JPH08152621A - 反射拡散板および反射型液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 指向性、散乱性を精度良く制御できる良好な
反射拡散板を得る。 【構成】 反射拡散板２０は、ガラス基板２１上にアル
ミニウムなどから成る反射膜２２を形成し、その上に表
面がほぼ平坦で屈折率の異なる領域を有する有機材料膜
２３から構成されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、周囲光を反射すること
によって表示を行う反射型液晶表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】反射型液晶表示装置に要求される性能の
中で最も重要となるのは、液晶表示装置内に入射した周
囲光をいかに効率よく反射させて、表示に有効に活用で
きるかである。現在、明るい表示を得るために、反射板
の凹凸形状を最適化し、その表面に反射膜を設け反射板
とし、反射特性に指向性を持たせる方法が、例えば特開
平５−３２３３７１号公報に提案されている。

【０００３】以下に、特開平５−３２３３７１号公報に
記載された技術を説明する。図１５は、反射型液晶表示
装置１３０の断面図であり、図１６は図１５に示される
反射板１５２の平面図である。ガラスなどから成る絶縁
性の基板１３１上に、クロム、タンタルなどから成る複
数のゲートバス配線１３２が互いに平行に設けられ、ゲ
ートバス配線１３２からはゲート電極１３３が分岐して
いる。ゲートバス配線１３２は、走査線として機能して
いる。

【０００４】ゲート電極１３３を覆って基板１３１上の
全面に、窒化シリコン（ＳｉＮ_X ）、酸化シリコン（Ｓ
ｉＯ_X ）などから成るゲート絶縁膜１３４が形成されて
いる。ゲート電極１３３の上方のゲート絶縁膜１３４上
には、非晶質シリコン（以下、ａ−Ｓｉと記す）、多結
晶シリコン、ＣｄＳｅなどから成る半導体層１３５が形
成されている。半導体層１３５の両端部には、ａ−Ｓｉ
などから成るコンタクト電極１４１が形成されている。
一方のコンタクト電極１４１上にはチタン、モリブデ
ン、アルミニウム等から成るソース電極１３６が重畳形
成され、他方のコンタクト電極１４１上にはソース電極
１３６と同様にチタン、モリブデン、アルミニウムなど
から成るドレイン電極１３７が重畳形成されている。

【０００５】図１６に示すようにソース電極１３６に
は、ゲートバス配線１３２に上記のゲート絶縁膜１３４
を挟んで交差するソースバス配線１３９が接続されてい
る。ソースバス配線１３９は、信号線として機能してい
る。ソースバス配線１３９も、ソース電極１３６と同様
の金属で形成されている。ゲート電極１３３、ゲート絶
縁膜１３４、半導体層１３５、ソース電極１３６および
ドレイン電極１３７は、ＴＦＴ１４０を構成し、該ＴＦ
Ｔ１４０はスイッチング素子の機能を有する。

【０００６】ゲートバス配線１３２、ソースバス配線１
３９およびＴＦＴ１４０を覆って、基板１３１上全面に
有機絶縁膜１４２が形成されている。有機絶縁膜１４２
の反射電極１３８が形成される領域には先細状で底面部
の断面形状が直径３〜２０μｍの凸部が高さＨで、隣接
する凸部が１μｍ以上離れて形成されており、ドレイン
電極１３７部分にはコンタクトホール１４３が形成され
ている。有機絶縁膜１４２の形成方法やこれにコンタク
トホール１４３を形成する工程上の問題、および液晶表
示装置１３０を作成する際のセル厚のばらつきを小さく
するため、前記凸部の高さＨは１０μｍ以下が好まし
い。有機絶縁膜１４２の円形の凸部１４２ａの形成領域
上にアルミニウム、銀などから成る反射電極１３８が形
成され、反射電極１３８はコンタクトホール１４３にお
いてドレイン電極１３７と接続される。さらにその上に
は配向膜１４４が形成される。

【０００７】他方の基板１４５上には、カラーフィルタ
ー１４６が形成される。カラーフィルター１４６の基板
１３１の反射電極１３８に対向する位置にはマゼンタま
たは緑のフィルター１４６ａが形成され、反射電極１３
８に対向しない位置にはブラックのフィルター１４６ｂ
が形成される。カラーフィルター１４６上の全面にはＩ
ＴＯなどから成る透明電極１４７、さらにその上には配
向膜１４８が形成される。

【０００８】両基板１３１、１４５は、反射電極１３８
とフィルター１４６ａとが一致するように対向して貼り
合わせられ、間に液晶１４９が注入されて反射型液晶表
示装置１３０が完成する。

【０００９】有機絶縁膜１４２上の凸部の形状は、マス
クの形状、ホトレジストの厚さ、ドライエッチングの時
間によって制御することができるが、さらに他の有機絶
縁膜を塗布してもよい。

【００１０】有機絶縁膜１４２のドライエッチング時間
を長くして、種々の半径の円形の凸部１４２ａとのそれ
ぞれの高さＨを１μｍとした基板１３１を得ることがで
き、高さＨが１μｍである反射電極１３８を有する反射
板１５２を基板とする反射型液晶表示装置が得られる。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】上記従来の反射板をド
ライエッチングやウエットエッチングで作製すると、次
のような問題がある。ドライエッチングはエッチング槽
内でのガスの流れによるエッチング力の分布ができるた
め、面内での分布が悪く、均一な形状に制御できなく、
またウエットエッチングは全面が液につかっているた
め、均一な形状に制御するのが困難である。従って、上
記従来の反射板では指向性、散乱性を精度良く制御でき
ないという問題がある。

【００１２】また、従来の反射型液晶表示装置では凹凸
形状の反射板を液晶層側に作成するとラビングなどの配
向処理を行った場合、基板界面の液晶分子が一定方向の
傾きをしないため、ディスクリネーションラインが生
じ、安定した配向にならないという問題がある。

【００１３】また、液晶層側に凹凸が形成されている基
板を用いると、凹部と凸部があるため、画面内で均一な
セル厚を達成することができなくなる。これはコントラ
スト低下、表示画面内でのムラなど表示品位の低下につ
ながるという問題がある。

【００１４】また、反射膜が凹凸表面であると反射電極
としてパターニングするとき、凹凸のためにパターニン
グ不良が起こる原因となるという問題がある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明は、反射層上に、
表面がほぼ平坦で面内に屈折率分布を有する拡散層を形
成したことを特徴とする反射拡散板である。

【００１６】また、本発明は、液晶層を介在して対向配
置される一対の基板のうちの少なくともどちらかの基板
が透明基板であり、一方の基板上の液晶層側に他方の基
板側からの入射光を反射する反射層を形成し、該他方の
基板の液晶層側にほぼ全面にわたって透光性を有する共
通電極を形成して構成される反射型液晶表示装置におい
て、前記一方の基板上の反射層と他方の基板の間に、表
面がほぼ平坦で面内に屈折率分布を有する拡散層を形成
したことを特徴とする反射型液晶表示装置。

【００１７】

【作用】本発明の反射拡散板によれば、従来にない良好
な指向性を持った反射特性が得られる。

【００１８】また、この反射拡散板を反射型液晶表示装
置に適用した場合、液晶層と電極の間に絶縁膜を設けな
い構造を取ることができるので、ロスのない電圧印加が
行われる。

【００１９】また、基板に凹凸を持たせて散乱光を得て
いるのではなく、平坦な反射拡散板を用いているため、
基板界面の液晶分子が一定方向の傾きをし、安定した配
向するという理由により、良好な配向状態が得られる。

【００２０】また、反射拡散板の表面が平坦であるた
め、表示領域で均一なセル厚が得られ、そのため液晶層
への均一な電圧印加がなされ、その結果、良好な均一表
示と視角特性が得られる。

【００２１】さらに、反射拡散板が平坦な膜であるため
に各膜のパターニングが良好に行われ、プロセス性に優
れた反射型液晶表示装置が得られる。

【００２２】

【実施例】

（実施例１）本発明の第１の実施例である反射拡散板お
よびこれを用いた反射型液晶表示装置について説明す
る。実施例１である表面がほぼ平坦で屈折率の異なる分
布を有する膜を使用した反射拡散板２０の形成工程を図
１に示す。

【００２３】まず、図１の（ａ）に示すように、ガラス
（コーニング社製７０５９）などから成る絶縁性の基板
２１に反射膜２２としてアルミニウムを３００ｎｍの均
一な厚さにスパッタリングして形成する。反射膜２２は
アルミニウムに限定されるものではなく、Ｔｉ，Ｔａ，
Ｃｕ，Ａｇ，Ｐｔなどの他の金属でもよく、またスパッ
タ法の他に蒸着などの方法で形成してもよい。また、反
射膜の膜厚も光を充分反射する範囲であればよい。この
後、アルミニウムをストライプ電極にパターニングし、
これを反射電極とする。

【００２４】次に、図１の（ｂ）に示すように、有機材
料膜２３ａとして、クロロメタクリレートにドーパント
としてメチルメタクリレートを加えた感光性共重合体
と、４重量％のトルエン溶液との混合液を、基板２１上
にスピンコートで均一に塗布する。膜厚は好ましくは
０．５μｍ〜４μｍがよい。膜厚が０．５μｍより薄け
れば膜が形成しにくく、４μｍより厚ければ、膜厚むら
が発生する。塗布後、オーブンで６０℃、３０分焼成す
る。

【００２５】次に、図１の（ｃ）に示すように、所定の
フォトマスク２４を介して紫外光（ＵＶ光）２５を照射
する。このフォトマスク２４により、紫外光（ＵＶ光）
２５が照射した部分と照射しない部分ができるため、上
記の有機材料膜２３ｂに屈折率が異なる領域を形成でき
る。

【００２６】フォトマスク２４としては、上記スピンコ
ーティングにより形成した有機材料膜２３が、一つの画
素内ではランダムな屈折率の分布をもち、その画素が多
数配列した表示部分全体で均一になるパターンのものを
用いた。

【００２７】図２にフォトマスク２４の１例を示す。図
２（ａ）のフォトマスク２４は一辺が１００〜２００μ
ｍの方形のＦで示す単位パターンを基準にし、該単位パ
ターンを縦横に繰返し配列している。また、このフォト
マスクは図２（ｂ）に示すように鏡面反転を利用して設
計したフォトマスクでもよい。

【００２８】さらに、これら以外に、表示部分全体でラ
ンダムな屈折率分布になるようなフォトマスクでもよ
い。

【００２９】また、この実施例ではフォトマスクを一枚
使用してランダムな屈折率の分布を形成させたが、複数
のマスクを積層して露光を一回させて作製させることも
可能であり、複数のマスクを１枚ずつ露光する操作を複
数回行って作製させることも可能である。

【００３０】また、光の照射量と屈折率とは、例えば図
３に示すような相関関係があり、光の照射量が大きけれ
ば、屈折率の変化が大きくなるという結果が得られてい
る。このことにより、光の照射量を変化させることによ
り屈折率を変化させることが可能である。

【００３１】次に、オーブンで９５℃、５時間の再焼成
を行って、図１の（ｄ）に示すように、屈折率が異なる
領域を有する有機材料膜２３を形成した反射拡散板２０
が完成する。

【００３２】このようにして得られた反射拡散板２０の
反射特性の測定方法を図４に示す。反射拡散板２０を実
際の液晶表示装置に用いる場合と同じ条件にするため
に、液晶層とガラス基板の屈折率はいずれも約１．５と
ほぼ等しいので、反射拡散板２０上に屈折率１．５の紫
外線硬化接着樹脂４２を用いてガラス基板４３を密着さ
せて、測定装置４０を作製する。

【００３３】ガラス基板４３の上部には、光の強度を測
定するフォトマルチメーター４５が配置されている。フ
ォトマルチメータ４５は、反射拡散板２０に対して入射
角θで入射する入射光４４のうち、反射拡散板２０によ
って測定装置４０の法線方向に反射する散乱光４６を検
出するように、反射拡散板２０の法線方向に固定されて
いる。

【００３４】測定装置４０に入射される入射光４４の入
射角θを変化させて反射拡散板２０による法線方向の散
乱光４６を測定することにより、反射特性が得られる。

【００３５】上述した反射拡散板の製造条件を変化させ
て、反射特性が異なる反射拡散板を作製し、その反射特
性を測定した結果を図５に示す。図５において、入射角
θをもって入射する光の反射強度はθ＝０°の線に対す
る角度θの方向に原点０からの距離として表される。白
丸で示す反射特性曲線は標準白色板（酸化マグネシウ
ム）について測定したものである。反射特性３１は指向
性の強い反射拡散板を示し、反射特性３３は散乱性の強
い反射拡散板を示し、反射特性３２はそれらの中間の反
射特性をもつ反射拡散板を示す。例えば、反射特性３３
の反射拡散板はθが約±４０°の範囲で標準白色板より
反射特性がよく、明るい表示が得られ、周囲光を有効に
利用していることがわかる。

【００３６】上記の方法で作製した反射拡散板を用いた
反射型液晶表示装置の断面図を図６に示す。反射拡散板
側基板５６上には、ポリイミドをスピンコータで塗布し
た後、焼成することにより配向膜５１を形成する。ガラ
ス（コーニング製７０５９）などから成る絶縁性の対向
基板５２に、ＩＴＯ膜（ｉｎｄｉｕｍ ｔｈｉｎ ｏｘ
ｓｉｄｅ）５３が膜厚０．１μｍで形成され、ストライ
プ電極として所望の形状にパターニングされ、これを対
向電極とする。その上に反射拡散板側基板５６と同様の
方法で配向膜５１を形成する。上下の両配向膜５１・５
１はフェルトでラビング処理を行う。

【００３７】対向基板５２と反射拡散板側基板５６を例
えば６μｍのスペーサを混入した接着性のシール材５７
を用いてラビング方向が逆向きになるように貼合せ、真
空脱気することにより液晶５４（メルク社製：ＺＬＩ２
４５９）を注入した後、注入口を樹脂で封止する。次
に、光の入射側に位置する対向基板５２の外側に偏光板
５５を設置して、反射型液晶表示装置５０が完成する。

【００３８】本反射型液晶表示装置によれば、良好な反
射特性が得られ、均一な表示で白表示時に極めて明る
く、コントラストも高い見やすい表示が得らる。

【００３９】（実施例２）本発明の第２の実施例である
反射型液晶表示装置について以下に説明する。実施例２
である表面がほぼ平坦で屈折率の異なる分布を有する膜
を使用した反射拡散板６０の反射拡散板形成工程を図７
に示す。

【００４０】まず、図７の（ａ）に示すように、実施例
１と同様にガラスなどから成る絶縁性の基板６１上に反
射膜６２を均一な厚さに形成する。

【００４１】次に、図７の（ｂ）に示すように、有機材
料膜６３ａとして、クロロメタクリレートにドーパント
としてメチルメタクリレートを加えた感光性共重合体
と、４重量％のトルエン溶液との混合液を、基板６１上
にスピンコートで均一に塗布する。塗布後、オーブンで
６０℃、３０分焼成する。

【００４２】次に、図７の（ｃ）に示すように、所定の
フォトマスク６４を介して紫外光（ＵＶ光）６５を照射
する。このフォトマスク６４により、紫外光（ＵＶ光）
６５が照射される部分と照射されない部分ができるた
め、上記の有機材料膜６３ｂに屈折率が異なる領域を形
成できる。

【００４３】照射後、オーブンで９５℃、５時間の再焼
成を行って、図７の（ｄ）に示すような有機材料膜６３
が完成する。その後、ＩＴＯ膜６６を０．１μｍの膜厚
で形成し、ストライプ電極として所望の形状にパターニ
ングを行い、これを反射電極６６とする反射拡散板６０
が完成する。

【００４４】この構造にすることで、絶縁層による電圧
ロスがなく、液晶層に有効に電圧印加することが可能に
なる。

【００４５】上記の方法で作成した反射拡散板を用いた
反射型液晶表示装置の断面図を図８に示す。反射拡散板
側基板７６上には、ポリイミドをスピンコータで塗布し
た後、焼成することにより配向膜７１を形成する。ガラ
ス（コーニング製７０５９）などから成る絶縁性の対向
基板７２に、ＩＴＯ膜（ｉｎｄｉｕｍ ｔｈｉｎ ｏｘ
ｓｉｄｅ）７３が膜厚０．１μｍで形成され、ストライ
プ電極として所望の形状にパターニングされ、これを対
向電極とする。その上に反射拡散板側基板７６と同様の
方法で配向膜７１を形成する。上下の両配向膜７１、７
１はフェルトでラビング処理を行う。

【００４６】対向基板７２と反射拡散板側基板７６を例
えば６μｍのスペーサを混入した接着性のシール材７７
を用いてラビング方向が逆向きになるように貼合せ、真
空脱気することにより液晶７４（メルク社製：ＺＬＩ２
４５９）を注入した後、注入口を樹脂で封止する。次
に、光の入射側に位置する対向基板７２の外側に偏光板
７５を設置して、反射型液晶表示装置７０が完成する。

【００４７】本実施例の反射型液晶表示装置によれば、
良好な反射特性が得られ、かつ、低電圧駆動が可能で明
るい高コントラストな反射型液晶表示が可能となる。

【００４８】（実施例３）本発明の第３の実施例である
反射拡散板およびこれを用いた反射型液晶表示装置につ
いて説明する。実施例３である表面がほぼ平坦で屈折率
の異なる分布を有する膜を使用した反射拡散板８０の形
成工程を図９に示す。

【００４９】まず、図９の（ａ）に示すように、ガラス
（コーニング社製７０５９）などから成る絶縁性の基板
８１に反射膜８２としてアルミニウムを３００ｎｍの均
一な厚さにスパッタリングして形成する。反射膜８２は
アルミニウムに限定されるものではなく、Ｔｉ，Ｔａ，
Ｃｕ，Ａｇ，Ｐｔなどの他の金属でもよく、またスパッ
タ法の他に蒸着などの方法で形成してもよい。また、反
射膜の膜厚も光を充分反射する範囲であればよい。この
後、アルミニウムをストライプ電極にパターニングし、
これを反射電極とする。

【００５０】次に、図９の（ｂ）に示すように、有機材
料膜８３として、ポリイミド樹脂（大日本インキ社製Ｈ
ＮＡ−１０１）とアクリル系樹脂（日東電工製Ｔｄ−１
１）を混合したものを上記アルミ反射電極８２上にスピ
ンコートで均一に塗布する。その混合する樹脂の屈折率
は波長６００ｎｍでそれぞれ１．３７と１．５９であ
り、この屈折率の違いにより、光の拡散効果が生じる。

【００５１】このとき、樹脂の違いによる屈折率の差を
変化させるか、あるいは膜厚を変化させることにより、
光の拡散強度を制御することが可能である。屈折率差に
より透過率がどのような変化するのかを図１０に示す。
図１０により、屈折率差が０．１より小さければほとん
どの光が透過してしまい、屈折率差が０．１以上であれ
ば光の散乱度が高くなっているのがわかる。よって、屈
折率の差は好ましくは０．１以上あればよい。有機材料
膜８３の膜厚は好ましくは０．５μｍ〜１０μｍがよ
い。膜厚が０．５μｍより薄ければ膜が形成しにくく、
１０μｍより厚ければ、電圧降下が問題となる。その場
合には、有機材料膜８３上にＩＴＯ膜を形成し、これを
表示電極とすることにより、電圧降下の問題を回避でき
る。

【００５２】また、実施例３では、有機材料膜８３とし
て屈折率が異なる絶縁性の樹脂を２種類混合したが、屈
折率の異なる絶縁性の樹脂を少なくとも２種類以上混合
したものでもよい。

【００５３】また、樹脂の種類としては、本実施例３で
使用したポリイミド樹脂やアクリル系樹脂に限定される
ものではなく、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂など
でもよい。

【００５４】また、有機材料膜８３である光拡散層は必
ずしも反射板８２上に設ける必要はなく、上部基板に設
けても同様の効果が得られ、上部基板電極の下に、設け
た場合にも、有機材料膜８３である光拡散層による電圧
降下を防ぐことができる。

【００５５】このようにして得られた反射拡散板８０の
反射特性の測定方法を図１１に示す。反射拡散板８０を
実際の液晶表示装置に用いる場合と同じ条件にするため
に、液晶層とガラス基板の屈折率はいずれも約１．５と
ほぼ等しいので、反射拡散板８０上に屈折率１．５の紫
外線硬化接着樹脂８４を用いてガラス基板８５を密着さ
せて、測定装置８９を作製する。

【００５６】ガラス基板８５の上部には、光の強度を測
定するフォトマルチメーター４５が配置されている。フ
ォトマルチメータ４５は、反射拡散板８０に対して入射
角θで入射する入射光４４のうち、反射拡散板８０によ
って測定装置８９の法線方向に反射する散乱光４６を検
出するように、反射拡散板８０の法線方向に固定されて
いる。

【００５７】測定装置８９に入射される入射光４４の入
射角θを変化させて反射拡散板８０による法線方向の散
乱光４６を測定することにより、反射特性が得られる。

【００５８】上述した反射拡散板の製造条件を変化させ
て、反射特性が異なる反射拡散板を作製し、その反射特
性を測定した結果を図１２に示す。図１２において、入
射角θをもって入射する光の反射強度はθ＝０°の線に
対する角度θの方向に原点０からの距離として表され
る。白丸で示す反射特性曲線は標準白色板（酸化マグネ
シウム）について測定したものである。反射特性８６は
指向性の強い反射拡散板を示し、反射特性８８は散乱性
の強い反射拡散板を示し、反射特性８６はそれらの中間
の反射特性をもつ反射拡散板を示す。例えば、反射特性
８８の反射拡散板はθが約±４０°の範囲で標準白色板
より反射特性がよく、明るい表示が得られ、周囲光を有
効に利用していることがわかる。

【００５９】上記の方法で作製した反射拡散板を用いた
反射型液晶表示装置の断面図を図１３に示す。反射拡散
板側基板９６上には、ポリイミドをスピンコータで塗布
した後、焼成することにより配向膜９１を形成する。ガ
ラス（コーニング製７０５９）などから成る絶縁性の対
向基板９２に、ＩＴＯ膜（ｉｎｄｉｕｍ ｔｈｉｎｏｘ
ｓｉｄｅ）９３が膜厚０．１μｍで形成され、ストライ
プ電極として所望の形状にパターニングされ、これを対
向電極とする。その上に反射拡散板側基板９６と同様の
方法で配向膜９１を形成する。上下の両配向膜９１・９
１はフェルトでラビング処理を行う。

【００６０】対向基板５２と反射拡散板側基板５６を例
えば６μｍのスペーサを混入した接着性のシール材９７
をスクリーン印刷して、ラビング方向が左２４０°ツイ
ストになるように貼合せ、真空脱気することにより、カ
イラル剤（メルク社製：ｓ−８１１）を混入した液晶９
４（メルク社製：ＺＬＩ４４２７）を注入した後、注入
口を樹脂で封止する。この液晶層のリタデーション値は
６７６ｎｍである。

【００６１】次に、光の入射側に位置する対向基板９２
の外側にリタデーション値が４００ｎｍの位相差板９５
と偏光板９８を設置し、反射型液晶表示装置９０が完成
する。このとき、偏光板９８の偏光軸と光の入射側基板
のラビング方向との成す角を反時計回りに１０°に設定
し、また位相差板の遅相軸と光の入射側基板のラビング
方向との成す角度を直交するように設定している。

【００６２】このようにして作製した本反射型液晶表示
装置９０と従来の凹凸付きの反射板を用いた反射型液晶
表示装置の電気光学特性を測定した結果を図１４に示
す。図１４において、電気光学特性１０１は本発明の反
射型液晶表示装置９０の特性を示し、電気光学特性１０
２は従来の凹凸付きの反射板を用いた反射型液晶表示装
置の特性を示している。図１４より、電気光学特性の急
峻性が向上し、反射率の範囲も広くなっていることがわ
かる。

【００６３】本反射型液晶表示装置によれば、反射板の
凹凸がない構造のため、電気光学特性の急峻性が向上
し、その結果、表示コントラスト比を改善することがで
きる。さらに、白表示に極めて明るく、コントラストも
高い見やすい表示が得られる。また、本実施例では反射
板として、鏡面反射板を利用したが、散乱性の反射板を
用いてもよく、これを用いた場合はさらに散乱効果が顕
著になる。

【００６４】また、本実施例では配向膜に屈折率の異な
る微粒子あるいは樹脂を配向膜の機能を損なわない程度
に混入することにより、有機材料膜である光拡散層と配
向膜を１つの層で構成することにより、プロセスの簡略
化が実現できる。

【００６５】なお、本実施例では偏光板付きの反射型Ｓ
ＴＮモードを例に説明したが、表面に凹凸があることで
配向に影響のあるモード、例えばゲストホストモードの
ような光吸収モード、高分子分散型液晶表示装置のよう
な光散乱モード、強誘電型液晶表示装置で使用される複
屈折表示モードなどのいずれにも適用可能である。

【００６６】また、スイッチング素子としてＴＦＴ（Ｔ
ｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）、ＭＩＭ
（Ｍｅｔａｌ Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ Ｍｅｔａｌ）、ダ
イオード、バリスタ等を用いたアクティブマトリクス基
板にも適用することができる。また、カラーフィルター
や各種色素を組合せることでカラー表示への適用も可能
である。

【００６７】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、作製条
件を変化させることにより指向性、散乱性を精度良く制
御できる良好な反射拡散板が得られる。

【００６８】また、この反射拡散板を反射型液晶表示装
置に用いることで、液晶が良好な配向性を有し、良好な
コントラトが得られる。

【００６９】さらに、良好な反射電極のパターニング性
が得られ、液晶表示装置の低電圧化を図ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は実施例１の反射拡散板の断面および形成
工程を示す図である。

【図２】図２はフォトマスクの１例を示す図である。

【図３】図３は光の照射量と屈折率の変化量の特性を示
す図である。

【図４】図４は実施例１の反射拡散板の反射特性測定法
を示す図である。

【図５】図５は実施例１の反射拡散板の反射特性を示す
図である。

【図６】図６は実施例１の反射拡散板を用いた反射型液
晶表示装置の断面図である。

【図７】図７は実施例２の反射拡散板の形成工程を示す
図である。

【図８】図８は実施例２の反射拡散板を用いた反射型液
晶表示装置の断面図である。

【図９】図９は実施例３の反射拡散板の断面および形成
工程を示す図である。

【図１０】図１０は屈折率差と透過率の光学特性を示す
図である。

【図１１】図１１は実施例３の反射拡散板の反射特性測
定法を示す図である。

【図１２】図１２は実施例３の反射拡散板の反射特性を
示す図である。

【図１３】図１３は実施例３の反射拡散板を用いた反射
型液晶表示装置の断面図である。

【図１４】図１４は反射型液晶表示装置の電気光学特性
を示す図である。

【図１５】図１５は従来技術である反射型液晶表示装置
の断面図である。

【図１６】図１６は図１５に示されている基板の平面図
である。

【符号の説明】

２０，６０，８０ 反射拡散板 ２１，４３，６１，８１，１３１，１４５ 基板 ２２，６２，８２ 反射膜 ２３，６３，８３ 有機材料膜 ２４，６４ フォトマスク ２５，６５ 紫外光（ＵＶ光） ３１，３２，３３，８６，８７，８８ 反射拡散板の反
射特性の特性曲線 ４０，８９ 測定装置 ４２，８４ 屈折率１．５の紫外線硬化接着樹脂 ４５ フォトマルチメーター ４４ 入射光 ４６ 散乱光 ５０，７０，９０，１３０ 反射型液晶表示装置 ５１，７１，９１，１４４，１４８ 配向膜 ５２，７２，９２ 対向基板 ５３，７３ ９３ ＩＴＯ ５４，７４ ９４ 液晶 ５５，７５，９８ 偏光板 ５６，７６，９６ 反射拡散板側基板 ５７，７７，９７ シール材 ６６，９３，ＩＴＯ膜 ９５ 位相差板 １０１ 実施例３の反射型液晶表示装置の電気光学特性 １０２ 従来の反射型液晶表示装置の電気光学特性 １３８ 反射電極 １４０ ＴＦＴ １４２ 有機絶縁膜 １４２ａ 円形の凸部 １４６ カラーフィルター １５２ 反射板

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 反射層上に、表面がほぼ平坦で面内に屈
   折率分布を有する拡散層を形成したことを特徴とする反
   射拡散板。
2. 【請求項２】 液晶層を介在して対向配置される一対の
   基板のうちの少なくともどちらかの基板が透明基板であ
   り、一方の基板上の液晶層側に他方の基板側からの入射
   光を反射する反射層を形成し、該他方の基板の液晶層側
   にほぼ全面にわたって透光性を有する共通電極を形成し
   て構成される反射型液晶表示装置において、 前記一方の基板上の反射層と他方の基板の間に、表面が
   ほぼ平坦で面内に屈折率分布を有する拡散層を形成した
   ことを特徴とする反射型液晶表示装置。