JPH07507060A - 2−置換ベンズアルデヒドの製造方法および該製造用中間体 - Google Patents
2−置換ベンズアルデヒドの製造方法および該製造用中間体Info
- Publication number
- JPH07507060A JPH07507060A JP5516838A JP51683893A JPH07507060A JP H07507060 A JPH07507060 A JP H07507060A JP 5516838 A JP5516838 A JP 5516838A JP 51683893 A JP51683893 A JP 51683893A JP H07507060 A JPH07507060 A JP H07507060A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- alkyl
- phenyl
- compound
- independently
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- -1 2-substituted benzaldehyde Chemical class 0.000 title claims description 41
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 37
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 56
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 40
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 28
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 28
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 21
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical group CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 20
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 20
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 15
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 claims description 10
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 claims description 8
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 claims description 8
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 claims description 8
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 7
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 7
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 claims description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 7
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 6
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 6
- FSTJSZALCOAPRT-UHFFFAOYSA-N n-tert-butyl-1-(2-methylphenyl)methanimine Chemical compound CC1=CC=CC=C1C=NC(C)(C)C FSTJSZALCOAPRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 6
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- YBRBMKDOPFTVDT-UHFFFAOYSA-N tert-butylamine Chemical compound CC(C)(C)N YBRBMKDOPFTVDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 5
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 claims description 4
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 4
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims description 3
- KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N Lysine Natural products NCCCCC(N)C(O)=O KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004472 Lysine Substances 0.000 claims description 2
- 125000005913 (C3-C6) cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims 5
- 125000000229 (C1-C4)alkoxy group Chemical group 0.000 claims 3
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 claims 3
- LBNXAWYDQUGHGX-UHFFFAOYSA-N 1-Phenylheptane Chemical compound CCCCCCCC1=CC=CC=C1 LBNXAWYDQUGHGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N Dicyclohexylamine Chemical compound C1CCCCC1NC1CCCCC1 XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- CUQOHAYJWVTKDE-UHFFFAOYSA-N potassium;butan-1-olate Chemical compound [K+].CCCC[O-] CUQOHAYJWVTKDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 46
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 43
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 23
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000047 product Substances 0.000 description 17
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzenecarboxaldehyde Natural products O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 14
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 10
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 8
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 8
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 8
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 7
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 7
- JRXDMDTWEUAEFE-UHFFFAOYSA-N 2-(8-phenyloctyl)benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1CCCCCCCCC1=CC=CC=C1 JRXDMDTWEUAEFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 238000010268 HPLC based assay Methods 0.000 description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 5
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 5
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 4
- 238000003556 assay Methods 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 4
- 238000006138 lithiation reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 3
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 3
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 3
- 108010011222 cyclo(Arg-Pro) Proteins 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N lithium butane Chemical compound [Li+].CCC[CH2-] DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003261 o-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- XEJNMVHARXCUDY-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-1-chlorohexane Chemical compound CCCCCC(Cl)Br XEJNMVHARXCUDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 2
- RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-Tetramethylpiperidine Substances CC1(C)CCCC(C)(C)N1 RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N Benzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC=C1 KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000257465 Echinoidea Species 0.000 description 2
- UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N Ethynylbenzene Chemical group C#CC1=CC=CC=C1 UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102100028138 F-box/WD repeat-containing protein 7 Human genes 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101001060231 Homo sapiens F-box/WD repeat-containing protein 7 Proteins 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical group [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940071870 hydroiodic acid Drugs 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ANYSGBYRTLOUPO-UHFFFAOYSA-N lithium tetramethylpiperidide Chemical compound [Li]N1C(C)(C)CCCC1(C)C ANYSGBYRTLOUPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001404 mediated effect Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAEDZJGFFMLHHQ-UHFFFAOYSA-N trifluoroacetic anhydride Chemical compound FC(F)(F)C(=O)OC(=O)C(F)(F)F QAEDZJGFFMLHHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- YAXWOADCWUUUNX-UHFFFAOYSA-N 1,2,2,3-tetramethylpiperidine Chemical compound CC1CCCN(C)C1(C)C YAXWOADCWUUUNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBODDUNKEPPBKW-UHFFFAOYSA-N 1,5-dibromopentane Chemical compound BrCCCCCBr IBODDUNKEPPBKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGRHVVLXEBNBDV-UHFFFAOYSA-N 1,6-dibromohexane Chemical compound BrCCCCCCBr SGRHVVLXEBNBDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTYUIAOHIYZBPB-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-6-chlorohexane Chemical compound ClCCCCCCBr JTYUIAOHIYZBPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SODQFLRLAOALCF-UHFFFAOYSA-N 1lambda3-bromacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound Br1=CC=CC=C1 SODQFLRLAOALCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOCSWKJNNDKQBA-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylphenyl)-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound CC1=CC=CC=C1C1=NCCO1 FOCSWKJNNDKQBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazoline Chemical compound C1CN=CO1 IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUSXLWAFYVKNLT-UHFFFAOYSA-M 2-bromobenzenesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1Br JUSXLWAFYVKNLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VFPWGZNNRSQPBT-UHFFFAOYSA-N 2-bromobenzenesulfonyl chloride Chemical compound ClS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1Br VFPWGZNNRSQPBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONIKNECPXCLUHT-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1Cl ONIKNECPXCLUHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTFOFMTUOBLHG-UHFFFAOYSA-N 2-methoxypyridine Chemical compound COC1=CC=CC=N1 IWTFOFMTUOBLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXUNIGZDNWWYED-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzamide Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(N)=O XXUNIGZDNWWYED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-M 2-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=CC=C1S([O-])(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BWWHTIHDQBHTHP-UHFFFAOYSA-N 2-nitrobenzoyl chloride Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1C(Cl)=O BWWHTIHDQBHTHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUVUONUBXHYGCD-UHFFFAOYSA-N 6-chlorohexan-1-amine Chemical compound NCCCCCCCl XUVUONUBXHYGCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNUBJDFTMKBZJK-UHFFFAOYSA-N 7-chloroheptylbenzene Chemical compound ClCCCCCCCC1=CC=CC=C1 PNUBJDFTMKBZJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100460146 Arabidopsis thaliana NEET gene Proteins 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- 125000006538 C11 alkyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001157 Fourier transform infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000004726 Luranyl Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHSPJQZRQAJPPF-UHFFFAOYSA-N N-alpha-Methylhistamine Chemical compound CNCCC1=CN=CN1 PHSPJQZRQAJPPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 241000750004 Nestor meridionalis Species 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002262 Schiff base Substances 0.000 description 1
- 150000004753 Schiff bases Chemical class 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005903 acid hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 150000001266 acyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000538 analytical sample Substances 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000005228 aryl sulfonate group Chemical group 0.000 description 1
- 208000006673 asthma Diseases 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Inorganic materials [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 150000003935 benzaldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- WAKRDDXHAXBEQA-UHFFFAOYSA-N benzoic acid;2,2,2-trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F.OC(=O)C1=CC=CC=C1 WAKRDDXHAXBEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001743 benzylic group Chemical group 0.000 description 1
- FBCNRCVXBGRPQU-UHFFFAOYSA-N bromo benzoate Chemical compound BrOC(=O)C1=CC=CC=C1 FBCNRCVXBGRPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009933 burial Methods 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLKYBGKDCCEQQM-WYUVZMMLSA-M cefazolin sodium Chemical compound [Na+].S1C(C)=NN=C1SCC1=C(C([O-])=O)N2C(=O)[C@@H](NC(=O)CN3N=NN=C3)[C@H]2SC1 FLKYBGKDCCEQQM-WYUVZMMLSA-M 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- KVSASDOGYIBWTA-UHFFFAOYSA-N chloro benzoate Chemical compound ClOC(=O)C1=CC=CC=C1 KVSASDOGYIBWTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-M chloroacetate Chemical compound [O-]C(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940089960 chloroacetate Drugs 0.000 description 1
- 125000004965 chloroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- DCUKIPCLKPKATJ-UHFFFAOYSA-N chloromethylbenzene;magnesium Chemical compound [Mg].ClCC1=CC=CC=C1 DCUKIPCLKPKATJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012230 colorless oil Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005595 deprotonation Effects 0.000 description 1
- 238000010537 deprotonation reaction Methods 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012039 electrophile Substances 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 1
- PNLSTDKQAPNMDU-UHFFFAOYSA-N hept-1-enylbenzene Chemical compound CCCCCC=CC1=CC=CC=C1 PNLSTDKQAPNMDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000036571 hydration Effects 0.000 description 1
- 238000006703 hydration reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 125000002346 iodo group Chemical group I* 0.000 description 1
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000000554 iris Anatomy 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950003188 isovaleryl diethylamide Drugs 0.000 description 1
- 239000003199 leukotriene receptor blocking agent Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- AFRJJFRNGGLMDW-UHFFFAOYSA-N lithium amide Chemical compound [Li+].[NH2-] AFRJJFRNGGLMDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVRRUKBOLSAMBL-UHFFFAOYSA-N lithium ethylazanide Chemical compound [Li+].CC[NH-] OVRRUKBOLSAMBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 1
- DBYQHFPBWKKZAT-UHFFFAOYSA-N lithium;benzene Chemical compound [Li+].C1=CC=[C-]C=C1 DBYQHFPBWKKZAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHLVCKWPAMTVTG-UHFFFAOYSA-N lithium;carbanide Chemical compound [Li+].[CH3-] IHLVCKWPAMTVTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRUBUZBAZRTHHX-UHFFFAOYSA-N lithium;propan-2-ylazanide Chemical compound [Li+].CC(C)[NH-] NRUBUZBAZRTHHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L magnesium chloride Substances [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- PXSXRABJBXYMFT-UHFFFAOYSA-N n-hexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCNCCCCCC PXSXRABJBXYMFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- UJJUJHTVDYXQON-UHFFFAOYSA-N nitro benzenesulfonate Chemical compound [O-][N+](=O)OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 UJJUJHTVDYXQON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000008689 nuclear function Effects 0.000 description 1
- 239000012038 nucleophile Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N phosphorus trichloride Chemical compound ClP(Cl)Cl FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- CUNPJFGIODEJLQ-UHFFFAOYSA-M potassium;2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C(F)(F)F CUNPJFGIODEJLQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000005588 protonation Effects 0.000 description 1
- 239000012264 purified product Substances 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 1
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003461 sulfonyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003718 tetrahydrofuranyl group Chemical group 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005147 toluenesulfonyl group Chemical group C=1(C(=CC=CC1)S(=O)(=O)*)C 0.000 description 1
- 125000005034 trifluormethylthio group Chemical group FC(S*)(F)F 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000825 ultraviolet detection Methods 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
- C07C251/72—Hydrazones
- C07C251/86—Hydrazones having doubly-bound carbon atoms of hydrazone groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
- C07C251/02—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton containing imino groups
- C07C251/24—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton containing imino groups having carbon atoms of imino groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/51—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition
- C07C45/516—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition involving transformation of nitrogen-containing compounds to >C = O groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C47/00—Compounds having —CHO groups
- C07C47/52—Compounds having —CHO groups bound to carbon atoms of six—membered aromatic rings
- C07C47/546—Compounds having —CHO groups bound to carbon atoms of six—membered aromatic rings polycyclic
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
2−置換ベンズアルデヒドの製造方法および該製造用中間体発明の分野
本発明は、医薬的に有効な薬物の合成において有用な中間体製造のため新規中間
体および該製造方法に関する。
!!
2−置換ベンズアルデヒドは、医薬的に有効な薬物を製造するための有用な中間
体である。例えば、ロイコトリエン拮抗薬であり、喘息の治療に有用なある種の
化合物は、一般式(Ia):
(Ia)
[式中、
R,は、(L)、(CHl)−−(T)、−Mであり;aは、0または1であり
;
bは、3〜14であり:
Cは、0または1であり;
LおよびTは、独立して、硫黄、酸素またはCH,であり:Mは、C1,4アル
キル、エチニル、トリフルオロメチル、インプロペニル、フラニル、チェニル、
シクロヘキシル、または所望により、Br、CL CFs、Cl−4アルキル、
C1−、アルコキシ、メチルチオもしくはトリフルオロメチルチオで一置換され
ていてもよいフェニルであり:R2およびAは、独立シテ、HSCF、、Cr
−47ル+ k、CI−a71Ltコキ:7、FlCl、Br、1%OH,No
tまたはNH,から選択されるか:あるいはR1およびAは、HTあり、R,は
、(L)−−(CHz)−(T)−−Mi’あり、二二で、a、b、c、LS
tおよびMは前記定義と同じである]で示される2−1換ベンズアルデヒドから
製造されてもよい。
かかる化合物は、例えば、U、S、P 4,820,719、U、S、P 4,
874゜792およびEP−A O296732に開示されている(この記載は
、本明細書中に引用記載する)。したがって、そこには2つの一般的な2−置換
ベンズアルデヒド製造方法が開示されている=1)置換1−アルキニル化合物の
2−ハロベンズアルデヒドへのパラジウム触媒化添加によって結合を生じさせて
、2〜(1−アルキニル)ベンズアルデヒドを直接得る方法、および2)2−メ
トキシ安息香酸を2−(2−メトキシ−フェニル)−4,4−ジメチル−オキサ
ゾリンに変換し、アルキルまたはアラルキルグリニヤール試薬で処理して、対応
する2−(2−アルキルフェニル)−4,4−ジメチル−オキサゾリンまたは2
−(2−アラルキルフェニル)−4,4−ジメチル−オキサゾリンを製造する(
次いで、2−置換オキサゾリンをヨウ化メチルで処理し、ホウ水素化ナトリウム
で還元し、次いで、酸加水分解して、対応する2−置換ベンズアルデヒドを製造
する)。後者の方法は、メイヤーズ(Meyers)ら、ジャーナル・オブ・オ
ーガニック・ケミストリー(J 、 Org、 Che+n、 )、43.13
72 (1978)によって開示された方法に基づいている。同様の2−置換ベ
ンズアルデヒド製造方法は、パーコノツク(P erchonock)ら、ジャ
ーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー(J 、 Med。
Chem、)、28.1145 (1985)によって開示されている。一般に
、これらの方法は、アリール環の置換基を機能的に置換する試薬を使用する。
アリール環を核性にすることによってアリール環にオルト置換基を付加する方法
も知られている。Org、 Reactions、 26.43−61 (19
79)には、窒素へテロ原子を含有し、かつ、フェニル環に結合するある種の官
能基が、好ましくはオルト位で、リチオ化に対してフェニル環を安定化できるこ
とが開示されている。次いで、リチオ化された部位は、好適な電子試薬で処理さ
れて、置換されてもよい。この目的のために特に有効であることが該文献に開示
されている官能基は、モノ−またはジ−アルキルアミド、アミン、N、N−ジア
ルキルヒドラゾン、イミダシリンおよびオキサゾリンである。デ・シルヴア(D
e 5ilva)ら、−テトラヘドロン・レターズ(Tetrahedron
Lett、)、5107 (1978)には、5ec−ブチルリチウムおよびジ
イソプロピルアミンを使用するベンザミドのオルト−リチオ化が開示されており
、トルコート(Tr6court)ら、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミ
ストリー(J、Org、Chet)、53.1367(1988)には、メチル
リチウムおよび触媒量のジイソプロピルアミンにょる2−メトキシ−ピリジンの
オルト−リチオ化が開示されている。しかしながら、アリール力ルビミンは、ア
ゾメチン結合での反応およびアルファー説プロトン化を受ける傾向のために合成
利用が限定されることが開示されている。Org。
Reactions、 26.57−58 (1979)を参照。ジ−グラ−(
Z iegler)ら、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー(J
、 Org、 Chem、)、41.1564 (1976)には、隣接するエ
ーテル置換基が存在する場合、アリールヵルビミノが誘導されて、オルト−リチ
オ化されることが開示されている。
さらに、メチル基が、ベンザミド、2−フェニルイミダシリンおよび2−フェニ
ルオキサジノンのオルト位にある場合、リチオ化され得ることが開示されている
。かくして、ワタナベ(Watanabe)ら、ジャーナル・オブ・オーガニッ
ク・ケミストリー(J、Org、Chem、)、49.742 (1984)に
は、インクマリンの合成におけるオルト−トルアミドを介する鎖伸長が開示され
ており:グシ二ヴエンド(Gschwend)ら、ジャーナル・オブ・オーガニ
ック・ケミストリ=(J、Org、Ches、)、40.2008 (1975
)には、2−(o−トリル)オキサゾリンのリチオ化を介するベンジル鎮伸長か
開示されており:ハウリハン()(oulihan)、U、S、P 4.100
.165には、ジリチオ化された2−(o−トリル)イミダシリンのエステルお
よびアシルハライドとの縮合が開示されている。
本発明の2−置換ベンズアルデヒドの合成に関する現在の方法は、2−置換ベン
ズアルデヒドの商業的調製を魅力的でないものにする高価な試薬または多数の工
程段階を使用する。したがって、2−置換ベンズアルデヒドの製造のための有効
な別法が必要である。
発明の概要
本発明の目的は、式(Ib):
(Ib)
[式中、
R1は、CH2CH2(LI)−−(CHt)−−(Lt)−CHz−(T)、
−Zであり:L1およびり、は、独立して、CH! CH*、CH=CHまたは
CミCであり;qは、0〜8であり;
p、rおよびSは、独立して、0または1であり;Tは、0.5SCHt、CH
=CH5c=cであり;Zは、C,−、アルキル、エチニル、トリフルオロメチ
ル、イソプロペニル、フラニル、チェニル、ンクロヘキシル、または所望により
、CFI、Cl−4アルキル、Cl−4アルコキシ、メチルチオもしくはトリフ
ルオロメチルチオで一置換されていてもよいフェニルであり:
R2およびAは、独立して、H,CFI、Cl−4アルキル、FSCl、Brま
たは!である]
で示される化合物の新規かつ有効な製造方法を提供することである。
本発明の1つの特徴は、式。
(四
[式中、
R2およびAは、式(Ib)に関する前記定義と同じであり。
R3は、C1−6アルキル、C3−6ンクロアルキル、(CHI)、フェニルま
たはNCR’)2であり。
Roは、C11アルキル、C3−、/クロアルキルまたは(CH,)、フェニル
であり;tは、0または1であるコ
で示される化合物を、塩基および式:
%式%)
[式中、Ll、R3、pSq、r、s、TおよびZは、式(Ib)に関する前記
定義と同じであり、Xは、離脱基である]
で示される化合物と反応させ:
次いで、その生成物を酸で処理することを特徴とする、式:[式中、A、R+、
R2、LI、I−x、q、pSr、s、TおよびZは、式(Ib)に関する前記
定義と同じである]
で示される化合物の製造方法である。
本発明の別の特徴は、式(II)
[式中、
R1,R2およびAは、式(Ib)に関する前記定義と同じであり:R3は、c
I−8アルキル、CL、シクロアルキル、(CH2)lフェニルまたはN(R’
)2であり。
Roは、C1−6アルキル、C5−aシクロアルキルまたは(CH2)lフェニ
ルであり:tは、0または1である]
で示される新規中間体である。
本発明の別の特徴は、式(m)。
(■■)
[式中、A、R1およびR1は、式(II)に関する定義と同じである]で示さ
れる化合物を、塩基および式(■):X CHl (LI)−(CHJ−(Lt
)、−CHz (T)l Z(■)
[式中、Ll、Ll、p、q、’ r、s%TおよびZは、式(Ib)に関する
前記定義と同じであり、Xは、離脱基である]
で示される化合物と反応させることを特徴とする、式(II)で示される新規中
間体の製造方法である。
本発明の別の特徴は、塩基の添加前に、該反応混合物に触媒量の有機アミンを添
加することを特徴とする、式(n)で示される化合物の改良製造方法である。
本発明の別の特徴は、該反応混合物にナトリウムまたはカリウムアルコキシドを
添加することを特徴とする、式(II)で示される化合物の改良製造方法である
。
本発明のさらに別の特徴は、所定の温度範囲内で反応させることを特徴とする、
式(II)で示される化合物の改良製造方法である。
発明の詳細な説明
本発明は、式。
(III)
[式中、
R2およびAは、後記定義と同じであり。
R1は、自−、アルキル、C1−6ンクロアルキル、(CHz)、フェニルまた
はN(R’:hであり:
Roは、cI−@アルキル、C*−@シクロアルキルまたは(CHl)lフェニ
ルであり:tは、Oまたは1である]
で示される化合物を、塩基および式:
%式%)
[式中、R3、R2、p、q、rSs、TおよびZは、後記定義と同じであり、
又は、離脱基である]
で示される化合物と反応させ、次いで、その生成物を酸で処理することを特徴と
する、式(Ib)・
(ル)
[式中、
R2は、CH2CH2(Ll)−(CHI)−(Lり、 CHz (T)、 Z
であり;LlおよびR2は、独立して、CH2CH2、CH=CHまたはc=c
であり:qは、0〜8であり。
p、rおよびSは、独立して、0または1であり;Tは、O,S、CH2、CH
=CH,c=cであり;Zは、Cl−4アルキル、エチニル、トリフルオロメチ
ル、イソプロペニル、フラニル、チェニル、ンクロヘキシル、または所望により
、CFs、Cl−4アルキルCI−4アルコキン、メチルチオもしくはトリフル
オロメチルチオで一置換されていてもよいフェニルであり:
R2およびAは、独立して、H,CFs、CI−4アルキル、F,CL Brま
たは■である]
で示される化合物の製造に有用な中間体および製造方法を開示してしする。
したがって、本発明は、式(I[)
(II)
[式中、
R7は、CHICHI−(Ll)、−(CHI)、−(Lり)、−CHI−(T
)、−Zであり;Llおよびり、は、独立して、CH! CH!、(:、1(=
CHまた(まC=Cであり;qは、0〜8であり;
plrおよびSは、独立して、0または1であり;Tは、0、S、CHI、CH
=CH,C=Cであり;Zは、Cl−4アルキル、エチニル、トリフルオロメチ
ルラニル、チェニル、シクロヘキシル、また(ま所望書こより、CF.、C,4
アルキル自−4アルコキシ、メチルチオもしくはトリフルオロメチルチオで一置
換されていてもよいフェニルであり。
R,およびAは、独立して、H,CFs、CI−4アルキルであり:
R3は、C1−、アルキル、CI−、シクロアルキルNCR’)zであり;
R′は、CI−aアルキル、CI−、ンクロアルキルまたIt(CHz)、フェ
ニルであり;tは、0または1である]
で示される新規中間体を記載する。
好適には、Zは、フェニルであり、Llおよびり,↓ま、C H z C H
tである。
好適には、R3は、t−ブチルである。
好適には、pSrおよびSは、1である。
好適には、qは、0〜2である。
好適には、Tは、C H 2またはC=Cである。
好ましい化合物は、N−[2−(8−フェニルオクチル−1.1−ジメチルエタ
ンアミンである。
式(II)で示される新規中間体は、式(■):(■I)
[式中、
R2およびAは、独立して、HScFs、C,−4アルキル、F,CISBrま
たはIであり;
R,は、C1−、アルキル、CI.シクロアルキル、(CHり.フェニルまたは
N(R“)!であり;
R′は%CI−6アルキル、C,−・シクロアルキルまたは(CHt)Iフェニ
ルであり:tは、0または1である]
で示される化合物を、塩基および式(■):X CHz (Ll)− (CHz
)− (Ll)、CHt−(T)、 Z(rV)
[式中、
LlおよびR2は、独立して、C H ! C H !、CH=CHまたはC=
Cであり;qは、0〜8であり:
pl rおよびSは、独立して、0または1であり:Tは、O,S,CHI、C
H=CHまたはC=Cであり。
Zは、C1−4アルキル、エチニル、トリフルオロメチル、イソプロペニル、フ
ラニル、チェニル、シクロヘキシル、または所望により、CFI、CI−4アル
キル、C1.4アルコキシ、メチルチオもしくはトリフルオロメチルチオで一置
換されていてもよいフェニルであり:
Xは、離脱基である〕
で示される化合物と反応させることを特徴とする方法によって製造される。
好ましい具体例では、本発明は、式(m)で示される化合物を塩基および式(r
V)で示される化合物と反応させ、次いで、該反応混合物を酸で処理することを
特徴とする、式(Ib)で示される化合物の製造方法を記載する。かくして、好
ましい具体例では、全変換は、中間生成物を単離せずに1つの反応容器中で行わ
れる。
この方法は、容易に入手可能な物賀を使用し、最少数の工程段階で効率的な収量
で行われる。
式(m)で示される化合物は、ヒドロラゾンおよびイミン、またはシッフ塩基で
あり、一般に、かかる化合物の製造に関する技術分野にとって一般的な手段によ
って製造される。1つのイミン製造方法は、式(V):閏
で示される化合物をアミンまたは式R,−NHtで示されるヒドラジンと反応さ
せることからなる。かかる反応は、通常、非水性溶媒中で反応物を混合し、次い
で、所望により、2つの反応物を加熱することによって行われる。所望により、
脱水剤を使用して、生成物に向かって反応を作動させる。一般的な脱水剤は、例
えば、モレキュラーシーブまたは硫酸マグネシウムである。別法としては、脱水
は、ペンセンオたはトルエンのような適当な溶媒から反応によって生成した水を
共沸させることによって行うこともできる。R3基は、C1−、アルキル、CI
−、シクロアルキル、ベンジル、フェニルまたはNCR’)zである。シクロヘ
キシルアミン、t−ブチルアミン、アニリンおよびN.N−ジメチルヒドラジン
は、好適な試薬である。t−ブチルアミンが好ましい。
式(IV)で示される電子剤は、U.S.P 4,820,719、U.S.P
4.874、792、EPA O 296 732およびパーコノツク( P
erchonock)ら、ジャーナル・オブ・メゾインナル・ケミストリー(
J 、 Med. C heir. )、28、1145 (1985)(本明
細書中に引用記載する)に開示されている方法のような慣用の方法によって製造
される請求電子剤のX基は、式(m)で示される化合物から製造された炭素求核
剤によって置換され得る離脱基を表す。アルキルおよびアリールスルホネート、
アルキルおよびアラルキルアセテート、ベンゾエートおよびハロゲンのような多
(の離脱基が好適である。該群の代表は、C1. Br%11R.S01および
R.COlであり、ここで、R4は、所望により1〜5個の7ツ素原子で置換さ
れていてもよいC1−4アルキル、所望により1または2個のハロゲン、CI−
4アルキル、CI−4アルコキシまたはニトロ基によって置換されていてもよい
フェニルである。代表的な離脱基は、トルエンスルホネート、ブロモベンゼンス
ルホネート、ニトロベンゼン−スルホネート、メタンスルホネート、トリフルオ
ロメタンスルホネート、アセテート、クロロアセテート、トリフルオロアセテー
ト、ベンゾエート、ブロモベンゾエート、クロロベンゾエート、ニトロベンゾエ
ート、クロロ、ブロモおよびヨードである。クロロおよびブロモが好ましい。。
クロロが特に好ましい。
一般に、式(rV)で示される化合物のX基は、前駆体中に存在しない場合、適
当なアンルハライド、無水物、スルホニルハライドまたは適当なハロゲン化剤と
の反応によって対応するアルコールから製造される。かかる試薬の典型的なもの
は、トルエンスルホニルコクロリド、ブロモベンゼンスルホニル=クロリド、ニ
トロベンゼンスルホニル=クロリド、メタンスルホニルナクロリド、塩化アセチ
ル、塩化クロロアセチル、無水トリフルオロ酢酸、塩化ベンゾイル、塩化ブロモ
ベンゾイル、塩化クロロベンゾイル、塩化ニトロベンゾイル、塩化または臭化オ
キサリル、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、三臭化リン、三塩化リン、オキシ
塩化リンおよび四塩化炭素ならびにトリフェニルホスフィンである。式HO C
Hz (Ll)− (CHz)−一(L*)、−GHz (T)l−Z [式中
、Tは、CH.であり、L,またはR2は、CH.CH.であり、Zは、CI−
4アルキルまたはフェニルである]で示される化合物は、一般に、商業的に入手
可能である。TがO,SまたはC=Cである化合物は、適当な塩基の存在下、化
合物H−T−Zを構造式X CH2 (Ll)− (CHり− (LxルーCH
*−X [式中、X,L,、R2、T, pSQおよび「は、前記定義と同じで
ある]で示される化合物と反応させることによって製造されてもよい。TがCH
=CHである化合物は、TがC=Cである化合物の、例えば、リンドラ−触媒ま
たは5%パラジウム−硫酸バリウムおよび水素による半水素化によって製造され
得る。L,またはLlがC=CまたはCH=CHである場合、次いで、得られた
生成物を還元して、L、またはL!がCH=CHまたはCH! CH!である生
成物を得る。例えば、1−ブロモ−7−フェニルへブタンは、n−ブチルリチウ
ムの存在下、1.5−ジブロモペンタンおよびフェニルアセチレンから製造され
、次いで、パラジウム触媒上、水素で還元される。別の例では、1−ブロモまた
は1−クロロ−7−フェニルへブタンは、ハロゲン化マグネシウムベンジルと1
.6−ジブロモヘキサンまたは1−ブロモ−6−クロロヘキサンとの銅媒介結合
によって製造されてもよい。
式(iff)で示されるカルイミンのアルキル化は、式(Il[)で示される化
合物壱強塩基と反応させて、オルトメチル基を脱プロトン化することによって開
始される。
金属化中間体は水と反応するので、活性化反応は、乾燥空気で充分であるが、窒
素またはアルゴンなどの不活性乾燥雰囲気下で行うのが好適である。
活性化反応は、非プロトン性溶媒中で行われる。この反応に好適な溶媒は、強塩
基に対して非反応的な、一般的な脂肪族または芳香族炭化水素溶媒である。かか
る溶媒の代表的なものは、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
、ジメトキノエタン、トルエン、ベンゼン、ペンタン、ヘキサンおよび石油エー
テル、ならびにその混合物である。ジエチルエーテル、ジオキサンおよびテトラ
ヒドロフランである。ジエチルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン
が好ましい。テトラヒドロフランが特に好ましい。
オルトメチル基を脱プロトン化するのに充分な強度の塩基が必要である。認知で
きる副反応を生じずにかかる脱プロトン化を行うことができる塩基が好適である
。かかる塩基の典型的なものは、アルカリ金属アルキル、アルカリ金属アミン(
例えば、有機または無機アミンの塩)、またはアルカリ金属アリールである。
かかる塩基の代表的なものは、n−ブチルリチウム、5ee−ブチルリチウム、
メチルリチウム、フェニルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウム
テトラメチルピペリジド、リチウムンエチルアミドまたはリチウムアミド、ある
いは、これらの種類のいずれかの対応するナトリウムまたはカリウム塩である。
アルキルリチウム試薬が特に好適である。n−ブチルリチウム、リチウムテトラ
メチルピペリジドおよびリチウムジイソプロピルアミドが好ましい。最初に使用
される塩基の金属が別の金属、例えば、別のアルカリ金属、銅、マグネシウムま
たは亜鉛と交換され得ることは、本発明の思想の範囲内である。完全な金属化を
確実にするために、例えば、1%〜25%のようにわずかに過剰モルの塩基を使
用するのは有用である。通常、約1モル当量で充分である。アルカリ金属アルキ
ルまたはアリールなどのこれらの塩基のあるものが、カルイミンにおけるハロゲ
ン置換基と適合しないこと、およびリチウムジイソプロピルアミドなどの他の塩
基がより好適であることは、当業者に明らかである。
式(III)で示される化合物の塩基との反応は、2つの反応物を混合すること
によって行われる。該反応は、塩基からオルトメチル基を脱プロトン化させるの
に充分な温度であるが、不利な副反応を生じるほどには高くない温度で行われる
べきである。かくして、最適温度は、使用した塩基およびイミン反応物に依存す
る。塩基がリチウムジアルキルアミドである場合、典型的には、反応は、約−2
0℃〜60℃で行われ:好適には、該反応は、約−10℃〜40℃で行われる。
約り5℃〜約35℃で、有機性リチウム塩基を使用して該反応を行うと、驚Xは
ど改良された収量が得られることが判明した。典型的には、強塩基を、カルイミ
ン機能などの核攻撃に敏感な部分を有する化合物と反応させる場合、該反応は、
約0℃以下の温度で行われる。これらの低い温度は、塩基自体または塩基の作用
によって生じるアニオンによる不安定なカルイミン機能性に対する核攻撃などの
望ましくない副反応を防止すると思われる。予想外に、所望により触媒量のジイ
ソプロピルアミンまたはジンロヘキシルアミンを有していてもよいn−ブチルリ
チウムのようなある種の塩基について、約り5℃〜約35℃でカルイミンに該塩
基を添加することによって、副反応は最小限度にされ、収量は増加する。
約り0℃〜約30℃で反応を行うのが特に好適である。55℃以上の温度は、一
般に、望ましくない副反応を増大させる。
求電子剤、X CHz (L+)−(CHz)−(Lz)、CHs−(T)、
Zは、典型的には、金属化反応の終了後に添加される請求電子剤は、純粋に添加
されるが、金属化中間体を形成するために使用したような溶媒中で添加するのが
好都合である。次いで、該反応を約15分〜約24時間撹拌する。
イミンを単離す石場合、該反応溶液を適当な溶媒で希釈し、水で洗浄し、油秋物
に真空濃縮する。精製した生成物が望ましい場合、蒸留によって、所望により結
晶化によって、該生成物を精製する。
式(II)で示される化合物のベンズアルデヒドへの転換は、C=N結合を加水
分本発明の範囲内で、鉱酸、有機酸などは、充分に強い酸であると思われる。例
えば、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、安息香酸、
酢酸、フッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸およびリン
酸は、全て好適である。鉱酸は、好ましい。塩酸は、特に好ましい。
好ましい方法では、生成物(II)を含有する反応混合物は、酸の該反応混合物
への添加によって直接加水分解される。一般に、該反応混合物は、酸の冷却溶液
に添加され、次いで、室温に加温される。該反応混合物は、例えば、分析クロマ
トグラフィーによって、所望のベンズアルデヒドの形成についてモニターされる
が、典型的には、該反応は、約1時間〜約24時間撹拌される。次いで、該生成
物は、抽出処理などような、慣用技術によって単離される。
式(II)で示される化合物の改良製造方法は、特に、アルキルリチウム試薬が
塩基として使用される場合、該塩基の添加前に、反応混合物に触媒量の有機アミ
ンを添加することからなる。アミンが存在しないか、または全モル当量のアミン
が使用される場合よりも、触媒量の有機アミンが使用される場合の方が高収率が
得られる。好適には、有機アミンは、第二アミンである。代表的なアミンは、ジ
エチルアミン、ジイソプロピルアミン、シンクロヘキシルアミン、ピペリジン、
2゜6−ノメチルピベリジンおよび2.2.6.6−チトラメチルピベリジンで
ある。
ジイソプロピルアミン、ノンクロヘキシルアミンおよび2.2,6.6−チトラ
メチルビベリジンは、特に好適である。触媒量は、カルイミンに対して有機アミ
ン約0.01〜約0.3モル当量である。約0.01〜約0.15モル当量が好
適である。使用したアミンに依存して、約0.01〜0.1モル当量が典型的で
ある。例えば、ジイソプロピルアミンおよび2.2.6.6−チトラメチルビペ
リジンについて、約0.01〜約領05当量が有用である。
本発明のさらなる態様は、式(III)で示されるカルイミンのナトリウムまた
はカリウム塩を製造し、次いで、該生成物を式(rV)で示される化合物と反応
させることを特徴とする、式(n)で示される化合物の改良製造方法である。例
えば、式(]II)で示される2−メチルーフェニルカルイミンは、n−ブチル
リチウムまたはさらに、ナトリウムまたはカリウム塩基または塩で処理して、金
属交換反応によって所望の塩を形成する。ナトリウムもしくはカリウムアルコキ
シド、またはトリフルオロ酢酸ナトリウムもしくはカリウムは、代表的な塩基/
塩である。カルビーミノ塩の7−フェニルヘプチルクロリドなどの式(rV)で
示される化合物との反応は、匹敵するカルイミンのリチウム塩を用いて得られる
よりも少ない副反応しか伴わずに、低温でアルキル化を生じる。カリウム塩の使
用は、特に好適である。
以下の実施例は、本発明を構成する化合物の製造および使用方法を説明する。
大應燃
実施例では、化学技術分野に共通の名称および略語を使用する。特記しない限り
、試薬は、商業的供給者から入手し、さらなる精製をせずに使用した。テトラヒ
ドロフランは、反応溶媒として使用する場合、所望により4人モレキュラーシー
ブ上で乾燥させた。他の全ての溶媒は、試薬用として商業的供給者から入手し、
さらなる精製をせずに使用した。全ての非水性反応は、乾燥窒素の雰囲気下で行
った。融点は、トーマスーフーバ−(Tho節as −Hoover)キャピラ
リー融点装置で測定し、未修正である。液体クロマトグラフィーは、Whatm
an PartisH” 50DS 3 RACI[で行った。ガスクロマトグ
ラフィー分析は、DB−130m X 0.53mmキャピラリーカラムで行っ
た。IRスペクトルは、)(−キン−エルマー・モデル(Perkin−Elm
er Model) 283赤外分光光度計で記録した。FT−IRスペクトル
は、ニコレット(Nicolet) 6000 FT赤外分光計で測定した。燃
焼分析は、パーキン−エル? −(Perkin−Elmer) 240 C元
素分析器で行った。特記しない限り、全ての’HNMR(プロトン磁気共鳴)ス
ペクトルは、シュウテロクロロホルム溶液中、ブルーカー・インストウルメンツ
(Bruker I n5truIlents) WM 400分光計を使用し
て、400MHzで測定した。”C−NMRスペクトルは、100MHzで測定
した。化学シフトは、テトラメチルシランからのpp■(δ)ダウンフィールド
で測定する。’HNMRに対する注釈は、以下のとおりである:S シングレッ
ト;dダブレット;tトリブレット:brブロード;mマルチプレット;Jヘル
ツでの結合定数。
−3=0℃の、領IM Li5CuCj41500ml (0,15g+ol)
および1,6−ジブロモヘキサン(456,89,1,87mo111.25当
量)のテトラヒドロフラン中撹拌溶液に、塩化マグネシウムベンジルの溶液(7
50■11テトラヒドロフラン中2M、1.5■ol)を90分間かけて添加し
た。該反応混合物を0℃で90分間撹拌し、次いで、塩化アンモニウム飽和水溶
液2.0!で注意して急冷した。急冷の間、内部反応温度を20℃以下に維持し
た。該混合物を室温で1時間撹拌し、層を分離した。有機層を20%塩化ナトリ
ウム水溶液(4X500m/)で洗浄した。有機層を乾燥しく硫酸マグネシウム
)、濾過し、次いで、45〜50℃で、琥珀色の油状物に真空濃縮した。12イ
ンチの真空ジャケット付きビグロイックス力ラム(vacuum−jacket
ed Vigreux column)を通して分別真空蒸留によって精製して
、所望の生成物を無色の油状物として得た(198.29.52%)。再蒸留に
よって分析試料を製造した。沸点123〜124℃(1,5gmHg):FT−
IRにニートフィルム)3100−3000.3000−2800.2000−
1700.1604.1496.748.699.644cm−’ ; I)l
NMR(CDC4,400MHz)67.29−7.16(m、5H)、3.
40(t、 2H)、2.60(t、2H)、1.88−1.81(m、2H)
、1.63−1.60(m、2H)、1.43 1.32(m、6H);”CN
MRCCDCl5.100MHz)δ142゜7.128.4.128.2.1
25.6.35.9.34,0.32.8.31,4.291.28.6.28
.1.元素分析(C+sH+*Br):理論値:C,51,19;H,7,50
;Br、31.31、測定値:C,61,25;H,7,59;Br、31゜4
7゜
7−クロロ−1−フェニルへブタンの製造1.6−ヘキサンジオール(30b、
254 mol)、48%臭化水素酸(51,04g、302+ol)およびト
ルエンの混合物を加熱還流した。共沸条件下、水(34,57+g)を除去した
。蒸留が終わった後、混合物を20℃に冷却し、濃塩酸(69,9&9)および
水(607)の溶液で抽出した。相を分離し、有機相を、再加熱し、次いで、共
沸蒸留により水を除去することによって乾燥させた。混合物を65℃に冷却し、
ジメチルホルムアミド(1,11bg)を添加した。温度を65〜68℃に維持
しつつ、塩化チオニル(31,41&j、264 mol)を45分間かけて添
加した。該混合物を1.25時間かけて109℃に加熱し、次いで、20℃に冷
却した。次いで、20%水酸化ナトリウム溶液(1001)および水(2X15
01、lX1001)で連続して洗浄した。真空下、トルエン(4001)を除
去して、ブロモクロロヘキサンをトルエン溶液として得た(85.5Ae、アッ
セイによって55%W/W、収率93%)。
b)7−クロロ−1−フェニルへブタン15℃で、塩化マグネシウムベンジルの
テトラヒドロフラン中溶液(1,86Mの1601.298纏01)に、テトラ
クロロ銅(II)酸リチウムの溶液[THF331、塩化リチウム(0,87&
9.19.3■ol)、塩化銅(If) (1,4119,10゜4Ae1)]
を添加し、混合物を30分間撹拌した。15〜20℃に温度を維持しつつ、トル
エン中のブロモクロロヘキサン(溶液を85.5に9、アッセイによる55%w
/w、47.IJ19.236■ol)を3時間かけて添加した。さらに1.2
5時間、撹拌し続けた。30℃以下に温度を維持しつつ、10%塩化アンモニウ
ム溶液(263/)を1時間かけて添加した。相を分離し、有機相を、さらに、
塩化アンモニウム溶液(17(lj’)および20%塩化ナトリウム溶液(3X
1971)て洗浄した。有機溶液を真空濃縮して、油状物を得(56,8kq、
HPLCアッセイによる純度77%、修正収率88%)、これを蒸留して(沸点
129〜132℃、2ミリバール)、標記化合物を得た(70%、GCアッセイ
による純度99%)。
実施例3
N−[(2−メチルフェニル)メチレン]−1,1−ジメチル−エタンアミンの
製墳
標準的なディーンー7.ターク(Dean −5tark)条件下で20分間、
0−トルアルデヒド(25g、0.21■ol)およびt−ブチルアミン(27
,75g、0.38■ol)のトルエン(250,t’)中撹拌溶液を還流した
。該溶液を油状物に蒸発して、これを真空蒸留して(沸点70〜73℃、Q、
5wmHg)、生成物33.9g(93%)を得た・IRにニート)2980.
1645.1605.1460.1375、1210、960、94 0cm−
’ ; ’HNMR(400MHz、CDC4)δ8.56(s、IH)、7.
86−7.83(m、LH)、7.25−7.11(m、3H)、2.46(s
、3H)、1.30(s、9H);”CNMR(CDC4,100MHz)δ1
53.7.137.1.135.1.130.5.129.6.127.1.1
26゜4.57.5.29.8.19.2 ;GCRT 7.6分(DB−1,
30m X 0゜53mm、プログラム:100℃で5分間、15℃/分で10
0〜260℃、260℃で12分間維持)。
実施例4
2−メチルベンズアルデヒドジメチルヒドラゾンの製造トルエン(200@l)
中、0−トルアルデヒド(25,0g、0.21 mol)および1.1−ジメ
チルヒドラジン(25,29,0,42■ol)の撹拌溶液を24時間還流した
。真空中、溶液を濃縮し、残留油状物を真空蒸留して(51〜60℃、Q2++
++Hg)、標記生成物を得た(31.989.94%)・IR(ニート)29
5MR(CDC1,,400MHz)δ7.8−7.6(m、 IH)、7.4
−7.3(m、IH)、7.1−6.9(m、3H)、2.9(s、6H)、2
.4(s、3H)。
実施例5
N−[(2−(8−フェニルオクチル)フェニル)メチレン]−1,1−ジメチ
ルエタンアミンの製造
ジイソプロピルアミン(29,149,0,28911ol)の−5℃に冷却し
たテトラヒドロフラン(450厘り中撹拌溶液に、n−ブチルリチウム(2,5
M、114.3++Zq O,286■ol)を、溶液温度を10℃以下に維持
する速度で添加した。添加終了後、該溶液を冷却しつつ15分間撹拌した。この
溶液に、テトラヒドロフラン(65,O,t’)中のN−[(2−メチルフェニ
ル)−メチレン]−1,1−ジメチルエタンアミン(50,0g、0.286鳳
o1)を、反応温度を5℃以下に維持するような速度で添加した。該反応を冷却
しつつ15分間撹拌し、次いで、テトラヒドロフラン(75mA)中の1−ブロ
モ−7−フェニルへブタン(72,99,0、286■ol)を素早く添加した
。反応混合物を冷却しつつ1時間撹拌し、次いで、室温まで加温し、次いで、さ
らに14時間撹拌した。該反応混合物を、イミン生成物についてガスクロマトグ
ラフィーによってアッセイした(RT19.8分、DB−1,30m X 0.
53mm、プログラム、100℃で5分間、15℃/分で100〜260℃、2
60℃で12分間維持)。該生成物を、反応混合物の水および塩化メチレンによ
る希釈によって単離し、有機混合物を水で素早く洗浄し、該溶液を油状物に濃縮
した。該油状物を蒸留によって精製した。
標準的なディーンースターク条件下で16時間、2−(8−フェニルオクチル)
ベンズアルデヒド(10g、0゜034oo1)およびt−ブチルアミン(4,
96g、0、068■ol)のトルエン(1001/)中撹拌溶液を還流した。
該溶液を油状物に蒸発し、これを真空蒸留して(沸点260℃、0.15!mH
g)、標記生成物を得た(11.1g、94%):GCRT 19.8分(DB
−1,30mX0.53mm、プログラム、100℃で5分間、15℃/分で1
00〜260℃、260℃″c12分間維持);’HNMR(CDCj!3,4
00MHz)δ8.58(s、IH)、7.86(d、J=7.5Hz、IH)
、7.29−7.13(m、8H)、2.79(t、J−7,5Hz、2H)、
2.58(t、J=7.5Hz、2H)、1.59−1.51(m、12H)、
1.30(s、9H)。
2−(8−フェニルオクチル)ベンズアルデヒドの製造N−[(2−(8−フェ
ニルオクチル)フェニル)メチレン]−1,1−ジメチルエタンアミンの加水分
解による
N−[(2−(8−フェニルオクチル)フェニル)メチレン]−1,1−ジメチ
ルエタンアミン(0,519,0,0146mol)のテトラヒドロフラン(5
ml)中温液に10%塩酸水溶液(5Ml)を添加し、該混合物を室温で15時
間撹拌した。塩化メチレン(IOIA’)および水(1,(bj)を添加し、層
を分離した。水性層を塩化メチレン(IX15菖A’)で抽出し、合わせた有機
物質を乾燥しく硫酸マグネシウム)、濾過し、真空下で油状物に濃縮した(0.
405g、)(PLCアッセイによる純度974%、修正収率92%)+IRに
ニート)2920.2880.1695.1600.1455Cs” ;’HN
MR(CDC1s、400MHz)610゜25(s、1.8)、7.80(d
d、LH,J=1.2および7.7Hz)、7.45(m、 IH)、7.33
−7.13(m、7H)、2.98(t、2H,J=7.7Hz)、2.58(
t、 2H,J =7.7Hz)、1.58(m、4H)、1.30(m、8H
)。
実施例8
2−(8−フェニルオクチル)ベンズアルデヒドの製造1モル等量の窒素含有塩
基および1−ブロモ−7−フェニルへブタンを使用する
ノイソソプロビルアミン(29,149,0,289io1)の−5℃に冷却し
たテ]・ラヒドロフラノ(45(bl)中撹拌溶液にn−ブチルリチウム(2,
5M、 114、、M、0.286■ol)を、溶液温度を10℃以下に維持す
る速度で添加した。添加終了後、該溶液を冷却しつつ15分間撹拌した。この溶
液に、テトラヒドロフラン(65,0,7)中のN−[(2−メチルフェニル)
−メチレン]−1,1−ジメチルエタンアミン(50,09,0,286mol
)を、反応温度を5℃以下に維持するような速度で添加した。該反応を冷却しつ
つ15分間撹拌し、次いで、テトラヒドロフラン(75mm)中の1−ブロモ−
7−フェニルへブタン(72,99,0、28611Iol)を素早く添加した
。該反応混合物を冷却しつつ1時間撹拌し、次いで、室温に加温し、さらに14
時間撹拌した。該反応混合物を10%塩酸水溶液で急冷し、0℃で1時間撹拌し
、次いで、室温で14時間撹拌した。該反応混合物を塩化メチレン(700s/
)中に注ぎ、5分間撹拌した。有機層を除去し、水性層を塩化メチレン(2X7
0(bj)で抽出した。合わせた有機層を10%塩酸(2X500*/)および
飽和食塩水(IX350.l)で洗浄し、次いで、真空中で金色油状物に濃縮し
た。該粗製生成物を、Pope 5tillを通過させ(100℃、Q、2gm
Hg)、残留物を、5分間撹拌しつつ、ヘキサン(4001/)で処理した。該
溶液を沈降させ、次いで、デカントした。該ヘキサン処理をさらに2回繰り返し
、次いで、合わせたヘキサン洗浄液をCe1ite’プラグを通して濾過し、淡
黄色油状物に濃縮した(72.59、HPLCアッセイによる純度92,4%、
修正収率82%)。分析のために、少量の試料をクーゲルロール(Kugelr
ohr)蒸留(250℃、0.1mmHg)によってさらに精製した:IRにニ
ート)2910.1695.1600.1450.1210.1190c1’
;’HNMR(CDCl2.400MH2)610.25(s、IH)、7.8
0(dd、IH,J=1.2および7.7Hz)、7.45(m、 I H)、
7.33−7.13(m、7H)、2.98(t。
2H,J=7.7Hz)、2.58(t、2H,J’=7.7Hz)、1.58
(m、4H)、1゜30(m、8H): 13CNMR(CDCIs、100M
Hz)δ192.2.145.7.1428.1337.1.33.6.131
3.130.9.128.3.128゜2.1263.1255.359.32
4.32.4.31.4.29.5.294.29.3.29.2;HPLCR
T 5.8分(Whatsan Partisil” 50DS 3 RACn
、4.6mm l、D、X10cm、2ml/分、7 : 3 CH,CN:H
,01211止でUV検出)。
2モル当量のイミンおよび窒素含有塩基および1モル当量の1−クロロ−7−フ
ェニルへブタンを使用する
THF(30翼l)に、リチウムノイソブロピルアミドのTHF中溶液(15゜
4g、0.024mol)を添加し、窒素雰囲気下、−10℃に冷却した。N−
[(2−メチルフェニル)−メチレン]−1,1−ジメチルエタンアミン(4,
239,0゜024■ol)のTHF (5mm)中温液を添加し、混合物を一
10℃で20分間撹拌した。THF (5++l)中の塩化フェニルへブチル(
2,779,0,012■01)を添加し、混合物を58℃に加熱した。3時間
後、GC分析は、塩化フェニルヘプチルが全く残存しないことを示した。該混合
物を0℃に冷却し、希HCj!(5Qyl)を、温度を25℃以下に維持するよ
うに添加した。該溶液を58℃に再加熱し、これを16時間維持した。20℃に
冷却した後、塩化メチレン(100mj’)を添加し、相を分離した。水性相を
さらに塩化メチレン(50,1)で抽出し、合わせた有機相を水(100mf)
で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、溶媒を蒸発させた後、生成物
を油状物として得た(6.9 (3e、HPLCアッセイによる純度286%、
修正収率57%)。
反応混合物を3時間還流する代わりに室温で20時間撹拌する以外は、前記条件
を使用して、修正収率59%を得た。
塩化フェニルへブチルに対して1モル等量のカルイミンおよびアミン塩基を使用
した以外は、前記条件を使用して、修正収率42%を得た。
実施例10
2−く8−フェニルオクチル)ベンズアルデヒドの製造塩基性対イオンとしてリ
チウムをカリウムと交換し/種々のイミノを使用するa)−10℃で、リチウム
ンイソプロピルアミド[28,5111301ニジイソプロピルアミン’(4,
0mm、2.899.29+mol)およびn−ブチルリチウム(2,5N1.
11.43m1.28.5闘01)から製造した]のTHF (50mm)中温
液に、N−[(2−メチルフェニル)メチレン]−1,,1−ジメチルエタンア
ミン(5009,29mmol)を添加した。この温度で75分間撹拌した後、
カリウムt−ブトキッド(1,,49M、19.2ml!、23.5wol)の
THF中溶液を添加した。さらに15分後、1−クロロ−7−フェニルへブタン
(3,779,1,7、9INIaol)を添加した。反応を室温に加温し、1
6時間撹拌した。塩酸(6M、5 m7りを添加し、混合物を90分間還流した
。水性層を分離し、ヘキサン(2X200.l)で抽出した。合わせた有機フラ
クションを硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、減圧下、蒸発によって溶媒を除去
して、油状物を得た(7.44g)。この物質のアッセイは、65%W/Wフェ
ニルオクチルベンズアルデヒドを含有することを示しtこ(4,84q、16.
511■ol、92%)。
b)N−[(2−メチルフェニル)メチレンツーイソプロピルアミンおよびN−
[(2−メチルフェニル)メチレン]−n−ブチルアミンを代えた以外は、(a
)の方法を使用して、以下の結果を得た・
イミン置換基R3イミン: PHC比 収率(%)+) t −Bu 1.6+
1 92
i) i −Pr 2.0:1 31
m n−Bu 2.0 : 1 〜10触媒量の窒素塩基の使用7種々の電子剤
の比較a)臭化フェニルへブチル/ヨウ化フェニルヘブチルエ)N−[(2−メ
チルフェニル)メチレン]−1,1−ジメチルエタンアミン(5,Oq、0.0
3mol)およびN、N、N”、N’−テトラメチルエチレンジアミン(3,3
19,0,03mol)のテトラヒドロフラン(4(1+1)中温液に、0℃の
n−ブチルリチウム(2,5M、 1.1. lhL 0.03IIol)をゆ
っくり添加した。該溶液をさらに30分間撹拌し、次いで、テトラヒドロフラン
(10mm)中の1−ブロモ−7−フェニルへブタン(7,28g、003a1
01)を素早く添加した。反応混合物を室温に加温し、15時間撹拌し続けた。
反応混合物を10%塩酸水溶液(50+l)で急冷し、30分間撹拌した。層を
分離し、有機層に塩化メチレン(50mm)を添加し、有機物質を飽和食塩水(
5011)で洗浄した。次いで、有機物質を乾燥しく硫酸マグネシウム)、油状
物に濃縮して、2−(8−フェニルオクチル)ベンズアルデヒドを得た(3.8
9.45%)・IR(ニートフィルム)2920.288G、1695.160
0.1455cm−’:’HNMR(CDCi!、。
400MHz)δ10.25(s、 I H)、7.80(dd、IHj=1.
2および77Hz)、7.45(m、III)、7.33−7.13(m、7H
)、2.98(t、2H,J−7、71(z)、2.58(t、2H,J=7.
7Hz)、]−,58(m、4H)、1.30(m。
8H)。
1)1−ブロモ−7−フェニルへブタンを1−ヨード−7−フェニルへブタンに
代えた以外は、(aXi)の方法を使用して、2−(8−フェニルオクチル)ベ
ンズアルデヒドを収率34%で製造した。
b)1−ブロモ−7−フェニルへブタン/1−クロロ−7−フェニルへブタンi
)N[(2−メチルフェニル)メチレン]−1,1−ジメチルエタンアミン(2
89,0,016園o1)および2.2.6.6−テトメチルビベリジン(領2
39.0.0016mol)のテトラドロフラン(10mA’)中溶液を一5℃
に冷却した。
これに、温度を一5℃に維持しツツ、n−BuLi (1,6M、 10m1,
0.016mol)を40分間かけて滴下した。−5℃で、1−ブロモ−7−フ
ェニルへブタン(3,49,0,01330o1)のテトラヒドロフラン(5d
)中溶液を素早く添加した。温度を素早く40℃に上昇させ、次いで、室温に冷
却した後、該混合物を1時間撹拌した。該混合物を、希塩酸の添加によって急冷
し、室温で16時間撹拌した。通常の方法で生成物を単離した(5.09、純度
75%、修正収率96%)。
11)1−ブロモ−7−フェニルへブタンを1−クロロ−7−フェニルへブタン
に代えた以外は、(b)(i)の方法を使用して、フェニルオクチルベンズアル
デヒドを修正収787%で製造した。
実施例12
2−(8−フェニルオクチル)ベンズアルデヒドの製造種々の窒素塩基に対する
アニオン形成温度変化の効果a)N−[(2−メチルフェニル)メチレン]−1
,1−ジメチルエタンアミン(11,29,0,064mol)および2.2.
6.6−チトラーメチルピペリジノ(0,99、O,OO64mol)のテトラ
ヒドロフラン(40,/)中撹拌溶液を一5℃に冷却した。これにn−BuLi
(1,6M、40m/、0.064mol)を、温度を0℃以下に維持するよ
うにノリンジポンプから60分間かけて添加しtこ。該混合物を30分間撹拌し
、テトラヒドロフラン(20璽l)中の1−クロロ−7−フェニルへブタン(1
1,239,0,053mol)を素早く添加した。反応混合物を50〜55℃
で2時間加熱した。反応混合物を40℃に冷却し、希塩酸(水300m1で希釈
した酸100■l)をゆっくり添加して急冷した。該混合物を50〜60℃で2
.5時間加熱することによって、加水分解を完了させた。該混合物を室温に冷却
し、有機相を分離した。水性相をヘキサン(100■l)で抽出し、合わせた有
機抽出物を水(Looml)で洗浄した。抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥させ
、次いで、濾過し、濾過ケーキをヘキサンで洗浄した後、有機溶液を真空濃縮し
て、2−(8−フェニルオクチル)ベンズアルデヒドを油状物として得た(14
゜5g、HPLCアッセイによる純度69.3%、修正収率87%)。
b)N−[(2−メチルフェニル)メチレン]−1,1−ジメチルエタンアミン
(21,09、領12mol)のテトラヒドロフラン(75m/)中撹拌溶液に
、n−BuLi (1,54M、78mA’、0.12mol)を、冷却しつつ
、温度を20〜30℃に維持するように1時間かけて添加した。該混合物を30
分間撹拌し、テトラヒドロフラン(40++1’)中の1−クロロ−7−フェニ
ルへブタン(21,05v、Q、1Illol)を素早く添加した。該混合物を
50℃で3時間加熱し、希塩酸をゆっくり添加して急冷した。該混合物を50〜
60℃で2.5時間加熱することによって加水分解を完了させた。該混合物を室
温に冷却し、有機相を分離した。水性相をヘキサンて抽出し、合わせた有機抽出
物を水で洗浄した。該抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで、+!!過し
、濾過ケーキを洗浄した後、有機溶液を真空4縮して、2−(8−フェニルオク
チル)ベンズアルデヒドを油状物として得た(34.569、HPLCアッセイ
による純度65.3%、修正収率77%)。
C)窒素塩基およびアニオン形成温度を変える以外は、(a)または(b)にお
けると同様の方法を使用して、以下の結果を得た。
i) (i −Pr)zNH−5557,217,3ii) (i Pr)2N
H25941,80ifi) DCAt −5488,614,9iv) DC
i 25 83 1.7 0.1v) TMPlt 5 87 0.6 0.4
si) TMPjl 25 89 0.7 0.7vi) −0j5 ND’
ND
vi) −−2577ND ND
DCAI−ジノクロヘキシルアミン。 PHE!=フェニルヘプテン。
TMpH=テトラメチルピペリジン。 P HCtx=塩化フェニルへブチル。
d)1−ブロモ−7−フェニルへブタンを代えた以外は、(a)または(b)の
方法を使用して、以下の結果を得た
アニオン 溶液 不純度 プロフィル
アミン 温度(’C) 収率(%)(%P I−I E”) (%P HB車)
+) (+ Pr)2NH089ND NDii) TMP 25 、96 N
D NDij) SS/1195/119
pHBm=臭化フェニルへブチル。
これらの実施例の多くの変形は、当業者には明らかであり、本発明は、これらの
実施例に限定されるものではなく、以下の請求の範囲によって包含されるすべて
の変形を含む。
フロントページの続き
(51) Int、 C1,’ 識別記号 庁内整理番号C07C471575
//C07B61100 300
(81)指定回 EP(AT、BE、CH,DE。
DK、ES、FR,GB、GR,IE、IT、LU、MC,NL、PT、SE)
、0A(BF、BJ、CF、CG、 CI、 CM、 GA、 GN、 ML、
MR,NE、 SN。
TD、TG)、AT、AU、BB、BG、BR,CA。
CH,CZ、DE、DK、ES、FI、GB、HU、JP、KP、KR,KZ、
LK、LU、MG、MN、MW、NL、No、NZ、PL、RO,RU、SD、
SE。
SK、UA、US、VN
(72)発明者 ゴムバッツ、ケリー・ジョセフアメリカ合衆国ペンシルベニア
州19382、ウェスト・チェスター、ウェストポーン・ロード606番
FI
(72)発明者 フォース、マイケル・アンソニーイギリス国ケント・テイーエ
ヌ11・9エイエヌ、タンブリッジ、ニア・リー、オールド・パウダー・ミルズ
(番地の表示なし)スミスクライン・ビーチャム・ファーマシューティカルズ
(72)発明者 ヘイズ、ジェローム・フランシスイギリス国ケント・ティーエ
ヌ11・9エイエヌ、タンブリッジ、ニア・リー、オールド・パウダー・ミルズ
(番地の表示なし)スミスクライン・ビーチャム・ファーマシューティカルズ
(72)発明者 ミッチェル、マイケル・バリーイギリス国ケント・ティーエヌ
11・9エイエヌ、タンブリッジ、ニア・リー、オールド・パウダー・ミルズ(
番地の表示なし)スミスクライン・ビーチャム・ファーマシューティカルズ
(72)発明者 スミス、ステイーブン・アレクサンダーイギリス国ケント・テ
イーエヌ11・9エイエヌ、タンブリッジ、ニア・リー、オールド・パウダー・
ミルズ(番地の表示なし)スミスクライン・ビーチャム・ファーマシューテイカ
ルズ
Claims (22)
- 1.式: ▲数式、化学式、表等があります▼(III)[式中、 R2およびAは、後記定義と同じであり;R3は、C1−6アルキル、C3−6 シクロアルキル、(CH2)1フェニルまたはN(R′)2であり; R′は、C1−6アルキル、C3−6シクロアルキルまたは(CH2)1フェニ ルであり;tは、0または1である〕 で示される化合物を、塩基および式: X−CH2−(L1)■−(CH2)■−(L2)■−CH2−(T)■−Z( IV)[式中、 L1、L2、p、q、r、s、TおよびZは、後記定義と同じであり;Xは、離 脱基である] で示される化合物と反応させ、次いで、その生成物を酸で処理することを特徴と する、式: ▲数式、化学式、表等があります▼(Ib)[式中、 R1は、CH2CH2−(L1)■−(CH2)■−(L2)■−CH2−(T )■−Zであり;L1およびL2は、独立して、CH2CH2、CH=CHまた はC≡Cであり;qは、0〜8であり; p、rおよびsは、独立して、0または1であり;Tは、O、S、CH2、CH =CH、C≡Cであり;Zは、C1−4アルキル、エチニル、トリフルオロメチ ル、イソプロペニル、フラニル、チエニル、シクロヘキシル、または所望により 、CF3、C1−4アルキル、C1−4アルコキシ、メチルチオもしくはトリフ ルオロメチルチオで一置換されていてもよいフェニルであり; R2およびAは、独立して、H、CF3、C1−4アルキル、F、Cl、Brま たはIである] で示される化合物の製造方法。
- 2.塩基が約15℃〜約35℃で式(III)で示される化合物に添加され、該 塩基がリチウムアルキルまたはリチウムジイソプロピルアミドである請求項1記 載の製造方法。
- 3.R2およびAがHであり、R3がt−ブチルであり、Xがブロモまたはクロ ロである請求項1記載の製造方法。
- 4.酸が鉱酸である請求項1記載の製造方法。
- 5.酸が塩酸である請求項4記載の製造方法。
- 6.N−[(2−メチルフェニル)メチレン]−1,1−ジメチルエタンアミン をn−ブチルリチウムおよび触媒量の有機アミンならびに1−クロロ−7−フェ ニルヘプタンと反応させ、次いで、塩酸で処理することを特徴とする製造方法。
- 7.N−[(2−メチルフェニル)メチレン]−1,1−ジメチルエタンアミン をリチウムジイソプロピルアミド、カリウムブトキシド、および1−クロロ−7 −フェニルヘプタンと反応させ、次いで、塩酸で処理することを特徴とする製造 方法。
- 8.式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III)[式中、A、R2およびR3は、 後記定義と同じである]で示される化合物を、塩基および式(IV):X−CH 2−(L1)■−(CH2)■−(L2)−CH2−(T)■−Z(IV)〔式 中、 L1、L2、T、Z、p、q、rおよびsは、後記定義と同じであり;Xは、離 脱基である] で示される化合物と反応させることを特徴とする、式:▲数式、化学式、表等が あります▼(II)[式中、 R1は、CH2CH2−(L1)■−(CH2)■−(L2)■−CH2−(T )■−Zであり;L1およびL2は、独立して、CH2CH2、CH=CHまた はC≡Cであり;qは、0〜8であり; p、rおよびsは、独立して、0または1であり;Tは、O、S、CH2、CH =CH、C≡Cであり;Zは、C1−4アルキル、エチニル、トリフルオロメチ ル、イソプロペニル、フラニル、チエニル、シクロヘキシル、または所望により 、CF3、C1−4アルキル、C1−4アルコキシ、メチルチオもしくはトリフ ルオロメチルチオで一置換されていてもよいフェニルであり; R2およびAは、独立して、H、CF3、C1−4アルキル、F、Cl、Brま たはIであり: R3は、C1−6アルキル、C3−6シクロアルキル、(CH2)tフェニルま たはN(R′)2であり; R′は、C1−6アルキル、C3−6シクアルキルまたは(CH2)tフェニル であり;tは、0または1である] で示される化合物の製造方法。
- 9.塩基がアルカリ金属アルキル、アルカリ金属アリールまたはアルカリ金属ア ミンである請求項8記載の製造方法。
- 10.塩基がリチウムアルキルである請求項9記載の製造方法。
- 11.塩基がリチウムジイソプロピルアミドまたはブチルリチウムである請求項 9記載の製造方法。
- 12.触媒量の有機アミンが存在する請求項10記載の製造方法。
- 13.有機アミンがジイソプロピルアミン、2,2,6,6−テトラメチルピペ リジン、またはジシクロヘキシルアミンであり、有機アミンが式(III)で示 される化合物の約0.01〜0.15モル等量の量で存在する請求項12記載の 製造方法。
- 14.塩基および式(III)で示される化合物を約15℃〜約35℃の温度で 反応させる請求項10記載の製造方法。
- 15.ナトリウムまたはカリウムアルコキシドが、式(IV)で示される化合物 の添加前に反応混合物に添加される請求項11記載の製造方法。
- 16.R3がt−ブチルである請求項8記載の製造方法。
- 17.Xがブロモまたはクロロである請求項16記載の製造方法。
- 18.Zがフェニルであり、L1およびL2が独立してCH2CH2である請求 項17記載の製造方法。
- 19.式: ▲数式、化学式、表等があります▼(II)[式中、 R1は、CH2CH2−(L1)■−(CH2)■−(L2)■−CH2−(T )■−Zであり;L1およびL2は、独立して、CH2CH2、CH=CHまた はC≡Cであり;qは、0〜8であり; p、rおよびsは、独立して、0または1であり;Tは、O、S、CH2、CH =CH、C≡Cであり;Zは、C1−4アルキル、エチニル、トリフルオロメチ ル、イソプロペニル、フラニル、チエニル、シクロヘキシル、または所望により 、CF3、C1−4アルキル、C1−4アルコキシ、メチルチオもしくはトリフ ルオロメチルチオで一置換されていてもよいフェニルであり; R2およびAは、独立して、H、CF3、C1−4アルキル、F、Cl、Brま たはIであり; R3は、C1−■アルキル、C3−6シクロアルキル、(CH2)tフェニルま たはN(R′)2であり; R′は、C1−■アルキル、C3−6シクロアルキルまたは(CH2)tフェニ ルであり;tは、0または1である] で示される化合物。
- 20.R3がt−ブチルである請求項19記載の化合物。
- 21.L1およびL2がCH2CH2であり、Zがフェニルである請求項19記 載の化合物。
- 22.N−[(2−(8−フェニルオクチル)フェニル)メチレン]−1,1− ジメチルエタンアミンである請求項21記載の化合物。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US85838492A | 1992-03-25 | 1992-03-25 | |
US858,384 | 1992-03-25 | ||
PCT/US1993/002803 WO1993019033A1 (en) | 1992-03-25 | 1993-03-25 | Processes and intermediates for the preparation of 2-substituted benzaldehydes |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07507060A true JPH07507060A (ja) | 1995-08-03 |
Family
ID=25328179
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5516838A Pending JPH07507060A (ja) | 1992-03-25 | 1993-03-25 | 2−置換ベンズアルデヒドの製造方法および該製造用中間体 |
Country Status (16)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0643682A4 (ja) |
JP (1) | JPH07507060A (ja) |
KR (1) | KR950701310A (ja) |
CN (1) | CN1078229A (ja) |
AU (1) | AU3967993A (ja) |
CA (1) | CA2132639A1 (ja) |
FI (1) | FI944413L (ja) |
HU (1) | HUT70046A (ja) |
IL (1) | IL105128A0 (ja) |
MA (1) | MA22843A1 (ja) |
MX (1) | MX9301626A (ja) |
NO (1) | NO943548L (ja) |
SI (1) | SI9300146A (ja) |
TW (1) | TW267157B (ja) |
WO (1) | WO1993019033A1 (ja) |
ZA (1) | ZA932049B (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWM317981U (en) | 2007-02-16 | 2007-09-01 | Int Bicycle Products Corp | Handlebar of transportation vehicle |
CN108689861B (zh) * | 2018-05-28 | 2021-02-26 | 吉林大学 | 一种n-乙基-3-苯基丙胺的制备方法 |
CN113620761B (zh) * | 2021-08-26 | 2022-06-17 | 西北工业大学 | 苯硅烷还原芳基仲酰胺或芳基仲酰胺衍生物合成芳基醛类化合物的制备方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3637851A (en) * | 1967-10-18 | 1972-01-25 | Tenneco Chem | N - cycloalkyl-chlorobenzylidenimines and herbicidal compositions containing same |
US3466164A (en) * | 1968-03-29 | 1969-09-09 | Tenneco Chem | Process for the control of plant growth with n-(substituted benzylidene) alkyl amines |
US3910944A (en) * | 1974-11-20 | 1975-10-07 | Upjohn Co | Spiro(cyclopropane-1,4{40 -(4H)-s-triazolo-(4,3-a)(1,4)benzodiazepines) |
US4198349A (en) * | 1977-10-06 | 1980-04-15 | William H. Rorer, Inc. | Benzylideneaniline derivatives |
US4231962A (en) * | 1978-06-08 | 1980-11-04 | Ciba-Geigy Corporation | 3-Phenoxybenzylideneamines and 3-benzylbenzylideneamines |
US4874792A (en) * | 1985-04-19 | 1989-10-17 | Smithkline Beckman Corporation | Thiophenyl Alkanoic acids useful as leukotriene antagonists |
DE3535451A1 (de) * | 1985-10-04 | 1987-04-09 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von n-alkyl-substituierten hydroxylammoniumchloriden und neue n-alkyl-substituierte hydroxylammoniumchloride |
-
1993
- 1993-03-22 IL IL105128D patent/IL105128A0/xx unknown
- 1993-03-23 MA MA23138A patent/MA22843A1/fr unknown
- 1993-03-23 ZA ZA932049A patent/ZA932049B/xx unknown
- 1993-03-23 MX MX9301626A patent/MX9301626A/es unknown
- 1993-03-25 AU AU39679/93A patent/AU3967993A/en not_active Abandoned
- 1993-03-25 WO PCT/US1993/002803 patent/WO1993019033A1/en not_active Application Discontinuation
- 1993-03-25 HU HU9402743A patent/HUT70046A/hu unknown
- 1993-03-25 JP JP5516838A patent/JPH07507060A/ja active Pending
- 1993-03-25 EP EP93909170A patent/EP0643682A4/en not_active Withdrawn
- 1993-03-25 SI SI9300146A patent/SI9300146A/sl unknown
- 1993-03-25 CN CN93102980A patent/CN1078229A/zh active Pending
- 1993-03-25 CA CA002132639A patent/CA2132639A1/en not_active Abandoned
- 1993-06-15 TW TW082104786A patent/TW267157B/zh active
-
1994
- 1994-09-23 NO NO943548A patent/NO943548L/no unknown
- 1994-09-23 FI FI944413A patent/FI944413L/fi not_active Application Discontinuation
- 1994-09-26 KR KR1019940703384A patent/KR950701310A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
HU9402743D0 (en) | 1994-12-28 |
MA22843A1 (fr) | 1993-10-01 |
MX9301626A (es) | 1994-07-29 |
SI9300146A (sl) | 1993-12-31 |
CN1078229A (zh) | 1993-11-10 |
IL105128A0 (en) | 1994-01-25 |
KR950701310A (ko) | 1995-03-23 |
TW267157B (ja) | 1996-01-01 |
WO1993019033A1 (en) | 1993-09-30 |
CA2132639A1 (en) | 1993-09-30 |
NO943548D0 (no) | 1994-09-23 |
ZA932049B (en) | 1994-09-21 |
EP0643682A1 (en) | 1995-03-22 |
FI944413L (fi) | 1994-11-23 |
AU3967993A (en) | 1993-10-21 |
HUT70046A (en) | 1995-09-28 |
EP0643682A4 (en) | 1995-06-07 |
FI944413A0 (fi) | 1994-09-23 |
NO943548L (no) | 1994-11-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW201139400A (en) | Process for the synthesis of ketobenzofuran derivatives | |
JPS63313753A (ja) | プロペニルアミン類、その製造法、これを含む薬剤組成物および医薬としてのその用途 | |
JPH0262854A (ja) | 置換フェノキシアセトアルデヒドオキシム類の製造方法 | |
CN108367999A (zh) | 二甲苯衍生物的生产 | |
CN109970755B (zh) | 取代的水杨醛衍生物的合成 | |
JPH07507060A (ja) | 2−置換ベンズアルデヒドの製造方法および該製造用中間体 | |
CN103664585B (zh) | 一种三氟甲基羰基化合物的制备方法 | |
JP7234145B2 (ja) | トリメチルベンゼン誘導体の製造 | |
Marquet et al. | Convenient synthesis of mono-and di-β-hydroxy-β-bis (trifluoromethyl)-(di) imines from β-hydroxy-β-bis (trifluoromethyl)-ketones and (di) amines | |
US5659084A (en) | Processes and intermediates for the preparation of 2-substituted benzaldehydes | |
Mumtaz et al. | Synthesis of chiral menthoxymethyl ether of phenol and substituted phenol and their use in directed ortho metalation | |
CA1213900A (en) | Intermediates for the preparation of 4-phenyl-1,3- benzodiazepins and methods for preparing the intermediates | |
CN115028597B (zh) | 一种tempo连续脱氢环化制备苯并恶唑类衍生物的方法和应用 | |
KR101554539B1 (ko) | 금속이 배제된 호기성 산화 아민화 반응을 이용한 아마이드 화합물의 제조방법 | |
JP4759722B2 (ja) | 置換基を有する芳香族カルボン酸エステルの製造方法 | |
JPH0399084A (ja) | マロンアミド誘導体金属錯体及び芳香族化合物用分離剤 | |
CN117304069A (zh) | 一种2,2-二取代-4-苯基丁腈衍生物的制备方法 | |
FR3137092A1 (fr) | Nouveaux composés à base de fer, leurs procédés de préparation et leur utilisation comme catalyseurs | |
Beam et al. | The preparation of 4, 5-dihydro-3-aryl-naphth-[1, 2-c]-isoxazoles from dilithiated 1-tetralone oxime and aromatic esters | |
Chen et al. | Spirocyclopropanes and Substituted Furans by Controlling Reactivity of 1, 3‐Enynoates: γ‐and δ‐Addition of Phosphines to Conjugate Acceptors | |
JP4243683B2 (ja) | 1−テトラロン類の製造方法 | |
CN117624121A (zh) | 一种二苯并噻吩的合成方法 | |
JP2023509584A (ja) | ベンゼン誘導体の製造 | |
CN101863805B (zh) | (s)-n-(2(3-(三氟甲基)苯基)甲基)-叔丁基-2-亚磺酰胺及其合成方法 | |
JPS59517B2 (ja) | N− ( 1− アダマンチルメチル ) −n’− シンナミルピペラジンノセイゾウホウ |