JPH08148407A - 照明光学装置 - Google Patents
照明光学装置Info
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- JPH08148407A JPH08148407A JP6286217A JP28621794A JPH08148407A JP H08148407 A JPH08148407 A JP H08148407A JP 6286217 A JP6286217 A JP 6286217A JP 28621794 A JP28621794 A JP 28621794A JP H08148407 A JPH08148407 A JP H08148407A
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- lens
- illumination
- mirror
- light source
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
- G03F7/701—Off-axis setting using an aperture
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】高い照明効率を確保しながら通常照明や傾斜照
明等の任意の照明に十分に対応し得る高性能な照明光学
装置を提供の提供にある。 【構成】放電灯からの光を回転対称型集光鏡にて集光
し、その集光光をコリメート光学系にてほぼ平行な光に
変換して、その平行光をオプティカルインテグレータに
て複数に分割して複数の2次光源を形成した後、コンデ
ンサー光学系を介して2次光源からの光を照明する照明
光学装置において、その複数の2次光源の光強度分布を
所定の光強度分布に整形する2次光源分布整形手段を配
置し、上記放電灯における陽極と陰極との2つの電極を
所定の関係で配置すると共に、上記コリメート光学系に
より形成される回転対称型集光鏡の反射面の像の位置に
対してオプティカルインテグレータの入射面を所定位置
に配置した。
明等の任意の照明に十分に対応し得る高性能な照明光学
装置を提供の提供にある。 【構成】放電灯からの光を回転対称型集光鏡にて集光
し、その集光光をコリメート光学系にてほぼ平行な光に
変換して、その平行光をオプティカルインテグレータに
て複数に分割して複数の2次光源を形成した後、コンデ
ンサー光学系を介して2次光源からの光を照明する照明
光学装置において、その複数の2次光源の光強度分布を
所定の光強度分布に整形する2次光源分布整形手段を配
置し、上記放電灯における陽極と陰極との2つの電極を
所定の関係で配置すると共に、上記コリメート光学系に
より形成される回転対称型集光鏡の反射面の像の位置に
対してオプティカルインテグレータの入射面を所定位置
に配置した。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は原版のパターンを感光基
板上に投影露光して、半導体素子などを製造するための
投影露光装置に好適な照明光学装置に関するものであ
る。
板上に投影露光して、半導体素子などを製造するための
投影露光装置に好適な照明光学装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来においてこの種の照明光学装置とし
ては図8に示す如き構成が知られている。楕円鏡2の第
1焦点位置F1に配置された超高圧水銀ランプ1から発
せられた光は楕円鏡2によって反射集光され、楕円鏡2
の第2焦点F2の位置A1に集光された後、コリメータ
レンズ3によってコリメートされほぼ平行な光束に変換
されてオプティカルインテグレータとしてのフライアイ
レンズ4に入射する。ここで、フライアイレンズ4を入
射した光は、このフライアイレンズ4により複数の光に
分割されて、フライアイレンズ4を構成する各レンズ素
子(41〜43)の射出面4b側の位置A2にそれぞれ
2次光源が形成される。これらの複数の2次光源からの
光は円形開口を持つ開口絞り5により制限された後、コ
ンデンサーレンズ6により集光され被照射面としてのレ
チクルRを重畳的に照明する。以上の照明光学装置によ
って、均一照明されたレチクルR上の回路パターンは、
投影光学系を介して、レジストが塗布されたウエハ等の
基板W上に投影露光される。このとき、フライアイレン
ズ4により形成される複数の2次光源又は開口絞り5の
位置A2は、投影光学系7内の瞳位置A3に配置された
開口絞り7aと共役な位置にあり、複数の2次光源の像
が開口絞り7a上に形成されるため、所謂ケーラー照明
が達成されている。
ては図8に示す如き構成が知られている。楕円鏡2の第
1焦点位置F1に配置された超高圧水銀ランプ1から発
せられた光は楕円鏡2によって反射集光され、楕円鏡2
の第2焦点F2の位置A1に集光された後、コリメータ
レンズ3によってコリメートされほぼ平行な光束に変換
されてオプティカルインテグレータとしてのフライアイ
レンズ4に入射する。ここで、フライアイレンズ4を入
射した光は、このフライアイレンズ4により複数の光に
分割されて、フライアイレンズ4を構成する各レンズ素
子(41〜43)の射出面4b側の位置A2にそれぞれ
2次光源が形成される。これらの複数の2次光源からの
光は円形開口を持つ開口絞り5により制限された後、コ
ンデンサーレンズ6により集光され被照射面としてのレ
チクルRを重畳的に照明する。以上の照明光学装置によ
って、均一照明されたレチクルR上の回路パターンは、
投影光学系を介して、レジストが塗布されたウエハ等の
基板W上に投影露光される。このとき、フライアイレン
ズ4により形成される複数の2次光源又は開口絞り5の
位置A2は、投影光学系7内の瞳位置A3に配置された
開口絞り7aと共役な位置にあり、複数の2次光源の像
が開口絞り7a上に形成されるため、所謂ケーラー照明
が達成されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】以上においては、被照
射面に対して通常照明を行う装置について述べたが、近
年においては、図8に示す如き構成に基づいて、フライ
アイレンズ4により形成される2次光源の形状を変形さ
せて、レチクルRを傾斜照明することにより、投影光学
系7が本来持つ解像力並びに焦点深度をさらに向上させ
ようとする技術が注目されている。
射面に対して通常照明を行う装置について述べたが、近
年においては、図8に示す如き構成に基づいて、フライ
アイレンズ4により形成される2次光源の形状を変形さ
せて、レチクルRを傾斜照明することにより、投影光学
系7が本来持つ解像力並びに焦点深度をさらに向上させ
ようとする技術が注目されている。
【0004】例えば、フライアイレンズ4の射出側に配
置されている開口絞り5を、図9の(a)に示す如き輪
帯形状(ドーナツ状)の開口部を設けて輪帯形状の2次
光源を形成し、レチクルRを傾斜照明することにより、
投影光学系7の解像力や焦点深度を改善しようとするも
のが特開平5−175101等にて知られている。な
お、以下においては、輪帯形状の2次光源を形成して被
照明物体を傾斜照明する照明法を輪帯照明法と呼ぶ。
置されている開口絞り5を、図9の(a)に示す如き輪
帯形状(ドーナツ状)の開口部を設けて輪帯形状の2次
光源を形成し、レチクルRを傾斜照明することにより、
投影光学系7の解像力や焦点深度を改善しようとするも
のが特開平5−175101等にて知られている。な
お、以下においては、輪帯形状の2次光源を形成して被
照明物体を傾斜照明する照明法を輪帯照明法と呼ぶ。
【0005】また、フライアイレンズ4の射出側に配置
されている開口絞り5を、図9の(b)に示す如き偏心
した4つの開口部を設けて4つの偏心した2次光源を形
成し、レチクルRを傾斜照明(以下、特殊傾斜照明と呼
ぶ。)することにより、上記輪帯状の照明法よりも大き
な投影光学系7の解像力や焦点深度を得ようとするもの
が特開平4−101148等にて知られている。なお、
以下においては、光軸に対して複数の偏心した2次光源
を形成して被照明物体を傾斜照明する照明法を特殊傾斜
法と呼ぶ。
されている開口絞り5を、図9の(b)に示す如き偏心
した4つの開口部を設けて4つの偏心した2次光源を形
成し、レチクルRを傾斜照明(以下、特殊傾斜照明と呼
ぶ。)することにより、上記輪帯状の照明法よりも大き
な投影光学系7の解像力や焦点深度を得ようとするもの
が特開平4−101148等にて知られている。なお、
以下においては、光軸に対して複数の偏心した2次光源
を形成して被照明物体を傾斜照明する照明法を特殊傾斜
法と呼ぶ。
【0006】しかしながら、以上の如き従来の技術にお
いてはフライアイレンズの入射面4aでの光強度分布が
図10の(a)に示す如く、中央部では高く周辺部では
次第に低くなる形状を呈しており、フライアイレンズの
射出面4b側に形成される複数の2次光源でも図10の
(a)の示す如き光強度分布の傾向を持つ。この事につ
いて具体的に説明すると、まず、フライアイレンズ4は
図8に示す如く3つのレンズ素子(41〜43)を有し
ており、レンズ素子41、42、43によって射出側に
形成される光源像の光強度分布は、図4の(b)の実線
で示す如く、それぞれd1、d2、d3となる。そし
て、図10の(b)の実線で示す如く、フライアイレン
ズ4の周辺部に位置するレンズ素子41及び43によっ
てそれぞれ形成される光源像の光強度分布(d1、d
3)は、フライアイレンズ4の中心部に位置するレンズ
素子42によって形成される光源像の光強度分布d2よ
りも弱くなり、各レンズ素子(41〜43)により形成
される光強度のピークを結んだ包絡線は、図10の
(b)の点線で示す如く、図10の(a)に示す如きフ
ライアイレンズ4の入射面4a上での光強度分布と同じ
傾向の光強度分布となる。
いてはフライアイレンズの入射面4aでの光強度分布が
図10の(a)に示す如く、中央部では高く周辺部では
次第に低くなる形状を呈しており、フライアイレンズの
射出面4b側に形成される複数の2次光源でも図10の
(a)の示す如き光強度分布の傾向を持つ。この事につ
いて具体的に説明すると、まず、フライアイレンズ4は
図8に示す如く3つのレンズ素子(41〜43)を有し
ており、レンズ素子41、42、43によって射出側に
形成される光源像の光強度分布は、図4の(b)の実線
で示す如く、それぞれd1、d2、d3となる。そし
て、図10の(b)の実線で示す如く、フライアイレン
ズ4の周辺部に位置するレンズ素子41及び43によっ
てそれぞれ形成される光源像の光強度分布(d1、d
3)は、フライアイレンズ4の中心部に位置するレンズ
素子42によって形成される光源像の光強度分布d2よ
りも弱くなり、各レンズ素子(41〜43)により形成
される光強度のピークを結んだ包絡線は、図10の
(b)の点線で示す如く、図10の(a)に示す如きフ
ライアイレンズ4の入射面4a上での光強度分布と同じ
傾向の光強度分布となる。
【0007】従って、図10の(a)に示す如き周辺部
に輪帯状の開口を持つ開口絞りまたは図10の(b)に
示す如き周辺部に4つの偏心開口を持つ開口絞りを複数
の2次光源が形成される位置に配置した場合には、光束
の利用効率が極端に悪化し、この結果、レチクルR等の
被照射面上の照度が大幅に低下して、露光時間が長くな
り、スループットの大幅な低下を招くという問題があ
る。
に輪帯状の開口を持つ開口絞りまたは図10の(b)に
示す如き周辺部に4つの偏心開口を持つ開口絞りを複数
の2次光源が形成される位置に配置した場合には、光束
の利用効率が極端に悪化し、この結果、レチクルR等の
被照射面上の照度が大幅に低下して、露光時間が長くな
り、スループットの大幅な低下を招くという問題があ
る。
【0008】本発明は、上記の問題を解決し、高い照明
効率を確保しながら通常照明や傾斜照明等の任意の照明
に十分に対応し得る高性能な照明光学装置を提供するこ
とを目的としている。
効率を確保しながら通常照明や傾斜照明等の任意の照明
に十分に対応し得る高性能な照明光学装置を提供するこ
とを目的としている。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、光を発する放電灯と、その放電灯からの光
を反射集光して光源像を形成する回転対称型集光鏡と、
その回転対称型集光鏡により形成された光源像からの光
をコリメートしてほぼ平行な光に変換するコリメート光
学系と、そのコリメート光学系からの光を複数に分割し
て複数の2次光源を形成するオプティカルインテグレー
タと、そのオプティカルインテグレータにより形成され
る複数の2次光源からの光を集光して被照射面を重畳的
に照明するコンデンサー光学系とを有する照明光学装置
において、上記複数の2次光源の光強度分布を所定の光
強度分布に整形する2次光源分布整形手段を配置し、上
記放電灯は、回転対称型集光鏡の回転軸上に沿って互い
に対向して配置された陽極と陰極との2つの電極を有
し、その陰極に対して回転対称型集光鏡の頂点側に陽極
を配置するとともに、上記コリメート光学系により形成
される回転対称型集光鏡の反射面の像の位置よりも放電
灯側へディフォーカスした位置にオプティカルインテグ
レータの入射面を配置したものである。
するために、光を発する放電灯と、その放電灯からの光
を反射集光して光源像を形成する回転対称型集光鏡と、
その回転対称型集光鏡により形成された光源像からの光
をコリメートしてほぼ平行な光に変換するコリメート光
学系と、そのコリメート光学系からの光を複数に分割し
て複数の2次光源を形成するオプティカルインテグレー
タと、そのオプティカルインテグレータにより形成され
る複数の2次光源からの光を集光して被照射面を重畳的
に照明するコンデンサー光学系とを有する照明光学装置
において、上記複数の2次光源の光強度分布を所定の光
強度分布に整形する2次光源分布整形手段を配置し、上
記放電灯は、回転対称型集光鏡の回転軸上に沿って互い
に対向して配置された陽極と陰極との2つの電極を有
し、その陰極に対して回転対称型集光鏡の頂点側に陽極
を配置するとともに、上記コリメート光学系により形成
される回転対称型集光鏡の反射面の像の位置よりも放電
灯側へディフォーカスした位置にオプティカルインテグ
レータの入射面を配置したものである。
【0010】これにより、オプティカルインテグレータ
に入射する光束及びオプティカルインテグレータにより
形成される2次光源における周辺部の光強度分布を大幅
に増大させることができるため、通常照明や傾斜照明等
の任意の照明法に対しても、高い照明効率のもとで被照
射面を照明することができる。従って、レチクルのパタ
ーンを投影光学系によりウエハに転写する露光装置の照
明光学装置として応用した場合には、通常照明や傾斜照
明等の任意の照明法に対して高いスループットのもとで
露光が実現される。
に入射する光束及びオプティカルインテグレータにより
形成される2次光源における周辺部の光強度分布を大幅
に増大させることができるため、通常照明や傾斜照明等
の任意の照明法に対しても、高い照明効率のもとで被照
射面を照明することができる。従って、レチクルのパタ
ーンを投影光学系によりウエハに転写する露光装置の照
明光学装置として応用した場合には、通常照明や傾斜照
明等の任意の照明法に対して高いスループットのもとで
露光が実現される。
【0011】そして、以上の構成に基づいて、2次光源
分布整形手段は、オプティカルインテグレータの射出面
またはその近傍に切り換え可能に設けられた第1及び第
2開口絞りを有し、一方の第1開口絞りは、コンデンサ
ー光学系の光軸に対して回転対称な円形状の開口を有
し、他方の第2開口絞りは、コンデンサー光学系の光軸
に対して偏心した周辺の領域に開口部を有すると共に、
コンデンサー光学系の光軸を通る中心の領域に遮光部又
は減光部を有することが好ましい。これにより、簡素な
構成としながらも、高い照明効率のもとで被照明面に対
して通常照明及び傾斜照明が選択的に実現できるため、
本発明の装置を露光装置の照明装置にに応用した場合に
は、通常照明や傾斜照明等の各照明法を任意に選択して
も、高いスループットのもとで露光が達成し得る。
分布整形手段は、オプティカルインテグレータの射出面
またはその近傍に切り換え可能に設けられた第1及び第
2開口絞りを有し、一方の第1開口絞りは、コンデンサ
ー光学系の光軸に対して回転対称な円形状の開口を有
し、他方の第2開口絞りは、コンデンサー光学系の光軸
に対して偏心した周辺の領域に開口部を有すると共に、
コンデンサー光学系の光軸を通る中心の領域に遮光部又
は減光部を有することが好ましい。これにより、簡素な
構成としながらも、高い照明効率のもとで被照明面に対
して通常照明及び傾斜照明が選択的に実現できるため、
本発明の装置を露光装置の照明装置にに応用した場合に
は、通常照明や傾斜照明等の各照明法を任意に選択して
も、高いスループットのもとで露光が達成し得る。
【0012】また、コリメート光学系は、回転対称型集
光鏡の反射面の像を形成すると共に、回転対称型集光鏡
により形成される光源像からの光をコリメートするコリ
メートレンズと、そのコリメートレンズにより形成され
る回転対称型集光鏡の反射面の像を再結像するリレーレ
ンズとを有する構成としても良い。
光鏡の反射面の像を形成すると共に、回転対称型集光鏡
により形成される光源像からの光をコリメートするコリ
メートレンズと、そのコリメートレンズにより形成され
る回転対称型集光鏡の反射面の像を再結像するリレーレ
ンズとを有する構成としても良い。
【0013】
【作 用】次に、本発明の原理について説明する。図1
0の(a)及び(b)では、オプティカルインテグレー
タとしてのフライアイレンズの前後において、光強度分
布が中心部で強く周辺部へ行くに従って弱くなる事につ
いて述べたが、この問題について検討を重ねていった結
果、回転対称型集光鏡として、例えば楕円鏡2の第1焦
点位置に配置されている放電灯としての超高圧水銀ラン
プ1の電極の形状に伴う配光特性が起因することが判明
した。
0の(a)及び(b)では、オプティカルインテグレー
タとしてのフライアイレンズの前後において、光強度分
布が中心部で強く周辺部へ行くに従って弱くなる事につ
いて述べたが、この問題について検討を重ねていった結
果、回転対称型集光鏡として、例えば楕円鏡2の第1焦
点位置に配置されている放電灯としての超高圧水銀ラン
プ1の電極の形状に伴う配光特性が起因することが判明
した。
【0014】この事を具体的に説明すると、超高圧水銀
ランプの電極の先端部は、図11に示す如く、陰極1a
では針状の形状を有する一方、陽極1bでは円錐の頂点
を含む上部を切り欠いた形状を有しており、超高圧水銀
ランプの陽極は一般的に陰極に比べて大きくなるように
構成されている。そのため、超高圧水銀ランプの2つの
電極に高電圧が印加されると、2つの電極での放電によ
り生成される光の配光特性は、図11に示す如く、水平
方向(零度)から陰極1a側の45度付近まではほぼ一
定の配光を有するが、陽極1b側では30度付近を過ぎ
ると陽極自身のけられにより急激に光が減衰する。
ランプの電極の先端部は、図11に示す如く、陰極1a
では針状の形状を有する一方、陽極1bでは円錐の頂点
を含む上部を切り欠いた形状を有しており、超高圧水銀
ランプの陽極は一般的に陰極に比べて大きくなるように
構成されている。そのため、超高圧水銀ランプの2つの
電極に高電圧が印加されると、2つの電極での放電によ
り生成される光の配光特性は、図11に示す如く、水平
方向(零度)から陰極1a側の45度付近まではほぼ一
定の配光を有するが、陽極1b側では30度付近を過ぎ
ると陽極自身のけられにより急激に光が減衰する。
【0015】そして、従来においては、図12に示す如
く、超高圧水銀ランプの陰極1aと陽極1bとの2つの
電極は、回転対称型集光鏡としての楕円鏡2の回転軸
(又は光軸Ax)上に沿った第1焦点F1の近傍に対向
して配置され、この陰極1aは、陽極1bに対して楕円
鏡の頂点Oの側に位置していた。このため、図12に示
す如く、超高圧水銀ランプの電極から発する垂直方向
(零度)から陰極1a側の45度付近まで一定の配光特
性を持つ光は、楕円鏡2の内側部分2aで反射された
後、コリメータレンズ4によって集光されてフライアイ
レンズ4の中心部を照明する一方、超高圧水銀ランプの
電極から発する垂直方向(零度)から陽極1b側の30
度付近までほぼ一定の配光特性を持つ光は、楕円鏡2の
外側部分2bで反射された後、コリメータレンズ4によ
って集光されてフライアイレンズ4の周辺部を照明する
ことが理解できる。
く、超高圧水銀ランプの陰極1aと陽極1bとの2つの
電極は、回転対称型集光鏡としての楕円鏡2の回転軸
(又は光軸Ax)上に沿った第1焦点F1の近傍に対向
して配置され、この陰極1aは、陽極1bに対して楕円
鏡の頂点Oの側に位置していた。このため、図12に示
す如く、超高圧水銀ランプの電極から発する垂直方向
(零度)から陰極1a側の45度付近まで一定の配光特
性を持つ光は、楕円鏡2の内側部分2aで反射された
後、コリメータレンズ4によって集光されてフライアイ
レンズ4の中心部を照明する一方、超高圧水銀ランプの
電極から発する垂直方向(零度)から陽極1b側の30
度付近までほぼ一定の配光特性を持つ光は、楕円鏡2の
外側部分2bで反射された後、コリメータレンズ4によ
って集光されてフライアイレンズ4の周辺部を照明する
ことが理解できる。
【0016】この結果、図10の(a)にて示した如
く、フライアイレンズ4の入射側での光強度分布が中心
部で強く周辺部へ行くに従って弱くなる事が理解され
る。そこで、本発明では、図11に示す如く、超高圧水
銀ランプの配光特性を積極的に利用しつつ、フライアイ
レンズ4に入射する入射光において、周辺部の強度分布
を中心部に対して相対的に増加させるためには、従来の
常識とは逆に超高圧水銀ランプの陽極1bを、陰極1a
に対して集光鏡の頂点Oの側に配置することが有効であ
ることを見出した。
く、フライアイレンズ4の入射側での光強度分布が中心
部で強く周辺部へ行くに従って弱くなる事が理解され
る。そこで、本発明では、図11に示す如く、超高圧水
銀ランプの配光特性を積極的に利用しつつ、フライアイ
レンズ4に入射する入射光において、周辺部の強度分布
を中心部に対して相対的に増加させるためには、従来の
常識とは逆に超高圧水銀ランプの陽極1bを、陰極1a
に対して集光鏡の頂点Oの側に配置することが有効であ
ることを見出した。
【0017】なお、その場合には、陰極側の取込み角を
拡大するために楕円鏡の有効径を大きくする事が望まし
い。しかしながら、従来の常識とは逆に超高圧水銀ラン
プの陽極1bを、陰極1aに対して集光鏡の頂点Oの側
に配置するのみでは、周辺部の強度分布を中心部に対し
て相対的に増加させる事は不十分であり、フライアイレ
ンズ4の配置条件が重要な要因となる。
拡大するために楕円鏡の有効径を大きくする事が望まし
い。しかしながら、従来の常識とは逆に超高圧水銀ラン
プの陽極1bを、陰極1aに対して集光鏡の頂点Oの側
に配置するのみでは、周辺部の強度分布を中心部に対し
て相対的に増加させる事は不十分であり、フライアイレ
ンズ4の配置条件が重要な要因となる。
【0018】この事について具体的に説明すると、ま
ず、光の利用効率という観点からのみ考えると、図13
に示すように楕円鏡2内の曲線状の反射面とフライアイ
レンズ4の入射面4aがコリメートレンズ3に関して共
役になるように構成し、フライアイレンズ4の入射面4
aに形成される楕円鏡2内の曲線状の反射面の像を平坦
(平面状)とすることが有効である。
ず、光の利用効率という観点からのみ考えると、図13
に示すように楕円鏡2内の曲線状の反射面とフライアイ
レンズ4の入射面4aがコリメートレンズ3に関して共
役になるように構成し、フライアイレンズ4の入射面4
aに形成される楕円鏡2内の曲線状の反射面の像を平坦
(平面状)とすることが有効である。
【0019】しかし、これらを完全に共役に構成した場
合、フライアイレンズ4の入射面4a上には、楕円鏡の
中抜け部分の円形状の縁2cや円形状の外枠2dの鋭い
像が形成されるため、被照射面R上の照度均一性に対し
て重大な悪影響を及ぼすことになる。そのため、コリメ
ートレンズ3によって形成される楕円鏡2の反射面の像
(平坦な像)の位置をフライアイレンズ4の入射面4a
に対して、光の利用効率がさほど悪化しない程度にデフ
ォーカスさせる必要がある。
合、フライアイレンズ4の入射面4a上には、楕円鏡の
中抜け部分の円形状の縁2cや円形状の外枠2dの鋭い
像が形成されるため、被照射面R上の照度均一性に対し
て重大な悪影響を及ぼすことになる。そのため、コリメ
ートレンズ3によって形成される楕円鏡2の反射面の像
(平坦な像)の位置をフライアイレンズ4の入射面4a
に対して、光の利用効率がさほど悪化しない程度にデフ
ォーカスさせる必要がある。
【0020】このとき、デフォーカスの方向をプラス方
向(被照明面へ向かう方向)とマイナス方向(光源へ向
かう方向)のどちらにするかによってフライアイレンズ
4の入射面4a上での強度分布が大きく異なる。その事
について、図14〜図16を参照しながら説明する。図
14は、等方的に発光する点光源Sを楕円鏡の第1焦点
F1に配置した場合における光線の様子を示した図であ
る。図14に示す如く、楕円鏡2により反射された点光
源からの光は第2焦点F2の位置A1で集光された後、
コリメートレンズ3にてほぼ平行な光束に変換される。
ここで、平面aはコリメートレンズ3によって形成され
る楕円鏡2の反射面の像面位置を示し、平面b及びcは
像面aから楕円鏡2の光軸Ax(又はコリメートレンズ
の光軸Ax)方向に沿って所定量だけデフォーカスした
面を示している。
向(被照明面へ向かう方向)とマイナス方向(光源へ向
かう方向)のどちらにするかによってフライアイレンズ
4の入射面4a上での強度分布が大きく異なる。その事
について、図14〜図16を参照しながら説明する。図
14は、等方的に発光する点光源Sを楕円鏡の第1焦点
F1に配置した場合における光線の様子を示した図であ
る。図14に示す如く、楕円鏡2により反射された点光
源からの光は第2焦点F2の位置A1で集光された後、
コリメートレンズ3にてほぼ平行な光束に変換される。
ここで、平面aはコリメートレンズ3によって形成され
る楕円鏡2の反射面の像面位置を示し、平面b及びcは
像面aから楕円鏡2の光軸Ax(又はコリメートレンズ
の光軸Ax)方向に沿って所定量だけデフォーカスした
面を示している。
【0021】この場合、コリメートレンズ3からの光束
はほぼ平行光であるので、コリメートレンズ3の被照明
面側(図14ではコリメートレンズ3の右側)に配置さ
れるフライアイレンズ4の入射面4aを平面a〜cのど
の位置に配置しても、図17の(a)に示す如く、周辺
部のみに光強度が分布するような中抜け状態の光強度分
布となる。
はほぼ平行光であるので、コリメートレンズ3の被照明
面側(図14ではコリメートレンズ3の右側)に配置さ
れるフライアイレンズ4の入射面4aを平面a〜cのど
の位置に配置しても、図17の(a)に示す如く、周辺
部のみに光強度が分布するような中抜け状態の光強度分
布となる。
【0022】次に、等方的に発光する点光源Sが第1焦
点F1の位置より光軸方向にずれた位置に配置された場
合について検討する。一般に反射鏡としての楕円鏡2は
ハーシェル条件が大きく崩れているため第1焦点位置F
1から光軸Axの方向にずれた位置に物体が配置される
と急激に球面収差が発生する。このため、例えば、点光
源Sが楕円鏡2の第1焦点F1よりも光軸Axに沿って
マイナス方向(楕円鏡2の頂点Oに近づく方向)に配置
された場合には、楕円鏡2により形成される光源像の位
置(又は集光位置)が第2焦点位置F2よりもプラス方
向(被照射面に向かう方向)へ移動すると共に負の球面
収差が発生する。従って、コリメートレンズ3を通過し
た光束は平行光ではなくなるため、コリメートレンズ3
の被照明面側に配置されるフライアイレンズ4の入射面
4aの位置に応じて、このフライアイレンズ4の入射面
4a上に形成される光強度分布が大きく変化する。
点F1の位置より光軸方向にずれた位置に配置された場
合について検討する。一般に反射鏡としての楕円鏡2は
ハーシェル条件が大きく崩れているため第1焦点位置F
1から光軸Axの方向にずれた位置に物体が配置される
と急激に球面収差が発生する。このため、例えば、点光
源Sが楕円鏡2の第1焦点F1よりも光軸Axに沿って
マイナス方向(楕円鏡2の頂点Oに近づく方向)に配置
された場合には、楕円鏡2により形成される光源像の位
置(又は集光位置)が第2焦点位置F2よりもプラス方
向(被照射面に向かう方向)へ移動すると共に負の球面
収差が発生する。従って、コリメートレンズ3を通過し
た光束は平行光ではなくなるため、コリメートレンズ3
の被照明面側に配置されるフライアイレンズ4の入射面
4aの位置に応じて、このフライアイレンズ4の入射面
4a上に形成される光強度分布が大きく変化する。
【0023】この時の様子を図15に示している。すな
わち、図15には、等方的に発光する点光源Sを楕円鏡
の第1焦点F1の位置より楕円鏡2の頂点O側へずれた
位置に配置した場合における光線の様子を示しており、
図15中の平面a〜cの位置は、図14中の平面a〜c
の位置にそれぞれ対応している。よって、図15に示す
如く、コリメートレンズ3によって形成される楕円鏡の
反射面の像位置aよりもプラス方向(被照射面に向かう
方向)へディフォーカスした面cの位置にフライアイレ
ンズ4の入射面4aを配置した場合には、フライアイレ
ンズ4の中心部分に比べてこれの周辺部分では強い光が
照射されて、図17の(b)に示す如き周辺部に偏った
光強度分布となる。一方、図15に示す如く、コリメー
トレンズ3によって形成される楕円鏡の反射面の像位置
aよりもマイナス方向(楕円鏡2の頂点Oに近づく方
向)へディフォーカスした面bの位置にフライアイレン
ズ4の入射面4aを配置した場合には、フライアイレン
ズ4の周辺部分に比べてこれの中心部分では強い光が照
射されて、図17の(c)に示す如き中心部に偏った光
強度分布となる。なお、図15において、コリメートレ
ンズ3によって形成される楕円鏡2の反射面の像面位置
aでの光強度分布は、図17の(a)に示す如く、周辺
部のみに光強度が分布するような中抜け状態の分布とな
る。
わち、図15には、等方的に発光する点光源Sを楕円鏡
の第1焦点F1の位置より楕円鏡2の頂点O側へずれた
位置に配置した場合における光線の様子を示しており、
図15中の平面a〜cの位置は、図14中の平面a〜c
の位置にそれぞれ対応している。よって、図15に示す
如く、コリメートレンズ3によって形成される楕円鏡の
反射面の像位置aよりもプラス方向(被照射面に向かう
方向)へディフォーカスした面cの位置にフライアイレ
ンズ4の入射面4aを配置した場合には、フライアイレ
ンズ4の中心部分に比べてこれの周辺部分では強い光が
照射されて、図17の(b)に示す如き周辺部に偏った
光強度分布となる。一方、図15に示す如く、コリメー
トレンズ3によって形成される楕円鏡の反射面の像位置
aよりもマイナス方向(楕円鏡2の頂点Oに近づく方
向)へディフォーカスした面bの位置にフライアイレン
ズ4の入射面4aを配置した場合には、フライアイレン
ズ4の周辺部分に比べてこれの中心部分では強い光が照
射されて、図17の(c)に示す如き中心部に偏った光
強度分布となる。なお、図15において、コリメートレ
ンズ3によって形成される楕円鏡2の反射面の像面位置
aでの光強度分布は、図17の(a)に示す如く、周辺
部のみに光強度が分布するような中抜け状態の分布とな
る。
【0024】これに対し、等方的に発光する点光源Sが
第1焦点F1よりも光軸Axに沿ってプラス方向(被照
射面へ向かう方向)に配置された場合には、図15に示
した傾向とは逆の傾向となり、楕円鏡2により形成され
る光源像の位置(又は集光位置)が第2焦点位置F2よ
りもマイナス方向(楕円鏡2の頂点Oに近づく方向)へ
移動すると共に正の球面収差が発生する。
第1焦点F1よりも光軸Axに沿ってプラス方向(被照
射面へ向かう方向)に配置された場合には、図15に示
した傾向とは逆の傾向となり、楕円鏡2により形成され
る光源像の位置(又は集光位置)が第2焦点位置F2よ
りもマイナス方向(楕円鏡2の頂点Oに近づく方向)へ
移動すると共に正の球面収差が発生する。
【0025】この時の様子を図16に示しており、すな
わち、図16には、等方的に発光する点光源Sを楕円鏡
の第1焦点F1の位置より被照射面へ向かう方向へずれ
た位置に配置した場合における光線の様子を示してい
る。但し、図16における平面a〜cの位置は、図14
及び図15における平面a〜cの位置にそれぞれ対応し
ている。
わち、図16には、等方的に発光する点光源Sを楕円鏡
の第1焦点F1の位置より被照射面へ向かう方向へずれ
た位置に配置した場合における光線の様子を示してい
る。但し、図16における平面a〜cの位置は、図14
及び図15における平面a〜cの位置にそれぞれ対応し
ている。
【0026】よって、図16に示す如く、コリメートレ
ンズ3によって形成される楕円鏡の反射面の像位置aよ
りもプラス方向(被照射面へ向かう方向)へディフォー
カスした面cの位置にフライアイレンズ4の入射面4a
を配置した場合には、フライアイレンズ4の周辺部分に
比べてこれの中心部分では強い光が照射されて、図17
の(c)に示す如き中心部に偏った光強度分布となる。
一方、図16に示す如く、コリメートレンズ3によって
形成される楕円鏡の反射面の像位置aよりもマイナス方
向(楕円鏡2の頂点Oに近づく方向)へディフォーカス
した面bの位置にフライアイレンズ4の入射面4aを配
置した場合には、フライアイレンズ4の中心部分に比べ
てこれの周辺部分では強い光が照射されて、図16の
(b)に示す如き周辺部に偏った光強度分布となる。な
お、図16において、コリメートレンズ3によって形成
される楕円鏡2の反射面の像面位置aでの光強度分布
は、図17の(a)に示す如く、周辺部のみに光強度が
分布するような中抜け状態の分布となる。
ンズ3によって形成される楕円鏡の反射面の像位置aよ
りもプラス方向(被照射面へ向かう方向)へディフォー
カスした面cの位置にフライアイレンズ4の入射面4a
を配置した場合には、フライアイレンズ4の周辺部分に
比べてこれの中心部分では強い光が照射されて、図17
の(c)に示す如き中心部に偏った光強度分布となる。
一方、図16に示す如く、コリメートレンズ3によって
形成される楕円鏡の反射面の像位置aよりもマイナス方
向(楕円鏡2の頂点Oに近づく方向)へディフォーカス
した面bの位置にフライアイレンズ4の入射面4aを配
置した場合には、フライアイレンズ4の中心部分に比べ
てこれの周辺部分では強い光が照射されて、図16の
(b)に示す如き周辺部に偏った光強度分布となる。な
お、図16において、コリメートレンズ3によって形成
される楕円鏡2の反射面の像面位置aでの光強度分布
は、図17の(a)に示す如く、周辺部のみに光強度が
分布するような中抜け状態の分布となる。
【0027】以上の図14〜図16においては、等方的
に発光する点光源Sが楕円鏡の第1焦点F1の位置及び
その近傍に位置した場合において、楕円鏡2の反射面の
像面の位置a、この位置aから所定量だけデフォーカス
した面の位置(b及びc)での光強度分布の様子を示し
ているものの、実際には、楕円鏡2の第1焦点F1の挟
んで陽極と陰極の2つの電極が光軸Ax方向に沿って配
置されており、2つの電極間には実質的に大きさのある
光源があるものと見なせるため、実際には、図14〜図
16に示す如き光線が混在している。
に発光する点光源Sが楕円鏡の第1焦点F1の位置及び
その近傍に位置した場合において、楕円鏡2の反射面の
像面の位置a、この位置aから所定量だけデフォーカス
した面の位置(b及びc)での光強度分布の様子を示し
ているものの、実際には、楕円鏡2の第1焦点F1の挟
んで陽極と陰極の2つの電極が光軸Ax方向に沿って配
置されており、2つの電極間には実質的に大きさのある
光源があるものと見なせるため、実際には、図14〜図
16に示す如き光線が混在している。
【0028】そこで、超高圧水銀ランプ1から発する光
は、図14〜図16に示す如き状態の光線が混在してい
る事を踏まえた上で、フライアイレンズ4の配置最適な
位置を決定する事が望ましい。まず、先に述べた如く、
フライアイレンズ4の周辺部の光強度を中心に対して相
対的に増加させるために、超高圧水銀ランプの陽極1b
を、陰極1aに対して集光鏡の頂点Oの側に配置するこ
とが必要であるが、超高圧水銀ランプ1の発光点の光強
度分布は、図18の水銀ランプの2つの電極間での等光
強度曲線に示す如く、陰極1aの先端部近傍の位置21
が最も高く、陽極1bに近付くにつれて低くなってい
る。そのため、光強度が最も高い部分21は、光源の光強
度分布の重心22よりも陰極1a側にずれた位置にあ
る。従って、フライアイレンズ4に到達する光の量が最
大とするためには、超高圧水銀ランプの陰極1aと陽極
1bとの間の光強度の重心22をほぼ楕円鏡の第1焦点
F1の付近に配置せねばならない事から、陰極1aの先
端近傍の最も光の強い部分21は楕円鏡2の第1焦点位
置F1よりも若干プラス方向(被照射面へ近づく方向)
に位置することになる。
は、図14〜図16に示す如き状態の光線が混在してい
る事を踏まえた上で、フライアイレンズ4の配置最適な
位置を決定する事が望ましい。まず、先に述べた如く、
フライアイレンズ4の周辺部の光強度を中心に対して相
対的に増加させるために、超高圧水銀ランプの陽極1b
を、陰極1aに対して集光鏡の頂点Oの側に配置するこ
とが必要であるが、超高圧水銀ランプ1の発光点の光強
度分布は、図18の水銀ランプの2つの電極間での等光
強度曲線に示す如く、陰極1aの先端部近傍の位置21
が最も高く、陽極1bに近付くにつれて低くなってい
る。そのため、光強度が最も高い部分21は、光源の光強
度分布の重心22よりも陰極1a側にずれた位置にあ
る。従って、フライアイレンズ4に到達する光の量が最
大とするためには、超高圧水銀ランプの陰極1aと陽極
1bとの間の光強度の重心22をほぼ楕円鏡の第1焦点
F1の付近に配置せねばならない事から、陰極1aの先
端近傍の最も光の強い部分21は楕円鏡2の第1焦点位
置F1よりも若干プラス方向(被照射面へ近づく方向)
に位置することになる。
【0029】この結果、先に説明した図16に示す如き
光路を通過する光線の傾向が強まり、結像位置aでは、
図17の(a)に示す如く、周辺部のみに光強度が分布
するような中抜け状態の分布となり、ディフォーカス位
置bでは、図17の(b)に示す如く、中心部に比べて
周辺部の光強度が若干強くなる光強度分布となる。ま
た、ディフォーカス位置cでは、図17の(c)に示す
如く、中心部の光強度が最も強く周辺部へ行くに従って
光強度が次第に低下する光強度分布となる。
光路を通過する光線の傾向が強まり、結像位置aでは、
図17の(a)に示す如く、周辺部のみに光強度が分布
するような中抜け状態の分布となり、ディフォーカス位
置bでは、図17の(b)に示す如く、中心部に比べて
周辺部の光強度が若干強くなる光強度分布となる。ま
た、ディフォーカス位置cでは、図17の(c)に示す
如く、中心部の光強度が最も強く周辺部へ行くに従って
光強度が次第に低下する光強度分布となる。
【0030】従って、通常照明や傾斜照明等の任意の照
明法に対しても、高い照明効率のもとで被照射面を照明
するためには、図17の(b)に示す如き中心部に比べ
て周辺部の光強度が若干強くなる光強度分布となるよう
なディフォーカス位置b(コリメートレンズ3により形
成される集光鏡2の反射面の像の位置aよりも放電灯側
へディフォーカスした位置)にフライアイレンズ4の入
射面4aを配置することが最適であることが理解でき
る。
明法に対しても、高い照明効率のもとで被照射面を照明
するためには、図17の(b)に示す如き中心部に比べ
て周辺部の光強度が若干強くなる光強度分布となるよう
なディフォーカス位置b(コリメートレンズ3により形
成される集光鏡2の反射面の像の位置aよりも放電灯側
へディフォーカスした位置)にフライアイレンズ4の入
射面4aを配置することが最適であることが理解でき
る。
【0031】以上の原理により、フライアイレンズ周辺
部の光強度が中心に対して相対的に増大するため、フラ
イアイレンズ4により形成される複数の2次光源の光強
度分布を所定の光強度分布に設定又は整形する2次光源
分布整形手段の1つである円形開口を持つ開口絞りを用
いて通常照明を行う場合は勿論の事、2次光源分布整形
手段の1つである図9の(a)に示す如き開口絞り等を
用いて輪帯状の2次光源を形成、あるいは図9の(b)
に示す如き開口絞り等を用いて4つの偏心した2次光源
を形成して傾斜照明する場合にも遮光される光の量は従
来の照明光学系に比べて大幅に軽減され、スループット
の低下を防ぐことが可能となる。
部の光強度が中心に対して相対的に増大するため、フラ
イアイレンズ4により形成される複数の2次光源の光強
度分布を所定の光強度分布に設定又は整形する2次光源
分布整形手段の1つである円形開口を持つ開口絞りを用
いて通常照明を行う場合は勿論の事、2次光源分布整形
手段の1つである図9の(a)に示す如き開口絞り等を
用いて輪帯状の2次光源を形成、あるいは図9の(b)
に示す如き開口絞り等を用いて4つの偏心した2次光源
を形成して傾斜照明する場合にも遮光される光の量は従
来の照明光学系に比べて大幅に軽減され、スループット
の低下を防ぐことが可能となる。
【0032】
【実施例】図1は本発明の照明光学装置を半導体製造用
の露光装置に応用した1例を第1実施例として示してお
り、図1において、図8と同1の機能を持つ部材には同
1の符号を付してある。以下、図1を参照しながら第1
実施例を詳述する。g線(436nm) 又はi線(365nm)等の
光束を発する放電灯としての水銀アーク灯等の光源1
は、回転対称型反射鏡としての楕円鏡2のほぼ第1焦点
位置F1に設けられており、この光源1からの光束は、
円形開口部2c及び楕円反射面2Rを有する楕円鏡2に
より反射集光され、楕円鏡2の第2焦点位置F1の位置
A1には光源1の光源像が形成される。
の露光装置に応用した1例を第1実施例として示してお
り、図1において、図8と同1の機能を持つ部材には同
1の符号を付してある。以下、図1を参照しながら第1
実施例を詳述する。g線(436nm) 又はi線(365nm)等の
光束を発する放電灯としての水銀アーク灯等の光源1
は、回転対称型反射鏡としての楕円鏡2のほぼ第1焦点
位置F1に設けられており、この光源1からの光束は、
円形開口部2c及び楕円反射面2Rを有する楕円鏡2に
より反射集光され、楕円鏡2の第2焦点位置F1の位置
A1には光源1の光源像が形成される。
【0033】ここで、図2には、楕円鏡2に対する水銀
アーク灯1の電極の配置構成を示しており、図2に示す
如く、回転対称型反射鏡の回転軸としての楕円鏡2の光
軸Axに沿って、陽極1bが陰極1aに対して楕円鏡2
の頂点O側に位置するように、換言すれば、陰極1aが
陽極1bに対して被照射面側に位置するように、陰極1
aと陽極1bとの2つの電極が対向して配置されてい
る。このとき、陰極1aと陽極1bとの2つの電極は、
楕円鏡2の第1焦点F1を挟むように配置され、具体的
には、陰極1aと陽極1bとの間の放電により発する光
強度分布の重心位置が楕円鏡2の第1焦点F1とほぼ一
致するように配置されている。
アーク灯1の電極の配置構成を示しており、図2に示す
如く、回転対称型反射鏡の回転軸としての楕円鏡2の光
軸Axに沿って、陽極1bが陰極1aに対して楕円鏡2
の頂点O側に位置するように、換言すれば、陰極1aが
陽極1bに対して被照射面側に位置するように、陰極1
aと陽極1bとの2つの電極が対向して配置されてい
る。このとき、陰極1aと陽極1bとの2つの電極は、
楕円鏡2の第1焦点F1を挟むように配置され、具体的
には、陰極1aと陽極1bとの間の放電により発する光
強度分布の重心位置が楕円鏡2の第1焦点F1とほぼ一
致するように配置されている。
【0034】これの様な水銀アーク灯1の電極の配置に
よって、まず、後述するフライアイレンズ4の中心部よ
りも周辺部に強い光が導かれる。さて、楕円鏡2の反射
集光作用を受けてこれの第2焦点位置F2の位置A1で
光源像を1旦形成した光束は、この光源像位置F2に前
側焦点が位置するように設けられたコリメート光学系と
してのコリメートレンズ3によってほぼ平行光束に変換
される。その後、この平行光束は、オプティカルインテ
グレータとして機能するフライアイレンズ4に入射する このフライアイレンズ4は、円形又は多角形(四角形、
六角形等)の断面形状を有するレンズ素子(41〜4
3)が複数束ねられた集合体で構成されており、このフ
ライアイレンズ4の射出側面もしくはその近傍の位置A
2には複数の光源像が形成され、ここには実質的に2次
光源が形成される。なお、本実施例では、このレンズ素
子41は両凸形状を有しているが、一方の面を平面もく
しは凹面としても良く、さらには、両凹形状としても良
い。
よって、まず、後述するフライアイレンズ4の中心部よ
りも周辺部に強い光が導かれる。さて、楕円鏡2の反射
集光作用を受けてこれの第2焦点位置F2の位置A1で
光源像を1旦形成した光束は、この光源像位置F2に前
側焦点が位置するように設けられたコリメート光学系と
してのコリメートレンズ3によってほぼ平行光束に変換
される。その後、この平行光束は、オプティカルインテ
グレータとして機能するフライアイレンズ4に入射する このフライアイレンズ4は、円形又は多角形(四角形、
六角形等)の断面形状を有するレンズ素子(41〜4
3)が複数束ねられた集合体で構成されており、このフ
ライアイレンズ4の射出側面もしくはその近傍の位置A
2には複数の光源像が形成され、ここには実質的に2次
光源が形成される。なお、本実施例では、このレンズ素
子41は両凸形状を有しているが、一方の面を平面もく
しは凹面としても良く、さらには、両凹形状としても良
い。
【0035】ここで、本実施例のフライアイレンズ4
は、コリメートレンズ3に対して特定の関係で配置され
ている。この事について詳述すると、まず、コリメート
レンズ3は、楕円鏡2により形成される光源像からの光
束をコリメートする機能に加えて、図3に示す如く、楕
円鏡2の反射面2Rの像をコリメートレンズ3の被照明
面側の所定の位置aに形成する機能を有している。この
とき、コリメートレンズ3は、楕円鏡2の曲線状の反射
面2R(物体)から平坦な平面状の反射面2Rの像を形
成する。
は、コリメートレンズ3に対して特定の関係で配置され
ている。この事について詳述すると、まず、コリメート
レンズ3は、楕円鏡2により形成される光源像からの光
束をコリメートする機能に加えて、図3に示す如く、楕
円鏡2の反射面2Rの像をコリメートレンズ3の被照明
面側の所定の位置aに形成する機能を有している。この
とき、コリメートレンズ3は、楕円鏡2の曲線状の反射
面2R(物体)から平坦な平面状の反射面2Rの像を形
成する。
【0036】そして、本実施例では、図3に示す如く、
楕円鏡2(又はコリメートレンズ3)の光軸Ax上にお
いて楕円鏡2の第1焦点F1を挟んで対向配置されてい
る2つの電極(1a,1b)間の光強度分布に伴うコリ
メートレンズ3の射出側の光強度分布特性を加味して、
コリメートレンズ3により形成される楕円鏡2の反射面
2Rの像位置aよりも光源側にディフォーカスした位置
bにフライアイレンズ4の入射面4aを配置している。
楕円鏡2(又はコリメートレンズ3)の光軸Ax上にお
いて楕円鏡2の第1焦点F1を挟んで対向配置されてい
る2つの電極(1a,1b)間の光強度分布に伴うコリ
メートレンズ3の射出側の光強度分布特性を加味して、
コリメートレンズ3により形成される楕円鏡2の反射面
2Rの像位置aよりも光源側にディフォーカスした位置
bにフライアイレンズ4の入射面4aを配置している。
【0037】従って、本実施例では、水銀アーク灯1に
おける陽極1bを陰極1aに対して楕円鏡2の頂点O側
に配置する事により、フライアイレンズ4の中心部より
も周辺部に強い光が導かれる効果と、コリメートレンズ
3により形成される楕円鏡2の反射面2Rの像位置aよ
りも光源側にディフォーカスした位置bにフライアイレ
ンズ4の入射面を配置する事により、水銀アーク灯1に
おける陽極1bと陰極1aとの間の光強度分布に伴って
コリメートレンズ3がフライアイレンズ4の入射面4a
上の中心部よりも周辺部に強い光強度分布を形成すると
いう効果とを相乗的に得ている。
おける陽極1bを陰極1aに対して楕円鏡2の頂点O側
に配置する事により、フライアイレンズ4の中心部より
も周辺部に強い光が導かれる効果と、コリメートレンズ
3により形成される楕円鏡2の反射面2Rの像位置aよ
りも光源側にディフォーカスした位置bにフライアイレ
ンズ4の入射面を配置する事により、水銀アーク灯1に
おける陽極1bと陰極1aとの間の光強度分布に伴って
コリメートレンズ3がフライアイレンズ4の入射面4a
上の中心部よりも周辺部に強い光強度分布を形成すると
いう効果とを相乗的に得ている。
【0038】この結果、本実施例でのフライアイレンズ
4の入射面上では、図4の(a)に示す如く、周辺部の
強度が中心部に対して相対的に増加し、図10の(a)
に示す如き従来の装置におけるフライアイレンズ4の入
射面上での光強度分布と比べて、中心部から周辺部にわ
たりほぼ平坦な光強度分布が形成される。そして、本実
施例でのフライアイレンズ4は図1に示す如く3つのレ
ンズ素子(41〜43)を有しており、レンズ素子4
1、42、43によって射出側に形成される光源像の光
強度分布は、図4の(b)の実線で示す如く、それぞれ
d1、d2、d3となる。
4の入射面上では、図4の(a)に示す如く、周辺部の
強度が中心部に対して相対的に増加し、図10の(a)
に示す如き従来の装置におけるフライアイレンズ4の入
射面上での光強度分布と比べて、中心部から周辺部にわ
たりほぼ平坦な光強度分布が形成される。そして、本実
施例でのフライアイレンズ4は図1に示す如く3つのレ
ンズ素子(41〜43)を有しており、レンズ素子4
1、42、43によって射出側に形成される光源像の光
強度分布は、図4の(b)の実線で示す如く、それぞれ
d1、d2、d3となる。
【0039】図4の(b)の実線で示す如く、フライア
イレンズ4の周辺部に位置するレンズ素子41及び43
によって形成される光源像の光強度分布(d1、d3)
は、フライアイレンズ4の中心部に位置するレンズ素子
42によって形成される光源像の光強度分布d2よりも
強くなり、各レンズ素子(41〜43)により形成され
る光強度のピークを結んだ包絡線は、図4の(b)の点
線で示す如く、図4の(a)に示す如きフライアイレン
ズ4の入射面4a上での光強度分布と同じ傾向の光強度
分布となる。
イレンズ4の周辺部に位置するレンズ素子41及び43
によって形成される光源像の光強度分布(d1、d3)
は、フライアイレンズ4の中心部に位置するレンズ素子
42によって形成される光源像の光強度分布d2よりも
強くなり、各レンズ素子(41〜43)により形成され
る光強度のピークを結んだ包絡線は、図4の(b)の点
線で示す如く、図4の(a)に示す如きフライアイレン
ズ4の入射面4a上での光強度分布と同じ傾向の光強度
分布となる。
【0040】さて、図1に戻って、フライアイレンズ4
によって形成される複数の光源像(2次光源)の位置A
2には、2次光源の光強度分布を所定の光強度分布に整
形する2次光源分布整形手段としての切り換え可能な複
数の開口絞り(50a〜50f)が設けられている。こ
の複数の開口絞りは、図5に示す如く、回転軸52を中
心として回転するターレット板51に形成されており、
ターレット板51を回転させて、所定の形状の開口絞り
が2次光源上に設定されることにより、設定された開口
絞り上には、所定の光強度分布が形成される。
によって形成される複数の光源像(2次光源)の位置A
2には、2次光源の光強度分布を所定の光強度分布に整
形する2次光源分布整形手段としての切り換え可能な複
数の開口絞り(50a〜50f)が設けられている。こ
の複数の開口絞りは、図5に示す如く、回転軸52を中
心として回転するターレット板51に形成されており、
ターレット板51を回転させて、所定の形状の開口絞り
が2次光源上に設定されることにより、設定された開口
絞り上には、所定の光強度分布が形成される。
【0041】ここで、ターレット板51に形成されてい
る各開口絞りの形状について説明すると、図5に示す如
く、開口絞り50aは、輪帯形状(ドーナッツ状)の開
口部を持つ第1の輪帯照明用の開口絞りであり、開口絞
り50bと開口絞り50eとは、それぞれ開口径の異な
る円形状の開口部を持つ第1及び第2の通常照明用の開
口絞りである。また、開口絞り50cは、4つの扇形の
開口部を有する第1の特殊傾斜照明用の開口絞りであ
り、開口絞り50dは、4つの円形状の開口部を有する
第2の特殊傾斜照明用の開口絞りである。そして、開口
絞り50fは、開口絞り50aとは異なる輪帯比(輪帯
形状の開口部の外径と内径との比率)を持つ第2の輪帯
照明用の開口絞りである。
る各開口絞りの形状について説明すると、図5に示す如
く、開口絞り50aは、輪帯形状(ドーナッツ状)の開
口部を持つ第1の輪帯照明用の開口絞りであり、開口絞
り50bと開口絞り50eとは、それぞれ開口径の異な
る円形状の開口部を持つ第1及び第2の通常照明用の開
口絞りである。また、開口絞り50cは、4つの扇形の
開口部を有する第1の特殊傾斜照明用の開口絞りであ
り、開口絞り50dは、4つの円形状の開口部を有する
第2の特殊傾斜照明用の開口絞りである。そして、開口
絞り50fは、開口絞り50aとは異なる輪帯比(輪帯
形状の開口部の外径と内径との比率)を持つ第2の輪帯
照明用の開口絞りである。
【0042】さて、所定形状の開口絞り(50a〜50
f)によって形成された所定形状の光強度分布を有する
所定形状の2次光源からの光束は、コンデンサー光学系
としてのコンデンサーレンズ6により集光されて、被照
射物体としてのレチクルR上を重畳的に照明する。この
とき、ターレット板51によって任意の形状の開口絞り
(50a〜50f)が、フライアイレンズ4により形成
される2次光源上に配置されたとしても、レチクルR上
での光強度分布は、図6に示す如く、均一となり、レチ
クルRは常に均一照明されてる。
f)によって形成された所定形状の光強度分布を有する
所定形状の2次光源からの光束は、コンデンサー光学系
としてのコンデンサーレンズ6により集光されて、被照
射物体としてのレチクルR上を重畳的に照明する。この
とき、ターレット板51によって任意の形状の開口絞り
(50a〜50f)が、フライアイレンズ4により形成
される2次光源上に配置されたとしても、レチクルR上
での光強度分布は、図6に示す如く、均一となり、レチ
クルRは常に均一照明されてる。
【0043】ここで、レチクルRは不図示のレチクルス
テージに保持されており、投影対象としてのウエハWは
2次元移動するウエハステージ上に載置されており、レ
チクルRの位置B2とウエハWの位置B3とは投影光学
系7に関して共役となるように設定されている。そし
て、レチクルRが均一照明されると、レチクルR上に形
成されている所定の回路パターンは、投影光学系7によ
りウエハW上に縮小投影され、ウエハW上に回路パター
ン像が転写される。
テージに保持されており、投影対象としてのウエハWは
2次元移動するウエハステージ上に載置されており、レ
チクルRの位置B2とウエハWの位置B3とは投影光学
系7に関して共役となるように設定されている。そし
て、レチクルRが均一照明されると、レチクルR上に形
成されている所定の回路パターンは、投影光学系7によ
りウエハW上に縮小投影され、ウエハW上に回路パター
ン像が転写される。
【0044】なお、フライアイレンズにより形成される
2次光源の位置A2、及び投影光学系7の瞳位置に設け
られた円形可変開口を有する可変開口絞り7aの位置A
3は互いに共役であり、フライアイレンズ4により形成
される複数の2次光源の像が投影光学系7の可変開口絞
り7a上において形成されており、レチクルR及びウエ
ハWは所謂ケーラー照明されている。また、フライアイ
レンズの入射側面B1、レチクルRの位置B2及びウエ
ハWの位置B3とは互いに共役である。
2次光源の位置A2、及び投影光学系7の瞳位置に設け
られた円形可変開口を有する可変開口絞り7aの位置A
3は互いに共役であり、フライアイレンズ4により形成
される複数の2次光源の像が投影光学系7の可変開口絞
り7a上において形成されており、レチクルR及びウエ
ハWは所謂ケーラー照明されている。また、フライアイ
レンズの入射側面B1、レチクルRの位置B2及びウエ
ハWの位置B3とは互いに共役である。
【0045】以上においては、本実施例の構成について
述べたが、次に各照明法の切り換え動作について説明す
る。図1において、入力部13は、レチクルR上での照
明方法の選択に関する情報を入力するためのものであ
り、本実施例では、開口絞り50aの設定による「第1
の輪帯照明」、開口絞り50fの設定による「第2の輪
帯照明」、開口絞り50bの設定による「第1の通常照
明」、開口絞り50eの設定による「第2の通常照
明」、開口絞り50cの設定による「第1の特殊傾斜照
明」及び開口絞り50dの設定による「第2の特殊傾斜
照明」の各照明法の選択が可能となっている。この選択
情報は、制御部10へ伝達される。そして、制御部10
は、入力部13からの選択情報に基づいて、ターレット
板51を回転させる駆動部11の制御を行うと共に、入
力部13からの照明条件に関する情報に基づいて、投影
光学系7内の可変開口絞り7aの開口径の大きさを変化
させる駆動部12の制御を行なう。この制御部10の動
作について、以下に詳述する。
述べたが、次に各照明法の切り換え動作について説明す
る。図1において、入力部13は、レチクルR上での照
明方法の選択に関する情報を入力するためのものであ
り、本実施例では、開口絞り50aの設定による「第1
の輪帯照明」、開口絞り50fの設定による「第2の輪
帯照明」、開口絞り50bの設定による「第1の通常照
明」、開口絞り50eの設定による「第2の通常照
明」、開口絞り50cの設定による「第1の特殊傾斜照
明」及び開口絞り50dの設定による「第2の特殊傾斜
照明」の各照明法の選択が可能となっている。この選択
情報は、制御部10へ伝達される。そして、制御部10
は、入力部13からの選択情報に基づいて、ターレット
板51を回転させる駆動部11の制御を行うと共に、入
力部13からの照明条件に関する情報に基づいて、投影
光学系7内の可変開口絞り7aの開口径の大きさを変化
させる駆動部12の制御を行なう。この制御部10の動
作について、以下に詳述する。
【0046】まず、レチクルR上での照明状態を第1の
通常照明に設定する場合には、入力部13としてのキー
ボード等を介して、「第1の通常照明」または「第2の
通常照明」に関する選択情報並びに各製造プロセスに応
じた最適な照明条件として、照明光学系のレチクルR側
の開口数NA1 と投影光学系7のレチクルR側の開口数
NA2 の比で定義されるコヒーレンスフアクター、所謂
σ値(σ=NA1 /NA2 )等の情報が入力される。こ
こで、「第1の通常照明」と「第2の通常照明」との違
いは、開口絞りの円形開口径の大きさが相違することに
伴ってσ値が異なる点である。
通常照明に設定する場合には、入力部13としてのキー
ボード等を介して、「第1の通常照明」または「第2の
通常照明」に関する選択情報並びに各製造プロセスに応
じた最適な照明条件として、照明光学系のレチクルR側
の開口数NA1 と投影光学系7のレチクルR側の開口数
NA2 の比で定義されるコヒーレンスフアクター、所謂
σ値(σ=NA1 /NA2 )等の情報が入力される。こ
こで、「第1の通常照明」と「第2の通常照明」との違
いは、開口絞りの円形開口径の大きさが相違することに
伴ってσ値が異なる点である。
【0047】例えば、入力部13に「第1の通常照明」
に関する選択情報が入力された場合には、制御部10
は、この選択情報に基づいて、フライアイレンズ4によ
り形成される複数の光源像位置A2に開口絞り50eが
位置するように、第1駆動部11を駆動してターレット
板51を回転させると共に、入力部13に入力されたσ
値に関する照明条件に応じて、第2駆動部15を駆動し
投影光学系7内の可変開口絞りを所定の円形の開口径に
設定する。これによって、所定のσ値のもとで第1の通
常照明にが達成される。なお、入力部13に「第2の通
常照明」に関する選択情報が入力された場合にも、上記
の動作と同様に、制御部10は、開口絞り50bを複数
の光源像位置A2に設定する動作と、入力されたσ値に
関する照明条件に応じて投影光学系7内の可変開口絞り
の開口径を設定する動作とを実行して、所定のσ値のも
とで第2の通常照明が達成される。
に関する選択情報が入力された場合には、制御部10
は、この選択情報に基づいて、フライアイレンズ4によ
り形成される複数の光源像位置A2に開口絞り50eが
位置するように、第1駆動部11を駆動してターレット
板51を回転させると共に、入力部13に入力されたσ
値に関する照明条件に応じて、第2駆動部15を駆動し
投影光学系7内の可変開口絞りを所定の円形の開口径に
設定する。これによって、所定のσ値のもとで第1の通
常照明にが達成される。なお、入力部13に「第2の通
常照明」に関する選択情報が入力された場合にも、上記
の動作と同様に、制御部10は、開口絞り50bを複数
の光源像位置A2に設定する動作と、入力されたσ値に
関する照明条件に応じて投影光学系7内の可変開口絞り
の開口径を設定する動作とを実行して、所定のσ値のも
とで第2の通常照明が達成される。
【0048】また、レチクルRに対する通常照明から所
望の傾斜照明に切換える場合には、入力部13に「第1
の輪帯照明」、「第2の輪帯照明」、「第1の特殊傾斜
照明」及び「第2の特殊傾斜照明」のうちの何れかに関
する選択情報並びに各製造プロセスに応じた最適な照明
条件としてのσ値等の情報を入力する。ここで、「第1
の輪帯照明」と「第2の輪帯照明」との違いは、輪帯状
に形成される2次光源の輪帯比が異なる点である。ま
た、「第1の特殊傾斜照明」と「第2の特殊傾斜照明」
との違いは、2次光源の光強度分布が異なる点である。
すなわち、「第1の特殊傾斜照明」における2次光源で
は、4つの扇状の領域に光強度が分布し、「第2の特殊
傾斜照明」における2次光源では、4つの円形状の領域
に光強度が分布する。
望の傾斜照明に切換える場合には、入力部13に「第1
の輪帯照明」、「第2の輪帯照明」、「第1の特殊傾斜
照明」及び「第2の特殊傾斜照明」のうちの何れかに関
する選択情報並びに各製造プロセスに応じた最適な照明
条件としてのσ値等の情報を入力する。ここで、「第1
の輪帯照明」と「第2の輪帯照明」との違いは、輪帯状
に形成される2次光源の輪帯比が異なる点である。ま
た、「第1の特殊傾斜照明」と「第2の特殊傾斜照明」
との違いは、2次光源の光強度分布が異なる点である。
すなわち、「第1の特殊傾斜照明」における2次光源で
は、4つの扇状の領域に光強度が分布し、「第2の特殊
傾斜照明」における2次光源では、4つの円形状の領域
に光強度が分布する。
【0049】例えば、「第1の輪帯照明」が選択された
場合には、制御部10は、駆動部11を制御して、複数
の光源像位置A2に開口絞り50aが位置するようにタ
ーレット板51を回転させ、「第2の輪帯照明」が選択
された場合には、制御部10は、駆動部11を制御し
て、複数の光源像位置A2に開口絞り50fが位置する
ようにターレット板51を回転させる。また、「第1の
特殊傾斜照明」が選択された場合には、制御部10は、
駆動部11を制御して、複数の光源像位置A2に開口絞
り50cが位置するようにターレット板51を回転さ
せ、「第2の特殊傾斜照明」が選択された場合には、制
御部10は、駆動部11を制御して、複数の光源像位置
A2 に開口絞り50dが位置するようにターレット板5
1を回転させる。
場合には、制御部10は、駆動部11を制御して、複数
の光源像位置A2に開口絞り50aが位置するようにタ
ーレット板51を回転させ、「第2の輪帯照明」が選択
された場合には、制御部10は、駆動部11を制御し
て、複数の光源像位置A2に開口絞り50fが位置する
ようにターレット板51を回転させる。また、「第1の
特殊傾斜照明」が選択された場合には、制御部10は、
駆動部11を制御して、複数の光源像位置A2に開口絞
り50cが位置するようにターレット板51を回転さ
せ、「第2の特殊傾斜照明」が選択された場合には、制
御部10は、駆動部11を制御して、複数の光源像位置
A2 に開口絞り50dが位置するようにターレット板5
1を回転させる。
【0050】次に、制御部10は、入力部13に入力さ
れたσ値に関する照明条件に応じて、第2駆動部12を
駆動し投影光学系7内の可変開口絞り7aを所定の円形
の開口径に設定する。以上の動作により、変形開口絞り
(50a、50c、50d、50f)の設定によって、
変形開口絞りの開口形状に応じた2次光源が形成されて
レチクルR及びウエハWを傾斜照明すると共に、可変開
口絞り7aの開口径に設定によってウエハWを最適なσ
値のもとで照明できるため、開口絞り50b又は開口絞
り50eが設定されている事による第1又は第2の通常
照明に比べて、深い焦点深度のもとで微細なパターンを
ウエハW上に転写することができる。
れたσ値に関する照明条件に応じて、第2駆動部12を
駆動し投影光学系7内の可変開口絞り7aを所定の円形
の開口径に設定する。以上の動作により、変形開口絞り
(50a、50c、50d、50f)の設定によって、
変形開口絞りの開口形状に応じた2次光源が形成されて
レチクルR及びウエハWを傾斜照明すると共に、可変開
口絞り7aの開口径に設定によってウエハWを最適なσ
値のもとで照明できるため、開口絞り50b又は開口絞
り50eが設定されている事による第1又は第2の通常
照明に比べて、深い焦点深度のもとで微細なパターンを
ウエハW上に転写することができる。
【0051】なお、本実施例では、入力部13を介して
照明方法の選択を行なうための諸条件等を入力している
が、図1の点線で示す如く、レチクルR上の情報を読み
取る検知部14を設けても良い。このとき、レチクルR
の回路パターンの領域外の位置に、例えばバーコード等
で照明方法、照明条件等に関する情報を記録する。検知
部14は、この照明方法に関する情報を読み取って、制
御部10へ伝達する。制御部10は、照明方法並びに照
明条件等に関する情報に基づいて、上述の如く駆動部1
1を駆動部12とを制御する。この場合、制御部10
は、照明方法並びに照明条件等に関する情報に基づい
て、所定の演算、判別等を実行した上で駆動部11を駆
動部12とを制御しても良い。このように、本実施例に
おいては、フライアイレンズ4の入射面上には、図4に
示す如く、周辺部の強度が中心部に対して相対的に増加
する光強度分布を形成しているため、従来に比べて格段
に高い照明効率のもとで、通常照明、傾斜照明(輪帯照
明、特殊傾斜照明)等の任意の照明法を両立させること
ができるため、常に高いスループットのもとでの投影露
光が実現できる。
照明方法の選択を行なうための諸条件等を入力している
が、図1の点線で示す如く、レチクルR上の情報を読み
取る検知部14を設けても良い。このとき、レチクルR
の回路パターンの領域外の位置に、例えばバーコード等
で照明方法、照明条件等に関する情報を記録する。検知
部14は、この照明方法に関する情報を読み取って、制
御部10へ伝達する。制御部10は、照明方法並びに照
明条件等に関する情報に基づいて、上述の如く駆動部1
1を駆動部12とを制御する。この場合、制御部10
は、照明方法並びに照明条件等に関する情報に基づい
て、所定の演算、判別等を実行した上で駆動部11を駆
動部12とを制御しても良い。このように、本実施例に
おいては、フライアイレンズ4の入射面上には、図4に
示す如く、周辺部の強度が中心部に対して相対的に増加
する光強度分布を形成しているため、従来に比べて格段
に高い照明効率のもとで、通常照明、傾斜照明(輪帯照
明、特殊傾斜照明)等の任意の照明法を両立させること
ができるため、常に高いスループットのもとでの投影露
光が実現できる。
【0052】なお、本実施例では、傾斜照明を実現する
ために、ターレット板51上において、「第1の輪帯照
明」用の開口絞り50a、「第2の輪帯照明」用の開口
絞り50f、「第1の特殊傾斜照明」用の開口絞り50
c及び「第2の特殊傾斜照明」用の開口絞り50dを配
置し、輪帯上あるいは光軸Axに対して偏心した光源を
形成するために、それぞれ輪帯状の開口部及び4つの偏
心開口部以外の部分は透過率が零となる形成された遮光
部で構成しているが、これらの遮光部分に30%程度の
透過率を持つ光透過性の減光部材で構成しても良いこと
は言うまでもない。この場合には、例えば、ターレット
板51を構成する部材をガラス基板とし、クロムなどの
薄膜を蒸着して遮光部を構成したり、あるいはクロムな
どの薄膜の蒸着密度を弱めて減光部材を構成することが
好ましい。
ために、ターレット板51上において、「第1の輪帯照
明」用の開口絞り50a、「第2の輪帯照明」用の開口
絞り50f、「第1の特殊傾斜照明」用の開口絞り50
c及び「第2の特殊傾斜照明」用の開口絞り50dを配
置し、輪帯上あるいは光軸Axに対して偏心した光源を
形成するために、それぞれ輪帯状の開口部及び4つの偏
心開口部以外の部分は透過率が零となる形成された遮光
部で構成しているが、これらの遮光部分に30%程度の
透過率を持つ光透過性の減光部材で構成しても良いこと
は言うまでもない。この場合には、例えば、ターレット
板51を構成する部材をガラス基板とし、クロムなどの
薄膜を蒸着して遮光部を構成したり、あるいはクロムな
どの薄膜の蒸着密度を弱めて減光部材を構成することが
好ましい。
【0053】また、図1の実施例ではコリメータレンズ
3によって直接的に、楕円鏡2の反射面2Rの像を形成
している例を示したが、これに限ることなく、例えば、
図7に示す如き構成としても良い。この変形例における
図1の実施例との相違は、コリメートレンズ3とフライ
アイレンズ4との間にリレー光学系(31、32)を配
置し、そして、楕円鏡2の反射面2Rの像を位置B0に
形成する機能を有すると共に、楕円鏡2により形成され
る光源像からの光をコリメートする機能を有するコリメ
ートレンズ3と、そのコリメートレンズ3により位置B
0に形成される楕円鏡2の反射面2Rの像を位置aに再
結像するリレーレンズとでコリメート光学系(3、3
1、32)を構成したものである。
3によって直接的に、楕円鏡2の反射面2Rの像を形成
している例を示したが、これに限ることなく、例えば、
図7に示す如き構成としても良い。この変形例における
図1の実施例との相違は、コリメートレンズ3とフライ
アイレンズ4との間にリレー光学系(31、32)を配
置し、そして、楕円鏡2の反射面2Rの像を位置B0に
形成する機能を有すると共に、楕円鏡2により形成され
る光源像からの光をコリメートする機能を有するコリメ
ートレンズ3と、そのコリメートレンズ3により位置B
0に形成される楕円鏡2の反射面2Rの像を位置aに再
結像するリレーレンズとでコリメート光学系(3、3
1、32)を構成したものである。
【0054】この場合には、フライアイレンズ4の入射
面4aは、コリメート光学系(3、31、32)により
形成される楕円鏡2の反射面2Rの像の位置aに対して
光源側にディフォーカスした位置bに設けられる。この
構成によれば、コリメータ光学系を構成する最も被照射
面側のレンズ32から楕円鏡2の反射面2Rの像位置a
までの距離を十分に長くすることが可能となり、フライ
アイレンズ4の入射面4aを結像位置aから十分に遠ざ
けることが可能となる。このため、図1の実施例におけ
るコリメータレンズ3ではこのレンズ3から楕円鏡2の
反射面2Rの像位置aまでの距離が短くなり、コリメー
タレンズ3とフライアイレンズ4とが機械的に干渉する
恐れがある場合には、図7に示す如き構成を採用するこ
とが好ましい。
面4aは、コリメート光学系(3、31、32)により
形成される楕円鏡2の反射面2Rの像の位置aに対して
光源側にディフォーカスした位置bに設けられる。この
構成によれば、コリメータ光学系を構成する最も被照射
面側のレンズ32から楕円鏡2の反射面2Rの像位置a
までの距離を十分に長くすることが可能となり、フライ
アイレンズ4の入射面4aを結像位置aから十分に遠ざ
けることが可能となる。このため、図1の実施例におけ
るコリメータレンズ3ではこのレンズ3から楕円鏡2の
反射面2Rの像位置aまでの距離が短くなり、コリメー
タレンズ3とフライアイレンズ4とが機械的に干渉する
恐れがある場合には、図7に示す如き構成を採用するこ
とが好ましい。
【0055】
【発明の効果】以上のように、本発明によればオプティ
カルインテグレータの入射面の光強度分布は従来技術に
比べて周辺部が増大しているため、オプティカルインテ
グレータにより形成される2次光源の分布もそれに応じ
て周辺部の強度が増大する。そのため、2次光源分布整
形手段によって2次光源の光強度分布を所定の光強度分
布に整形して、被照射面に対して任意の照明を行ったと
しても、光の量の減衰の度合は従来技術に比べて大幅に
軽減される。それにより被照射面上の照度を高めること
が可能となりスループットを大きく向上することが出来
る。
カルインテグレータの入射面の光強度分布は従来技術に
比べて周辺部が増大しているため、オプティカルインテ
グレータにより形成される2次光源の分布もそれに応じ
て周辺部の強度が増大する。そのため、2次光源分布整
形手段によって2次光源の光強度分布を所定の光強度分
布に整形して、被照射面に対して任意の照明を行ったと
しても、光の量の減衰の度合は従来技術に比べて大幅に
軽減される。それにより被照射面上の照度を高めること
が可能となりスループットを大きく向上することが出来
る。
【図1】本発明による実施例の構成を示す図である。
【図2】図1に示した実施例における光源としての水銀
アーク灯の電極の配置の様子を示す図である。
アーク灯の電極の配置の様子を示す図である。
【図3】図2に示した水銀アーク灯の電極の配置による
コリメータレンズ3の結像関係の様子を模式的に示す図
である。
コリメータレンズ3の結像関係の様子を模式的に示す図
である。
【図4】(a)は図1に示した実施例のフライアイレン
ズ4の入射面上における光強度分布の様子を示す図であ
り、(b)は図1に示した実施例のフライアイレンズ4
の射出面上における光強度分布の様子を示す図である。
ズ4の入射面上における光強度分布の様子を示す図であ
り、(b)は図1に示した実施例のフライアイレンズ4
の射出面上における光強度分布の様子を示す図である。
【図5】図1に示した実施例における切り換え型の開口
絞りの様子を示す図である。
絞りの様子を示す図である。
【図6】図1に示した実施例の被照射面(R、W)上で
の光強度分布の様子を示す図である。
の光強度分布の様子を示す図である。
【図7】図1に示した実施例の変形例を模式的に示す図
である。
である。
【図8】従来の装置の様子を示す図である。
【図9】(a)は輪帯状の開口を持つ開口絞りの様子を
示す平面図であり、(b)は偏心した4つの開口部をを
有する開口絞りの様子を示す平面図である。
示す平面図であり、(b)は偏心した4つの開口部をを
有する開口絞りの様子を示す平面図である。
【図10】(a)は図8に示した従来の装置におけるフ
ライアイレンズ4の入射面上における光強度分布の様子
を示す図であり、(b)は図8に示した従来の装置にお
けるフライアイレンズ4の射出面上における光強度分布
の様子を示す図である。
ライアイレンズ4の入射面上における光強度分布の様子
を示す図であり、(b)は図8に示した従来の装置にお
けるフライアイレンズ4の射出面上における光強度分布
の様子を示す図である。
【図11】水銀アーク灯の電極の構造による配光特性の
様子を示す図である。
様子を示す図である。
【図12】図11に示した水銀アーク灯の配光特性によ
りフライアイレンズに入射する光の様子を示す図であ
る。
りフライアイレンズに入射する光の様子を示す図であ
る。
【図13】コリメータレンズ3が楕円鏡の反射面をフラ
イアイレンズ4の入射面に形成する時の様子を示す図で
ある。
イアイレンズ4の入射面に形成する時の様子を示す図で
ある。
【図14】楕円鏡の第1焦点上に配置された点光源がコ
リメータレンズによって集光される時の様子を示す光路
図である。
リメータレンズによって集光される時の様子を示す光路
図である。
【図15】楕円鏡の第1焦点よりも楕円鏡の頂点側にず
れて配置された点光源がコリメータレンズによって集光
される時の様子を示す光路図である。
れて配置された点光源がコリメータレンズによって集光
される時の様子を示す光路図である。
【図16】楕円鏡の第1焦点よりも被照射面側にずれて
配置された点光源がコリメータレンズによって集光され
る時の様子を示す光路図である。
配置された点光源がコリメータレンズによって集光され
る時の様子を示す光路図である。
【図17】(a)はコリメータレンズによって集光され
た光が中抜け状態となっている時の光強度分布を示す図
であり、(b)はコリメータレンズによって形成される
楕円鏡の反射面の像が形成されている位置からディフォ
ーカスした位置において光が周辺部に集中している時の
光強度分布を示す図であり、また(c)はコリメータレ
ンズによって形成される楕円鏡の反射面の像が形成され
ている位置からディフォーカスした位置において光が中
心部に集中している時の光強度分布を示す図である。
た光が中抜け状態となっている時の光強度分布を示す図
であり、(b)はコリメータレンズによって形成される
楕円鏡の反射面の像が形成されている位置からディフォ
ーカスした位置において光が周辺部に集中している時の
光強度分布を示す図であり、また(c)はコリメータレ
ンズによって形成される楕円鏡の反射面の像が形成され
ている位置からディフォーカスした位置において光が中
心部に集中している時の光強度分布を示す図である。
【図18】水銀アーク灯の2つの電極間での光強度分布
の様子を示す図である。
の様子を示す図である。
1・・・・・・水銀アーク灯 1a・・・・陰極 1b・・・・陽極 2・・・・・・楕円鏡 2R・・・・楕円鏡の反射面 F1・・・・楕円鏡の第1焦点 F2・・・・楕円鏡の第2焦点 O・・・・・・楕円鏡の頂点 3・・・・・・コリメータレンズ 4・・・・・・フライアイレンズ 5・・・・・・開口絞り 6・・・・・・コンデンサーレンズ 7・・・・・・投影光学系 R・・・・・・レチクル W・・・・・・ウエハ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/30 515 D
Claims (3)
- 【請求項1】光を発する放電灯と、該放電灯からの光を
反射集光して光源像を形成する回転対称型集光鏡と、該
回転対称型集光鏡により形成された該光源像からの光を
コリメートしてほぼ平行な光に変換するコリメート光学
系と、該コリメート光学系からの光を複数に分割して複
数の2次光源を形成するオプティカルインテグレータ
と、該オプティカルインテグレータにより形成される複
数の2次光源からの光を集光して被照射面を重畳的に照
明するコンデンサー光学系とを有する照明光学装置にお
いて、 前記複数の2次光源の光強度分布を所定の光強度分布に
整形する2次光源分布整形手段を配置し、 前記放電灯は、前記回転対称型集光鏡の回転軸上に沿っ
て互いに対向して配置された陽極と陰極との2つの電極
を有し、 前記陰極に対して前記回転対称型集光鏡の頂点側に前記
陽極を配置するとともに、 前記コリメート光学系により形成される前記回転対称型
集光鏡の反射面の像の位置よりも前記放電灯側へディフ
ォーカスした位置に前記オプティカルインテグレータの
入射面を配置したことを特徴とする照明光学装置。 - 【請求項2】前記2次光源分布整形手段は、前記オプテ
ィカルインテグレータの射出面またはその近傍に切り換
え可能に設けられた第1及び第2開口絞りを有し、 該第1開口絞りは、前記コンデンサー光学系の光軸に対
して回転対称な円形状の開口を有し、 該第2開口絞りは、前記コンデンサー光学系の光軸に対
して偏心した周辺の領域に開口部を有するとともに、前
記コンデンサー光学系の光軸を通る中心の領域に遮光部
又は減光部を有することを特徴とする請求項1記載の照
明光学装置。 - 【請求項3】前記コリメート光学系は、前記回転対称型
集光鏡の反射面の像を形成すると共に、前記回転対称型
集光鏡により形成される光源像からの光をコリメートす
るコリメートレンズと、該コリメートレンズにより形成
される回転対称型集光鏡の反射面の像を再結像するリレ
ーレンズとを有することを特徴とする請求項1または請
求項2記載の照明光学装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6286217A JPH08148407A (ja) | 1994-11-21 | 1994-11-21 | 照明光学装置 |
US08/559,398 US5798823A (en) | 1994-11-21 | 1995-11-15 | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus using it |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6286217A JPH08148407A (ja) | 1994-11-21 | 1994-11-21 | 照明光学装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08148407A true JPH08148407A (ja) | 1996-06-07 |
Family
ID=17701495
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6286217A Pending JPH08148407A (ja) | 1994-11-21 | 1994-11-21 | 照明光学装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5798823A (ja) |
JP (1) | JPH08148407A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100966134B1 (ko) * | 2008-05-13 | 2010-06-25 | 오에프티 주식회사 | 노광장치용 타원경 설계방법 |
JP2011166158A (ja) * | 2010-02-09 | 2011-08-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学ラスタ要素、光学インテグレータ、及び照明系 |
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US6014202A (en) * | 1997-09-16 | 2000-01-11 | Polaroid Corporation | Optical system for transmitting a graphical image |
US7410265B2 (en) * | 2000-09-13 | 2008-08-12 | Carl Zeiss Smt Ag | Focusing-device for the radiation from a light source |
DE10045265A1 (de) * | 2000-09-13 | 2002-03-21 | Zeiss Carl | Vorrichtung zum Bündeln der Strahlung einer Lichtquelle |
US20060175973A1 (en) * | 2005-02-07 | 2006-08-10 | Lisitsyn Igor V | Xenon lamp |
GB0602320D0 (en) * | 2006-02-06 | 2006-03-15 | Gas Sensing Solutions Ltd | Domed gas sensor |
CN101971075A (zh) * | 2007-12-18 | 2011-02-09 | 光处方革新有限公司 | 自由形态聚光光学装置 |
WO2009124595A1 (en) * | 2008-04-11 | 2009-10-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Optical aperture device |
GB201007046D0 (en) * | 2010-04-28 | 2010-06-09 | Optos Plc | Improvements in or relating to scanning ophthalmoscopes |
KR102305423B1 (ko) | 2010-12-15 | 2021-09-27 | 콘트라빌 파마슈티컬스, 인코퍼레이티드 | 아미노산 1 및 3에서 변형된 사이클로스포린 유사체 분자 |
WO2019222448A1 (en) * | 2018-05-16 | 2019-11-21 | Trustees Of Boston University | Ray-surface positioning systems and methods |
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JPS61189636A (ja) * | 1985-02-19 | 1986-08-23 | Ushio Inc | キセノン・水銀放電灯による半導体ウエハ−の露光方法 |
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JPS6363028A (ja) * | 1986-09-04 | 1988-03-19 | Nikon Corp | 照明光学装置 |
JP2569711B2 (ja) * | 1988-04-07 | 1997-01-08 | 株式会社ニコン | 露光制御装置及び該装置による露光方法 |
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JP3395280B2 (ja) * | 1993-09-21 | 2003-04-07 | 株式会社ニコン | 投影露光装置及び方法 |
-
1994
- 1994-11-21 JP JP6286217A patent/JPH08148407A/ja active Pending
-
1995
- 1995-11-15 US US08/559,398 patent/US5798823A/en not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5798823A (en) | 1998-08-25 |
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