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JPH07336049A - Manufacture of multilayer printed circuit board - Google Patents

Manufacture of multilayer printed circuit board

Info

Publication number
JPH07336049A
JPH07336049A JP12622894A JP12622894A JPH07336049A JP H07336049 A JPH07336049 A JP H07336049A JP 12622894 A JP12622894 A JP 12622894A JP 12622894 A JP12622894 A JP 12622894A JP H07336049 A JPH07336049 A JP H07336049A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper foil
hole
roll
rewinding
winding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP12622894A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akishi Nakaso
昭士 中祖
Koichi Tsuyama
宏一 津山
Kazuhisa Otsuka
和久 大塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP12622894A priority Critical patent/JPH07336049A/en
Publication of JPH07336049A publication Critical patent/JPH07336049A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

PURPOSE:To easily manufacture a thin multilayer printed circuit board with a non-penetrated hole by conducting series of steps of punching a viahole while repeating winding and rewinding of a rolled copper foil, and laminating the foil. CONSTITUTION:A method for manufacturing a multilayer printed circuit board comprises the steps of providing an insulating adhesive layer 2 on a copper foil 1 while rewinding the rolled copper foil 1, then punching a through hole 3 to become a viahole while rewinding the wound roll, thereafter laminating the foil 4 while rewinding the wound roll, winding it on the roll while curing the layer 2, forming the hole 3 to a non-penetrated hole, then forming an etching resist 5 for forming a wiring pattern on the surface of the foil 4 in which the hole 3 of the board is not opened, removing the foil, thereafter superposing it via insulating adhesive 6 between the inner layer board formed with the wiring and other board 7, pressuring it, heating it, integrating the layer, and then printing conductive paste 8 to conduct a connecting hole between the layers.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、多層プリント配線板の
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】プリント配線板は電子機器の発達に伴
い、その性能にも高度なものが要求されるようになって
きている。例えば、配線密度については、電子部品に配
線板の表面でのみ接続を行ういわゆる表面実装部品が開
発され、その電子部品の接続端子の間隔が小さいものに
なると0.15mm以下となるものも使用され始めてお
り、この密度に合わせて回路導体を形成することが求め
られている。
2. Description of the Related Art With the development of electronic equipment, printed wiring boards are required to have high performance. For example, regarding the wiring density, so-called surface mount components have been developed that connect electronic components only on the surface of the wiring board, and if the spacing between the connection terminals of the electronic components is small, those with 0.15 mm or less are also used. It has begun, and it is required to form a circuit conductor according to this density.

【0003】このようなプリント配線板の製造法として
は、銅箔を絶縁基材に張り合わせた銅張り積層板を出発
材料とし、その銅箔の回路導体とならない箇所をエッチ
ング除去して回路を形成するサブトラクティブ法、絶縁
基材の表面に必要な回路形状に無電解めっきを行って回
路形成するアディティブ法、スルーホール内壁等の回路
導体の一部を無電解めっきを行って回路形成する部分ア
ディティブ法等が一般的に知られている。
As a method of manufacturing such a printed wiring board, a copper-clad laminate obtained by laminating a copper foil on an insulating substrate is used as a starting material, and a portion of the copper foil which does not serve as a circuit conductor is removed by etching to form a circuit. Subtractive method, additive method of electroless plating to form the circuit on the surface of the insulating substrate to form a circuit, partial additive to electrolessly plate a part of the circuit conductor such as the inner wall of the through hole The law etc. are generally known.

【0004】中でも、サブトラクティブ法は古くから行
われており、配線密度の向上には、通常、銅張り積層板
の銅箔の厚さを薄くすることが行われている。この理由
は、銅箔の表面に必要とする回路形状にエッチングレジ
ストを形成し、エッチング溶液でエッチングレジストか
ら露出した不要な銅箔の除去を行う時に、必要な回路部
分の側面から銅が腐食されるいわゆるサイドエッチと呼
ばれる現象が起こり、銅箔が厚い程サイドエッチによっ
て除去される側面の銅が多くなるので、微細な回路を形
成するのが困難となるからである。
Among them, the subtractive method has been used for a long time, and in order to improve the wiring density, it is usual to reduce the thickness of the copper foil of the copper-clad laminate. The reason for this is that when an etching resist is formed in the required circuit shape on the surface of the copper foil and the unnecessary copper foil exposed from the etching resist is removed with an etching solution, copper is corroded from the side surface of the necessary circuit part. This is because a phenomenon called so-called side etching occurs, and the thicker the copper foil, the more copper on the side surface is removed by the side etching, which makes it difficult to form a fine circuit.

【0005】このような配線板も、1層では、配線を収
容できず、複数の回路層を設けることがある。このよう
な多層配線板は、配線層を全て作成しておき、積層した
後に、各層の接続用スルーホールを形成する方法、内層
回路を形成しておき、プリプレグと銅箔を重ね、積層し
た後、スルーホールとなる穴をあけ、無電解めっきした
後に、外層回路を形成する方法等、様々な方法が開発さ
れ、実用化されている。
Even such a wiring board cannot accommodate wiring in one layer, and may have a plurality of circuit layers. In such a multilayer wiring board, after all wiring layers are created and laminated, a method of forming through holes for connection of each layer, an inner layer circuit is formed, and a prepreg and a copper foil are stacked and laminated. Various methods have been developed and put into practical use, such as a method of forming a through hole, electroless plating, and then forming an outer layer circuit.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な方法では、接続のためのスルーホールを設ける箇所に
は、配線を形成することができず、配線の高密度化や、
設計の自由度を妨げていた。そこで、図1(a)に示す
ように、片面銅箔張積層板の絶縁層表面に半硬化状態の
絶縁性接着剤層を設けた接着剤層付き片面銅箔張積層
板、あるいは銅箔の片面に半硬化状態の絶縁性接着剤層
を設けた接着剤層付き銅箔に、図1(b)に示すよう
に、バイアホールとなる貫通穴をあけた後、図1(c)
に示すように、接着剤の表面に銅箔を重ね、加圧加熱積
層して一体化し、図1(d)に示すように、エッチング
レジストを形成し、エッチングレジストから露出した銅
箔をエッチング除去することにより、穴があいていない
側の銅箔の面に内層配線パターンを、また、必要に応じ
て穴があいている側の銅箔の面に外層配線パターンを、
形成し、図1(e)に示すように、配線を形成した非貫
通穴付き両面銅箔張板と、他の基板、例えば金属板と
を、接着性の絶縁樹脂を介して重ね合わせて、加圧加熱
して積層一体化して得た基板の、少なくともバイアホー
ルとなる貫通穴の内部及びバイアホールとなる貫通穴内
に露出した銅箔部分に、図1(f)に示すように、めっ
きを行うか、または導電性ペーストを印刷することによ
って、層間接続穴を導通化させる、多層プリント配線板
を製造する方法が、本発明者らによって、例えば特願平
5−252990号によって、提案されている。
However, in the above method, it is not possible to form the wiring at the place where the through hole for connection is provided, and it is possible to increase the density of the wiring,
It hampered the freedom of design. Therefore, as shown in FIG. 1 (a), a single-sided copper foil-clad laminate with an adhesive layer in which a semi-cured insulating adhesive layer is provided on the insulating layer surface of the single-sided copper-clad laminate, or a copper foil As shown in FIG. 1 (b), a through hole to be a via hole is formed in a copper foil with an adhesive layer having a semi-cured insulating adhesive layer on one surface, and then, as shown in FIG. 1 (c).
As shown in Fig. 1, a copper foil is laid on the surface of the adhesive, laminated under pressure and heating to be integrated, an etching resist is formed, and the copper foil exposed from the etching resist is removed by etching as shown in Fig. 1 (d). By doing, the inner layer wiring pattern on the surface of the copper foil on the side without holes, and the outer layer wiring pattern on the surface of the copper foil on the side with holes, if necessary.
As shown in FIG. 1 (e), a double-sided copper foil-clad board with a non-through hole having wiring formed thereon and another board, for example, a metal board, are superposed with an adhesive insulating resin interposed therebetween, As shown in FIG. 1 (f), plating is performed on at least the inside of the through hole that will be a via hole and the copper foil portion exposed in the through hole that will be a via hole of the substrate obtained by pressurizing and heating to laminate and integrate. A method for producing a multilayer printed wiring board in which the interlayer connection holes are made conductive by carrying out or printing a conductive paste has been proposed by the present inventors, for example, in Japanese Patent Application No. 5-252990. There is.

【0007】この方法は、半硬化状態の絶縁性接着フィ
ルムに予め穴をあけた後、内層板と積層一体化するの
で、積層後にレーザ加工やドリルによる非貫通穴加工を
行わなくても内層配線との接続穴が容易に形成できると
いう利点がある。一方、近年多層プリント配線板は、電
子機器の軽量化のために薄型化が求められており、使用
する接着剤層付き片面銅箔張積層板あるいは接着剤層付
き銅箔の厚さは、0.15mm以下の薄いものが増えて
いる。このように薄いものを取り扱う場合、ねじれやそ
りが発生し、あるいは、折れてしまうこともあり、取り
扱いが困難となるという課題があった。
According to this method, since holes are preliminarily punched in the semi-cured insulating adhesive film and then laminated with the inner layer plate, the inner layer wiring is not required to be processed without laser processing or drilling without through holes. There is an advantage that the connection hole can be easily formed. On the other hand, in recent years, multilayer printed wiring boards have been required to be thin in order to reduce the weight of electronic devices, and the thickness of the one-sided copper foil-clad laminate with an adhesive layer or the copper foil with an adhesive layer used is 0. The number of thin products with a thickness of 0.15 mm or less is increasing. When handling such a thin product, there is a problem that twisting or warping may occur or the product may break, which makes the handling difficult.

【0008】本発明は、特願平5−252990号等の
提案を改良し、生産性の高い多層配線板の製造法を提供
することを目的とするものである。
It is an object of the present invention to improve the proposal of Japanese Patent Application No. 5-252990 and the like, and to provide a method for producing a multilayer wiring board having high productivity.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の多層プリント配
線板の製造法は、以下の工程を含むことを特徴とするも
のである。 (a)ロール状の片面銅箔張積層板またはロール状の銅
箔を巻き戻しながら、その片面銅箔張積層板の絶縁材料
側の表面または銅箔に半硬化状態の絶縁性接着剤層を設
け、ロールに巻き取る工程 (b)巻き取ったロールを間欠的に巻き戻しながら、バ
イアホールとなる貫通穴をパンチングマシンで銅箔面の
側から打ち抜き、別のロールに巻き取る工程 (c)巻き取ったロールを巻き戻しながら、バイアホー
ルとなる貫通穴をあけた基板の接着剤層の面に、銅箔を
連続的に積層し、接着剤層を硬化させた後、さらに別の
ロールに巻き取る工程 (d)巻き取ったロールを巻き戻しながら、その両面に
感光性ドライフィルムをラミネートし、所定のサイズに
切断する工程 (e)切断した基板の穴があいていない銅箔の面に、内
層配線パターンを形成するためのエッチングレジストを
形成し、また必要に応じてその反対面にもエッチングレ
ジストを形成し、エッチングレジストから露出した銅箔
をエッチング除去する工程 (f)前記工程で配線を形成した基板を、プリプレグま
たは接着性の樹脂層を介して、他の基板と重ね、加圧加
熱して積層一体化する工程 (g)積層一体化した基板の、少なくともバイアホール
となる貫通穴の内部及びバイアホールとなる貫通穴内に
露出した銅箔部分に、めっきを行うか、または導電性ペ
ーストを印刷する工程
The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention is characterized by including the following steps. (A) While unwinding the rolled single-sided copper foil-clad laminate or the rolled copper foil, a semi-cured insulating adhesive layer is formed on the surface of the insulating material side of the single-sided copper-clad laminate or the copper foil. Step of providing and winding on a roll (b) Step of punching a through hole to be a via hole from the side of the copper foil surface with a punching machine while intermittently rewinding the wound roll, and winding on another roll (c) While rewinding the wound roll, copper foil is continuously laminated on the surface of the adhesive layer of the substrate on which the through holes that will be via holes are formed, and the adhesive layer is cured, and then on another roll. Step of winding (d) Step of laminating the photosensitive dry film on both sides of the wound roll while rewinding it, and cutting it into a predetermined size. (E) On the surface of the cut copper foil having no holes. Shape the inner layer wiring pattern A step of forming an etching resist for forming the same, and also forming an etching resist on the opposite surface thereof as necessary, and removing the copper foil exposed from the etching resist by etching (f) the substrate on which the wiring is formed in the above step A step of stacking with another substrate through a prepreg or an adhesive resin layer, and heating and pressurizing to laminate-integrate (g) at least the inside of the through-hole and the via-hole of the laminate-integrated substrate to be via holes Step of plating or printing conductive paste on the copper foil part exposed in the through hole

【0010】また、上記工程のうち(c)〜(e)を以
下の工程とすることができる。 (c1)巻き取ったロールを巻き戻しながら、バイアホ
ールとなる貫通穴をあけた基板の接着剤層の面に、銅箔
を連続的に積層し、接着剤層を硬化させた後、所定のサ
イズに切断する工程 (d1)切断した基板の穴があいていない銅箔の面に、
内層配線パターンを形成するためのエッチングレジスト
を形成し、また必要に応じてその反対面にもエッチング
レジストを形成する工程 (e1)エッチングレジストから露出した銅箔をエッチ
ング除去する工程
Among the above steps, (c) to (e) can be the following steps. (C1) While rewinding the wound roll, a copper foil is continuously laminated on the surface of the adhesive layer of the substrate in which the through holes to be the via holes are formed, the adhesive layer is cured, and then the predetermined Step of cutting to size (d1) On the surface of the cut copper foil with no holes,
A step of forming an etching resist for forming the inner layer wiring pattern and, if necessary, forming an etching resist also on the opposite surface thereof (e1) a step of etching away the copper foil exposed from the etching resist

【0011】また、最初の工程のうち(d)及び(e)
を以下の工程とすることもできる。 (d2)巻き取ったロールを間欠的に巻き戻しながら、
内層配線パターンを形成するためのエッチングレジスト
を形成し、また必要に応じてその反対面にもエッチング
レジストを形成する工程 (e2)所定のサイズに切断した後、エッチングレジス
トから露出した銅箔をエッチング除去する工程
Also, among the first steps, (d) and (e)
Can be the following steps. (D2) While rewinding the wound roll intermittently,
Step of forming an etching resist for forming the inner layer wiring pattern and, if necessary, forming an etching resist also on the opposite surface (e2) After cutting to a predetermined size, etching the copper foil exposed from the etching resist Removal process

【0012】さらにまた、最初の工程のうち(d)〜
(f)を以下の工程とすることもできる。 (d3)巻き取ったロールを巻き戻しながら、穴があい
ていない銅箔の面に、内層配線パターンを形成するため
のエッチングレジストを形成し、また必要に応じてその
反対面にもエッチングレジストを形成し、さらに別のロ
ールに巻き取る工程 (e3)巻き取ったロールを巻き戻しながら、エッチン
グレジストから露出した銅箔をエッチング除去した後、
エッチングレジストを剥離し、さらに別のロールに巻き
取る工程 (f3)巻き取ったロールを巻き戻しながら、プリプレ
グまたは接着性の樹脂層を介して、他の基板と重ね、加
圧加熱して積層一体化した後、所定のサイズに切断する
工程
Furthermore, in the first step (d)-
(F) can also be the following steps. (D3) While rewinding the wound roll, an etching resist for forming an inner layer wiring pattern is formed on the surface of the copper foil having no holes, and if necessary, an etching resist is formed on the opposite surface. Step of forming and winding on another roll (e3) After rewinding the wound roll, after etching away the copper foil exposed from the etching resist,
Step of peeling off the etching resist and winding it on another roll (f3) While rewinding the wound roll, it is laminated with another substrate through a prepreg or an adhesive resin layer and heated under pressure to be laminated and integrated. After cutting, cutting into a predetermined size

【0013】さらにまた、積層一体化後、所望の位置に
スルーホールとなる貫通穴をあけ、前工程で設けたバイ
アホールとなる貫通穴と共に、めっきを行うか、または
導電性ペーストを印刷することもできる。
Furthermore, after the lamination and integration, a through hole to be a through hole is formed at a desired position, and plating or a conductive paste is printed together with the through hole to be a via hole provided in the previous step. You can also

【0014】本発明に用いる片面銅箔張積層板は、その
片面に銅箔を貼り合わせた絶縁材料、例えばガラス布−
エポキシ樹脂を用いた片面銅箔張積層板や、フレキシブ
ルなポリイミドフィルムを用いた片面銅箔張フレキシブ
ルシート等が使用できる。この絶縁材料には、紙、不織
物あるいはガラス布等の強化繊維に樹脂を含浸した有機
材料や、強化しない樹脂製品、フレキシブルなフィル
ム、あるいは、このような材料とセラミックスとの複合
化された材料が使用できる。樹脂としては、フェノール
樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹
脂、フッ素含有樹脂等が使用できる。また、これらの絶
縁材料中に無電解めっき用触媒を分散させたものも使用
できる。この片面銅箔張積層板の厚さはロールに巻き取
り可能な厚さである。
The one-sided copper foil-clad laminate used in the present invention is an insulating material such as a glass cloth-bonded with copper foil on one side.
A single-sided copper foil-clad laminate using an epoxy resin, a single-sided copper foil-clad flexible sheet using a flexible polyimide film, or the like can be used. The insulating material may be an organic material obtained by impregnating a reinforcing fiber such as paper, non-woven fabric or glass cloth with a resin, a resin product that is not reinforced, a flexible film, or a composite material of such a material and ceramics. Can be used. As the resin, phenol resin, epoxy resin, polyimide resin, polyester resin, fluorine-containing resin or the like can be used. Further, it is also possible to use a material in which a catalyst for electroless plating is dispersed in these insulating materials. The thickness of this single-sided copper foil-clad laminate is such that it can be wound into a roll.

【0015】絶縁性接着剤としては、エポキシ樹脂系接
着剤、アクリル変性樹脂系、あるいはポリイミド樹脂系
接着剤等が使用できる。これらの接着剤中には無機フィ
ラー、例えば炭酸カルシウム、炭酸カルシウムマグネシ
ウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸ガラス粉末等を添加す
ることができる。絶縁性接着剤層の形成は直接塗布する
方法、または接着剤をフィルム化したものをラミネート
する方法がある。このような接着フィルムの例として
は、エポキシ接着フィルムAS−3000(日立化成工
業株式会社製、商品名)があり、接着剤付き銅箔の例と
しては、エポキシ接着フィルムMCF−3000E(日
立化成工業株式会社製、商品名)がある。これらの接着
フィルムや接着剤層は、半硬化状態となっている必要が
ある。本発明で言う半硬化状態とは、40℃以下では粘
着性を持たず、その後の多層化接着によって接着強さが
0.8kgf/cm以上を与えることができる半硬化状
態を言う。このような半硬化状態にする方法は通常の樹
脂のように、完全には硬化しない温度と時間、加熱して
行う。このような条件は、予め実験的に求めることによ
って得られる。
As the insulating adhesive, an epoxy resin adhesive, an acrylic modified resin adhesive, a polyimide resin adhesive or the like can be used. Inorganic fillers such as calcium carbonate, calcium magnesium carbonate, calcium silicate, and silicate glass powder can be added to these adhesives. The insulative adhesive layer can be formed by direct coating or by laminating a film of the adhesive. An example of such an adhesive film is an epoxy adhesive film AS-3000 (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), and an example of an adhesive-attached copper foil is an epoxy adhesive film MCF-3000E (Hitachi Chemical Co., Ltd.). Made by corporation, product name). These adhesive films and adhesive layers need to be in a semi-cured state. The semi-cured state referred to in the present invention means a semi-cured state which does not have tackiness at 40 ° C. or lower and which can give an adhesive strength of 0.8 kgf / cm or more by the subsequent multilayer adhesion. Such a semi-cured state is carried out by heating at a temperature and a time at which the resin does not completely cure like ordinary resins. Such conditions are obtained by experimentally obtaining in advance.

【0016】[0016]

【実施例】【Example】

実施例1 図2(a)に示すように、ロール状の、厚さ35μmの
銅箔9を巻き戻しながら、連続的に、半硬化状態の絶縁
性接着剤であるAS−3000(日立化成工業株式会社
製、商品名)をラミネートし、ロール10に巻き取る。
このときの構成は、図1(a)に示すように、銅箔1と
絶縁性接着層2とからなる。次に、図2(b)に示すよ
うに、(a)の工程で得たロール10を間欠的に巻き戻
しながら、プレスパンチ20を用いて、バイアホールと
なる貫通穴をあけ、ロール11に巻き取る。このときの
構成は、図1(b)に示すように、銅箔1と絶縁性接着
層2とからなる積層材料に、バイアホールとなる貫通穴
3を形成したものとなる。次に、図2(c)に示すよう
に、(b)の工程で得たロールを巻き戻しながら、連続
的に銅箔4をラミネートし、絶縁性接着剤層2を硬化炉
12によって硬化させながら、ロール13に巻き取り、
図1(c)に示すように、バイアホールとなる貫通穴を
非貫通穴とする。次に、図2(d)に示すように、
(c)の工程で得たロール13を巻き戻しながら、感光
性ドライフィルム14であるSR−3000(日立化成
工業株式会社製、商品名)を、両面にラミネートしなが
ら、所定のサイズに切断し、基板15とする。次に、図
1(d)に示すように、切断した基板の穴があいていな
い銅箔4の面に、内層配線パターンを形成するためのエ
ッチングレジスト5を形成し、またその反対面にもエッ
チングレジスト5を形成し、エッチングレジスト5から
露出した銅箔をエッチング除去する。次に、図1(e)
に示すように、このようにして配線を形成した内層基板
と、他の基板7との間に、半硬化状態の絶縁性接着剤6
であるAS−3000(日立化成工業株式会社製、商品
名)を介して、重ね、加圧加熱して積層一体化する。次
に、図1(f)に示すように、バイアホールとなる貫通
穴の内部及びバイアホールとなる貫通穴内に露出した銅
箔部分に、導電性ペースト8を印刷することによって、
層間接続穴を導通化させることにより、多層プリント配
線板を形成する。
Example 1 As shown in FIG. 2 (a), AS-3000 (Hitachi Chemical Co., Ltd.), which is an insulating adhesive in a semi-cured state, was continuously rolled while rolling a copper foil 9 having a thickness of 35 μm. Product name, manufactured by Co., Ltd. is laminated and wound on a roll 10.
The structure at this time is, as shown in FIG. 1A, composed of a copper foil 1 and an insulating adhesive layer 2. Next, as shown in FIG. 2 (b), while the roll 10 obtained in the step (a) is being unwound intermittently, a through hole serving as a via hole is opened using the press punch 20, and the roll 11 is formed. Roll up. The structure at this time is, as shown in FIG. 1B, a through hole 3 to be a via hole is formed in a laminated material composed of the copper foil 1 and the insulating adhesive layer 2. Next, as shown in FIG. 2C, while unwinding the roll obtained in the step (b), the copper foil 4 is continuously laminated, and the insulating adhesive layer 2 is cured by the curing furnace 12. While winding up on roll 13,
As shown in FIG. 1C, the through holes that will be the via holes are non-through holes. Next, as shown in FIG.
While rewinding the roll 13 obtained in the step (c), SR-3000 (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name), which is a photosensitive dry film 14, is laminated on both sides and cut into a predetermined size. , Substrate 15. Next, as shown in FIG. 1D, an etching resist 5 for forming an inner layer wiring pattern is formed on the surface of the cut copper foil 4 of the substrate, and also on the opposite surface. The etching resist 5 is formed, and the copper foil exposed from the etching resist 5 is removed by etching. Next, FIG. 1 (e)
As shown in FIG. 2, the semi-cured insulating adhesive 6 is provided between the inner layer substrate on which the wiring is formed in this manner and the other substrate 7.
Through AS-3000 (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name). Next, as shown in FIG. 1 (f), by printing the conductive paste 8 on the inside of the through hole to be the via hole and the copper foil portion exposed in the through hole to be the via hole,
A multilayer printed wiring board is formed by making the interlayer connection holes conductive.

【0017】実施例2 図3(a)に示すように、ロール状の、厚さ35μmの
銅箔9を巻き戻しながら、連続的に、半硬化状態の絶縁
性接着剤であるAS−3000(日立化成工業株式会社
製、商品名)をラミネートし、ロール10に巻き取る。
このときの構成は、図1(a)に示すように、銅箔1と
絶縁性接着層2とからなる。次に、図3(b)に示すよ
うに、(a)の工程で得たロール10を間欠的に巻き戻
しながら、プレスパンチ20を用いて、バイアホールと
なる貫通穴をあけ、ロール11に巻き取る。このときの
構成は、図1(b)に示すように、銅箔1と絶縁性接着
層2とからなる積層材料に、バイアホールとなる貫通穴
3を形成したものとなる。次に、図3(c)に示すよう
に、(b)の工程で得たロールを巻き戻しながら、連続
的に銅箔4をラミネートし、絶縁性接着剤層2を硬化炉
12によって硬化させながら、所定のサイズに切断し、
基板15とする。このときに、構成は、図1(c)に示
すように、バイアホールとなる貫通穴を非貫通穴とす
る。次に、(c)の工程で得た基板15に、感光性ドラ
イフィルム14であるSR−3000(日立化成工業株
式会社製、商品名)を、両面にラミネートし、図1
(d)に示すように、切断した基板の穴があいていない
銅箔4の面に、内層配線パターンを形成するためのエッ
チングレジスト5を形成し、またその反対面にもエッチ
ングレジスト5を形成し、エッチングレジスト5から露
出した銅箔をエッチング除去する。次に、図1(e)に
示すように、このようにして配線を形成した内層基板
と、他の基板7との間に、半硬化状態の絶縁性接着剤6
であるAS−3000(日立化成工業株式会社製、商品
名)を介して、重ね、加圧加熱して積層一体化する。次
に、図1(f)に示すように、バイアホールとなる貫通
穴の内部及びバイアホールとなる貫通穴内に露出した銅
箔部分に、導電性ペースト8を印刷することによって、
層間接続穴を導通化させることにより、多層プリント配
線板を形成する。
Example 2 As shown in FIG. 3 (a), while rolling back a roll-shaped copper foil 9 having a thickness of 35 μm, a continuous semi-cured insulating adhesive AS-3000 ( Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name) is laminated and wound on a roll 10.
The structure at this time is, as shown in FIG. 1A, composed of a copper foil 1 and an insulating adhesive layer 2. Next, as shown in FIG. 3 (b), while the roll 10 obtained in the step (a) is being unwound intermittently, a through hole serving as a via hole is formed using the press punch 20 to form the roll 11 in the roll 11. Roll up. The structure at this time is, as shown in FIG. 1B, a through hole 3 to be a via hole is formed in a laminated material composed of the copper foil 1 and the insulating adhesive layer 2. Next, as shown in FIG. 3C, while unwinding the roll obtained in the step (b), the copper foil 4 is continuously laminated, and the insulating adhesive layer 2 is cured by the curing furnace 12. While cutting into a predetermined size,
The substrate 15 is used. At this time, as shown in FIG. 1C, the structure is such that the through holes to be via holes are non-through holes. Next, on the substrate 15 obtained in the step (c), SR-3000 (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name), which is a photosensitive dry film 14, is laminated on both sides, and FIG.
As shown in (d), an etching resist 5 for forming an inner layer wiring pattern is formed on the surface of the cut copper foil 4 of the substrate, and an etching resist 5 is also formed on the opposite surface. Then, the copper foil exposed from the etching resist 5 is removed by etching. Next, as shown in FIG. 1E, a semi-cured insulating adhesive 6 is provided between the inner layer substrate having the wiring thus formed and the other substrate 7.
Through AS-3000 (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name). Next, as shown in FIG. 1 (f), by printing the conductive paste 8 on the inside of the through hole to be the via hole and the copper foil portion exposed in the through hole to be the via hole,
A multilayer printed wiring board is formed by making the interlayer connection holes conductive.

【0018】実施例3 図4(a)に示すように、ロール状の、厚さ35μmの
銅箔9を巻き戻しながら、連続的に、半硬化状態の絶縁
性接着剤であるAS−3000(日立化成工業株式会社
製、商品名)をラミネートし、ロール10に巻き取る。
このときの構成は、図1(a)に示すように、銅箔1と
絶縁性接着層2とからなる。次に、図4(b)に示すよ
うに、(a)の工程で得たロール10を間欠的に巻き戻
しながら、プレスパンチ20を用いて、バイアホールと
なる貫通穴をあけ、ロール11に巻き取る。このときの
構成は、図1(b)に示すように、銅箔1と絶縁性接着
層2とからなる積層材料に、バイアホールとなる貫通穴
3を形成したものとなる。次に、図4(c)に示すよう
に、(b)の工程で得たロールを巻き戻しながら、連続
的に銅箔4をラミネートし、絶縁性接着剤層2を硬化炉
12によって硬化させながら、ロール13に巻き取り、
図1(c)に示すように、バイアホールとなる貫通穴を
非貫通穴とする。次に、図4(d)に示すように、
(c)の工程で得たロール13を巻き戻しながら、レジ
スト印刷機によって、穴があいていない銅箔4の面に、
内層配線パターンを形成するためのエッチングレジスト
5を形成し、またその反対面にもエッチングレジスト5
を形成した後、所定のサイズに切断し、基板15とす
る。次に、図1(d)に示すように、エッチングレジス
ト5から露出した銅箔をエッチング除去する。次に、図
1(e)に示すように、このようにして配線を形成した
内層基板と、他の基板7との間に、半硬化状態の絶縁性
接着剤6であるAS−3000(日立化成工業株式会社
製、商品名)を介して、重ね、加圧加熱して積層一体化
する。次に、図1(f)に示すように、バイアホールと
なる貫通穴の内部及びバイアホールとなる貫通穴内に露
出した銅箔部分に、導電性ペースト8を印刷することに
よって、層間接続穴を導通化させることにより、多層プ
リント配線板を形成する。
Example 3 As shown in FIG. 4 (a), while rolling back a roll-shaped copper foil 9 having a thickness of 35 .mu.m, AS-3000 (insulating adhesive AS-3000 ( Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name) is laminated and wound on a roll 10.
The structure at this time is, as shown in FIG. 1A, composed of a copper foil 1 and an insulating adhesive layer 2. Next, as shown in FIG. 4 (b), while the roll 10 obtained in the step (a) is being unwound intermittently, a press punch 20 is used to form a through hole to be a via hole, and the roll 11 is formed. Roll up. The structure at this time is, as shown in FIG. 1B, a through hole 3 to be a via hole is formed in a laminated material composed of the copper foil 1 and the insulating adhesive layer 2. Next, as shown in FIG. 4C, while unwinding the roll obtained in the step of FIG. 4B, the copper foil 4 is continuously laminated, and the insulating adhesive layer 2 is cured by the curing furnace 12. While winding up on roll 13,
As shown in FIG. 1C, the through holes that will be the via holes are non-through holes. Next, as shown in FIG.
While rewinding the roll 13 obtained in the step (c), a resist printing machine was used to
The etching resist 5 for forming the inner layer wiring pattern is formed, and the etching resist 5 is formed on the opposite surface.
After forming, the substrate 15 is cut into a predetermined size to form the substrate 15. Next, as shown in FIG. 1D, the copper foil exposed from the etching resist 5 is removed by etching. Next, as shown in FIG. 1E, the semi-cured insulating adhesive AS-3000 (Hitachi) is provided between the inner layer substrate on which the wiring is formed in this manner and the other substrate 7. The product is manufactured by Kasei Kogyo Co., Ltd., and the product is laminated and laminated under pressure and heating. Next, as shown in FIG. 1F, the conductive paste 8 is printed on the inside of the through hole to be the via hole and the copper foil portion exposed in the through hole to be the via hole to form the interlayer connection hole. By making them conductive, a multilayer printed wiring board is formed.

【0019】実施例4 図5(a)に示すように、ロール状の、厚さ35μmの
銅箔9を巻き戻しながら、連続的に、半硬化状態の絶縁
性接着剤であるAS−3000(日立化成工業株式会社
製、商品名)をラミネートし、ロール10に巻き取る。
このときの構成は、図1(a)に示すように、銅箔1と
絶縁性接着層2とからなる。次に、図5(b)に示すよ
うに、(a)の工程で得たロール10を間欠的に巻き戻
しながら、プレスパンチ20を用いて、バイアホールと
なる貫通穴をあけ、ロール11に巻き取る。このときの
構成は、図1(b)に示すように、銅箔1と絶縁性接着
層2とからなる積層材料に、バイアホールとなる貫通穴
3を形成したものとなる。次に、図5(c)に示すよう
に、(b)の工程で得たロールを巻き戻しながら、連続
的に銅箔4をラミネートし、絶縁性接着剤層2を硬化炉
12によって硬化させながら、ロール13に巻き取り、
図1(c)に示すように、バイアホールとなる貫通穴を
非貫通穴とする。次に、図5(d)に示すように、
(c)の工程で得たロール13を巻き戻しながら、レジ
スト印刷機によって、穴があいていない銅箔4の面に、
内層配線パターンを形成するためのエッチングレジスト
5を形成し、またその反対面にもエッチングレジスト5
を形成し、ロールに巻き取る。次に、図5(e)に示す
ように、エッチングレジスト5から露出した銅箔を、エ
ッチング装置17によりエッチング除去し、図1(d)
に示す構成とし、続いて、エッチングレジストをレジス
ト剥離装置によって除去し、ロールに巻き取る。次に、
図5(f)に示すように、このようにして配線を形成し
た内層基板を巻き取ったロールを巻き戻し、続いて、他
の基板7との間に、半硬化状態の絶縁性接着剤6である
AS−3000(日立化成工業株式会社製、商品名)を
介して、重ね、加圧加熱して積層一体化し、所定サイズ
に切断する。このときに、構成は図1(e)に示すよう
になる。次に、図1(f)に示すように、バイアホール
となる貫通穴の内部及びバイアホールとなる貫通穴内に
露出した銅箔部分に、導電性ペースト8を印刷すること
によって、層間接続穴を導通化させることにより、多層
プリント配線板を形成する。
Example 4 As shown in FIG. 5 (a), while rolling a roll-shaped copper foil 9 having a thickness of 35 μm, the semi-cured insulating adhesive AS-3000 (was continuously formed. Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name) is laminated and wound on a roll 10.
The structure at this time is, as shown in FIG. 1A, composed of a copper foil 1 and an insulating adhesive layer 2. Next, as shown in FIG. 5B, while the roll 10 obtained in the step (a) is being unwound intermittently, a through hole serving as a via hole is opened using the press punch 20 to form the roll 11 in the roll 11. Roll up. The structure at this time is, as shown in FIG. 1B, a through hole 3 to be a via hole is formed in a laminated material composed of the copper foil 1 and the insulating adhesive layer 2. Next, as shown in FIG. 5C, while unwinding the roll obtained in the step (b), the copper foil 4 is continuously laminated, and the insulating adhesive layer 2 is cured by the curing furnace 12. While winding up on roll 13,
As shown in FIG. 1C, the through holes that will be the via holes are non-through holes. Next, as shown in FIG.
While rewinding the roll 13 obtained in the step (c), a resist printing machine was used to
The etching resist 5 for forming the inner layer wiring pattern is formed, and the etching resist 5 is formed on the opposite surface.
And then roll it up into a roll. Next, as shown in FIG. 5E, the copper foil exposed from the etching resist 5 is removed by etching with the etching device 17, and the copper foil shown in FIG.
Then, the etching resist is removed by a resist stripping device and wound on a roll. next,
As shown in FIG. 5 (f), the inner layer substrate having the wiring thus formed is rewound on a roll that has been wound up, and then the insulating adhesive 6 in a semi-cured state is formed between the inner substrate and another substrate 7. AS-3000 (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name) is stacked, heated under pressure, laminated and integrated, and cut into a predetermined size. At this time, the configuration is as shown in FIG. Next, as shown in FIG. 1 (f), by printing the conductive paste 8 on the copper foil portion exposed inside the through hole which becomes the via hole and in the through hole which becomes the via hole, the interlayer connection hole is formed. By making them conductive, a multilayer printed wiring board is formed.

【0020】実施例5 実施例4において、最初の工程で、銅箔に代えて、ポリ
イミド系銅箔付きフレキシブルフィルムを用い、他の基
板7にガラス布エポキシ樹脂絶縁板を用いた他は、実施
例4と同様にして基板15を作成し、さらに、スルーホ
ールとなる穴をあけ、スルーホールとなる穴、バイアホ
ールとなる貫通穴の内部及びバイアホールとなる貫通穴
内に露出した銅箔部分に、導電性ペースト8を印刷する
ことによって、層間接続穴を導通化させることにより、
多層プリント配線板を形成する。
Example 5 In Example 4, except that in the first step, a flexible film with a polyimide-based copper foil was used in place of the copper foil and a glass cloth epoxy resin insulating plate was used for the other substrate 7, A substrate 15 was created in the same manner as in Example 4, and a hole to be a through hole was further opened. The through hole was to be a through hole, the inside of a through hole to be a via hole, and the copper foil portion exposed in the through hole to be a via hole. By printing the conductive paste 8 to make the interlayer connection holes conductive,
Form a multilayer printed wiring board.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上に説明したように、本発明によっ
て、製造工程中の取り扱いが容易な非貫通穴付き薄型多
層プリント配線板の製造法を提供することができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a method for manufacturing a thin multilayer printed wiring board with a non-through hole which can be easily handled during the manufacturing process.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(a)〜(f)は、本発明の一実施例の各工程
における断面図である。
1A to 1F are cross-sectional views in each step of an embodiment of the present invention.

【図2】(a)〜(d)は、それぞれ本発明の一実施例
の各工程を説明するための側面図である。
2A to 2D are side views for explaining each step of one embodiment of the present invention.

【図3】(a)〜(c)は、それぞれ本発明の他の実施
例の各工程を説明するための側面図である。
3 (a) to 3 (c) are side views for explaining respective steps of another embodiment of the present invention.

【図4】(a)〜(d)は、それぞれ本発明のさらに他
の実施例の各工程を説明するための側面図である。
4 (a) to 4 (d) are side views for explaining respective steps of still another embodiment of the present invention.

【図5】(a)〜(f)は、それぞれ本発明のさらに他
の実施例の各工程を説明するための側面図である。
5 (a) to 5 (f) are side views for explaining each step of still another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1.銅箔 2.半硬化状態
の絶縁性接着剤層 3.貫通穴 4.銅箔 5.配線パターン 6.接着性の絶
縁樹脂 7.基板 8.導電性ペー
スト 9.銅箔 10.ロール 11.ロール 12.硬化炉 13.ロール 14.感光性ドライフィルム 15.切断した
基板 16.レジスト印刷機 17.エッチン
グ装置 18.レジスト剥離装置 19.ロール
1. Copper foil 2. Insulating adhesive layer in semi-cured state 3. Through hole 4. Copper foil 5. Wiring pattern 6. Adhesive insulating resin 7. Substrate 8. Conductive paste 9. Copper foil 10. Roll 11. Roll 12. Curing furnace 13. Roll 14. Photosensitive dry film 15. Cut substrate 16. Resist printing machine 17. Etching device 18. Resist stripping device 19. roll

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】以下の工程を含むことを特徴とする多層プ
リント配線板の製造法。 (a)ロール状の片面銅箔張積層板またはロール状の銅
箔を巻き戻しながら、その片面銅箔張積層板の絶縁材料
側の表面または銅箔に半硬化状態の絶縁性接着剤層を設
け、ロールに巻き取る工程 (b)巻き取ったロールを間欠的に巻き戻しながら、バ
イアホールとなる貫通穴をパンチングマシンで銅箔面の
側から打ち抜き、別のロールに巻き取る工程 (c)巻き取ったロールを巻き戻しながら、バイアホー
ルとなる貫通穴をあけた基板の接着剤層の面に、銅箔を
連続的に積層し、接着剤層を硬化させた後、 さらに別のロールに巻き取る工程 (d)巻き取ったロールを巻き戻しながら、その両面に
感光性ドライフィルムをラミネートし、所定のサイズに
切断する工程 (e)切断した基板の穴があいていない銅箔の面に、内
層配線パターンを形成するためのエッチングレジストを
形成し、また必要に応じてその反対面にもエッチングレ
ジストを形成し、エッチングレジストから露出した銅箔
をエッチング除去する工程 (f)前記工程で配線を形成した基板を、プリプレグま
たは接着性の樹脂層を介して、他の基板と重ね、加圧加
熱して積層一体化する工程 (g)積層一体化した基板の、少なくともバイアホール
となる貫通穴の内部及びバイアホールとなる貫通穴内に
露出した銅箔部分に、めっきを行うか、または導電性ペ
ーストを印刷する工程
1. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, comprising the following steps. (A) While unwinding the rolled single-sided copper foil-clad laminate or the rolled copper foil, a semi-cured insulating adhesive layer is formed on the surface of the insulating material side of the single-sided copper-clad laminate or the copper foil. Step of providing and winding on a roll (b) Step of punching a through hole to be a via hole from the side of the copper foil surface with a punching machine while intermittently rewinding the wound roll, and winding on another roll (c) While rewinding the wound roll, copper foil is continuously laminated on the surface of the adhesive layer of the substrate on which the through holes that will be via holes are formed, and the adhesive layer is cured, and then rolled onto another roll. Step of winding (d) Step of laminating the photosensitive dry film on both sides of the wound roll while rewinding it, and cutting it into a predetermined size. (E) On the surface of the cut copper foil having no holes. , Inner layer wiring pattern A step of forming an etching resist for forming the same, and also forming an etching resist on the opposite surface thereof as necessary, and removing the copper foil exposed from the etching resist by etching (f) the substrate on which the wiring is formed in the above step A step of stacking with another substrate through a prepreg or an adhesive resin layer, and heating and pressurizing to laminate-integrate (g) at least the inside of the through-hole and the via-hole of the laminate-integrated substrate to be via holes Step of plating or printing conductive paste on the copper foil part exposed in the through hole
【請求項2】以下の工程を含むことを特徴とする多層プ
リント配線板の製造法。 (a)ロール状の片面銅箔張積層板またはロール状の銅
箔を巻き戻しながら、その片面銅箔張積層板の絶縁材料
側の表面または銅箔に半硬化状態の絶縁性接着剤層を設
け、ロールに巻き取る工程 (b)巻き取ったロールを間欠的に巻き戻しながら、バ
イアホールとなる貫通穴をパンチングマシンで銅箔面の
側から打ち抜き、別のロールに巻き取る工程 (c1)巻き取ったロールを巻き戻しながら、バイアホ
ールとなる貫通穴をあけた基板の接着剤層の面に、銅箔
を連続的に積層し、接着剤層を硬化させた後、所定のサ
イズに切断する工程 (d1)切断した基板の穴があいていない銅箔の面に、
内層配線パターンを形成するためのエッチングレジスト
を形成し、また必要に応じてその反対面にもエッチング
レジストを形成する工程 (e1)エッチングレジストから露出した銅箔をエッチ
ング除去する工程 (f)前記工程で配線を形成した基板を、プリプレグま
たは接着性の樹脂層を介して、他の基板と重ね、加圧加
熱して積層一体化する工程 (g)積層一体化した基板の、少なくともバイアホール
となる貫通穴の内部及びバイアホールとなる貫通穴内に
露出した銅箔部分に、めっきを行うか、または導電性ペ
ーストを印刷する工程
2. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, comprising the following steps. (A) While unwinding the rolled single-sided copper foil-clad laminate or the rolled copper foil, a semi-cured insulating adhesive layer is formed on the surface of the insulating material side of the single-sided copper-clad laminate or the copper foil. Step of providing and winding on a roll (b) Step of punching a through hole to be a via hole from the side of the copper foil surface with a punching machine while intermittently rewinding the wound roll, and winding on another roll (c1) While rewinding the wound roll, copper foil is continuously laminated on the surface of the adhesive layer of the substrate that has through holes that will be via holes, and the adhesive layer is cured and then cut to a predetermined size. Step (d1) on the surface of the copper foil which is not cut,
A step of forming an etching resist for forming an inner layer wiring pattern and, if necessary, an etching resist also on the opposite surface thereof (e1) a step of etching away the copper foil exposed from the etching resist (f) the above step The step of stacking the wiring-formed board with another board through a prepreg or an adhesive resin layer and pressurizing and heating to stack-integrate (g) at least a via hole of the board A step of plating or printing a conductive paste on the copper foil portion exposed inside the through hole and the through hole to be a via hole.
【請求項3】以下の工程を含むことを特徴とする多層プ
リント配線板の製造法。 (a)ロール状の片面銅箔張積層板またはロール状の銅
箔を巻き戻しながら、その片面銅箔張積層板の絶縁材料
側の表面または銅箔に半硬化状態の絶縁性接着剤層を設
け、ロールに巻き取る工程 (b)巻き取ったロールを間欠的に巻き戻しながら、バ
イアホールとなる貫通穴をパンチングマシンで銅箔面の
側から打ち抜き、別のロールに巻き取る工程 (c)巻き取ったロールを巻き戻しながら、バイアホー
ルとなる貫通穴をあけた基板の接着剤層の面に、銅箔を
連続的に積層し、接着剤層を硬化させた後、 さらに別のロールに巻き取る工程 (d2)巻き取ったロールを間欠的に巻き戻しながら、
内層配線パターンを形成するためのエッチングレジスト
を形成し、また必要に応じてその反対面にもエッチング
レジストを形成する工程 (e2)所定のサイズに切断した後、エッチングレジス
トから露出した銅箔をエッチング除去する工程 (f)前記工程で配線を形成した基板を、プリプレグま
たは接着性の樹脂層を介して、他の基板と重ね、加圧加
熱して積層一体化する工程 (g)積層一体化した基板の、少なくともバイアホール
となる貫通穴の内部及びバイアホールとなる貫通穴内に
露出した銅箔部分に、めっきを行うか、または導電性ペ
ーストを印刷する工程
3. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, comprising the following steps. (A) While unwinding the rolled single-sided copper foil-clad laminate or the rolled copper foil, a semi-cured insulating adhesive layer is formed on the surface of the insulating material side of the single-sided copper-clad laminate or the copper foil. Step of providing and winding on a roll (b) Step of punching a through hole to be a via hole from the side of the copper foil surface with a punching machine while intermittently rewinding the wound roll, and winding on another roll (c) While rewinding the wound roll, copper foil is continuously laminated on the surface of the adhesive layer of the substrate on which the through holes that will be via holes are formed, and the adhesive layer is cured, and then rolled onto another roll. Winding step (d2) While rewinding the wound roll intermittently,
Step of forming an etching resist for forming the inner layer wiring pattern and, if necessary, forming an etching resist also on the opposite surface (e2) After cutting to a predetermined size, etching the copper foil exposed from the etching resist Step of removing (f) Step of stacking the substrate on which the wiring is formed in the above step with another substrate through a prepreg or an adhesive resin layer and heating and pressing to laminate and integrate (g) A step of plating or printing a conductive paste on at least the inside of the through hole to be the via hole and the copper foil portion exposed in the through hole to be the via hole of the substrate
【請求項4】以下の工程を含むことを特徴とする多層プ
リント配線板の製造法。 (a)ロール状の片面銅箔張積層板またはロール状の銅
箔を巻き戻しながら、その片面銅箔張積層板の絶縁材料
側の表面または銅箔に半硬化状態の絶縁性接着剤層を設
け、ロールに巻き取る工程 (b)巻き取ったロールを間欠的に巻き戻しながら、バ
イアホールとなる貫通穴をパンチングマシンで銅箔面の
側から打ち抜き、別のロールに巻き取る工程 (c)巻き取ったロールを巻き戻しながら、バイアホー
ルとなる貫通穴をあけた基板の接着剤層の面に、銅箔を
連続的に積層し、接着剤層を硬化させた後、 さらに別のロールに巻き取る工程 (d3)巻き取ったロールを巻き戻しながら、穴があい
ていない銅箔の面に、内層配線パターンを形成するため
のエッチングレジストを形成し、また必要に応じてその
反対面にもエッチングレジストを形成し、さらに別のロ
ールに巻き取る工程 (e3)巻き取ったロールを巻き戻しながら、エッチン
グレジストから露出した銅箔をエッチング除去した後、
エッチングレジストを剥離し、さらに別のロールに巻き
取る工程 (f3)巻き取ったロールを巻き戻しながら、プリプレ
グまたは接着性の樹脂層を介して、他の基板と重ね、加
圧加熱して積層一体化した後、所定のサイズに切断する
工程 (g)切断した基板の、少なくともバイアホールとなる
貫通穴の内部及びバイアホールとなる貫通穴内に露出し
た銅箔部分に、めっきを行うか、または導電性ペースト
を印刷する工程
4. A method of manufacturing a multilayer printed wiring board, which comprises the following steps. (A) While unwinding the rolled single-sided copper foil-clad laminate or the rolled copper foil, a semi-cured insulating adhesive layer is formed on the surface of the insulating material side of the single-sided copper-clad laminate or the copper foil. Step of providing and winding on a roll (b) Step of punching a through hole to be a via hole from the side of the copper foil surface with a punching machine while intermittently rewinding the wound roll, and winding on another roll (c) While rewinding the wound roll, copper foil is continuously laminated on the surface of the adhesive layer of the substrate on which the through holes that will be via holes are formed, and the adhesive layer is cured, and then rolled onto another roll. Winding step (d3) While rewinding the wound roll, an etching resist for forming an inner layer wiring pattern is formed on the surface of the copper foil having no holes, and on the opposite surface, if necessary. Etching resist Step of forming and winding on another roll (e3) After rewinding the wound roll, after etching away the copper foil exposed from the etching resist,
Step of peeling off the etching resist and winding it on another roll (f3) While rewinding the wound roll, it is laminated with another substrate through a prepreg or an adhesive resin layer and heated under pressure to be laminated and integrated. And then cutting into a predetermined size. (G) At least the inside of the through hole to be the via hole and the copper foil portion exposed in the through hole to be the via hole of the cut substrate are plated or electrically conductive. Of printing a conductive paste
【請求項5】積層一体化後、所望の位置にスルーホール
となる貫通穴をあけ、前工程で設けたバイアホールとな
る貫通穴と共に、めっきを行うか、または導電性ペース
トを印刷することを特徴とする請求項1〜4のうちいず
れかに記載の多層プリント配線板の製造法。
5. After the lamination and integration, a through hole to be a through hole is opened at a desired position, and plating or printing of a conductive paste is performed together with the through hole to be a via hole provided in the previous step. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to any one of claims 1 to 4, which is characterized in that.
【請求項6】半硬化状態の絶縁性接着剤層を一方の表面
に設けた、片面銅箔張積層板、または、銅箔が、0.1
5mm以下の厚さであることを特徴とする請求項1〜5
のうちいずれかに記載の多層プリント配線板の製造法。
6. A one-sided copper foil-clad laminate or a copper foil having a semi-cured insulating adhesive layer on one surface is 0.1
It has a thickness of 5 mm or less.
A method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to any one of 1.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007258697A (en) * 2006-02-27 2007-10-04 Nippon Steel Chem Co Ltd Method of manufacturing multilayer printed wiring board
KR20180017250A (en) * 2016-08-08 2018-02-21 한국과학기술원 Method for Forming Electrical Circuit on Textiles Using B-stage Polymer Adhesive Films with Metal Layer

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