JPH08126886A - 超純水の製造方法及び装置 - Google Patents
超純水の製造方法及び装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 超純水製造装置の稼動を停止して定期的に、
配管内，特に製造した超純水を１次純水タンクに戻す循
環系配管内の殺菌処理を行なっていたことに代えて、装
置を停止させることなく連続して殺菌処理が行なえるよ
うにする。 【構成】 １次純水処理系、１次純水タンク、１次純水
から超純水を製造する２次純水処理系、製造された超純
水を１次純水タンクに戻す循環系配管、この循環系から
分岐されてユースポイントに超純水を送水する分岐送水
系、を備えた超純水製造装置において、循環系の途中
に、超純水を電気分解処理したアノード水を製造する電
気分解装置をバイパスして設け、ユースポイントへの分
岐部よりも下流側の循環系配管にこのアノード水を連続
して流す。
配管内，特に製造した超純水を１次純水タンクに戻す循
環系配管内の殺菌処理を行なっていたことに代えて、装
置を停止させることなく連続して殺菌処理が行なえるよ
うにする。 【構成】 １次純水処理系、１次純水タンク、１次純水
から超純水を製造する２次純水処理系、製造された超純
水を１次純水タンクに戻す循環系配管、この循環系から
分岐されてユースポイントに超純水を送水する分岐送水
系、を備えた超純水製造装置において、循環系の途中
に、超純水を電気分解処理したアノード水を製造する電
気分解装置をバイパスして設け、ユースポイントへの分
岐部よりも下流側の循環系配管にこのアノード水を連続
して流す。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体ウェハの
ような極めて清浄な表面を得ることが求められる被洗浄
物の洗浄用水に用いられる超純水製造装置に関する。
ような極めて清浄な表面を得ることが求められる被洗浄
物の洗浄用水に用いられる超純水製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体ウェハのような極めて清浄
な表面を得ることが求められる被洗浄物の洗浄用水に用
いられる用水として、微粒子、コロイダル物質、有機
物、金属、陰イオンなどが可能な限り除去された高純度
な水、一般的には超純水と称される水が用いられてい
る。
な表面を得ることが求められる被洗浄物の洗浄用水に用
いられる用水として、微粒子、コロイダル物質、有機
物、金属、陰イオンなどが可能な限り除去された高純度
な水、一般的には超純水と称される水が用いられてい
る。
【０００３】この超純水と称される高純度な水は、必ず
しも「超純水」として明確に定義がされているものでは
ないが、一般的には、原水を凝集沈殿装置、砂ろ過装置
等を用いて除濁する前処理装置、次いで、活性炭ろ過装
置、逆浸透膜装置、２床３塔式イオン交換装置、真空脱
気装置、混床式イオン交換装置、精密フィルター等を用
いて、前処理水中の不純物を除去した純水を得るための
１次純水装置、更に、１次純水装置で得られた純水を一
時的に貯留する１次純水タンク（槽）と、その後段にお
いて、紫外線照射装置、混床式ポリッシャー、限外ろ過
膜装置や逆浸透膜装置のような膜処理装置等を用いて１
次純水中に微量残留する微粒子、コロイダル物質、有機
物、金属、イオンなどの不純物を可及的に取り除くよう
に設けられた２次純水装置から構成される超純水製造装
置が知られている。
しも「超純水」として明確に定義がされているものでは
ないが、一般的には、原水を凝集沈殿装置、砂ろ過装置
等を用いて除濁する前処理装置、次いで、活性炭ろ過装
置、逆浸透膜装置、２床３塔式イオン交換装置、真空脱
気装置、混床式イオン交換装置、精密フィルター等を用
いて、前処理水中の不純物を除去した純水を得るための
１次純水装置、更に、１次純水装置で得られた純水を一
時的に貯留する１次純水タンク（槽）と、その後段にお
いて、紫外線照射装置、混床式ポリッシャー、限外ろ過
膜装置や逆浸透膜装置のような膜処理装置等を用いて１
次純水中に微量残留する微粒子、コロイダル物質、有機
物、金属、イオンなどの不純物を可及的に取り除くよう
に設けられた２次純水装置から構成される超純水製造装
置が知られている。
【０００４】なお、上述のように説明される従来の超純
水製造装置は、工業的規模での実施においては高純度な
水質に製造した超純水を連続的に使用することを実現す
るために上限使用量を目安として過剰ぎみに製造する規
模に設計されるのが普通であり、このため上限値以下の
使用状態では、過剰に製造される高付加価値の超純水の
適当な利用用途がなければ、その一部は無駄になってし
まうことが避けられない。
水製造装置は、工業的規模での実施においては高純度な
水質に製造した超純水を連続的に使用することを実現す
るために上限使用量を目安として過剰ぎみに製造する規
模に設計されるのが普通であり、このため上限値以下の
使用状態では、過剰に製造される高付加価値の超純水の
適当な利用用途がなければ、その一部は無駄になってし
まうことが避けられない。
【０００５】そこで、１次純水槽に貯留した純水を原水
として２次純水装置で超純水を製造し、これを循環配管
を通して１次純水槽に戻す構成（１次純水槽に戻る系を
以下「リターン側」という）が採用される場合が多く、
この循環配管の途中に分岐して設けた分岐配管を通し
て、半導体洗浄設備等のユースポイントに送水するよう
に設けられている。
として２次純水装置で超純水を製造し、これを循環配管
を通して１次純水槽に戻す構成（１次純水槽に戻る系を
以下「リターン側」という）が採用される場合が多く、
この循環配管の途中に分岐して設けた分岐配管を通し
て、半導体洗浄設備等のユースポイントに送水するよう
に設けられている。
【０００６】上記の循環配管リターン側を通って１次純
水槽に戻される水量は、通常、２次純水装置からの送水
量の１０〜３０％程度であるが、ユースポイントでの超
純水の使用を停止した場合には、一時的に送水量全量が
循環配管リターン側を通って１次純水槽に戻される。
水槽に戻される水量は、通常、２次純水装置からの送水
量の１０〜３０％程度であるが、ユースポイントでの超
純水の使用を停止した場合には、一時的に送水量全量が
循環配管リターン側を通って１次純水槽に戻される。
【０００７】ところで超純水製造装置においては、上記
のような超純水製造のための基本的構成とは別に、系内
における殺菌処理や微粒子除去のための設備が付設され
る場合が多い。これは次のような理由による。
のような超純水製造のための基本的構成とは別に、系内
における殺菌処理や微粒子除去のための設備が付設され
る場合が多い。これは次のような理由による。
【０００８】一般に超純水製造装置、特に２次純水装置
は、系内流通水が生菌の栄養源である有機物や塩類等の
極めて少ない純水ないし超純水であり、しかも系内にお
いて紫外線照射等の連続殺菌を行う装置も通常設けられ
ているが、にも拘らず、長時間の超純水循環を継続する
と、超純水の循環配管内壁や膜処理装置膜表面に生菌が
付着、増殖し、循環・送水される超純水中に生菌が増殖
したり、生菌、死菌による微粒子が増加したりするよう
になる。特に、循環配管下流側の配管内及び１次純水槽
内において生菌の増殖がおこり易い。
は、系内流通水が生菌の栄養源である有機物や塩類等の
極めて少ない純水ないし超純水であり、しかも系内にお
いて紫外線照射等の連続殺菌を行う装置も通常設けられ
ているが、にも拘らず、長時間の超純水循環を継続する
と、超純水の循環配管内壁や膜処理装置膜表面に生菌が
付着、増殖し、循環・送水される超純水中に生菌が増殖
したり、生菌、死菌による微粒子が増加したりするよう
になる。特に、循環配管下流側の配管内及び１次純水槽
内において生菌の増殖がおこり易い。
【０００９】この原因として考えられるのは、１次純水
装置から持ち込まれる原水由来の生菌や、ユースポイン
ト流出口から逆混入する生菌や、改造工事等で超純水製
造装置を停止した際に、２次純水装置内部や、循環配管
内壁が外気にさらされた時に混入する生菌であるが、原
因は必ずしも明かではない。
装置から持ち込まれる原水由来の生菌や、ユースポイン
ト流出口から逆混入する生菌や、改造工事等で超純水製
造装置を停止した際に、２次純水装置内部や、循環配管
内壁が外気にさらされた時に混入する生菌であるが、原
因は必ずしも明かではない。
【００１０】また、循環配管のリターン側は、循環配管
送水側とほぼ同等の配管径をもつ配管が使用されるにも
かかわらず、通常は、前述のように膜処理装置からの送
水量の１０〜３０％程度の水量であるために管内流速が
遅くなる場合が多く、生菌が循環配管リターン側の内壁
に付着増殖し易いことが考えられる。また、１次純水槽
は、循環配管よりもさらに滞留時間が長いため、生菌が
槽内壁に付着増殖し易いことが考えられる。
送水側とほぼ同等の配管径をもつ配管が使用されるにも
かかわらず、通常は、前述のように膜処理装置からの送
水量の１０〜３０％程度の水量であるために管内流速が
遅くなる場合が多く、生菌が循環配管リターン側の内壁
に付着増殖し易いことが考えられる。また、１次純水槽
は、循環配管よりもさらに滞留時間が長いため、生菌が
槽内壁に付着増殖し易いことが考えられる。
【００１１】２次純水装置、１次純水槽あるいは、循環
配管に用いた配管が装置の長期間運転によって経時的に
生菌や微粒子によつて汚染された揚合、また、装置施工
工事直後や装置メンテナンス工事直後のように、外的要
因によって生菌や微粒子によって汚染された場合、半導
体ウェハのような極めて清浄な表面を得ることが求めら
れる被洗浄物の洗浄に用いられる被洗浄水を得ることが
できないため、何らかの殺菌処理あるいは微粒子低減処
理を施すことが必要になる。
配管に用いた配管が装置の長期間運転によって経時的に
生菌や微粒子によつて汚染された揚合、また、装置施工
工事直後や装置メンテナンス工事直後のように、外的要
因によって生菌や微粒子によって汚染された場合、半導
体ウェハのような極めて清浄な表面を得ることが求めら
れる被洗浄物の洗浄に用いられる被洗浄水を得ることが
できないため、何らかの殺菌処理あるいは微粒子低減処
理を施すことが必要になる。
【００１２】そこで従来は、上記殺菌処理あるいは微粒
子低減処理のために、例えば下記の操作が行なわれてい
る。
子低減処理のために、例えば下記の操作が行なわれてい
る。
【００１３】（ｌ）殺菌処理 例えば、２ヶ月に一度程度、定期的に超純水製造装
置を停止して、薬品による殺菌、例えば１％〜２％程度
の過酸化水素水の循環、あるいは０．１％以下のフッ化
水素酸の循環により殺菌する。
置を停止して、薬品による殺菌、例えば１％〜２％程度
の過酸化水素水の循環、あるいは０．１％以下のフッ化
水素酸の循環により殺菌する。
【００１４】 例えば、２ヶ月に一度程度、定期的に
超純水製造装置を停止して、例えば９０℃〜９５℃の熱
水の循環により殺菌する。
超純水製造装置を停止して、例えば９０℃〜９５℃の熱
水の循環により殺菌する。
【００１５】 例えば、２ヶ月に一度程度、定期的に
超純水製遣装置を停止して、との方法を組み合わせ
て殺菌する。
超純水製遣装置を停止して、との方法を組み合わせ
て殺菌する。
【００１６】 超純水製造装置を停止せずに、循環配
管リターン側にオゾン発生器によって得たオゾンガスを
直接注入する。あるいは、オゾン発生器によって得たオ
ゾンガスを超純水に溶解したオゾン水を注入して、循環
配管リターン側及び１次純水槽を殺菌する。
管リターン側にオゾン発生器によって得たオゾンガスを
直接注入する。あるいは、オゾン発生器によって得たオ
ゾンガスを超純水に溶解したオゾン水を注入して、循環
配管リターン側及び１次純水槽を殺菌する。
【００１７】なおその際に、１次純水槽出口に余剰のオ
ゾンが残留すると、２次純水装置に使用しているイオン
交換樹脂や膜処理装置がオゾンに連続的に晒されて、こ
れらを酸化劣化させるおそれがあるため、１次純水槽出
口で紫外線照射によって酸化力の小さい酸素に分解す
る。また更に、その際発生した溶存酸素が被洗浄物に有
害な場合は、紫外線照射の後で水素ガスを添加して触媒
上で反応させる。あるいは真空脱気装置，脱気膜装置に
よって脱酸素処理を行う。
ゾンが残留すると、２次純水装置に使用しているイオン
交換樹脂や膜処理装置がオゾンに連続的に晒されて、こ
れらを酸化劣化させるおそれがあるため、１次純水槽出
口で紫外線照射によって酸化力の小さい酸素に分解す
る。また更に、その際発生した溶存酸素が被洗浄物に有
害な場合は、紫外線照射の後で水素ガスを添加して触媒
上で反応させる。あるいは真空脱気装置，脱気膜装置に
よって脱酸素処理を行う。
【００１８】（２）微粒子低減処理 上記殺菌処理は、微粒子低減にも効果があるため、殺菌
処理は微粒子低減を目的としても実施され、微粒子数が
所定の数値まで低減するまで、超純水によるブローを実
施する。
処理は微粒子低減を目的としても実施され、微粒子数が
所定の数値まで低減するまで、超純水によるブローを実
施する。
【００１９】図１４，図１５は、以上のような従来の殺
菌処理，微粒子低減処理のための洗浄設備を付設した超
純水製造装置の例を示したものであり、このうち図１４
の装置では、１次純水槽にバイパスして洗浄液槽を設
け、洗浄の必要時に薬品供給手段（あるいは純水加熱手
段）から洗浄用の液を２次純水装置系内に流して洗浄を
行ない、循環配管から系外部に排出するように設けられ
ている。なお、イオン交換樹脂塔に対しては洗浄液が通
水しないようにバイパス路が設けられて図示しない切換
弁により通水が切り換えられるようになっている。また
図１５は、循環配管リターン側に、オゾン発生器によっ
て得たオゾンガスを直接注入（あるいはオゾン発生器に
よって得たオゾンガスを超純水に溶解したオゾン水を注
入）して、循環配管リターン側及び１次純水槽を殺菌
し、更に１次純水槽出口水に残留する余剰のオゾンを、
紫外線照射装置によって酸化力の小さい酸素に分解し、
この紫外線照射の後段の水素溶解装置次いで水素化触媒
塔の触媒上で反応させて水にするようにした連続稼動方
式の洗浄設備を含む従来の超純水製造装置を示してい
る。
菌処理，微粒子低減処理のための洗浄設備を付設した超
純水製造装置の例を示したものであり、このうち図１４
の装置では、１次純水槽にバイパスして洗浄液槽を設
け、洗浄の必要時に薬品供給手段（あるいは純水加熱手
段）から洗浄用の液を２次純水装置系内に流して洗浄を
行ない、循環配管から系外部に排出するように設けられ
ている。なお、イオン交換樹脂塔に対しては洗浄液が通
水しないようにバイパス路が設けられて図示しない切換
弁により通水が切り換えられるようになっている。また
図１５は、循環配管リターン側に、オゾン発生器によっ
て得たオゾンガスを直接注入（あるいはオゾン発生器に
よって得たオゾンガスを超純水に溶解したオゾン水を注
入）して、循環配管リターン側及び１次純水槽を殺菌
し、更に１次純水槽出口水に残留する余剰のオゾンを、
紫外線照射装置によって酸化力の小さい酸素に分解し、
この紫外線照射の後段の水素溶解装置次いで水素化触媒
塔の触媒上で反応させて水にするようにした連続稼動方
式の洗浄設備を含む従来の超純水製造装置を示してい
る。
【００２０】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
の超純水製造装置においては、系内の装置や配管等、更
に循環配管等を殺菌処理，あるいは微粒子低減処理する
方法として、図１４で代表的に示されるように、定期的
に超純水製造装置を停止し、薬品，熱水あるいは温薬品
を配管内に通水させる上記〜の方法があるが、この
方法には下記の問題がある。
の超純水製造装置においては、系内の装置や配管等、更
に循環配管等を殺菌処理，あるいは微粒子低減処理する
方法として、図１４で代表的に示されるように、定期的
に超純水製造装置を停止し、薬品，熱水あるいは温薬品
を配管内に通水させる上記〜の方法があるが、この
方法には下記の問題がある。
【００２１】（イ） 薬品を用いる場合、２次純水装
置、１次純水槽、循環配管に用いる膜装置や配管材料等
の構成材を劣化させてしまう虞れがあるので、耐薬品性
の配管材料及び構成部材を用いる必要があるため、構成
材料の選択が制約され、またコスト的に不利となる。ま
た、殺菌処理後の系内からの薬品の洗い出しに相当の時
間がかかり、超純水製造装置の停止時間が長くなる。
置、１次純水槽、循環配管に用いる膜装置や配管材料等
の構成材を劣化させてしまう虞れがあるので、耐薬品性
の配管材料及び構成部材を用いる必要があるため、構成
材料の選択が制約され、またコスト的に不利となる。ま
た、殺菌処理後の系内からの薬品の洗い出しに相当の時
間がかかり、超純水製造装置の停止時間が長くなる。
【００２２】さらに、１次純水槽とは別に、殺菌用薬品
調整槽及びポンプ等の付帯設備を設ける必要があり、そ
のコストが多大となる。
調整槽及びポンプ等の付帯設備を設ける必要があり、そ
のコストが多大となる。
【００２３】（ロ） 熱水を用いる場合、温度上昇や下
降時に、２次純水装置、１次純水槽、循環配管に用いる
膜装置や配管材料等の構成材を過度に膨張収縮させ、機
械的，熱的ストレスによる耐久性の低下の虞れがある。
したがって熱水による極度な材料の変質が無い耐熱性の
材料を用いる必要がある。
降時に、２次純水装置、１次純水槽、循環配管に用いる
膜装置や配管材料等の構成材を過度に膨張収縮させ、機
械的，熱的ストレスによる耐久性の低下の虞れがある。
したがって熱水による極度な材料の変質が無い耐熱性の
材料を用いる必要がある。
【００２４】さらに、１次純水槽とは別に、熱水槽及び
ポンプ等の付帯設備を設けることが必要となり、そのコ
ストが多大となる。
ポンプ等の付帯設備を設けることが必要となり、そのコ
ストが多大となる。
【００２５】（ハ） 上記〜の方法は、殺菌のため
に２次純水の製造を停止して行うため、超純水のユース
ポイントでの使用を１次的に停止する必要があり、超純
水の用途である被洗浄物の洗浄スループットが悪くなっ
てしまう。そのため、これらの殺菌処理回数は極力減ら
すことが求められるが、回数の減少と反比例して、生菌
数等が増加してしまうというさらに重大な問題を引き起
こしてしまう。これを防ぐためには予め予備の超純水製
造装置を持たねばならず、そのコストが多大となる。
に２次純水の製造を停止して行うため、超純水のユース
ポイントでの使用を１次的に停止する必要があり、超純
水の用途である被洗浄物の洗浄スループットが悪くなっ
てしまう。そのため、これらの殺菌処理回数は極力減ら
すことが求められるが、回数の減少と反比例して、生菌
数等が増加してしまうというさらに重大な問題を引き起
こしてしまう。これを防ぐためには予め予備の超純水製
造装置を持たねばならず、そのコストが多大となる。
【００２６】一方、図１５に示した上記の従来方法で
は、超純水製造装置を停止せずに超純水製造装置の系内
装置や配管、更に循環ラインに用いる配管等の殺菌処
理，微粒子低減処理の際に、以下の問題があって、工業
的規模での実際装置としては問題が多く、普及するに至
っていない。すなわち （ニ） 上記の方法は、オゾン発生器により得たオゾ
ンガスを注入する方法であるため、オゾンガスをリター
ン水に溶解する溶解装置が必要になると共に、従来の無
性放電方式のオゾン発生器から発生した大量の微粒子や
金属等の不純物がオゾンガスのなかに含まれ、このオゾ
ンガスを直接注入するとリターン水中に大量の微粒子や
金属が混入してしまい、２次純水装置の混床式ポリッシ
ャーや膜装置を目づまりさせたり性能を劣化させたりし
てしまう。このため、従来の無性放電方式等で得たオゾ
ンガスは、ガス状態でろ過する必要がある。
は、超純水製造装置を停止せずに超純水製造装置の系内
装置や配管、更に循環ラインに用いる配管等の殺菌処
理，微粒子低減処理の際に、以下の問題があって、工業
的規模での実際装置としては問題が多く、普及するに至
っていない。すなわち （ニ） 上記の方法は、オゾン発生器により得たオゾ
ンガスを注入する方法であるため、オゾンガスをリター
ン水に溶解する溶解装置が必要になると共に、従来の無
性放電方式のオゾン発生器から発生した大量の微粒子や
金属等の不純物がオゾンガスのなかに含まれ、このオゾ
ンガスを直接注入するとリターン水中に大量の微粒子や
金属が混入してしまい、２次純水装置の混床式ポリッシ
ャーや膜装置を目づまりさせたり性能を劣化させたりし
てしまう。このため、従来の無性放電方式等で得たオゾ
ンガスは、ガス状態でろ過する必要がある。
【００２７】（ホ） オゾンガスを、電解方式で得、気
液分離膜によりガスを取り出し不純物を除去して作る方
法もあるが、この場合には、注入点の前に、あるいは別
途に設けたオゾン溶解装置によりオゾンガスを不純物の
無い純水中に溶解して使用する必要がある。
液分離膜によりガスを取り出し不純物を除去して作る方
法もあるが、この場合には、注入点の前に、あるいは別
途に設けたオゾン溶解装置によりオゾンガスを不純物の
無い純水中に溶解して使用する必要がある。
【００２８】（ヘ） このオゾンガスを用いる方法は、
定期的な薬品洗浄の頻度を低減する目的で、連続的な殺
菌等を行なうものであるが、連続的にオゾンを２次純水
処理系等に流すため、オゾンが通水することができない
イオン交換装置等の前段でこれを消去する必要があり、
オゾンのみならず溶存酸素の存在も回避しなければなら
ない用途では、オゾンのみならずこれが還元された酸素
も除去されねばならない。しかしオゾンの消去は紫外線
照射装置により可能であるものの、従来の脱気装置で
は、極めて低レベル濃度の酸素除去のために大型の装置
を用いねばならないという欠点があり、一方水素注入と
水素化触媒を用いる方式で酸素を除去することは、実験
室的規模では可能であっても、水素を用いるので防爆対
策等の点から採用し難く、工業的規模での超純水製造装
置の系内において現在までのところそのような装置は実
施されていない。
定期的な薬品洗浄の頻度を低減する目的で、連続的な殺
菌等を行なうものであるが、連続的にオゾンを２次純水
処理系等に流すため、オゾンが通水することができない
イオン交換装置等の前段でこれを消去する必要があり、
オゾンのみならず溶存酸素の存在も回避しなければなら
ない用途では、オゾンのみならずこれが還元された酸素
も除去されねばならない。しかしオゾンの消去は紫外線
照射装置により可能であるものの、従来の脱気装置で
は、極めて低レベル濃度の酸素除去のために大型の装置
を用いねばならないという欠点があり、一方水素注入と
水素化触媒を用いる方式で酸素を除去することは、実験
室的規模では可能であっても、水素を用いるので防爆対
策等の点から採用し難く、工業的規模での超純水製造装
置の系内において現在までのところそのような装置は実
施されていない。
【００２９】本発明者らは、これら従来の超純水製造装
置において課題とされていた２次純水装置の系内装置や
配管、一次純水槽、循環配管などの殺菌，微粒子低減の
ための洗浄を有効に実現でき、また工業的規模での装置
に適用可能な連続的な殺菌，洗浄を実現すべく鋭意研究
を行って本発明をなすに至ったものである。
置において課題とされていた２次純水装置の系内装置や
配管、一次純水槽、循環配管などの殺菌，微粒子低減の
ための洗浄を有効に実現でき、また工業的規模での装置
に適用可能な連続的な殺菌，洗浄を実現すべく鋭意研究
を行って本発明をなすに至ったものである。
【００３０】すなわち本発明は、電解装置を用いて純水
あるいは超純水に直流電流を通電して電解することによ
り、微粒子等が混入しておらずかつオゾンを溶存した電
解アノード水、あるいは水素を溶存した電解カソード水
を得ることができる点に着目し、このオゾンを溶存し微
粒子等は混入していない電解アノード水を、１次純水槽
等の洗浄対象装置や配管に通水させることで、従来の薬
品の使用や熱水を全く使用することなしに、有効な殺
菌，微粒子低減の洗浄が実現できるようにした超純水製
造方法及び装置の提供を目的とするものである。
あるいは超純水に直流電流を通電して電解することによ
り、微粒子等が混入しておらずかつオゾンを溶存した電
解アノード水、あるいは水素を溶存した電解カソード水
を得ることができる点に着目し、このオゾンを溶存し微
粒子等は混入していない電解アノード水を、１次純水槽
等の洗浄対象装置や配管に通水させることで、従来の薬
品の使用や熱水を全く使用することなしに、有効な殺
菌，微粒子低減の洗浄が実現できるようにした超純水製
造方法及び装置の提供を目的とするものである。
【００３１】また本発明の別の目的は、超純水製造装置
の系内にインライン形式で配置した電解槽への供給水
（純水，超純水）や電気分解後の電解水に電解質を添加
することで、上記目的をより一層効率的に実現すること
を可能とした超純水製造方法及び装置を提供するところ
にある。
の系内にインライン形式で配置した電解槽への供給水
（純水，超純水）や電気分解後の電解水に電解質を添加
することで、上記目的をより一層効率的に実現すること
を可能とした超純水製造方法及び装置を提供するところ
にある。
【００３２】また更に本発明の別の目的は、一時的に超
純水の製造を中断して系内装置あるいは配管等の殺菌，
微粒子低減の洗浄を行なう場合に適した超純水製造方法
及び装置を提供するところにある。
純水の製造を中断して系内装置あるいは配管等の殺菌，
微粒子低減の洗浄を行なう場合に適した超純水製造方法
及び装置を提供するところにある。
【００３３】また本発明の他の目的は、超純水の製造を
連続的に行ないながら系内装置あるいは配管等の洗浄
を、工業的規模の装置において初めて実施することを可
能とした超純水製造方法及び装置を提供するところにあ
る。
連続的に行ないながら系内装置あるいは配管等の洗浄
を、工業的規模の装置において初めて実施することを可
能とした超純水製造方法及び装置を提供するところにあ
る。
【００３４】本発明の更に他の目的は、系内装置，配管
等の洗浄のために用いたオゾン含有の水を、別途の付帯
設備を必要とすることなく、電解槽で同時に得られる電
解カソード水を用いて無害化することができ、したがっ
て防爆化などが必要な水素貯蔵，供給の設備などの負担
がない、工業的に極めて有用な超純水製造方法及び装置
を提供するところにある。
等の洗浄のために用いたオゾン含有の水を、別途の付帯
設備を必要とすることなく、電解槽で同時に得られる電
解カソード水を用いて無害化することができ、したがっ
て防爆化などが必要な水素貯蔵，供給の設備などの負担
がない、工業的に極めて有用な超純水製造方法及び装置
を提供するところにある。
【００３５】
【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
本発明の特徴は、上記した特許請求の範囲に記載した各
請求項の構成を有するところにある。
本発明の特徴は、上記した特許請求の範囲に記載した各
請求項の構成を有するところにある。
【００３６】本発明の請求項１に記載した超純水製造方
法の特徴は、原水に含まれる懸濁物質を除去する前処
理、次いでイオン及び非イオン性物質を除去するｌ次純
水処理を行った後、イオン交換手段及び膜処理手段によ
る２次純水処理を行って超純水を製造する方法におい
て、上記ｌ次純水処理された１次純水あるいは２次純水
処理中の処理水に対して系内洗浄用電解水製造のために
電気分解を行うようにしたところにある。
法の特徴は、原水に含まれる懸濁物質を除去する前処
理、次いでイオン及び非イオン性物質を除去するｌ次純
水処理を行った後、イオン交換手段及び膜処理手段によ
る２次純水処理を行って超純水を製造する方法におい
て、上記ｌ次純水処理された１次純水あるいは２次純水
処理中の処理水に対して系内洗浄用電解水製造のために
電気分解を行うようにしたところにある。
【００３７】上記のｌ次純水処理された１次純水あるい
は２次純水処理中の処理水について行なう電気分解と
は、本明細書においては、単に水又は水溶液に単に直流
電圧を印加することを意味しており、必ずしもその結果
として直流電流が通電され、水が酸素及び水素に分解さ
れる等の電気分解反応が起こる場合のみを意味するもの
ではない。一例的にいえば下記図９ないし図１３で例示
的に説明する電気分解装置（以下単に「電解装置」とい
う）により、アノード水，カソード水を製造するもので
あればよい。電解装置は、隔膜により槽内がアノード
室、カソード室の二室に区分された二槽式電解装置、こ
れらの間に隔膜で区分された中間室を有するように三室
に区分された三槽式電解装置等など、電解槽の構造によ
り限定されるものではない。なお、以下の電解装置の説
明においては、正の電圧を印加する電極をアノード、負
の電圧を印加する電極をカソードといい、アノードを配
した室をアノード室、カソードを配した室をカソード
室、電気分解を行なった際にアノード室より得られる水
をアノード水、カソード室より得られる水をカソード
水、これらのアノード水，カソード水を総称して電解水
というものとする。
は２次純水処理中の処理水について行なう電気分解と
は、本明細書においては、単に水又は水溶液に単に直流
電圧を印加することを意味しており、必ずしもその結果
として直流電流が通電され、水が酸素及び水素に分解さ
れる等の電気分解反応が起こる場合のみを意味するもの
ではない。一例的にいえば下記図９ないし図１３で例示
的に説明する電気分解装置（以下単に「電解装置」とい
う）により、アノード水，カソード水を製造するもので
あればよい。電解装置は、隔膜により槽内がアノード
室、カソード室の二室に区分された二槽式電解装置、こ
れらの間に隔膜で区分された中間室を有するように三室
に区分された三槽式電解装置等など、電解槽の構造によ
り限定されるものではない。なお、以下の電解装置の説
明においては、正の電圧を印加する電極をアノード、負
の電圧を印加する電極をカソードといい、アノードを配
した室をアノード室、カソードを配した室をカソード
室、電気分解を行なった際にアノード室より得られる水
をアノード水、カソード室より得られる水をカソード
水、これらのアノード水，カソード水を総称して電解水
というものとする。
【００３８】上記のアノード水は、アノード表面付近で
酸素、オゾン等が生成するため酸化性を示し、このため
殺菌用の洗浄水として有効である。またカソード水は、
カソード表面付近で水素等が生成するため還元性を示
し、このため付着微粒子の除去用の洗浄水として有効で
ある。なお以下の説明において「洗浄」という場合は、
殺菌処理、微粒子低減処理の双方、あるいはいずれかの
処理を行う場合を総称する。
酸素、オゾン等が生成するため酸化性を示し、このため
殺菌用の洗浄水として有効である。またカソード水は、
カソード表面付近で水素等が生成するため還元性を示
し、このため付着微粒子の除去用の洗浄水として有効で
ある。なお以下の説明において「洗浄」という場合は、
殺菌処理、微粒子低減処理の双方、あるいはいずれかの
処理を行う場合を総称する。
【００３９】上記した超純水製造装置において「前処
理」とは、凝集沈澱、濾過、マイクロフロック濾過、活
性炭濾過、除濁膜などのいずれかの処理を行なうもので
あってもよい。
理」とは、凝集沈澱、濾過、マイクロフロック濾過、活
性炭濾過、除濁膜などのいずれかの処理を行なうもので
あってもよい。
【００４０】同様に「ｌ次純水処理」とは、１次純水処
理のための活性炭ろ過処理、逆浸透膜処理、２床３塔式
イオン交換処理、真空脱気処理、混床式イオン交換処
理、電気再生式イオン交換処理、精密フィルターろ過処
理等を適宜組み合わせて用いることで、前処理水中の不
純物を除去した純水、一般的には導電率を１０μＳ／ｃ
ｍ以下とした純水を得る処理をいうが、これに限定され
るものではない。
理のための活性炭ろ過処理、逆浸透膜処理、２床３塔式
イオン交換処理、真空脱気処理、混床式イオン交換処
理、電気再生式イオン交換処理、精密フィルターろ過処
理等を適宜組み合わせて用いることで、前処理水中の不
純物を除去した純水、一般的には導電率を１０μＳ／ｃ
ｍ以下とした純水を得る処理をいうが、これに限定され
るものではない。
【００４１】更に「２次純水処理」とは、限定されるも
のではないが、紫外線照射処理、混床式ポリッシャー、
限外ろ過膜や逆浸透膜のような膜処理等により、１次純
水中に微量残留する微粒子、コロイダル物質、有機物、
金属、イオンなどの不純物を可及的に取り除く処理をい
う。
のではないが、紫外線照射処理、混床式ポリッシャー、
限外ろ過膜や逆浸透膜のような膜処理等により、１次純
水中に微量残留する微粒子、コロイダル物質、有機物、
金属、イオンなどの不純物を可及的に取り除く処理をい
う。
【００４２】「原水」としては、例えば水道水、工業用
水、地下水等を挙げることができる。
水、地下水等を挙げることができる。
【００４３】上記の方法により、２次純水処理系の頂部
から下流、あるいは電気分解を行なった位置の下流に、
電気分解により得たアノード水，カソード水の少なくと
もいずれかを流して洗浄を行なうことができる。洗浄後
の水は、２次純水処理系の後段あるいは、ユースポイン
ト側への送水を停止した状態で該循環系に流した後、循
環系から系外に排出される。なお、２次純水処理系中に
設備されているイオン交換処理のための装置に対しては
電解水を通水させないようにバイパス通水することが好
ましい。
から下流、あるいは電気分解を行なった位置の下流に、
電気分解により得たアノード水，カソード水の少なくと
もいずれかを流して洗浄を行なうことができる。洗浄後
の水は、２次純水処理系の後段あるいは、ユースポイン
ト側への送水を停止した状態で該循環系に流した後、循
環系から系外に排出される。なお、２次純水処理系中に
設備されているイオン交換処理のための装置に対しては
電解水を通水させないようにバイパス通水することが好
ましい。
【００４４】本発明の請求項２に記載した超純水製造方
法の特徴は、原水に含まれる懸濁物質を除去する前処
理、次いでイオン及び非イオン性物質を除去するｌ次純
水処理を行った後、イオン交換手段及び膜処理手段によ
る２次純水処理を行ない、この２次純水処理後の超純水
を２次純水処理前段に循環返送する循環系の途中からユ
ースポイントに分岐送水する方法において、上記２次純
水処理後の超純水を循環する循環系の水に対して系内洗
浄用電解水製造のために電気分解を行うようにしたとこ
ろにある。
法の特徴は、原水に含まれる懸濁物質を除去する前処
理、次いでイオン及び非イオン性物質を除去するｌ次純
水処理を行った後、イオン交換手段及び膜処理手段によ
る２次純水処理を行ない、この２次純水処理後の超純水
を２次純水処理前段に循環返送する循環系の途中からユ
ースポイントに分岐送水する方法において、上記２次純
水処理後の超純水を循環する循環系の水に対して系内洗
浄用電解水製造のために電気分解を行うようにしたとこ
ろにある。
【００４５】この方法により、循環系のリターン側配管
内、あるいは更に必要に応じて１次純水槽、更には２次
純水処理系に電解水を通水して洗浄を行なうことができ
る。洗浄後の水の系外への排出、イオン交換装置に対す
るバイパス通水については上記の場合と同様にして行な
えばよい。
内、あるいは更に必要に応じて１次純水槽、更には２次
純水処理系に電解水を通水して洗浄を行なうことができ
る。洗浄後の水の系外への排出、イオン交換装置に対す
るバイパス通水については上記の場合と同様にして行な
えばよい。
【００４６】これらの方法により、オゾンを溶存しかつ
微粒子等の混入していない電解アノード水により、所定
の系内装置、循環配管を含む配管等についての殺菌を行
なうことができる。また水素を溶存しかつ微粒子等の混
入していない電解カソード水により、所定の系内装置、
循環配管を含む配管等について、付着した微粒子を除去
することができる。
微粒子等の混入していない電解アノード水により、所定
の系内装置、循環配管を含む配管等についての殺菌を行
なうことができる。また水素を溶存しかつ微粒子等の混
入していない電解カソード水により、所定の系内装置、
循環配管を含む配管等について、付着した微粒子を除去
することができる。
【００４７】また本発明は以上の方法を好適に実施する
ことができる装置を提供するものである。
ことができる装置を提供するものである。
【００４８】すなわち請求項３に記載の超純水製造装置
の特徴は、原水中に含まれる懸濁物質除去のための除濁
手段を有する前処理装置と、膜処理手段等を有し該膜処
理装置から純水を得る１次純水処理系と、この１次純水
を貯留するｌ次純水タンクと、イオン交換手段、膜処理
手段等を有し該１次純水タンクを経たｌ次純水から超純
水を得る２次純水処理系とを備えた超純水製造装置にお
いて、上記ｌ次純水タンクの前段から２次純水処理系の
系内のいずれかの位置にバイパスして、系内洗浄の必要
時に稼働されて、１次純水あるいは２次純水処理中の処
理水を原水として電気分解処理したアノード水及び／又
はカソード水を製造して系内下流に流す電解装置を設け
たという構成をなすところにある。
の特徴は、原水中に含まれる懸濁物質除去のための除濁
手段を有する前処理装置と、膜処理手段等を有し該膜処
理装置から純水を得る１次純水処理系と、この１次純水
を貯留するｌ次純水タンクと、イオン交換手段、膜処理
手段等を有し該１次純水タンクを経たｌ次純水から超純
水を得る２次純水処理系とを備えた超純水製造装置にお
いて、上記ｌ次純水タンクの前段から２次純水処理系の
系内のいずれかの位置にバイパスして、系内洗浄の必要
時に稼働されて、１次純水あるいは２次純水処理中の処
理水を原水として電気分解処理したアノード水及び／又
はカソード水を製造して系内下流に流す電解装置を設け
たという構成をなすところにある。
【００４９】上記において、前処理装置における除濁手
段としては、上記方法発明における前処理のための凝集
沈澱装置、濾過装置、マイクロフロック濾過装置、活性
炭濾過装置、除濁膜装置等の装置が用いられる。
段としては、上記方法発明における前処理のための凝集
沈澱装置、濾過装置、マイクロフロック濾過装置、活性
炭濾過装置、除濁膜装置等の装置が用いられる。
【００５０】また１次純水処理系の膜処理手段として
は、例えば逆浸透膜装置、精密フィルター等を挙げるこ
とができるがこれに限定されるものではない。またこの
１次純水処理系には、上記方法発明における１次純水処
理のための活性炭ろ過処理、２床３塔式イオン交換装
置，混床式イオン交換装置，電気再生式イオン交換装置
等の脱塩手段、あるいは脱炭酸，真空脱気等の種々の適
宜必要な手段を含み得る。２次純水処理系のイオン交換
手段としては、上記方法発明における２次純水処理のた
めの例えば混床式ポリッシャー、膜処理手段としては、
例えば限外ろ過膜や逆浸透膜が用いられる。また紫外線
照射処理、脱気装置などの種々の適宜必要な手段を含み
得る。
は、例えば逆浸透膜装置、精密フィルター等を挙げるこ
とができるがこれに限定されるものではない。またこの
１次純水処理系には、上記方法発明における１次純水処
理のための活性炭ろ過処理、２床３塔式イオン交換装
置，混床式イオン交換装置，電気再生式イオン交換装置
等の脱塩手段、あるいは脱炭酸，真空脱気等の種々の適
宜必要な手段を含み得る。２次純水処理系のイオン交換
手段としては、上記方法発明における２次純水処理のた
めの例えば混床式ポリッシャー、膜処理手段としては、
例えば限外ろ過膜や逆浸透膜が用いられる。また紫外線
照射処理、脱気装置などの種々の適宜必要な手段を含み
得る。
【００５１】上記装置においては、電解装置は、１次純
水槽前段の配管にバイパスして設ける、１次純水槽にバ
イパスして設ける、１次純水槽と２次純水処理系の間の
配管にバイパスして設ける、２次純水処理系の通水配管
あるいは各種装置にバイパスして設ける、のいずれの態
様でも設けることができ、かつ該電解装置は系内洗浄の
必要時に稼動される。なおこの系内洗浄時にバイパス路
が通水するように切換弁が併せて設けられる。系内洗浄
を行なった後の電解水は上記方法発明で説明したよう
に、２次純水処理系の後段あるいは循環系の所定の位置
から系外に排出される。
水槽前段の配管にバイパスして設ける、１次純水槽にバ
イパスして設ける、１次純水槽と２次純水処理系の間の
配管にバイパスして設ける、２次純水処理系の通水配管
あるいは各種装置にバイパスして設ける、のいずれの態
様でも設けることができ、かつ該電解装置は系内洗浄の
必要時に稼動される。なおこの系内洗浄時にバイパス路
が通水するように切換弁が併せて設けられる。系内洗浄
を行なった後の電解水は上記方法発明で説明したよう
に、２次純水処理系の後段あるいは循環系の所定の位置
から系外に排出される。
【００５２】本発明の装置において用いられる電解装置
は、純水あるいは超純水（２次純水処理系途中の処理水
を含む）を原水として、電気分解することによりアノー
ド水、カソード水の少なくともいずれかの電解水を製造
するものであり、殺菌目的の場合にはアノード水のみを
下流側に通水し、微粒子の洗浄除去の場合にはカソード
水のみを下流側に通水するが、両者を通水する場合に
は、アノード水を通水した後、カソード水を通水するこ
とが望ましい。この順序で通水することにより、アノー
ド水により系内に付着，増殖していた生菌を殺菌し、次
いで死滅した菌（微粒子とみなすことができる）をカソ
ード水により洗浄除去でき、系内の殺菌および、微粒子
除去を効果的に行なえるからである。
は、純水あるいは超純水（２次純水処理系途中の処理水
を含む）を原水として、電気分解することによりアノー
ド水、カソード水の少なくともいずれかの電解水を製造
するものであり、殺菌目的の場合にはアノード水のみを
下流側に通水し、微粒子の洗浄除去の場合にはカソード
水のみを下流側に通水するが、両者を通水する場合に
は、アノード水を通水した後、カソード水を通水するこ
とが望ましい。この順序で通水することにより、アノー
ド水により系内に付着，増殖していた生菌を殺菌し、次
いで死滅した菌（微粒子とみなすことができる）をカソ
ード水により洗浄除去でき、系内の殺菌および、微粒子
除去を効果的に行なえるからである。
【００５３】上記構成において、２次純水処理系の系内
下流にアノード水を流した後これを２次純水処理系の後
段あるいは循環系から系外に排出する場合には、排出す
る水にカソード水を混合させることができる。このよう
にすることで、排出するアノード水に含まれる酸化性物
質（オゾン等）の酸化力をカソード水に含まれる還元性
物質により還元させることができ、排出系における処理
を容易化できる利点がある。また反対に、２次純水処理
系の系内下流にカソード水を流した後これを２次純水処
理系の後段あるいは循環系から系外に排出する場合に
は、排出する水にアノード水を混合させることもでき
る。
下流にアノード水を流した後これを２次純水処理系の後
段あるいは循環系から系外に排出する場合には、排出す
る水にカソード水を混合させることができる。このよう
にすることで、排出するアノード水に含まれる酸化性物
質（オゾン等）の酸化力をカソード水に含まれる還元性
物質により還元させることができ、排出系における処理
を容易化できる利点がある。また反対に、２次純水処理
系の系内下流にカソード水を流した後これを２次純水処
理系の後段あるいは循環系から系外に排出する場合に
は、排出する水にアノード水を混合させることもでき
る。
【００５４】また上記２次純水処理系等に電解装置を配
置した構成に代えて、２次純水系で得られた超純水を上
記純水タンクに戻す循環系と、この循環系の一部から分
岐されてユースポイントに超純水を送水する分岐送水系
とを備えた超純水製造装置において、循環系の途中に電
気分解装置をバイパスして設けて、２次純水を原水とし
て電気分解処理してアノード水，カソード水の少なくと
もいずれかを製造し、これを循環系のユースポイントヘ
の分岐部よりも下流位置から系内下流へ流すように設け
ることもできる。
置した構成に代えて、２次純水系で得られた超純水を上
記純水タンクに戻す循環系と、この循環系の一部から分
岐されてユースポイントに超純水を送水する分岐送水系
とを備えた超純水製造装置において、循環系の途中に電
気分解装置をバイパスして設けて、２次純水を原水とし
て電気分解処理してアノード水，カソード水の少なくと
もいずれかを製造し、これを循環系のユースポイントヘ
の分岐部よりも下流位置から系内下流へ流すように設け
ることもできる。
【００５５】循環系の下流に流すアノード水，カソード
水はいずれか一方のみを流すこともできるし、双方を流
すこともでき、双方を流す場合には切換手段により、こ
れらの電解水を交互に流すことができる。
水はいずれか一方のみを流すこともできるし、双方を流
すこともでき、双方を流す場合には切換手段により、こ
れらの電解水を交互に流すことができる。
【００５６】上記のように循環系に電解装置を設けた場
合には、電解水を循環系下流のみならず、更に２次純水
処理系にアノード水を流すように設けることで、循環系
のリターン側の配管、１次純水槽、２次純水処理系に順
次に流すことができる。また２次純水処理系までアノー
ド水を流す場合には、この２次純水処理系に設けられて
いるイオン交換手段の前段位置まで通水し、このイオン
交換手段のイオン交換樹脂劣化を生じない程度にまで該
アノード水を還元させることが好ましい。このアノード
水の還元のためには電解装置で製造したカソード水を用
いることができ、配管及び切換弁によりカソード水の混
合手段を設け、更にこのカソード水混合位置の後段に水
素化触媒を配置することで、アノード水に含まれるオゾ
ン，酸素の酸化力をイオン交換樹脂劣化を生じない程度
にまでなくすことができる。なおイオン交換樹脂劣化を
生じない程度にアノード水に混合するカソード水の量
は、電解装置で製造されたアノード水に含まれるオゾン
の量、配管途中で消費された量などにより変化するので
一律に決められないが、実験等により確認することは容
易であり、これに応じたカソード水の混合量を決めるこ
とができる。この装置を用いる場合には、アノード水を
連続的に通水して洗浄を行なうことができる。また、請
求項１１に記載の超純水製造装置は、上述した前処理装
置、１次純水処理系、２次純水処理系とを備えていて、
この２次純水処理系が紫外線照射手段を有している場合
に、該紫外線照射手段の上流側（特に直前）に電解装置
を設けて、１次純水あるいは２次純水処理中の処理水を
原水として電気分解処理したアノード水を製造して該紫
外線照射手段に流すようにしたことを特徴とするもので
ある。
合には、電解水を循環系下流のみならず、更に２次純水
処理系にアノード水を流すように設けることで、循環系
のリターン側の配管、１次純水槽、２次純水処理系に順
次に流すことができる。また２次純水処理系までアノー
ド水を流す場合には、この２次純水処理系に設けられて
いるイオン交換手段の前段位置まで通水し、このイオン
交換手段のイオン交換樹脂劣化を生じない程度にまで該
アノード水を還元させることが好ましい。このアノード
水の還元のためには電解装置で製造したカソード水を用
いることができ、配管及び切換弁によりカソード水の混
合手段を設け、更にこのカソード水混合位置の後段に水
素化触媒を配置することで、アノード水に含まれるオゾ
ン，酸素の酸化力をイオン交換樹脂劣化を生じない程度
にまでなくすことができる。なおイオン交換樹脂劣化を
生じない程度にアノード水に混合するカソード水の量
は、電解装置で製造されたアノード水に含まれるオゾン
の量、配管途中で消費された量などにより変化するので
一律に決められないが、実験等により確認することは容
易であり、これに応じたカソード水の混合量を決めるこ
とができる。この装置を用いる場合には、アノード水を
連続的に通水して洗浄を行なうことができる。また、請
求項１１に記載の超純水製造装置は、上述した前処理装
置、１次純水処理系、２次純水処理系とを備えていて、
この２次純水処理系が紫外線照射手段を有している場合
に、該紫外線照射手段の上流側（特に直前）に電解装置
を設けて、１次純水あるいは２次純水処理中の処理水を
原水として電気分解処理したアノード水を製造して該紫
外線照射手段に流すようにしたことを特徴とするもので
ある。
【００５７】このように構成した超純水製造装置によれ
ば、紫外線照射装置にオゾンを含むアノード水が流れる
ので、紫外線照射による殺菌，有機物分解がより効率的
に行なわれるという利点が得られる他、コロイダルシリ
カのイオン化が図られてシリカ除去能が向上する作用も
得られる。
ば、紫外線照射装置にオゾンを含むアノード水が流れる
ので、紫外線照射による殺菌，有機物分解がより効率的
に行なわれるという利点が得られる他、コロイダルシリ
カのイオン化が図られてシリカ除去能が向上する作用も
得られる。
【００５８】上記紫外線照射装置の上流に設ける電解装
置は、この２次純水系で得られた超純水を上記純水タン
クに戻す循環系の途中にバイパスして設けることもで
き、この場合にも上記と同様の作用が得られる。
置は、この２次純水系で得られた超純水を上記純水タン
クに戻す循環系の途中にバイパスして設けることもで
き、この場合にも上記と同様の作用が得られる。
【００５９】これらの紫外線照射装置にアノード水を流
す場合には、該紫外線照射装置の後段に、化学的又は物
理的な脱酸素手段を設けることが好ましい。化学的脱酸
素手段としては、電解装置で製造されたカソード水を紫
外線照射手段からの流出水に混合する手段、及びこの混
合部の後段に設けられた水素化触媒塔の組合わせを挙げ
ることができ、また物理的な脱酸素手段としては膜脱気
装置又は真空脱気装置のような脱気装置を挙げることが
できる。
す場合には、該紫外線照射装置の後段に、化学的又は物
理的な脱酸素手段を設けることが好ましい。化学的脱酸
素手段としては、電解装置で製造されたカソード水を紫
外線照射手段からの流出水に混合する手段、及びこの混
合部の後段に設けられた水素化触媒塔の組合わせを挙げ
ることができ、また物理的な脱酸素手段としては膜脱気
装置又は真空脱気装置のような脱気装置を挙げることが
できる。
【００６０】このように設けることで紫外線照射装置に
連続的にアノード水を流すことができる。
連続的にアノード水を流すことができる。
【００６１】以上の各超純水製造装置に用いられる電解
装置としては、上述したように供給水として純水又は超
純水をそのまま用いることができるが、供給水に電解質
を添加して電解質水溶液を電気分解するように設けるこ
ともでき、また純水又は超純水を電解した後、アノード
水に酸を添加し、あるいはカソード水に塩基を添加する
こともできる。
装置としては、上述したように供給水として純水又は超
純水をそのまま用いることができるが、供給水に電解質
を添加して電解質水溶液を電気分解するように設けるこ
ともでき、また純水又は超純水を電解した後、アノード
水に酸を添加し、あるいはカソード水に塩基を添加する
こともできる。
【００６２】アノード室，カソード室への供給水あるい
はアノード水，カソード水に添加される電解質として
は、各種の酸、塩基、塩、又はこれらの任意の割合の混
合物の中から目的に応じて選定することができ、その濃
度も特に限定されるものではないが、一般的には濃度
０．００１ｍｇ／ｌ〜１００ｇ／ｌ、好ましくは０．０
１ｍｇ／ｌ〜１０ｇ／ｌ程度の範囲とするのが好ましい
場合が多い。酸としては、例えば塩酸、硫酸、炭酸、硝
酸等の無機酸、あるいは酢酸、クエン酸、蓚酸等の有機
酸等が用いられ、塩基としては、アンモニア、アミン系
等の塩基等を用いることができる。電解質としては上記
の他に、ｐＨ緩衝能のある塩、例えばアンモニウム塩、
炭酸塩、蓚酸塩等、又はこれらの塩と酸あるいは塩基の
混合物を用いることもでき、電解電流等の電解条件が電
解水のｐＨへ与える影響を少なくすることができ、アノ
ード水及びカソード水の性質を独立して設定することを
より容易とすることができる。
はアノード水，カソード水に添加される電解質として
は、各種の酸、塩基、塩、又はこれらの任意の割合の混
合物の中から目的に応じて選定することができ、その濃
度も特に限定されるものではないが、一般的には濃度
０．００１ｍｇ／ｌ〜１００ｇ／ｌ、好ましくは０．０
１ｍｇ／ｌ〜１０ｇ／ｌ程度の範囲とするのが好ましい
場合が多い。酸としては、例えば塩酸、硫酸、炭酸、硝
酸等の無機酸、あるいは酢酸、クエン酸、蓚酸等の有機
酸等が用いられ、塩基としては、アンモニア、アミン系
等の塩基等を用いることができる。電解質としては上記
の他に、ｐＨ緩衝能のある塩、例えばアンモニウム塩、
炭酸塩、蓚酸塩等、又はこれらの塩と酸あるいは塩基の
混合物を用いることもでき、電解電流等の電解条件が電
解水のｐＨへ与える影響を少なくすることができ、アノ
ード水及びカソード水の性質を独立して設定することを
より容易とすることができる。
【００６３】電解質の添加は、アノード室（水）とカソ
ード室（水）の双方に行うこともできる他、いずれか一
方についてだけ行うこともできる。殺菌を主な目的とす
る装置の場合には、酸性で且つ酸化性のアノード水を製
造すればよいからアノード室（水）に電解質添加手段を
設け、微粒子低減を主な目的とする装置の場合にはアル
カリ性で且つ還元性のカソード水を製造すればよいから
である。
ード室（水）の双方に行うこともできる他、いずれか一
方についてだけ行うこともできる。殺菌を主な目的とす
る装置の場合には、酸性で且つ酸化性のアノード水を製
造すればよいからアノード室（水）に電解質添加手段を
設け、微粒子低減を主な目的とする装置の場合にはアル
カリ性で且つ還元性のカソード水を製造すればよいから
である。
【００６４】また以上の超純水電解装置としては、二槽
式，三槽式など電解槽の形式に限定されるものではない
が、アノード室、カソード室、及び中間室の３室で構成
し、各室を固体電解質であるイオン交換膜により仕切っ
た構造の三槽式の電解装置が好ましく用いられる。この
ような三槽式電解槽としては、中間室に固体電解質であ
るイオン交換樹脂を充填した構成のもの、カソード電極
とアノード電極が中間室と仕切るイオン交換膜に接した
構造に設けたものが好ましい電解装置として挙げること
ができる。
式，三槽式など電解槽の形式に限定されるものではない
が、アノード室、カソード室、及び中間室の３室で構成
し、各室を固体電解質であるイオン交換膜により仕切っ
た構造の三槽式の電解装置が好ましく用いられる。この
ような三槽式電解槽としては、中間室に固体電解質であ
るイオン交換樹脂を充填した構成のもの、カソード電極
とアノード電極が中間室と仕切るイオン交換膜に接した
構造に設けたものが好ましい電解装置として挙げること
ができる。
【００６５】また、電解装置の後段には、電解水をろ過
するための例えば孔径ｌμｍ以下のフィルターを設ける
ことも好ましい。
するための例えば孔径ｌμｍ以下のフィルターを設ける
ことも好ましい。
【００６６】上記電解槽は、供給する原水や電解質、及
び生成する電解水に対して耐性を有するものであれば限
定されるものではないが、１次純水を原水として、微粒
子の実質的に混入していない電解水を製造するものであ
るから、構成部材としては微粒子等が溶出しない素材の
ものを用いることが好ましい。例えば構造材としては、
ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、
アクリル樹脂等の有機材料や、セラミックス、ガラス等
の無機材料、及び接液面にゴムライニングや酸化皮膜処
理等の表面処理を施した金属材料等から好ましいものを
選択することができ、また隔膜としては、例えばセルロ
ース、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、
ポリスチレン、フッ素樹脂等の高分子材料や、セラミッ
クス等の無機材料等よりなるフィルタ又は有孔性フィル
ム、イオン交換膜等を用いることができる。イオン交換
膜を用いれば、イオン交換膜の導電性によって電解電圧
を低下させ一定の電解電流を流す場合の消費電力を節約
できる。電極とイオン交換膜を密着させるように配置す
れば更に電解電圧を低下させ、消費電力を節約できる利
点がある。また、アノード室と中間室を区分する隔膜に
カチオン交換膜を用い、カソード室と中間室を区分する
隔膜にアニオン交換膜を用いた場合には、各々の膜のイ
オン排除効果により、アノード室及びカソード室より、
中間室へ拡散する酸化性及び還元性物質の量を低減する
こともできる。カチオン交換膜としては、フッ素樹脂母
体に−ＳＯ3 -基を導入した強酸性カチオン交換膜、例え
ばＮａｆｉｏｎ（商品名：デュポン社製）ｌ１７やＮａ
ｆｉｏｎ３５０等や、又はスチレン−ジビニルベンゼン
共重合体母体に−ＳＯ3 -基を導入した強酸性カチオン交
換膜、例えばネオセプタＣＭＸ（徳山曹達社製）等を用
いることができ、アニオン交換膜としては、フッ素樹脂
母体に陰イオン交換基を導入したアニオン交換膜、例え
ばＴＯＳＦＬＥＸ ＩＥ−ＳＡ，ＴＯＳＦＬＥＸ ＩＥ
−ＤＦ，ＴＯＳＦＬＥＸ ＩＥ−ＳＦ（東ソー社製）等
や、又はスチレン−ジビニルベンゼン共重合体を母体と
するアニオン交換膜、例えばネオセプタＡＭＨ（徳山曹
達社製）等を用いることができる。
び生成する電解水に対して耐性を有するものであれば限
定されるものではないが、１次純水を原水として、微粒
子の実質的に混入していない電解水を製造するものであ
るから、構成部材としては微粒子等が溶出しない素材の
ものを用いることが好ましい。例えば構造材としては、
ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、
アクリル樹脂等の有機材料や、セラミックス、ガラス等
の無機材料、及び接液面にゴムライニングや酸化皮膜処
理等の表面処理を施した金属材料等から好ましいものを
選択することができ、また隔膜としては、例えばセルロ
ース、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、
ポリスチレン、フッ素樹脂等の高分子材料や、セラミッ
クス等の無機材料等よりなるフィルタ又は有孔性フィル
ム、イオン交換膜等を用いることができる。イオン交換
膜を用いれば、イオン交換膜の導電性によって電解電圧
を低下させ一定の電解電流を流す場合の消費電力を節約
できる。電極とイオン交換膜を密着させるように配置す
れば更に電解電圧を低下させ、消費電力を節約できる利
点がある。また、アノード室と中間室を区分する隔膜に
カチオン交換膜を用い、カソード室と中間室を区分する
隔膜にアニオン交換膜を用いた場合には、各々の膜のイ
オン排除効果により、アノード室及びカソード室より、
中間室へ拡散する酸化性及び還元性物質の量を低減する
こともできる。カチオン交換膜としては、フッ素樹脂母
体に−ＳＯ3 -基を導入した強酸性カチオン交換膜、例え
ばＮａｆｉｏｎ（商品名：デュポン社製）ｌ１７やＮａ
ｆｉｏｎ３５０等や、又はスチレン−ジビニルベンゼン
共重合体母体に−ＳＯ3 -基を導入した強酸性カチオン交
換膜、例えばネオセプタＣＭＸ（徳山曹達社製）等を用
いることができ、アニオン交換膜としては、フッ素樹脂
母体に陰イオン交換基を導入したアニオン交換膜、例え
ばＴＯＳＦＬＥＸ ＩＥ−ＳＡ，ＴＯＳＦＬＥＸ ＩＥ
−ＤＦ，ＴＯＳＦＬＥＸ ＩＥ−ＳＦ（東ソー社製）等
や、又はスチレン−ジビニルベンゼン共重合体を母体と
するアニオン交換膜、例えばネオセプタＡＭＨ（徳山曹
達社製）等を用いることができる。
【００６７】アノード，カソードの電極としては、金
属、合金、金属酸化物等、あるいはこれらの金属等基板
に上記いずれかの金属等をメッキ又はコーティングした
ものや、焼結炭素等の導電性材料を用いることができ、
その形状としては、板状、パンチングプレート、メッシ
ュ等のものを用いることができる。特に、アノードの材
質としては、耐酸性に優れ、酸化されにくいものである
ことが望ましく、例えばＰｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、β−ＰｂＯ
2 、ＮｉＦｅ2 Ｏ4 等を好適に用いることができ、カソ
ードの材質としては、耐アルカリ性に優れたものである
ことが望ましく、例えばＰｔ、Ｐｄ、Ａｕ、炭素鋼、ス
テンレス、Ａｇ、Ｃｕ、グラファイト、ガラス質カーボ
ン等の使用が望ましい。
属、合金、金属酸化物等、あるいはこれらの金属等基板
に上記いずれかの金属等をメッキ又はコーティングした
ものや、焼結炭素等の導電性材料を用いることができ、
その形状としては、板状、パンチングプレート、メッシ
ュ等のものを用いることができる。特に、アノードの材
質としては、耐酸性に優れ、酸化されにくいものである
ことが望ましく、例えばＰｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、β−ＰｂＯ
2 、ＮｉＦｅ2 Ｏ4 等を好適に用いることができ、カソ
ードの材質としては、耐アルカリ性に優れたものである
ことが望ましく、例えばＰｔ、Ｐｄ、Ａｕ、炭素鋼、ス
テンレス、Ａｇ、Ｃｕ、グラファイト、ガラス質カーボ
ン等の使用が望ましい。
【００６８】
【実施例】以下本発明を図面に示す実施例に基づいて更
に説明する。
に説明する。
【００６９】実施例１ 図１は本発明の実施例１の超純水製造装置の構成概要を
ブロック図で示したものであり、この図において、１は
工業用水等の原水の懸濁物質と有機物の一部を除去する
前処理装置であり、この前処理が行なわれた処理水は、
配管１００を通して、図示しない２床３塔（２Ｂ３Ｔ）
式イオン交換装置、逆浸透膜（ＲＯ）装置、真空脱気装
置、再生型混床式脱塩装置等からなる１次純水処理装置
２により１次純水とされた後、配管１０１を通して、本
例において特徴的に構成されたバイパス接続されている
電気分解装置（電解装置）３を通さずに、１次純水槽４
に流入するように設けられている。なお定期的に行う系
内殺菌時には、通常運転時に通水されている上記配管１
０１を、図示しない常開型開閉弁を閉じて遮断すると共
に電解装置３へのバイパス配管１０１１に設けた常閉型
開閉弁を開いて通水するように設けられている。上記電
解装置３の具体的な構成及び作用については後述する。
ブロック図で示したものであり、この図において、１は
工業用水等の原水の懸濁物質と有機物の一部を除去する
前処理装置であり、この前処理が行なわれた処理水は、
配管１００を通して、図示しない２床３塔（２Ｂ３Ｔ）
式イオン交換装置、逆浸透膜（ＲＯ）装置、真空脱気装
置、再生型混床式脱塩装置等からなる１次純水処理装置
２により１次純水とされた後、配管１０１を通して、本
例において特徴的に構成されたバイパス接続されている
電気分解装置（電解装置）３を通さずに、１次純水槽４
に流入するように設けられている。なお定期的に行う系
内殺菌時には、通常運転時に通水されている上記配管１
０１を、図示しない常開型開閉弁を閉じて遮断すると共
に電解装置３へのバイパス配管１０１１に設けた常閉型
開閉弁を開いて通水するように設けられている。上記電
解装置３の具体的な構成及び作用については後述する。
【００７０】上記１次純水処理装置２の各装置により順
次処理された処理水は、イオン除去、有機物，微粒子等
の不純物除去がされた導電率１０μＳ／ｃｍ以下の高純
度な水（１次純水）となる。
次処理された処理水は、イオン除去、有機物，微粒子等
の不純物除去がされた導電率１０μＳ／ｃｍ以下の高純
度な水（１次純水）となる。
【００７１】１次純水槽に貯溜された水は、配管１０２
を通して２次純水処理装置５に送られ、本例では、１次
純水中の有機物を酸化分解とバクテリアの殺菌を行なう
紫外線照射装置５０１、イオン負荷がほとんどない１次
純水中のイオンをさらに除去する非再生式混床型イオン
交換樹脂塔５０２、更に微粒子等の除去をする限外ろ過
膜５０３を経て超純水とされる。なお１０３は２次純水
処理装置５内の配管であり、非再生式混床型イオン交換
樹脂塔５０２に対してはバイパス配管１０３１が設けら
れていて、通常運転時には配管１０３を通じて非再生式
混床型イオン交換樹脂塔５０２に通水されるが、電解装
置３を稼動して系内殺菌を行なう場合には図示しない切
換弁により通水がバイパス配管１０３１側に切換えられ
るようになっている。
を通して２次純水処理装置５に送られ、本例では、１次
純水中の有機物を酸化分解とバクテリアの殺菌を行なう
紫外線照射装置５０１、イオン負荷がほとんどない１次
純水中のイオンをさらに除去する非再生式混床型イオン
交換樹脂塔５０２、更に微粒子等の除去をする限外ろ過
膜５０３を経て超純水とされる。なお１０３は２次純水
処理装置５内の配管であり、非再生式混床型イオン交換
樹脂塔５０２に対してはバイパス配管１０３１が設けら
れていて、通常運転時には配管１０３を通じて非再生式
混床型イオン交換樹脂塔５０２に通水されるが、電解装
置３を稼動して系内殺菌を行なう場合には図示しない切
換弁により通水がバイパス配管１０３１側に切換えられ
るようになっている。
【００７２】２次純水処理装置５で処理された超純水
は、本例では１次純水槽４にこれを戻す循環系を構成し
ている循環配管１０４に通水され、この循環ループの途
中で分岐された分岐配管１０４３を通してユースポイン
ト（使用場所）１０４４に送水されるようになってい
る。なお、上記循環配管１０４はその分岐部の上流側部
分を１０４１、下流側（リターン側）部分を１０４２で
示した。
は、本例では１次純水槽４にこれを戻す循環系を構成し
ている循環配管１０４に通水され、この循環ループの途
中で分岐された分岐配管１０４３を通してユースポイン
ト（使用場所）１０４４に送水されるようになってい
る。なお、上記循環配管１０４はその分岐部の上流側部
分を１０４１、下流側（リターン側）部分を１０４２で
示した。
【００７３】以上のように構成した本例の超純水製造装
置において、配管１０１にバイパスした配管１０１１に
接続された上記電解装置３は、アノード電極が配置され
たアノード室１０１２と、カソード電極が配置されたカ
ソード室１０１３とが隔膜により区分されていて、所定
の電気分解が行なわれてアノード室１０１２で製造され
たアノード水が流出配管１０１４から配管１０１に合流
して１次純水槽４に送られるようになっている。また本
例においてはカソード室で製造されたカソード水は、排
出配管１０１５を介して、循環配管に設けられた排出配
管１０５に送られ系外に排出されるようになっている。
置において、配管１０１にバイパスした配管１０１１に
接続された上記電解装置３は、アノード電極が配置され
たアノード室１０１２と、カソード電極が配置されたカ
ソード室１０１３とが隔膜により区分されていて、所定
の電気分解が行なわれてアノード室１０１２で製造され
たアノード水が流出配管１０１４から配管１０１に合流
して１次純水槽４に送られるようになっている。また本
例においてはカソード室で製造されたカソード水は、排
出配管１０１５を介して、循環配管に設けられた排出配
管１０５に送られ系外に排出されるようになっている。
【００７４】なお図１は本例装置の構成を概略的にブロ
ック図で示しているため、実際の工業的規模の装置の配
置を必ずしも示すものではないが、循環配管１０４は場
合によっては数百ｍにも及び、また一般的には、循環配
管１０４から分岐されて送水されるユースポイント１０
４４は場合によっては数十ｍにも及ぶ相当に長い分岐配
管１０４３で接続されるものであり、更に、ユースポイ
ント１０４４は数十ケ所と多数存在し、分岐配管の数も
数十ケ所存在するので、循環配管１０４から排水配管１
０５に排水する位置は、１次純水槽４の直前となるよう
に設けることが好ましい。
ック図で示しているため、実際の工業的規模の装置の配
置を必ずしも示すものではないが、循環配管１０４は場
合によっては数百ｍにも及び、また一般的には、循環配
管１０４から分岐されて送水されるユースポイント１０
４４は場合によっては数十ｍにも及ぶ相当に長い分岐配
管１０４３で接続されるものであり、更に、ユースポイ
ント１０４４は数十ケ所と多数存在し、分岐配管の数も
数十ケ所存在するので、循環配管１０４から排水配管１
０５に排水する位置は、１次純水槽４の直前となるよう
に設けることが好ましい。
【００７５】以上のような構成の超純水製造装置におい
て、電解装置３で製造されたアノード水を用いた殺菌処
理は次のように行なわれる。
て、電解装置３で製造されたアノード水を用いた殺菌処
理は次のように行なわれる。
【００７６】すなわち、超純水を製造する通常運転時に
は、原水は前処理装置１，配管１００，１次純水処理装
置２，配管１０１，１次純水槽４，配管１０２，２次純
水処理装置５（内部は紫外線照射装置５０１，配管１０
３，非再生式混床型イオン交換樹脂塔５０２，配管１０
３，限外ろ過膜装置５０３），循環配管１０４（１０４
１，１０４２）の順に通水されて、製造された超純水は
循環配管１０４から分岐配管１０４３を通してユースポ
イント１０４４に送水され、余剰の超純水は１次純水槽
４に戻される。
は、原水は前処理装置１，配管１００，１次純水処理装
置２，配管１０１，１次純水槽４，配管１０２，２次純
水処理装置５（内部は紫外線照射装置５０１，配管１０
３，非再生式混床型イオン交換樹脂塔５０２，配管１０
３，限外ろ過膜装置５０３），循環配管１０４（１０４
１，１０４２）の順に通水されて、製造された超純水は
循環配管１０４から分岐配管１０４３を通してユースポ
イント１０４４に送水され、余剰の超純水は１次純水槽
４に戻される。
【００７７】次に、所定の期間毎に行なわれる定期的な
系内殺菌洗浄の際には、配管１０１と配管１０３の通水
切換が行なわれ、１次純水処理装置２からの１次純水
は、バイパス配管１０１１から電解装置３のアノード室
１０１２及びカソード室１０１３に供給され、所定の電
気分解処理が行なわれる。そしてこのアノード水は、流
出配管１０１４から、１次純水槽４，２次純水処理装置
５（但し非再生式混床型イオン交換樹脂塔５０２は通水
せずにバイパス配管１０３１を通水），循環配管１０４
を通って、排出配管１０５から系外に排出される。これ
により、アノード水が通水された配管や各装置内は、酸
化性のアノード水により殺菌処理される。殺菌処理後
は、配管通水系を上記通常運転時の状態に戻して所定時
間の超純水のブロー運転を行なった後、超純水製造の通
常状態に復帰する。
系内殺菌洗浄の際には、配管１０１と配管１０３の通水
切換が行なわれ、１次純水処理装置２からの１次純水
は、バイパス配管１０１１から電解装置３のアノード室
１０１２及びカソード室１０１３に供給され、所定の電
気分解処理が行なわれる。そしてこのアノード水は、流
出配管１０１４から、１次純水槽４，２次純水処理装置
５（但し非再生式混床型イオン交換樹脂塔５０２は通水
せずにバイパス配管１０３１を通水），循環配管１０４
を通って、排出配管１０５から系外に排出される。これ
により、アノード水が通水された配管や各装置内は、酸
化性のアノード水により殺菌処理される。殺菌処理後
は、配管通水系を上記通常運転時の状態に戻して所定時
間の超純水のブロー運転を行なった後、超純水製造の通
常状態に復帰する。
【００７８】以上のような構成の本例装置によれば、超
純水を製造する系内に設けた電解装置３により、微粒子
等が実質的に混入していない１次純水を用いて殺菌用の
アノード水を製造しているので、従来のような系外から
の薬品の添加や、同じく系外からのオゾンガスの溶解注
入を行なうことがなく、殺菌洗浄に伴って系外から微粒
子等が持ち込まれる虞れが全くないという利点が得られ
る。
純水を製造する系内に設けた電解装置３により、微粒子
等が実質的に混入していない１次純水を用いて殺菌用の
アノード水を製造しているので、従来のような系外から
の薬品の添加や、同じく系外からのオゾンガスの溶解注
入を行なうことがなく、殺菌洗浄に伴って系外から微粒
子等が持ち込まれる虞れが全くないという利点が得られ
る。
【００７９】また、本例においては電解装置３で製造さ
れた還元性を有するカソード水を、そのカソード室１０
１３からの流出配管１０１５を介して排出配管１０５に
流して、循環系から排出する殺菌処理後のアノード水と
合流させるように設けているので、排水は酸化性，還元
性が失われた排水となるため、新たに、酸化剤、還元剤
といった薬品を系外から添加する必要がなく、放流又は
再利用のための処理を行なうことができるという利点が
得られる。
れた還元性を有するカソード水を、そのカソード室１０
１３からの流出配管１０１５を介して排出配管１０５に
流して、循環系から排出する殺菌処理後のアノード水と
合流させるように設けているので、排水は酸化性，還元
性が失われた排水となるため、新たに、酸化剤、還元剤
といった薬品を系外から添加する必要がなく、放流又は
再利用のための処理を行なうことができるという利点が
得られる。
【００８０】実施例２ 図２に示される本例は、実施例１においては電解装置３
のアノード水を用いて系内殺菌洗浄を行なうようにして
いるのに対し、電解装置３のカソード室１０１３で製造
されるカソード水を用いて系内付着微粒子の除去洗浄を
行なうようにした点、及びアノード水からの流出配管１
０１４を排出配管１０５に接続して洗浄後のカソード水
を系外に排出する際に合流させるように設けた点、で異
なるものであるが、他の装置，配管の構成及び通常運転
と微粒子除去洗浄の切換え操作は実施例１と同一であ
る。
のアノード水を用いて系内殺菌洗浄を行なうようにして
いるのに対し、電解装置３のカソード室１０１３で製造
されるカソード水を用いて系内付着微粒子の除去洗浄を
行なうようにした点、及びアノード水からの流出配管１
０１４を排出配管１０５に接続して洗浄後のカソード水
を系外に排出する際に合流させるように設けた点、で異
なるものであるが、他の装置，配管の構成及び通常運転
と微粒子除去洗浄の切換え操作は実施例１と同一であ
る。
【００８１】本例の超純水製造装置によれば、実施例１
と同様に、超純水を製造する系内に設けた電解装置３に
より微粒子等が実質的に混入していない１次純水を用い
て微粒子除去用のカソード水を製造するので、薬品添加
や、水素ガス溶解注入に伴う系外からの微粒子等の混入
の虞れがないという利点が得られ、また排出配管におい
てのアノード水のカソード水への合流による利点も同様
に得られる。
と同様に、超純水を製造する系内に設けた電解装置３に
より微粒子等が実質的に混入していない１次純水を用い
て微粒子除去用のカソード水を製造するので、薬品添加
や、水素ガス溶解注入に伴う系外からの微粒子等の混入
の虞れがないという利点が得られ、また排出配管におい
てのアノード水のカソード水への合流による利点も同様
に得られる。
【００８２】以上の実施例１，２で用いられる電解装置
３には、具体的には例えば図９に示した三槽式の電解装
置３００を用いることができる。
３には、具体的には例えば図９に示した三槽式の電解装
置３００を用いることができる。
【００８３】この三槽式電解装置３００は、図９に示す
ように、アノード室３２１、カソード室３２３、及びこ
れらの間に仕切りとして設けた固体電解質であるイオン
交換膜３２４，３２４により区分された中間室３２２と
を有する三槽式構造に設けられていて、各室への純水供
給口３３０，３３０，３３０から超純水が供給される。
なお中間室には固体電解質であるイオン交換樹脂が充填
されている。
ように、アノード室３２１、カソード室３２３、及びこ
れらの間に仕切りとして設けた固体電解質であるイオン
交換膜３２４，３２４により区分された中間室３２２と
を有する三槽式構造に設けられていて、各室への純水供
給口３３０，３３０，３３０から超純水が供給される。
なお中間室には固体電解質であるイオン交換樹脂が充填
されている。
【００８４】そして、アノード室３２１に配置されたア
ノード電極３２６と、カソード室３２３に配置されたカ
ソード電極３２７との間に印加された直流通電により供
給される１次純水が電解され、生成されたアノード水は
アノード水出口３３１から流出される。また生成された
カソード水はアノード水出口３３３から流出される。な
お３３２は中間室水の出口、３２８は電解槽の框体、３
２９は直流電源を示している。なお図１０は、この図９
に示した三槽式電解装置３００の配管接続関係を模式的
に示したものであり、実施例１，２のバイパス配管１０
１１から各三室に１次純水が供給され、アノード室３２
１で製造されたアノード水はその流出配管１０１４を介
して、実施例１では１次純水槽３に送られ、実施例２で
は排出配管１０５に送られる。またカソード室３２３で
製造されたカソード水はその流出配管１０１５を介し
て、実施例１では排出配管１０５に送られ、実施例２で
は排出配管１０５に送られる。
ノード電極３２６と、カソード室３２３に配置されたカ
ソード電極３２７との間に印加された直流通電により供
給される１次純水が電解され、生成されたアノード水は
アノード水出口３３１から流出される。また生成された
カソード水はアノード水出口３３３から流出される。な
お３３２は中間室水の出口、３２８は電解槽の框体、３
２９は直流電源を示している。なお図１０は、この図９
に示した三槽式電解装置３００の配管接続関係を模式的
に示したものであり、実施例１，２のバイパス配管１０
１１から各三室に１次純水が供給され、アノード室３２
１で製造されたアノード水はその流出配管１０１４を介
して、実施例１では１次純水槽３に送られ、実施例２で
は排出配管１０５に送られる。またカソード室３２３で
製造されたカソード水はその流出配管１０１５を介し
て、実施例１では排出配管１０５に送られ、実施例２で
は排出配管１０５に送られる。
【００８５】このような構成の図９の電解装置３００
は、電解質を殆ど含まない１次純水を電解する際に、ア
ノード電極３２６とカソード電極３２７間の、固体電解
質であるイオン交換膜３２４，３２４およびイオン交換
樹脂３２５が電極間の電子の授受の担体となり、低電圧
で１次純水の電解が行えると共に、中間室３２２を設け
たことによって、アノード室３２１とカソード室３２３
の間の液が混じり合うことも防止できるため、本発明の
用途に好ましく用いることができる。
は、電解質を殆ど含まない１次純水を電解する際に、ア
ノード電極３２６とカソード電極３２７間の、固体電解
質であるイオン交換膜３２４，３２４およびイオン交換
樹脂３２５が電極間の電子の授受の担体となり、低電圧
で１次純水の電解が行えると共に、中間室３２２を設け
たことによって、アノード室３２１とカソード室３２３
の間の液が混じり合うことも防止できるため、本発明の
用途に好ましく用いることができる。
【００８６】またこの図９，１０の電解装置３００に代
えて、図１１図に示すように、電解装置に供給する１次
純水に対して、例えばアノード室３２１への供給配管１
０１１１に酸，アルカリ等の電解質を供給する手段３５
１、及びカソード室３２３への供給配管１０１１３に
酸，アルカリ等の電解質を供給する手段３５２を設けた
電解装置３０１や、図１２に示すようにアノード室３２
１，カソード室３２３からの流出配管１０１４，１０１
５に精密ろ過膜などのフィルター３６１，３６２を設け
て微粒子等を除去するようにした電解装置３０２、ある
いは更に、図１３に示すように流出配管１０１４，１０
１５を夫々分岐するように設けた電解装置３０３などを
用いることもできる。また、図示はしていないが、図
９，１０の電解装置３００に代えて、アノード室３２１
からの流出配管１０１４に酸等を添加する手段を設け、
またカソード室３２３流出配管１０１５にアルカリ等の
添加手段を設けて、これらの電解水のｐＨを調整できる
ようにした電解装置を用いることもできる。
えて、図１１図に示すように、電解装置に供給する１次
純水に対して、例えばアノード室３２１への供給配管１
０１１１に酸，アルカリ等の電解質を供給する手段３５
１、及びカソード室３２３への供給配管１０１１３に
酸，アルカリ等の電解質を供給する手段３５２を設けた
電解装置３０１や、図１２に示すようにアノード室３２
１，カソード室３２３からの流出配管１０１４，１０１
５に精密ろ過膜などのフィルター３６１，３６２を設け
て微粒子等を除去するようにした電解装置３０２、ある
いは更に、図１３に示すように流出配管１０１４，１０
１５を夫々分岐するように設けた電解装置３０３などを
用いることもできる。また、図示はしていないが、図
９，１０の電解装置３００に代えて、アノード室３２１
からの流出配管１０１４に酸等を添加する手段を設け、
またカソード室３２３流出配管１０１５にアルカリ等の
添加手段を設けて、これらの電解水のｐＨを調整できる
ようにした電解装置を用いることもできる。
【００８７】また更に、上記実施例１，２の超純水製造
装置を示した図１，２のものにおいて、電解装置３から
の流出配管１０１４，１０１５を、１次純水槽４と排出
配管１０５のいずれにも接続して通水状態を切換弁で切
換えできるように設け、アノード水、カソード水を１次
純水槽４に順次に流すように設けることも勿論できる。
装置を示した図１，２のものにおいて、電解装置３から
の流出配管１０１４，１０１５を、１次純水槽４と排出
配管１０５のいずれにも接続して通水状態を切換弁で切
換えできるように設け、アノード水、カソード水を１次
純水槽４に順次に流すように設けることも勿論できる。
【００８８】例えば、系内洗浄の始めに、図１の状態で
アノード水を一定時間１次純水槽４に流し、その後アノ
ード水の通水を止めて、カソード水を１次純水槽４に流
すように設けることができる。通水の順序は逆であって
もよい。また１次純水に通水していない側の電解水は排
出配管１０５に排出すればよい。
アノード水を一定時間１次純水槽４に流し、その後アノ
ード水の通水を止めて、カソード水を１次純水槽４に流
すように設けることができる。通水の順序は逆であって
もよい。また１次純水に通水していない側の電解水は排
出配管１０５に排出すればよい。
【００８９】参考例１ 上記の図１の状態、次いで図２の状態に通水を切換える
ことができるように通水配管系を構成した電解装置３０
０を用いて、下記表１の条件で、図１（図２）に示した
超純水製造装置の定期的な殺菌洗浄、微粒子除去洗浄を
行なった後の生菌数（個／ｍｌ）、微粒子数（ケ／ｍ
ｌ）の経時変化を調べた。その結果を下記表２に示し
た。
ことができるように通水配管系を構成した電解装置３０
０を用いて、下記表１の条件で、図１（図２）に示した
超純水製造装置の定期的な殺菌洗浄、微粒子除去洗浄を
行なった後の生菌数（個／ｍｌ）、微粒子数（ケ／ｍ
ｌ）の経時変化を調べた。その結果を下記表２に示し
た。
【００９０】なお、測定位置は、分岐配管１０４３への
通水を停止した状態で排出配管１０５からの排出水につ
いて行なった。また生菌数の測定は生菌フィールドモニ
ダーＭＨＷＧＯ ３７００（ミリポア社製）による試料
ろ過後、これをＭ−ＴＧＥ培地を添加し、２５℃で５日
間培養後、生菌コロニーをカウントする方法により行な
い、排水中の微粒子の測定は、レーザー光散乱方式によ
るインライン微粒子カウンター ＳＬＰＣ−Ａ（オルガ
ノ社製）により行なった。
通水を停止した状態で排出配管１０５からの排出水につ
いて行なった。また生菌数の測定は生菌フィールドモニ
ダーＭＨＷＧＯ ３７００（ミリポア社製）による試料
ろ過後、これをＭ−ＴＧＥ培地を添加し、２５℃で５日
間培養後、生菌コロニーをカウントする方法により行な
い、排水中の微粒子の測定は、レーザー光散乱方式によ
るインライン微粒子カウンター ＳＬＰＣ−Ａ（オルガ
ノ社製）により行なった。
【００９１】なお、電解装置３の運転条件は次の通りと
した。
した。
【００９２】流量：各室 ０．１ｍ3 ／ｈ 電流密度：３０ｍＡ／ｃｍ2 アノード水中オゾン濃度：５０００ｐｐｂ カソード水中水素濃度：３０００ｐｐｂ
【００９３】
【表１】
【００９４】
【表２】
【００９５】比較例１ また比較のために、図１４に示した従来の超純水製造装
置を準備し、参考例１と同一条件の前処理装置、１次純
水製造装置で得られた純水を通水，製造できるように装
置を組み立て、上記表１に記載の薬品による殺菌および
微粒子低減処理のための洗浄処理を実施した後の生菌数
（個／ｍｌ）、微粒子数（ケ／ｍｌ）の経時変化を調べ
た。結果を上記表２に示した。
置を準備し、参考例１と同一条件の前処理装置、１次純
水製造装置で得られた純水を通水，製造できるように装
置を組み立て、上記表１に記載の薬品による殺菌および
微粒子低減処理のための洗浄処理を実施した後の生菌数
（個／ｍｌ）、微粒子数（ケ／ｍｌ）の経時変化を調べ
た。結果を上記表２に示した。
【００９６】以上の結果から分かるように，参考例１に
よる場合には、比較例１の場合に比べて、微粒子の低減
が迅速であり、３０日間通水（定常運転）でもほとんど
生菌の増加が認められないことが確認された。
よる場合には、比較例１の場合に比べて、微粒子の低減
が迅速であり、３０日間通水（定常運転）でもほとんど
生菌の増加が認められないことが確認された。
【００９７】実施例３ 図３に示される本例の超純水製造装置は、図１の例にお
ける電解装置３を除き、これに代えて、電解装置３０を
循環配管１０４のリターン側（１０４２）に配置して、
アノード室３１からのアノード水を１次純水槽４に通水
させるように設けると共に、１次純水槽４にバイパスし
たバイパス配管１１０に洗浄液槽６を設け、この洗浄液
槽６から、定期的洗浄のための薬品供給手段（又は純水
加熱手段）６１からの薬品又は加熱純水を１次純水槽４
に流すように設けたところが異なっており、他の装置及
び配管の構成は実施例１と同じであるので共通の装置，
配管には共通の符号を付して説明を省略した。
ける電解装置３を除き、これに代えて、電解装置３０を
循環配管１０４のリターン側（１０４２）に配置して、
アノード室３１からのアノード水を１次純水槽４に通水
させるように設けると共に、１次純水槽４にバイパスし
たバイパス配管１１０に洗浄液槽６を設け、この洗浄液
槽６から、定期的洗浄のための薬品供給手段（又は純水
加熱手段）６１からの薬品又は加熱純水を１次純水槽４
に流すように設けたところが異なっており、他の装置及
び配管の構成は実施例１と同じであるので共通の装置，
配管には共通の符号を付して説明を省略した。
【００９８】なお、電解装置３０のカソード室３２から
のカソード水は、流出配管１０７から排水するか、ある
いは１次純水系以前の工程に戻すように設けている。ま
た１０８はこの電解装置３０に対してバイパスして設け
たバイパス路である。また２次純水処理装置５のバイパ
ス路１０３１は薬品洗浄時に通水されるものである。本
例の超純水製造装置の特徴は、従来は工業的規模での実
施が全くされていなかった循環配管リターン側１０４
２、および１次純水槽４を連続殺菌することが実現でき
るところにある。
のカソード水は、流出配管１０７から排水するか、ある
いは１次純水系以前の工程に戻すように設けている。ま
た１０８はこの電解装置３０に対してバイパスして設け
たバイパス路である。また２次純水処理装置５のバイパ
ス路１０３１は薬品洗浄時に通水されるものである。本
例の超純水製造装置の特徴は、従来は工業的規模での実
施が全くされていなかった循環配管リターン側１０４
２、および１次純水槽４を連続殺菌することが実現でき
るところにある。
【００９９】すなわち、本例装置では、薬品等による系
内殺菌，微粒子除去洗浄のための装置（６，６１，１１
０）は、従来の装置と同様に設備されているが、循環配
管１０４に設けた電解装置３０を用いることにより、定
期的洗浄の頻度を低減することができるからである。
内殺菌，微粒子除去洗浄のための装置（６，６１，１１
０）は、従来の装置と同様に設備されているが、循環配
管１０４に設けた電解装置３０を用いることにより、定
期的洗浄の頻度を低減することができるからである。
【０１００】本例においては、電解装置３０のアノード
水は、流出配管１０６，１次純水槽４、配管１０２を経
て２次純水処理装置５に通水される。そしてこの２次純
水処理装置５に設けられている紫外線照射装置５０１で
の紫外線照射により、オゾンが分解されて酸素となる。
本例はこの溶存酸素を脱気するための装置を有するもの
ではないが、連続運転されて製造される超純水に酸素が
溶存しても差し支えない場合には、問題なく適用するこ
とができる。
水は、流出配管１０６，１次純水槽４、配管１０２を経
て２次純水処理装置５に通水される。そしてこの２次純
水処理装置５に設けられている紫外線照射装置５０１で
の紫外線照射により、オゾンが分解されて酸素となる。
本例はこの溶存酸素を脱気するための装置を有するもの
ではないが、連続運転されて製造される超純水に酸素が
溶存しても差し支えない場合には、問題なく適用するこ
とができる。
【０１０１】実施例４ 図４に示される本例の超純水製造装置は、実施例３の２
次純水処理装置５内において紫外線照射装置５０１の次
段に脱気装置５０４を設けた点において相違するが、他
は図３に示した超純水製造装置と構成は全く同じである
ので、共通する装置、配管には共通の符号を付して説明
を省略した。
次純水処理装置５内において紫外線照射装置５０１の次
段に脱気装置５０４を設けた点において相違するが、他
は図３に示した超純水製造装置と構成は全く同じである
ので、共通する装置、配管には共通の符号を付して説明
を省略した。
【０１０２】本例によれば、紫外線照射装置５０１によ
りオゾンが消去されて酸素として溶存されているもの
を、脱気装置５０４により除去できるので、溶存酸素の
存在が問題となる用途の装置として有効である。なお上
記脱気装置としては例えばＰＴＦＥ製あるいはシリコン
ゴム系材料製の気体透過膜を用いた膜脱気装置あるいは
真空脱気装置等を用いることが好ましい。
りオゾンが消去されて酸素として溶存されているもの
を、脱気装置５０４により除去できるので、溶存酸素の
存在が問題となる用途の装置として有効である。なお上
記脱気装置としては例えばＰＴＦＥ製あるいはシリコン
ゴム系材料製の気体透過膜を用いた膜脱気装置あるいは
真空脱気装置等を用いることが好ましい。
【０１０３】実施例５ 図５に示される本例の超純水製造装置は、実施例３の２
次純水処理装置５内において紫外線照射装置５０１の次
段に水素化触媒塔５０５を設けると共に、電解装置３０
のカソード室３２の流出配管１０７からのカソード水
を、この水素化触媒塔５０５の前段において合流させる
ようにした点において相違するが、他は図３に示した超
純水製造装置と構成は全く同じであるので、共通する装
置、配管には共通の符号を付して説明を省略した。なお
上記水素化触媒として例えば金属パラジウム担持樹脂ア
ンバーリスト（登録商標）ＥＲ−２０６等を用いること
が望ましい。
次純水処理装置５内において紫外線照射装置５０１の次
段に水素化触媒塔５０５を設けると共に、電解装置３０
のカソード室３２の流出配管１０７からのカソード水
を、この水素化触媒塔５０５の前段において合流させる
ようにした点において相違するが、他は図３に示した超
純水製造装置と構成は全く同じであるので、共通する装
置、配管には共通の符号を付して説明を省略した。なお
上記水素化触媒として例えば金属パラジウム担持樹脂ア
ンバーリスト（登録商標）ＥＲ−２０６等を用いること
が望ましい。
【０１０４】本例によれば、紫外線照射装置５０１によ
りオゾンが酸素となって含まれている水に、水素を含む
カソード水が混合されるので、水素化触媒塔５０５にお
いてこれらが容易に水となるため溶存酸素が消滅する。
このため、溶存酸素の存在が問題となる用途の装置とし
て有効である。また、本例の装置は、上記実施例４の脱
気装置に比べて装置が極めて小型化できるという利点が
あり、また電解供給水である高付加価値の超純水を無駄
なく利用できる点でも優れている。
りオゾンが酸素となって含まれている水に、水素を含む
カソード水が混合されるので、水素化触媒塔５０５にお
いてこれらが容易に水となるため溶存酸素が消滅する。
このため、溶存酸素の存在が問題となる用途の装置とし
て有効である。また、本例の装置は、上記実施例４の脱
気装置に比べて装置が極めて小型化できるという利点が
あり、また電解供給水である高付加価値の超純水を無駄
なく利用できる点でも優れている。
【０１０５】参考例２ 上記の図５の超純水製造装置を、電解装置３０に図９，
１０に示した電解装置３００を用いて構成し、１次純水
製造装置で得られた純水を通水して長期間運転を行った
後、下記表３の条件で薬品殺菌（過酸化水素ｌ％）を行
い、６０日間の定常運転を２回繰り返し行った際の、ユ
ースポイント側への分岐位置での生菌数（個／ｍｌ）
と、溶存酸素濃度（μｇＯ／ｌ）、及び脱気装置前の溶
存酸素濃度（μｇＯ／ｌ）を調ベた。その結果を下記表
４に示した。生菌数の測定方法は参考例１と同じであ
り、溶存酸素はインライン溶存酸素計（東亜電波社製）
で測定した。
１０に示した電解装置３００を用いて構成し、１次純水
製造装置で得られた純水を通水して長期間運転を行った
後、下記表３の条件で薬品殺菌（過酸化水素ｌ％）を行
い、６０日間の定常運転を２回繰り返し行った際の、ユ
ースポイント側への分岐位置での生菌数（個／ｍｌ）
と、溶存酸素濃度（μｇＯ／ｌ）、及び脱気装置前の溶
存酸素濃度（μｇＯ／ｌ）を調ベた。その結果を下記表
４に示した。生菌数の測定方法は参考例１と同じであ
り、溶存酸素はインライン溶存酸素計（東亜電波社製）
で測定した。
【０１０６】なお、電解装置３０の運転条件は次の通り
とした。
とした。
【０１０７】流量：各室 ０．１ｍ3 ／ｈ 電流密度： ５ｍＡ／ｃｍ2 アノード水中オゾン濃度：２００μｇ／ｌ カソード水中水素濃度：１００μｇ／ｌ
【０１０８】
【表３】
【０１０９】
【表４】
【０１１０】比較例２，３ また比較のために、図１４に示した従来の超純水製造装
置，及び図１５に示した従来の超純水製造装置により、
参考例２と同一の条件で定期洗浄、定常運転を行ない、
同様にして生菌数（個／ｍｌ）と、溶存酸素濃度（μｇ
Ｏ／ｌ）、及び脱気装置前の溶存酸素濃度（μｇＯ／
ｌ）を調ベた。その結果を上記表４に示した。
置，及び図１５に示した従来の超純水製造装置により、
参考例２と同一の条件で定期洗浄、定常運転を行ない、
同様にして生菌数（個／ｍｌ）と、溶存酸素濃度（μｇ
Ｏ／ｌ）、及び脱気装置前の溶存酸素濃度（μｇＯ／
ｌ）を調ベた。その結果を上記表４に示した。
【０１１１】以上の結果から分かるように、参考例２は
系外からオゾン添加、水素添加をしていないにもかかわ
らず、比較例３と同様に殺菌効果が得られ、さらに比較
例２に比べて定期殺菌後６０日間も生菌数の増加が全く
みられず、超純水中の溶存酸素濃度は１μｇ／ｌ以下の
極めて低濃度に維持されていることが確認された。
系外からオゾン添加、水素添加をしていないにもかかわ
らず、比較例３と同様に殺菌効果が得られ、さらに比較
例２に比べて定期殺菌後６０日間も生菌数の増加が全く
みられず、超純水中の溶存酸素濃度は１μｇ／ｌ以下の
極めて低濃度に維持されていることが確認された。
【０１１２】実施例６ 図６に示される本例の超純水製造装置は、図１の例にお
ける電解装置３を除き、これに代えて、電解装置４０を
２次純水処理装置５の紫外線照射装置５０１の前段に配
置して、アノード室４１からのアノード水を紫外線照射
装置５０１に通水させるように設けると共に、１次純水
槽４にバイパスしたバイパス配管１１０を設けてこれに
洗浄液槽６を設け、この洗浄液槽６から、定期的洗浄の
ための薬品供給手段（又は純水加熱手段）６１からの薬
品又は加熱純水を１次純水槽４に流すように設けたとこ
ろが異なっており、他の装置及び配管の構成は実施例１
と同じであるので共通の装置，配管には共通の符号を付
して説明を省略した。
ける電解装置３を除き、これに代えて、電解装置４０を
２次純水処理装置５の紫外線照射装置５０１の前段に配
置して、アノード室４１からのアノード水を紫外線照射
装置５０１に通水させるように設けると共に、１次純水
槽４にバイパスしたバイパス配管１１０を設けてこれに
洗浄液槽６を設け、この洗浄液槽６から、定期的洗浄の
ための薬品供給手段（又は純水加熱手段）６１からの薬
品又は加熱純水を１次純水槽４に流すように設けたとこ
ろが異なっており、他の装置及び配管の構成は実施例１
と同じであるので共通の装置，配管には共通の符号を付
して説明を省略した。
【０１１３】なお、電解装置４０のカソード室４２から
のカソード水は、流出配管１０７から排水するか、ある
いは１次純水系以前の工程に戻すように設けている。ま
た１０８はこの電解装置４０に対してバイパスして設け
たバイパス路である。また２次純水処理装置５のバイパ
ス路１０３１は薬品洗浄時に通水されるものである。本
例の超純水製造装置においては、系内殺菌は薬品等によ
る定期的洗浄により行なわれる点で、従来装置と同じで
あるが、紫外線照射装置５０１に対して、オゾンを含む
アノード水を供給することができ、有機物等の分解が効
率的に行なえると共に、従来イオン交換等の処理で除去
が困難であったコロイド状シリカのイオン化を行なうこ
とができ、後段のイオン交換により容易に除去可能にな
るという利点が得られる。
のカソード水は、流出配管１０７から排水するか、ある
いは１次純水系以前の工程に戻すように設けている。ま
た１０８はこの電解装置４０に対してバイパスして設け
たバイパス路である。また２次純水処理装置５のバイパ
ス路１０３１は薬品洗浄時に通水されるものである。本
例の超純水製造装置においては、系内殺菌は薬品等によ
る定期的洗浄により行なわれる点で、従来装置と同じで
あるが、紫外線照射装置５０１に対して、オゾンを含む
アノード水を供給することができ、有機物等の分解が効
率的に行なえると共に、従来イオン交換等の処理で除去
が困難であったコロイド状シリカのイオン化を行なうこ
とができ、後段のイオン交換により容易に除去可能にな
るという利点が得られる。
【０１１４】実施例７、８ 図７に示した実施例７の超純水製造装置は、紫外線照射
装置５０１の次段に脱気装置５０４を設けた構成のもの
であって、実施例４を示した図４の構成に対応してい
る。また図８に示した実施例８の超純水製造装置は、紫
外線照射装置５０１の次段に水素化触媒塔５０５を設け
ると共に、電解装置４０のカソード室４２の流出配管１
０７からのカソード水を、この水素化触媒塔５０５の前
段において合流させるようにしたものであって、実施例
５を示した図５の構成に対応している。
装置５０１の次段に脱気装置５０４を設けた構成のもの
であって、実施例４を示した図４の構成に対応してい
る。また図８に示した実施例８の超純水製造装置は、紫
外線照射装置５０１の次段に水素化触媒塔５０５を設け
ると共に、電解装置４０のカソード室４２の流出配管１
０７からのカソード水を、この水素化触媒塔５０５の前
段において合流させるようにしたものであって、実施例
５を示した図５の構成に対応している。
【０１１５】これらの点の他は、図６に示した超純水製
造装置と構成は全く同じであるので、共通する装置、配
管には共通の符号を付して説明を省略した。
造装置と構成は全く同じであるので、共通する装置、配
管には共通の符号を付して説明を省略した。
【０１１６】これらの脱気手段を設けることにより、実
施例６の効果に加えて実施例４，５で説明したと同じ効
果が得られる。
施例６の効果に加えて実施例４，５で説明したと同じ効
果が得られる。
【０１１７】参考例３〜５ 実施例６〜８の超純水製造装置を、電解装置３０を図
９，１０に示した電解装置３００を用いて構成し、１次
純水製造装置で得られた純水を通水して、長期間運転を
行った後、薬品殺菌（過酸化水素ｌ％）を行い、その
後、７日間の定常運転を行った際の水質を、限外ろ過膜
装置出口位置において調べた。
９，１０に示した電解装置３００を用いて構成し、１次
純水製造装置で得られた純水を通水して、長期間運転を
行った後、薬品殺菌（過酸化水素ｌ％）を行い、その
後、７日間の定常運転を行った際の水質を、限外ろ過膜
装置出口位置において調べた。
【０１１８】測定水質項目は、電気抵抗率、全有機炭素
（Ｔ０Ｃ）、イオン状シリカ、非イオン状シリカ、全蒸
発残留物、微粒子数、生菌数、金属（Ｎａ、Ｆｅ、Ｃ
ｕ）、塩化物イオンおよび溶存酸素であり、測定はそれ
ぞれ、電気抵抗率；電気抵抗率計ＡＱ−１１（電気化学
計測社製）、イオン状シリカ；シリカ計ＳＡ−５００
（東レエンジニアリング社製）、全シリカ及び金属；Ｉ
ＣＰ−ＭＳ，ＰＭＳ２０００（横河電機社製）、全蒸発
残留物；全蒸発残留物計ＴＳ−１０００（オルガノ社
製）、塩化物イオン；イオンクロマト分析計ＩＣ−７０
００（横河電機社製）により行なった。なお、微粒子、
生菌、溶存酸素は比較例１，２と同じであり、さらに非
イオン状シリカは、全シリカからイオン状シリカを差し
引いたものとした。結果を下記表５に示した。
（Ｔ０Ｃ）、イオン状シリカ、非イオン状シリカ、全蒸
発残留物、微粒子数、生菌数、金属（Ｎａ、Ｆｅ、Ｃ
ｕ）、塩化物イオンおよび溶存酸素であり、測定はそれ
ぞれ、電気抵抗率；電気抵抗率計ＡＱ−１１（電気化学
計測社製）、イオン状シリカ；シリカ計ＳＡ−５００
（東レエンジニアリング社製）、全シリカ及び金属；Ｉ
ＣＰ−ＭＳ，ＰＭＳ２０００（横河電機社製）、全蒸発
残留物；全蒸発残留物計ＴＳ−１０００（オルガノ社
製）、塩化物イオン；イオンクロマト分析計ＩＣ−７０
００（横河電機社製）により行なった。なお、微粒子、
生菌、溶存酸素は比較例１，２と同じであり、さらに非
イオン状シリカは、全シリカからイオン状シリカを差し
引いたものとした。結果を下記表５に示した。
【０１１９】また電解装置の運転条件は参考例１と同じ
とした。
とした。
【０１２０】
【表５】
【０１２１】比較例４ また比較のために、図１４に示した従来の超純水製造装
置により、参考例３と同一の条件で定期洗浄、定常運転
を行ない、同様にして同じ測定水質項目を調ベた。その
結果を上記表４に示した。
置により、参考例３と同一の条件で定期洗浄、定常運転
を行ない、同様にして同じ測定水質項目を調ベた。その
結果を上記表４に示した。
【０１２２】以上の結果から分かるように、実施例６〜
８は比較例４に比べ、ＴＯＣ、非イオン状シリカ、全蒸
発残留物、微粒子、生菌が低減されており、脱気装置も
備えた実施例７，８は更に溶存酸素も極めて低濃度まで
に低減されていることが確認された。
８は比較例４に比べ、ＴＯＣ、非イオン状シリカ、全蒸
発残留物、微粒子、生菌が低減されており、脱気装置も
備えた実施例７，８は更に溶存酸素も極めて低濃度まで
に低減されていることが確認された。
【０１２３】
【発明の効果】本発明者らは、これらの問題点を解決す
ぺく鋭意研究を行った結果、下記の極めて有用な効果を
得た。
ぺく鋭意研究を行った結果、下記の極めて有用な効果を
得た。
【０１２４】 純水または超純水に直流電流を通電し
て、微粒子等が混入しておらず、かつオゾンを溶存した
電解アノード水、あるいは水素を溶存した電解カソード
水を、得ることができる電解装置を、前記超純水製造装
置の１次純水装置と１次純水槽の間に設け、バイパス配
管を配することで、 ａ．オゾンを溶存した、微粒子等の混入していない、電
解アノード水を、１次純水槽に直接注入でき、１次純水
槽以降の超純水装置及び循環配管を薬品の使用や、熱水
の使用をすることなく、有効に殺菌することができ、か
つ殺菌後のブローが非常に短時間で済むことができる。
て、微粒子等が混入しておらず、かつオゾンを溶存した
電解アノード水、あるいは水素を溶存した電解カソード
水を、得ることができる電解装置を、前記超純水製造装
置の１次純水装置と１次純水槽の間に設け、バイパス配
管を配することで、 ａ．オゾンを溶存した、微粒子等の混入していない、電
解アノード水を、１次純水槽に直接注入でき、１次純水
槽以降の超純水装置及び循環配管を薬品の使用や、熱水
の使用をすることなく、有効に殺菌することができ、か
つ殺菌後のブローが非常に短時間で済むことができる。
【０１２５】ｂ．殺菌用として生成した電解アノード水
と同時に生成することができる、水素を溶存した微粒子
等の混入していない電解カソード水を、１次純水槽に直
接注入し、超純水製造装置に通水し、１次純水槽直前で
ブローすることで、１次純水槽以降の超純水製造装置内
及び循環配管に付着した微粒子を有効かつ非常に短時問
で除去できる。
と同時に生成することができる、水素を溶存した微粒子
等の混入していない電解カソード水を、１次純水槽に直
接注入し、超純水製造装置に通水し、１次純水槽直前で
ブローすることで、１次純水槽以降の超純水製造装置内
及び循環配管に付着した微粒子を有効かつ非常に短時問
で除去できる。
【０１２６】ｃ．純水または超純水に低濃度の塩酸を添
如した溶液に直流電流を通電して、次亜塩素酸イオンを
溶存した酸性電解アノード水、純水または超純水に低濃
度の塩基を添加した溶液に直流電流を通電して、水素を
溶存した塩基性電解カソード水を用いることで、前記殺
菌効果、微粒子除去効果を増強すること、あるいは、同
じ殺菌力を得るための電解装置規模を小さくできる。
如した溶液に直流電流を通電して、次亜塩素酸イオンを
溶存した酸性電解アノード水、純水または超純水に低濃
度の塩基を添加した溶液に直流電流を通電して、水素を
溶存した塩基性電解カソード水を用いることで、前記殺
菌効果、微粒子除去効果を増強すること、あるいは、同
じ殺菌力を得るための電解装置規模を小さくできる。
【０１２７】ｄ．アノード水、カソード水のどちらか一
方を１次純水槽以降の超純水装置および循環配管の洗浄
に用いる際に、他方を合流させることで、新たな薬品を
使用せずに、酸化還元電位およびｐＨを中和させること
ができる。
方を１次純水槽以降の超純水装置および循環配管の洗浄
に用いる際に、他方を合流させることで、新たな薬品を
使用せずに、酸化還元電位およびｐＨを中和させること
ができる。
【０１２８】これらの知見から、１次純水槽以降の２次
純水装置、循環配管を薬品の使用や、熱水の使用をする
ことなく、有効かつ非常に短時間に殺菌処理することが
でき、かつ１次純水槽以降の２次純水装置、循環配管内
壁に付着した微粒子を有効かつ短時間で除去できる超純
水製造装置を提供することができる。
純水装置、循環配管を薬品の使用や、熱水の使用をする
ことなく、有効かつ非常に短時間に殺菌処理することが
でき、かつ１次純水槽以降の２次純水装置、循環配管内
壁に付着した微粒子を有効かつ短時間で除去できる超純
水製造装置を提供することができる。
【０１２９】 超純水に直流電流を通電して、オゾン
を溶存した電解アノード水、あるいは水素を溶存した電
解カソード水を、微粒子等の不純物を混入させることな
く得られる電解装置を、少なくとも紫外線照射装置とそ
の後段にパラジウム触媒塔を有する２次純水装置の処理
水である超純水を循環する循環配管におけるユースポイ
ントヘの分岐配管の分岐点の下流側に設け、バイパス配
管を配することで、ａ．オゾンを溶存した、微粒子等の
混入していない、電解アノード水を、循環配管に直接注
入でき、循環配管及び１次純水槽を薬品の使用や、熱水
の使用をすることなく、また、循環配管中の超純水の金
属、微粒子、有機物等の不純物を増加させることなく、
常時、有効に殺菌することができる。
を溶存した電解アノード水、あるいは水素を溶存した電
解カソード水を、微粒子等の不純物を混入させることな
く得られる電解装置を、少なくとも紫外線照射装置とそ
の後段にパラジウム触媒塔を有する２次純水装置の処理
水である超純水を循環する循環配管におけるユースポイ
ントヘの分岐配管の分岐点の下流側に設け、バイパス配
管を配することで、ａ．オゾンを溶存した、微粒子等の
混入していない、電解アノード水を、循環配管に直接注
入でき、循環配管及び１次純水槽を薬品の使用や、熱水
の使用をすることなく、また、循環配管中の超純水の金
属、微粒子、有機物等の不純物を増加させることなく、
常時、有効に殺菌することができる。
【０１３０】ｂ．余剰のオゾンを紫外線照射装置で酸素
に分解した後の、脱気方法として脱酸素能力の高い触媒
法を用いた場合、殺菌用として生成した上記電解アノー
ド水と同時に生成する水素を溶存した微粒子等の混入し
ていない電解カソード水を、紫外線照射装置と触媒装置
の間に直接注入することで、別途水素ガスの貯蔵設備
や、溶解装置、ガスフィルタ等の煩雑かつ危険な設備を
設置することなく、超純水中の金属、微粒子、有機物等
の不純物を増加させることなく有効にかつ常時、脱酸素
を行うすることができることができる。
に分解した後の、脱気方法として脱酸素能力の高い触媒
法を用いた場合、殺菌用として生成した上記電解アノー
ド水と同時に生成する水素を溶存した微粒子等の混入し
ていない電解カソード水を、紫外線照射装置と触媒装置
の間に直接注入することで、別途水素ガスの貯蔵設備
や、溶解装置、ガスフィルタ等の煩雑かつ危険な設備を
設置することなく、超純水中の金属、微粒子、有機物等
の不純物を増加させることなく有効にかつ常時、脱酸素
を行うすることができることができる。
【０１３１】ｃ．上記ａ，ｂの効果を同時に、共通の電
解装置を用いて得ることができる。
解装置を用いて得ることができる。
【０１３２】これらの知見から、循環配管を備えた超純
水製造装置に於いて、最も生菌の発生し易い、循環配管
リターン側と１次純水槽を、常時、不純物を混入させる
ことなく、殺菌可能で、煩雑な付帯設備がなく、装置の
停止を伴う、薬品や熱水を用いた循環ライン全体の殺菌
回数を大幅に減らすことを可能にする超純水製造装置を
提供することができる。
水製造装置に於いて、最も生菌の発生し易い、循環配管
リターン側と１次純水槽を、常時、不純物を混入させる
ことなく、殺菌可能で、煩雑な付帯設備がなく、装置の
停止を伴う、薬品や熱水を用いた循環ライン全体の殺菌
回数を大幅に減らすことを可能にする超純水製造装置を
提供することができる。
【０１３３】また、同時に、常時、不純物を混入させる
ことなく、別途水素ガスの貯蔵設備や、溶解装置、ガス
フイルタ等の煩雑かつ危険な設備を設置することなく、
有効に脱酸素を行うすることができる超純水製造表置を
提供することができる。
ことなく、別途水素ガスの貯蔵設備や、溶解装置、ガス
フイルタ等の煩雑かつ危険な設備を設置することなく、
有効に脱酸素を行うすることができる超純水製造表置を
提供することができる。
【０１３４】 純水に直流電流を通電して、オゾンを
溶存した電解アノード水および水素を溶存した、微粒子
等の混入していない電解カソード水を、微粒子等の不純
物を混入させることなく得られる。電解装置を上記超純
水製造装置の、少なくとも紫外線照射装置と、その後段
にパラジウム触媒塔を有する２次純水装置の処理工程の
いずれかの工程に設け、バイパス配管を配し、さらに電
解アノード水を紫外線照射装置の前段に合流させるアノ
ード水配管と、電解カソード水を、パラジウム触媒塔前
段に合流させるためのカソード水配管とを配すること
で、 ａ．２次純水装置において、紫外線照射の前段の純水中
にオゾンを溶解させて、溶存オゾンが紫外線で分解反応
する際、殺菌効果、コロイダル物質のイオン化、有機物
の分解等の効果を得るために、オゾン発生器およびオゾ
ン溶解装置を別途配する必要をなくできる。
溶存した電解アノード水および水素を溶存した、微粒子
等の混入していない電解カソード水を、微粒子等の不純
物を混入させることなく得られる。電解装置を上記超純
水製造装置の、少なくとも紫外線照射装置と、その後段
にパラジウム触媒塔を有する２次純水装置の処理工程の
いずれかの工程に設け、バイパス配管を配し、さらに電
解アノード水を紫外線照射装置の前段に合流させるアノ
ード水配管と、電解カソード水を、パラジウム触媒塔前
段に合流させるためのカソード水配管とを配すること
で、 ａ．２次純水装置において、紫外線照射の前段の純水中
にオゾンを溶解させて、溶存オゾンが紫外線で分解反応
する際、殺菌効果、コロイダル物質のイオン化、有機物
の分解等の効果を得るために、オゾン発生器およびオゾ
ン溶解装置を別途配する必要をなくできる。
【０１３５】ｂ．電解カソード水を、紫外線照射装置と
触媒装置の間に直接注入することで、別途水素ガスの貯
蔵設備や、溶解装置、ガスフィルタ等の煩雑かつ危険な
設備を設置することなく、超純水中の金属、微粒子、有
機物等の不純物を増加させることなく有効にかつ常時、
脱酸素を行うすることができることができる。
触媒装置の間に直接注入することで、別途水素ガスの貯
蔵設備や、溶解装置、ガスフィルタ等の煩雑かつ危険な
設備を設置することなく、超純水中の金属、微粒子、有
機物等の不純物を増加させることなく有効にかつ常時、
脱酸素を行うすることができることができる。
【０１３６】ｃ．上記ａ，ｂの効果を同時に、共通の電
解装置を用いて得ることができる。
解装置を用いて得ることができる。
【０１３７】これらの知見から、常時、不純物を混入さ
せることなく、別途オゾン発生器や、溶解装置、ガスフ
イルタ等の煩雑かつ危険な設備を設置することなく、有
効に殺菌効果、コロイダル物質のイオン化、有横物の分
解等の効果を得ることができる超純水製造装置を提供す
ることができる。
せることなく、別途オゾン発生器や、溶解装置、ガスフ
イルタ等の煩雑かつ危険な設備を設置することなく、有
効に殺菌効果、コロイダル物質のイオン化、有横物の分
解等の効果を得ることができる超純水製造装置を提供す
ることができる。
【０１３８】また、同時に、常時、不純物を混入させる
ことなく、別途水素ガスの貯蔵設備や、溶解装置、ガス
フイルタ等の煩雑かつ危険な設備を設置することなく、
有効に脱酸素を行うする事ができる超純水製造装置を提
供することができる。
ことなく、別途水素ガスの貯蔵設備や、溶解装置、ガス
フイルタ等の煩雑かつ危険な設備を設置することなく、
有効に脱酸素を行うする事ができる超純水製造装置を提
供することができる。
【図１】図１は、本発明よりなる超純水製造装置の実施
例１の構成概要を示した説明ブロック図。
例１の構成概要を示した説明ブロック図。
【図２】図２は、本発明よりなる超純水製造装置の実施
例２の構成概要を示した説明ブロック図。
例２の構成概要を示した説明ブロック図。
【図３】図３は、本発明よりなる超純水製造装置の実施
例３の構成概要を示したフロー説明図。
例３の構成概要を示したフロー説明図。
【図４】図４は、本発明よりなる超純水製造装置の実施
例４の構成概要を示したフロー説明図。
例４の構成概要を示したフロー説明図。
【図５】図５は、本発明よりなる超純水製造装置の実施
例５の構成概要を示したフロー説明図。
例５の構成概要を示したフロー説明図。
【図６】図６は、本発明よりなる超純水製造装置の実施
例６の構成概要を示したフロー説明図。
例６の構成概要を示したフロー説明図。
【図７】図７は、本発明よりなる超純水製造装置の実施
例７の構成概要を示したフロー説明図。
例７の構成概要を示したフロー説明図。
【図８】図８は、本発明よりなる超純水製造装置の実施
例８の構成概要を示したフロー説明図。
例８の構成概要を示したフロー説明図。
【図９】図９は、本発明の超純水製造装置に用いること
ができる三槽式電解装置の構成概要を示した図。
ができる三槽式電解装置の構成概要を示した図。
【図１０】図１０は、図９の電解装置の構成及び配管流
路の関係を示した図。
路の関係を示した図。
【図１１】図１１は、図１０の電解装置の変形例を示し
た図。
た図。
【図１２】図１２は、図１０の電解装置の更に変形例を
示した図。
示した図。
【図１３】図１３は、図１０の電解装置の別の変形例を
示した図。
示した図。
【図１４】図１４は、従来の超純水製造装置の構成を示
すフロー説明図である。
すフロー説明図である。
【図１５】図１４は、従来の他の超純水製造装置の構成
を示すフロー説明図である。
を示すフロー説明図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０２Ｆ 9/00 Ｎ Ｐ Ｚ ５０３ Ｂ ５０４ Ｂ (72)発明者 山下 幸福 埼玉県戸田市川岸１丁目４番９号 オルガ ノ株式会社総合研究所内
Claims (20)
- 【請求項１】 原水に含まれる懸濁物質を除去する前処
理、次いでイオン及び非イオン性物質を除去するｌ次純
水処理を行った後、イオン交換手段及び膜処理手段によ
る２次純水処理を行って超純水を製造する方法におい
て、 上記ｌ次純水処理された１次純水あるいは２次純水処理
中の処理水に対して系内洗浄用電解水製造のために電気
分解を行うことを特徴とする超純水の製造方法。 - 【請求項２】 原水に含まれる懸濁物質を除去する前処
理、次いでイオン及び非イオン性物質を除去するｌ次純
水処理を行った後、イオン交換手段及び膜処理手段によ
る２次純水処理を行ない、この２次純水処理後の超純水
を２次純水処理前段に循環返送する循環系の途中からユ
ースポイントに分岐送水するようにした方法において、 上記２次純水処理後の超純水を循環する循環系の水に対
して系内洗浄用電解水製造のために電気分解を行うこと
を特徴とする超純水の製造方法。 - 【請求項３】 原水中に含まれる懸濁物質除去のための
除濁手段を有する前処理装置と、膜処理手段等を有し該
膜処理装置から純水を得る１次純水処理系と、この１次
純水を貯留するｌ次純水タンクと、イオン交換手段、膜
処理手段等を有し該１次純水タンクを経たｌ次純水から
超純水を得る２次純水処理系とを備えた超純水製造装置
において、 上記ｌ次純水タンクの前段から２次純水処理系の系内の
いずれかの位置にバイパスして、系内洗浄の必要時に稼
働されて、１次純水あるいは２次純水処理中の処理水を
原水として電気分解処理したアノード水及び／又はカソ
ード水を製造して系内下流に流す電気分解装置を設けた
ことを特徴とする超純水の製造装置。 - 【請求項４】 請求項３において、電気分解装置は、ア
ノード水次いでカソード水を系内下流にこの順序で順次
に流す切換手段を有することを特徴とする超純水の製造
装置。 - 【請求項５】 請求項３において、電気分解装置は、ア
ノード水又はカソード水のいずれか一方のみを系内下流
に流すものであることを特徴とする超純水の製造装置。 - 【請求項６】 請求項３ないし５のいずれかにおいて、
電気分解装置で製造したアノード水を２次純水処理系の
系内下流に流すように設けると共に、該２次純水処理系
の系内から外部に排水するか、あるいは循環系の系内か
ら外部に排水する該アノード水に、上記電気分解装置で
製造したカソード水を混合する混合手段を設けたことを
特徴とする超純水の製造装置。 - 【請求項７】 請求項３ないし５のいずれかにおいて、
電気分解装置で製造したカソード水を２次純水処理系の
系内下流に流すように設けると共に、該２次純水処理系
内から外部に排水するか、あるいは循環系の系内から外
部に排水する該カソード水に、上記電気分解装置で製造
したアノード水を混合する混合手段を設けたことを特徴
とする超純水の製造装置。 - 【請求項８】 原水中に含まれる懸濁物質除去のための
除濁手段を有する前処理装置と、膜処理手段等を有し該
膜処理装置から純水を得る１次純水処理系と、このｌ次
純水を貯留する１次純水タンクと、イオン交換手段、膜
処理手段等を有し該１次純水タンクを経たｌ次純水から
超純水を得る２次純水処理系と、この２次純水系で得ら
れた超純水を上記純水タンクに戻す循環系と、この循環
系の一部から分岐されてユースポイントに超純水を送水
する分技送水系とを備えた超純水製造装置において、 上記循環系の途中にバイパスして２次純水を原水として
電気分解処理したアノード水及び／又はカソード水を製
造する電気分解装置を設けると共に、このアノード水及
び／又はカソード水を、該循環系のユースポイントヘの
分岐部よりも下流位置から系内下流へ流すように設けた
ことを特徴とする超純水の製造装置。 - 【請求項９】 請求項８において、電気分解装置は、ア
ノード水次いでカソード水を系内下流に交互に流す切換
手段を有することを特徴とする超純水の製造装置。 - 【請求項１０】 請求項８又は９において、循環系にバ
イパスして設けた電気分解装置により該循環系を通じて
２次純水処理系にアノード水を流すように設けると共
に、２次純水処理系に設けられているイオン交換手段の
前段位置まで通水するアノード水に対して、該イオン交
換手段のイオン交換樹脂劣化を生じない程度にまで該ア
ノード水を還元するように上記電気分解装置で製造され
たカソード水を混合する手段を設けると共に、このカソ
ード水混合部の後段に水素化触媒を配置したことを特徴
とする超純水の製造装置。 - 【請求項１１】 原水中に含まれる懸濁物質除去のため
の除濁手段を有する前処理装置と、膜処理手段等を有し
該膜処理装置から純水を得る１次純水処理系と、この１
次純水を貯留する１次純水タンクと、少なくともイオン
交換手段、膜処理手段、紫外線照射手段を有し該ｌ次純
水タンクを経た１次純水から超純水を得る２次純水処理
系とを備えた超純水製造装置において、 上記２次純水処理系の途中に設けられた紫外線照射手段
の前段に、１次純水あるいは２次純水処理中の処理水を
原水として電気分解処理したアノード水を製造して上記
紫外線照射手段に流す電気分解装置を設けたことを特徴
とする超純水の製造装置。 - 【請求項１２】 原水中に含まれる懸濁物質除去のため
の除濁手段を有する前処理装置と、膜処理手段等を有し
該膜処理装置から純水を得るｌ次純水処理系と、この１
次純水を貯留する１次純水タンクと、少なくともイオン
交換手段、膜処理手段、紫外線照射手段を有し該１次純
水タンクを経た１次純水から超純水を得る２次純水処理
系と、この２次純水系で得られた超純水を上記純水タン
クに戻す循環系と、この循環系の一部から分岐されてユ
ースポイントに超純水を送水する分岐送水系とを備えた
超純水製造装置において、 上記循環系の途中にバイパスして２次純水を原水として
電気分解処理したアノード水を製造する電気分解装置を
設け、このアノード水を、上記２次純水処理系の途中に
設けた紫外線照射手段に流すように構成したことを特徴
とする超純水の製造装置。 - 【請求項１３】 請求項１１又はｌ２において、紫外線
照射手段の後段に、化学的又は物理的な脱酸素手段を設
けたことを特徴とする超純水の製造装置。 - 【請求項１４】 請求項１３において、紫外線照射手段
の後段に設けられた化学的脱酸素手段は、電気分解装置
で製造されたカソード水を紫外線照射手段からの流出水
に混合する手段、及び該混合部の後段に設けられた水素
化触媒の組合わせからなることを特徴とする超純水の製
造装置。 - 【請求項１５】 請求項３ないしｌ４のいずれかにおい
て、電気分解装置は、純水又は超純水を電気分解するも
のであることを特徴とする超純水の製造装置。 - 【請求項１６】 請求項３ないし１４のいずれかにおい
て、電気分解装置は、純水又は超純水に電解質を添加し
て電気分解するものであることを特徴とする超純水の製
造装置。 - 【請求項１７】 請求項３ないし１４のいずれかにおい
て、電気分解装置は、純水又は超純水を電解した後、ア
ノード水に酸を添加し、あるいはカソード水に塩基を添
加するものであることを特徴とする超純水の製造装置。 - 【請求項１８】 請求項３ないし１７のいずれかにおい
て、２次純水処理系内に設けられたイオン交換手段にバ
イパスして純水電解水又は電解質電解水の通水用バイパ
ス路を設けると共に、純水電解水又は電解質電解水の製
造時に該バイパス路にのみ通水させる通水切換手段を設
けたことを特徴とする超純水の製造装置。 - 【請求項１９】 請求項３ないし１８のいずれかにおい
て、電気分解装置は、アノード室、カソード室、及び中
間室の３室で構成され、各室を固体電解質であるイオン
交換膜により仕切ると共に、上記３室のうち少なくとも
中間室に固体電解質であるイオン交換樹脂を充填し、か
つカソード電極がカソード室内においてカソード室と中
問室を仕切る上記イオン交換膜と接し、アノード電極が
アノード室内においてアノード室と中問室を仕切る上記
イオン交換膜と接する構造に設けた三槽式電解装置であ
ることを特徴とする超純水の製造装置。 - 【請求項２０】 請求項３ないし１９のいずれかにおい
て、電気分解装置は、処理水をろ過するための孔径ｌμ
ｍ以下のフィルターを後段に有することを特徴とする超
純水の製造装置。
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