators 25A and 25B are used.
Setting means for independently setting the incident / non-incident state on / off is configured.

【0027】次に、このようにして構成されたレーザ加
工装置10の全体的な作用を説明する。
Next, the overall operation of the laser processing apparatus 10 thus constructed will be described.

【0028】まず、コントローラ18では、予め内部メ
モリ内に記憶された設定間隔情報(加工位置データの一
部である)に従って前述したレンズ位置検出手段32を
介して駆動部30の移動位置をモニタしつつ、図示しな
い駆動機構を介して駆動部30を設定位置まで駆動し、
第1対物レンズ26Aと第2対物レンズ26Bの光軸間
の間隔を被加工物14上の加工部位のピッチに合わせて
設定する。即ち、本実施例では、図示しない駆動機構と
コントローラによりレンズ間隔設定手段が実現されてい
る。
First, the controller 18 monitors the moving position of the drive unit 30 via the lens position detecting means 32 described above according to the set interval information (which is a part of the processing position data) stored in advance in the internal memory. At the same time, the drive unit 30 is driven to a set position via a drive mechanism (not shown),
The distance between the optical axes of the first objective lens 26A and the second objective lens 26B is set according to the pitch of the processed portion on the workpiece 14. That is, in this embodiment, the lens interval setting means is realized by the drive mechanism and the controller (not shown).

【0029】次に、コントローラ18では、ステージ座
標読み取り装置16の出力座標値をモニタしつつモータ
52を駆動してエネルギメータ50の中心位置が第1対
物レンズ26Aの光軸と一致する位置までXYステージ
12を移動させる。この状態で、コントローラ18で
は、レーザ光源20へトリガー信号を送り、加工レーザ
光L1を発振させると同時に、第1の光変調器25Aを
オフ、第2の光変調器25Bをオンとする。これによ
り、レーザ光源20から出射されたレーザ光L1 は、ハ
ーフミラー23によってレーザ光L1'とL1"とに分割さ
れる。レーザ光L1'はダイクロイックミラー24で反射
された後、第1対物レンズ26Aを通してエネルギメー
タ50に照射され、当該エネルギメータ50によりレー
ザ光L1'の光量が検出される。コントローラ18では、
この検出された光量に基づいて被加工物14の加工に対
する適正光量となるように光量調整部22Aを調整す
る。このとき、第2の光変調器25Bがオンとなってい
るので、レーザ光L1" は第2対物レンズ26Bへ非入
射状態となっており、第2対物レンズ26Bからはレー
ザ光は照射されない。コントローラ18では、同様の方
法により、第2の対物レンズ26Bからのレーザ光L1"
の光量も適正光量となるように、光量調整部22Bを調
整する。
Next, the controller 18 drives the motor 52 while monitoring the output coordinate values of the stage coordinate reading device 16 and drives the motor 52 to an XY position until the center position of the energy meter 50 coincides with the optical axis of the first objective lens 26A. The stage 12 is moved. In this state, the controller 18 sends a trigger signal to the laser light source 20 to oscillate the processing laser beam L1, and at the same time, turns off the first optical modulator 25A and turns on the second optical modulator 25B. As a result, the laser light L1 emitted from the laser light source 20 is split into the laser lights L1 'and L1 "by the half mirror 23. The laser light L1' is reflected by the dichroic mirror 24 and then the first objective lens. The energy meter 50 is irradiated through 26A, and the energy amount of the laser light L1 'is detected by the energy meter 50.
Based on the detected light intensity, the light intensity adjusting unit 22A is adjusted so that the light intensity is appropriate for the processing of the workpiece 14. At this time, since the second light modulator 25B is turned on, the laser light L1 "is not incident on the second objective lens 26B, and the laser light is not emitted from the second objective lens 26B. The controller 18 uses the same method as the laser beam L1 ″ from the second objective lens 26B.
The light amount adjusting unit 22B is adjusted so that the light amount of is also an appropriate light amount.

【0030】このようにして対物レンズ間隔及び光量の
調整が終了すると、コントローラ18では、ステージ座
標出力装置16の出力座標をモニタしつつ内部メモリ内
に格納された加工位置データに基づきモータ52を駆動
してXYステージ12の移動制御を開始する。ここで
は、被加工物14の加工のため、XYステージ12をY
軸方向に移動させるものとすると、このXYステージ1
2のY軸方向移動中に被加工物14が所定の加工位置に
位置すると、コントローラ18では、レーザ光源20に
トリガー信号を送り、加工レーザ光L1 を発生させる。
このとき、コントローラ18では、第1、第2の照射光
学系を用いて同時に加工を行う場合は両方の光変調器2
5A、25Bをオフにする。これにより、レーザ光L
1'、L1"がそれぞれの照射光学系を構成する対物レンズ
26A、26Bより被加工物14上のそれぞれの加工部
位に照射され、それぞれの加工部位が同時に加工され
る。
When the adjustment of the distance between the objective lenses and the amount of light are completed in this manner, the controller 18 drives the motor 52 based on the processing position data stored in the internal memory while monitoring the output coordinates of the stage coordinate output device 16. Then, the movement control of the XY stage 12 is started. Here, since the workpiece 14 is processed, the XY stage 12 is moved to the Y direction.
If it is moved in the axial direction, this XY stage 1
When the workpiece 14 is located at a predetermined processing position during the movement of 2 in the Y-axis direction, the controller 18 sends a trigger signal to the laser light source 20 to generate the processing laser light L1.
At this time, in the controller 18, when processing is simultaneously performed using the first and second irradiation optical systems, both optical modulators 2 are processed.
Turn off 5A and 25B. As a result, the laser light L
1'and L1 "are irradiated from the objective lenses 26A and 26B constituting the respective irradiation optical systems to the respective processed parts on the workpiece 14, and the respective processed parts are simultaneously processed.

【0031】この一方、各対物レンズからのレーザ光の
照射タイミングを異ならせる場合には、コントローラ1
8では、各加工ポイント毎にレーザ光源20へトリガー
信号を送ると共に、加工に使用しない側の光変調器(2
5A又は25B)をオン、加工に使用する側の光変調器
(25A又は25B)をオフのままにする。この場合、
オンに設定された光変調器により、前述した如くレーザ
光(L1'又はL1")が対物レンズ(26A又は26B)
に対して非入射状態に設定される。
On the other hand, when the irradiation timing of the laser light from each objective lens is changed, the controller 1
8, the trigger signal is sent to the laser light source 20 for each processing point, and the optical modulator (2
5A or 25B) is turned on, and the optical modulator (25A or 25B) on the side used for processing is kept off. in this case,
With the optical modulator set to ON, the laser light (L1 'or L1 ") is changed to the objective lens (26A or 26B) as described above.
Is set to the non-incident state.

【0032】なお、加工中の加工部位の様子は、前述し
た如く観察用光学系を介してテレビモニタ48により観
察できる。
The state of the processed portion during processing can be observed by the television monitor 48 via the observation optical system as described above.

【0033】以上説明したように、本第1実施例による
と、第1、第2対物レンズ26A、26Bからレーザ光
L1'、L1"をそれぞれ被加工物14に同時又は別々に照
射することができ、個々の加工箇所で加工長を変えた
り、加工方向(この場合はY方向)で加工箇所毎にピッ
チの異なる被加工物であっても同時加工が可能となる。
しかも対物レンズ間隔が調整可能なので、被加工物の非
加工方向(この場合はX軸方向)の加工部位のピッチに
合せた対物レンズの間隔の設定が可能となり、加工方向
は勿論、非加工方向で加工箇所のピッチの異なる被加工
物であっても加工することが可能となる。従って、加工
パターンに応じた加工を高速で行うことが可能となり、
処理能力の向上を図ることができる。
As described above, according to the first embodiment, it is possible to irradiate the workpieces 14 with the laser beams L1 'and L1 "from the first and second objective lenses 26A and 26B simultaneously or separately. Therefore, it is possible to change the processing length at each processing location or perform simultaneous processing even on a workpiece having a different pitch in each processing location in the processing direction (Y direction in this case).
Moreover, since the distance between the objective lenses can be adjusted, it is possible to set the distance between the objective lenses according to the pitch of the processing portion in the non-processing direction of the workpiece (in this case, the X-axis direction). Thus, it becomes possible to process workpieces having different pitches at the processing points. Therefore, it becomes possible to perform high-speed processing according to the processing pattern,
The processing capacity can be improved.

【0034】また、本実施例の場合は、加工用のレーザ
光源20が単一であることから、装置の小型化及びコス
トの低減を図ることが可能である。
Further, in the case of the present embodiment, since the laser light source 20 for processing is single, it is possible to reduce the size and cost of the apparatus.

【0035】なお、上記第1実施例では対物レンズへの
レーザ光の入射・非入射状態を設定する設定手段を音響
光学変調器からなる光変調器で構成する場合を例示した
が、これに代えて液晶板、ロータリシャッター等により
設定手段を構成することも可能であるが、応答性の点か
らレーザ光の照射を高速にオン・オフできる光変調器を
使用することが望ましい。光変調器としては、AOMの
他、いわゆるポッケルス効果を利用した位相変調方式の
電気光学変調器(EOM)を使用することも可能であ
る。
In the first embodiment, the setting means for setting the incident / non-incidence state of the laser light on the objective lens is exemplified by the optical modulator which is an acousto-optic modulator. Although it is possible to configure the setting means by a liquid crystal plate, a rotary shutter, etc., it is desirable to use an optical modulator that can turn on / off the laser light irradiation at high speed from the viewpoint of responsiveness. As the optical modulator, in addition to AOM, it is also possible to use an electro-optical modulator (EOM) of a phase modulation system utilizing the so-called Pockels effect.

【0036】《第2実施例》次に、本発明の第2実施例
を図3に基づいて説明する。ここで、前述した第1実施
例と同一若しくは同等の構成部分については、同一の符
号を付すと共にその説明を簡略にし若しくは省略するも
のとする。
<< Second Embodiment >> Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Here, the same or equivalent components as those of the first embodiment described above are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be simplified or omitted.

【0037】図3には、第2実施例に係るレーザ加工装
置60の構成が示されている。このレーザ加工装置60
では、前述した第1実施例における光変調器25A、2
5B及びハーフミラー23が省略され、加工用のレーザ
光源が2つ設けられている点に特徴を有する。
FIG. 3 shows the configuration of a laser processing apparatus 60 according to the second embodiment. This laser processing device 60
Then, the optical modulators 25A and 2A in the first embodiment described above
5B and the half mirror 23 are omitted, and two laser light sources for processing are provided.

【0038】即ち、このレーザ加工装置60は、第1の
加工用レーザ光L1 を第1対物レンズ26Aを介して被
加工物14に照射する第1の照射光学系と、第2の加工
用レーザ光L3 を第2対物レンズ26Bを介して被加工
物14に照射する第2の照射光学系とを備えている。
That is, the laser processing apparatus 60 includes a first irradiation optical system for irradiating the workpiece 14 with the first processing laser beam L1 through the first objective lens 26A, and the second processing laser. A second irradiation optical system for irradiating the workpiece 14 with the light L3 through the second objective lens 26B.

【0039】第1の照射光学系は、第1のレーザ光源2
0Aにより発振される加工用レーザ光L1 をより大きな
平行光に拡大するビームエキスパンダ等から成る第1光
量調整部22Aと、ダイクロイックミラー24と、第1
対物レンズ26Aから構成されている。
The first irradiation optical system is the first laser light source 2
A laser beam L1 for processing which is oscillated by 0A into a larger parallel beam, a first light amount adjusting unit 22A including a beam expander, a dichroic mirror 24, and a first
It is composed of an objective lens 26A.

【0040】一方、第2の照射光学系は、第2のレーザ
光源20Bにより発振される加工用レーザ光L3 をより
大きな平行光に拡大するビームエキスパンダ等から成る
第2光量調整部22Bと、この光量調整部22Bを通過
したレーザ光L3 を反射するミラー28と、このミラー
28で反射されたレーザ光L3 を被加工物14に照射す
る第2対物レンズ26Bとから構成されている。
On the other hand, the second irradiation optical system includes a second light quantity adjusting section 22B including a beam expander for expanding the processing laser light L3 oscillated by the second laser light source 20B into a larger parallel light. It is composed of a mirror 28 that reflects the laser light L3 that has passed through the light quantity adjusting section 22B, and a second objective lens 26B that irradiates the workpiece 14 with the laser light L3 that is reflected by the mirror 28.

【0041】レーザ光源20A、20Bはコントローラ
18からのトリガー信号によりオン・オフ制御されるよ
うになっており、これによって対物レンズ26A、26
Bからのレーザ光L1 、L3 の照射タイミングが独立に
制御されるようになっている。その他の部分の構成は前
述した第1実施例と同一となっている。
The laser light sources 20A and 20B are controlled to be turned on / off by a trigger signal from the controller 18, whereby the objective lenses 26A and 26B are controlled.
The irradiation timings of the laser beams L1 and L3 from B are controlled independently. The configuration of the other parts is the same as that of the first embodiment described above.

【0042】このようにして構成された本第2実施例の
レーザ加工装置60では、コントローラ18がレーザ光
源20A、20Bに別々にトリガー信号を送ることによ
り第1、第2のレーザ光源20A、20Bから独立にレ
ーザ光L1 、L3 が別々に照射される点、即ち、レーザ
光の照射タイミングがコントローラ18のレーザ光源へ
のトリガー信号により制御される点が、光変調器のオン
・オフにより対物レンズ26A、26Bからのレーザ光
の照射タイミングを制御する第1実施例と相違するのみ
であり、その他の作用は第1実施例と同一である。
In the laser processing apparatus 60 of the second embodiment constructed as described above, the controller 18 sends the trigger signals to the laser light sources 20A and 20B separately, so that the first and second laser light sources 20A and 20B are supplied. The laser light L1 and the laser light L3 are independently emitted from the objective lens, that is, the laser light emission timing is controlled by a trigger signal from the controller 18 to the laser light source. Only the difference from the first embodiment in which the irradiation timing of the laser light from 26A and 26B is controlled, and the other actions are the same as in the first embodiment.

【0043】従って、この第2実施例のレーザ加工装置
60によると、第1実施例と同等の効果が得られる。ま
た、このレーザ加工装置60では、レーザ光源が2つ設
けられていることから、それぞれの対物レンズからの照
射レーザ光の強度を任意に設定することが可能となり、
被加工物の加工箇所毎に適切な光量で加工することが可
能となる。
Therefore, according to the laser processing apparatus 60 of the second embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained. Further, in this laser processing device 60, since two laser light sources are provided, it becomes possible to arbitrarily set the intensity of the laser light emitted from each objective lens.
It is possible to perform processing with an appropriate amount of light for each processing location of the workpiece.

【0044】なお、上記第1、第2実施例では、第1対
物レンズと第2対物レンズの2つを設け、一方の対物レ
ンズを装置に固定し、他方の対物レンズを移動可能に構
成する場合を例示したが、本発明はこれに限定されるも
のではなく、複数の対物レンズが所定間隔を隔てて全て
装置に固定されていてもよく、また、対物レンズを3つ
以上設けても良い。3つ以上対物レンズを設ける場合に
は、3つ以上同一直線上に配置したり、あるいはXYス
テージ12の移動方向に合わせて十字状に配置したりす
れば、XYステージ12の移動方向に応じて常に3箇所
以上で同時に加工することも可能となる。
In the first and second embodiments, two objective lenses, a first objective lens and a second objective lens, are provided, one objective lens is fixed to the apparatus, and the other objective lens is movable. Although the case has been illustrated, the present invention is not limited to this, and a plurality of objective lenses may be fixed to the apparatus at predetermined intervals, or three or more objective lenses may be provided. . When three or more objective lenses are provided, if three or more objective lenses are arranged on the same straight line or arranged in a cross shape in accordance with the moving direction of the XY stage 12, the moving direction of the XY stage 12 is determined. It is possible to always process at three or more locations simultaneously.

【0045】また、上記第1、第2実施例では、特に説
明しなかったが、加工中(ステージの移動中)に駆動部
30を駆動して対物レンズの間隔を変更することも可能
である。
Although not particularly described in the first and second embodiments, it is possible to change the distance between the objective lenses by driving the drive unit 30 during processing (moving the stage). .

【0046】[0046]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
被加工物にレーザ光を複数の対物レンズから同時に照射
することにより複数箇所を同時に加工することが可能と
なり、これによって加工時間を短縮することができ、複
数の対物レンズからのレーザ光の照射タイミングを異な
らせた場合には、個々の加工箇所で加工長を変えたり、
加工方向で加工箇所毎にピッチの異なる被加工物であっ
ても同時加工が可能となるという従来にない優れた効果
がある。
As described above, according to the present invention,
By irradiating the workpiece with laser light from multiple objective lenses at the same time, it is possible to process multiple locations at the same time, which can shorten the processing time and the timing of laser light emission from multiple objective lenses. When different, the processing length is changed at each processing point,
There is an unprecedented excellent effect that simultaneous processing is possible even for a workpiece having a different pitch in each processing direction in the processing direction.

【0047】特に、請求項2記載の発明にあっては、被
加工物の非加工方向のピッチに合せた対物レンズ同士の
間隔の設定が可能となり、個々の加工箇所で加工長を変
えたり、加工方向は勿論、非加工方向で加工箇所のピッ
チの異なる被加工物であっても加工することが可能とな
り、加工パターンに応じた加工を高速で行うことができ
るという効果もある。
In particular, according to the second aspect of the invention, it is possible to set the distance between the objective lenses according to the pitch of the workpiece in the non-machining direction, and to change the machining length at each machining point. Not only the machining direction but also the non-machining direction can be machined even for workpieces having different machining pitches, and there is also an effect that machining according to the machining pattern can be performed at high speed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1実施例に係るレーザ加工装置の概略構成を
示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a laser processing apparatus according to a first embodiment.

【図2】図1の駆動部の移動位置をモニタするレンズ位
置検出手段の構成例を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a configuration example of a lens position detecting means for monitoring a moving position of a drive unit in FIG.

【図3】第2実施例に係るレーザ加工装置の概略構成を
示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a schematic configuration of a laser processing apparatus according to a second embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 レーザ加工装置 12 XYステージ(ステージ) 14 被加工物 16 ステージ座標出力装置(位置検出手段) 18 コントローラ(制御手段、レンズ間隔設定手
段) 23 ハーフミラー(光分割手段) 25A 第1の光変調器(設定手段) 25B 第2の光変調器(設定手段) 26A 第1対物レンズ 26B 第2対物レンズ 32 レンズ位置検出手段 60 レーザ加工装置
10 Laser Processing Device 12 XY Stage (Stage) 14 Workpiece 16 Stage Coordinate Output Device (Position Detection Means) 18 Controller (Control Means, Lens Interval Setting Means) 23 Half Mirror (Light Splitting Means) 25A First Optical Modulator (Setting means) 25B Second light modulator (setting means) 26A First objective lens 26B Second objective lens 32 Lens position detecting means 60 Laser processing device

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基準平面内を2次元方向に移動するステ
ージと、前記ステージの移動位置を検出する位置検出手
段とを備え、所定の加工位置データと前記位置検出手段
からの位置データとに基づき前記ステージを対物レンズ
光軸上に位置決めしつつ当該対物レンズを介してレーザ
光を前記ステージ上に載置された被加工物に照射するレ
ーザ加工装置であって、 複数の対物レンズと、 各対物レンズからのレーザ光の照射タイミングを独立し
て制御する制御手段と、 を有するレーザ加工装置。
1. A stage which moves in a two-dimensional direction within a reference plane, and position detection means for detecting the movement position of the stage, based on predetermined processing position data and position data from the position detection means. A laser processing apparatus for irradiating a workpiece mounted on the stage with laser light through the objective lens while positioning the stage on the optical axis of the objective lens, comprising: a plurality of objective lenses; A laser processing apparatus comprising: a control unit that independently controls the irradiation timing of laser light from the lens.
【請求項2】 前記複数の対物レンズの内の少なくとも
一つは装置に固定され、残りの対物レンズは移動可能と
されると共に、 前記移動可能な各対物レンズの移動位置を検出するレン
ズ位置検出手段と、 前記レンズ位置検出手段の出力に基づいて前記移動可能
な各対物レンズを独立に駆動して前記固定された対物レ
ンズと移動可能な各対物レンズとの間隔を任意に設定す
るレンズ間隔設定手段と、 を更に有する請求項1記載のレーザ加工装置。
2. At least one of the plurality of objective lenses is fixed to the apparatus, the remaining objective lenses are movable, and lens position detection is performed to detect the moving position of each movable objective lens. Means, and a lens interval setting for independently driving each of the movable objective lenses based on the output of the lens position detection means to arbitrarily set an interval between the fixed objective lens and each movable objective lens. The laser processing apparatus according to claim 1, further comprising:
【請求項3】 単一のレーザ光源と、 このレーザ光源から出射されるレーザ光を分割する光分
割手段と、 この光分割手段で分割された各レーザ光の前記各対物レ
ンズへの入射・非入射状態を独立して設定する設定手段
とを有し、 前記制御手段がこの設定手段を制御することを特徴とす
る請求項1又は2記載のレーザ加工装置。
3. A single laser light source, a light splitting means for splitting the laser light emitted from this laser light source, and an incidence / non-incidence of each laser light split by this light splitting means on each objective lens. 3. The laser processing apparatus according to claim 1, further comprising a setting unit that independently sets the incident state, and the control unit controls the setting unit.
【請求項4】 前記対物レンズに対応する数のレーザ光
源を有し、当該各レーザ光源からそれぞれ出射されたレ
ーザ光が各対物レンズから照射されるように構成され、 前記制御手段が各レーザ光源のレーザ光の出射タイミン
グを独立して制御することを特徴とした請求項1又は2
記載のレーザ加工装置。
4. The number of laser light sources corresponding to the objective lens is provided, and the laser light emitted from each laser light source is irradiated from each objective lens. 3. The emission timing of the laser light of 1 is independently controlled.
The laser processing device described.
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