JPH07311117A - 多眼レンズ位置測定装置 - Google Patents
多眼レンズ位置測定装置Info
- Publication number
- JPH07311117A JPH07311117A JP13101594A JP13101594A JPH07311117A JP H07311117 A JPH07311117 A JP H07311117A JP 13101594 A JP13101594 A JP 13101594A JP 13101594 A JP13101594 A JP 13101594A JP H07311117 A JPH07311117 A JP H07311117A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- stage
- light
- detection head
- individual
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Automatic Focus Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 オートフォーカス等で使用される多眼レンズ
を構成する個別レンズ間の相対位置を高精度で測定する
ことのできる多眼レンズの位置検出装置を得ること。 【構成】 1つの部材上に複数個の凸面又は凹面形状が
作り込まれた多眼レンズを構成する個別レンズの相対位
置の測定において、干渉計または光点位置センサよりな
る検出ヘッドと、被測定物を該検出ヘッドの光軸に直交
する平面内で相対的に移動させる高精度ステージと、該
ステージの移動量を測定する測長手段より構成され、該
ステージの位置と該検出ヘッドの出力から前記多眼レン
ズを構成する個別レンズ間相互の相対位置測定を高精度
で行うことを特長とする測定方法及び装置。
を構成する個別レンズ間の相対位置を高精度で測定する
ことのできる多眼レンズの位置検出装置を得ること。 【構成】 1つの部材上に複数個の凸面又は凹面形状が
作り込まれた多眼レンズを構成する個別レンズの相対位
置の測定において、干渉計または光点位置センサよりな
る検出ヘッドと、被測定物を該検出ヘッドの光軸に直交
する平面内で相対的に移動させる高精度ステージと、該
ステージの移動量を測定する測長手段より構成され、該
ステージの位置と該検出ヘッドの出力から前記多眼レン
ズを構成する個別レンズ間相互の相対位置測定を高精度
で行うことを特長とする測定方法及び装置。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はオートフォーカスカメラ
のオートフォーカス(以下AF)センサ部等に用いられ
る多眼レンズを構成する多数の微小レンズ間の相対位置
を、高精度に測定する検査装置に好適な多眼レンズの位
置測定装置に関するものである。
のオートフォーカス(以下AF)センサ部等に用いられ
る多眼レンズを構成する多数の微小レンズ間の相対位置
を、高精度に測定する検査装置に好適な多眼レンズの位
置測定装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】AFセンサの構成で現在最も多用されて
いる手法の一つに、イメージセンサ上に多重結像された
像の位置関係を測定する方法がある。図4はAFセンサ
のピント検出原理を示したものである。同図において
(A)は合焦状態、(B)は前方にピントずれを起こし
た状態、(C)は後方にピントずれを起こした状態を示
す。図4(A)で撮影物体の像は、撮影レンズによって
フィルム面近傍に1次結像される。続いてこの像を形成
する光線は、本発明で検査する対象の多眼レンズによ
り、該多眼レンズを構成するそれぞれのレンズに対応し
て配置されたイメージセンサ上のほぼ中央に2次結像さ
れる。合焦状態でのこれら2次像の位置がAF計測の基
準位置となる。
いる手法の一つに、イメージセンサ上に多重結像された
像の位置関係を測定する方法がある。図4はAFセンサ
のピント検出原理を示したものである。同図において
(A)は合焦状態、(B)は前方にピントずれを起こし
た状態、(C)は後方にピントずれを起こした状態を示
す。図4(A)で撮影物体の像は、撮影レンズによって
フィルム面近傍に1次結像される。続いてこの像を形成
する光線は、本発明で検査する対象の多眼レンズによ
り、該多眼レンズを構成するそれぞれのレンズに対応し
て配置されたイメージセンサ上のほぼ中央に2次結像さ
れる。合焦状態でのこれら2次像の位置がAF計測の基
準位置となる。
【0003】図4(B)のように前ピン状態となり撮影
対象物がフィルム面より前に1次結像されると、多眼レ
ンズで結像される2次像は、センサ上で光軸方向に移動
する。逆に図4(C)のように後ピン状態になると、多
眼レンズによる2次像はセンサ上で光軸から離れる方向
に移動する。フォーカス状態に応じて生じる基準位置か
らのずれは合焦状態からのずれとして検知され、不図示
の演算系により実際の装置上での駆動値が算出され、該
算出値に基づいてピント合わせ動作が行われる。
対象物がフィルム面より前に1次結像されると、多眼レ
ンズで結像される2次像は、センサ上で光軸方向に移動
する。逆に図4(C)のように後ピン状態になると、多
眼レンズによる2次像はセンサ上で光軸から離れる方向
に移動する。フォーカス状態に応じて生じる基準位置か
らのずれは合焦状態からのずれとして検知され、不図示
の演算系により実際の装置上での駆動値が算出され、該
算出値に基づいてピント合わせ動作が行われる。
【0004】従ってAFでは多眼レンズが重要な役割を
果す。実際のカメラでは図5に示すように多数の物体位
置を測定すべく、1枚のプレート上に多数のレンズ(多
眼レンズ)が配置したものが用いられる。AF精度向上
の重要なポイントは多眼レンズを構成する多数のレンズ
(以下多数のレンズの1つ1つを個別レンズと称する)
間の相対精度で、近年の小型、高密度なカメラでは1μ
mより高い精度が要求されている。従来このような多眼
レンズ製作における個別レンズ間の相対位置精度は、射
出成型の型を加工する精密工作機械の加工精度に依存し
ている。
果す。実際のカメラでは図5に示すように多数の物体位
置を測定すべく、1枚のプレート上に多数のレンズ(多
眼レンズ)が配置したものが用いられる。AF精度向上
の重要なポイントは多眼レンズを構成する多数のレンズ
(以下多数のレンズの1つ1つを個別レンズと称する)
間の相対精度で、近年の小型、高密度なカメラでは1μ
mより高い精度が要求されている。従来このような多眼
レンズ製作における個別レンズ間の相対位置精度は、射
出成型の型を加工する精密工作機械の加工精度に依存し
ている。
【0005】
【発明が解決しようとしている課題】しかしながらレン
ズのような球面の頂点位置の高精度測定は一般には難し
く、型あるいは該型による成型品の精度の評価を行うこ
とが困難であった。例えば触針式の形状測定器による測
定でレンズの頂点を針で捕らえることは難しく、また、
工具顕微鏡で多眼レンズを観察し、各個別レンズの平面
との交線を検出してレンズ頂点の位置を推定する方法
も、観察光学系の空間分解能から1μmより高い精度で
の検出は困難であった。
ズのような球面の頂点位置の高精度測定は一般には難し
く、型あるいは該型による成型品の精度の評価を行うこ
とが困難であった。例えば触針式の形状測定器による測
定でレンズの頂点を針で捕らえることは難しく、また、
工具顕微鏡で多眼レンズを観察し、各個別レンズの平面
との交線を検出してレンズ頂点の位置を推定する方法
も、観察光学系の空間分解能から1μmより高い精度で
の検出は困難であった。
【0006】本発明は多眼レンズを構成する各々の微小
レンズ間の相対位置を高精度に測定することのできる多
眼レンズの位置測定装置の提供を目的とする。
レンズ間の相対位置を高精度に測定することのできる多
眼レンズの位置測定装置の提供を目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明によれば1つの部
材上に複数個の凸面又は凹面形状が作り込まれた被検物
である多眼レンズ、あるいは該多眼レンズを成型する型
の精度を測定する装置を、(1ー1)被検物の個別レン
ズまたは個別レンズの型の曲率と一致する光波を被検物
に照射し、反射して戻ってきた光の波面の傾斜量を干渉
計もしくは光点位置センサにより検出する光プローブ手
段(光検出ヘッド)と、(1ー2)被検物と前記プロー
ブ手段の光軸との相対的な位置を変えるために、該光軸
に直交する平面内で精密に移動させるステージ手段と、
(1ー3)前記ステージ手段の移動量を正確に測定する
測長手段、より構成し、前記多眼レンズを構成する各個
別レンズを前記ステージ手段により、次々と前記プロー
ブ手段の測定位置へ送り、前記測長手段により測定され
たステージ位置データに、前記プローブ手段により測定
された波面傾斜量を光軸に直交する方向の変位量に換算
したデータを加えることにより、前記多眼レンズを構成
する各個別微小レンズ間の相対位置を高精度に測定する
ものである。
材上に複数個の凸面又は凹面形状が作り込まれた被検物
である多眼レンズ、あるいは該多眼レンズを成型する型
の精度を測定する装置を、(1ー1)被検物の個別レン
ズまたは個別レンズの型の曲率と一致する光波を被検物
に照射し、反射して戻ってきた光の波面の傾斜量を干渉
計もしくは光点位置センサにより検出する光プローブ手
段(光検出ヘッド)と、(1ー2)被検物と前記プロー
ブ手段の光軸との相対的な位置を変えるために、該光軸
に直交する平面内で精密に移動させるステージ手段と、
(1ー3)前記ステージ手段の移動量を正確に測定する
測長手段、より構成し、前記多眼レンズを構成する各個
別レンズを前記ステージ手段により、次々と前記プロー
ブ手段の測定位置へ送り、前記測長手段により測定され
たステージ位置データに、前記プローブ手段により測定
された波面傾斜量を光軸に直交する方向の変位量に換算
したデータを加えることにより、前記多眼レンズを構成
する各個別微小レンズ間の相対位置を高精度に測定する
ものである。
【0008】
【実施例】図1は本発明の実施例1の要部概略図であ
る。同図において1は光源であるレーザー、2はレーザ
ービーム径を拡大するビームエキスパンダ、3は光の偏
光方位により透過と反射を選択する偏光ビームスプリッ
タ、4は直線偏光を円偏光に変換するλ/4板、5は光学
素子を光軸方向に微小移動させるピエゾ素子、6は片面
が無コートで高精度に研磨された参照平面板、7は光束
を集光するコリメータレンズ、8は多眼レンズまたは型
などの被検物、9はCCDカメラ11への入射光量を調
整する偏光板、10は被検物をCCDカメラ11の撮像
面上に所定の大きさで結像させる結像レンズ、11は干
渉像を撮影するCCDカメラ、12は被検物を光軸に直
交する平面内で自由に移動可能とさせるステージ装置、
13はステージ装置の移動量を測定するレーザー測長装
置、14はシステム全体を制御し、測定データを処理す
るコンピュータである。
る。同図において1は光源であるレーザー、2はレーザ
ービーム径を拡大するビームエキスパンダ、3は光の偏
光方位により透過と反射を選択する偏光ビームスプリッ
タ、4は直線偏光を円偏光に変換するλ/4板、5は光学
素子を光軸方向に微小移動させるピエゾ素子、6は片面
が無コートで高精度に研磨された参照平面板、7は光束
を集光するコリメータレンズ、8は多眼レンズまたは型
などの被検物、9はCCDカメラ11への入射光量を調
整する偏光板、10は被検物をCCDカメラ11の撮像
面上に所定の大きさで結像させる結像レンズ、11は干
渉像を撮影するCCDカメラ、12は被検物を光軸に直
交する平面内で自由に移動可能とさせるステージ装置、
13はステージ装置の移動量を測定するレーザー測長装
置、14はシステム全体を制御し、測定データを処理す
るコンピュータである。
【0009】上記構成において、光源1から射出した紙
面に垂直な偏光方向のレーザービームは、ビームエキス
パンダ2により光束径を拡大されて平行光となり、偏光
ビームスプリッタ3に入射後、下方へ反射される。反射
された光はλ/4板4の作用により円偏光の状態となり、
参照平面板6に到達する。参照平面板6は片面が反射防
止コート、もう一方の面が無コートで、高精度に平面研
磨された透明なガラス板である。
面に垂直な偏光方向のレーザービームは、ビームエキス
パンダ2により光束径を拡大されて平行光となり、偏光
ビームスプリッタ3に入射後、下方へ反射される。反射
された光はλ/4板4の作用により円偏光の状態となり、
参照平面板6に到達する。参照平面板6は片面が反射防
止コート、もう一方の面が無コートで、高精度に平面研
磨された透明なガラス板である。
【0010】参照平面板6の無コートの面は参照面とし
て作用する。該参照面は通常3〜5%程度の反射率を有
するため、入射した光の一部はこの面で反射し、参照光
としてλ/4板4に戻る。
て作用する。該参照面は通常3〜5%程度の反射率を有
するため、入射した光の一部はこの面で反射し、参照光
としてλ/4板4に戻る。
【0011】参照平面板6を透過した残りの光はコリメ
ータレンズ7により集光されて被検物8を照射する。コ
リメータンズ7によって作られる光の波面形状が被検物
8の形状がほぼ一致するように配置すれば、入射した光
は被検物8の表面で正反射されて測定光となり、同じ経
路を戻ってλ/4板4へ戻る。
ータレンズ7により集光されて被検物8を照射する。コ
リメータンズ7によって作られる光の波面形状が被検物
8の形状がほぼ一致するように配置すれば、入射した光
は被検物8の表面で正反射されて測定光となり、同じ経
路を戻ってλ/4板4へ戻る。
【0012】測定光と参照光はこのようにして重なり合
いフィゾー型の干渉計を構成する。被検物8が図1の凸
の多眼レンズの時は収束光束中に被検物を配置すれば良
いが、型のような凹面被検物の場合には、コリメータレ
ンズ7と被検物8の光軸方向のセッティングを変更し、
コリメータレンズにより一旦焦点を結ばせた後、発散す
る光を被検物に与えれば良い。
いフィゾー型の干渉計を構成する。被検物8が図1の凸
の多眼レンズの時は収束光束中に被検物を配置すれば良
いが、型のような凹面被検物の場合には、コリメータレ
ンズ7と被検物8の光軸方向のセッティングを変更し、
コリメータレンズにより一旦焦点を結ばせた後、発散す
る光を被検物に与えれば良い。
【0013】上述した参照光と測定光は再びλ/4板4を
通過することにより、今度は紙面に水平方向の直線偏光
となって偏光ビームスプリッタ3を透過し、偏光板9に
入射する。偏光板9は定まった方位の光の成分しか通さ
ないため、光軸回りに回転させると、偏光ビームスプリ
ッタ3を透過してきた直線偏光光の強度を任意に調整す
ることができる。
通過することにより、今度は紙面に水平方向の直線偏光
となって偏光ビームスプリッタ3を透過し、偏光板9に
入射する。偏光板9は定まった方位の光の成分しか通さ
ないため、光軸回りに回転させると、偏光ビームスプリ
ッタ3を透過してきた直線偏光光の強度を任意に調整す
ることができる。
【0014】強度を調整された光は結像レンズ10を介
してCCDカメラ11上に結像する。CCDカメラ11
上で観察される像は参照光と測定光が干渉した所謂干渉
縞パターンで、参照光と測定光の波面形状の差が光源波
長の1/2 をピッチとする等高線として現われる。測定光
の強度は成型レンズの凸面では3〜5%の反射率、凹面
の型では反射率が50%と大きく変化する。
してCCDカメラ11上に結像する。CCDカメラ11
上で観察される像は参照光と測定光が干渉した所謂干渉
縞パターンで、参照光と測定光の波面形状の差が光源波
長の1/2 をピッチとする等高線として現われる。測定光
の強度は成型レンズの凸面では3〜5%の反射率、凹面
の型では反射率が50%と大きく変化する。
【0015】型のように反射率が高い被検物では、参照
面との反射率の差が大きく干渉縞のコントラストが低下
するため、参照面6から被検物8までの光路中に、透過
波面の良好なNDフィルターなどを挿入すればよい。こ
のように簡単なセッティングの変更で、測定対象が変わ
っても容易に高精度な測定を行うことができる。
面との反射率の差が大きく干渉縞のコントラストが低下
するため、参照面6から被検物8までの光路中に、透過
波面の良好なNDフィルターなどを挿入すればよい。こ
のように簡単なセッティングの変更で、測定対象が変わ
っても容易に高精度な測定を行うことができる。
【0016】この状態で参照平面板6をピエゾ素子で光
軸に平行に動かしながら、一定間隔で干渉縞像を画像メ
モリに蓄えて行き、後でピクセル毎に演算を行い、初期
位相分布を高精度に算出する。この方法はフリンジスキ
ャン法として J.H.Brunninget al: Applied Optics,13,
(1974),p.2693などの文献で広く知られている。
軸に平行に動かしながら、一定間隔で干渉縞像を画像メ
モリに蓄えて行き、後でピクセル毎に演算を行い、初期
位相分布を高精度に算出する。この方法はフリンジスキ
ャン法として J.H.Brunninget al: Applied Optics,13,
(1974),p.2693などの文献で広く知られている。
【0017】本発明も同様の手法でコンピュータ14を
用いて干渉縞データを解析し、初期位相の分布を得るこ
とができる。干渉計の縞の位相検出法としてはフリンジ
スキャン法だけでなく、ヘテロダイン法、フーリエ変換
法、空間キャリア法、画像処理による縞解析法など他の
サブフリンジ法も適用可能である。また、スキャンを行
う参照面は6のような参照平面を用いる代わりに、コリ
メータレンズ7の最終面を参照面として波面の曲率に合
わせた、いわゆるTS( Transmission Sphere) レンズ
を用いても良い。
用いて干渉縞データを解析し、初期位相の分布を得るこ
とができる。干渉計の縞の位相検出法としてはフリンジ
スキャン法だけでなく、ヘテロダイン法、フーリエ変換
法、空間キャリア法、画像処理による縞解析法など他の
サブフリンジ法も適用可能である。また、スキャンを行
う参照面は6のような参照平面を用いる代わりに、コリ
メータレンズ7の最終面を参照面として波面の曲率に合
わせた、いわゆるTS( Transmission Sphere) レンズ
を用いても良い。
【0018】上記の方法により得られた位相分布Φ(x,
y) は次のような低次の式の一次結合に最小自乗フィッ
トされる。
y) は次のような低次の式の一次結合に最小自乗フィッ
トされる。
【0019】 Φ(x,y) = a0 +a1x +a2y +a3( x2+y2) (1) 求まった係数はそれぞれ a0 が全体のオフセット( pist
on )、a1が x方向の傾斜( tilt-x )、 a2 が y方向の傾
斜( tilt-y )、a3が光軸方向のミスアライメント( defo
cus ) と機械的な量に独立に対応づけることができる。
on )、a1が x方向の傾斜( tilt-x )、 a2 が y方向の傾
斜( tilt-y )、a3が光軸方向のミスアライメント( defo
cus ) と機械的な量に独立に対応づけることができる。
【0020】ここで図2のようにコリメータレンズ7の
光軸7aと被検物8上の個別レンズ8aの光軸が水平方
向にΔx だけずれている状態を考える。被検物体上にx、
y 軸を取り、コリメータレンズ7の光軸をz 軸として、
簡単のためx-z 断面内を考える。被検物上の個別レンズ
の曲率半径をR とすると、レンズ形状は x2+y2=R2 (2) と表される。
光軸7aと被検物8上の個別レンズ8aの光軸が水平方
向にΔx だけずれている状態を考える。被検物体上にx、
y 軸を取り、コリメータレンズ7の光軸をz 軸として、
簡単のためx-z 断面内を考える。被検物上の個別レンズ
の曲率半径をR とすると、レンズ形状は x2+y2=R2 (2) と表される。
【0021】x ずれたところの面傾斜量は、 dz/dx = x/( R2 −x2)1/2≒ x/R (3) となり、曲率半径R に対してΔx が微小とみなされる範
囲においてはあたかも面が θ/2=Δx/R (4) だけ傾斜したことと等価となる。光は面傾斜量の2倍の
角度で反射されるため、図2に示すように、入射光線に
対しθの角度で反射される。
囲においてはあたかも面が θ/2=Δx/R (4) だけ傾斜したことと等価となる。光は面傾斜量の2倍の
角度で反射されるため、図2に示すように、入射光線に
対しθの角度で反射される。
【0022】レンズ上での測定有効径をD とすると、観
察されるx 方向の傾斜による干渉縞の本数N は、λを光
源の波長として N = D・(θ/2)/ (λ/2) (5) 従って観察される干渉縞の位相分布の傾斜成分がx、y 方
向の位置ずれのみに起因すると仮定すると、(4)、(5) 式
より、 Δx = (N/D)・(λ/2)・R (6) として、被検物を構成する個別レンズ8aとコリメータ
レンズ7の光軸との位置ずれ量が逆算できる。代表的な
例として R=2mm 、 D=0.5mm 、λ=0.6 μmとする
と、干渉縞1本はΔx =1.3 μmの位置ずれ量に相当す
る。
察されるx 方向の傾斜による干渉縞の本数N は、λを光
源の波長として N = D・(θ/2)/ (λ/2) (5) 従って観察される干渉縞の位相分布の傾斜成分がx、y 方
向の位置ずれのみに起因すると仮定すると、(4)、(5) 式
より、 Δx = (N/D)・(λ/2)・R (6) として、被検物を構成する個別レンズ8aとコリメータ
レンズ7の光軸との位置ずれ量が逆算できる。代表的な
例として R=2mm 、 D=0.5mm 、λ=0.6 μmとする
と、干渉縞1本はΔx =1.3 μmの位置ずれ量に相当す
る。
【0023】先述のフリンジスキャン法などの位相計測
法を干渉縞 0.01 本程度の検出感度とすると、0.01μm
オーダーで個別レンズの位置ずれ量が検出できる。
法を干渉縞 0.01 本程度の検出感度とすると、0.01μm
オーダーで個別レンズの位置ずれ量が検出できる。
【0024】このような検出ヘッドを設けると同時に、
被検対象である多眼レンズの各個別微小レンズを高精度
xyステージ12で次々と測定光軸へと送り込み、個別
レンズの位置ずれ検出量とレーザー測長機13によるス
テージの移動量を加え合わせると、目的とする多眼レン
ズを構成する個別レンズ間相互の相対位置が精密に測定
できる。xyステージを自動ステージとし、予め入力し
ておいた多眼レンズの設計データに基づいて、初期位置
から自動で次の目標個別レンズに送って行くという動作
を繰り返して測定を行えば、個別レンズ間の相対位置精
度は全自動で測定できる。
被検対象である多眼レンズの各個別微小レンズを高精度
xyステージ12で次々と測定光軸へと送り込み、個別
レンズの位置ずれ検出量とレーザー測長機13によるス
テージの移動量を加え合わせると、目的とする多眼レン
ズを構成する個別レンズ間相互の相対位置が精密に測定
できる。xyステージを自動ステージとし、予め入力し
ておいた多眼レンズの設計データに基づいて、初期位置
から自動で次の目標個別レンズに送って行くという動作
を繰り返して測定を行えば、個別レンズ間の相対位置精
度は全自動で測定できる。
【0025】上記の測定における誤差要因に、xyステ
ージ12の移動に伴う姿勢誤差がある。先に述べたよう
に本検出法では干渉縞のチルト成分が被検物のxy方向
の位置ずれのみに起因して発生することを仮定している
ため、ピッチングあるいはローリングといったステージ
の姿勢誤差が大きいと、その誤差が測定誤差につながる
からである。
ージ12の移動に伴う姿勢誤差がある。先に述べたよう
に本検出法では干渉縞のチルト成分が被検物のxy方向
の位置ずれのみに起因して発生することを仮定している
ため、ピッチングあるいはローリングといったステージ
の姿勢誤差が大きいと、その誤差が測定誤差につながる
からである。
【0026】xyステージ12に要求される姿勢誤差に
対する要求精度を検討すると、(4)式よりΔx = 0.01
μmに相当する面の傾斜量は R= 2 mm の場合 5X 10-6
rad、即ち約1秒である。1秒程度の値は近年のステー
ジ技術で十分達成可能である。ステージ12の位置測定
にはレーザー測長機以外に、リニアスケール、差動変圧
器など他の移動量測定手段を用いることができる。
対する要求精度を検討すると、(4)式よりΔx = 0.01
μmに相当する面の傾斜量は R= 2 mm の場合 5X 10-6
rad、即ち約1秒である。1秒程度の値は近年のステー
ジ技術で十分達成可能である。ステージ12の位置測定
にはレーザー測長機以外に、リニアスケール、差動変圧
器など他の移動量測定手段を用いることができる。
【0027】しかしながらこれらの代替手段はアッベ誤
差、ヨーイング誤差が測定誤差として加わるため、レー
ザー測長機の域まで到達せず精度的に不利であり、採用
する場合は測定精度の要求も考慮する必要がある。
差、ヨーイング誤差が測定誤差として加わるため、レー
ザー測長機の域まで到達せず精度的に不利であり、採用
する場合は測定精度の要求も考慮する必要がある。
【0028】以上が本発明の基本的な構成である。本実
施例は測定プローブ手段として干渉計を用いているた
め、干渉計を応用できる項目も測定が可能である。即
ち、個別レンズの面精度は勿論であるが、zステージと
zステージの移動量読み取り手段を付加すれば、正反射
位置からキャッツアイ反射位置までの移動距離測定で個
別レンズの曲率Rも測定可能である。干渉計もフィゾー
型だけでなく、トワイマングリーン、シアリング、ゾー
ンプレート、CGH干渉計等、物体形状を検出可能なも
のを適用できる。
施例は測定プローブ手段として干渉計を用いているた
め、干渉計を応用できる項目も測定が可能である。即
ち、個別レンズの面精度は勿論であるが、zステージと
zステージの移動量読み取り手段を付加すれば、正反射
位置からキャッツアイ反射位置までの移動距離測定で個
別レンズの曲率Rも測定可能である。干渉計もフィゾー
型だけでなく、トワイマングリーン、シアリング、ゾー
ンプレート、CGH干渉計等、物体形状を検出可能なも
のを適用できる。
【0029】またレーザ測長機は参照点を任意移動する
ことができるが、本実施例でコリメータレンズ7の側面
などに参照ミラーを貼り付けて参照点とすれば、デッド
パスエラー、プローブヘッドの振動といった問題に対し
有利である。
ことができるが、本実施例でコリメータレンズ7の側面
などに参照ミラーを貼り付けて参照点とすれば、デッド
パスエラー、プローブヘッドの振動といった問題に対し
有利である。
【0030】図3は本発明の実施例2の要部概略図であ
る。本実施例はレンズの位置ずれ検出プローブとして光
点位置センサ(PSD)を応用した例である。図中、実
施例1と同じ部材については同じ符号が付けられてい
る。
る。本実施例はレンズの位置ずれ検出プローブとして光
点位置センサ(PSD)を応用した例である。図中、実
施例1と同じ部材については同じ符号が付けられてい
る。
【0031】図3において1は光源であるレーザー、2
はレーザービーム径を拡大するビームエキスパンダ、3
は光の偏光方位により透過と反射を選択する偏光ビーム
スプリッタ、4は直線偏光を円偏光に変換する機能を持
つλ/4板、7は光束を集光するコリメータレンズ、8は
多眼レンズまたは型などの被検物、12は被検物を光軸
に直交する平面内で自由に移動させるステージ装置、1
3はステージ装置の移動量を測定するレーザー測長装
置、14はシステム全体を制御し、測定データを処理す
るコンピュータ、15は広がったレーザービーム径を縮
小するビームリデューサ、16は光点の重心位置を2次
元面内で検出する2次元PSDである。
はレーザービーム径を拡大するビームエキスパンダ、3
は光の偏光方位により透過と反射を選択する偏光ビーム
スプリッタ、4は直線偏光を円偏光に変換する機能を持
つλ/4板、7は光束を集光するコリメータレンズ、8は
多眼レンズまたは型などの被検物、12は被検物を光軸
に直交する平面内で自由に移動させるステージ装置、1
3はステージ装置の移動量を測定するレーザー測長装
置、14はシステム全体を制御し、測定データを処理す
るコンピュータ、15は広がったレーザービーム径を縮
小するビームリデューサ、16は光点の重心位置を2次
元面内で検出する2次元PSDである。
【0032】上記構成において、光源1から射出した紙
面に垂直な偏光方向のレーザービームは、ビームエキス
パンダ2により光束径を拡大されて平行光となり、偏光
ビームスプリッタ3に入射後、下方へ反射される。
面に垂直な偏光方向のレーザービームは、ビームエキス
パンダ2により光束径を拡大されて平行光となり、偏光
ビームスプリッタ3に入射後、下方へ反射される。
【0033】反射された光はλ/4板4の作用により円偏
光状態となり、コリメータレンズ7により集光されて被
検物8を照射する。コリメータンズ7によって作られる
光の波面形状を被検物の形状とほぼ一致するように配置
すれば、入射した光は被検物表面で正反射されて測定光
となり、同じ経路を戻ってλ/4板4へ戻る。
光状態となり、コリメータレンズ7により集光されて被
検物8を照射する。コリメータンズ7によって作られる
光の波面形状を被検物の形状とほぼ一致するように配置
すれば、入射した光は被検物表面で正反射されて測定光
となり、同じ経路を戻ってλ/4板4へ戻る。
【0034】被検物が図3の凸の多眼レンズの時は収束
光束中に被検物を配置すれば良いが、型のような凹面被
検物ではコリメータレンズ7と被検物8の光軸方向のセ
ッティングを変更し、コリメータレンズにより一旦焦点
を結ばせた後、発散する光を被検物に与えれば良い。
光束中に被検物を配置すれば良いが、型のような凹面被
検物ではコリメータレンズ7と被検物8の光軸方向のセ
ッティングを変更し、コリメータレンズにより一旦焦点
を結ばせた後、発散する光を被検物に与えれば良い。
【0035】上述した測定光は再びλ/4板4を通過し
て、今度は紙面に水平方向の直線偏光となり偏光ビーム
スプリッタ3を透過する。光は次いでビームリデューサ
15に入射してビーム径を縮小され、距離L離れて配置
された2次元PSD16に入射して、2次元PSD16
上での入射位置が計測される。光点位置検出センサとし
ては2次元PSDのほかに4分割フォトセンサ、CCD
などでもよい。
て、今度は紙面に水平方向の直線偏光となり偏光ビーム
スプリッタ3を透過する。光は次いでビームリデューサ
15に入射してビーム径を縮小され、距離L離れて配置
された2次元PSD16に入射して、2次元PSD16
上での入射位置が計測される。光点位置検出センサとし
ては2次元PSDのほかに4分割フォトセンサ、CCD
などでもよい。
【0036】ここで図2のようにコリメータレンズ7の
光軸と被検物8上の個別レンズの光軸が水平方向にΔx
だけずれている状態を考える。被検物体上にx、y 軸を取
り、コリメータレンズ7の光軸をz 軸として、x-z 断面
を考える。被検物上のレンズの曲率半径をR とすると、
実施例1で説明したとうり、垂直に入射した光線は光軸
に対しθ= 2・ Δx/R の角度で反射されてコリメータレ
ンズ7に戻り、再び平行ビームとなる。
光軸と被検物8上の個別レンズの光軸が水平方向にΔx
だけずれている状態を考える。被検物体上にx、y 軸を取
り、コリメータレンズ7の光軸をz 軸として、x-z 断面
を考える。被検物上のレンズの曲率半径をR とすると、
実施例1で説明したとうり、垂直に入射した光線は光軸
に対しθ= 2・ Δx/R の角度で反射されてコリメータレ
ンズ7に戻り、再び平行ビームとなる。
【0037】コリメータレンズ7の焦点距離を fとする
と、近軸理論よりビームの進行方向の変化θ’は θ’=θ−( f−R )・θ/f = 2・ Δx/f (7) である。
と、近軸理論よりビームの進行方向の変化θ’は θ’=θ−( f−R )・θ/f = 2・ Δx/f (7) である。
【0038】このビームはビームリデューサ15に入射
すると、アフォーカル光学系の角倍率公式により射出角
が光束径の縮小率の逆数倍の角度に変換される。ビーム
リデューサ15の縮小率を 1/kとすると、ビームは θ”= kθ' (8) なる角度で射出し、距離Lだけ離れた2次元PSD上で
の光点移動量Δp は、 Δp =Lθ”= 2・ Δx・k・L/f (9) と表される。
すると、アフォーカル光学系の角倍率公式により射出角
が光束径の縮小率の逆数倍の角度に変換される。ビーム
リデューサ15の縮小率を 1/kとすると、ビームは θ”= kθ' (8) なる角度で射出し、距離Lだけ離れた2次元PSD上で
の光点移動量Δp は、 Δp =Lθ”= 2・ Δx・k・L/f (9) と表される。
【0039】(9) 式よりずれ量Δx は、 Δx =Δp・f/( 2・k・L ) (10) と計算され、個別レンズのコリメータレンズ7の光軸に
対する位置ずれ量が検出される。
対する位置ずれ量が検出される。
【0040】代表的な数値例として f= 50mm 、 k=1
0、L=500mm とすると、Δp = 1mmに対してΔx = 5
μm というずれ量が計算される。Δp の最小分解能には
2次元PSDの一般的分解能である 10 μm が対応する
ことから、上記数値例の構成では個別レンズの位置ずれ
量が 0.05 μm の分解能で検出されている。
0、L=500mm とすると、Δp = 1mmに対してΔx = 5
μm というずれ量が計算される。Δp の最小分解能には
2次元PSDの一般的分解能である 10 μm が対応する
ことから、上記数値例の構成では個別レンズの位置ずれ
量が 0.05 μm の分解能で検出されている。
【0041】このような検出ヘッドを設けると同時に、
被検物を高精度xyステージ12で次々と測定光軸へと
送り込み、個別レンズの位置ずれ検出量とレーザー測長
機13によるステージの移動量を加え合わせると、目的
とする個別レンズ間相互の相対位置が精密に測定でき
る。xyステージを自動ステージとし、予め入力してお
いた多眼レンズの設計データに基づいて、初期位置から
自動で次の目標となる個別レンズに送って行くという動
作を繰り返して測定を行えば、個別レンズ間の相対位置
精度は全自動で測定できる。
被検物を高精度xyステージ12で次々と測定光軸へと
送り込み、個別レンズの位置ずれ検出量とレーザー測長
機13によるステージの移動量を加え合わせると、目的
とする個別レンズ間相互の相対位置が精密に測定でき
る。xyステージを自動ステージとし、予め入力してお
いた多眼レンズの設計データに基づいて、初期位置から
自動で次の目標となる個別レンズに送って行くという動
作を繰り返して測定を行えば、個別レンズ間の相対位置
精度は全自動で測定できる。
【0042】ステージ12の位置測定に関してはレーザ
ー測長機以外にも、リニアスケール、差動変圧器など他
の移動量測定手段を用いることができる。しかしながら
これらの代替手段はアッベ誤差、ヨーイング誤差が測定
誤差に加わるためレーザー測長機の域までは到達せず、
精度的に不利であり、採用は測定精度との兼ね合いで決
定される。レーザ測長機は参照点を任意移動することが
できるが、本実施例ではコリメータレンズ7の側面など
に参照ミラーを貼り付けて参照点とすれば、デッドパス
エラー、プローブヘッドの振動といった問題に対し有利
である。
ー測長機以外にも、リニアスケール、差動変圧器など他
の移動量測定手段を用いることができる。しかしながら
これらの代替手段はアッベ誤差、ヨーイング誤差が測定
誤差に加わるためレーザー測長機の域までは到達せず、
精度的に不利であり、採用は測定精度との兼ね合いで決
定される。レーザ測長機は参照点を任意移動することが
できるが、本実施例ではコリメータレンズ7の側面など
に参照ミラーを貼り付けて参照点とすれば、デッドパス
エラー、プローブヘッドの振動といった問題に対し有利
である。
【0043】また実施例2の構成は干渉測定ではないた
め、光源は可干渉性の高いレーザーである必要はなく、
ハロゲンランプ等に置き換えることができる。この場合
には光源に続いてビームエキスパンダの代わりにコリメ
ータレンズを配置し、直線偏光にするために偏光板が挿
入される。
め、光源は可干渉性の高いレーザーである必要はなく、
ハロゲンランプ等に置き換えることができる。この場合
には光源に続いてビームエキスパンダの代わりにコリメ
ータレンズを配置し、直線偏光にするために偏光板が挿
入される。
【0044】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では1つの
部材上に複数個の凸面又は凹面形状が作り込まれた多眼
レンズ、あるいは該多眼レンズの型を構成する個別のレ
ンズの相対位置の測定装置を、干渉計または光点位置セ
ンサ等の検出ヘッドと、被測定物である多眼レンズを該
検出ヘッドの光軸に直交する平面内で相対的に移動させ
る高精度ステージと、該ステージの移動量を測定する測
長手段から構成し、該ステージの位置と該検出ヘッドの
出力の値を演算することにより、前記相対位置測定を高
精度で行うことを可能とした。
部材上に複数個の凸面又は凹面形状が作り込まれた多眼
レンズ、あるいは該多眼レンズの型を構成する個別のレ
ンズの相対位置の測定装置を、干渉計または光点位置セ
ンサ等の検出ヘッドと、被測定物である多眼レンズを該
検出ヘッドの光軸に直交する平面内で相対的に移動させ
る高精度ステージと、該ステージの移動量を測定する測
長手段から構成し、該ステージの位置と該検出ヘッドの
出力の値を演算することにより、前記相対位置測定を高
精度で行うことを可能とした。
【図1】 本発明の実施例1を示す図
【図2】 測定ヘッドと被測定物の位置関係から生じる
光路関係を示す図
光路関係を示す図
【図3】 本発明の実施例2を示す図
【図4】 本発明で測定対象とするAF多眼レンズの作
用を示す図
用を示す図
【図5】 本発明で測定対象とするAF多眼レンズの形
状を示す図
状を示す図
1 レーザー発振器 2 ビームエキスパンダ 3 偏光ビームスプリッタ 4 λ/4板 5 ピエゾ素子 6 参照平面板 7 コリメータレンズ 8 被検物 9 偏光板 10 結像レンズ 11 CCDカメラ 12 xyステージ 13 レーザー測長器 14 コンピュータ 15 ビームリデューサ 16 2次元PSD
Claims (3)
- 【請求項1】 1つの部材上に複数個の凸面又は凹面形
状が作り込まれた多眼レンズ、あるいは該多眼レンズの
型を構成する個別レンズの相対位置の測定を行う装置に
おいて、該装置は該装置の基準に対する前記個別レンズ
のずれを検出する検出ヘッドと、前記被測定物を該検出
ヘッドの光軸に直交する平面内で相対的に移動させるス
テージと、該ステージの移動量を測定する測長手段を有
し、該ステージの位置と該検出ヘッドの出力の値を演算
することにより、前記個別レンズの相対位置測定を行う
ことを特徴とする多眼レンズの位置測定装置。 - 【請求項2】 該検出ヘッドが干渉計であることを特徴
とする請求項1の多眼レンズの位置測定装置。 - 【請求項3】 該検出ヘッドが光点位置検出センサを有
することを特徴とする請求項1の多眼レンズの位置測定
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13101594A JPH07311117A (ja) | 1994-05-20 | 1994-05-20 | 多眼レンズ位置測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13101594A JPH07311117A (ja) | 1994-05-20 | 1994-05-20 | 多眼レンズ位置測定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07311117A true JPH07311117A (ja) | 1995-11-28 |
Family
ID=15048000
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13101594A Pending JPH07311117A (ja) | 1994-05-20 | 1994-05-20 | 多眼レンズ位置測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07311117A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001074604A (ja) * | 1999-08-04 | 2001-03-23 | Jds Uniphase Inc | レンズ特性の測定方法およびその光学システム |
JP2005043353A (ja) * | 2003-07-05 | 2005-02-17 | Carl Zeiss Smt Ag | 偏光固有調査方法、光学的結像システムおよび校正方法 |
JP2007279255A (ja) * | 2006-04-04 | 2007-10-25 | Olympus Corp | 光学素子および光学素子の測定方法 |
JP2014508321A (ja) * | 2011-02-08 | 2014-04-03 | ライカ マイクロシステムス ツェーエムエス ゲーエムベーハー | オートフォーカス装置を有する顕微鏡及び顕微鏡でのオートフォーカス方法 |
KR101449500B1 (ko) * | 2013-03-07 | 2014-10-13 | 자화전자(주) | 휴대 단말기의 카메라 렌즈 모듈 구동 장치 |
-
1994
- 1994-05-20 JP JP13101594A patent/JPH07311117A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001074604A (ja) * | 1999-08-04 | 2001-03-23 | Jds Uniphase Inc | レンズ特性の測定方法およびその光学システム |
JP2005043353A (ja) * | 2003-07-05 | 2005-02-17 | Carl Zeiss Smt Ag | 偏光固有調査方法、光学的結像システムおよび校正方法 |
JP2007279255A (ja) * | 2006-04-04 | 2007-10-25 | Olympus Corp | 光学素子および光学素子の測定方法 |
JP2014508321A (ja) * | 2011-02-08 | 2014-04-03 | ライカ マイクロシステムス ツェーエムエス ゲーエムベーハー | オートフォーカス装置を有する顕微鏡及び顕微鏡でのオートフォーカス方法 |
KR101449500B1 (ko) * | 2013-03-07 | 2014-10-13 | 자화전자(주) | 휴대 단말기의 카메라 렌즈 모듈 구동 장치 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10245683B2 (en) | Apparatus and method for beam diagnosis on laser processing optics | |
KR100951221B1 (ko) | 렌즈에 있어서의 표리면의 광축 편심량의 측정 방법 | |
US6771375B2 (en) | Apparatus and method for measuring aspherical optical surfaces and wavefronts | |
JP4302512B2 (ja) | 非球面表面および波面に対する干渉計スキャニング | |
US4758089A (en) | Holographic interferometer | |
US6909509B2 (en) | Optical surface profiling systems | |
US5991034A (en) | Interferometer which varies a position to be detected based on inclination of surface to be measured | |
JP2008513751A (ja) | 測定対象物の複数の面を測定するための光学式測定装置 | |
CN102506748A (zh) | 一种基于激光探针阵列的三维测量方法及装置 | |
JP6580141B2 (ja) | 半導体検査及び度量衡用ラインスキャンナイフエッジ高さセンサ | |
WO2013084557A1 (ja) | 形状測定装置 | |
US20080137061A1 (en) | Displacement Measurement Sensor Using the Confocal Principle | |
US6674521B1 (en) | Optical method and system for rapidly measuring relative angular alignment of flat surfaces | |
CN110702036B (zh) | 一种复光束角度传感器及小型非球面形貌检测方法 | |
US6924897B2 (en) | Point source module and methods of aligning and using the same | |
JPH07311117A (ja) | 多眼レンズ位置測定装置 | |
JP2016148569A (ja) | 画像測定方法、及び画像測定装置 | |
JP2005201703A (ja) | 干渉測定方法及び干渉測定システム | |
CN101881607A (zh) | 一种检测平面误差系统 | |
US20230123150A1 (en) | Alignment of a measurement optical system and a sample under test | |
JPH0755638A (ja) | 光学系の焦点距離測定装置及び測定方法 | |
JP3061653B2 (ja) | 非球面の測定方法および測定装置 | |
JPH0814854A (ja) | 計算機ホログラムを有する平板及びそれを用いた計測 方法 | |
JPH03128409A (ja) | 三次元形状センサ | |
JPS63223510A (ja) | 面形状測定装置 |