JPH10126019A - Flexible printed board, fc tape, and tab(tape automated bonding) tape composed of fc tape - Google Patents
Flexible printed board, fc tape, and tab(tape automated bonding) tape composed of fc tapeInfo
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- JPH10126019A JPH10126019A JP30944596A JP30944596A JPH10126019A JP H10126019 A JPH10126019 A JP H10126019A JP 30944596 A JP30944596 A JP 30944596A JP 30944596 A JP30944596 A JP 30944596A JP H10126019 A JPH10126019 A JP H10126019A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体デバイスの
組立て工程において、デバイスの多ピン化、小型化、高
密度実装に際し、注目されているTAB(Tape Automat
ed Bonding) 方式に用いられる保護層、接着剤層及び有
機絶縁フィルムの3層構造からなるテープ(以下、FC
テープという。)、及びFCテープに銅箔を張り合わせ
回路を描いたTABテープ、及び、温度変化に対し寸法
変化が小さく、また吸湿寸法変化も小さい、耐熱性に優
れたフレキシブルプリント基板(以下、FPCと略す
る。)に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a TAB (Tape Automat) which has been attracting attention in the process of assembling a semiconductor device in increasing the number of pins, reducing the size, and mounting the device at a high density.
ed Bonding) Tape (hereinafter referred to as FC) having a three-layer structure of a protective layer, an adhesive layer, and an organic insulating film used in the system.
It is called tape. ), And a TAB tape in which a copper foil is bonded to an FC tape to draw a circuit, and a flexible printed circuit board (hereinafter abbreviated as FPC) which is small in dimensional change with respect to temperature change and small in hygroscopic dimensional change and excellent in heat resistance. .).
【0002】[0002]
【0003】近年、各種電子機器において、プリント回
路基板及び接続ケーブルとして柔軟性にすぐれているフ
レキシブルプリント基板(以下、FPCという。)が多
く使用されている。FPCは、長尺の絶縁材であるベー
スフィルムをロールツーロールで、接着剤塗布・乾
燥、銅箔ラミネーティング・接着剤硬化、配置パタ
ーン形成(レジスト塗布・銅のエッチング・レジスト剥
離)というような加工工程により製造される。一般にパ
ターン形成時、エッチング処理工程において寸法変化を
生じるため、回路設計の際、以後の工程の変化を予め考
慮し、設計する必要があった。[0003] In recent years, flexible printed circuit boards (hereinafter, referred to as FPC) having excellent flexibility have been widely used as printed circuit boards and connection cables in various electronic devices. FPC is a roll-to-roll method for applying a base film, which is a long insulating material, to adhesive coating and drying, laminating copper foil, curing adhesive, and forming an arrangement pattern (resist coating, copper etching, resist stripping). It is manufactured by a processing step. In general, when a pattern is formed, a dimensional change occurs in an etching process. Therefore, when designing a circuit, it is necessary to design the circuit in consideration of changes in subsequent processes in advance.
【0004】この寸法変化は、FPCの絶縁材である
ベースフィルムの吸湿・脱湿による寸法変化、銅箔ラ
ミネート時に生じる銅箔とベースフィルムの熱膨張の差
による歪み、及び各工程に生じる張力による歪みが原
因で生じる。This dimensional change is caused by dimensional change due to moisture absorption and dehumidification of the base film, which is an insulating material of the FPC, distortion due to a difference in thermal expansion between the copper foil and the base film generated during lamination of the copper foil, and tension generated in each process. Caused by distortion.
【0005】このうち、の原因による寸法変化は、ベ
ースフィルムの熱膨張係数が一定であれば、この寸法変
化量を容易に設計に取り込めることができる。また、
の原因による寸法変化は、各工程の張力をコントロール
することにより、制御することができ、この寸法変化量
も容易に設計に取り込めることができる。Among these, the dimensional change caused by the above can be easily incorporated into the design if the coefficient of thermal expansion of the base film is constant. Also,
The dimensional change due to the cause can be controlled by controlling the tension in each step, and the dimensional change can be easily incorporated into the design.
【0006】しかし、FPCの製造工程は、洗浄工程な
どで、吸湿したり、乾燥したりする工程が繰り返される
ため、のベースフィルムの吸湿・脱湿による寸法変化
をコントロールすることは困難であった。However, in the manufacturing process of the FPC, a process of absorbing moisture and drying is repeated in a washing process and the like, so that it is difficult to control a dimensional change due to moisture absorption and dehumidification of the base film. .
【0007】従来の絶縁材であるベースフィルムは、そ
の特性において一般に吸湿膨張係数が大きいため、FP
C製造工程における吸湿・脱湿による寸法変化が大き
く、また上記理由により解決されない問題であった。[0007] A base film which is a conventional insulating material generally has a large hygroscopic expansion coefficient due to its characteristics.
The dimensional change due to moisture absorption and dehumidification in the C production process was large, and was a problem that could not be solved for the above reasons.
【0008】また、近年、半導体デバイスの多ピン化、
小型化、高密度実装に対応できる技術として、長尺の絶
縁フィルムにLSI等の半導体チップを載置するための
孔(デバイスホール)を設け、その上に非常に薄い銅箔
リードを形成し、このリードを介してLSI等とプリン
ト配線板などを接続するTAB技術が注目されている。
このようなTAB技術において、一般に保護層、接着剤
層、及び有機絶縁フィルム層(ベースフィルム層)の3
層構造からなるFCテープが用いられており、FCテー
プを加工したTABテープ上にLSI等を実装するまで
の加工工程は以下のようにして行われる。In recent years, the number of pins of semiconductor devices has been increased,
As a technology that can respond to miniaturization and high-density mounting, a hole (device hole) for mounting a semiconductor chip such as an LSI is provided on a long insulating film, and a very thin copper foil lead is formed on it. TAB technology for connecting an LSI or the like to a printed wiring board or the like via these leads has attracted attention.
In such TAB technology, generally, a protective layer, an adhesive layer, and an organic insulating film layer (base film layer) are used.
An FC tape having a layered structure is used, and the processing steps up to mounting an LSI or the like on a TAB tape obtained by processing the FC tape are performed as follows.
【0009】すなわち、TABテープの加工工程は、
パンチングによりスプロケットホール、デバイスホール
を形成する工程、保護層を除去した後、銅箔ラミネー
ティング後、接着剤を硬化する工程、配置パターン形
成工程(レジスト塗布、銅のエッチング、レジスト剥
離)、メッキ処理工程、インナーリードボンディン
グ工程、樹脂封止工程、パンチング工程、アウタ
ーリードボンディング工程の8工程で行われ、以上の加
工工程を経て、LSIが実装されるのである。That is, the processing steps of the TAB tape are as follows:
Steps of forming sprocket holes and device holes by punching, removing protective layers, laminating copper foil, curing adhesives, forming arrangement patterns (resist coating, copper etching, resist peeling), plating This is performed in eight steps of a step, an inner lead bonding step, a resin sealing step, a punching step, and an outer lead bonding step, and the LSI is mounted through the above processing steps.
【0010】TABテープ上にLSIを実装するため、
パンチングの工程から、メッキ処理工程までは、張
力下で行われる。このため、ベースフィルムの弾性率が
低い場合は、伸びが生じ、細密パターンの回路を描くこ
とが困難であった。In order to mount an LSI on a TAB tape,
The steps from the punching step to the plating step are performed under tension. Therefore, when the elastic modulus of the base film is low, elongation occurs and it is difficult to draw a circuit of a fine pattern.
【0011】また、銅箔ラミネーティング、接着剤硬
化、インナーリードボンディング、樹脂封止、ア
ウターリードボンディングの加工工程においては、熱が
かけられるため、TABテープのベースフィルムの熱膨
張係数が大きいと不都合が生じる。例えば、インナー
リードボンディングの加工工程では、ベースフィルムの
熱膨張により、LSIとの接合位置のずれを生じる。同
様に、アウターリードボンディングの加工工程では、
アウターリードと基板との接合位置のずれを生じる。こ
のずれが生じると、接合が不可能となり、信頼性を低下
することとなる。Further, in the processing steps of copper foil laminating, adhesive curing, inner lead bonding, resin sealing, and outer lead bonding, heat is applied, so that it is inconvenient if the base film of the TAB tape has a large thermal expansion coefficient. Occurs. For example, in a processing step of inner lead bonding, a displacement of a bonding position with an LSI occurs due to thermal expansion of a base film. Similarly, in the outer lead bonding process,
The displacement of the joining position between the outer lead and the substrate occurs. If this shift occurs, joining becomes impossible, and the reliability is reduced.
【0012】また、銅箔ラミネーティングの加工工程
では、銅箔とともに加熱されるので、銅箔と異なった熱
挙動を示すと、つまり銅箔と異なった熱膨張係数を有す
るとカールの原因となる。カール、すなわち、TABテ
ープの反りが生じると、ボンディングの電気的な接続部
に歪みが生じ回路の電気的信頼性が低下するという問題
があった。Further, in the copper foil laminating processing step, since the copper foil is heated together with the copper foil, if it exhibits a different thermal behavior from the copper foil, that is, if it has a different thermal expansion coefficient from the copper foil, it causes curling. . When the curl, that is, the warpage of the TAB tape occurs, there is a problem that the electrical connection portion of the bonding is distorted and the electrical reliability of the circuit is reduced.
【0013】また、ベースフィルムの吸水率が大きい場
合、の銅箔ラミネーティングの加工工程においては、
接着剤の硬化反応が終了して硬化用加熱炉から取り出さ
れた直後はベースフィルムが乾燥しているため、歪みな
く銅箔と固定されているが、この銅箔をラミネートした
状態で放置すると、ベースフィルムの性質から、時間と
共に徐々に吸湿膨張する。しかし、銅箔は吸湿膨張せ
ず、また、フィルムと比較して、剛性が高くフィルムの
膨張が原因で寸法変化を起こすこともないため、銅箔と
フィルムに挟まれた接着剤層に内部応力が蓄積されるこ
ととなる。When the water absorption of the base film is large, the copper foil laminating processing step
Immediately after the curing reaction of the adhesive is completed and taken out of the curing heating furnace, the base film is dried, so it is fixed to the copper foil without distortion, but when the copper foil is left in a laminated state, Due to the nature of the base film, it gradually expands and absorbs moisture with time. However, copper foil does not absorb moisture and expand, and it has high rigidity compared to film and does not cause dimensional change due to film expansion.Therefore, internal stress is applied to the adhesive layer sandwiched between copper foil and film. Will be accumulated.
【0014】従って、この状態での配置パターン形成
工程(レジスト塗布、銅のエッチング、レジスト剥離)
において、乾燥と吸湿が繰り返されることになり、エッ
チングにより銅箔上に配線パターンを形成すると、エッ
チングにより、銅箔が除去された部分の応力が解放され
て寸法変化が生じ、配線パターン形成のためのフォトマ
スク寸法よりも大きなパターンが形成されることにな
る。その結果、半導体デバイスとの接続不良が発生し、
このような寸法変化はTAB加工工程における歩留り低
下の原因となっていた。Therefore, an arrangement pattern forming step in this state (resist coating, copper etching, resist peeling)
In the above, drying and moisture absorption will be repeated, and when a wiring pattern is formed on the copper foil by etching, the stress in the portion where the copper foil has been removed is released by etching, causing a dimensional change, and the wiring pattern is formed. Will be formed. As a result, connection failure with the semiconductor device occurs,
Such a dimensional change has caused a decrease in yield in the TAB processing step.
【0015】[0015]
【0016】上記の問題点を解決するために、FPCの
製造工程において、ベースフィルムの吸湿・脱湿による
寸法変化をコントロールするため、吸水率が低く、絶縁
材として吸湿膨張係数の小さい特性を有するベースフィ
ルムの出現が待たれていた。In order to solve the above-mentioned problems, in the manufacturing process of the FPC, a dimensional change due to moisture absorption / dehumidification of the base film is controlled. The appearance of the base film was awaited.
【0017】さらに、TABテープの製造工程における
上記問題点を解決するためには、具体的にはTABテー
プの加工工程において、インナーリードボンディング
の加工工程においては、LSI(シリコンウエハー)と
ベースフィルムの熱膨張係数が近いことが必要であり、
また、アウターリードボンディングの加工工程では、
接合する基板と、ベースフィルムの熱膨張係数が近いこ
と、さらに、銅箔ラミネーティングの加工工程では、
銅箔とベースフィルムの熱膨張係数が近いことが要求さ
れる。なお、LSIの熱膨張係数は0.4×10-5℃-1
であり、銅箔の熱膨張係数は1.6×10-5℃-1であ
る。Further, in order to solve the above-mentioned problems in the TAB tape manufacturing process, specifically, in the processing step of the TAB tape, and in the processing step of the inner lead bonding, an LSI (silicon wafer) and a base film are formed. It is necessary that the thermal expansion coefficient is close,
In the outer lead bonding process,
The substrate to be bonded and the base film have similar thermal expansion coefficients, and in the copper foil laminating process,
It is required that the copper foil and the base film have similar thermal expansion coefficients. The coefficient of thermal expansion of the LSI is 0.4 × 10 −5 ° C. −1
And the coefficient of thermal expansion of the copper foil is 1.6 × 10 −5 ° C. −1 .
【0018】以上のことより、TABテープ及び、FP
Cに用いられるベースフィルムは、高弾性率のフィルム
である必要がある。また、低い吸水率を有することも必
要であり、さらに、熱膨張係数が0.4×10-5℃-1〜
2.6×10-5℃-1程度であることが望ましい。これら
の性質を併せ有するベースフィルムを用いたTABテー
プの出現が待ち望まれていた。From the above, TAB tape and FP
The base film used for C needs to be a film having a high elastic modulus. In addition, it is necessary to have a low water absorption, and further, the coefficient of thermal expansion is 0.4 × 10 −5 ° C. -1 .
It is desirably about 2.6 × 10 −5 ° C. −1 . The emergence of a TAB tape using a base film having these properties has been awaited.
【0019】本発明の目的は、従来のFPC、FCテー
プ及びそれからなるTABテープにおける上記のような
問題を解決し、寸法変化を生じないフレキシブルプリン
ト基板、FCテープ及びそれに銅箔を張り合わせ回路を
描いたTABテープを提供することにある。そこで、本
発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、フレキシブルプリ
ント基板、また、FCテープ及びそれからなるTABテ
ープにおいて、特定の構造を有するポリアミド酸共重合
体を脱水閉環して得られるポリイミド共重合体からなる
ポリイミドフィルムをベースフィルムに用いることに想
到することにより、上記従来の問題点を解決して初期の
目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至
ったのである。An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems in the conventional FPC, FC tape and TAB tape comprising the same, and to draw a flexible printed circuit board which does not cause a dimensional change, an FC tape, and a circuit in which a copper foil is bonded thereto. To provide a TAB tape. Accordingly, the present inventors have conducted intensive studies and found that a polyimide copolymer obtained by dehydrating and ring-closing a polyamic acid copolymer having a specific structure in a flexible printed circuit board, or an FC tape and a TAB tape made of the same. By conceiving the use of a polyimide film composed of a united film as a base film, they have found that the above-mentioned conventional problems can be solved and the initial object can be achieved, and the present invention has been completed.
【0020】[0020]
【0021】本発明に係るフレキシブルプリント基板の
要旨とするところは、少なくとも導体層とベースフィル
ムとを積層してなるフレキシブルプリント基板におい
て、前記ベースフィルムが、吸水率が1.6%以下、吸
湿膨張係数が15ppm以下、または熱膨張係数が1.
0×10-5℃-1以上2.5×10-5℃-1以下のうち、1
以上の条件を満たすことにある。The gist of the flexible printed board according to the present invention is as follows. In a flexible printed board obtained by laminating at least a conductor layer and a base film, the base film has a water absorption of 1.6% or less and a moisture absorption expansion. The coefficient is 15 ppm or less, or the coefficient of thermal expansion is 1.
0 × 10 -5 ℃ -1 or more and 2.5 × 10 -5 ℃ -1 or less
It is to satisfy the above conditions.
【0022】また、前記ベースフィルムが、一般式
(1)化6The base film is represented by the general formula (1):
【0023】[0023]
【化6】 Embedded image
【0024】で表される繰り返し単位を有する芳香族ポ
リアミド酸共重合体を脱水閉環して得られる芳香族ポリ
イミド共重合体からなることにある。The aromatic polyamic acid copolymer having a repeating unit represented by the formula (1) is obtained by dehydration and ring closure of an aromatic polyimide copolymer.
【0025】さらに、前記ベースフィルムが、前記一般
式(1)化7Further, the base film has the general formula (1)
【0026】[0026]
【化7】 Embedded image
【0027】(式中、R1 は化8Wherein R 1 is
【0028】[0028]
【化8】 Embedded image
【0029】から選択される2価の有機基、R2 は化9R 2 is a divalent organic group selected from
【0030】[0030]
【化9】 Embedded image
【0031】から選択される2価の有機基、R3 は化1
0R 3 is a divalent organic group selected from
0
【0032】[0032]
【化10】 Embedded image
【0033】から選択される4価の有機基、R4 はCH
3 −、Cl−、Br−、F−、CH3O−を示す。ま
た、m、nは整数であり、1≦m、0≦nを満たす。)
で表される芳香族ポリアミド酸共重合体を脱水閉環して
得られる芳香族ポリイミド共重合体からなることにあ
る。R 4 is a tetravalent organic group selected from
3 -, Cl-, Br-, F- , showing a CH 3 O-. Further, m and n are integers and satisfy 1 ≦ m and 0 ≦ n. )
In which the aromatic polyamic acid copolymer represented by the formula (1) is obtained by dehydration and ring closure.
【0034】また、本発明に係るFCテープの要旨とす
るところは、ベースフィルムが、吸水率が1.6%以
下、吸湿膨張係数が15ppm以下、熱膨張係数が1.
0×10-5℃-1以上2.5×10-5℃-1以下のうち、1
以上の条件を満たすことにある。The gist of the FC tape according to the present invention is as follows. The base film has a water absorption of 1.6% or less, a moisture expansion coefficient of 15 ppm or less, and a thermal expansion coefficient of 1.
0 × 10 -5 ℃ -1 or more and 2.5 × 10 -5 ℃ -1 or less
It is to satisfy the above conditions.
【0035】また、本発明に係るTABテープの要旨と
するところは、請求項4に記載するFCテープの保護層
を剥離した上に銅箔を張り合わせ、回路を形成したこと
にある。The gist of the TAB tape according to the present invention resides in that the protective layer of the FC tape according to the fourth aspect of the present invention is peeled off and a copper foil is adhered to form a circuit.
【0036】[0036]
【発明の実施の形態】本発明に用いられるフレキシブル
プリント基板、FCテープ及びそれからなるTABテー
プに用いられるベースフィルムは、低熱膨張性、低吸水
率、低吸湿膨張性などの優れた特性を有するフィルムか
らなる。上記の特性を満たすフィルムとして、種々の材
料が考えられるが、上記の優れた特性を有するものとし
て、ポリイミドフィルムがある。ポリイミドフィルムの
1例として、たとえば、一般式(1)化11BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The base film used for the flexible printed circuit board, FC tape and TAB tape comprising the same used in the present invention is a film having excellent properties such as low thermal expansion, low water absorption, and low moisture expansion. Consists of Various materials can be considered as a film that satisfies the above-mentioned characteristics, and a polyimide film having the above-mentioned excellent characteristics is a polyimide film. As an example of the polyimide film, for example, the general formula (1)
【0037】[0037]
【化11】 Embedded image
【0038】(式中、R1 は、化12Wherein R 1 is
【0039】[0039]
【化12】 Embedded image
【0040】から選択される2価の有機基、R2 は、化
13R 2 is a divalent organic group selected from
【0041】[0041]
【化13】 Embedded image
【0042】で表される2価の有機基、R3 は化14R 3 is a divalent organic group represented by the following formula:
【0043】[0043]
【化14】 Embedded image
【0044】で表される4価の有機基、R4 はCH
3 −,Cl−,Br−,F−,CH3 O−を示す。m,
nは整数であり、1≦m、0≦nを満たす。)を、脱水
閉環して得られるポリイミドフィルムがあげられる。A tetravalent organic group represented by R 4 is CH
3 -, Cl-, Br-, F- , showing a CH 3 O-. m,
n is an integer and satisfies 1 ≦ m and 0 ≦ n. ), A polyimide film obtained by dehydration ring closure.
【0045】上記の特徴を有するポリイミドフィルムを
ベースフィルムとするフレキシブルプリント基板、FC
テープ及びそれからなるTABテープは、ソリやカール
がなく、加工中及び実装時の寸法変化が小さいという利
点を有している。Flexible printed circuit board based on a polyimide film having the above characteristics as a base film, FC
The tape and the TAB tape composed of the tape have the advantage that there is no warp or curl and the dimensional change during processing and mounting is small.
【0046】以下に、本発明に係るフレキシブルプリン
ト基板、FCテープ及びそれからなるTABテープの製
造方法について詳細に述べる。Hereinafter, a method of manufacturing a flexible printed circuit board, an FC tape, and a TAB tape comprising the same according to the present invention will be described in detail.
【0047】低熱膨張性、低吸水率、低吸湿膨張性など
の優れた特性を有するポリイミドフィルムは、その前駆
体であるポリアミド酸共重合体を脱水閉環して得られ
る。このポリアミド酸共重合体溶液は、酸無水物とジア
ミン成分を実質的に等モル使用し、有機極性溶媒中で重
合して得られる。このポリイミドフィルムの1例とし
て、上記特定構造のポリイミドフィルムについて、その
製造方法を述べる。まず、ポリアミド酸共重合体溶液の
製造方法について述べる。A polyimide film having excellent properties such as low thermal expansion, low water absorption and low moisture expansion can be obtained by dehydrating and ring-closing a polyamic acid copolymer as a precursor. The polyamic acid copolymer solution is obtained by using an acid anhydride and a diamine component in substantially equimolar amounts and polymerizing in an organic polar solvent. As an example of this polyimide film, a method for producing the polyimide film having the above specific structure will be described. First, a method for producing a polyamic acid copolymer solution will be described.
【0048】アルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲気中
において、一般式(2) H2 N−R2 −NH2 (2) (式中、R2 は2価の有機基を示す。)で表される1種
あるいは、2種のジアミンを有機溶媒に溶解、あるい
は、スラリー状に拡散させる。この溶液に、一般式
(3)化15In an atmosphere of an inert gas such as argon or nitrogen, a compound represented by the general formula (2) H 2 N—R 2 —NH 2 (2) (wherein R 2 represents a divalent organic group). One or two kinds of diamines are dissolved in an organic solvent or dispersed in a slurry. This solution was added to the general formula (3)
【0049】[0049]
【化15】 Embedded image
【0050】(式中、R1 は2価の有機基を示す。)で
表される少なくとも1種の芳香族ジエステル酸二無水物
と、一般式(4)化16(Wherein R 1 represents a divalent organic group) and at least one aromatic diester dianhydride represented by the general formula (4):
【0051】[0051]
【化16】 Embedded image
【0052】(式中、R3 は4価の有機基を示す。)で
表される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の
混合物を固体の状態または有機溶媒溶液の状態で添加
し、ポリアミド酸共重合体の溶液を得る。(Wherein R 3 represents a tetravalent organic group), and a mixture of at least one kind of tetracarboxylic dianhydride in the form of a solid or an organic solvent is added to the polyamide. A solution of the acid copolymer is obtained.
【0053】この時の反応温度は、−20℃から100
℃、望ましくは、60℃以下が好ましい。反応時間は、
30分から12時間程度である。The reaction temperature at this time is from -20 ° C to 100
° C, desirably 60 ° C or less. The reaction time is
It is about 30 minutes to 12 hours.
【0054】また、この反応において、上記添加手順と
は逆に、まずエステル酸二無水物とテトラカルボン酸二
無水物の混合物を有機溶媒中に溶解または拡散させ、該
溶液中に前記ジアミンの固体若しくは有機溶媒による溶
液若しくはスラリーを添加させてもよい。また、同時に
混合して反応させてもよく、酸無水物成分、ジアミン成
分の混合順序は限定されない。In this reaction, contrary to the above-mentioned addition procedure, first, a mixture of ester dianhydride and tetracarboxylic dianhydride is dissolved or diffused in an organic solvent, and the solid of the diamine is added to the solution. Alternatively, a solution or slurry using an organic solvent may be added. In addition, they may be mixed and reacted at the same time, and the mixing order of the acid anhydride component and the diamine component is not limited.
【0055】なお、ポリアミド酸共重合体の生成反応に
使用される有機溶媒としては、例えば、ジメチルスルホ
キシド、ジエチルスルホキシド等のスルホキシド系溶
媒、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムア
ミド等のホルムアミド系溶媒、N,N-ジメチルアセトアミ
ド、N,N-ジエチルアセトアミド等のアセトアミド系溶
媒、N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピ
ロリドンなどのピロリドン系溶媒、フェノール、o−、
m−、またはp−クレゾール、キシレノール、ハロゲン
化フェノール、カテコールなどのフェノール系溶媒、あ
るいはヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラクト
ン等をあげることができる。これらを1種類の溶媒のみ
で用いることも、2種以上からなる混合溶媒で用いるこ
ともできる。更には、キシレン、トルエン等の芳香族炭
化水素を混合して使用することも可能である。Examples of the organic solvent used for the reaction for producing the polyamic acid copolymer include sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide, and N, N-dimethylformamide and N, N-diethylformamide. Formamide solvents, N, N-dimethylacetamide, acetamido solvents such as N, N-diethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, pyrrolidone solvents such as N-vinyl-2-pyrrolidone, phenol, o-,
Examples thereof include phenol solvents such as m- or p-cresol, xylenol, halogenated phenol, and catechol, and hexamethylphosphoramide, γ-butyrolactone, and the like. These can be used with only one kind of solvent or a mixed solvent of two or more kinds. Further, it is also possible to use a mixture of aromatic hydrocarbons such as xylene and toluene.
【0056】また、これらの極性溶媒とポリアミド酸の
非溶媒とからなる混合溶媒の用いることもできる。ポリ
アミド酸の非溶媒としてはアセトン、メタノール、エタ
ノール、イソプロパノール、ベンゼン、メチルセロソル
ブ等を挙げることができる。更にキシレン、トルエンの
ような芳香族炭化水素の一部使用も可能である。Also, a mixed solvent comprising these polar solvents and a non-solvent of polyamic acid can be used. Examples of the non-solvent for the polyamic acid include acetone, methanol, ethanol, isopropanol, benzene, and methyl cellosolve. Further, a part of aromatic hydrocarbons such as xylene and toluene can be used.
【0057】このポリアミド酸共重合体は各々前記の有
機極性溶媒中に5〜40重量%、好ましくは10〜30
重量%溶解されているのが取扱いの面からも望ましい。Each of the polyamic acid copolymers is 5 to 40% by weight, preferably 10 to 30% by weight, in the above-mentioned organic polar solvent.
It is desirable from the viewpoint of handling that it is dissolved by weight%.
【0058】生成されるポリアミド酸共重合体の分子量
は、ポリイミドフィルムの強度を維持するためには、数
平均分子量が1万以上100万が好ましい。平均分子量
が1万未満では、できあがったフィルムが脆くなり、一
方100万を超えるとポリアミド酸ワニスの粘度が高く
なりすぎ取扱いが難しくなって、好ましくない。The polyamic acid copolymer produced preferably has a number average molecular weight of 10,000 to 1,000,000 in order to maintain the strength of the polyimide film. If the average molecular weight is less than 10,000, the resulting film becomes brittle, while if it exceeds 1,000,000, the viscosity of the polyamic acid varnish becomes too high and handling becomes unfavorable.
【0059】かかる反応において、酸無水物成分の割合
は、前記一般式(3)で表されるエステル酸二無水物と
前記一般式(4)で表されるテトラカルボン酸二無水物
のモル比が、10/90〜100/0の範囲であるよう
に用いるのが好ましい。In such a reaction, the ratio of the acid anhydride component is determined by the molar ratio of the ester dianhydride represented by the general formula (3) to the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (4). Is preferably used in the range of 10/90 to 100/0.
【0060】また、前記一般式(2)で表されるジアミ
ンは、酸無水物成分の総量と等モル量用いるのが好まし
い。The diamine represented by the general formula (2) is preferably used in an equimolar amount to the total amount of the acid anhydride component.
【0061】更に詳しくは、前記ポリアミド酸共重合体
の製造方法に用いられるジアミン成分は、一般式(2) H2 N−R2 −NH2 (2) (式中、R2 は、化17More specifically, the diamine component used in the method for producing a polyamic acid copolymer is represented by the general formula (2) H 2 N—R 2 —NH 2 (2) wherein R 2 is
【0062】[0062]
【化17】 Embedded image
【0063】で表される2価の有機基を示す。)で表さ
れるジアミン成分から選択される。And a divalent organic group represented by )).
【0064】また、前記ポリアミド酸共重合体の製造方
法に用いられる酸無水物は、本質的に種々の酸無水物が
使用可能であるが、より具体的には、諸特性のバランス
から、一般式(3)化18As the acid anhydride used in the method for producing the polyamic acid copolymer, essentially various acid anhydrides can be used. More specifically, from the balance of various properties, a general acid anhydride can be used. Formula (3) 18
【0065】[0065]
【化18】 Embedded image
【0066】(式中、R1 は化19(Wherein R 1 is
【0067】[0067]
【化19】 Embedded image
【0068】で表される2価の有機基を示す)から選択
される芳香族ジエステル酸二無水物及び、一般式(4)
化20An aromatic diester dianhydride selected from the group consisting of a divalent organic group represented by the general formula (4):
Chemical formula 20
【0069】[0069]
【化20】 Embedded image
【0070】式中、R3 は化21Wherein R 3 is
【0071】[0071]
【化21】 Embedded image
【0072】で表される4価の有機基を示す。)から選
択されるテトラカルボン酸二無水物を使用することが好
ましい。And a tetravalent organic group represented by It is preferred to use a tetracarboxylic dianhydride selected from
【0073】なお、本発明に用いられる酸成分のモノマ
ーは、ベンゼンやトルエン等の溶媒中、ピリジンの存在
下で無水トリメリット酸クロリドとフェノール類との反
応あるいは、高沸点溶媒中、無水トリメリット酸とジア
セテート類とエステル交換反応による方法等により得ら
れる。The acid component monomer used in the present invention may be obtained by reacting trimellitic anhydride chloride with phenols in the presence of pyridine in a solvent such as benzene or toluene, or by adding trimellitic anhydride in a high boiling solvent. It can be obtained by a method such as a transesterification reaction between an acid and a diacetate.
【0074】上記のようにして、得られた一般式(1)
で表されるポリアミド酸共重合体におけるブロック単位
の繰り返し数m、nは整数であり、1≦m、0≦nを満
たす。As described above, the obtained general formula (1)
The number of repetitions m and n of the block unit in the polyamic acid copolymer represented by is an integer and satisfies 1 ≦ m and 0 ≦ n.
【0075】つぎに、このポリアミド酸共重合体の溶液
からポリイミド共重合体およびポリイミドフィルムを得
るためには、熱的方法、又は脱水剤を用いる化学的方法
のいずれかの方法を用いて脱水閉環(イミド化)すれば
よい。Next, in order to obtain a polyimide copolymer and a polyimide film from the polyamic acid copolymer solution, dehydration ring closure is performed by using either a thermal method or a chemical method using a dehydrating agent. (Imidization).
【0076】例を挙げて説明すると、化学的に脱水閉環
する方法では、まず上記ポリアミド酸共重合体またはそ
の溶液に化学量論以上の脱水剤と触媒量の第3級アミン
を加え、支持板やPET等の有機フィルム、ドラム又は
エンドレスベルト等の支持体上に流延または塗布して膜
状とし、有機溶媒を蒸発させることにより自己支持性を
有するポリアミド酸の膜を得る。この有機溶媒の蒸発は
150℃以下の温度で約5分〜90分間行うのが好まし
い。For example, in the method of chemically dehydrating and ring-closing, first, a dehydrating agent having a stoichiometric amount or more and a catalytic amount of a tertiary amine are added to the above-mentioned polyamic acid copolymer or a solution thereof, and a support plate is added. An organic film such as PET or PET, or a support such as a drum or an endless belt is cast or coated to form a film, and the organic solvent is evaporated to obtain a self-supporting polyamic acid film. The evaporation of the organic solvent is preferably performed at a temperature of 150 ° C. or less for about 5 to 90 minutes.
【0077】次いで、これを支持体より引き剥がし端部
を固定する。その後、約100℃〜500℃まで徐々に
加熱することによりイミド化し、冷却後これより取り外
しポリイミドフィルムを得る。Next, this is peeled off from the support and the end is fixed. Then, it is imidized by gradually heating to about 100 ° C. to 500 ° C., and after cooling, it is removed to obtain a polyimide film.
【0078】また、熱的に脱水閉環する方法では、ポリ
アミド酸共重合体溶液を支持板やPET等の有機フィル
ム、ドラムまたエンドレスベルト等の支持体上に流延ま
たは塗布して膜状とし、化学的に脱水する場合と同様の
方法で処理する。In the method of thermally dehydrating and cyclizing, a polyamic acid copolymer solution is cast or coated on a support plate, an organic film such as PET, a support such as a drum or an endless belt to form a film, Treat in the same manner as in the case of chemical dehydration.
【0079】熱的にイミド化する方法と化学的にイミド
化する方法とを比較すると、化学的方法によるほうが得
られたポリイミド共重合体の伸びが優れたものとなり、
また、ポリイミドの機械的強度が大きく、かつ線膨張係
数が小さくなる等の機械的特性が良好となること、また
化学的方法によるほうが、短時間でイミド化することが
できる等の利点がある。なお、熱的にイミド化する方法
と化学的にイミド化する方法とを併用することも可能で
ある。When the method of thermally imidizing and the method of chemically imidizing are compared, the elongation of the polyimide copolymer obtained by the chemical method is excellent,
In addition, there are advantages in that the mechanical properties of polyimide such as a large mechanical strength and a small coefficient of linear expansion are improved, and that the chemical method enables imidization in a short time. In addition, it is also possible to use both the method of thermally imidizing and the method of chemically imidizing together.
【0080】更に加熱して乾燥させつつイミド化させ、
ポリイミド共重合体からなるポリイミドフィルムを得
る。加熱の際の温度は、110℃から550℃の範囲の
温度が好ましい。加熱の際の昇温速度には特に制限はな
いが、徐々に加熱して最高温度が上記の温度になるよう
にするのが好ましい。加熱時間はフィルム厚みや最高温
度によって異なるが一般的には最高温度に達してから1
0秒から10分の範囲が好ましい。自己支持性を有する
膜を加熱して乾燥・イミド化する際は、自己支持性を有
する膜を支持体から引き剥がし、その状態で端部を固定
して加熱することにより線熱膨張係数が小さいポリイミ
ドフィルムが得られる。Further, imidization is performed while heating and drying,
A polyimide film made of a polyimide copolymer is obtained. The heating temperature is preferably in the range of 110 ° C to 550 ° C. There is no particular limitation on the rate of temperature rise during heating, but it is preferable that the temperature is gradually increased so that the maximum temperature becomes the above-mentioned temperature. The heating time varies depending on the film thickness and the maximum temperature.
A range from 0 seconds to 10 minutes is preferred. When heating and drying / imidizing a film having self-supporting properties, the film having self-supporting properties is peeled off from the support, and the end portion is fixed and heated in that state to reduce the linear thermal expansion coefficient. A polyimide film is obtained.
【0081】ここでいう脱水剤としては、例えば無水酢
酸等の脂肪族酸二無水物、芳香族酸二無水物などが挙げ
られる。また、触媒としては、例えばトリエチルアミン
などの脂肪族アミン類、ジメチルアニリン等の芳香族ア
ミン類、ピリジン、ピコリン、イソキノリン等の複素環
式第3級アミン類などが挙げられる。Examples of the dehydrating agent include aliphatic dianhydrides such as acetic anhydride and aromatic dianhydrides. Examples of the catalyst include aliphatic amines such as triethylamine, aromatic amines such as dimethylaniline, and heterocyclic tertiary amines such as pyridine, picoline and isoquinoline.
【0082】また、ポリイミドはポリイソイミドと等価
体であることは周知のことであるが、イソイミド構造を
選択すれば溶媒溶解性を向上させることも可能である。
ポリイソイミド共重合体を得るためには上述した化学的
閉環剤をジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)等
のジイミド及び/またはトリフルオロ酢酸等のカルボン
酸に置きかえた上で、該ポリイミド共重合体生成と同様
の反応を行えばよい。It is well known that polyimide is equivalent to polyisoimide, but it is also possible to improve the solvent solubility by selecting an isoimide structure.
In order to obtain a polyisoimide copolymer, the above chemical ring-closing agent is replaced with a diimide such as dicyclohexylcarbodiimide (DCC) and / or a carboxylic acid such as trifluoroacetic acid, and a reaction similar to the formation of the polyimide copolymer is performed. Should be performed.
【0083】また、このポリイミドフィルムの製造にお
いて、ポリイミド共重合体の前駆体であるポリアミド酸
共重合体の溶液中に、ナイロン、ポリ酢酸ビニル、ポリ
テトラフルオロエチレン、ポリメタクリル酸メチル等の
熱可塑性樹脂等の有機添加剤、あるいはガラス繊維等無
機のフィラー類、あるいは各種の強化剤を配合してフィ
ルムを得てもよく、これらを配合することにより、機械
的強度、接着性などの諸特性をさらに向上させることが
可能である。In the production of this polyimide film, a thermoplastic resin such as nylon, polyvinyl acetate, polytetrafluoroethylene, or polymethyl methacrylate is added to a solution of a polyamic acid copolymer which is a precursor of the polyimide copolymer. Films may be obtained by blending organic additives such as resins, or inorganic fillers such as glass fibers, or various reinforcing agents. By blending these, various properties such as mechanical strength and adhesiveness can be obtained. It is possible to further improve.
【0084】上記の方法により得られる特定構造のポリ
イミドフィルムは、吸湿膨張係数が15ppm以下であ
り、熱膨張係数が、1.0×10-5℃-1以上2.5×1
0-5℃-1以下であり、また、吸水率が1.6%以下とい
う特徴を有しており、フレキシブルプリント基板、FC
テープ及びそれからなるTABテープのベースフィルム
として好適であり、ソリやカールがなく、加工中及び実
装時の寸法変化が小さいという利点を有している。The polyimide film having a specific structure obtained by the above method has a coefficient of hygroscopic expansion of not more than 15 ppm and a coefficient of thermal expansion of not less than 1.0 × 10 -5 ° C. -1 and not more than 2.5 × 1.
0 -5 ° C -1 or less, and the water absorption is 1.6% or less.
It is suitable as a base film for a tape and a TAB tape made of the tape, and has the advantage that there is no warping or curling, and the dimensional change during processing and mounting is small.
【0085】なお、本発明に係るフレキシブルプリント
基板、FCテープ及びそれからなるTABテープのベー
スフィルムとしては、吸湿膨張係数が15ppm以下、
熱膨張係数が、1.0×10-5℃-1以上2.5×10-5
℃-1以下、また、吸水率が1.6%以下という特徴を1
以上有しているフィルムであれば、いかなる構成であっ
ても好ましく用いることができ、本発明のベースフィル
ムとして使用されるフィルムは、上述した特定構造のも
のに限定されない。The base film of the flexible printed circuit board, FC tape and TAB tape comprising the same according to the present invention has a coefficient of hygroscopic expansion of 15 ppm or less.
Thermal expansion coefficient, 1.0 × 10 -5 ℃ -1 or 2.5 × 10 -5
C- 1 or less, and the water absorption is 1.6% or less.
Any structure can be preferably used as long as the film has the above, and the film used as the base film of the present invention is not limited to the specific structure described above.
【0086】上記の方法により得られるフィルムは、本
発明に係るフレキシブルプリント基板、FCテープ及び
それからなるTABテープのベースフィルムとして使用
される。この場合、厚みが25μm〜180μm程度で
用いられるが、取扱い上の利便性、フィルム強度、小型
化対応のための薄層化要求等のバランスから50μm〜
125μmがより好適である。The film obtained by the above method is used as a base film for the flexible printed circuit board, FC tape and TAB tape comprising the same according to the present invention. In this case, the thickness is about 25 μm to 180 μm. However, the thickness is about 50 μm to 180 μm in consideration of the convenience of handling, the film strength, and the demand for thinner layers for miniaturization.
125 μm is more preferred.
【0087】次に、本発明に係るフレキシブルプリント
基板の製造方法について説明する。本発明に係るフレキ
シブルプリント基板は、所定の配合の接着剤を、最終
膜厚として10〜100μm、好ましくは15〜30μ
mになるように均一に絶縁材としてのベースフィルムに
塗布する。接着剤溶液を乾燥させ、接着剤層を半硬化
状態(B−ステージ化状態)にする。接着剤層に銅箔
を重ね合わせ、20℃〜180℃で0.1kg/cm2
以上の条件で圧着し、接着剤が硬化する温度で硬化させ
る。レジストを塗布し、露光などでレジスト上に回路
を描き、現像し、銅のエッチングを行い、レジスト剥離
する。上記の製造過程を経て、FPCが作成されるので
ある。Next, a method of manufacturing a flexible printed circuit board according to the present invention will be described. The flexible printed board according to the present invention is prepared by applying an adhesive having a predetermined composition to a final film thickness of 10 to 100 μm, preferably 15 to 30 μm.
m is uniformly applied to a base film as an insulating material. The adhesive solution is dried to bring the adhesive layer into a semi-cured state (B-staged state). A copper foil is overlaid on the adhesive layer, and 0.1 kg / cm 2 at 20 ° C. to 180 ° C.
Pressure bonding is performed under the above conditions, and the adhesive is cured at a temperature at which the adhesive is cured. A resist is applied, a circuit is drawn on the resist by exposure or the like, development is performed, copper is etched, and the resist is peeled off. Through the above manufacturing process, an FPC is created.
【0088】本発明に係るフレキシブルプリント基板
は、ベースフィルムの性質として、低吸湿膨張、低熱膨
張であることより、各加工工程での吸湿・脱湿による寸
法変化が小さいため、回路形成及びIC実装後、電気・
電子部品に実装する際の位置ずれが生じることがなく、
優れた寸法安定性を有する。The flexible printed circuit board according to the present invention is characterized in that the base film has low moisture expansion and low thermal expansion as its properties. Therefore, since the dimensional change due to moisture absorption and dehumidification in each processing step is small, circuit formation and IC mounting are performed. Later, electricity
There is no displacement when mounting on electronic components,
Has excellent dimensional stability.
【0089】次に、本発明に係るFCテープの製造方法
について述べる。PET等の保護層の上に接着剤を約1
0〜30μm厚みに塗布、80℃〜150℃程度の温度
で、約0.5分〜20分乾燥し、カバーフィルムをラミ
ネートし、PET/接着剤/カバーフィルムの3層構造
とする。その3層構造のフィルムを所定の幅にスリット
する。Next, a method for producing an FC tape according to the present invention will be described. About 1 adhesive on a protective layer such as PET
It is applied to a thickness of 0 to 30 μm, dried at a temperature of about 80 ° C. to 150 ° C. for about 0.5 to 20 minutes, and a cover film is laminated to form a three-layer structure of PET / adhesive / cover film. The three-layer film is slit into a predetermined width.
【0090】別に上記方法により製造したベースフィル
ムを所定の幅にスリットする。3層構造のフィルムのカ
バーフィルムを剥離し、別に上記方法により製造したフ
ィルム(有機絶縁フィルム)に、接着剤が融着するよう
に50℃〜150℃程度の温度条件において、スリット
した有機絶縁フィルムをラミネートし、保護層/接着剤
/有機絶縁フィルムの3層構造からなる本発明に係るF
Cテープが得られる。Separately, the base film produced by the above method is slit into a predetermined width. The cover film of the three-layer film is peeled off, and the organic insulating film is slit at a temperature of about 50 ° C. to 150 ° C. so that the adhesive is fused to the film (organic insulating film) separately manufactured by the above method. Are laminated, and the F according to the present invention, which has a three-layer structure of a protective layer / adhesive / organic insulating film, is used.
C tape is obtained.
【0091】次に、本発明に係るTABテープの製造方
法について説明する。すなわち、TABテープは、上記
製法により製造されたFCテープをパンチングによりス
プロケットホール、デバイズホールを形成し、保護層を
剥離除去したあと、銅箔ラミネート、接着剤を硬化さ
せ、配置パターン形成し(レジスト塗布、銅のエッチン
グ、レジスト剥離)、メッキ処理を行い、本発明に係る
TAB用テープが得られる。Next, a method for manufacturing a TAB tape according to the present invention will be described. That is, the TAB tape is formed by forming a sprocket hole and a device hole by punching the FC tape manufactured by the above manufacturing method, peeling and removing the protective layer, then curing the copper foil laminate, the adhesive, and forming an arrangement pattern (resist). The TAB tape according to the present invention is obtained by performing coating, etching of copper, and resist stripping) and plating.
【0092】接着の方法は、詳しくは、保護フィルム
上に所定の配合の接着剤を、最終膜厚として10〜40
μm、好ましくは、15〜30μmになるように均一に
塗布する。接着剤溶液を乾燥させ、接着剤層を半硬化
状態(B−ステージ化状態)にする。接着剤層に、上
記製造方法により得られたFCテープを重ね合わせ、2
0℃〜180℃で0.1kg/cm2 以上の条件で圧着
する。以上のような製造方法により、本発明に係るTA
Bテープが得られるのである。More specifically, the bonding method is as follows. An adhesive having a predetermined composition is coated on a protective film in a final film thickness of 10 to 40.
μm, preferably 15 to 30 μm. The adhesive solution is dried to bring the adhesive layer into a semi-cured state (B-staged state). The FC tape obtained by the above manufacturing method is superimposed on the adhesive layer, and 2
Crimping is performed at 0 ° C. to 180 ° C. under a condition of 0.1 kg / cm 2 or more. According to the manufacturing method as described above, the TA according to the present invention
B tape is obtained.
【0093】なお、接着剤層の保護層となる保護フィル
ムとしては、接着剤の乾燥時に軟化・変質を起こさない
程度の耐熱性を有していれば基本的にどのようなもので
もよいが、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステ
ルフィルムあるいは、ポリプロピレン等のポリオレフィ
ンフィルムが好適である。The protective film serving as the protective layer of the adhesive layer may be basically any material as long as it has a heat resistance that does not cause softening or deterioration when the adhesive is dried. A polyester film such as polyethylene terephthalate or a polyolefin film such as polypropylene is suitable.
【0094】上記のようにして得られたTABテープ
は、吸湿膨張係数が、15ppm以下であり、熱膨張係
数が1.0×10-5℃-1以上2.5×10-5℃-1以下で
あり、さらに、吸水率が1.6%以下であるという優れ
た性質を有しているポリイミドフィルムを使用すること
により、インナーリードボンディングの加工工程におけ
るベースフィルムとLSIの接合位置のずれや、アウタ
ーリードボンディングの加工工程におけるアウターリー
ドと基板の接合位置のずれが生じることがなく、銅箔ラ
ミネーティングの加工工程において、カールを生じるこ
とがない等の優れた利点を有する。The TAB tape obtained as described above has a coefficient of hygroscopic expansion of not more than 15 ppm and a coefficient of thermal expansion of not less than 1.0 × 10 -5 ° C -1 and not more than 2.5 × 10 -5 ° C -1. In addition, by using a polyimide film having an excellent property that the water absorption is 1.6% or less, the displacement of the joining position between the base film and the LSI in the inner lead bonding process can be reduced. In addition, there is an advantage that there is no displacement of the joining position between the outer lead and the substrate in the outer lead bonding processing step, and no curling occurs in the copper foil laminating processing step.
【0095】また、本発明にかかるTABテープは、低
吸湿膨張、低熱膨張であることより、各加工工程での寸
法変化が小さいため、更に高細線パターンのTABテー
プを供することができる。また、有機絶縁フィルムの弾
性率が高いため、有機絶縁フィルムの厚みを薄くするこ
とができ、薄いICパッケージをつくることができる。
さらに、各加工工程での寸法変化が小さいため、各接合
面での電気信頼性が高いことより、コンピューターIC
の実装などにも用いることができる。Further, since the TAB tape according to the present invention has a low hygroscopic expansion and a low thermal expansion, the dimensional change in each processing step is small, so that a TAB tape having a finer line pattern can be provided. In addition, since the organic insulating film has a high elastic modulus, the thickness of the organic insulating film can be reduced, and a thin IC package can be manufactured.
Furthermore, since the dimensional change in each processing step is small, the electrical reliability at each joint surface is high, and the computer IC
It can also be used for mounting.
【0096】なお、本発明に係るフレキシブルプリント
基板、FCテープ及びそれからなるTABテープに用い
られる接着剤の材料は、従来公知の材料を用いればよ
く、具体的には、例えば、エポキシ樹脂、ポリアミド樹
脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、
ゴム系樹脂等を単独または種々の割合で溶剤とともに混
合し、必要に応じて硬化剤や硬化促進剤などの添加剤を
添加したものを用いることができる。The adhesive used for the flexible printed circuit board, the FC tape and the TAB tape made of the same according to the present invention may be a conventionally known material. Specifically, for example, epoxy resin, polyamide resin , Phenolic resin, acrylic resin, polyimide resin,
A rubber-based resin or the like may be used alone or mixed with a solvent at various ratios, and if necessary, an additive such as a curing agent or a curing accelerator may be used.
【0097】以上、本発明に係るフレキシブルプリント
基板、FCテープ及びそれからなるTABテープについ
て、有用性を明らかにすべく、実施の形態の1例を説明
したが、本発明はこれらのみに限定されるものではな
く、本発明はその趣旨を逸脱しない範囲内で当業者の知
識に基づき、種々なる改良、変更、修正を加えた態様で
実施しうるものである。As described above, the flexible printed circuit board, the FC tape, and the TAB tape made of the same have been described as examples of the embodiments in order to clarify their usefulness, but the present invention is not limited thereto. Instead, the present invention can be implemented in various modified, changed, and modified aspects based on the knowledge of those skilled in the art without departing from the spirit thereof.
【0098】[0098]
【実施例】以下、実施例により、本発明に係るフレキシ
ブルプリント基板、FCテープ及びそれからなるTAB
テープについて説明する。まず、本発明に係るフレキシ
ブルプリント基板、FCテープ及びそれからなるTAB
テープのベースフィルムに使用するポリイミドフィルム
を構成するポリイミド共重合体の製造に供する酸成分の
製造例を説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a flexible printed board, an FC tape and a TAB comprising the same according to the present invention will be described by way of examples.
The tape will be described. First, the flexible printed circuit board, FC tape and TAB comprising the same according to the present invention
A production example of an acid component used for producing a polyimide copolymer constituting a polyimide film used as a base film of a tape will be described.
【0099】(製造例1) 酸成分:P−フェニレンビス(トリメリット酸モノエス
テル酸無水物)の合成 滴下ロート、還流冷却管のついた3000mlの3口フ
ラスコの無水トリメリット酸クロリド510g(2.4
モル)、トルエン1000mlを入れ、約80℃で攪拌
する。ヒドロキノン132g(1.2モル)をトルエン
1200ml、ピリジン240mlに溶かし、上記の3
口フラスコに滴下ロートより滴下する。滴下後、約2時
間還流攪拌を行い、冷却後、沈殿を濾別し、白色固体を
得た。この白色固体を3リットルの水で洗浄後、乾燥
し、無水酢酸で還流攪拌を約2時間行い、濾別する。濾
別により得た白色固体をDMFにより再結晶し、380
gの白色固体を得た。(Production Example 1) Synthesis of acid component: P-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride) 510 g of trimellitic anhydride chloride (2 g) in a 3000 ml three-necked flask equipped with a dropping funnel and a reflux condenser. .4
Mol) and 1000 ml of toluene and stirred at about 80 ° C. 132 g (1.2 mol) of hydroquinone was dissolved in 1200 ml of toluene and 240 ml of pyridine,
It is dripped from the dropping funnel into the neck flask. After the dropwise addition, the mixture was stirred under reflux for about 2 hours. After cooling, the precipitate was separated by filtration to obtain a white solid. The white solid is washed with 3 liters of water, dried, stirred under reflux with acetic anhydride for about 2 hours, and filtered. The white solid obtained by filtration was recrystallized from DMF,
g of a white solid were obtained.
【0100】(製造例2) 酸成分:p−メチルフェニレンビス(トリメリット酸モ
ノエステル酸無水物)の合成 ヒドロキノンの代わりに、メチルハイドロキノン14
7.6g(1.2モル)を用いる以外は、製造例1と同
様にして白色の固体350gを得た。(Production Example 2) Acid component: Synthesis of p-methylphenylenebis (trimellitic acid monoester acid anhydride) Instead of hydroquinone, methylhydroquinone 14
Except that 7.6 g (1.2 mol) was used, 350 g of a white solid was obtained in the same manner as in Production Example 1.
【0101】(製造例3) 酸成分:p−(2,3ジメチルフェニレン)ビス(トリ
メリット酸モノエステル酸無水物)の合成 ヒドロキノンの代わりに、2,3−ジメチルハイドロキ
ノン165.6g(1.2モル)を用いる以外は製造例
1と同様にして白色の固体400gを得た。(Production Example 3) Synthesis of acid component: p- (2,3 dimethylphenylene) bis (trimellitic acid monoester anhydride) Instead of hydroquinone, 165.6 g of 2,3-dimethylhydroquinone (1. Except for using 2 mol), 400 g of a white solid was obtained in the same manner as in Production Example 1.
【0102】(製造例4) 酸成分:4,4' −ビフェニレンビス(トリメリット酸
モノエステル酸無水物)の合成 ヒドロキノンの代わりに、4,4' −ジヒドロキシビフ
ェニル223.2g(1.2モル)を用いた以外は、製
造例1と同様にして白色の固体400gを得た。[0102] (Production Example 4) acid component: 4,4 '- instead of synthetic hydroquinone biphenylene bis (trimellitic acid monoester acid anhydride), 4,4' - dihydroxybiphenyl 223.2 g (1.2 mol ) Was obtained in the same manner as in Production Example 1 except that) was used to obtain 400 g of a white solid.
【0103】(製造例5) 酸成分:1,4−ナフタレンビス(トリメリット酸モノ
エステル酸無水物)の合成 ヒドロキノンの代わりに、1,4−ジヒドロキシナフタ
レン192.0g(1.2モル)を用いる以外は、製造
例1と同様にして白色の固体380gを得た。(Production Example 5) Synthesis of acid component: 1,4-naphthalenebis (trimellitic acid monoester anhydride) In place of hydroquinone, 192.0 g (1.2 mol) of 1,4-dihydroxynaphthalene was used. Except for using it, 380 g of a white solid was obtained in the same manner as in Production Example 1.
【0104】(製造例6) 酸成分:2,6−ナフタレンビス(トリメリット酸モノ
エステル酸無水物)の合成 ヒドロキノンの代わりに、2,6−ジヒドロキシナフタ
レン192.0g(1.2モル)を用いる以外は製造例
1と同様にして白色の固体385gを得た。(Production Example 6) Acid component: Synthesis of 2,6-naphthalenebis (trimellitic acid monoester anhydride) In place of hydroquinone, 192.0 g (1.2 mol) of 2,6-dihydroxynaphthalene was used. Except for using it, 385 g of a white solid was obtained in the same manner as in Production Example 1.
【0105】次に、実施例により本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例の範囲に限定されるも
のではない。なお、実施例中、ODAは 4,4'-ジアミノ
ジフェニルエーテル、BAPPは、2,2 ’- ビス〔4-
(4-アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、BAPB
は、4,4 ' - ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、
TPE−Qは、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)
ベンゼン、p−PDAは、パラフェニレンジアミン、N
MPは、N−メチルピロリドン、PMDAは無水ピロメ
リット酸、DMFはジメチルホルムアミドを表す。Next, the present invention will be described specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to the scope of these examples. In the examples, ODA is 4,4'-diaminodiphenyl ether, and BAPP is 2,2'-bis [4-
(4-aminophenoxy) phenyl] propane, BAPB
4,4 '- bis (4-aminophenoxy) biphenyl,
TPE-Q is 1,4-bis (4-aminophenoxy)
Benzene and p-PDA are paraphenylenediamine, N
MP represents N-methylpyrrolidone, PMDA represents pyromellitic anhydride, and DMF represents dimethylformamide.
【0106】(実施例1)セパラブルフラスコに、NM
Pとp−PDAを2当量、ODAを1当量とり、ジアミ
ン化合物が完全に溶解するまで室温でよく攪拌した。つ
ぎに、製造例1で示したp−フェニレンビス(トリメリ
ット酸モノエステル酸無水物)2.85当量を粉体で徐
々に加え、その後40分攪拌した。そして、p−フェニ
レンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)0.
15当量をNMPに溶かし、徐々に加え、このあと1時
間冷却攪拌し、ポリアミド酸共重合体のNMP溶液を得
た。なお、NMPの使用量はジアミン類及び芳香族テト
ラカルボン酸二無水物類のモノマー仕込み濃度が、18
重量%となるようにした。(Example 1) NM was placed in a separable flask.
Two equivalents of P and p-PDA and one equivalent of ODA were taken and stirred well at room temperature until the diamine compound was completely dissolved. Next, 2.85 equivalents of p-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride) shown in Production Example 1 was gradually added as a powder, and then stirred for 40 minutes. Then, p-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride) is added.
15 equivalents were dissolved in NMP, gradually added, and then cooled and stirred for 1 hour to obtain an NMP solution of a polyamic acid copolymer. The amount of NMP used is such that the concentration of charged monomers of diamines and aromatic tetracarboxylic dianhydrides is 18%.
% By weight.
【0107】つぎに、ポリアミド酸共重合体溶液を無水
酢酸、βピコリンと混合し、ガラス板上に流延塗布し、
約100℃に約5分間乾燥後、ポリアミド酸塗膜をガラ
ス板より剥がし、その塗膜を支持枠に固定し、その後約
100℃で約5分間、約200℃で約5分間、約300
℃で約5分間加熱し、約400℃で約5分間加熱し、脱
水閉環乾燥し、約50μmのポリイミドフィルムを得
た。得られたポリイミドフィルムの物性を表1に示し
た。Next, the polyamic acid copolymer solution was mixed with acetic anhydride and β-picoline, and cast and coated on a glass plate.
After drying at about 100 ° C. for about 5 minutes, the polyamic acid coating film is peeled off from the glass plate, and the coating film is fixed to a support frame. Thereafter, the coating film is applied at about 100 ° C. for about 5 minutes, at about 200 ° C. for about 5 minutes, about 300 minutes.
C. for about 5 minutes, heated at about 400.degree. C. for about 5 minutes, dehydrated and ring-closed to obtain a polyimide film of about 50 .mu.m. Table 1 shows the physical properties of the obtained polyimide film.
【0108】なお、熱膨張係数は、窒素気流下で理学電
気製TMA 8140により測定した100℃〜200
℃での熱膨張係数をいう。吸水率は、フィルムを150
℃で30分間乾燥させたものの重量をW1 をとし、24
時間蒸留水に浸したあと表面の水滴を拭き取ったものの
重量をW2 とし、下記式より算出する。 吸水率(%)=(W2 −W1 )÷W1 ×100The coefficient of thermal expansion was measured at 100 ° C. to 200 ° C. by a TMA 8140 manufactured by Rigaku Corporation under a nitrogen stream.
Refers to the coefficient of thermal expansion in ° C. The water absorption is 150
The weight but was dried for 30 minutes at ℃ City W 1, 24
After immersion in distilled water for a long time and wiping off water droplets on the surface, the weight is defined as W 2 and calculated by the following equation. Water absorption (%) = (W 2 −W 1 ) ÷ W 1 × 100
【0109】弾性率は、ASTM D882による。The modulus of elasticity is according to ASTM D882.
【0110】[0110]
【表1】 [Table 1]
【0111】表面に剥離剤処理を施した、保護用ポリエ
チレンテレフタレート(以下PETという。)フィルム
にビスフェノールA型エポキシ樹脂(E1001/油化
シェルエポキシ社製)50部、クレゾールノボラック型
エポキシ樹脂(180H65/油化シェルエポキシ社
製)10部、ポリアミド樹脂(M1276/日本リルサ
ン社製)40部、ジアミノジフェニルスルフォン7部、
ジシアンジアミド2部、トルエン35部、イソプロピル
アルコール15部、からなる接着剤を乾燥後約20μm
になるように塗布し、150℃で10分乾燥した。この
接着剤付きPETフィルムを26mm巾にスリットし、
35mm巾にスリットした上記ポリイミドフィルムと約
100℃で圧着し、FCテープを得た。A protective polyethylene terephthalate (hereinafter, referred to as PET) film having a surface treated with a release agent was coated with 50 parts of a bisphenol A type epoxy resin (E1001 / Yukahka Shell Epoxy) and a cresol novolak type epoxy resin (180H65 / Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) 10 parts, polyamide resin (M1276 / Nihon Rilsan Co., Ltd.) 40 parts, diaminodiphenyl sulfone 7 parts,
After drying an adhesive consisting of 2 parts of dicyandiamide, 35 parts of toluene and 15 parts of isopropyl alcohol, about 20 μm after drying
And dried at 150 ° C. for 10 minutes. This PET film with adhesive is slit to a width of 26 mm,
The polyimide film slit to a width of 35 mm was pressure-bonded at about 100 ° C. to obtain an FC tape.
【0112】このFCテープのPETフィルムを取り除
いた後、接着剤面と銅箔(三井金属製Low−prof
ile電解銅箔VLP−3EC)を120℃にてラミネ
ートし、この状態で外観を観察した後、上記方法に従っ
てエッチング後の寸法変化率を測定した。結果を表1に
示す。After the PET film of the FC tape was removed, the adhesive surface and the copper foil (Low-prof, manufactured by Mitsui Kinzoku) were used.
ile electrolytic copper foil VLP-3EC) was laminated at 120 ° C., and after observing the appearance in this state, the dimensional change after etching was measured in accordance with the above method. Table 1 shows the results.
【0113】なお、寸法安定性は、次の方法により、寸
法変化率を求めることによって、評価した。すなわち、
ベースポリイミドフィルム、接着剤、保護用PETフィ
ルムからなるFCテープを、PETフィルムを除いて銅
箔(三井金属製Low−profile電解銅箔VLP
−3EC)とラミネートし、加熱・キュアを行った後、
寸法変化率測定用の2個のマーキング孔a,bをMD
(機械製造方向)方向にパンチングによって開け、この
ときのa−b間の初期値l1 を測定した。次に銅箔を全
面エッチングし、a−b間l2 を測定した。次の計算
式、数1The dimensional stability was evaluated by obtaining the dimensional change rate by the following method. That is,
Except for the PET film, the FC tape composed of the base polyimide film, the adhesive, and the protective PET film is replaced with a copper foil (Low-profile electrolytic copper foil VLP made by Mitsui Kinzoku).
-3EC), and after heating and curing,
Insert two marking holes a and b for dimensional change rate measurement into MD
(Machine direction of production) opened by punching in a direction to measure the initial value l 1 between a-b in this case. Next, the entire surface of the copper foil was etched to measure l 2 between a and b. The following formula, Equation 1
【数1】 に基づいて、エッチング前後の寸法変化率を算出した。 (実施例2)ODAの代わりに、BAPP1当量を用い
た他は、実施例1と同様にして、ポリアミド酸共重合体
を得、実施例1と同様の方法で約50μmのポリイミド
フィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの物性を
表1に示した。(Equation 1) , The dimensional change before and after the etching was calculated. Example 2 A polyamic acid copolymer was obtained in the same manner as in Example 1 except that 1 equivalent of BAPP was used instead of ODA, and a polyimide film of about 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1. . Table 1 shows the physical properties of the obtained polyimide film.
【0114】(実施例3)ODAの代わりに、BAPB
1当量を用いた他は、実施例1と同様にして、ポリアミ
ド酸共重合体を得、実施例1と同様の方法で約50μm
のポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィ
ルムの物性を表1に示した。(Example 3) Instead of ODA, BAPB
A polyamic acid copolymer was obtained in the same manner as in Example 1 except that 1 equivalent was used.
Was obtained. Table 1 shows the physical properties of the obtained polyimide film.
【0115】(実施例4)ODAの代わりに、TPE−
Q1当量を用いた他は、実施例1と同様にして、ポリア
ミド酸共重合体を得、実施例1と同様の方法で約50μ
mのポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフ
ィルムの物性を表1に示した。Example 4 Instead of ODA, TPE-
A polyamic acid copolymer was obtained in the same manner as in Example 1 except that Q1 equivalent was used.
m was obtained. Table 1 shows the physical properties of the obtained polyimide film.
【0116】(実施例5)p−フェニレンビス(トリメ
リット酸モノエステル酸無水物)の代わりに、製造例2
で示したp−メチルフェニレンビス(トリメリット酸モ
ノエステル酸二無水物)3当量を用いた他は実施例1と
同様にしてポリアミド酸共重合体を得て、実施例1と同
様の方法で約50μmのポリイミドフィルムを得た。得
られたポリイミドフィルムの物性を表1に示した。Example 5 Production Example 2 was repeated in place of p-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride).
A polyamic acid copolymer was obtained in the same manner as in Example 1 except that 3 equivalents of p-methylphenylenebis (trimellitic acid monoester dianhydride) shown in A polyimide film of about 50 μm was obtained. Table 1 shows the physical properties of the obtained polyimide film.
【0117】(実施例6)p−フェニレンビス(トリメ
リット酸モノエステル酸無水物)の代わりに、製造例3
で示したp−(2,3ジメチルフェニレン)ビス(トリ
メリット酸モノエステル酸無水物)3当量を用いた他は
実施例1と同様にしてポリアミド酸共重合体を得て、実
施例1と同様の方法で約50μmのポリイミドフィルム
を得た。得られたポリイミドフィルムの物性を表1に示
した。Example 6 Production Example 3 was repeated in place of p-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride).
A polyamic acid copolymer was obtained in the same manner as in Example 1 except that 3 equivalents of p- (2,3 dimethylphenylene) bis (trimellitic acid monoester anhydride) were used. A polyimide film of about 50 μm was obtained in the same manner. Table 1 shows the physical properties of the obtained polyimide film.
【0118】(実施例7)P−フェニレンビス(トリメ
リット酸モノエステル酸無水物)の代わりに、製造例4
で示した4,4' −ビフェニレンビス(トリメリット酸
モノエステル酸無水物)を1当量を用いた他は、実施例
1と同様にしてポリアミド酸共重合体を得、実施例1と
同様の方法で約50μmのポリイミドフィルムを得た。
得られたポリイミドフィルムの物性を表1に示した。Example 7 Production Example 4 was used instead of P-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride).
Indicated by 4,4 '- biphenylene bis (trimellitic acid monoester acid anhydride) was used 1 equivalent of the obtained polyamic acid copolymer in the same manner as in Example 1, as in Example 1 By the method, a polyimide film of about 50 μm was obtained.
Table 1 shows the physical properties of the obtained polyimide film.
【0119】(実施例8)ODAの代わりに、BAPP
1当量を用いた他は、実施例7と同様にして、ポリアミ
ド酸共重合体を得、実施例1と同様の方法で約50μm
のポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィ
ルムの物性を表1に示した。(Example 8) Instead of ODA, BAPP
A polyamic acid copolymer was obtained in the same manner as in Example 7, except that 1 equivalent was used.
Was obtained. Table 1 shows the physical properties of the obtained polyimide film.
【0120】(実施例9)ODAの代わりに、BAPB
1当量を用いた他は、実施例7と同様にして、ポリアミ
ド酸共重合体を得、実施例1と同様の方法で約50μm
のポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィ
ルムの物性を表1に示した。(Embodiment 9) Instead of ODA, BAPB
A polyamic acid copolymer was obtained in the same manner as in Example 7, except that 1 equivalent was used.
Was obtained. Table 1 shows the physical properties of the obtained polyimide film.
【0121】(実施例10)ODAの代わりに、TPE
−Q1当量を用いた他は、実施例7と同様にして、ポリ
アミド酸共重合体を得、実施例1と同様の方法で約50
μmのポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミド
フィルムの物性を表1に示した。Example 10 Instead of ODA, TPE
A polyamic acid copolymer was obtained in the same manner as in Example 7 except that -Q1 equivalent was used.
A μm polyimide film was obtained. Table 1 shows the physical properties of the obtained polyimide film.
【0122】(実施例11)p−フェニレンビス(トリ
メリット酸モノエステル酸無水物)の代わりに、製造例
5で示した1,4−ナフタレンビス(トリメリット酸モ
ノエステル酸二無水物)3当量を用いた他は実施例1と
同様にしてポリアミド酸共重合体を得て、実施例1と同
様の方法で約50μmのポリイミドフィルムを得た。得
られたポリイミドフィルムの物性を表1に示した。(Example 11) Instead of p-phenylenebis (trimellitic acid monoester acid anhydride), 1,4-naphthalenebis (trimellitic acid monoester acid dianhydride) 3 shown in Production Example 5 was used. A polyamic acid copolymer was obtained in the same manner as in Example 1 except that an equivalent amount was used, and a polyimide film of about 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the physical properties of the obtained polyimide film.
【0123】(実施例12)p−フェニレンビス(トリ
メリット酸モノエステル酸無水物)の代わりに、製造例
6で示した2,6−ナフタレンビス(トリメリット酸モ
ノエステル酸無水物)を用いた他は実施例1と同様にし
てポリアミド酸共重合体を得て、実施例1と同様の方法
で約50μmのポリイミドフィルムを得た。得られたポ
リイミドフィルムの物性を表1に示した。Example 12 Instead of p-phenylenebis (trimellitic acid monoester acid anhydride), 2,6-naphthalenebis (trimellitic acid monoester acid anhydride) shown in Production Example 6 was used. Other than the above, a polyamic acid copolymer was obtained in the same manner as in Example 1, and a polyimide film of about 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the physical properties of the obtained polyimide film.
【0124】(実施例13)セパラブルフラスコに、N
MPとp−PDAを2当量、ODAを1当量とり、ジア
ミン化合物が完全に溶解するまで室温でよく攪拌した。
つぎに、製造例1で示したp−フェニレンビス(トリメ
リット酸モノエステル酸無水物)2当量を粉体で徐々に
加え、その後40分攪拌した。オキシジフタリックアン
ヒドリド0.85当量を粉体で徐々に加え、その後40
分攪拌した。そして、オキシジフタリックアンヒドリド
0.15当量をNMPに溶かし、徐々に加え、このあと
1時間冷却攪拌し、ポリアミド酸共重合体のNMP溶液
を得た。なお、NMPの使用量はジアミン類及び芳香族
テトラカルボン酸二無水物類のモノマー仕込み濃度が、
18重量%となるようにした。得られたポリアミド酸共
重合体溶液を用い、実施例1と同様の方法で約50μm
のポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィ
ルムの物性を表1に示した。Example 13 A separable flask was charged with N
Two equivalents of MP and p-PDA and one equivalent of ODA were taken and stirred well at room temperature until the diamine compound was completely dissolved.
Next, 2 equivalents of p-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride) shown in Production Example 1 were gradually added in powder form, and the mixture was stirred for 40 minutes. 0.85 equivalents of oxydiphthalic anhydride is gradually added as a powder,
Minutes. Then, 0.15 equivalents of oxydiphthalic anhydride was dissolved in NMP, gradually added, and then cooled and stirred for 1 hour to obtain an NMP solution of a polyamic acid copolymer. In addition, the amount of NMP used is such that the concentration of charged monomers of diamines and aromatic tetracarboxylic dianhydrides is
It was adjusted to 18% by weight. Using the obtained polyamic acid copolymer solution, the same method as in Example 1 was used to obtain about 50 μm
Was obtained. Table 1 shows the physical properties of the obtained polyimide film.
【0125】(実施例14)オキシジフタリックアンヒ
ドリドの代わりに、ベンゾフェノンテトラカルボキシリ
ックアンヒドリド(BTDA)を用いた他は実施例13
と同様にしてポリアミド酸共重合体を得て、実施例1と
同様の方法で約50μmのポリイミドフィルムを得た。
得られたポリイミドフィルムの物性を表1に示した。(Example 14) Example 13 was repeated except that benzophenonetetracarboxylic anhydride (BTDA) was used instead of oxydiphthalic anhydride.
A polyamic acid copolymer was obtained in the same manner as in Example 1, and a polyimide film having a thickness of about 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1.
Table 1 shows the physical properties of the obtained polyimide film.
【0126】(実施例15)オキシジフタリックアンヒ
ドリドの代わりに、ビフェニルテトラカルボキシリック
アンヒドリド(BPDA)を用いた他は実施例13と同
様にしてポリアミド酸共重合体を得て、実施例1と同様
の方法で約50μmのポリイミドフィルムを得た。得ら
れたポリイミドフィルムの物性を表1に示した。Example 15 A polyamic acid copolymer was obtained in the same manner as in Example 13 except that biphenyltetracarboxylic anhydride (BPDA) was used instead of oxydiphthalic anhydride. A polyimide film of about 50 μm was obtained in the same manner as described above. Table 1 shows the physical properties of the obtained polyimide film.
【0127】(実施例16)オキシジフタリックアンヒ
ドリドの代わりに、ピロメリット酸無水物(PMDA)
を用いた他は実施例13と同様にしてポリアミド酸共重
合体を得て、実施例1と同様の方法で約50μmのポリ
イミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの
物性を表1に示した。Example 16 Instead of oxydiphthalic anhydride, pyromellitic anhydride (PMDA)
A polyamic acid copolymer was obtained in the same manner as in Example 13 except for using, and a polyimide film of about 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the physical properties of the obtained polyimide film.
【0128】(比較例1)先の実施例1と同様の方法に
より、PMDAとODAを等モルずつ用いて、50μm
のポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィ
ルムの物性を表1に示した。このポリイミドフィルムを
使用し、実施例1と同様の方法で、FCテープを得、銅
箔とラミネートして外観の観察と寸法変化の測定を行っ
た。結果を表1に示した。(Comparative Example 1) In the same manner as in Example 1 described above, 50 μm
Was obtained. Table 1 shows the physical properties of the obtained polyimide film. Using this polyimide film, an FC tape was obtained and laminated with a copper foil in the same manner as in Example 1 to observe the appearance and measure the dimensional change. The results are shown in Table 1.
【0129】(比較例2)2リットルのセパラブルフラ
スコにDMFとODAを1当量とり、ジアミノ化合物が
完全に溶解するまで室温でよく混合しその後、氷で冷却
しながら攪拌した。次に、PMDA2当量を加え、40
分冷却攪拌した。そして、p−PDA1当量をDMFに
溶かし、徐々に加え、このあと1時間冷却攪拌し、ポリ
アミド酸共重合体のDMF溶液を得た。実施例1と同様
の方法で焼成し、50μmのポリイミドフィルムを得
た。得られたポリイミドフィルムの物性を表1に示し
た。Comparative Example 2 One equivalent of DMF and ODA was placed in a 2-liter separable flask, mixed well at room temperature until the diamino compound was completely dissolved, and then stirred while cooling with ice. Next, 2 equivalents of PMDA were added and 40
And stirred for 30 minutes. Then, 1 equivalent of p-PDA was dissolved in DMF, gradually added, and then cooled and stirred for 1 hour to obtain a polyamic acid copolymer DMF solution. It was fired in the same manner as in Example 1 to obtain a 50 μm polyimide film. Table 1 shows the physical properties of the obtained polyimide film.
【0130】このポリイミドフィルムを使用し、実施例
1と同様の方法で、FCテープを得、銅箔とラミネート
して外観の観察と寸法変化の測定を行った。結果を表1
に示した。Using this polyimide film, in the same manner as in Example 1, an FC tape was obtained, laminated with a copper foil, and the appearance was observed and the dimensional change was measured. Table 1 shows the results
It was shown to.
【0131】[0131]
【発明の効果】以上、具体的な実施例で示したように、
本発明に係るフレキシブルプリント基板、FCテープ及
びそれからなるTABテープは、線膨張係数が金属ある
いはガラスに対して極端に差がなく、特異的に弾性率が
高くまた、吸水率が低いという特性を有する。具体的に
は、一般式(1)で表されるポリアミド酸共重合体と化
学脱水剤を混合して得られるポリイミドフィルムを、ベ
ースフィルムとする、フレキシブルプリント基板、FC
テープ及びそれからなるTABテープを提供するもので
あり、ソリやカールがなく、加工中及び実装時の寸法変
化が小さいため多ピン・高密度パターンのテープキャリ
アパッケージに好適な材料となる。As described above, as shown in the specific embodiments,
The flexible printed circuit board, the FC tape and the TAB tape comprising the same according to the present invention have a characteristic that the linear expansion coefficient is not extremely different from that of metal or glass, and has a specific high elastic modulus and a low water absorption. . Specifically, a polyimide film obtained by mixing a polyamic acid copolymer represented by the general formula (1) and a chemical dehydrating agent is used as a base film.
The present invention provides a tape and a TAB tape made of the tape, and has no warp or curl, and has a small dimensional change during processing and mounting, so that it is a material suitable for a tape carrier package having a multi-pin high-density pattern.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI B32B 27/34 B32B 27/34 C08G 73/16 NTK C08G 73/16 NTK // C08J 5/18 CFG C08J 5/18 CFG ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI B32B 27/34 B32B 27/34 C08G 73/16 NTK C08G 73/16 NTK // C08J 5/18 CFG C08J 5/18 CFG
Claims (5)
積層してなるフレキシブルプリント基板において、前記
ベースフィルムが、吸水率が1.6%以下、吸湿膨張係
数が15ppm以下、または熱膨張係数が1.0×10
-5℃-1以上2.5×10-5℃-1以下のうち、1以上の条
件を満たすことを特徴とするフレキシブルプリント基
板。1. A flexible printed circuit board comprising at least a conductive layer and a base film laminated on each other, wherein the base film has a water absorption of 1.6% or less, a moisture expansion coefficient of 15 ppm or less, or a thermal expansion coefficient of 1. 0x10
-5 ° C. -1 or 2.5 × 10 -5 ℃ -1 of the following, a flexible printed circuit board, wherein the one or more conditions are satisfied.
1 【化1】 で表される繰り返し単位を有する芳香族ポリアミド酸共
重合体を脱水閉環して得られる芳香族ポリイミド共重合
体からなることを特徴とする請求項1に記載するフレキ
シブルプリント基板。2. The base film according to claim 1, wherein the base film has the general formula (1). The flexible printed circuit board according to claim 1, comprising an aromatic polyimide copolymer obtained by dehydrating and ring-closing an aromatic polyamic acid copolymer having a repeating unit represented by the following formula:
(1)化2 【化2】 (式中、R1 は化3 【化3】 から選択される2価の有機基、R2 は化4 【化4】 から選択される2価の有機基、R3 は化5 【化5】 から選択される4価の有機基、R4 はCH3 −、Cl
−、Br−、F−、CH3O−を示す。また、m、nは
整数であり、1≦m、0≦nを満たす。)で表される芳
香族ポリアミド酸共重合体を脱水閉環して得られる芳香
族ポリイミド共重合体からなることを特徴とする請求項
1又は請求項2に記載するフレキシブルプリント基板。3. The method according to claim 1, wherein the base film has the general formula (1). (Wherein R 1 is R 2 is a divalent organic group selected from R 3 is a divalent organic group selected from A tetravalent organic group selected from R 4 is CH 3 —, Cl
—, Br—, F—, and CH 3 O—. Further, m and n are integers and satisfy 1 ≦ m and 0 ≦ n. 3. The flexible printed circuit board according to claim 1, comprising an aromatic polyimide copolymer obtained by dehydrating and ring-closing the aromatic polyamic acid copolymer represented by the formula (1).
下、吸湿膨張係数が15ppm以下、熱膨張係数が1.
0×10-5℃-1以上2.5×10-5℃-1以下のうち、1
以上の条件を満たすことを特徴とするFCテープ。4. The base film has a water absorption of 1.6% or less, a moisture absorption expansion coefficient of 15 ppm or less, and a thermal expansion coefficient of 1.
0 × 10 -5 ℃ -1 or more and 2.5 × 10 -5 ℃ -1 or less
An FC tape satisfying the above conditions.
を剥離した上に銅箔を張り合わせ、回路を形成したこと
を特徴とするTABテープ。5. A TAB tape, wherein a circuit is formed by peeling a protective layer of the FC tape according to claim 4 and pasting a copper foil.
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