JPH08199124A - Bonding sheet - Google Patents
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- JPH08199124A JPH08199124A JP3159995A JP3159995A JPH08199124A JP H08199124 A JPH08199124 A JP H08199124A JP 3159995 A JP3159995 A JP 3159995A JP 3159995 A JP3159995 A JP 3159995A JP H08199124 A JPH08199124 A JP H08199124A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はボンディングシートに関
し、更に詳しくはフレキシブルプリント基板(以下、F
PCという。)のベースフィルム層や半導体実装材料に
使用する接着フィルムとして適した、耐熱性、接着性に
優れ、特には低吸水率、低誘電特性を示す芳香族ポリイ
ミド共重合体を接着剤層とするボンディングシートに関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a bonding sheet, more specifically a flexible printed circuit board (hereinafter referred to as F
It is called a PC. ) Bonding with an aromatic polyimide copolymer adhesive layer, which has excellent heat resistance and adhesiveness and is particularly suitable as an adhesive film for use as a base film layer or semiconductor mounting material, and has low water absorption and low dielectric properties. Regarding the seat.
【0002】[0002]
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】近年、電
子機器の高機能化、高性能化、小型化が更に進んでお
り、それらに伴って用いられる電気部品に対する小型
化、軽量化が求められている。そのため、LSIパッケ
ージ方法やそれらを実装する配線板にも、より高密度、
高機能かつ高性能なものが求められるようになってき
た。この要求に応えるべくFPCの細線加工、多層成形
等が行われるようになり、FPC上に直接部品を搭載す
る部品実装用FPCや、両面に回路を形成した両面FP
C、或いは複数のFPCを積層して層間を配線でつなぐ
多層FPCなどの高密度化されたFPCが出現してき
た。2. Description of the Related Art In recent years, electronic devices have become more sophisticated, more sophisticated, and smaller in size, and electric parts used therewith are required to be smaller and lighter. Has been. Therefore, even higher density for the LSI packaging method and the wiring board on which they are mounted,
High-performance and high-performance products have been demanded. In order to meet this demand, fine line processing of FPC, multilayer molding, etc. have come to be performed, and a component mounting FPC in which components are directly mounted on the FPC and a double-sided FP with circuits formed on both sides
A high density FPC such as a C or a multi-layer FPC in which a plurality of FPCs are stacked and interconnected by wiring has appeared.
【0003】ところで、FPCは基本的には柔軟で薄い
ベースフィルム上に回路パターンを形成し、その表面に
カバーレイを施した構成をしており、上述のような高密
度化されたFPCを精度よく製造するために、その材料
として用いられる絶縁接着剤や絶縁有機フィルムの高性
能化が求められている。By the way, the FPC basically has a structure in which a circuit pattern is formed on a flexible and thin base film and a cover lay is applied to the surface thereof. In order to manufacture well, it is required to improve the performance of insulating adhesives and insulating organic films used as the materials.
【0004】現在、ベースフィルムやカバーレイフィル
ムとして用いられている有機絶縁材料としては、高い耐
熱性、機械的強度を有しており、しかも電気特性に優れ
るポリイミド樹脂からなるフィルムがFPCのベースフ
ィルムやカバーレイフィルムとして好ましく用いられて
いる。At present, as an organic insulating material used as a base film or a coverlay film, a film made of a polyimide resin having high heat resistance and mechanical strength and having excellent electric characteristics is a base film for FPC. And is preferably used as a coverlay film.
【0005】しかし、ポリイミド樹脂は閉環状態でほと
んど不溶、不融であり、接着剤としては適用例がほとん
ど見られず、絶縁接着剤としては、低温(180℃以
下)加工性や作業性に優れていることからエポキシ樹脂
やアクリル樹脂などが用いられることが多い。しかし、
これらの接着剤はポリイミドに比べて耐熱性等の特性が
劣り、例えば、高温(250℃以上)になると接着剤が
劣化してしまい、ベースフィルムとして用いるポリイミ
ドの特性を充分に活かすことができないという問題があ
った。更には長時間のポストキュアも必要であり、上記
のような高密度実装材料用途にはさらに高性能な接着剤
が強く要求されていた。However, the polyimide resin is almost insoluble and infusible in the closed ring state, and almost no application example is found as an adhesive. As an insulating adhesive, it is excellent in workability and workability at low temperature (180 ° C. or less). Therefore, epoxy resin or acrylic resin is often used. But,
These adhesives are inferior in properties such as heat resistance to polyimide, and for example, the adhesive deteriorates at high temperature (250 ° C. or higher), and the properties of polyimide used as a base film cannot be fully utilized. There was a problem. Furthermore, long-term post-cure is also required, and there has been a strong demand for higher performance adhesives for high-density mounting material applications as described above.
【0006】そこで、このような問題を解決するため
に、最近ポリイミド系でありながら接着剤として使用さ
れる例が提案されている。例えば、特開平2−1387
89には、3,3',4,4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物と芳香族ジアミンから得られる芳香族ポリイミ
ドとポリマレイミドとを混合した樹脂組成物から接着フ
ィルムを得て、該接着フィルムを用いてポリイミドフィ
ルムなどの基材と銅箔とを接着させるFPCの製造方法
が提案されている。また、特開平5−179224や特
開平5−112768には、加熱加圧圧着できる熱可塑
性のポリイミド接着剤も種々提案されている。Therefore, in order to solve such a problem, an example in which a polyimide-based adhesive is used as an adhesive has recently been proposed. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 2-1387
In 89, an adhesive film is obtained from a resin composition obtained by mixing poly (maleimide) and aromatic polyimide obtained from 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine, and the adhesive film A method of manufacturing an FPC in which a base material such as a polyimide film and a copper foil are bonded using a film has been proposed. Further, in JP-A-5-179224 and JP-A-5-112768, various types of thermoplastic polyimide adhesives which can be pressed under heat and pressure have been proposed.
【0007】これらのポリイミド系接着剤は、溶融流動
性に優れ、加熱加圧圧着させることにより優れた接着性
を示し、耐熱性に優れた接着剤であり、FPCのベース
フィルムとして用いられるポリイミドフィルムの特性を
充分に発揮し得る接着剤として注目されている。These polyimide-based adhesives are adhesives having excellent melt flowability, excellent adhesiveness when heated and pressed, and excellent heat resistance. They are polyimide films used as base films for FPCs. It has been attracting attention as an adhesive that can fully exhibit the above characteristics.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】しかし、これらのポリ
イミド系接着剤は溶融流動性に優れ、接着剤として用い
ることが可能であるものの、これらの接着剤は接着に高
温・長時間を要し、300℃以上の高温に加熱しないと
接着できないという問題があった。更には、吸湿しやす
く、吸湿後の電気特性が悪いという問題もあった。However, although these polyimide-based adhesives have excellent melt fluidity and can be used as adhesives, these adhesives require high temperature and a long time for adhesion, There has been a problem that adhesion cannot be achieved unless heated to a high temperature of 300 ° C. or higher. Further, there is a problem that it easily absorbs moisture and the electric characteristics after absorbing moisture are poor.
【0009】そのため、これらの接着剤はポリイミドの
状態で保管することが困難でフィルム状の接着シートと
して供給することができず、接着剤として使用するに
は、使用時にその前駆体であるポリアミド酸の溶液をベ
ースフィルム又はカバーレイフィルムとする絶縁フィル
ム上に塗布して、乾燥させてから加熱してイミド化さ
せ、接着剤層を形成するという工程が必要であった。Therefore, these adhesives are difficult to store in the state of polyimide and cannot be supplied as a film-like adhesive sheet, and to be used as an adhesive, the polyamic acid precursor which is its precursor is used. It was necessary to apply the solution of 1) to an insulating film serving as a base film or a coverlay film, dry it, and heat it to imidize it to form an adhesive layer.
【0010】そして、FPCを製造するには、このよう
に接着剤層を形成したベースフィルム層と銅箔等とを重
ね合わせて300℃以上で加熱圧着させて銅張積層板を
作製し、その後銅箔等をエッチングして回路を形成し、
更にいくつかの工程を経てカバーレイフィルムが貼り合
わせられるが、かかるFPCの製造工程中に接着剤層が
吸湿してしまい、その結果、接着剤層の電気特性が悪く
なり最終製品の品質低下の原因となることがあった。In order to manufacture an FPC, the base film layer thus formed with an adhesive layer and a copper foil or the like are superposed and heat-pressed at 300 ° C. or higher to produce a copper-clad laminate, and thereafter. Circuit is formed by etching copper foil,
Although the coverlay film is pasted through several more steps, the adhesive layer absorbs moisture during the manufacturing process of the FPC, and as a result, the electrical characteristics of the adhesive layer deteriorate and the quality of the final product deteriorates. It could be the cause.
【0011】特に、LOCパッケージやMCM等の高密
度実装材料、多層FPC等のプリント配線板材料、更に
は航空宇宙材料には、高い耐熱性、機械的強度を有し、
加工性、接着性に優れ、特には低吸湿性に優れ、その
他、電気特性や寸法安定性等の諸特性を兼ね備えている
ことが要求されている。また、上述のように使用時に接
着剤層を形成する工程は面倒であり、FPC等の作製を
より簡潔化する方法が求められている。In particular, high density packaging materials such as LOC packages and MCMs, printed wiring board materials such as multilayer FPCs, and aerospace materials have high heat resistance and mechanical strength.
It is required to have excellent workability and adhesiveness, particularly low hygroscopicity, and also have various characteristics such as electrical characteristics and dimensional stability. Further, as described above, the step of forming the adhesive layer at the time of use is troublesome, and a method for further simplifying the production of the FPC or the like is required.
【0012】そこで、本発明者らは、かかる実状に鑑
み、上記従来の問題点を解決し、充分な機械的強度を有
しつつ、耐熱性、加工性、接着性に優れ、特には低吸水
率、低誘電特性を示す接着剤層を備えたボンディングシ
ートを提供することを目的に鋭意研究を重ねた結果、本
発明に至ったのである。In view of such circumstances, the inventors of the present invention have solved the above-mentioned conventional problems and have sufficient heat resistance, processability and adhesiveness, and particularly low water absorption. The present invention has been accomplished as a result of extensive research aimed at providing a bonding sheet having an adhesive layer exhibiting high dielectric constant and low dielectric properties.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】本発明に係るボンディン
グシートの要旨とするところは、ベースフィルム層と、
その両側又は片側に配設した一般式(1)化6A gist of a bonding sheet according to the present invention is that a base film layer and
General formula (1) formula 6 provided on both sides or one side
【化6】 及び一般式(2)化7[Chemical 6] And the general formula (2) 7
【化7】 (式(1)(2)中、Ar1 は2価の有機基、Ar2 は4価の芳香
族基、Ar3 は2価の芳香族基を示す。)で表される繰り
返し単位を有し、上記繰り返し単位(1)(2)のモル
分率(〔1〕/〔2〕)が、50/50から99/1の
範囲である芳香族ポリイミド共重合体からなる接着剤層
とから構成されることにある。[Chemical 7] (In the formulas (1) and (2), Ar 1 represents a divalent organic group, Ar 2 represents a tetravalent aromatic group, and Ar 3 represents a divalent aromatic group.) Then, the repeating unit (1) or (2) has a molar fraction ([1] / [2]) in the range of 50/50 to 99/1 and an adhesive layer made of an aromatic polyimide copolymer. To be composed.
【0014】また、かかるボンディングシートにおい
て、前記一般式(1)及び一般式(2)中のAr1 が化8In the bonding sheet, Ar 1 in the general formulas (1) and (2) is
【化8】 で表される2価の有機基のいずれかであり、Ar2 が化9Embedded image In is any of the divalent organic group represented, Ar 2 is of 9
【化9】 で表される4価の芳香族基であり、Ar3 が化10[Chemical 9] In a tetravalent aromatic group represented, Ar 3 is of 10
【化10】 で表される2価の芳香族基であることにある。[Chemical 10] It is a divalent aromatic group represented by.
【0015】[0015]
【実施例】以下、本発明に係るボンディングシートにつ
いて説明する。EXAMPLES The bonding sheet according to the present invention will be described below.
【0016】本発明のボンディングシートは、ベースフ
ィルム層と、一般式(1)化11The bonding sheet of the present invention comprises a base film layer and a compound represented by the general formula (1):
【化11】 及び一般式(2)化12[Chemical 11] And the general formula (2)
【化12】 (式中、Ar1 は2価の有機基、Ar2 は4価の芳香族基、
Ar3 は2価の芳香族基を示す。)で表される繰り返し単
位を有し、上記繰り返し単位(1)(2)のモル分率
(〔1〕/〔2〕)が、50/50から99/1の範囲
である芳香族ポリイミド共重合体からなる接着剤層とか
ら構成されている。[Chemical 12] (In the formula, Ar 1 is a divalent organic group, Ar 2 is a tetravalent aromatic group,
Ar 3 represents a divalent aromatic group. ), And the molar ratio ([1] / [2]) of the repeating units (1) and (2) is in the range of 50/50 to 99/1. And an adhesive layer made of a polymer.
【0017】本発明において接着剤層として用いられる
上記構造の芳香族ポリイミド共重合体は、ガラス転移温
度が低く低温で優れた接着性を示し、かつ吸水性が低
く、また誘電特性も優れており、具体的には以下の方法
で得ることができる。The aromatic polyimide copolymer having the above structure used as the adhesive layer in the present invention has a low glass transition temperature and excellent adhesiveness at low temperature, low water absorption and excellent dielectric properties. Specifically, it can be obtained by the following method.
【0018】すなわち、アルゴン、窒素等の不活性ガス
雰囲気中において、一般式(3) NH2 −Ar3 −H2 N (3) (式中、Ar3 は2価の芳香族基を示す)で表される芳香
族ジアミンを有機溶媒中に溶解若しくは拡散させる。こ
の溶液に一般式(4)化13That is, in an atmosphere of an inert gas such as argon or nitrogen, the general formula (3) NH 2 —Ar 3 —H 2 N (3) (in the formula, Ar 3 represents a divalent aromatic group) The aromatic diamine represented by is dissolved or diffused in an organic solvent. In this solution, the compound of the general formula (4) 13
【化13】 (式中、Ar1 は2価の有機基を示す)で表される芳香族
ジエステル酸二無水物と、一般式(5)化14[Chemical 13] (Wherein Ar 1 represents a divalent organic group) and an aromatic diester dianhydride represented by the general formula (5)
【化14】 (式中、Ar2 は4価の芳香族基を示す)で表される芳香
族テトラカルボン酸二無水物を、固体若しくは有機溶媒
による溶液若しくはスラリーの形で添加し、−10〜5
0℃、更に好ましくは−5〜20℃で、30分〜6時間
反応させることにより、本発明で用いられる芳香族ポリ
イミド共重合体の前駆体である芳香族ポリアミド酸共重
合体の溶液を得ることができる。Embedded image (In the formula, Ar 2 represents a tetravalent aromatic group), an aromatic tetracarboxylic acid dianhydride is added in the form of a solution or a slurry with a solid or an organic solvent, and -10 to 5
By reacting at 0 ° C, more preferably at -5 to 20 ° C for 30 minutes to 6 hours, a solution of an aromatic polyamic acid copolymer which is a precursor of the aromatic polyimide copolymer used in the present invention is obtained. be able to.
【0019】かかる反応において、上記酸二無水物成分
の割合は任意に選択することが可能であるが、前記一般
式(4)で表される芳香族ジエステル酸二無水物と前記
一般式(5)で表される芳香族テトラカルボン酸二無水
物のモル比が50:50〜99:1の範囲であるように
用いるのが好ましい。芳香族ジエステル酸二無水物の割
合が50%よりも小さいと加工温度すなわち、ガラス転
移温度が高くなり、また、99%よりも大きければ自己
支持性に乏しい重合体となるからである。また、前記一
般式(3)で表される芳香族ジアミンは、酸二無水物成
分の総量と等モル量用いるのが好ましい。In such a reaction, the ratio of the acid dianhydride component can be arbitrarily selected, but the aromatic diester dianhydride represented by the general formula (4) and the general formula (5) It is preferable to use it so that the molar ratio of the aromatic tetracarboxylic acid dianhydride represented by (4) is in the range of 50:50 to 99: 1. This is because if the proportion of the aromatic diester dianhydride is less than 50%, the processing temperature, that is, the glass transition temperature becomes high, and if it is more than 99%, the polymer becomes poor in self-supporting property. The aromatic diamine represented by the general formula (3) is preferably used in an equimolar amount to the total amount of the acid dianhydride component.
【0020】なお、かかる反応において、上記とは逆
に、まず前記一般式(4)及び一般式(5)で表される
酸二無水物成分を有機溶媒中に溶解若しくは拡散させ、
該溶液に前記一般式(3)で表される芳香族ジアミンの
固体若しくは有機溶媒による溶液若しくはスラリーを添
加してもよい。In this reaction, contrary to the above, first, the acid dianhydride component represented by the general formula (4) and the general formula (5) is dissolved or diffused in an organic solvent,
A solution or slurry of a solid or organic solvent of the aromatic diamine represented by the general formula (3) may be added to the solution.
【0021】更に詳しくは、本発明で用いられる前記一
般式(4)で表される芳香族ジエステル酸二無水物とし
ては、あらゆる構造の芳香族ジエステル酸二無水物が使
用可能であるが、特には一般式(4)中のAr1 が化15More specifically, as the aromatic diester dianhydride represented by the above-mentioned general formula (4) used in the present invention, aromatic diester dianhydrides having any structure can be used. Is Ar 1 in the general formula (4) is
【化15】 のいずれかで表される2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニ
ル)プロパンベンゾエート-3,3',4,4'- テトラカルボン
酸二無水物(ESDA)、又は3,3',4,4'-エチレングリ
コールジベンゾエートテトラカルボン酸二無水物(EG
DA)、又は3,3',4,4'-プロピレングリコールベンゾエ
ートテトラカルボン酸二無水物(TMPG)のいずれか
を用いるのが好ましい。[Chemical 15] 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propanebenzoate-3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride (ESDA) or 3,3', 4,4 '-Ethylene glycol dibenzoate tetracarboxylic dianhydride (EG
It is preferred to use either DA) or 3,3 ', 4,4'-propylene glycol benzoate tetracarboxylic dianhydride (TMPG).
【0022】また、前記一般式(5)で表される芳香族
テトラカルボン酸二無水物としては、あらゆる構造の芳
香族テトラカルボン酸二無水物が使用可能であるが、特
には一般式(5)中のAr2 が化16As the aromatic tetracarboxylic acid dianhydride represented by the general formula (5), aromatic tetracarboxylic acid dianhydrides having any structure can be used, but in particular, the general formula (5 Ar 2 in 16)
【化16】 で表される3,3',4,4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物(BTDA)を用いるのが好ましい。Embedded image It is preferable to use 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride (BTDA) represented by
【0023】また、前記一般式(3)で表される芳香族
ジアミンとしては、あらゆる構造の芳香族ジアミンが使
用可能であるが、特には一般式(3)中のAr3 が化17As the aromatic diamine represented by the general formula (3), aromatic diamines having any structure can be used. In particular, Ar 3 in the general formula (3) is
【化17】 で表される2,2-ビス〔4-(4-アミノフェノキシ)フェニ
ル〕プロパン(BAPP)を用いるのが好ましい。[Chemical 17] It is preferable to use 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (BAPP) represented by
【0024】なお、かかる芳香族ポリアミド酸共重合体
溶液の生成反応に使用される有機溶媒としては、例え
ば、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド等の
スルホキシド系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、
N,N−ジエチルホルムアミド等のホルムアミド系溶
媒、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチル
アセトアミド等のアセトアミド系溶媒等を挙げることが
できる。これらを単独または2種あるいは3種以上の混
合溶媒として用いることもできる。更に、これらの極性
溶媒とともに、アセトン、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール、ベンゼンメチルセロソルブ等のポリア
ミド酸共重合体の非溶媒との混合溶媒として用いること
もできる。Examples of the organic solvent used in the reaction for producing the aromatic polyamic acid copolymer solution include sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide,
Examples thereof include formamide solvents such as N, N-diethylformamide and acetamide solvents such as N, N-dimethylacetamide and N, N-diethylacetamide. These may be used alone or as a mixed solvent of two or three or more. Further, these polar solvents can be used as a mixed solvent with a non-solvent of a polyamic acid copolymer such as acetone, methanol, ethanol, isopropanol and benzenemethylcellosolve.
【0025】かかる反応により、本発明で接着剤層とし
て用いられる上記繰り返し単位(1)(2)を有し、該
繰り返し単位(1)(2)のモル分率(〔1〕/
〔2〕)が、50/50から99/1の範囲である芳香
族ポリイミド共重合体の前駆体である芳香族ポリアミド
酸共重合体の溶液が得られるのである。By such a reaction, the above repeating units (1) and (2) used as the adhesive layer in the present invention are contained, and the molar ratio of the repeating units (1) and (2) ([1] /
A solution of an aromatic polyamic acid copolymer which is a precursor of the aromatic polyimide copolymer having [2]) in the range of 50/50 to 99/1 can be obtained.
【0026】そして、このポリアミド酸共重合体溶液を
フィルム状に形成し、熱的及び/又は化学的に脱水閉環
(イミド化)させることにより、本発明で用いられる芳
香族ポリイミド共重合体からなるフィルムを得ることが
できる。Then, the polyamic acid copolymer solution is formed into a film and thermally and / or chemically dehydrated and cyclized (imidized) to form the aromatic polyimide copolymer used in the present invention. A film can be obtained.
【0027】例をあげて説明すると、熱的に脱水閉環す
る方法では、まず、上記芳香族ポリアミド酸共重合体の
溶液を支持板、PET等の有機フィルム、ドラムあるい
はエンドレスベルト等の支持体上に流延または塗布して
膜状とし、乾燥させて自己支持性を有する膜を得る。こ
の乾燥は150℃以下の温度で約5〜90分間行うのが
好ましい。Explaining by way of example, in the method of thermal dehydration ring closure, first, the solution of the aromatic polyamic acid copolymer is applied to a support plate, an organic film such as PET, or a support such as a drum or an endless belt. It is cast or coated on to form a film, and dried to obtain a film having self-supporting property. This drying is preferably carried out at a temperature of 150 ° C. or lower for about 5 to 90 minutes.
【0028】次いで、これを更に加熱して乾燥させつつ
イミド化し、上記繰り返し単位(1)及び(2)を有す
る芳香族ポリイミド共重合体よりなるフィルムを得る。
加熱の際の温度は150〜350℃の範囲の温度が好ま
しい。加熱の際の昇温速度には制限はないが、徐々に加
熱し、最高温度が上記温度になるようにするのが好まし
い。加熱時間はフィルム厚みや最高温度によって異なる
が、一般には最高温度に達してから10秒〜5分の範囲
が好ましい。自己支持性を有する膜を加熱する際は、支
持体から引き剥がし、その状態で端部を固定して加熱す
ると線熱膨張係数が小さい重合体が得られるので好まし
い。Then, this is further heated and dried to be imidized to obtain a film made of the aromatic polyimide copolymer having the repeating units (1) and (2).
The temperature during heating is preferably in the range of 150 to 350 ° C. There is no limitation on the rate of temperature increase during heating, but it is preferable that the maximum temperature reaches the above temperature by gradually heating. The heating time varies depending on the film thickness and the maximum temperature, but in general, it is preferably in the range of 10 seconds to 5 minutes after the maximum temperature is reached. When the film having the self-supporting property is heated, it is preferable to peel it off from the support, fix the ends in this state and heat it, because a polymer having a small linear thermal expansion coefficient can be obtained.
【0029】また、化学的に脱水閉環する方法では、上
記ポリアミド酸共重合体の溶液に化学量論以上の脱水剤
と触媒量の第3級アミンを加え、熱的に脱水する場合と
同様の方法で処理すると、熱的に脱水する場合よりも短
時間で所望のポリイミドフィルムが得られる。Further, in the method of chemically dehydrating and ring-closing, the same method as in the case of thermally dehydrating by adding a stoichiometric or more dehydrating agent and a catalytic amount of a tertiary amine to the solution of the polyamic acid copolymer is used. When treated by the method, the desired polyimide film can be obtained in a shorter time than when thermally dehydrated.
【0030】熱的にイミド化する方法と、化学的にイミ
ド化する方法とを比較すると化学的方法による方が得ら
れたポリイミドフィルムの機械的強度が大きく、且つ線
熱膨張係数が小さくなる利点がある。なお、熱的にイミ
ド化する方法と化学的にイミド化する方法とを併用する
ことも可能である。Comparing the thermal imidization method and the chemical imidization method, the chemical method is advantageous in that the obtained polyimide film has a large mechanical strength and a small coefficient of linear thermal expansion. There is. In addition, it is also possible to use the method of thermally imidizing and the method of chemically imidizing together.
【0031】なお、かかるポリアミド酸共重合体及びポ
リイミド共重合体の分子量は特に規制されるものではな
いが、得られるフィルムの強度を維持するためには、数
平均分子量が5万以上、更には8万以上、特には10万
以上、更に好ましくは12万以上が好ましい。The molecular weights of the polyamic acid copolymer and the polyimide copolymer are not particularly limited, but in order to maintain the strength of the obtained film, the number average molecular weight is 50,000 or more, and further, It is preferably 80,000 or more, particularly 100,000 or more, and more preferably 120,000 or more.
【0032】ただし、ポリイミド共重合体の分子量は直
接測定が困難な場合が多く、このようなときには間接的
な方法によって推測による測定がなされる。例えば、ポ
リイミド共重合体がポリアミド酸共重合体から合成され
る場合には、ポリアミド酸共重合体の分子量に相当する
値がポリイミド共重合体の分子量とされる。However, it is often difficult to directly measure the molecular weight of the polyimide copolymer, and in such a case, it is estimated by an indirect method. For example, when the polyimide copolymer is synthesized from the polyamic acid copolymer, the value corresponding to the molecular weight of the polyamic acid copolymer is the molecular weight of the polyimide copolymer.
【0033】以上のようにして得られた芳香族ポリイミ
ド共重合体は、上記一般式(1)及び一般式(2)で表
される繰り返し単位のモル分率(〔1〕/〔2〕)が、
50/50から99/1の範囲にあり、優れた熱可塑
性、耐熱性、低温での接着性、低吸水率、低誘電率特性
を併せ有している。The aromatic polyimide copolymer obtained as described above has a molar fraction ([1] / [2]) of repeating units represented by the above general formulas (1) and (2). But,
It is in the range of 50/50 to 99/1 and has excellent thermoplasticity, heat resistance, low-temperature adhesiveness, low water absorption, and low dielectric constant characteristics.
【0034】すなわち、上記芳香族ポリイミド共重合体
は、ポリイミドの特長である優れた耐熱性を有するとと
もに、その組成により100℃から250℃の間で明確
なガラス転移温度を持ち、ガラス転移温度に近い温度で
ラミネートすることにより優れた接着性を示す。また、
これらの共重合体は20℃の純水に24時間浸した時の
吸水率が1%以下という低吸水率を示し、また誘電率は
1MHz(常態)で3.0以下という低誘電性を示す。That is, the aromatic polyimide copolymer has excellent heat resistance, which is a characteristic of polyimide, and has a clear glass transition temperature between 100 ° C. and 250 ° C. depending on its composition, and has a glass transition temperature of 100 ° C. to 250 ° C. Excellent adhesion is exhibited by laminating at close temperature. Also,
These copolymers show low water absorption of 1% or less when immersed in pure water at 20 ° C. for 24 hours, and low dielectric constant of 3.0 or less at 1 MHz (normal state). .
【0035】そして、この芳香族ポリイミド共重合体か
らなるフィルムを接着剤層として、該接着剤層をベース
フィルムの両面又は片面に重ね合わせて熱圧着させるこ
とにより本発明のボンディングシートを簡単に得ること
ができる。なお、本発明でいうベースフィルムはFPC
等のベースフィルムとして使用可能なものであればいか
なるフィルムを用いてもよいが、特には、耐熱性等の優
れた特性を有するポリイミドフィルムが好ましく用いら
れる。ベースフィルムとして用いるポリイミドフィルム
としては、例えば「アピカル(登録商標;ポリイミドフ
ィルム,鐘淵化学工業株式会社製)」のような接着性を
有しないポリイミドフィルムを用いることができ、その
他、いかなる構造のポリイミドフィルムであってもよ
い。また、本発明でいうベースフィルムは熱可塑性のフ
ィルムも含むものであり、ガラス転移温度の異なる熱可
塑性フィルムをベースフィルムとして本発明のボンディ
ングシートを得てもよい。Then, a film made of this aromatic polyimide copolymer is used as an adhesive layer, and the adhesive layer is laminated on both sides or one side of the base film and thermocompression bonded, whereby the bonding sheet of the present invention is easily obtained. be able to. The base film referred to in the present invention is FPC.
Any film can be used as long as it can be used as a base film for the above, but a polyimide film having excellent properties such as heat resistance is particularly preferably used. As the polyimide film used as the base film, for example, a polyimide film having no adhesiveness such as “Apical (registered trademark; polyimide film, manufactured by Kaneka Kagaku Kogyo Co., Ltd.)” can be used. It may be a film. The base film in the present invention also includes a thermoplastic film, and the bonding sheet of the present invention may be obtained by using a thermoplastic film having a different glass transition temperature as a base film.
【0036】また、本発明のボンディングシートを得る
他の方法として、前記ポリイミド共重合体の前駆体であ
るポリアミド酸共重合体の溶液をベースフィルム上に流
延してイミド化させて片面のみに接着剤層を形成しても
よく、更に、その後ベースフィルムのもう一方の面にポ
リアミド酸共重合体溶液を流延してイミド化させて両面
に接着剤層を形成してもよい。また、ベースフィルムの
両面に同時にポリアミド酸共重合体溶液を流延してイミ
ド化させてもよい。As another method of obtaining the bonding sheet of the present invention, a solution of the polyamic acid copolymer, which is a precursor of the polyimide copolymer, is cast on a base film to imidize it and only one side thereof is cast. An adhesive layer may be formed, and then, a polyamic acid copolymer solution may be cast on the other surface of the base film to imidize it to form an adhesive layer on both surfaces. Further, the polyamic acid copolymer solution may be simultaneously cast on both sides of the base film to imidize it.
【0037】また、イミド化させたポリイミド共重合体
をDMFやNMP等の溶媒に溶解させ、ベースフィルム
の両面又は片面に直接塗布して乾燥させてもよい。Alternatively, the imidized polyimide copolymer may be dissolved in a solvent such as DMF or NMP, and directly coated on both sides or one side of the base film and dried.
【0038】これらの方法により得られる本発明のボン
ディングシートは優れた熱可塑性、耐熱性、低温での接
着性、低吸水率、低誘電率特性、機械的強度を併せ有
し、接着剤層が保管中の吸湿により変質する心配がない
ので、このような接着シートとしての供給が可能であ
る。そして、このボンディングシートは、銅箔等と重ね
合わせて低温でラミネートすることにより優れた接着性
を有する銅張積層板を比較的容易に作製することができ
る。特に、ベースフィルムとしてポリイミドフィルムを
用いて全てポリイミドからなるボンディングシートを作
製することにより、アルカリエッチングにより容易に穴
開け加工することもでき、好ましい。The bonding sheet of the present invention obtained by these methods has excellent thermoplasticity, heat resistance, low-temperature adhesiveness, low water absorption rate, low dielectric constant characteristics and mechanical strength, and has an adhesive layer. Since there is no fear of deterioration due to moisture absorption during storage, it can be supplied as such an adhesive sheet. Then, this bonding sheet can be relatively easily manufactured by superposing it on a copper foil or the like and laminating it at a low temperature so that a copper-clad laminate having excellent adhesiveness can be produced. In particular, by using a polyimide film as a base film to produce a bonding sheet made entirely of polyimide, it is possible to easily carry out a punching process by alkali etching, which is preferable.
【0039】従って、本発明のボンディングシートはF
PC用のベースフィルムとして好適に用いることがで
き、例えば、全てがポリイミドからなるボンディングシ
ートは、かかるボンディングシートの両側に銅箔を重
ね、熱圧着して両面銅張積層板を作製し、銅箔層をエッ
チング加工して回路を形成した後に、更にボンディング
シートをアルカリエッチングすることにより容易にスル
ーホール用の穴開け加工することができ、比較的簡単に
両面FPCを得ることができる。Therefore, the bonding sheet of the present invention is F
It can be suitably used as a base film for PC. For example, a bonding sheet which is entirely made of polyimide has a copper foil laminated on both sides of the bonding sheet and thermocompression bonded to produce a double-sided copper-clad laminate. After the layer is etched to form the circuit, the bonding sheet is further alkali-etched, so that the through hole can be easily punched, and the double-sided FPC can be obtained relatively easily.
【0040】また、本発明のボンディングシートをベー
スフィルム層として片面FPCを作製した場合、ベース
フィルム層の回路の形成されていない他の片面には接着
剤層が形成されており、該片面FPCをアルカリエッチ
ングによりスルーホール用の穴開け加工をして複数の片
面FPCを積層してラミネートすることにより容易に多
層FPCを得ることもできる。When a single-sided FPC is produced by using the bonding sheet of the present invention as a base film layer, an adhesive layer is formed on the other side of the base film layer where no circuit is formed. A multi-layer FPC can be easily obtained by punching through holes by alkali etching and laminating and laminating a plurality of single-sided FPCs.
【0041】また、全てがポリイミドからなるボンディ
ングシートと、ポリイミド以外のベースフィルム層を用
いたボンディングシートを任意に組み合わせて用い、ア
ルカリエッチングにより穴開け加工する層と穴開け加工
しない層とを積層してなる多層FPCを得ることもでき
る。Further, a bonding sheet made entirely of polyimide and a bonding sheet using a base film layer other than polyimide are arbitrarily combined, and a layer to be punched by alkali etching and a layer not to be punched are laminated. It is also possible to obtain a multilayer FPC having
【0042】このように、本発明のボンディングシート
は両面FPCや多層FPC材料として好適に用いること
ができ、またリジット−フレックス基板材料やLOCパ
ッケージ、MCM等の新規高密度実装材料用途にも好適
であり、その他用途は特に限定されない。As described above, the bonding sheet of the present invention can be suitably used as a double-sided FPC or multi-layer FPC material, and is also suitable for a rigid-flex substrate material, a new high-density mounting material such as LOC package, MCM and the like. Yes, other uses are not particularly limited.
【0043】以上、本発明に係るボンディングシートに
ついて説明したが、本発明はこれらの実施例のみに限定
されるものではなく、ベースフィルムとしてだけでな
く、カバーレイフィルムとして用いてもよい。その他、
本発明はその趣旨を逸脱しない範囲内で当業者の知識に
基づき、種々なる改良、変更、修正を加えた態様で実施
しうるものである。Although the bonding sheet according to the present invention has been described above, the present invention is not limited to these examples and may be used not only as a base film but also as a cover lay film. Other,
The present invention can be carried out in various modes with various improvements, changes and modifications based on the knowledge of those skilled in the art without departing from the spirit of the present invention.
【0044】以下に実施例により本発明をより具体的に
説明するが、本発明はこれら実施例によって限定される
ものではない。なお、実施例中、DMFはN,N-ジメチル
ホルムアミドである。また、BAPPは2,2-ビス〔4-
(4-アミノフェノキシ)フェニル〕プロパンであり、E
SDAは2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパンジ
ベンゾエート-3,3',4,4'- テトラカルボン酸二無水物、
BTDAは3,3',4,4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物、EGDAは3,3',4,4'-エチレングリコールジ
ベンゾエートテトラカルボン酸二無水物、TMPGは3,
3',4,4'-プロピレングリコールベンゾエートテトラカル
ボン酸二無水物である。Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. In the examples, DMF is N, N-dimethylformamide. Also, BAPP is 2,2-bis [4-
(4-aminophenoxy) phenyl] propane, and E
SDA is 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propanedibenzoate-3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride,
BTDA is 3,3 ', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, EGDA is 3,3', 4,4'-ethylene glycol dibenzoate tetracarboxylic dianhydride, TMPG is 3,
It is 3 ', 4,4'-propylene glycol benzoate tetracarboxylic dianhydride.
【0045】実施例 1 攪拌機を備えた500ml三口セパラブルフラスコ(1) に
BAPP16.4g(40mmol)とDMF140.
0gを入れ、窒素雰囲気下で攪拌し充分溶かした。次
に、50mlナスフラスコ(2) にBTDA2.6g(8m
mol)及びESDA17.9g(31mmol)を採
取し、セパラブルフラスコ(1) のBAPP溶液中に固体
状で添加した。ナスフラスコ(2) の壁面は5gのDMF
により洗浄しセパラブルフラスコ(1) 中へ流し入れた。
約1時間攪拌しながら放置した後、0.6g(1mmo
l)のESDAをDMF5.0gに溶かした溶液を、セ
パラブルフラスコ(1) 中に、該セパラブルフラスコ(1)
中のワニス粘度に注意しながら徐々に投入した。最大粘
度に達した後、ESDA溶液の投入を終了し、ポリアミ
ド酸溶液を得た。Example 1 In a 500 ml three-neck separable flask (1) equipped with a stirrer, 16.4 g (40 mmol) of BAPP and 140.
0 g was added and stirred under a nitrogen atmosphere to sufficiently dissolve it. Next, 2.6 g (8 m) of BTDA was placed in a 50 ml eggplant flask (2).
mol) and 17.9 g (31 mmol) of ESDA were collected and added as a solid to the BAPP solution in the separable flask (1). The wall surface of the eggplant flask (2) is 5 g of DMF.
It was washed with and poured into a separable flask (1).
After standing for about 1 hour with stirring, 0.6 g (1 mmo
The solution obtained by dissolving 1) of ESDA in 5.0 g of DMF in a separable flask (1)
The varnish inside was gradually added while paying attention to the viscosity. After reaching the maximum viscosity, the addition of the ESDA solution was terminated to obtain a polyamic acid solution.
【0046】一方、100mlメスフラスコ(3) にイソキ
ノリン10.0gと無水酢酸10.0g、DMF10.
0gをとりよく攪拌した。そして、上記作製したポリア
ミド酸溶液100gに、このメスフラスコ(3) 中の溶液
を加えて2分間よく攪拌し、脱気した。この溶液をPE
Tフィルム上に塗布し、80℃で25分間加熱し、PE
Tフィルムを剥がした後、端部を固定して100℃から
250℃へ連続的に昇温し、昇温後5分間加熱してイミ
ド化させることにより、ポリイミド接着剤フィルムを得
た。On the other hand, in a 100 ml volumetric flask (3), 10.0 g of isoquinoline, 10.0 g of acetic anhydride, DMF10.
0 g was stirred well. Then, the solution in the volumetric flask (3) was added to 100 g of the polyamic acid solution prepared above, and well stirred for 2 minutes to degas. This solution is PE
Apply on T film, heat at 80 ℃ for 25 minutes, PE
After peeling off the T film, the end was fixed and the temperature was continuously raised from 100 ° C. to 250 ° C., and after the temperature was raised, it was heated for 5 minutes to imidize to obtain a polyimide adhesive film.
【0047】得られたポリイミド接着剤フィルムについ
て、ガラス転移温度(℃)、吸水率(%)、誘電率を調
べた。ガラス転移温度についてはTMAにより測定し、
吸水率についてはASTM D−570に従って20℃
の純水中に浸した後の重量変化率を測定した。また、誘
電率についてはQメーター法(常態、1MHz)により
測定した。The glass transition temperature (° C.), water absorption (%) and dielectric constant of the obtained polyimide adhesive film were examined. The glass transition temperature is measured by TMA,
Water absorption rate is 20 ° C according to ASTM D-570
The rate of change in weight after immersion in pure water was measured. The dielectric constant was measured by the Q meter method (normal state, 1 MHz).
【0048】そして、上記得られたポリイミド接着剤フ
ィルムを、「アピカル(登録商標;ポリイミドフィル
ム,鐘淵化学工業株式会社製)」の両面に重ねて240
℃、20kg/cm2 の条件で10分間加熱プレスして本発
明のボンディングシートを得た。Then, the polyimide adhesive film obtained above was overlaid on both sides of "Apical (registered trademark; polyimide film, manufactured by Kanegafuchi Chemical Industry Co., Ltd.)" and 240
The bonding sheet of the present invention was obtained by hot-pressing for 10 minutes at 20 ° C. and 20 kg / cm 2 .
【0049】得られたボンディングシートの接着強度を
調べるため、該ボンディングシートの両面に銅箔(35
μm厚)を重ねて240℃、20kg/cm2 の条件で1時
間加熱プレスしてフレキシブル両面銅張積層板を得て、
該銅張積層板を用いてJISK6481に従い、そのピ
ール強度(kg/cm)を測定した。これらの結果を表1に
示す。In order to examine the adhesive strength of the obtained bonding sheet, copper foil (35
μm thickness) and heat press for 1 hour at 240 ° C., 20 kg / cm 2 to obtain a flexible double-sided copper clad laminate,
The peel strength (kg / cm) of the copper-clad laminate was measured according to JIS K6481. Table 1 shows the results.
【0050】[0050]
【表1】 [Table 1]
【0051】実施例 2 BTDAとESDAの割合をBTDA4.5g(14m
mol)及びESDA14.4g(25mmol)に、
BAPPを溶解させるのに用いるDMFの使用量を13
4.0gに変えた以外は実施例1と同様にしてポリアミ
ド酸溶液を得て、更にポリイミド接着剤フィルムを得
た。得られたポリイミド接着剤フィルムについて、実施
例1と同様にガラス転移温度(℃)、吸水率(%)及び
誘電率を測定した。Example 2 The ratio of BTDA and ESDA was 4.5 g (14 m) of BTDA.
mol) and 14.4 g (25 mmol) of ESDA,
The amount of DMF used to dissolve BAPP is 13
A polyamic acid solution was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount was changed to 4.0 g, and further a polyimide adhesive film was obtained. With respect to the obtained polyimide adhesive film, the glass transition temperature (° C.), the water absorption rate (%) and the dielectric constant were measured in the same manner as in Example 1.
【0052】このポリイミド接着剤フィルムを用いた以
外は実施例1と同様にして本発明のボンディングシート
を得た。得られたボンディングシートについて、実施例
1と同様にしてピール強度(kg/cm)を測定した。これ
らの結果を表1に示す。A bonding sheet of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except that this polyimide adhesive film was used. The peel strength (kg / cm) of the obtained bonding sheet was measured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.
【0053】実施例 3 BTDAとESDAの割合をBTDA6.4g(20m
mol)及びESDA11.0g(19mmol)に、
BAPPを溶解させるのに用いるDMFの使用量を13
4.0gに変えた以外は実施例1と同様にしてポリアミ
ド酸溶液を得て、更にポリイミド接着剤フィルムを得
た。得られたポリイミド接着剤フィルムについて、実施
例1と同様にガラス転移温度(℃)、吸水率(%)及び
誘電率を測定した。Example 3 The ratio of BTDA to ESDA was 6.4 g (20 m) of BTDA.
mol) and 11.0 g (19 mmol) of ESDA,
The amount of DMF used to dissolve BAPP is 13
A polyamic acid solution was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount was changed to 4.0 g, and further a polyimide adhesive film was obtained. With respect to the obtained polyimide adhesive film, the glass transition temperature (° C.), the water absorption rate (%) and the dielectric constant were measured in the same manner as in Example 1.
【0054】このポリイミド接着剤フィルムを用いた以
外は実施例1と同様にして本発明のボンディングシート
を得た。得られたボンディングシートについて、実施例
1と同様にしてピール強度(kg/cm)を測定した。これ
らの結果を表1に示す。A bonding sheet of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except that this polyimide adhesive film was used. The peel strength (kg / cm) of the obtained bonding sheet was measured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.
【0055】比較例 1 比較のため、BTDAとBAPPからなる熱可塑性ポリ
イミド重合体を接着剤層とするボンディングシートを得
た。詳しくは、攪拌機を備えた500ml三口セパラブル
フラスコ(1) にBAPP16.4g(40mmol)と
DMF105.4gを入れ、窒素雰囲気下で攪拌し充分
溶かした。次に、50mlナスフラスコ(2) にBTDA1
2.3g(38mmol)を採取し、セパラブルフラス
コ(1) のBAPP溶液中に固体状で添加した。ナスフラ
スコ(2) の壁面は5gのDMFにより洗浄しセパラブル
フラスコ(1) 中へ流し入れた。約1時間攪拌しながら放
置した後、0.6g(2mmol)のBTDAをDMF
8.0gに溶かした溶液を、セパラブルフラスコ(1) 中
に、該セパラブルフラスコ(1) 中のワニス粘度に注意し
ながら徐々に投入した。最大粘度に達した後、BTDA
の溶液の投入を終了し、ポリアミド酸溶液を得た。この
ポリアミド酸溶液を用いて、実施例1と同様に製膜を行
いイミド化してポリイミド接着剤フィルムを得た。得ら
れたポリイミド接着剤フィルムについて、実施例1と同
様にガラス転移温度(℃)、吸水率(%)及び誘電率を
測定した。Comparative Example 1 For comparison, a bonding sheet having a thermoplastic polyimide polymer composed of BTDA and BAPP as an adhesive layer was obtained. Specifically, 16.4 g (40 mmol) of BAPP and 105.4 g of DMF were placed in a 500 ml three-neck separable flask (1) equipped with a stirrer, and stirred under a nitrogen atmosphere to sufficiently dissolve them. Next, BTDA1 is put in a 50 ml eggplant flask (2).
2.3 g (38 mmol) was taken and added as a solid to the BAPP solution in the separable flask (1). The wall surface of the eggplant flask (2) was washed with 5 g of DMF and poured into the separable flask (1). After standing for about 1 hour with stirring, 0.6 g (2 mmol) of BTDA was added to DMF.
The solution dissolved in 8.0 g was gradually added to the separable flask (1) while paying attention to the viscosity of the varnish in the separable flask (1). After reaching the maximum viscosity, BTDA
Then, the addition of the solution was completed to obtain a polyamic acid solution. Using this polyamic acid solution, a film was formed and imidized in the same manner as in Example 1 to obtain a polyimide adhesive film. With respect to the obtained polyimide adhesive film, the glass transition temperature (° C.), the water absorption rate (%) and the dielectric constant were measured in the same manner as in Example 1.
【0056】このポリイミド接着剤フィルムを用いた以
外は実施例1と同様にして本発明のボンディングシート
を得た。得られたボンディングシートについて、実施例
1と同様にしてピール強度(kg/cm)を測定した。これ
らの結果を表1に示す。A bonding sheet of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except that this polyimide adhesive film was used. The peel strength (kg / cm) of the obtained bonding sheet was measured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.
【0057】比較例 2 比較のため、ESDAの割合を少なくした熱可塑性ポリ
イミド共重合体を接着剤層とするボンディングシートを
得た。詳しくは、攪拌機を備えた500ml三口セパラブ
ルフラスコ(1) にBAPP16.4g(40mmol)
とDMF115.4gを入れ、窒素雰囲気下で攪拌し充
分溶かした。次に、50mlナスフラスコ(2) にBTDA
10.3g(32mmol)及びESDA4.0g(7
mmol)を採取し、セパラブルフラスコ(1) のBAP
P溶液中に固体状で添加した。ナスフラスコ(2) の壁面
は5gのDMFにより洗浄しセパラブルフラスコ(1) 中
へ流し入れた。約1時間攪拌しながら放置した後、0.
6g(1mmol)のESDAをDMF5.0gに溶か
した溶液を、セパラブルフラスコ(1) 中に、該セパラブ
ルフラスコ(1) 中のワニス粘度に注意しながら徐々に投
入した。最大粘度に達した後、ESDAの溶液の投入を
終了し、ポリアミド酸溶液を得た。このポリアミド酸溶
液を用いて、実施例1と同様に製膜を行いイミド化して
ポリイミド接着剤フィルムを得た。得られたポリイミド
接着剤フィルムについて、実施例1と同様にガラス転移
温度(℃)、吸水率(%)及び誘電率を測定した。Comparative Example 2 For comparison, a bonding sheet using a thermoplastic polyimide copolymer having a reduced proportion of ESDA as an adhesive layer was obtained. Specifically, 16.4 g (40 mmol) of BAPP was placed in a 500 ml three-neck separable flask (1) equipped with a stirrer.
And 115.4 g of DMF were added, and the mixture was stirred under a nitrogen atmosphere to be sufficiently dissolved. Next, BTDA is put in a 50 ml eggplant flask (2).
10.3 g (32 mmol) and ESDA 4.0 g (7
mmol) and collect BAP of separable flask (1)
It was added as a solid in the P solution. The wall surface of the eggplant flask (2) was washed with 5 g of DMF and poured into the separable flask (1). After leaving it for about 1 hour while stirring,
A solution prepared by dissolving 6 g (1 mmol) of ESDA in 5.0 g of DMF was gradually added to the separable flask (1) while paying attention to the viscosity of the varnish in the separable flask (1). After reaching the maximum viscosity, the addition of the ESDA solution was terminated to obtain a polyamic acid solution. Using this polyamic acid solution, a film was formed and imidized in the same manner as in Example 1 to obtain a polyimide adhesive film. The glass transition temperature (° C.), water absorption rate (%) and dielectric constant of the obtained polyimide adhesive film were measured in the same manner as in Example 1.
【0058】このポリイミド接着剤フィルムを用いた以
外は実施例1と同様にして本発明のボンディングシート
を得た。得られたボンディングシートについて、実施例
1と同様にしてピール強度(kg/cm)を測定した。これ
らの結果を表1に示す。A bonding sheet of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except that this polyimide adhesive film was used. The peel strength (kg / cm) of the obtained bonding sheet was measured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.
【0059】実施例 4〜6 ESDAに変えてEGDAを用いた以外は実施例1〜3
と同様にしてポリアミド酸共重合体溶液を得て、更にポ
リイミド接着剤フィルムを得た。なお、実施例4〜6で
のEGDAの具体的使用量は、12.7g(31mmo
l),10.3g(25mmol),7.8g(19m
mol)である。また、BAPPを溶解させるのに用い
るDMFの使用量は、得られるポリアミド酸共重合体溶
液の粘性に応じて適宜変更し、実施例4では119.0
g,実施例5では126.0g,実施例6では114.
0gのDMFを用いた。得られた各ポリイミド接着剤フ
ィルムについて、実施例1と同様にしてガラス転移温度
(℃)、吸水率(%)、誘電率を測定した。Examples 4 to 6 Examples 1 to 3 except that EGDA was used instead of ESDA.
A polyamic acid copolymer solution was obtained in the same manner as in, and further a polyimide adhesive film was obtained. The specific amount of EGDA used in Examples 4 to 6 was 12.7 g (31 mmo).
l), 10.3 g (25 mmol), 7.8 g (19 m
mol). Further, the amount of DMF used for dissolving BAPP is appropriately changed according to the viscosity of the obtained polyamic acid copolymer solution, and in Example 4, 119.0.
g, 126.0 g in the fifth embodiment, and 114.g in the sixth embodiment.
0 g of DMF was used. With respect to each of the obtained polyimide adhesive films, the glass transition temperature (° C.), the water absorption rate (%) and the dielectric constant were measured in the same manner as in Example 1.
【0060】そして、上記ポリイミド接着剤フィルムを
用い、以下実施例1と同様にして本発明のボンディング
シートを得て、それぞれのボンディングシートについ
て、実施例1と同様にしてピール強度(kg/cm)を測定
した。これらの結果を表2に示す。Then, using the above polyimide adhesive film, a bonding sheet of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1, and the peel strength (kg / cm) of each bonding sheet was obtained in the same manner as in Example 1. Was measured. Table 2 shows the results.
【0061】[0061]
【表2】 [Table 2]
【0062】比較例 3 比較のため、ESDAに変えてEGDAを用いた以外は
比較例2と同様にしてポリアミド酸共重合体溶液を得
て、EGDAの割合を少なくしたポリイミド接着剤フィ
ルムを得た。なお、EGDAの具体的使用量は、2.9
g(7mmol)であり、DMFは110.0g用いて
BAPPを溶解させた。得られたポリイミド接着剤フィ
ルムについて、実施例1と同様にしてガラス転移温度
(℃)、吸水率(%)、誘電率を測定した。Comparative Example 3 For comparison, a polyamic acid copolymer solution was obtained in the same manner as in Comparative Example 2 except that EGDA was used instead of ESDA, and a polyimide adhesive film with a reduced EGDA ratio was obtained. . The specific amount of EGDA used is 2.9.
g (7 mmol), and 110.0 g of DMF was used to dissolve BAPP. With respect to the obtained polyimide adhesive film, the glass transition temperature (° C.), the water absorption rate (%) and the dielectric constant were measured in the same manner as in Example 1.
【0063】そして、このポリイミド接着剤フィルムを
用いて実施例1と同様にしてボンディングシートを得
て、得られたボンディングシートについてピール強度
(kg/cm)を測定した。これらの結果を比較例1の結果
とともに表2に示した。Using this polyimide adhesive film, a bonding sheet was obtained in the same manner as in Example 1, and the peel strength (kg / cm) of the obtained bonding sheet was measured. These results are shown in Table 2 together with the results of Comparative Example 1.
【0064】実施例 7〜9 ESDAに変えてTMPGを用いた以外は実施例1〜3
と同様にしてポリアミド酸共重合体溶液を得て、更にポ
リイミド接着剤フィルムを得た。なお、実施例7〜9で
のTMPGの具体的使用量は、13.1g(31mmo
l),10.6g(25mmol),8.1g(19m
mol)である。また、BAPPを溶解させるのに用い
るDMFの使用量は、得られるポリアミド酸共重合体溶
液の粘性に応じて適宜変更し、実施例7では120.0
g,実施例8では118.0g,実施例9では115.
0gのDMFを用いた。得られた各ポリイミド接着剤フ
ィルムについて、実施例1と同様にしてガラス転移温度
(℃)、吸水率(%)、誘電率を測定した。Examples 7 to 9 Examples 1 to 3 except that TMPG was used instead of ESDA.
A polyamic acid copolymer solution was obtained in the same manner as in, and further a polyimide adhesive film was obtained. The specific amount of TMPG used in Examples 7 to 9 was 13.1 g (31 mmo).
l), 10.6 g (25 mmol), 8.1 g (19 m
mol). Further, the amount of DMF used for dissolving BAPP is appropriately changed according to the viscosity of the obtained polyamic acid copolymer solution, and in Example 7, 120.0
g, 118.0 g in Example 8 and 115.g in Example 9.
0 g of DMF was used. With respect to each of the obtained polyimide adhesive films, the glass transition temperature (° C.), the water absorption rate (%) and the dielectric constant were measured in the same manner as in Example 1.
【0065】そして、上記ポリイミド接着剤フィルムを
用い、以下実施例1と同様にして本発明のボンディング
シートを得て、それぞれのボンディングシートについ
て、実施例1と同様にしてピール強度(kg/cm)を測定
した。これらの結果を表3に示す。Then, using the above-mentioned polyimide adhesive film, a bonding sheet of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1, and the peel strength (kg / cm) of each bonding sheet was obtained in the same manner as in Example 1. Was measured. Table 3 shows the results.
【0066】[0066]
【表3】 [Table 3]
【0067】比較例 4 比較のため、ESDAに変えてTMPGを用いた以外は
比較例2と同様にしてポリアミド酸共重合体溶液を得
て、TMPGの割合を少なくしたポリイミド接着剤フィ
ルムを得た。なお、TMPGの具体的使用量は、3.0
g(7mmol)であり、DMFは110.0g用いて
BAPPを溶解させた。得られたポリイミド接着剤フィ
ルムについて、実施例1と同様にしてガラス転移温度
(℃)、吸水率(%)、誘電率を測定した。Comparative Example 4 For comparison, a polyamic acid copolymer solution was obtained in the same manner as in Comparative Example 2 except that TMPG was used instead of ESDA to obtain a polyimide adhesive film having a reduced TMPG ratio. . The specific amount of TMPG used is 3.0
g (7 mmol), and 110.0 g of DMF was used to dissolve BAPP. With respect to the obtained polyimide adhesive film, the glass transition temperature (° C.), the water absorption rate (%) and the dielectric constant were measured in the same manner as in Example 1.
【0068】そして、このポリイミド接着剤フィルムを
用いて実施例1と同様にしてボンディングシートを得
て、得られたボンディングシートについてピール強度
(kg/cm)を測定した。これらの結果を比較例1の結果
とともに表3に示した。Using this polyimide adhesive film, a bonding sheet was obtained in the same manner as in Example 1, and the peel strength (kg / cm) of the obtained bonding sheet was measured. These results are shown in Table 3 together with the results of Comparative Example 1.
【0069】表1〜3より、ジアミン成分としてBAP
Pを用い、酸二無水物成分としてESDA(又はEGD
A、又はTMPG)とBTDAとを混合し、該酸二無水
物成分のモル比(〔ESDA(又はEGDA、又はTM
PG)〕:〔BTDA〕)を50:50〜99:1とし
て用いて得たポリイミド接着剤フィルムは、ガラス転移
温度が低く、低吸水率、低誘電率特性を示すことがわか
る。From Tables 1 to 3, BAP was used as the diamine component.
Using P, ESDA (or EGD as an acid dianhydride component)
A or TMPG) and BTDA are mixed, and the molar ratio of the dianhydride component ([ESDA (or EGDA, or TM
It can be seen that the polyimide adhesive film obtained by using PG)]: [BTDA]) at 50:50 to 99: 1 has a low glass transition temperature, low water absorption and low dielectric constant.
【0070】また、本発明のボンディングシートは、低
温で優れた接着性を示すものであり、銅箔等を重ね合わ
せて低温(240℃)でラミネートすることにより安易
に銅張積層板を作製できることがわかる。なお、本発明
のボンディングシートは優れた耐熱性を示し、高温下で
も接着剤層が劣化することなく、優れた接着性を保持し
ていた。Further, the bonding sheet of the present invention exhibits excellent adhesiveness at low temperature, and a copper clad laminate can be easily produced by stacking copper foils and the like and laminating at low temperature (240 ° C.). I understand. It should be noted that the bonding sheet of the present invention exhibited excellent heat resistance and maintained excellent adhesiveness without deterioration of the adhesive layer even at high temperatures.
【0071】[0071]
【発明の効果】以上のように、本発明のボンディングシ
ートは、ベースフィルム層と、その両側又は片側に配設
した前記一般式(1)(2)で表される繰り返し単位の
モル分率(〔1〕/〔2〕)が、50/50から99/
1の範囲である芳香族ポリイミド共重合体からなる接着
剤層とから構成されることを特徴とし、該芳香族ポリイ
ミド共重合体は低吸水性を示し、本発明のボンディング
シートとしての供給を可能とした。INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, the bonding sheet of the present invention comprises the base film layer and the mole fractions of the repeating units represented by the general formulas (1) and (2) arranged on both sides or one side of the base film layer ( [1] / [2]) is 50/50 to 99 /
It is characterized by comprising an adhesive layer composed of an aromatic polyimide copolymer in the range of 1, and the aromatic polyimide copolymer exhibits low water absorption, and can be supplied as the bonding sheet of the present invention. And
【0072】また、この芳香族ポリイミド共重合体はガ
ラス転移温度が低く、ガラス転移温度に近い温度でラミ
ネートすることにより優れた接着性を示し、更に低誘電
特性示すものである。また、優れた耐熱性を有し、高温
下でもその優れた接着性が保持される。従って、該芳香
族ポリイミド共重合体を接着剤とする本発明のボンディ
ングシートは、FPCの製造工程において接着剤層の劣
化を起こすことなく、FPC等のベースフィルムとして
好適に用いることができる。Further, this aromatic polyimide copolymer has a low glass transition temperature, exhibits excellent adhesiveness when laminated at a temperature close to the glass transition temperature, and further exhibits low dielectric properties. Further, it has excellent heat resistance and maintains its excellent adhesiveness even at high temperatures. Therefore, the bonding sheet of the present invention using the aromatic polyimide copolymer as an adhesive can be suitably used as a base film for FPC or the like without causing deterioration of the adhesive layer in the FPC manufacturing process.
【0073】特に、全てがポリイミド系で構成されたボ
ンディングシートは、アルカリエッチングにより容易に
穴開け加工することができるので、FPCを作製する場
合に、かかるボンディングシートの両側に銅箔を重ねて
熱圧着して銅張積層板を作製し、該銅張積層板をエッチ
ング加工して配線パターンを形成した後、更にポリイミ
ドをアルカリエッチングにより穴開け加工して比較的簡
単に両面FPCを作製することができる。同様に、多層
FPC材料としても好適に用いることができ、その他、
リジット−フレックス基板材料やLOCパッケージ、M
CM等の新規高密度実装材料用途にも好適である。In particular, since a bonding sheet made entirely of polyimide can be easily punched by alkali etching, when an FPC is manufactured, copper foil is laminated on both sides of the bonding sheet and heat is applied. A double-sided FPC can be produced relatively easily by pressure-bonding to produce a copper-clad laminate, etching the copper-clad laminate to form a wiring pattern, and then punching a polyimide with alkali to make holes. it can. Similarly, it can be suitably used as a multilayer FPC material, and
Rigid-flex board material, LOC package, M
It is also suitable for new high-density packaging material applications such as CM.
【0074】すなわち、本発明のボンディングシートは
優れた耐熱性、加工性、接着性を実現でき、特には低吸
湿性、低誘電特性を併せ持つベースフィルムとして両面
FPCや多層FPC、リジット−フレックス基板材料、
LOCパッケージ、MCM等の新規高密度実装材料用途
等に好適に用いることができ、広範な利用が期待でき
る。That is, the bonding sheet of the present invention can realize excellent heat resistance, workability, and adhesiveness, and particularly as a base film having low hygroscopicity and low dielectric properties, double-sided FPC, multi-layer FPC, rigid-flex substrate material. ,
It can be suitably used for new high-density mounting material applications such as LOC packages and MCMs, and is expected to be widely used.
Claims (2)
に配設した一般式(1)化1 【化1】 及び一般式(2)化2 【化2】 (式(1)(2)中、Ar1 は2価の有機基、Ar2 は4価の芳香
族基、Ar3 は2価の芳香族基を示す。)で表される繰り
返し単位を有し、上記繰り返し単位(1)(2)のモル
分率(〔1〕/〔2〕)が、50/50から99/1の
範囲である芳香族ポリイミド共重合体からなる接着剤層
とから構成されることを特徴とするボンディングシー
ト。1. A base film layer and a compound represented by the general formula (1), which is provided on both sides or one side of the base film layer. And the general formula (2): (In the formulas (1) and (2), Ar 1 represents a divalent organic group, Ar 2 represents a tetravalent aromatic group, and Ar 3 represents a divalent aromatic group.) Then, the repeating unit (1) or (2) has a molar fraction ([1] / [2]) in the range of 50/50 to 99/1 and an adhesive layer made of an aromatic polyimide copolymer. A bonding sheet characterized by being configured.
Ar1 が化3 【化3】 で表される2価の有機基のいずれかであり、Ar2 が化4 【化4】 で表される4価の芳香族基であり、Ar3 が化5 【化5】 で表される2価の芳香族基であることを特徴とする請求
項1に記載するボンディングシート。2. In the general formula (1) and the general formula (2),
Ar 1 is chemical 3 [chemical 3] Is one of the divalent organic groups represented by, and Ar 2 is Ar 3 is a tetravalent aromatic group represented by The bonding sheet according to claim 1, which is a divalent aromatic group represented by:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3159995A JPH08199124A (en) | 1995-01-26 | 1995-01-26 | Bonding sheet |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3159995A JPH08199124A (en) | 1995-01-26 | 1995-01-26 | Bonding sheet |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08199124A true JPH08199124A (en) | 1996-08-06 |
Family
ID=12335669
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3159995A Withdrawn JPH08199124A (en) | 1995-01-26 | 1995-01-26 | Bonding sheet |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08199124A (en) |
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-
1995
- 1995-01-26 JP JP3159995A patent/JPH08199124A/en not_active Withdrawn
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