JPH0819024B2 - アルコキシアルキル基含有フエノ−ル類の製造方法 - Google Patents
アルコキシアルキル基含有フエノ−ル類の製造方法Info
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- JPH0819024B2 JPH0819024B2 JP61259366A JP25936686A JPH0819024B2 JP H0819024 B2 JPH0819024 B2 JP H0819024B2 JP 61259366 A JP61259366 A JP 61259366A JP 25936686 A JP25936686 A JP 25936686A JP H0819024 B2 JPH0819024 B2 JP H0819024B2
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- Catalysts (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明はアルコキシアルキル基を有するフェノール
類の製造方法に関し、さらに詳しく言うと、たとえば酸
化防止剤、防腐剤、その他の化成品原料などに用いられ
るアルコキシアルキル基含有フェノール類を高収率で製
造することができ、かつ目的物と触媒の分離が容易なア
ルコキシアルキル基を有するフェノール類の製造方法に
関する。
類の製造方法に関し、さらに詳しく言うと、たとえば酸
化防止剤、防腐剤、その他の化成品原料などに用いられ
るアルコキシアルキル基含有フェノール類を高収率で製
造することができ、かつ目的物と触媒の分離が容易なア
ルコキシアルキル基を有するフェノール類の製造方法に
関する。
［従来の技術およびその問題点］ 一般に、酸化防止剤、防腐剤、その他の化成品原料と
して、たとえば2,6−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシメ
チルフェノールなどのアルコキシアルキル基を有するフ
ェノール類が知られている。
して、たとえば2,6−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシメ
チルフェノールなどのアルコキシアルキル基を有するフ
ェノール類が知られている。
従来、このアルコキシアルキル基を有するフェノール
類の製造方法としては、たとえば2,6−ジ−ｔ−ブチル
フェノールなどのフェノール類と、アルコールとホルム
アルデヒドとを、たとえばN,N−ジメチル−3,5−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシベンジルアミン（マンニッヒ
塩基）のようなフェノール類に由来する第三級アミンの
存在下に反応させて製造する方法が知られていた。
類の製造方法としては、たとえば2,6−ジ−ｔ−ブチル
フェノールなどのフェノール類と、アルコールとホルム
アルデヒドとを、たとえばN,N−ジメチル−3,5−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシベンジルアミン（マンニッヒ
塩基）のようなフェノール類に由来する第三級アミンの
存在下に反応させて製造する方法が知られていた。
しかしながら、この方法においてはその収率が82％程
度と未だ満足すべきものでない上に、目的物と触媒との
製造が近似していることから、これらの分離が容易でな
いという問題があった。
度と未だ満足すべきものでない上に、目的物と触媒との
製造が近似していることから、これらの分離が容易でな
いという問題があった。
［発明の目的］ この発明は前記事情に基いてなされたものである。
すなわち、この発明の目的は高い収率で、かつ目的物
と触媒の分離が容易なアルコキシアルキル基含有フェノ
ール類の製造方法を提供することである。
と触媒の分離が容易なアルコキシアルキル基含有フェノ
ール類の製造方法を提供することである。
［前記目的を達成するための手段］ 前記目的を達成するために、この発明者が鋭意研究を
重ねた結果、特定の第三級アミンの存在下に、それぞれ
特定の一般式で表わされるところの、フェノール類とア
ルコール類とアルデヒド類とを反応させることによりア
ルコキシアルキル基を有するフェノール類を高い収率で
製造することができ、しかも目的物と触媒とを容易に分
離することができると共に回収した触媒をそのまま再使
用することができることを見出してこの発明に到達し
た。
重ねた結果、特定の第三級アミンの存在下に、それぞれ
特定の一般式で表わされるところの、フェノール類とア
ルコール類とアルデヒド類とを反応させることによりア
ルコキシアルキル基を有するフェノール類を高い収率で
製造することができ、しかも目的物と触媒とを容易に分
離することができると共に回収した触媒をそのまま再使
用することができることを見出してこの発明に到達し
た。
すなわち、前記目的を達成するためのこの発明の概要
は、第三級アルキルアミンおよび／または第三級無置換
ベンジルアミンの存在下に、一般式 （ただし、R6およびR7は、それぞれ水素原子またはアル
キル基を示す。）で表わされるフェノール類と、一般式
R8OH（ただし、R8はアルキル基を示す。）で表わされる
アルコール類と、一般式R9CHO（ただし、R9は水素原子
またはアルキル基を示す。）で表わされるアルデヒド類
とを反応させることを特徴とするアルコキシルアルキル
基含有フェノール類の製造方法である。
は、第三級アルキルアミンおよび／または第三級無置換
ベンジルアミンの存在下に、一般式 （ただし、R6およびR7は、それぞれ水素原子またはアル
キル基を示す。）で表わされるフェノール類と、一般式
R8OH（ただし、R8はアルキル基を示す。）で表わされる
アルコール類と、一般式R9CHO（ただし、R9は水素原子
またはアルキル基を示す。）で表わされるアルデヒド類
とを反応させることを特徴とするアルコキシルアルキル
基含有フェノール類の製造方法である。
前記第三級アルキルアミンは、式 （ただし、R1、R2およびR3は炭素数が１〜20であるアル
キル基を示し、R1、R2およびR3それぞれは互いに同一で
あっても相違していても良い。） で表わすことができる。
キル基を示し、R1、R2およびR3それぞれは互いに同一で
あっても相違していても良い。） で表わすことができる。
この第三級アルキルアミンとしては、たとえば、N,N
−ジエチル−ラウリルアミン、N,N−ジエチル−トリデ
シルアミン、N,N−ジエチル−パルミチルアミン、N,N−
エチル−ジヘキシルアミン、Ｎ−メチル−ジパルミチル
アミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプ
ロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミ
ン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオ
クチルアミン、トリノニルアミン、トリカプリルアミ
ン、トリラウリルアミン、トリミリスチルアミン、トリ
セチルアミン、トリステアリルアミン、トリアラキルア
ミンなどが挙げられる。
−ジエチル−ラウリルアミン、N,N−ジエチル−トリデ
シルアミン、N,N−ジエチル−パルミチルアミン、N,N−
エチル−ジヘキシルアミン、Ｎ−メチル−ジパルミチル
アミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプ
ロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミ
ン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオ
クチルアミン、トリノニルアミン、トリカプリルアミ
ン、トリラウリルアミン、トリミリスチルアミン、トリ
セチルアミン、トリステアリルアミン、トリアラキルア
ミンなどが挙げられる。
これら各種の第三級アルキルアミンは、一種単独で使
用しても良いし、また、複数種を併用しても良い。
用しても良いし、また、複数種を併用しても良い。
前記各種の第三級アルキルアミンの内、R1、R2および
R3それぞれの炭素数が１〜４である低級アルキル基を有
するもの、たとえば、トリメチルアミン、トリプロピル
アミン、トリブチルアミン、N,N−ジメチル−エチルア
ミン、N,N−ジメチル−プロピルアミン、N,N−ジメチル
−ブチルアミン、N,N−ジエチル−メチルアミン、N,N−
ジエチル−プロピルアミン、N,N−ジエチル−ブチルア
ミン、N,N−ジプロピル−エチルアミン、N,N−ジプロピ
ル−ブチルアミン、N,N−ジブチル−メチルアミン、N,N
−ジブチル−エチルアミン、N,N−ジブチル−プロピル
アミンなどが好ましく、特に、トリエチルアミン、トリ
ブチルアミンなどのR1、R2およびR3が共に同一である低
級アルキル基を有するものが好ましい。
R3それぞれの炭素数が１〜４である低級アルキル基を有
するもの、たとえば、トリメチルアミン、トリプロピル
アミン、トリブチルアミン、N,N−ジメチル−エチルア
ミン、N,N−ジメチル−プロピルアミン、N,N−ジメチル
−ブチルアミン、N,N−ジエチル−メチルアミン、N,N−
ジエチル−プロピルアミン、N,N−ジエチル−ブチルア
ミン、N,N−ジプロピル−エチルアミン、N,N−ジプロピ
ル−ブチルアミン、N,N−ジブチル−メチルアミン、N,N
−ジブチル−エチルアミン、N,N−ジブチル−プロピル
アミンなどが好ましく、特に、トリエチルアミン、トリ
ブチルアミンなどのR1、R2およびR3が共に同一である低
級アルキル基を有するものが好ましい。
次に、前記第三級無置換ベンジルアミンは、式 （ただし、R4およびR5は同一であっても相違していても
良く、炭素数１〜20であるアルキル基を示す。） で表わされる。
良く、炭素数１〜20であるアルキル基を示す。） で表わされる。
この第三級無置換ベンジルアミンとしては、たとえ
ば、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルベンジルアミン、Ｎ−メチ
ル−Ｎ−プロピルベンジルアミン、Ｎ−メチル−Ｎ−ブ
チルベンジルアミン、Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルベンジ
ルアミン、Ｎ−エメチル−Ｎ−ブチルベンジルアミン、
Ｎ−プロピル−Ｎ−ブチルベンジルアミン、N,N−ジメ
チルベンジルアミン、N,N−ジエチルベンジルアミン、
N,N−ジプロピルベンジルアミン、N,N−ジブチルベンジ
ルアミン、N,N−ジペンチルベンジルアミン、N,N−ジヘ
キシルベンジルアミン、N,N−ジヘプチルベンジルアミ
ン、N,N−ジオクチルベンジルアミン、N,N−ジノニルベ
ンジルアミン、N,N−ジカプリルベンジルアミン、N,N−
ジラウリルベンジルアミン、N,N−ジミリスチルベンジ
ルアミン、N,N−ベンジルジセチルアミン、N,N−ジステ
アリルベンジルアミン、N,N−ジアラキルベンジルアミ
ンなどが挙げられる。これらの中でも、R4およびR5の炭
素数が１〜20の低級アルキル基を有する第三級無置換ベ
ンジルアミンが好ましく、特にN,N−ジエチルベンジル
アミン、N,N−ジブチルベンジルアミンが好ましい。
ば、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルベンジルアミン、Ｎ−メチ
ル−Ｎ−プロピルベンジルアミン、Ｎ−メチル−Ｎ−ブ
チルベンジルアミン、Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルベンジ
ルアミン、Ｎ−エメチル−Ｎ−ブチルベンジルアミン、
Ｎ−プロピル−Ｎ−ブチルベンジルアミン、N,N−ジメ
チルベンジルアミン、N,N−ジエチルベンジルアミン、
N,N−ジプロピルベンジルアミン、N,N−ジブチルベンジ
ルアミン、N,N−ジペンチルベンジルアミン、N,N−ジヘ
キシルベンジルアミン、N,N−ジヘプチルベンジルアミ
ン、N,N−ジオクチルベンジルアミン、N,N−ジノニルベ
ンジルアミン、N,N−ジカプリルベンジルアミン、N,N−
ジラウリルベンジルアミン、N,N−ジミリスチルベンジ
ルアミン、N,N−ベンジルジセチルアミン、N,N−ジステ
アリルベンジルアミン、N,N−ジアラキルベンジルアミ
ンなどが挙げられる。これらの中でも、R4およびR5の炭
素数が１〜20の低級アルキル基を有する第三級無置換ベ
ンジルアミンが好ましく、特にN,N−ジエチルベンジル
アミン、N,N−ジブチルベンジルアミンが好ましい。
前記第三級無置換ベンジルアミンは一種単独で使用し
てもよいし、二種以上を併用してもよい。
てもよいし、二種以上を併用してもよい。
この発明のアルコキシアルキル基を有するフェノール
類の製造方法においては前記第三級アルキルアミンまた
は前記第三級無置換ベンジルアミンをそれぞれ単独で使
用することができるが、前記第三級アルキルアミンと前
記第三級無置換ベンジルアミンとを組合わせて使用する
こともできる。
類の製造方法においては前記第三級アルキルアミンまた
は前記第三級無置換ベンジルアミンをそれぞれ単独で使
用することができるが、前記第三級アルキルアミンと前
記第三級無置換ベンジルアミンとを組合わせて使用する
こともできる。
前記特定の一般式で表わされるフェノール類として
は、たとえばフェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾ
ール、ｐ−クレゾール、エチルフェノール、プロピルフ
ェノール、ｐ−tert−ブチルフェノール、ｐ−tert−ア
ミルフェノール、ｏ−sec−アミルフェノール、ｐ−オ
クチルフェノール、ｐ−オクチルフェノール、キシレノ
ール、ｐ−ノニルフェノール、ｏ−ノニルフェノール、
2,6−ジイソプロピルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチ
ルフェノール、ジ−tert−アミノフェノール、ジ−sec
−アミルフェノールなどを挙げることができる。
は、たとえばフェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾ
ール、ｐ−クレゾール、エチルフェノール、プロピルフ
ェノール、ｐ−tert−ブチルフェノール、ｐ−tert−ア
ミルフェノール、ｏ−sec−アミルフェノール、ｐ−オ
クチルフェノール、ｐ−オクチルフェノール、キシレノ
ール、ｐ−ノニルフェノール、ｏ−ノニルフェノール、
2,6−ジイソプロピルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチ
ルフェノール、ジ−tert−アミノフェノール、ジ−sec
−アミルフェノールなどを挙げることができる。
これらの中でも、好ましいのは2,6−ジ−tert−ブチ
ルフェノールである。
ルフェノールである。
前記一般式R8OHで表わされるアルコール類としては、
たとえばメチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プ
ロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチ
ルアルコール、イソブチルアルコール、sec−ブチルア
ルコール、tert−ブチルアルコール、ペンタノール、ペ
ンタノール−１、ペンタノール−２、ペンタノール−
３、２−メチルブタノール−１、２−メチルブタノール
−１、２−メチルブタノール−３、２−メチルブタノー
ル−４、ジメチルプロパノール、ヘキサノール−１、ヘ
キサノール−２、ヘプタノール−１、ヘプタノール−
２、オクタノール−１、オクタノール−２、４−エチル
ヘキサノール−４、２−エチルヘキサノール−１、ノナ
ノール−１、ノナノール−２、ノナノール−３、デカノ
ール−１、デカノール−２、ウンデカノール−１、ウン
デカノール−２、ドデカノール−１、トリデカノール−
１、トリデカノール−２、テトラデカノール−１、テト
ラデカノール−２、ペンタデカノール−１、ペンタデカ
ノール−２、ヘキサデカノール−１、ヘキサデカノール
−２、ヘプタデカノール−１、ヘプタデカノール−２、
オクタデカノール−１、オクタデカノール−２、ノナデ
カノール−１、ノナデカノール−２、エイコサノール−
１、エイコサノール−２、ヘンエイコサノール、ドコサ
ノール、トリコサノール、テトラコサノール、ペンタコ
サノール、ヘキサコサノール、ヘプタコサノール、オク
タコサノール、ノナコサノール、トリアコンタノール、
ヘントリアコンタノール、ドトリアコンタノールなどが
挙げられる。これらの中でも、メチルアルコールが好ま
しい。
たとえばメチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プ
ロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチ
ルアルコール、イソブチルアルコール、sec−ブチルア
ルコール、tert−ブチルアルコール、ペンタノール、ペ
ンタノール−１、ペンタノール−２、ペンタノール−
３、２−メチルブタノール−１、２−メチルブタノール
−１、２−メチルブタノール−３、２−メチルブタノー
ル−４、ジメチルプロパノール、ヘキサノール−１、ヘ
キサノール−２、ヘプタノール−１、ヘプタノール−
２、オクタノール−１、オクタノール−２、４−エチル
ヘキサノール−４、２−エチルヘキサノール−１、ノナ
ノール−１、ノナノール−２、ノナノール−３、デカノ
ール−１、デカノール−２、ウンデカノール−１、ウン
デカノール−２、ドデカノール−１、トリデカノール−
１、トリデカノール−２、テトラデカノール−１、テト
ラデカノール−２、ペンタデカノール−１、ペンタデカ
ノール−２、ヘキサデカノール−１、ヘキサデカノール
−２、ヘプタデカノール−１、ヘプタデカノール−２、
オクタデカノール−１、オクタデカノール−２、ノナデ
カノール−１、ノナデカノール−２、エイコサノール−
１、エイコサノール−２、ヘンエイコサノール、ドコサ
ノール、トリコサノール、テトラコサノール、ペンタコ
サノール、ヘキサコサノール、ヘプタコサノール、オク
タコサノール、ノナコサノール、トリアコンタノール、
ヘントリアコンタノール、ドトリアコンタノールなどが
挙げられる。これらの中でも、メチルアルコールが好ま
しい。
前記一般式R8CHOで表わされるアルデヒド類として
は、たとえばホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ｎ−ブ
チルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、ｎ−バレロア
ルデヒド、イソバレロアルデヒド、メチルエチルアセト
アルデヒド、トリメチルアセトアルデヒド、ｎ−ヘキサ
アルデヒド、ジエチルアセトアルデヒド、ジメチルエチ
ルアセトアルデヒド、２−シクロペンテニルアセトアル
デヒド、エチル−ｎ−ブチルアセトアルデヒド、エナン
トアルデヒドなどが挙げられる。
は、たとえばホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ｎ−ブ
チルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、ｎ−バレロア
ルデヒド、イソバレロアルデヒド、メチルエチルアセト
アルデヒド、トリメチルアセトアルデヒド、ｎ−ヘキサ
アルデヒド、ジエチルアセトアルデヒド、ジメチルエチ
ルアセトアルデヒド、２−シクロペンテニルアセトアル
デヒド、エチル−ｎ−ブチルアセトアルデヒド、エナン
トアルデヒドなどが挙げられる。
これらの中でも、パラホルムアルデヒドが好ましい。
この発明のアルコキシアルキル基を有するフェノール
類の製造方法においては、前記第三級アルキルアミンお
よび／または第三級無置換ベンジルアミンの存在下に、
前記フェノール類と前記アルコール類と前記アルデヒド
類とを反応させる。
類の製造方法においては、前記第三級アルキルアミンお
よび／または第三級無置換ベンジルアミンの存在下に、
前記フェノール類と前記アルコール類と前記アルデヒド
類とを反応させる。
前記反応は次の反応式で示すことができる。
（ただし、R6、R7、R9は水素原子またはアルキル基を表
わし、R8はアルキル基を表わす。） 前記反応においては溶媒を使用することができる。
わし、R8はアルキル基を表わす。） 前記反応においては溶媒を使用することができる。
前記溶媒としては、R8OHで示されるアルコールが好ま
しく、このアルコールR8OHは前記反応における反応物質
である。
しく、このアルコールR8OHは前記反応における反応物質
である。
したがって、前記反応においては、前記フェノール類
に対して前記アルコールR8OHを大過剰に加えるのが好ま
しい。
に対して前記アルコールR8OHを大過剰に加えるのが好ま
しい。
前記フェノール類に対する前記アルデヒド類の使用量
はフェノール類１モルに対して１〜６モル、好ましくは
２〜４モルである。
はフェノール類１モルに対して１〜６モル、好ましくは
２〜４モルである。
前記アルデヒド類の使用量が１モルより少ない場合に
は、前記反応が進行しないことがあり、６モルより多く
用いてもアルコキシアルキル基を有するフェノール類の
収率は向上しないことがある。
は、前記反応が進行しないことがあり、６モルより多く
用いてもアルコキシアルキル基を有するフェノール類の
収率は向上しないことがある。
前記反応は温度50〜250℃、好ましくは70〜150℃、圧
力１〜200kg/cm2G、好ましくは５〜100kg/cm2Gの条件下
に進行し、反応時間は0.5〜20時間、好ましくは１〜10
時間である。
力１〜200kg/cm2G、好ましくは５〜100kg/cm2Gの条件下
に進行し、反応時間は0.5〜20時間、好ましくは１〜10
時間である。
前記反応温度が50℃より低い場合には反応が十分に進
行しないことがあり、一方、250℃より高い場合には触
媒である第三級アルキルアミンや第三級無置換ベンジル
アミンの活性が低下して目的物であるアルコキシアルキ
ル基含有フェノール類が充分に生成しないことがある。
行しないことがあり、一方、250℃より高い場合には触
媒である第三級アルキルアミンや第三級無置換ベンジル
アミンの活性が低下して目的物であるアルコキシアルキ
ル基含有フェノール類が充分に生成しないことがある。
前記反応圧力が0kg/cm2Gより低い場合には反応が充分
な速度で進行しないことがあり、一方、200kg/cm2Gより
高い場合には反応の活性が充分に高められなくなること
がある。
な速度で進行しないことがあり、一方、200kg/cm2Gより
高い場合には反応の活性が充分に高められなくなること
がある。
前記反応時間が0.5時間より短いとアルコキシアルキ
ル基を有するフェノール類が充分に生成しないことがあ
り、20時間より長くしてもアルコキシアルキル基を有す
るフェノール類の収率は向上せず、却って生産性が低下
することがある。
ル基を有するフェノール類が充分に生成しないことがあ
り、20時間より長くしてもアルコキシアルキル基を有す
るフェノール類の収率は向上せず、却って生産性が低下
することがある。
この発明のアルコキシアルキル基含有フェノール類の
製造方法においては、触媒として目的物の構造と近似し
ない第三級アルキルアミンおよび／または第三級無置換
ベンジルアミンを用いているので、第三級アルキルアミ
ンや第三級無置換ベンジルアミンとアルコキシアルキル
基含有フェノール類とを容易に分離することができる。
製造方法においては、触媒として目的物の構造と近似し
ない第三級アルキルアミンおよび／または第三級無置換
ベンジルアミンを用いているので、第三級アルキルアミ
ンや第三級無置換ベンジルアミンとアルコキシアルキル
基含有フェノール類とを容易に分離することができる。
［発明の効果］ この発明のアルコキシアルキル基含有フェノール類の
製造方法は、従来の製造方法と異なり触媒としてアルコ
キシアルキル基を有するフェノール類の製造に近似しな
い第三級アルキルアミンおよび／または第三級無置換ベ
ンジルアミンを用いるものである。
製造方法は、従来の製造方法と異なり触媒としてアルコ
キシアルキル基を有するフェノール類の製造に近似しな
い第三級アルキルアミンおよび／または第三級無置換ベ
ンジルアミンを用いるものである。
したがって、この発明によれば、従来の製造方法が有
していた触媒の構造と目的物であるアルコキシアルキル
基を有するフェノール類の構造とが近似しているために
その分離が困難であるという問題を解消し、効率よく、
しかも高い収率でアルコキシアルキル基を有するフェノ
ール類を製造することのできる工業上有用なアルコキシ
アルキル基含有フェノール類の製造方法を提供すること
ができる。
していた触媒の構造と目的物であるアルコキシアルキル
基を有するフェノール類の構造とが近似しているために
その分離が困難であるという問題を解消し、効率よく、
しかも高い収率でアルコキシアルキル基を有するフェノ
ール類を製造することのできる工業上有用なアルコキシ
アルキル基含有フェノール類の製造方法を提供すること
ができる。
さらにまた、この発明の方法で使用する触媒は、反応
系から分離後直ちにそのまま触媒として再使用すること
ができるので、この点においてもこの発明は効率の良い
製造方法と言うことができる。
系から分離後直ちにそのまま触媒として再使用すること
ができるので、この点においてもこの発明は効率の良い
製造方法と言うことができる。
［実施例］ 次に、この発明の実施例および比較例を示し、この発
明についてさらに詳しく説明する。
明についてさらに詳しく説明する。
（実施例１） 250mlのオートクレーブに2,6−ジ−tert−ブチルフェ
ノール120ミリモル、メタノール100ml、パラホルムアル
デヒド200ミリモルおよびトリエチルアミン30ミリモル
を入れ、温度125℃、圧力6kg/cm2Gの条件下に３時間、
反応を行なった。
ノール120ミリモル、メタノール100ml、パラホルムアル
デヒド200ミリモルおよびトリエチルアミン30ミリモル
を入れ、温度125℃、圧力6kg/cm2Gの条件下に３時間、
反応を行なった。
反応終了後、40℃に冷却し、ガスクロマトグラフィー
により転化率および選択率を求めた。
により転化率および選択率を求めた。
結果を第１表に示す。
（実施例２） 前記実施例１の反応終了後の溶液を25℃に冷却してア
ルコキシアルキル基を有するフェノール類を結晶として
ろ過分離し、そのろ液を250mlのオートクレーブに入
れ、さらに2,6−ジ−tert−ブチルフェノールが120ミリ
モル、メタノールが100ml、パラホルムアルデヒドが200
ミリモルになるように、それぞれを補充して反応を行な
った。
ルコキシアルキル基を有するフェノール類を結晶として
ろ過分離し、そのろ液を250mlのオートクレーブに入
れ、さらに2,6−ジ−tert−ブチルフェノールが120ミリ
モル、メタノールが100ml、パラホルムアルデヒドが200
ミリモルになるように、それぞれを補充して反応を行な
った。
結果を第１表に示す。
（実施例３） 前記実施例２において、前記実施例１の反応終了後の
溶液に代えて前記実施例２の反応終了後の溶液を用いた
ほかは前記実施例２と同様にして実施した。
溶液に代えて前記実施例２の反応終了後の溶液を用いた
ほかは前記実施例２と同様にして実施した。
結果を第１表に示す。
（実施例４） 前記実施例２において、前記実施例１の反応終了後の
溶液に代えて前記実施例３の反応終了後の溶液を用いた
ほかは前記実施例２と同様にして実施した。
溶液に代えて前記実施例３の反応終了後の溶液を用いた
ほかは前記実施例２と同様にして実施した。
結果を第１表に示す。
（実施例５） 前記実施例２において、前記実施例１の反応終了後の
溶液に代えて前記実施例４の反応終了後の溶液を用いた
ほかは前記実施例２と同様にして実施した。
溶液に代えて前記実施例４の反応終了後の溶液を用いた
ほかは前記実施例２と同様にして実施した。
結果を第１表に示す。
（実施例６） 前記実施例１において、トリエチルアミンに代えてト
リノルマルブチルアミンを用いると共に、反応温度を10
0℃、反応圧力を2kg/cm2Gにしたほかは、前記実施例１
と同様にして実施した。
リノルマルブチルアミンを用いると共に、反応温度を10
0℃、反応圧力を2kg/cm2Gにしたほかは、前記実施例１
と同様にして実施した。
結果を第１表に示す。
（実施例７） 前記実施例６において、トリノルマルブチルアミンに
代えて、ベンジルジエチルアミンを用いると共に、反応
温度を125℃、反応圧力を6kg/cm2Gにしたほかは前記実
施例８と同様にして実施した。
代えて、ベンジルジエチルアミンを用いると共に、反応
温度を125℃、反応圧力を6kg/cm2Gにしたほかは前記実
施例８と同様にして実施した。
結果を第１表に示す。
（比較例） １のオートクレーブに、2,6−ジ−tert−ブチルフ
ェノール500ミリモル、メタノール270ml、パラホルムア
ルデヒド800ミリモルおよび40％ジメチルアミン3.0g
（N,N−ジメチル−3,5−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロ
キシベンジルアミン（マンニッヒ塩基）が生成）を入
れ、0.6kg/cm2Gの条件下に65℃で３時間、反応を行なっ
た後、さらに80℃で４時間、反応を行なった。
ェノール500ミリモル、メタノール270ml、パラホルムア
ルデヒド800ミリモルおよび40％ジメチルアミン3.0g
（N,N−ジメチル−3,5−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロ
キシベンジルアミン（マンニッヒ塩基）が生成）を入
れ、0.6kg/cm2Gの条件下に65℃で３時間、反応を行なっ
た後、さらに80℃で４時間、反応を行なった。
反応終了後、40℃に冷却し、ガスクロマトグラフィー
により転化率および選択率を求めた。
により転化率および選択率を求めた。
結果を第１表に示す。
第１表から明らかなように、触媒として従来から使用
されてきたN,N−ジメチル−3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシベンジルアミンを用いた場合には転化率およ
び選択率のいずれもが前記実施例１〜11に比較して低か
った。
されてきたN,N−ジメチル−3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシベンジルアミンを用いた場合には転化率およ
び選択率のいずれもが前記実施例１〜11に比較して低か
った。
Claims (1)
- 【請求項１】第三級アルキルアミンおよび／または第三
級無置換ベンジルアミンの存在下に、一般式 （ただし、R6およびR7は、それぞれ水素原子またはアル
キル基を示す。）で表わされるフェノール類と、一般式
R8OH（ただし、R8はアルキル基を示す。）で表わされる
アルコール類と、一般式R9CHO（ただし、R9は水素原子
またはアルキル基を示す。）で表わされるアルデヒド類
とを反応させることを特徴とするアルコキシルアルキル
基含有フェノール類の製造方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61259366A JPH0819024B2 (ja) | 1986-10-30 | 1986-10-30 | アルコキシアルキル基含有フエノ−ル類の製造方法 |
| PCT/JP1987/000832 WO1988003129A1 (en) | 1986-10-30 | 1987-10-29 | Process for preparing alkoxyalkyl-substituted phenols |
| EP87907134A EP0292564B1 (en) | 1986-10-30 | 1987-10-29 | Process for preparing alkoxyalkyl-substituted phenols |
| DE87907134T DE3786793T2 (de) | 1986-10-30 | 1987-10-29 | Verfahren zur herstellung von alkoxyalkyl-substituierten phenolen. |
| BR8707521A BR8707521A (pt) | 1986-10-30 | 1987-10-29 | Processo para producao de fenol substituido por grupo alcoxialquila |
| KR1019880700751A KR910002220B1 (ko) | 1986-10-30 | 1987-10-29 | 알콕시 알킬기 치환페놀류의 제조방법 |
| US07/469,724 US4952736A (en) | 1986-10-30 | 1990-01-24 | Process for producing alkoxyalkyl group substituted phenols |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61259366A JPH0819024B2 (ja) | 1986-10-30 | 1986-10-30 | アルコキシアルキル基含有フエノ−ル類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63112529A JPS63112529A (ja) | 1988-05-17 |
| JPH0819024B2 true JPH0819024B2 (ja) | 1996-02-28 |
Family
ID=17333115
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61259366A Expired - Fee Related JPH0819024B2 (ja) | 1986-10-30 | 1986-10-30 | アルコキシアルキル基含有フエノ−ル類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0819024B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4779116B2 (ja) * | 2006-04-04 | 2011-09-28 | 国立大学法人山口大学 | 土石流の停止堆積構造物及び土石流堆積物の除去方法 |
-
1986
- 1986-10-30 JP JP61259366A patent/JPH0819024B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63112529A (ja) | 1988-05-17 |
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