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JPH0812418B2 - ペリクルの製造方法 - Google Patents

ペリクルの製造方法

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Publication number
JPH0812418B2
JPH0812418B2 JP13435787A JP13435787A JPH0812418B2 JP H0812418 B2 JPH0812418 B2 JP H0812418B2 JP 13435787 A JP13435787 A JP 13435787A JP 13435787 A JP13435787 A JP 13435787A JP H0812418 B2 JPH0812418 B2 JP H0812418B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
pellicle
frame
adhesive
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP13435787A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS63298245A (ja
Inventor
敏男 賀屋
広秋 中川
Original Assignee
三井石油化学工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 三井石油化学工業株式会社 filed Critical 三井石油化学工業株式会社
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Priority to US07/197,964 priority patent/US4828640A/en
Priority to CA000567814A priority patent/CA1300857C/en
Priority to EP88304851A priority patent/EP0293239B1/en
Priority to DE88304851T priority patent/DE3885003T2/de
Priority to AT88304851T priority patent/ATE96235T1/de
Priority to EP92112828A priority patent/EP0513859B1/en
Priority to AT92112828T priority patent/ATE168789T1/de
Priority to DE3856223T priority patent/DE3856223T2/de
Priority to KR1019880006360A priority patent/KR960016311B1/ko
Publication of JPS63298245A publication Critical patent/JPS63298245A/ja
Priority to CA000616276A priority patent/CA1320070C/en
Publication of JPH0812418B2 publication Critical patent/JPH0812418B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/82Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
    • G03F1/84Inspecting

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明はフォトマスクやレチクル(以下単にマスク
という)の保護カバーとして使用されるペリクルの製造
方法に関する。
従来技術 近年マスクにマスクパターン面の保護や塵埃等の異物
が付着するのを防止する目的でペリクルが取付けられつ
ゝある。ペリクルは通常、基板上にスピンコート法等に
よって製膜したのちこれを引き剥がしてペリクル枠の一
側面に貼着し、その後ペリクル枠よりはみ出る膜を切断
することによって得られ、膜をペリクル枠に貼着するの
に従来は、基板上より膜を引き剥がすために膜の周縁に
井桁状に貼付した接着テープ部分(引き剥がしは一側よ
り接着テープを掴んで手作業にて行われる)、を両手で
持ち、接着剤を塗布した側を上向きにしたペリクル枠上
に被せて行っているが、単に被せて貼着するだけでは膜
面に弛みができたり、枠側端面の全面に均一に貼着する
ことができず、接着部に気泡が入ったり、凹凸が生じた
りし易い。そのため四囲よりテンションを軽くかつ均一
にかけ、膜を引っ張った状態にして枠に取付けることが
望まれるが、膜面に引きつりや弛みが生じないように平
面状に張設することが容易でないうえ枠に押付けた接着
剤が枠内外側に押し出され、はみ出した接着剤で第3図
に示されるように、膜が枠際で膨らむことがあり、少し
でも膨らみがあると、ペリクルをマスクに取付ける装置
で保持する際、引っ掛かって破れるおそれがある。はみ
出した接着剤で膨らみが生じることのないようにテンシ
ョンを強く掛けるのは膜が破れ易くなり好ましくない。
ペリクルはまた製造されたときや使用時(マスクへの
装着時)に通常、エアーブローによって洗浄され、その
際膜面が振動するが、ペリクル膜の膜厚は非常に薄いの
でペリクル枠の角より亀裂が入り破れ易い。
ペリクルの別の製法として、基板上に製膜したのち接
着剤を塗布したペリクル枠を押付けて接着し、接着後ペ
リクル枠を膜とともに基板より引離す方法や全体を水中
に浸漬して基板より膜を分離する方法(特開昭60-23745
0号)なども知られている。これらの方法によれば、基
板上にペリクル枠を押付け接着する際、はみ出した接着
剤で膜が膨らむといった問題は解消されるが、反面基板
上に枠を押付ける際、基板に傷が付くおそれがあるほか
エアーブローによる洗浄時に上述するように膜が破れる
ことがあり、しかも前者の方法による場合、基板端面の
内側の枠が接着する箇所より膜を持上げるようにして剥
離せねばならないが、膜と基板との間が真空状態になる
ため引き剥がしに強い力を要し、そのため膜が破れた
り、また局部的に強く力が加えられることにより枠が変
形したりすることがある。後者の方法による場合も水に
漬けることによりペリクルが汚染され易いといった問題
が生じる。
発明が解決しようとする問題点 本発明は上記の問題、すなわち膜に軽くテンションを
掛けた状態でペリクル枠に押付ける際、はみ出した接着
剤で枠際が膨らんだり或いはエアーブローによる洗浄時
に枠際より破れるといった問題を解消することができる
ペリクルを得るための製造方法を提供することを目的と
する。
問題点の解決手段 本発明によればそのためペリクル膜が貼着される側端
面と内側面或いは外側端面が交わる角のうち、内側面と
交わる角及び外側面と交わる角を面取りしてなるペリク
ル枠を使用し、面取りした枠側端面に接着剤を塗布した
のちペリクル膜を張設し、ついで枠外側面に沿って切断
することを特徴とするペリクルの製造方法が提供され
る。
ペリクル膜の張設は、従前と同様、膜を剥がすために
貼付した接着テープを掴んで手作業にて行うこともでき
るが、膜面に引きつりが生じたり、波立ちが生じること
のないようにテンションを均一に掛けた状態でペリクル
枠に押付け、張設することは容易でない。この問題は基
板上に製膜された膜を一旦仮枠に取り、これよりペリク
ル枠に張設することにより解消することができる。すな
わち環状の仮枠に接着剤を塗布して基板上の膜に貼着
し、仮枠を掴んで引き剥がしたのちペリクル枠上で一方
を他方に押付け、或いは両者を互いに押し付け合うこと
によって解消することができる。基板上の膜がそのまゝ
仮枠に移し取られるので単に仮枠を掴持しているだけで
も膜面を平面状態に保持することができ、仮枠とペリク
ル枠の一方を他方に押し付け、或いは両者を互いに押し
付け合うだけで膜はテンションが掛けられた状態でペリ
クル枠に張設することができる(第1図参照)。
面取りは角に斜面或いは丸みを付けることによって行
われ、斜面を付ける場合には0.1〜0.7C好ましくは0.2〜
0.4C程度にされる。
面取りが0.1より小さいと第3図のように膨らみが出
来てペリクルをマスクに取り付けるとき、膜が破れるこ
とがあり、また、0.7より大きいと、接着面が小さく接
着力が弱くなり、エアーブロー時に剥がれることがあ
る。
作用 第2図に示すように、ペリクル枠1の面取り部分1aを
除く側端面に接着剤2を塗布したのちペリクル膜3を被
せ、テンションを掛けて押し付けると、接着剤2が枠内
外側に押し出され、両側の面取り部分1aにそれぞれはみ
出す(第1図)。ここでテンションはペリクル膜の膜厚
が1〜10%程度、好ましくは3〜7%薄くなるように掛
けられる。
テンションをペリクル膜の膜厚が1%未満しか薄くな
らないように掛けて膜を貼付けると、膜にしわが生じ
る。また、テンションをペリクル膜の膜厚が10%より薄
くなる様に掛けて膜を貼付けると、枠内側端面に近い部
分の膜厚が薄くなりエアーブローで破れ易くなる。
実施例 ペリクル膜が貼着される側端面と内側面及び外側面が
交わる角を面取りし、斜面を付したペリクル枠1の面取
り部分1aを除く側端面に接着剤2が丸く盛り上がるよう
にして塗布する。これに前後して基板上に製膜された膜
を前述するようにして仮枠3に移し取り、仮枠3を掴ん
で接着剤2が塗布される側のペリクル枠1上にペリクル
膜3を被せ、そのまゝ仮枠3を押し下げるかペリクル枠
1を持ち上げ或いは両者を互いに押し付けてペリクル枠
1上にペリクル膜3を貼着する。その後ペリクル枠1よ
りはみ出る膜3を枠際より切除する。
発明の効果 本発明によれば、ペリクル枠側端面に塗布された接着
剤がペリクル膜の張設時、枠内外側に押し出されるが、
押し出された接着剤は面取り部分にはみ出て吸収される
ため膜が枠際で膨らむことがなくなり、マスクに装着す
るためのハンドリングに際し、膨らみに引っ掛かって破
れるといった問題が解消され、またエアーブローによる
洗浄時にペリクル膜が振動しても枠際で破れることがな
くなるか或いは破れを少なくすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はペリクル膜を貼着後の状態、第2図は貼着前の
状態をそれぞれ示す要部断面図、第3図は従来例の要部
断面図である。 1……ペリクル枠、2……接着剤 3……ペリクル膜、4……仮枠

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ペリクル膜が貼着される側端面と内側面或
    いは外側面が交わる角のうち、内側面と交わる角及び外
    側面と交わる角を面取りしてなるペリクル枠を使用し、
    面取りした枠側端面に接着剤を塗布したのちペリクル膜
    を張設し、ついで枠外側面に沿って切断することを特徴
    とするペリクルの製造方法。
  2. 【請求項2】ペリクル膜は基板上に製膜した膜を該膜に
    接着した仮枠により剥ぎ取り保持される請求項1記載の
    ペリクルの製造方法。
JP13435787A 1987-05-28 1987-05-28 ペリクルの製造方法 Expired - Lifetime JPH0812418B2 (ja)

Priority Applications (11)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13435787A JPH0812418B2 (ja) 1987-05-28 1987-05-28 ペリクルの製造方法
US07/197,964 US4828640A (en) 1987-05-28 1988-05-24 Method of producing films using a peeling jig
CA000567814A CA1300857C (en) 1987-05-28 1988-05-26 Method of producing films and jig for producing the same
AT92112828T ATE168789T1 (de) 1987-05-28 1988-05-27 Filmherstellungsverfahren und einstellvorrichtung dazu
DE88304851T DE3885003T2 (de) 1987-05-28 1988-05-27 Filmherstellungverfahren und Einstellvorrichtung dazu.
AT88304851T ATE96235T1 (de) 1987-05-28 1988-05-27 Filmherstellungverfahren und einstellvorrichtung dazu.
EP92112828A EP0513859B1 (en) 1987-05-28 1988-05-27 Method of producing films and jig for producing the same
EP88304851A EP0293239B1 (en) 1987-05-28 1988-05-27 Method of producing films and jig for producing the same
DE3856223T DE3856223T2 (de) 1987-05-28 1988-05-27 Filmherstellungsverfahren und Einstellvorrichtung dazu
KR1019880006360A KR960016311B1 (ko) 1987-05-28 1988-05-28 막의 제조방법 및 그 제조용 지그(jig)
CA000616276A CA1320070C (en) 1987-05-28 1992-01-08 Method of producing films and jig for producing the same

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Publication Number Publication Date
JPS63298245A JPS63298245A (ja) 1988-12-06
JPH0812418B2 true JPH0812418B2 (ja) 1996-02-07

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JPS63298245A (ja) 1988-12-06

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