JPH08124502A - ゲッター装置並びに陰極線管 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ゲッター装置を備えた陰極線管において、ゲ
ッター加熱時のファンネル部の損傷を防止する。 【構成】 陰極線管体１１内にゲッター装置１３を装着
した陰極線管において、ゲッター装置１３がゲッター容
器１４と之を支持する支持スプリング１５を有し、支持
スプリング１５の遊端突出部１７ａを陰極線管体内壁面
に当接するように形成し、支持スプリング１５の遊端１
７Ａとゲッター容器１４との間に対応する中間部１７Ｃ
を高周波誘導加熱装置１８側からみた投影面積が支持ス
プリング１５の他部１５Ｄより小となるように形成され
て成る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、管体内の真空度を高め
るためのゲッター装置、並びにこのゲッター装置を管体
内に装着してなる陰極線管に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、陰極線管においては、その管体内
にゲッター装置が装着され、管体内を真空排気し、封止
した後、高周波誘導加熱装置によってゲッター装置のゲ
ッター剤を蒸発、飛散させ、之に残留ガスを吸着させる
ことによって管体内の真空度を更に高めるようにしてい
る。

【０００３】図５及び図６は夫々従来のゲッター装置を
装着した陰極線管を示す。同図において、１は陰極線管
体を示し、２はそのネック部１ｎ内に配置された電子
銃、３は管体２のファンネル部１５内に装着されたゲッ
ター装置を示す。ゲッター装置３は、一般的に図７に示
すように、ゲッターリングと呼ばれるリング状のゲッタ
ー容器４に例えばバリウム蒸発型のゲッター剤６が収容
され、このゲッター容器４が全体にわたり同一幅の支持
スプリング５に支持された構造を有して成る。支持スプ
リング５には、その遊端とゲッター容器４を挟む対称位
置とに夫々半球状に突出する突出部７ａ，７ｂが設けら
れ、管体１内に装着された状態で両突出部７ａ，７ｂが
管体内壁面１ａに弾性的に当接してゲッター容器４を安
定した状態に保持している。

【０００４】図５の陰極線管９では、支持スプリング５
の一端を電子銃２に取付け、そのゲッター容器４を支持
した遊端をファンネル部１ｆ側に延長した構成のゲッタ
ー装置３を用いている。図６の陰極線管１０では、ファ
ンネル部１ｆ内に直接支持スプリング５の一端を支持
し、之より延長する遊端にゲッター容器４を支持した構
成のゲッター装置３を用いている。

【０００５】この状態で管体１内を真空排気し、封止し
た後、高周波誘導加熱装置（即ち高周波誘導加熱用コイ
ル）８によって、ゲッター容器４を誘導加熱しゲッター
剤６を蒸着させて、さらなる高真空度化を行っている。
支持スプリング５のファンネル部１ｆに接触する突出部
７ａ，７ｂは、ファンネルガラスに傷を生じさせないた
めに半球状に形成されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述の陰極
線管９，１０において、ゲッター加熱中にファンネルガ
ラスにクラックが生じる場合があるが、その原因は支持
スプリング５、特に遊端側の突出部７ａが７６０℃以上
の高温となるため、この突出部７ａとファンネル部との
接触部分でクラックが発生するのである。なお、ファン
ネル部内面に接触している他の突出部７ｂは支持スプリ
ング５を通じて放熱され高温とならない。大型陰極線管
では、大容量ゲッター装置（バリウム蒸発量で２００ｍ
ｇ以上）が使用されているため、支持スプリングの温度
が更に高くなり易い。

【０００７】支持スプリングの温度は、ゲッター容器４
からの熱伝導、支持スプリング５自体の誘導加熱により
加熱される。当然、半球状の突出部７ａがゲッター容器
４から遠い程、その突出部７ａでの温度は低く抑えられ
るが、ファンネル部内面が球状であるため、ゲッター容
器４の支持という面から、その距離は限定されてしま
う。

【０００８】本発明は、上述の点に鑑み、ゲッター加熱
時に管体にクラック等の損傷が発生するを防止できるゲ
ッター装置を提供するものである。又、本発明は、かか
るゲッター装置を備えた陰極線管を提供するものであ
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】第１の本発明に係るゲッ
ター装置１３は、ゲッター容器１４と之を支持する支持
体１５を有し、支持体１５の遊端１５Ａを管体内壁面に
当接するように形成し、支持体１５の遊端１５Ａとゲッ
ター容器１４との間に対応する中間部１５Ｃをゲッター
加熱手段１８からみた投影面積が支持体１５の他部１５
Ｄより小となるように形成して構成する。

【００１０】第２の本発明に係る陰極線管は、陰極線管
体１１内にゲッター装置１３を装着してなる陰極線管に
おいて、ゲッター装置１３は、ゲッター容器１４と之を
支持する支持体１５を有し、支持体１５の遊端１５Ａを
陰極線管体内壁面に当接するように形成し、支持体１５
の遊端１５Ａとゲッター容器１４との間に対応する中間
部１５Ｃをゲッター加熱手段１８からみた投影面積が支
持体１５の他部１５Ｄより小となるように形成してなる
構成とする。

【００１１】

【作用】第１の本発明に係るゲッター装置１３において
は、支持体１５の管体１１内壁面に当接される遊端１５
Ａとゲッター容器１４との間に対応する中間部１５Ｃ
を、ゲッター加熱手段１８からみた投影面積が支持体１
５の他部１５Ｄより小となるように形成することによ
り、ゲッター加熱時、ゲッター加熱手段１８による高周
波誘導電流が支持体１５の上記中間部１５Ｃに流れにく
くなり、ゲッター容器１４から離れた管体内壁面に当接
される位置の支持体遊端１５Ａの温度上昇が抑えられ
る。この結果、ゲッター装置１３が装着される管体の損
傷を回避することができる。

【００１２】第２の本発明に係る陰極線管においては、
陰極線管体１１内に第１の発明のゲッター装置１３を装
着することにより、ゲッター加熱時に、ゲッター装置１
３の支持体１５の遊端１５Ａとゲッター容器１４との間
に対応する中間部１５Ｃにゲッター加熱手段による高周
波誘導電流が流れにくくなり、管体１１に当接している
支持体１５の遊端１５Ａの温度上昇が抑えられる。この
結果、陰極線管体のゲッター加熱時における損傷が回避
される。

【００１３】

【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。

【００１４】図１及び図２は、本発明に係る陰極線管及
びこれに装着されるゲッター装置の一例を示す。図１に
おいて、２０は本発明の陰極線管を全体として示し、１
１はそのガラスよりなる陰極線管体、１２はネック部１
１ｎ内に配された電子銃、１３はファンネル部１１ｆ内
に装着された本発明に係るゲッター装置である。

【００１５】ゲッター装置１３は、図２Ａ，２Ｂに示す
ように、例えばバリウム蒸発型のゲッター剤１６を収容
した金属製のリング状のゲッター容器１４と、このゲッ
ター容器１４を支持する金属製の例えば帯状の支持スプ
リング１５とを有して成る。支持スプリング１５には、
その遊端１５Ａとゲッター容器１４を挟む対称位置とに
夫々ゲッター容器１４と反対側に突出する半球状の突出
部１７ａ及び１７ｂが一体に設けられる。この突出部１
７ａ，１７ｂはゲッター装置を管体内に装着したとき、
その管体内壁面１１ａに当接される。

【００１６】そして、支持体１５の、突出部１７ａを有
する遊端１５Ａとゲッター容器１４との間に対応する中
間部１５Ｃが、支持体１５の他の部分１５Ｄの幅ｗ₁ よ
り狭い幅ｗ₂ に、即ち、ゲッター加熱手段である高周波
誘導加熱装置（いわゆる高周波誘導加熱用コイル）１８
が配置される側からみて投影面積が支持体１５の他部１
５Ｄより小となるように形成される。本例では、例えば
均一な幅ｗ₁ の帯状の支持スプリング１５において、そ
の遊端１５Ａとゲッター容器１４間の中間部１５Ｃのみ
を押しつぶす等して幅狭に形成される。

【００１７】図１の陰極線管１１では、支持スプリング
１５の一端１５Ｂを電子銃１２に取付け、之より支持ス
プリング１５を延長してゲッター容器１４をファンネル
部１１ｆ側に配置し、支持スプリングの半球状突出部１
７ａ，１７ｂをファンネル部１１ｆの内壁面に当接する
ようにしてゲッター装置１３を装着している。

【００１８】かかる構成の陰極線管２０においては、管
体１１内を真空排気し、封止した後、管体１１の外側に
配した高周波誘導加熱装置１８により、ゲッター容器１
４を誘導加熱し、ゲッター剤１６を蒸発させて陰極線管
体１１内を更に高真空度化させる。

【００１９】このゲッター加熱時、支持スプリング１５
のゲッター容器１４と遊端１５Ａとの間に対応する中間
部１５Ｃでは、高周波誘導加熱装置１８側からみた幅ｗ
₂ が支持スプリング１５の他部１５Ｃの幅ｗ₁ より狭い
ことから、この中間部１５Ｃに高周波誘導電流が流れに
くくなり、中間部１５Ｃでの誘導加熱が低減し、ファン
ネル部１１ｆに当接している支持スプリング遊端の突出
部１７ａの温度上昇が抑えられる。この結果、突出部１
７ａが当接するファンネル部１１ｆでのガラスクラック
の発生を抑えることができる。なお、支持スプリング１
５の他の突出部１７ｂでは電子銃１２に接続する支持ス
プリング１５を通じて放熱されるため温度上昇されな
い。

【００２０】図３及び図４は、夫々２９インチの陰極線
管に使用されるバリウム蒸発量３１０ｍｇのゲッター装
置について、本実施例と従来例とを比較した支持スプリ
ング遊端のファンネル部との接触部、即ち突出部１７
ａ，７ａの温度上昇曲線を示す。なお、支持スプリング
遊端の突出部の温度は、熱電対により測定した。

【００２１】従来仕様のゲッター装置３の支持スプリン
グ５では図４に示すように、遊端の突出部７ａの最大温
度が８１０℃であったため、ガラスクラックの発生が見
られた。これに対して、本実施例のゲッター装置１３の
支持スプリング１５では、図３に示すように、遊端１５
Ａの突出部１７ａの最大温度が６５０℃に抑えられガラ
スクラックの発生を抑えることができた。

【００２２】従って、本実施例に係る陰極線管によれ
ば、ゲッター加熱時に起こるファンネルガラスの損傷を
防止することができ、大型管等、信頼性の高い陰極線管
を提供することができる。

【００２３】尚、上例のゲッター装置１３は、支持スプ
リング１５の一端を電子銃１２に取付けて之よりゲッタ
ー容器１４をファンネル部１１ｆ側に延長せしめた構造
としたが、その他、前述の図６で示すように支持スプリ
ングの一端をファンネル部の内壁面に直接支持するよう
にしたゲッター装置にも適用できる。

【００２４】上述の本発明に係るゲッター装置１３は、
陰極線管に用いたが、その他の真空管体内に装着する場
合にも適用できる。

【００２５】

【発明の効果】本発明に係るゲッター装置によれば、之
を管体内に装着してゲッター加熱した時、ゲッター装置
の管体に当接する支持体遊端の温度上昇が抑えられ、管
体に対する損傷を回避することができる。

【００２６】本発明に係る陰極線管によれば、ゲッター
加熱時に陰極線管体内に装着されたゲッター装置の管体
内壁面に当接している支持体遊端の温度上昇が抑えら
れ、陰極線管体に対する損傷を回避することができ、例
えば大容量ゲッター装置を備えた大型管等の場合におい
ても信頼性の高い陰極線管を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る陰極線管の一例を示す構成図であ
る。

【図２】Ａ 本発明に係るゲッター装置の平面図であ
る。 Ｂ 本発明に係るゲッター装置の断面図である。

【図３】本発明に係るゲッター装置の支持スプリングの
ファンネル部との接触部での加熱時間と温度との関係を
示すグラフである。

【図４】従来に係るゲッター装置の支持スプリングのフ
ァンネル部との接触での加熱時間と温度との関係を示す
グラフである。

【図５】従来例に係る陰極線管の構成図である。

【図６】他の従来例に係る陰極線管の構成図である。

【図７】Ａ 従来例に係るゲッター装置の平面図であ
る。 Ｂ 従来例に係るゲッター装置の断面図である。

【符号の説明】

１，１１ 陰極線管体 ２，１２ 電子銃 ３，１３ ゲッター装置 ４，１４ ゲッター容器 ５，１５ 支持スプリング ６，１６ ゲッター剤 ７ａ，７ｂ，１７ａ，１７ｂ 突出部 ８，１８ 高周波誘導加熱装置

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ゲッター容器と之を支持する支持体を有
   し、該支持体の遊端を管体内壁面に当接するように形成
   し、前記支持体の該遊端と前記ゲッター容器との間に対
   応する中間部をゲッター加熱手段からみた投影面積が前
   記支持体の他部より小となるように形成して成ることを
   特徴とするゲッター装置。
2. 【請求項２】 陰極線管体内にゲッター装置を装着して
   なる陰極線管において、 該ゲッター装置はゲッター容器と之を支持する支持体を
   有し、該支持体の遊端を陰極線管管体内壁面に当接する
   ように形成し、前記支持体の該遊端と前記ゲッター容器
   との間に対応する中間部をゲッター加熱手段からみた投
   影面積が前記支持体の他部より小となるように形成して
   成ることを特徴とする陰極線管。