JPH0760518B2 - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- JPH0760518B2 JPH0760518B2 JP1342988A JP34298889A JPH0760518B2 JP H0760518 B2 JPH0760518 B2 JP H0760518B2 JP 1342988 A JP1342988 A JP 1342988A JP 34298889 A JP34298889 A JP 34298889A JP H0760518 B2 JPH0760518 B2 JP H0760518B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は磁気記録媒体と、その製造方法とに関する。
＜従来の技術＞ 磁気記録媒体は、非磁性支持体上に磁性層を形成して作
製される。そして、磁性層は、バインダ中に磁性粉のほ
か、帯電防止剤、潤滑剤、研磨材、分散剤、安定剤等を
添加して、電磁変換特性や耐久性、信頼性等をバランス
良く備えるように形成される。
製される。そして、磁性層は、バインダ中に磁性粉のほ
か、帯電防止剤、潤滑剤、研磨材、分散剤、安定剤等を
添加して、電磁変換特性や耐久性、信頼性等をバランス
良く備えるように形成される。
このような磁気記録媒体においては、近年、装置の小型
化に伴い、記録の高密度化が要求されてきている。
化に伴い、記録の高密度化が要求されてきている。
そして、媒体の記録密度を高めるために、磁性粉の高保
持力化、高飽和磁束密度化、微粒子化や、高充填化、高
配向化、平面平滑化、薄層化等が行われている。
持力化、高飽和磁束密度化、微粒子化や、高充填化、高
配向化、平面平滑化、薄層化等が行われている。
しかし、これらの高密度化を行うと、媒体の信頼性や耐
久性が低下し、例えば磁気ヘッドの目詰まりやドロップ
アウトが多発したり、スチル特性の低下等が生じてしま
う。
久性が低下し、例えば磁気ヘッドの目詰まりやドロップ
アウトが多発したり、スチル特性の低下等が生じてしま
う。
これら信頼性、耐久性の向上法として、研磨材の種類や
添加量について提案がされている。
添加量について提案がされている。
研磨材の添加量についていえば、例えば特開昭61−5703
6号公報では、研磨材の磁性層表面上の密度を0.25個／
μm2以上に規制する旨の提案がなされている。
6号公報では、研磨材の磁性層表面上の密度を0.25個／
μm2以上に規制する旨の提案がなされている。
しかし、４μｍ程度以下の薄層化した高密度記録用の磁
性層の場合には、通常の添加方法にてこのように研磨材
を増量すると、信頼性や耐久性は向上するが、感度やC/
N等の電磁変換特性が低下したり、磁気ヘッドの摩耗量
が増大してしまう。
性層の場合には、通常の添加方法にてこのように研磨材
を増量すると、信頼性や耐久性は向上するが、感度やC/
N等の電磁変換特性が低下したり、磁気ヘッドの摩耗量
が増大してしまう。
一方、特公昭54−14482号公報には、磁性層を２層積層
して、下側磁性層の研磨材量を、表面磁性層の研磨材量
の1/3以下とし、ヘッド目詰まり防止効果と、電磁変換
特性とを向上する旨が提案されている。
して、下側磁性層の研磨材量を、表面磁性層の研磨材量
の1/3以下とし、ヘッド目詰まり防止効果と、電磁変換
特性とを向上する旨が提案されている。
しかし、この公報では、その実施例から明らかなよう
に、６μｍと４μｍの２層の磁性層を積層して10μｍの
磁性層としており、高密度化および記録の長時間化の際
に要求される例えば４μｍ以下の磁性層については念頭
におかれていない。すなわち、このような薄層化した磁
性層では、この公報のように重層積層するのは難しく、
生産性がきわめて悪い。
に、６μｍと４μｍの２層の磁性層を積層して10μｍの
磁性層としており、高密度化および記録の長時間化の際
に要求される例えば４μｍ以下の磁性層については念頭
におかれていない。すなわち、このような薄層化した磁
性層では、この公報のように重層積層するのは難しく、
生産性がきわめて悪い。
また、上層を0.6μｍ程度にまで薄層化して積層できた
としても、上層中の研磨材の含有密度は厚み方向に亘っ
て均一であり、層中で高い密度を維持し、加えて、上層
厚さ自体が薄すぎて、カレンダー処理での加工が不十分
となる。
としても、上層中の研磨材の含有密度は厚み方向に亘っ
て均一であり、層中で高い密度を維持し、加えて、上層
厚さ自体が薄すぎて、カレンダー処理での加工が不十分
となる。
このため、特に電磁変換特性に対する悪影響が大きく、
しかも複雑な製造プロセスによる稼動率の低下となる。
しかも複雑な製造プロセスによる稼動率の低下となる。
このように、高密度媒体においては、電磁変換特性の向
上と、媒体の信頼性や耐久性の向上とは相反する面があ
り、従来の研磨材の添加法ではこれらを両立させること
はきわめて困難である。
上と、媒体の信頼性や耐久性の向上とは相反する面があ
り、従来の研磨材の添加法ではこれらを両立させること
はきわめて困難である。
＜発明が解決しようとする課題＞ 本発明の目的は、高密度記録に適した媒体であって、特
に単層の磁性層を有し、高い電磁変換特性を示し、しか
も高い信頼性や耐久性を示す磁気記録媒体と、その製造
方法とを提供することにある。
に単層の磁性層を有し、高い電磁変換特性を示し、しか
も高い信頼性や耐久性を示す磁気記録媒体と、その製造
方法とを提供することにある。
＜課題を解決するための手段＞ このような目的は下記の本発明（１）〜（７）によって
達成される。
達成される。
（１）非磁性支持体上に磁性粉と、モース硬度６以上の
非磁性研磨材と、バインダとを含有する磁性層を有する
磁気記録媒体において、 前記磁性層中に、前記非磁性研磨材が、前記磁性粉に対
し５〜20重量％含有されており、前記非磁性研磨材の含
有密度が、前記磁性層の表層部にて最も高く、この表層
部から支持体側に向かって前記含有密度が連続的に変化
する領域を有することを特徴とする磁気記録媒体。
非磁性研磨材と、バインダとを含有する磁性層を有する
磁気記録媒体において、 前記磁性層中に、前記非磁性研磨材が、前記磁性粉に対
し５〜20重量％含有されており、前記非磁性研磨材の含
有密度が、前記磁性層の表層部にて最も高く、この表層
部から支持体側に向かって前記含有密度が連続的に変化
する領域を有することを特徴とする磁気記録媒体。
（２）前記磁性層の厚さが４μｍ以下である上記（１）
に記載の磁気記録媒体。
に記載の磁気記録媒体。
（３）前記磁性層の表面から0.6μｍの厚みの表層部の
非磁性研磨材の含有密度をρ１、残部の非磁性研磨材の
含有密度をρ２としたとき、ρ1/ρ２が1.5以上である
上記（１）または（２）に記載の磁気記録媒体。
非磁性研磨材の含有密度をρ１、残部の非磁性研磨材の
含有密度をρ２としたとき、ρ1/ρ２が1.5以上である
上記（１）または（２）に記載の磁気記録媒体。
（４）前記非磁性研磨材の平均粒径が0.6μｍ以下であ
る上記（１）ないし（３）のいずれかに記載の磁気記録
媒体。
る上記（１）ないし（３）のいずれかに記載の磁気記録
媒体。
（５）磁性粉と、モース硬度６以上の非磁性研磨材と、
バインダとを含有し、前記非磁性研磨材が、磁性粉に対
し５〜20重量％含有されている磁性層用塗布組成物を、
非磁性支持体上に塗布した後、 連続的に磁界の方向が反転する外部磁場を作用させるこ
とにより、表層部にて、前記非磁性研磨材が他の部分よ
り高密度に含有されている磁性層を有する磁気記録媒体
を得ることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
バインダとを含有し、前記非磁性研磨材が、磁性粉に対
し５〜20重量％含有されている磁性層用塗布組成物を、
非磁性支持体上に塗布した後、 連続的に磁界の方向が反転する外部磁場を作用させるこ
とにより、表層部にて、前記非磁性研磨材が他の部分よ
り高密度に含有されている磁性層を有する磁気記録媒体
を得ることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
（６）前記非磁性支持体の塗布面と反対側に、複数の単
位磁石を、相隣接する単位磁石同志の磁性が異なるよう
に配置して、前記外部磁場を作用させる上記（５）に記
載の磁気記録媒体の製造方法。
位磁石を、相隣接する単位磁石同志の磁性が異なるよう
に配置して、前記外部磁場を作用させる上記（５）に記
載の磁気記録媒体の製造方法。
（７）前記外部磁場を作用させたのち、磁性粉の配向を
行う上記（５）または（６）に記載の磁気記録媒体の製
造方法。
行う上記（５）または（６）に記載の磁気記録媒体の製
造方法。
＜作用＞ 本発明では、特に薄層化した単層の磁性層において、磁
性層中の研磨材の全体量を少なくし、少量の研磨材を磁
性層の表層部に浮き上らせ、研磨材含有量を表層部から
支持体側に向けて連続的に減少させる。
性層中の研磨材の全体量を少なくし、少量の研磨材を磁
性層の表層部に浮き上らせ、研磨材含有量を表層部から
支持体側に向けて連続的に減少させる。
この結果、高い信頼性や耐久性を確保でき、しかも薄層
高密度記録用磁性層の高い電磁変換特性が維持される。
高密度記録用磁性層の高い電磁変換特性が維持される。
この際、配向前に反転磁界を作用させて、磁性塗料を移
動させ、磁性粉を支持体側に引っ張ることで相対的に表
面に研磨材を多く分布させるので、塗膜の脱泡効果や、
配向効果も発揮され、電磁変換特性がより一層向上する
ものである。
動させ、磁性粉を支持体側に引っ張ることで相対的に表
面に研磨材を多く分布させるので、塗膜の脱泡効果や、
配向効果も発揮され、電磁変換特性がより一層向上する
ものである。
＜発明の具体的構成＞ 以下、本発明の具体的構成を詳細に説明する。
本発明は、非磁性支持体上に、バインダ中に磁性粉と、
研磨材とを分散させた磁性層を形成した磁気記録媒体で
ある。
研磨材とを分散させた磁性層を形成した磁気記録媒体で
ある。
本発明に用いる磁性粉には、通常の磁気記録媒体に用い
られるものは何れも使用できる。
られるものは何れも使用できる。
例えば、γ−Fe2O3等の酸化鉄粒子、Co含有γ−Fe2O3等
のCo含有酸化鉄粒子、金属磁性粒子、バリウムフェライ
ト粒子、CrO2等が挙げられ、目的に応じて適宜選択すれ
ばよく、保磁力、残留磁化、比表面積等も目的に応じて
適宜選択すればよい。
のCo含有酸化鉄粒子、金属磁性粒子、バリウムフェライ
ト粒子、CrO2等が挙げられ、目的に応じて適宜選択すれ
ばよく、保磁力、残留磁化、比表面積等も目的に応じて
適宜選択すればよい。
この場合、ビデオテープ用等の高密度記録用の磁気記録
媒体には、特に、保磁力Hc1300Oe以上、特に1300〜3000
Oeの金属磁性粒子が好適である。これらでは、本発明の
効果がより一層高いものとなる。
媒体には、特に、保磁力Hc1300Oe以上、特に1300〜3000
Oeの金属磁性粒子が好適である。これらでは、本発明の
効果がより一層高いものとなる。
なお、強磁性粉として金属磁性粉を用いるときには、表
面に酸化被膜等を有するものであってもよく、１種ある
いは２種以上を併用してもよい。
面に酸化被膜等を有するものであってもよく、１種ある
いは２種以上を併用してもよい。
また、用いる強磁性粉は、通常、針状形態あるいは粒状
形態のものであり、磁気記録媒体として用いる用途によ
って選択される。
形態のものであり、磁気記録媒体として用いる用途によ
って選択される。
例えば、ビデオテープ用の磁気テープに使用する場合は
針状形態のものが好ましく平均長軸長ｌが0.1〜0.5μ
ｍ、平均短軸長をｄとしたときに得られる平均軸比l/d
が３〜20程度のものが好ましい。
針状形態のものが好ましく平均長軸長ｌが0.1〜0.5μ
ｍ、平均短軸長をｄとしたときに得られる平均軸比l/d
が３〜20程度のものが好ましい。
また、ビデオテープ用の磁気テープに使用する場合は、
比表面積（BET値）は、20〜70m2/g程度が好ましい。
比表面積（BET値）は、20〜70m2/g程度が好ましい。
本発明に用いるバインダには、通常の磁気記録媒体に用
いられているものは何れも使用できる。
いられているものは何れも使用できる。
例えば、熱可塑性バインダ、熱硬化性バインダ、電子線
硬化性バインダ等が挙げられる。
硬化性バインダ等が挙げられる。
そして、強磁性粉１重量部に対するバインダの含有量
は、0.1〜0.3重量部程度が好ましい。
は、0.1〜0.3重量部程度が好ましい。
本発明では研磨材として、モース硬度６以上の非磁性研
磨材を用いる。
磨材を用いる。
このような非磁性研磨材としては、アルミナAl2O3、非
磁性酸化クロムCr2O3、炭化ケイ素SiC、酸化チタンTi
O2、シリカSiO2、ジルコニアZrO2の１種または２種以上
が挙げられ、これらのうちでは、研磨材の分散性あるい
は、ヘッド摩耗の点で、Al2O3、Cr2O3およびSiCの１種
以上を含むものが好ましい。
磁性酸化クロムCr2O3、炭化ケイ素SiC、酸化チタンTi
O2、シリカSiO2、ジルコニアZrO2の１種または２種以上
が挙げられ、これらのうちでは、研磨材の分散性あるい
は、ヘッド摩耗の点で、Al2O3、Cr2O3およびSiCの１種
以上を含むものが好ましい。
これら研磨材の平均粒径は0.6μｍ以下、特に0.1〜0.4
μｍであることが好ましい。
μｍであることが好ましい。
0.6μｍをこえると、電磁変換特性が低下し、また小粒
径すぎると耐久性の点で不十分である。
径すぎると耐久性の点で不十分である。
なお、研磨材の粒子形状では、球状、角状等種々のもの
であってよく、通常は、SEM像の投影面積から、円仮定
して算出すればよい。
であってよく、通常は、SEM像の投影面積から、円仮定
して算出すればよい。
このような研磨材は、磁性層全体に、総計で、磁性粉に
対し５〜20重量％、特に８〜18重量％含有される。
対し５〜20重量％、特に８〜18重量％含有される。
全体量が５重量％未満では耐久安定性が低下する。ま
た、20重量％をこえると電磁変換特性が低下する。
た、20重量％をこえると電磁変換特性が低下する。
このような研磨材は、通常単層構造の磁性層中の表層部
に偏在するものである。
に偏在するものである。
すなわち、研磨材の含有密度は、表層部にて最も高く、
支持体側にて最も低い。そして、表層部から支持体側に
向かって含有密度が連続的に変化する傾斜領域を有する
ものである。
支持体側にて最も低い。そして、表層部から支持体側に
向かって含有密度が連続的に変化する傾斜領域を有する
ものである。
より具体的には、表面から0.6μｍの厚みの表層部の含
有密度をρ１、残部の含有密度をρ２としたとき、ρ1/
ρ２は1.5以上、より好ましくは1.5〜10となるようにす
ることが好ましい。
有密度をρ１、残部の含有密度をρ２としたとき、ρ1/
ρ２は1.5以上、より好ましくは1.5〜10となるようにす
ることが好ましい。
ρ1/ρ２が1.5未満では、本発明の効果が減少する傾向
にある。
にある。
ただしあまり大きいと磁性層の補強効果が不十分となる
傾向にある。
傾向にある。
この場合、含有密度は、磁性層の断面SEM像を観察した
とき、磁性層の所定領域中に占める研磨材の投影面積％
であり、添加研磨材量にもよるが、ρ１は10〜20％とす
ることが好ましい。
とき、磁性層の所定領域中に占める研磨材の投影面積％
であり、添加研磨材量にもよるが、ρ１は10〜20％とす
ることが好ましい。
ρ１が10％未満では耐久性が低下する傾向にあり、20％
をこえると電磁変換特性が低下する傾向にある。
をこえると電磁変換特性が低下する傾向にある。
なお、磁性層全体における研磨材の含有密度は、添加量
５〜20重量％にて、通常２〜８％程度であり、従来の均
一層にて研磨材の含有密度10％の磁性層を形成するに
は、研磨材を25重量％程度添加しなければならない。
５〜20重量％にて、通常２〜８％程度であり、従来の均
一層にて研磨材の含有密度10％の磁性層を形成するに
は、研磨材を25重量％程度添加しなければならない。
そして、本発明の磁気記録媒体の場合、10〜20％の含有
密度を有する高密度領域は、一般に0.3〜1.0μｍ程度で
あり、この領域の支持体側に通常、連続勾配にて密度の
減少する傾斜ないし遷移領域を有することが好ましい。
密度を有する高密度領域は、一般に0.3〜1.0μｍ程度で
あり、この領域の支持体側に通常、連続勾配にて密度の
減少する傾斜ないし遷移領域を有することが好ましい。
これらにより、本発明の効果はより一層高いものとな
る。
る。
このような磁性層には、公知の各種帯電防止剤 潤滑
剤、分散剤、塗膜強度補強添加剤を用途に合わせて使用
することが有効である。
剤、分散剤、塗膜強度補強添加剤を用途に合わせて使用
することが有効である。
なお、磁性層の厚みは、好ましくは４μｍ以下、特に2.
0〜4.0μｍ程度とする。そして、８ミリビデオテープの
場合は、2.5〜3.5μｍ程度が好ましい。
0〜4.0μｍ程度とする。そして、８ミリビデオテープの
場合は、2.5〜3.5μｍ程度が好ましい。
また、磁性層の保磁力Hcは800〜2500Oe、残留磁束密度B
rは1500〜3000G程度、角形比は0.8〜0.9程度である。
rは1500〜3000G程度、角形比は0.8〜0.9程度である。
さらに、磁性層中の空孔率は７％以下、通常２〜７％程
度である。
度である。
空孔率は、例えば磁性粉の飽和磁化σＳと媒体の残留磁
束密度Brとの比較によって算出することができ、また磁
性層断面のSEM像からも求めることができる。
束密度Brとの比較によって算出することができ、また磁
性層断面のSEM像からも求めることができる。
また、本発明では、磁性層は通常上記の研磨材含有密度
プロファイルを有する単層膜であるが、場合によって
は、この単層膜の支持体側に下地磁性層を設置したもの
であってもよい。
プロファイルを有する単層膜であるが、場合によって
は、この単層膜の支持体側に下地磁性層を設置したもの
であってもよい。
そして、本発明の媒体は、通常、非磁性支持体の一方の
面に、このような磁性層を有するものであるが、後述の
外部磁場印加は磁性層形成ごとに行えばよいので、いわ
ゆる両面媒体であってもよい。
面に、このような磁性層を有するものであるが、後述の
外部磁場印加は磁性層形成ごとに行えばよいので、いわ
ゆる両面媒体であってもよい。
これら塗布型磁性層については、本出願人による特開昭
62−38522号公報等に詳述されている。
62−38522号公報等に詳述されている。
本発明の磁気記録媒体に用いる非磁性支持体に特に制限
はなく、目的に応じて各種可撓性材質、各種剛性材質か
ら選択した材料を、各種規格に応じてテープ状などの所
定形状および寸法とすればよい。例えば、可撓性材質と
しては、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル
が挙げられる。
はなく、目的に応じて各種可撓性材質、各種剛性材質か
ら選択した材料を、各種規格に応じてテープ状などの所
定形状および寸法とすればよい。例えば、可撓性材質と
しては、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル
が挙げられる。
なお、必要に応じて、下地層や非磁性基体の磁性層と反
対側にバックコート層等を設けてもよい。バックコート
層に制限はなく、導電性フィラー、各種顔料などを含有
する公知の塗布型バックコート層であってよく、また、
プラズマ重合膜をバックコート層として用いてもよい。
対側にバックコート層等を設けてもよい。バックコート
層に制限はなく、導電性フィラー、各種顔料などを含有
する公知の塗布型バックコート層であってよく、また、
プラズマ重合膜をバックコート層として用いてもよい。
次に本発明の磁気記録媒体の製造方法について説明す
る。
る。
まず、モース硬度６以上の非磁性研磨材を磁性粉に対し
５〜20重量％、より好ましくは８〜18重量％程度配合し
て、所定の組成の磁性塗料を磁性層用塗布組成物として
調製する。
５〜20重量％、より好ましくは８〜18重量％程度配合し
て、所定の組成の磁性塗料を磁性層用塗布組成物として
調製する。
次いで、この磁性塗料を非磁性支持体３上に塗布した
後、未乾燥の間に、連続的に磁界の方向が反転する外部
磁場を作用させる。
後、未乾燥の間に、連続的に磁界の方向が反転する外部
磁場を作用させる。
用いる外部磁場印加手段の磁界発生手段は任意であり、
例えば永久磁石や電磁石等が挙げられる。
例えば永久磁石や電磁石等が挙げられる。
ここで本発明に好適な外部磁場印加手段の１例を第１図
に示す。
に示す。
第１図に示される外部磁場印加手段５は、非磁性支持体
３の塗布面と反対側の裏面側に、複数の単位磁石４を、
相隣接する単位磁石同志の極性が異なるように配置して
構成される。
３の塗布面と反対側の裏面側に、複数の単位磁石４を、
相隣接する単位磁石同志の極性が異なるように配置して
構成される。
配置する単位磁石４の個数は、磁界反転回数と対応する
ものであり、４個以上、特に８〜25個程度が好ましい。
ものであり、４個以上、特に８〜25個程度が好ましい。
前記範囲未満では、本発明における研磨材分布プロファ
イルが得られにくい。
イルが得られにくい。
また、あまりに多くの反転回転は不要であり、表面が粗
くならない程度が好ましい。
くならない程度が好ましい。
また、単位磁石４は、図示のように隣接合して配置して
も、所定の間隙を介して配置してもよい。
も、所定の間隙を介して配置してもよい。
また、各単位磁石４は、磁界強度およびサイズが等しい
ものを用いるのが有利である。
ものを用いるのが有利である。
この場合、用いる単位磁石４は、テープ巾方向に亘り均
一な磁界が作用される限りにおいて任意であり、後述の
反転サイクルに応じた寸法とすればよい。
一な磁界が作用される限りにおいて任意であり、後述の
反転サイクルに応じた寸法とすればよい。
そして、単位磁石４の最大エネルギー積（BH）maxは、
3.5〜37MGOe程度が好ましい。
3.5〜37MGOe程度が好ましい。
また、テープ１と外部磁場印加手段５の間隔は通常３〜
20mm程度である。
20mm程度である。
このようにして磁性層２中の磁界の強さを好ましくは30
0G以上、特に好ましくは800〜2000G程度とする。
0G以上、特に好ましくは800〜2000G程度とする。
前記範囲未満では、本発明における研磨材分布プロファ
イルが得られにくい。
イルが得られにくい。
また、あまりに大きすぎる強度は不要であり、単位磁石
４と、支持体３が、接触しない程度が好ましい。
４と、支持体３が、接触しない程度が好ましい。
このような、外部磁場印加手段５を用い、これに対向し
て、テープ１を搬送する。これにより、図示のように未
乾燥の磁性層２には、連続的に磁界の方向が反転する外
部磁場が作用される。
て、テープ１を搬送する。これにより、図示のように未
乾燥の磁性層２には、連続的に磁界の方向が反転する外
部磁場が作用される。
このようにして、単位磁石４からの磁束の方向が反転す
るごとに、塗布された磁性塗料中の磁性粉は反転しなが
ら揺動し、また、磁性塗料も揺動し、磁性粉は外部磁場
印加手段側に周期的に引き寄せられる。
るごとに、塗布された磁性塗料中の磁性粉は反転しなが
ら揺動し、また、磁性塗料も揺動し、磁性粉は外部磁場
印加手段側に周期的に引き寄せられる。
そして、これと相対的に非磁性研磨材は、磁性層２の表
層部に高密度に分布する。
層部に高密度に分布する。
なお、磁性粉はこのような揺動にともない、一種の予備
配向処理を施され、配向度が高まり、角形比が向上す
る。同時に、揺動に伴い脱泡が行われ、空孔率が減少す
る。
配向処理を施され、配向度が高まり、角形比が向上す
る。同時に、揺動に伴い脱泡が行われ、空孔率が減少す
る。
この場合、磁界の反転回数は、単位磁石４の個数と同一
であり、前記のとおり好ましくは４回以上、特に好まし
くは８〜25回程度とする。
であり、前記のとおり好ましくは４回以上、特に好まし
くは８〜25回程度とする。
また、磁界反転サイクルは一般に50〜400回／秒程度と
すればよい。
すればよい。
このような場合、本発明では、図示のように、大略テー
プ長手（搬送）方向の外部磁界を支持体裏面側から印加
して、これを反転させる。
プ長手（搬送）方向の外部磁界を支持体裏面側から印加
して、これを反転させる。
支持体の裏面側から作用させるのは、磁性粉を支持体側
で揺動させるためである。
で揺動させるためである。
これに対し、塗膜面から作用させるときには、塗膜表面
側で揺動が生じ、研磨材は、表面に浮上しない。
側で揺動が生じ、研磨材は、表面に浮上しない。
これらから、図示例とは異なり、外部磁場印加手段５
を、支持体３の塗布面側と、裏面側の双方に配置しても
よいが、図示例のとおり裏面側のみに配置した場合に特
に効果が高い。
を、支持体３の塗布面側と、裏面側の双方に配置しても
よいが、図示例のとおり裏面側のみに配置した場合に特
に効果が高い。
なお、塗布面側と、裏面側の双方に配置するときは、塗
布面側からの磁界より裏面側からの磁界を大きくする。
布面側からの磁界より裏面側からの磁界を大きくする。
次いで、配向用磁石６、６間にて、テープ１を搬送させ
て長手方向配向を行う。
て長手方向配向を行う。
この場合、配向用磁石６は、外部磁場印加手段５と磁石
が干渉しないように離間させて配置する。
が干渉しないように離間させて配置する。
また、配向用磁石６の磁性は、通常、外部磁場印加手段
５の最終段の単位磁石４の極性と反対の極性とする。
５の最終段の単位磁石４の極性と反対の極性とする。
このようにすれば配向をスムーズに行える。
そして、磁性層２中の配向磁界強度は、1500〜10000G程
度が好適である。
度が好適である。
これらの後、カレンダー加工等の表面平滑処理を経て、
硬化される。
硬化される。
そして、これをスリッター等により所定寸法に切断し
て、磁気テープ等とする。
て、磁気テープ等とする。
＜実施例＞ 以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明をさらに詳
細に説明する。
細に説明する。
実施例１ 下記に示される配合比で磁性塗料を調製した。
金属磁性粉 100 重量部 平均長径:0.2μｍ 平均軸比:8 Hc:1500Oe σS:130emu/g 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体
（UCC社製VAGH） 10 重量部 ポリウレタン樹脂（日本ポリウレタン社製Ｎ−2304）10
重量部 低分子量ポリイソシアネート化合物（日本ポリウレタン
社製 コロネートＬ） 5 重量部 研磨材 ３〜30重量部 ステアリン酸 0.2重量部 レシチン 0.5重量部 トルエン 50 重量部 メチルエチルケトン 50 重量部 メチルイソブチルケトン 50 重量部 この場合、研磨材は平均粒径0.25μｍのCr2O3と、平均
粒径0.20μｍのAl2O3とを重量比にて1:1で混合し、これ
を表１に示される重量部で用いたものである。
（UCC社製VAGH） 10 重量部 ポリウレタン樹脂（日本ポリウレタン社製Ｎ−2304）10
重量部 低分子量ポリイソシアネート化合物（日本ポリウレタン
社製 コロネートＬ） 5 重量部 研磨材 ３〜30重量部 ステアリン酸 0.2重量部 レシチン 0.5重量部 トルエン 50 重量部 メチルエチルケトン 50 重量部 メチルイソブチルケトン 50 重量部 この場合、研磨材は平均粒径0.25μｍのCr2O3と、平均
粒径0.20μｍのAl2O3とを重量比にて1:1で混合し、これ
を表１に示される重量部で用いたものである。
この磁性塗料を10μｍ厚のポリエステルフィルム上に塗
布し、外部磁界印加、配向、カレンダー加工後、熱硬化
した。
布し、外部磁界印加、配向、カレンダー加工後、熱硬化
した。
この場合、外部磁界印加は、第１図に示される複数の単
位磁石４を有する外部磁界印加手段５を用いて行った。
位磁石４を有する外部磁界印加手段５を用いて行った。
単位磁石４のテープ搬送方向長は20mmとし、各単位磁石
の表面磁界は同一のものとした。そして、単位磁石数を
変更して、下記表１に示される回数にて磁場を反転させ
た。なお、磁場反転回数は、単位磁石数である。
の表面磁界は同一のものとした。そして、単位磁石数を
変更して、下記表１に示される回数にて磁場を反転させ
た。なお、磁場反転回数は、単位磁石数である。
また、テープと外部磁界印加手段５との間隙を変更し
て、単位磁石４から印加される磁性塗膜中での磁界を、
下記表１に示されるように変化させた。
て、単位磁石４から印加される磁性塗膜中での磁界を、
下記表１に示されるように変化させた。
さらに、配向用磁石６による磁性塗膜の配向磁界は4000
Gとした。
Gとした。
磁性層の最終厚みは3.0μｍとした。
これをスリッターにより8mm幅に切断して、各磁気テー
プサンプルを作製した。
プサンプルを作製した。
各サンプルの磁性層の断面のSEM像を観察し、表面から
0.6μｍの表層部のρ１と残部のρ２を求めた。
0.6μｍの表層部のρ１と残部のρ２を求めた。
ρ１およびρ２は、断面中での研磨材の投影面積比であ
る。
る。
なお、本発明のサンプルNo.1〜５では、表層から0.2μ
ｍ程度の位置から、さらに0.2μｍ程度の範囲が表記の
ρ１をもち、この下方に傾斜層を有していた。
ｍ程度の位置から、さらに0.2μｍ程度の範囲が表記の
ρ１をもち、この下方に傾斜層を有していた。
また、比較用テープサンプルとして磁性層の下層を塗布
後、上層を積層してサンプルNo.13を作製した。
後、上層を積層してサンプルNo.13を作製した。
この場合、下層には、磁性粉100重量部に対し研磨材を1
2.5重量部含有させ、上層には研磨材を25重量部含有さ
せた。
2.5重量部含有させ、上層には研磨材を25重量部含有さ
せた。
そして、磁性層の最終厚みは下層2.4μｍ、上層0.6μｍ
とした。
とした。
これら、各サンプルの角形比、Br、空孔率（％）を表１
に示す。
に示す。
なお、空孔率はテープ残留磁束密度Brから計算で求め
た。
た。
また、各サンプルの5MHzにおけるRF出力を測定した。
なお、RF出力は、サンプルNo.11の出力に対するdB値で
表示した。
表示した。
また、各サンプルについて、スチル特性とヘッド目詰ま
りを評価した。
りを評価した。
スチル特性は常温（23℃、65％RH）にて行い、２時間後
の出力低下について以下の判定基準で評価した。
の出力低下について以下の判定基準で評価した。
◎:RF出力低下1.0dB未満 ○:1.0dB以上2.0dB未満 △:2.0dB以上3.0dB未満 ×:3.0dB以上 また、ヘッド目詰まりは、高温高湿（40℃、80％RH）下
でパス走行を行い、以下の判定基準で評価した。
でパス走行を行い、以下の判定基準で評価した。
◎:100パス以上発生せず。
○:100未満50以上で発生 △:50未満20以上で発生 ×:20パス未満で発生 これらの結果を表１に示す。
表１により本発明の効果が明らかである。
なお、比較サンプルNo.13は、上層厚が薄いため、カレ
ンダー加工性が悪く、表面が粗くなり、RF出力が低い。
ンダー加工性が悪く、表面が粗くなり、RF出力が低い。
これに対し、本発明のサンプルNo.1〜No.5は、電磁変換
特性および耐久性それぞれが良好であった。
特性および耐久性それぞれが良好であった。
また、強磁性粉をかえたり、あるいは、さらに研磨材と
してAl2O3、Cr2O3、SiC等を単独ないし混合添加して磁
気テープサンプルを作製し、同様の測定を行なったとこ
ろ、同等の結果が得られた。
してAl2O3、Cr2O3、SiC等を単独ないし混合添加して磁
気テープサンプルを作製し、同様の測定を行なったとこ
ろ、同等の結果が得られた。
＜発明の効果＞ 本発明の磁気記録媒体では、高い信頼性や耐久性を確保
でき、しかも薄層高密度記録用磁性層の高い電磁変換特
性が維持できる。
でき、しかも薄層高密度記録用磁性層の高い電磁変換特
性が維持できる。
また、本発明の製造方法では、磁性塗膜の脱泡効果や、
配向効果が得られるため、電磁変換特性がより一層向上
する。
配向効果が得られるため、電磁変換特性がより一層向上
する。
第１図は、本発明の磁気記録媒体の一製造工程が示され
る側面図である。 符号の説明 １……テープ ２……磁性層 ３……非磁性支持体 ４……単位磁石 ５……外部磁界印加手段 ６……配向用磁石
る側面図である。 符号の説明 １……テープ ２……磁性層 ３……非磁性支持体 ４……単位磁石 ５……外部磁界印加手段 ６……配向用磁石
Claims (7)
- 【請求項１】非磁性支持体上に磁性粉と、モース硬度６
以上の非磁性研磨材と、バインダとを含有する磁性層を
有する磁気記録媒体において、 前記磁性層中に、前記非磁性研磨材が、前記磁性粉に対
し５〜20重量％含有されており、前記非磁性研磨材の含
有密度が、前記磁性層の表層部にて最も高く、この表層
部から支持体側に向かって前記含有密度が連続的に変化
する領域を有することを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】前記磁性層の厚さが４μｍ以下である請求
項１に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項３】前記磁性層の表面から0.6μｍの厚みの表
層部の非磁性研磨材の含有密度をρ１、残部の非磁性研
磨材の含有密度をρ２としたとき、ρ1/ρ２が1.5以上
である請求項１または２に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項４】前記非磁性研磨材の平均粒径が0.6μｍ以
下である請求項１ないし３のいずれかに記載の磁気記録
媒体。 - 【請求項５】磁性粉と、モース硬度６以上の非磁性研磨
材と、バインダとを含有し、前記非磁性研磨材が、磁性
粉に対し５〜20重量％含有されている磁性層用塗布組成
物を、非磁性支持体上に塗布した後、 連続的に磁界の方向が反転する外部磁場を作用させるこ
とにより、表層部にて、前記非磁性研磨材が他の部分よ
り高密度に含有されている磁性層を有する磁気記録媒体
を得ることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項６】前記非磁性支持体の塗布面と反対側に、複
数の単位磁石を、相隣接する単位磁石同志の極性が異な
るように配置して、前記外部磁場を作用させる請求項５
に記載の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項７】前記外部磁場を作用させたのち、磁性粉の
配向を行う請求項５または６に記載の磁気記録媒体の製
造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1342988A JPH0760518B2 (ja) | 1989-12-29 | 1989-12-29 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| LU87870A LU87870A1 (fr) | 1989-12-29 | 1990-12-21 | Optical record medium |
| US07/633,781 US5122414A (en) | 1989-12-29 | 1990-12-26 | Magnetic recording medium and method for making |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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