JPH07285973A - 2,2−ジフルオロケテンシリル O,S−アセタールおよびα,α−ジフルオロ−β−シリルオキシ−1,3−ジオキソラン−4−プロパン酸 O,S−エステルの製造方法 - Google Patents
2,2−ジフルオロケテンシリル O,S−アセタールおよびα,α−ジフルオロ−β−シリルオキシ−1,3−ジオキソラン−4−プロパン酸 O,S−エステルの製造方法Info
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- ILMRJRBKQSSXGY-UHFFFAOYSA-N tert-butyl(dimethyl)silicon Chemical group C[Si](C)C(C)(C)C ILMRJRBKQSSXGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- ZWYDDDAMNQQZHD-UHFFFAOYSA-L titanium(ii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ti+2] ZWYDDDAMNQQZHD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000025 triisopropylsilyl group Chemical group C(C)(C)[Si](C(C)C)(C(C)C)* 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/188—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-O linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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- C07F7/02—Silicon compounds
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- C07F7/1892—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions not provided for in C07F7/1876 - C07F7/1888
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 2,2−ジフルオロケテンシリル O,S−ア
セタール(I)、およびそのエステル(IV)の製造方法
を提供する。 【構成】 ジフルオロ O,S−アセテートをハロシラン
と溶媒中で接触させることにより、一般式I [R1、R2、R3およびR4は独立してアルキル基ま
たはアリール基である]のアセタール(I)を得、これ
をグリセルアルデヒド誘導体と接触させることにより、
一般式IV [R1〜R4は前記と同じ、またR5およびR6は独立
してC1−C3アルキル基であるか、もしくは一緒にな
って−(CH2)n−部分[nは3〜6の整数である]
を含む炭素環部分を形成する]のチオエステル(IV)を
製造する。
セタール(I)、およびそのエステル(IV)の製造方法
を提供する。 【構成】 ジフルオロ O,S−アセテートをハロシラン
と溶媒中で接触させることにより、一般式I [R1、R2、R3およびR4は独立してアルキル基ま
たはアリール基である]のアセタール(I)を得、これ
をグリセルアルデヒド誘導体と接触させることにより、
一般式IV [R1〜R4は前記と同じ、またR5およびR6は独立
してC1−C3アルキル基であるか、もしくは一緒にな
って−(CH2)n−部分[nは3〜6の整数である]
を含む炭素環部分を形成する]のチオエステル(IV)を
製造する。
Description
【0001】本発明は、製薬化学の分野に属し、2,2
−ジフルオロケテンシリル O,S−アセタール、および
それから得られるα,α−ジフルオロ−β−シリルオキ
シ−1,3−ジオキソラン−4−プロパン酸 O,S−エ
ステルの製造方法を提供する。
−ジフルオロケテンシリル O,S−アセタール、および
それから得られるα,α−ジフルオロ−β−シリルオキ
シ−1,3−ジオキソラン−4−プロパン酸 O,S−エ
ステルの製造方法を提供する。
【0002】ケテンシリルアセタールは、Petrovら
[J.Gen.Chem.(USSR),29,2896−99
(1959)を参照]により初めて製造された。約30
年後、H.Greuterら[Tetrahedron Lett.,29(2
7),3291−94(1988)]は、レフォルマト
スキー−クライゼン(Reformatsky-Claisen)反応がシ
リコーン中でのクロロジフルオロ酢酸のアリルエステル
の使用で誘導されることを教示しており、ここでは2,
2−ジフルオロケテンシリルアセタールが中間体であろ
うと推定された。コバヤシら[日本国特許第02672
50号およびTetrahedron Lett.,29(15),1
803−06(1988)]は、アセトニトリル中でヨ
ードジフルオロ酢酸メチルを亜鉛末と反応させ、その結
果得られる有機亜鉛類(レフォルマトスキー試薬)をトリ
アルキルシリルクロリドで処理することによる、2,2
−ジフルオロケテンシリルアセタールの製造を記載し
た。その著者らはまた、生成したジフルオロケテンシリ
ルアセタールと2,3−O−イソプロピリデン−D−グ
リセルアルデヒドとを系中で反応させることによる、
2,2−ジフルオロ−2,2−ジメチル−β−[(トリアル
キルシリル)オキシ]−1,3−ジオキソラン−4−プロ
パン酸メチルエステルの製造をも開示した。ジフルオロ
ケテンシリルアセタールは、2,3−O−イソプロピリ
デングリセルアルデヒドと縮合したレフォルマトスキー
試薬より、ずっと高いエリトロ/トレオ(アンチ/シン)
比を与えることが発見された。マツシタら[日本国特許
第2270841号]は、アセトニトリル中でヨードジ
フルオロ酢酸メチルをトリアルキルシリルクロリドおよ
び亜鉛と反応させ、その結果得られる混合物を2,3−
O−イソプロピリデン−D−グリセルアルデヒドおよび
二塩化チタノセンで処理することを必要とする、アンチ
−α,α−ジフルオロ−2,2−ジメチル−β−[(トリア
ルキルシリル)オキシ]−1,3−ジオキソラン−4−プ
ロパン酸メチルエステルの製造を記載した。J.C.Eas
don[New Synthetic Methodology for Organofluor
ine Compounds,博士論文,化学学科、アイオワ大学大
学院,1987年7月]は、テトラヒドロフラン中、−
78℃でジフルオロ酢酸エステルをリチウムヘキサメチ
ルシラジド(lithium hexamethylsilazide)およびトリメ
チルクロロシランと反応させることにより、2,2−ジ
フルオロケテンシリルアセタールを製造しようと試み
た。R.W.Langら[Tetrahedron Lett.,24,29
43−6(1988)]は、ジメチルホルムアミド中、
活性亜鉛末で処理すると、クロロジフルオロ酢酸のエス
テルはアルデヒドとのレフォルマトスキー型縮合反応を
受けることを報告した。しかし、超音波処理を利用しな
い限り、同様の条件下でエノール化可能な脂肪族アルデ
ヒドをクロロジフルオロ酢酸エステルと縮合しても、低
収率でしか得られなかった。S.Mcharekら[J.Organ
ometallic Chem.,401,211−15(199
1)]は、ジメチルホルムアミド、または塩化メチレン
とジメチルホルムアミドとの混合物中でのクロロジフル
オロ酢酸メチルおよび簡単な脂肪族アルデヒド、並びに
電解還元(亜鉛陽極およびニッケル触媒)の使用を必要と
するレフォルマトスキー型縮合反応を報告した。α,α
−ジフルオロ−2,2−ジメチル−β−[(トリアルキル
シリル)オキシ]−1,3−ジオキソラン−4−プロパン
酸メチルエステルのようなα,α−ジフルオロ−β−シ
リルオキシ−1,3−ジオキソラン−4−プロパン酸エ
ステルは、抗腫瘍性および抗ウイルス性ヌクレオシド剤
の製造における中間体として使用される[例えば、米国
特許第4,526,988号を参照]。
[J.Gen.Chem.(USSR),29,2896−99
(1959)を参照]により初めて製造された。約30
年後、H.Greuterら[Tetrahedron Lett.,29(2
7),3291−94(1988)]は、レフォルマト
スキー−クライゼン(Reformatsky-Claisen)反応がシ
リコーン中でのクロロジフルオロ酢酸のアリルエステル
の使用で誘導されることを教示しており、ここでは2,
2−ジフルオロケテンシリルアセタールが中間体であろ
うと推定された。コバヤシら[日本国特許第02672
50号およびTetrahedron Lett.,29(15),1
803−06(1988)]は、アセトニトリル中でヨ
ードジフルオロ酢酸メチルを亜鉛末と反応させ、その結
果得られる有機亜鉛類(レフォルマトスキー試薬)をトリ
アルキルシリルクロリドで処理することによる、2,2
−ジフルオロケテンシリルアセタールの製造を記載し
た。その著者らはまた、生成したジフルオロケテンシリ
ルアセタールと2,3−O−イソプロピリデン−D−グ
リセルアルデヒドとを系中で反応させることによる、
2,2−ジフルオロ−2,2−ジメチル−β−[(トリアル
キルシリル)オキシ]−1,3−ジオキソラン−4−プロ
パン酸メチルエステルの製造をも開示した。ジフルオロ
ケテンシリルアセタールは、2,3−O−イソプロピリ
デングリセルアルデヒドと縮合したレフォルマトスキー
試薬より、ずっと高いエリトロ/トレオ(アンチ/シン)
比を与えることが発見された。マツシタら[日本国特許
第2270841号]は、アセトニトリル中でヨードジ
フルオロ酢酸メチルをトリアルキルシリルクロリドおよ
び亜鉛と反応させ、その結果得られる混合物を2,3−
O−イソプロピリデン−D−グリセルアルデヒドおよび
二塩化チタノセンで処理することを必要とする、アンチ
−α,α−ジフルオロ−2,2−ジメチル−β−[(トリア
ルキルシリル)オキシ]−1,3−ジオキソラン−4−プ
ロパン酸メチルエステルの製造を記載した。J.C.Eas
don[New Synthetic Methodology for Organofluor
ine Compounds,博士論文,化学学科、アイオワ大学大
学院,1987年7月]は、テトラヒドロフラン中、−
78℃でジフルオロ酢酸エステルをリチウムヘキサメチ
ルシラジド(lithium hexamethylsilazide)およびトリメ
チルクロロシランと反応させることにより、2,2−ジ
フルオロケテンシリルアセタールを製造しようと試み
た。R.W.Langら[Tetrahedron Lett.,24,29
43−6(1988)]は、ジメチルホルムアミド中、
活性亜鉛末で処理すると、クロロジフルオロ酢酸のエス
テルはアルデヒドとのレフォルマトスキー型縮合反応を
受けることを報告した。しかし、超音波処理を利用しな
い限り、同様の条件下でエノール化可能な脂肪族アルデ
ヒドをクロロジフルオロ酢酸エステルと縮合しても、低
収率でしか得られなかった。S.Mcharekら[J.Organ
ometallic Chem.,401,211−15(199
1)]は、ジメチルホルムアミド、または塩化メチレン
とジメチルホルムアミドとの混合物中でのクロロジフル
オロ酢酸メチルおよび簡単な脂肪族アルデヒド、並びに
電解還元(亜鉛陽極およびニッケル触媒)の使用を必要と
するレフォルマトスキー型縮合反応を報告した。α,α
−ジフルオロ−2,2−ジメチル−β−[(トリアルキル
シリル)オキシ]−1,3−ジオキソラン−4−プロパン
酸メチルエステルのようなα,α−ジフルオロ−β−シ
リルオキシ−1,3−ジオキソラン−4−プロパン酸エ
ステルは、抗腫瘍性および抗ウイルス性ヌクレオシド剤
の製造における中間体として使用される[例えば、米国
特許第4,526,988号を参照]。
【0003】本発明の目的は、クロロジフルオロチオア
セテートおよびジフルオロチオアセテートから2,2−
ジフルオロケテンシリル O,S−アセタールを製造する
ための方法を提供することである。
セテートおよびジフルオロチオアセテートから2,2−
ジフルオロケテンシリル O,S−アセタールを製造する
ための方法を提供することである。
【0004】本発明のもう1つの目的は、2,2−ジフ
ルオロケテンシリル O,S−アセタールからα,α−ジ
フルオロ−β−シリルオキシ−1,3−ジオキソラン−
4−プロパン酸 O,S−エステルを製造するための方法
を提供することである。
ルオロケテンシリル O,S−アセタールからα,α−ジ
フルオロ−β−シリルオキシ−1,3−ジオキソラン−
4−プロパン酸 O,S−エステルを製造するための方法
を提供することである。
【0005】本明細書中に記載する以下の説明並びに態
様より、本発明の他の目的および利点を明らかにする。
様より、本発明の他の目的および利点を明らかにする。
【0006】本発明は、式(I):
【化10】 [式中、R1、R2、R3およびR4は独立してアルキル基
並びにアリール基から選択される基を表わす]で示され
る2,2−ジフルオロケテンシリル O,S−アセタール
の製造方法であって、式(II):
並びにアリール基から選択される基を表わす]で示され
る2,2−ジフルオロケテンシリル O,S−アセタール
の製造方法であって、式(II):
【化11】 [式中、Zはクロロまたは水素であり、またR4は先に
定義した通りである]で示されるジフルオロ O,S−ア
セテートを、式(III):
定義した通りである]で示されるジフルオロ O,S−ア
セテートを、式(III):
【化12】 [式中、Xはクロロまたはブロモであり、またR1、R2
およびR3は先に定義した通りである]で示されるハロ
シランと溶媒中で接触させる[ただし、Zがクロロであ
る場合は反応を還元剤の存在下に行うが、その時の接触
温度は25℃〜80℃であり、さらに、Zが水素である
場合は塩基を添加するが、その時の接触温度は−78℃
〜25℃である]ことから成る製造方法に関する。
およびR3は先に定義した通りである]で示されるハロ
シランと溶媒中で接触させる[ただし、Zがクロロであ
る場合は反応を還元剤の存在下に行うが、その時の接触
温度は25℃〜80℃であり、さらに、Zが水素である
場合は塩基を添加するが、その時の接触温度は−78℃
〜25℃である]ことから成る製造方法に関する。
【0007】もう1つの態様において、本発明は、式
(IV):
(IV):
【化13】 [式中、R1、R2、R3およびR4は独立してアルキル基
並びにアリール基から選択される基であり、またR5お
よびR6は独立してC1−C3アルキル基から選択される
基であるか、もしくは一緒になって−(CH2)n−部分
[式中、nは3〜6の整数である]を含む炭素環部分を
形成する]で示されるα,α−ジフルオロ−β−シリル
オキシ−1,3−ジオキソラン−4−プロパン酸チオエ
ステルの製造方法であって、式(II):
並びにアリール基から選択される基であり、またR5お
よびR6は独立してC1−C3アルキル基から選択される
基であるか、もしくは一緒になって−(CH2)n−部分
[式中、nは3〜6の整数である]を含む炭素環部分を
形成する]で示されるα,α−ジフルオロ−β−シリル
オキシ−1,3−ジオキソラン−4−プロパン酸チオエ
ステルの製造方法であって、式(II):
【化14】 [式中、Zはクロロまたは水素であり、またR4は先に
定義した通りである]で示されるジフルオロ O,S−ア
セテートを、式(III):
定義した通りである]で示されるジフルオロ O,S−ア
セテートを、式(III):
【化15】 [式中、Xはクロロまたはブロモであり、またR1、R2
およびR3は先に定義した通りである]で示されるハロ
シランと溶媒中で接触させる[ただし、Zがクロロであ
る場合は反応を還元剤の存在下に行うが、その時の接触
温度は25℃〜80℃であり、さらに、Zが水素である
場合は塩基を添加するが、その時の接触温度は−78℃
〜25℃である]ことにより生成する、式(I):
およびR3は先に定義した通りである]で示されるハロ
シランと溶媒中で接触させる[ただし、Zがクロロであ
る場合は反応を還元剤の存在下に行うが、その時の接触
温度は25℃〜80℃であり、さらに、Zが水素である
場合は塩基を添加するが、その時の接触温度は−78℃
〜25℃である]ことにより生成する、式(I):
【化16】 [式中、R1、R2、R3およびR4は独立してアルキル基
並びにアリール基から選択される基を表わす]で示され
る2,2−ジフルオロケテンシリル O,S−アセタール
を、式(V):
並びにアリール基から選択される基を表わす]で示され
る2,2−ジフルオロケテンシリル O,S−アセタール
を、式(V):
【化17】 [式中、R5およびR6は先に定義した通りである]で示
されるグリセルアルデヒド誘導体と−78℃〜80℃の
温度で接触させる[ただし、Zが水素である場合はルイ
ス酸を添加する]ことから成る製造方法に関する。
されるグリセルアルデヒド誘導体と−78℃〜80℃の
温度で接触させる[ただし、Zが水素である場合はルイ
ス酸を添加する]ことから成る製造方法に関する。
【0008】さらにもう1つの態様において、本発明
は、式(I):
は、式(I):
【化18】 [式中、R1、R2、R3およびR4は先に定義した通りで
ある]で示される2,2−ジフルオロケテンシリル O,
S−アセタールに関する。
ある]で示される2,2−ジフルオロケテンシリル O,
S−アセタールに関する。
【0009】本明細書中、特に指示がない限り、温度は
全て摂氏度で表し、比率、パーセンテージ等は全て重量
単位で表し、また混合物は全て容量単位で表す。単独ま
たは結合形の「アルキル」という用語は、メチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ベンジル、t−
ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、3−メチルペンチ
ル基といったような、炭素原子を7個まで含む、さらに
好ましくは炭素原子を4個まで含む、直鎖状、環状およ
び分枝鎖状の脂肪族炭化水素基を示す。単独または結合
形の「アリール」という用語は、フェニル、ナフチル、
チエニルおよびそれらの置換誘導体といったような、炭
素環基または複素環基を示す。
全て摂氏度で表し、比率、パーセンテージ等は全て重量
単位で表し、また混合物は全て容量単位で表す。単独ま
たは結合形の「アルキル」という用語は、メチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ベンジル、t−
ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、3−メチルペンチ
ル基といったような、炭素原子を7個まで含む、さらに
好ましくは炭素原子を4個まで含む、直鎖状、環状およ
び分枝鎖状の脂肪族炭化水素基を示す。単独または結合
形の「アリール」という用語は、フェニル、ナフチル、
チエニルおよびそれらの置換誘導体といったような、炭
素環基または複素環基を示す。
【0010】フェニルクロロジフルオロチオアセテート
およびtert−ブチルジフルオロチオアセテートといった
ような、本発明の製法で使用するのに適当な式(II)で
示されるエステルは市販されていない。しかし、それら
は例えば、室温でクロロジフルオロ無水酢酸をチオフェ
ノールで処理し、そのエステル粗生成物を炭酸水素ナト
リウム水溶液で抽出することにより製造することができ
る。この製法により製造したエステルは以下のものを含
んでいる:フェニルクロロジフルオロチオアセテート 19 F NMR(CDCl3 対 C6F6,ppm) −63.7
(s,CF2Cl);1H NMR(CDCl3,ppm) 7.
47(m,ArH);IR(ニート) νmax 1725cm
-1(CO 伸縮)およびt−ブチルジフルオロチオアセテート 沸点 63℃(30mmHgで);19 F NMR(C6D6 対 C6F6,ppm) −123.2
(d,J=56Hz,CF2H);1 H NMR(C6D6,ppm) 5.07(t,J=56H
z,CF2H)、1.24(s,tert−ブチル)。
およびtert−ブチルジフルオロチオアセテートといった
ような、本発明の製法で使用するのに適当な式(II)で
示されるエステルは市販されていない。しかし、それら
は例えば、室温でクロロジフルオロ無水酢酸をチオフェ
ノールで処理し、そのエステル粗生成物を炭酸水素ナト
リウム水溶液で抽出することにより製造することができ
る。この製法により製造したエステルは以下のものを含
んでいる:フェニルクロロジフルオロチオアセテート 19 F NMR(CDCl3 対 C6F6,ppm) −63.7
(s,CF2Cl);1H NMR(CDCl3,ppm) 7.
47(m,ArH);IR(ニート) νmax 1725cm
-1(CO 伸縮)およびt−ブチルジフルオロチオアセテート 沸点 63℃(30mmHgで);19 F NMR(C6D6 対 C6F6,ppm) −123.2
(d,J=56Hz,CF2H);1 H NMR(C6D6,ppm) 5.07(t,J=56H
z,CF2H)、1.24(s,tert−ブチル)。
【0011】本発明の製法で使用するのに適当な式(II
I)で示されるハロシランは市販されている。ハロシラ
ンに関する広範な編集は、Petrarch Systems Silane
s &Silicones,Register and Review[Petrarch
Systems,1987]に記載されている。ハロシラン
は、シリル保護基を有機化合物へ導入するために一般に
使用されるので、それらはまた、T.W.Greeneら[Pr
otecting Groups in Organic Synthesis,第2版,
J.Wiley and Sons社,ニューヨーク(1991)]
によっても論じられている。好ましいハロシランは、こ
れらに制限されるものではないが、クロロまたはブロモ
トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジ
メチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、(トリフェニ
ルメチル)ジメチルシリル、t−ブチルジフェニルシリ
ル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ−t−ブチ
ルシリル、トリベンジルシリル、トリ−p−キシリルシ
リル、トリイソプロピルシリル、およびトリフェニルシ
リルから選択される。
I)で示されるハロシランは市販されている。ハロシラ
ンに関する広範な編集は、Petrarch Systems Silane
s &Silicones,Register and Review[Petrarch
Systems,1987]に記載されている。ハロシラン
は、シリル保護基を有機化合物へ導入するために一般に
使用されるので、それらはまた、T.W.Greeneら[Pr
otecting Groups in Organic Synthesis,第2版,
J.Wiley and Sons社,ニューヨーク(1991)]
によっても論じられている。好ましいハロシランは、こ
れらに制限されるものではないが、クロロまたはブロモ
トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジ
メチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、(トリフェニ
ルメチル)ジメチルシリル、t−ブチルジフェニルシリ
ル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ−t−ブチ
ルシリル、トリベンジルシリル、トリ−p−キシリルシ
リル、トリイソプロピルシリル、およびトリフェニルシ
リルから選択される。
【0012】本発明の製法で使用するのに適当な溶媒
は、これらに制限されるものではないが、テトラヒドロ
フラン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ト
ルエン、アセトニトリル、グライム(glyme,1,2−ジ
メトキシエタン)、ベンゼンおよびジクロロメタンより
成る群から選択される。
は、これらに制限されるものではないが、テトラヒドロ
フラン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ト
ルエン、アセトニトリル、グライム(glyme,1,2−ジ
メトキシエタン)、ベンゼンおよびジクロロメタンより
成る群から選択される。
【0013】式(II)の置換基Zがクロロである場合の
み、反応に還元剤を添加する。本発明の製法で使用する
のに適当な還元剤は、A.Furstner[Synthesis,57
1(1989)]により記載されており、亜鉛、マグネ
シウム、亜鉛/銀、亜鉛/銀複合体、カドミウム、ニッ
ケル、インジウム、セリウム、およびリチウムが包含さ
れる。望ましい還元性を有する金属塩をまた使用するこ
ともでき、塩化クロム(II)、ヨウ化サマリウム(II)およ
び塩化チタン(II)から選択される。さらなる有用な還元
剤には、ハロゲン化セリウム(III)、テルル化二ナトリ
ウム、またはヨウ化トリアルキルアンチモン、トリブチ
ル(フェニル)スタンニルリチウムおよび塩化ジエチルア
ルミニウムの組合せが包含される。しかし、好ましい還
元剤は亜鉛である。亜鉛還元剤は、その反応性を高める
ため、所望により活性亜鉛還元剤へ転換することができ
る。亜鉛還元剤を活性化するための方法は、Erdik[T
etrahedron,43(10),2203−12(198
7)]により記載されている。
み、反応に還元剤を添加する。本発明の製法で使用する
のに適当な還元剤は、A.Furstner[Synthesis,57
1(1989)]により記載されており、亜鉛、マグネ
シウム、亜鉛/銀、亜鉛/銀複合体、カドミウム、ニッ
ケル、インジウム、セリウム、およびリチウムが包含さ
れる。望ましい還元性を有する金属塩をまた使用するこ
ともでき、塩化クロム(II)、ヨウ化サマリウム(II)およ
び塩化チタン(II)から選択される。さらなる有用な還元
剤には、ハロゲン化セリウム(III)、テルル化二ナトリ
ウム、またはヨウ化トリアルキルアンチモン、トリブチ
ル(フェニル)スタンニルリチウムおよび塩化ジエチルア
ルミニウムの組合せが包含される。しかし、好ましい還
元剤は亜鉛である。亜鉛還元剤は、その反応性を高める
ため、所望により活性亜鉛還元剤へ転換することができ
る。亜鉛還元剤を活性化するための方法は、Erdik[T
etrahedron,43(10),2203−12(198
7)]により記載されている。
【0014】式(II)の置換基Zが水素である場合の
み、脱プロトン化剤として反応に塩基を添加する。本発
明の製法で使用するのに適当な塩基は、これらに制限さ
れるものではないが、リチウムジイソプロピルアミド、
リチウムヘキサメチルシラジド、トリエチルアミン、ピ
リジンおよびn−ブチルリチウムより成る群から選択さ
れる。
み、脱プロトン化剤として反応に塩基を添加する。本発
明の製法で使用するのに適当な塩基は、これらに制限さ
れるものではないが、リチウムジイソプロピルアミド、
リチウムヘキサメチルシラジド、トリエチルアミン、ピ
リジンおよびn−ブチルリチウムより成る群から選択さ
れる。
【0015】式(I)で示される化合物を製造するため
に利用する接触温度は、式(II)の置換基Zがクロロで
あるか、または水素であるかに依存する。置換基Zがク
ロロである場合、接触温度は25℃〜80℃である。し
かし、置換基Zが水素である場合、接触温度は−78℃
〜25℃である。どちらの置換基Zを使用するにもかか
わらず、反応は不活性雰囲気条件下に行うのが好まし
く、実質的には、30分〜24時間で終了する。
に利用する接触温度は、式(II)の置換基Zがクロロで
あるか、または水素であるかに依存する。置換基Zがク
ロロである場合、接触温度は25℃〜80℃である。し
かし、置換基Zが水素である場合、接触温度は−78℃
〜25℃である。どちらの置換基Zを使用するにもかか
わらず、反応は不活性雰囲気条件下に行うのが好まし
く、実質的には、30分〜24時間で終了する。
【0016】当業者ならば、本発明の製法に基づいて式
(I)で示される化合物を製造するのに最適な条件は、
使用する個々の還元剤とその活性により大きく左右され
ることを認識するであろう。最適条件を左右し得るさら
なる要因は、使用する個々のハロシラン、ジフルオロエ
ステルおよび溶媒である。
(I)で示される化合物を製造するのに最適な条件は、
使用する個々の還元剤とその活性により大きく左右され
ることを認識するであろう。最適条件を左右し得るさら
なる要因は、使用する個々のハロシラン、ジフルオロエ
ステルおよび溶媒である。
【0017】次の段階では、式(I)で示される化合物
を系中で、式(V)で示されるグリセルアルデヒド誘導
体と反応させて、式(IV)で示されるα,α−ジフルオ
ロ−β−シリルオキシ−1,3−ジオキソラン−4−プ
ロパン酸チオエステルを形成することができる。本発明
の製法で使用するのに適当なグリセルアルデヒド誘導体
は、Jurczakら[Tetrahedron,42,447−488
(1986)]およびSchmidおよびBradley[Synthe
sis,587−90(1992)]により記載されてい
る。2,3−O−アルキリデングリセルアルデヒドのよ
うなO−保護グリセルアルデヒド誘導体が、本発明の製
法において特に有用である。アルキリデン保護基が2−
プロピリデン、3−ペンチリデン、シクロペンチリデ
ン、またはシクロヘキシリデン保護基から選択されるグ
リセルアルデヒド誘導体が好ましい。
を系中で、式(V)で示されるグリセルアルデヒド誘導
体と反応させて、式(IV)で示されるα,α−ジフルオ
ロ−β−シリルオキシ−1,3−ジオキソラン−4−プ
ロパン酸チオエステルを形成することができる。本発明
の製法で使用するのに適当なグリセルアルデヒド誘導体
は、Jurczakら[Tetrahedron,42,447−488
(1986)]およびSchmidおよびBradley[Synthe
sis,587−90(1992)]により記載されてい
る。2,3−O−アルキリデングリセルアルデヒドのよ
うなO−保護グリセルアルデヒド誘導体が、本発明の製
法において特に有用である。アルキリデン保護基が2−
プロピリデン、3−ペンチリデン、シクロペンチリデ
ン、またはシクロヘキシリデン保護基から選択されるグ
リセルアルデヒド誘導体が好ましい。
【0018】式(I)で示される化合物と式(V)で示
されるグリセルアルデヒド誘導体との反応を系中で行
う。安価な式(II)で示されるジフルオロ O,S−アセ
テート化合物を使用するので、経済的で有効な製法とな
る。この系中工程では、式(II)で示される化合物を直
接式(V)で示される化合物と反応させてレフォルマト
スキー試薬を誘導する場合より、高収率でエリトロ形の
式(IV)で示される化合物が得られ、かつ、エリトロ
(アンチ)選択性が有意に高くなる。
されるグリセルアルデヒド誘導体との反応を系中で行
う。安価な式(II)で示されるジフルオロ O,S−アセ
テート化合物を使用するので、経済的で有効な製法とな
る。この系中工程では、式(II)で示される化合物を直
接式(V)で示される化合物と反応させてレフォルマト
スキー試薬を誘導する場合より、高収率でエリトロ形の
式(IV)で示される化合物が得られ、かつ、エリトロ
(アンチ)選択性が有意に高くなる。
【0019】式(I)および式(V)で示される化合物
は、1:1の縮合反応で結合して、式(IV)で示される
化合物を形成する。従って、式(II)で示される化合物
の最大変換率を得るには、式(I)で示される化合物の
収率が最大となる前、もしくは最大となる時点で、式
(V)で示される化合物を導入するということが重要で
ある。式(IV)で示される化合物の収率は式(V)で示
される化合物に基づくので、式(V)で示される化合物
のモル当量が、系中で形成される、式(I)で示される
化合物のモル当量より低い、もしくは等しい場合に、最
適な収率が結果として得られる。
は、1:1の縮合反応で結合して、式(IV)で示される
化合物を形成する。従って、式(II)で示される化合物
の最大変換率を得るには、式(I)で示される化合物の
収率が最大となる前、もしくは最大となる時点で、式
(V)で示される化合物を導入するということが重要で
ある。式(IV)で示される化合物の収率は式(V)で示
される化合物に基づくので、式(V)で示される化合物
のモル当量が、系中で形成される、式(I)で示される
化合物のモル当量より低い、もしくは等しい場合に、最
適な収率が結果として得られる。
【0020】式(IV)で示されるα,α−ジフルオロ−
β−シリルオキシ−1,3−ジオキソラン−4−プロパ
ン酸チオエステルを製造する際に利用する温度は、−7
8℃〜80℃である。反応は不活性雰囲気条件下に行う
のが好ましく、実質的には、30分〜24時間で終了す
る。
β−シリルオキシ−1,3−ジオキソラン−4−プロパ
ン酸チオエステルを製造する際に利用する温度は、−7
8℃〜80℃である。反応は不活性雰囲気条件下に行う
のが好ましく、実質的には、30分〜24時間で終了す
る。
【0021】各々の反応の進行は、19F 核磁気共鳴分
光法(NMR)を利用してモニターすることができる。
光法(NMR)を利用してモニターすることができる。
【0022】本発明により製造される、式(IV)で示さ
れる化合物は、有機化学者に利用される標準的な単離法
によって単離することができる。しかし、三フッ化ホウ
素エーテラートをルイス酸として使用する場合は、シリ
ル保護基が開裂され得る。
れる化合物は、有機化学者に利用される標準的な単離法
によって単離することができる。しかし、三フッ化ホウ
素エーテラートをルイス酸として使用する場合は、シリ
ル保護基が開裂され得る。
【0023】以下の実施例は本発明の具体的な態様を示
すものであって、いかなる点においても本発明の範囲を
制限しようとするものではなく、またそのように解釈さ
れるべきではない。
すものであって、いかなる点においても本発明の範囲を
制限しようとするものではなく、またそのように解釈さ
れるべきではない。
【0024】製造例 1 フェニルクロロジフルオロチオアセテート クロロジフルオロ無水酢酸(10.0ml)およびチオフェ
ノール(5.36ml)のアセトニトリル(30ml)溶液を、
塩化コバルト(II)(0.5g)のアセトニトリル(100m
l)溶液に加えた。その混合物を25℃で36時間撹拌し
た。アセトニトリルを減圧下に除去して、その残渣をジ
エチルエーテル(200ml)中に溶解した。その結果得ら
れた溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液と水で抽出して、
減圧下に濃縮すると、上記生成物が11.23g得られ
た。19 F NMR(CDCl3 対 C6F6,ppm) −63.7
(s,CF2Cl);1 H NMR(CDCl3,ppm) 7.47(m,ArH); IR(ニート) νmax 1725cm-1(CO 伸縮)。
ノール(5.36ml)のアセトニトリル(30ml)溶液を、
塩化コバルト(II)(0.5g)のアセトニトリル(100m
l)溶液に加えた。その混合物を25℃で36時間撹拌し
た。アセトニトリルを減圧下に除去して、その残渣をジ
エチルエーテル(200ml)中に溶解した。その結果得ら
れた溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液と水で抽出して、
減圧下に濃縮すると、上記生成物が11.23g得られ
た。19 F NMR(CDCl3 対 C6F6,ppm) −63.7
(s,CF2Cl);1 H NMR(CDCl3,ppm) 7.47(m,ArH); IR(ニート) νmax 1725cm-1(CO 伸縮)。
【0025】実施例 1 1−トリメチルシリルオキシ
−1−フェニルチオ−2,2−ジフルオロエテン クロロトリメチルシラン(0.68ml)およびフェニルク
ロロジフルオロチオアセテート(1.0g)を、亜鉛末
(0.32g)のアセトニトリル(10ml)スラリーに添加
した。その混合物を40℃で3.5時間撹拌した後、2
5℃で18時間撹拌した。該混合物をメチル tert−ブ
チルエーテル(10ml)で希釈し、濾過して、減圧下に濃
縮すると、淡黄色の油状物質として上記生成物が1.1
6g得られた。19 F NMR(C6F6 対 C6F6,ppm) −106.0
(d,J=28Hz)、−93.3(d,J=28H
z); GC/MS(EI)m/z 261 (M+1)+、245
(M−15)、183(M−77)、171(M−8
9)。
−1−フェニルチオ−2,2−ジフルオロエテン クロロトリメチルシラン(0.68ml)およびフェニルク
ロロジフルオロチオアセテート(1.0g)を、亜鉛末
(0.32g)のアセトニトリル(10ml)スラリーに添加
した。その混合物を40℃で3.5時間撹拌した後、2
5℃で18時間撹拌した。該混合物をメチル tert−ブ
チルエーテル(10ml)で希釈し、濾過して、減圧下に濃
縮すると、淡黄色の油状物質として上記生成物が1.1
6g得られた。19 F NMR(C6F6 対 C6F6,ppm) −106.0
(d,J=28Hz)、−93.3(d,J=28H
z); GC/MS(EI)m/z 261 (M+1)+、245
(M−15)、183(M−77)、171(M−8
9)。
【0026】実施例 2 1−トリメチルシリルオキシ
−1−フェニルチオ−2,2−ジフルオロエテン クロロトリメチルシラン(1.06ml)およびフェニルク
ロロジフルオロチオアセテート(1.55g)を、亜鉛末
(0.50g)の1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン
(5ml)スラリーに添加した。その混合物を25℃で2時
間撹拌した。上記生成物の形成を19F NMR分光法に
より確認した。19 F NMR(C6F6 対 C6F6,ppm) −106.0
(d,J=28Hz)、−93.3(d,J=28H
z)。
−1−フェニルチオ−2,2−ジフルオロエテン クロロトリメチルシラン(1.06ml)およびフェニルク
ロロジフルオロチオアセテート(1.55g)を、亜鉛末
(0.50g)の1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン
(5ml)スラリーに添加した。その混合物を25℃で2時
間撹拌した。上記生成物の形成を19F NMR分光法に
より確認した。19 F NMR(C6F6 対 C6F6,ppm) −106.0
(d,J=28Hz)、−93.3(d,J=28H
z)。
【0027】実施例 3 1−トリメチルシリルオキシ
−1−フェニルチオ−2,2−ジフルオロエテン クロロトリメチルシラン(1.06ml)およびフェニルク
ロロジフルオロチオアセテート(1.55g)を、亜鉛末
(0.50g)のテトラヒドロフラン(10ml)スラリーに
添加した。その混合物を50℃で2.5時間撹拌した。
上記生成物の形成を19F NMR分光法により確認し
た。19 F NMR(C6F6 対 C6F6,ppm) −106.0
(d,J=28Hz)、−93.3(d,J=28H
z)。
−1−フェニルチオ−2,2−ジフルオロエテン クロロトリメチルシラン(1.06ml)およびフェニルク
ロロジフルオロチオアセテート(1.55g)を、亜鉛末
(0.50g)のテトラヒドロフラン(10ml)スラリーに
添加した。その混合物を50℃で2.5時間撹拌した。
上記生成物の形成を19F NMR分光法により確認し
た。19 F NMR(C6F6 対 C6F6,ppm) −106.0
(d,J=28Hz)、−93.3(d,J=28H
z)。
【0028】実施例 4 D−エリトロ−およびD−ト
レオ−α,α−ジフルオロ−β−トリメチルシリルオキ
シ−2,2−ジエチル−1,3−ジオキソラン−4−プロ
パン酸,フェニルチオエステル クロロトリメチルシラン(0.68ml)およびフェニルク
ロロジフルオロチオアセテート(1.0g)を、亜鉛末
(0.32g)の1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン
(10ml)スラリーに添加した。その混合物を1時間、4
0℃まで加熱した。(R)−2,2−ジエチル−1,3−ジ
オキソラン−4−カルボキシアルデヒド(0.71g)を
添加して、その混合物を18時間、80℃まで加熱し
た。次いで、該混合物をメチル tert−ブチルエーテル
(50ml)に注ぎ入れて、その結果得られた有機溶液を水
とリン酸緩衝液で洗浄した。その溶液を乾燥し、濾過し
て、減圧下に濃縮すると、黄色の油状物質として上記生
成物が1.79g得られ、これをガスクロマトグラフィ
ー(GC)により測定すると、エリトロおよびトレオ異性
体比(E/T)は78/22であった。19 F NMR(CDCl3 対 C6F6,ppm)エリトロ異性体 :−111.1(dd,JF=261Hz,
JH=11Hz)、−115.3(dd,JF=261Hz,
JH=14Hz);トレオ異性体 :−106.4(dd,JF=260Hz,JH
=6Hz)、−119.6(dd,JF=260Hz,JH=
16Hz); GC/MS(EI)m/z 419 (M+1)+。 加水分解および環化により、既知の化合物であるD−2
−デオキシ−2,2−ジフルオロ−1−オキソリボース
およびD−2−デオキシ−2,2−ジフルオロ−1−オ
キソキシロースが与えられることに基づいて、その立体
化学を決定した[Hertelら,J.Org.Chem.,53,
2406(1988)を参照]。
レオ−α,α−ジフルオロ−β−トリメチルシリルオキ
シ−2,2−ジエチル−1,3−ジオキソラン−4−プロ
パン酸,フェニルチオエステル クロロトリメチルシラン(0.68ml)およびフェニルク
ロロジフルオロチオアセテート(1.0g)を、亜鉛末
(0.32g)の1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン
(10ml)スラリーに添加した。その混合物を1時間、4
0℃まで加熱した。(R)−2,2−ジエチル−1,3−ジ
オキソラン−4−カルボキシアルデヒド(0.71g)を
添加して、その混合物を18時間、80℃まで加熱し
た。次いで、該混合物をメチル tert−ブチルエーテル
(50ml)に注ぎ入れて、その結果得られた有機溶液を水
とリン酸緩衝液で洗浄した。その溶液を乾燥し、濾過し
て、減圧下に濃縮すると、黄色の油状物質として上記生
成物が1.79g得られ、これをガスクロマトグラフィ
ー(GC)により測定すると、エリトロおよびトレオ異性
体比(E/T)は78/22であった。19 F NMR(CDCl3 対 C6F6,ppm)エリトロ異性体 :−111.1(dd,JF=261Hz,
JH=11Hz)、−115.3(dd,JF=261Hz,
JH=14Hz);トレオ異性体 :−106.4(dd,JF=260Hz,JH
=6Hz)、−119.6(dd,JF=260Hz,JH=
16Hz); GC/MS(EI)m/z 419 (M+1)+。 加水分解および環化により、既知の化合物であるD−2
−デオキシ−2,2−ジフルオロ−1−オキソリボース
およびD−2−デオキシ−2,2−ジフルオロ−1−オ
キソキシロースが与えられることに基づいて、その立体
化学を決定した[Hertelら,J.Org.Chem.,53,
2406(1988)を参照]。
【0029】実施例 5 D−エリトロ−およびD−ト
レオ−α,α−ジフルオロ−β−トリメチルシリルオキ
シ−2,2−ジエチル−1,3−ジオキソラン−4−プロ
パン酸,フェニルチオエステル クロロトリメチルシラン(0.68ml)およびフェニルク
ロロジフルオロチオアセテート(1.0g)を、亜鉛末
(0.32g)のアセトニトリル(10ml)スラリーに添加
した。その混合物を3時間、40℃まで加熱した。(R)
−2,2−ジエチル−1,3−ジオキソラン−4−カルボ
キシアルデヒド(0.71g)を添加して、その混合物を
18時間、80℃まで加熱した。次いで、該混合物を濾
過し、その濾液をメチル tert−ブチルエーテル(50m
l)に注ぎ入れた。その結果得られた有機溶液をリン酸緩
衝液で洗浄し、乾燥して、濾過し、減圧下に濃縮する
と、黄色の油状物質として上記生成物が1.50g得ら
れ、これをGCにより測定すると、E/T比は75/2
5であった。19 F NMR(CDCl3 対 C6F6,ppm)エリトロ異性体 :−111.1(dd,JF=261Hz,
JH=11Hz)、−115.3(dd,JF=261Hz,
JH=14Hz);トレオ異性体 :−106.4(dd,JF=260Hz,JH
=6Hz)、−119.6(dd,JF=260Hz,JH=
16Hz); GC/MS(EI)m/z 419 (M+1)+。 実施例4に記載した通り、上記生成物の立体化学を決定
した。
レオ−α,α−ジフルオロ−β−トリメチルシリルオキ
シ−2,2−ジエチル−1,3−ジオキソラン−4−プロ
パン酸,フェニルチオエステル クロロトリメチルシラン(0.68ml)およびフェニルク
ロロジフルオロチオアセテート(1.0g)を、亜鉛末
(0.32g)のアセトニトリル(10ml)スラリーに添加
した。その混合物を3時間、40℃まで加熱した。(R)
−2,2−ジエチル−1,3−ジオキソラン−4−カルボ
キシアルデヒド(0.71g)を添加して、その混合物を
18時間、80℃まで加熱した。次いで、該混合物を濾
過し、その濾液をメチル tert−ブチルエーテル(50m
l)に注ぎ入れた。その結果得られた有機溶液をリン酸緩
衝液で洗浄し、乾燥して、濾過し、減圧下に濃縮する
と、黄色の油状物質として上記生成物が1.50g得ら
れ、これをGCにより測定すると、E/T比は75/2
5であった。19 F NMR(CDCl3 対 C6F6,ppm)エリトロ異性体 :−111.1(dd,JF=261Hz,
JH=11Hz)、−115.3(dd,JF=261Hz,
JH=14Hz);トレオ異性体 :−106.4(dd,JF=260Hz,JH
=6Hz)、−119.6(dd,JF=260Hz,JH=
16Hz); GC/MS(EI)m/z 419 (M+1)+。 実施例4に記載した通り、上記生成物の立体化学を決定
した。
【0030】製造例 2 tert−ブチルジフルオロチオ
アセテート ジフルオロ酢酸(6.55ml)を塩化オキサリル(9.08m
l)のアセトニトリル(50ml)溶液に加えた。その混合物
を25℃で3時間撹拌した。tert−ブチルチオール(1
1.74ml)を5分間で滴加した。その結果得られた溶液
を15℃まで冷却し、塩化コバルト(II)(10mg)を添加
して、その結果得られた混合物を25℃で17時間撹拌
した。tert−ブチルチオール(4ml)を加えて、その溶液
を更に2時間撹拌した。該溶液をジエチルエーテル(5
00ml)中に溶解し、炭酸水素ナトリウム水溶液と水で
抽出して、乾燥し、減圧下に濃縮すると、赤色の油状物
質として上記生成物が得られた。その油状物質を減圧蒸
留すると、上記生成物が8.26g得られた。19 F NMR(C6D6 対 C6F6,ppm) −123.2
(d,J=56Hz,CF2H);1 H NMR(C6D6,ppm) 5.07(t,J=56H
z,CF2H)、1.24(s,tert−ブチル)。
アセテート ジフルオロ酢酸(6.55ml)を塩化オキサリル(9.08m
l)のアセトニトリル(50ml)溶液に加えた。その混合物
を25℃で3時間撹拌した。tert−ブチルチオール(1
1.74ml)を5分間で滴加した。その結果得られた溶液
を15℃まで冷却し、塩化コバルト(II)(10mg)を添加
して、その結果得られた混合物を25℃で17時間撹拌
した。tert−ブチルチオール(4ml)を加えて、その溶液
を更に2時間撹拌した。該溶液をジエチルエーテル(5
00ml)中に溶解し、炭酸水素ナトリウム水溶液と水で
抽出して、乾燥し、減圧下に濃縮すると、赤色の油状物
質として上記生成物が得られた。その油状物質を減圧蒸
留すると、上記生成物が8.26g得られた。19 F NMR(C6D6 対 C6F6,ppm) −123.2
(d,J=56Hz,CF2H);1 H NMR(C6D6,ppm) 5.07(t,J=56H
z,CF2H)、1.24(s,tert−ブチル)。
【0031】実施例 6 1−トリメチルシリルオキシ
−1−tert−ブチルチオ−2,2−ジフルオロエテン tert−ブチルジフルオロチオアセテート(100mg)をテ
トラヒドロフラン(5ml)中に溶解して、その溶液を−7
8℃まで冷却した。トリメチルクロロシラン(151μ
l)およびリチウムジイソプロピルアミド(327μl,2
M ヘプタン/テトラヒドロフラン/エチルベンゼン溶
液)を加えた。その溶液を−78℃で1時間撹拌した
後、25℃まで温めた。19NMR分光法により測定した
ところ、上記生成物が65%の収率で形成されていた。19 F NMR(C6D6 対 C6F6,ppm) −104.2
(d,J=28Hz)、−92.6(d,J=28H
z)。
−1−tert−ブチルチオ−2,2−ジフルオロエテン tert−ブチルジフルオロチオアセテート(100mg)をテ
トラヒドロフラン(5ml)中に溶解して、その溶液を−7
8℃まで冷却した。トリメチルクロロシラン(151μ
l)およびリチウムジイソプロピルアミド(327μl,2
M ヘプタン/テトラヒドロフラン/エチルベンゼン溶
液)を加えた。その溶液を−78℃で1時間撹拌した
後、25℃まで温めた。19NMR分光法により測定した
ところ、上記生成物が65%の収率で形成されていた。19 F NMR(C6D6 対 C6F6,ppm) −104.2
(d,J=28Hz)、−92.6(d,J=28H
z)。
【0032】実施例 7 D−エリトロ−およびD−ト
レオ−α,α−ジフルオロ−β−トリメチルシリルオキ
シ−2,2−ジエチル−1,3−ジオキソラン−4−プロ
パン酸,tert−ブチルチオエステル クロロトリメチルシラン(0.102ml)およびリチウム
ジイソプロピルアミド(0.537ml,1.5M シクロヘ
キサン溶液)をトルエン(3ml)に加えて、その溶液を−
78℃まで冷却した。tert−ブチルジフルオロチオアセ
テート(0.113g)を滴加して、その溶液を30分間
撹拌した。(R)−2,2−ジエチル−1,3−ジオキソラ
ン−4−カルボキシアルデヒド(0.106g)および三
フッ化ホウ素エーテラート(0.083ml)を加えて、そ
の結果得られた混合物を−78℃で1.5時間撹拌する
と、上記生成物が得られた。
レオ−α,α−ジフルオロ−β−トリメチルシリルオキ
シ−2,2−ジエチル−1,3−ジオキソラン−4−プロ
パン酸,tert−ブチルチオエステル クロロトリメチルシラン(0.102ml)およびリチウム
ジイソプロピルアミド(0.537ml,1.5M シクロヘ
キサン溶液)をトルエン(3ml)に加えて、その溶液を−
78℃まで冷却した。tert−ブチルジフルオロチオアセ
テート(0.113g)を滴加して、その溶液を30分間
撹拌した。(R)−2,2−ジエチル−1,3−ジオキソラ
ン−4−カルボキシアルデヒド(0.106g)および三
フッ化ホウ素エーテラート(0.083ml)を加えて、そ
の結果得られた混合物を−78℃で1.5時間撹拌する
と、上記生成物が得られた。
【0033】次いで、該上記生成物を以下の通り、D−
エリトロ−およびD−トレオ−α,α−ジフルオロ−β
−ヒドロキシ−2,2−ジエチル−1,3−ジオキソラン
−4−プロパン酸,tert−ブチルチオエステルに転換し
た。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム(3ml)と共に
−78℃まで急冷して、25℃まで温めた。次いで、そ
の混合物をメチル tert−ブチルエーテル(30ml)に注
ぎ入れ、その結果得られた有機溶液を水で洗浄して、乾
燥し、濾過して、減圧下に濃縮すると、黄色の油状物質
としてD−エリトロ−およびD−トレオ−α,α−ジフ
ルオロ−β−ヒドロキシ−2,2−ジエチル−1,3−ジ
オキソラン−4−プロパン酸,tert−ブチルチオエステ
ルが0.160g得られ、これをGCにより測定する
と、エリトロ/トレオ異性体比は83/17であった。19 F NMR(C6H6 対 C6F6,ppm)エリトロ異性体 :−113.6(dd,JF=262Hz,
JH=12Hz)、−116.4(dd,JF=262Hz,
JH=14Hz);トレオ異性体 :−107.6(dd,JF=263Hz,JH
=6Hz)、−120.4(dd,JF=263Hz,JH=
17Hz)。 実施例4に記載した通り、上記生成物の立体化学を決定
した。
エリトロ−およびD−トレオ−α,α−ジフルオロ−β
−ヒドロキシ−2,2−ジエチル−1,3−ジオキソラン
−4−プロパン酸,tert−ブチルチオエステルに転換し
た。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム(3ml)と共に
−78℃まで急冷して、25℃まで温めた。次いで、そ
の混合物をメチル tert−ブチルエーテル(30ml)に注
ぎ入れ、その結果得られた有機溶液を水で洗浄して、乾
燥し、濾過して、減圧下に濃縮すると、黄色の油状物質
としてD−エリトロ−およびD−トレオ−α,α−ジフ
ルオロ−β−ヒドロキシ−2,2−ジエチル−1,3−ジ
オキソラン−4−プロパン酸,tert−ブチルチオエステ
ルが0.160g得られ、これをGCにより測定する
と、エリトロ/トレオ異性体比は83/17であった。19 F NMR(C6H6 対 C6F6,ppm)エリトロ異性体 :−113.6(dd,JF=262Hz,
JH=12Hz)、−116.4(dd,JF=262Hz,
JH=14Hz);トレオ異性体 :−107.6(dd,JF=263Hz,JH
=6Hz)、−120.4(dd,JF=263Hz,JH=
17Hz)。 実施例4に記載した通り、上記生成物の立体化学を決定
した。
【0034】本発明を、それらの好ましい態様を含め、
詳細に記載した。しかし、当業者ならば、本発明の開示
を考慮し、特許請求の範囲に記載の本発明の範囲および
思想に包含される変更および/または改良を行うことが
できるということが分かるであろう。
詳細に記載した。しかし、当業者ならば、本発明の開示
を考慮し、特許請求の範囲に記載の本発明の範囲および
思想に包含される変更および/または改良を行うことが
できるということが分かるであろう。
Claims (3)
- 【請求項1】 式(I): 【化1】 [式中、R1、R2、R3およびR4は独立してアルキル基
並びにアリール基から選択される基を表わす]で示され
る2,2−ジフルオロケテンシリル O,S−アセタール
の製造方法であって、式(II): 【化2】 [式中、Zはクロロまたは水素であり、またR4は先に
定義した通りである]で示されるジフルオロ O,S−ア
セテートを、式(III): 【化3】 [式中、Xはクロロまたはブロモであり、またR1、R2
およびR3は先に定義した通りである]で示されるハロ
シランと溶媒中で接触させる[ただし、Zがクロロであ
る場合は反応を還元剤の存在下に行うが、その時の接触
温度は25℃〜80℃であり、さらに、Zが水素である
場合は塩基を添加するが、その時の接触温度は−78℃
〜25℃である]ことから成る製造方法。 - 【請求項2】 式(IV): 【化4】 [式中、R1、R2、R3およびR4は独立してアルキル基
並びにアリール基から選択される基であり、またR5お
よびR6は独立してC1−C3アルキル基から選択される
基であるか、もしくは一緒になって−(CH2)n−部分
[式中、nは3〜6の整数である]を含む炭素環部分を
形成する]で示されるα,α−ジフルオロ−β−シリル
オキシ−1,3−ジオキソラン−4−プロパン酸チオエ
ステルの製造方法であって、式(II): 【化5】 [式中、Zはクロロまたは水素であり、またR4は先に
定義した通りである]で示されるジフルオロ O,S−ア
セテートを、式(III): 【化6】 [式中、Xはクロロまたはブロモであり、またR1、R2
およびR3は先に定義した通りである]で示されるハロ
シランと溶媒中で接触させる[ただし、Zがクロロであ
る場合は反応を還元剤の存在下に行うが、その時の接触
温度は25℃〜80℃であり、さらに、Zが水素である
場合は塩基を添加するが、その時の接触温度は−78℃
〜25℃である]ことにより生成する、式(I): 【化7】 [式中、R1、R2、R3およびR4は独立してアルキル基
並びにアリール基から選択される基を表わす]で示され
る2,2−ジフルオロケテンシリル O,S−アセタール
を、式(V): 【化8】 [式中、R5およびR6は先に定義した通りである]で示
されるグリセルアルデヒド誘導体と−78℃〜80℃の
温度で接触させる[ただし、Zが水素である場合はルイ
ス酸を添加する]ことから成る製造方法。 - 【請求項3】 式(I): 【化9】 [式中、R1、R2、R3およびR4は独立してアルキル基
並びにアリール基から選択される基を表わす]で示され
る2,2−ジフルオロケテンシリル O,S−アセター
ル。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/227,820 US5428176A (en) | 1994-04-14 | 1994-04-14 | Process for preparing 2,2-difluoroketene silyl O,S-acetals and α,α-difluoro-β-silyloxy-1,3-dioxolane-4-propanoic acid O,S-esters |
US227820 | 1994-04-14 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07285973A true JPH07285973A (ja) | 1995-10-31 |
Family
ID=22854602
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7088042A Withdrawn JPH07285973A (ja) | 1994-04-14 | 1995-04-13 | 2,2−ジフルオロケテンシリル O,S−アセタールおよびα,α−ジフルオロ−β−シリルオキシ−1,3−ジオキソラン−4−プロパン酸 O,S−エステルの製造方法 |
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Country | Link |
---|---|
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EP (3) | EP0970962A3 (ja) |
JP (1) | JPH07285973A (ja) |
KR (1) | KR950032237A (ja) |
BR (1) | BR9501546A (ja) |
CA (1) | CA2146942A1 (ja) |
ES (1) | ES2166800T3 (ja) |
FI (1) | FI951759L (ja) |
HU (1) | HU218118B (ja) |
IL (1) | IL113357A (ja) |
TW (1) | TW317567B (ja) |
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KR0148439B1 (ko) * | 1994-03-11 | 1998-11-02 | 마사까쓰 마쓰모또 | 1,2-디옥세탄 유도체 |
US6001994A (en) * | 1995-12-13 | 1999-12-14 | Eli Lilly And Company | Process for making gemcitabine hydrochloride |
EP0779275A2 (en) | 1995-12-13 | 1997-06-18 | Eli Lilly And Company | Alpha, Alpha - Difluoro-beta -hydroxy thiol esters and their synthesis |
US5756775A (en) * | 1995-12-13 | 1998-05-26 | Eli Lilly And Company | Process to make α,α-difluoro-β-hydroxyl thiol esters |
USPP12237P2 (en) | 1999-06-01 | 2001-11-27 | Florfis Ag | Geranium plant named ‘Fisrocky Dark Red’ |
WO2001000634A1 (en) * | 1999-06-29 | 2001-01-04 | Wright Chemical Corporation | Synthesis of vinyl carbonates for use in producing vinyl carbamates |
DE10335061B4 (de) | 2003-07-31 | 2005-11-17 | Wacker-Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von OH-geschützten [4-(2,6-damino-9H-purin-9-yl)-1,3-dioxolan-2-yl]methanol-Derivaten |
KR100578616B1 (ko) * | 2004-07-23 | 2006-05-10 | 한미약품 주식회사 | D-에리트로-2,2-다이플루오로-2-데옥시-1-옥소라이보스화합물의 제조방법 |
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US4417034A (en) * | 1981-06-30 | 1983-11-22 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Living polymers and process for their preparation |
US4414372A (en) * | 1982-06-17 | 1983-11-08 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Process for preparing living polymers |
US4526988A (en) * | 1983-03-10 | 1985-07-02 | Eli Lilly And Company | Difluoro antivirals and intermediate therefor |
US4482729A (en) * | 1984-03-04 | 1984-11-13 | Daikin Kogyo Co., Ltd. | Fluoroalkyl silyl ketene acetals and a process for preparing the same |
US4780554A (en) * | 1984-11-20 | 1988-10-25 | Union Carbide Corporation | O-silylated ketene acetals and enol ethers and method of preparation |
US4754046A (en) * | 1987-06-25 | 1988-06-28 | Dow Corning Corporation | Stabilized silyl ketene acetals |
US4824981A (en) * | 1987-07-06 | 1989-04-25 | Dow Corning Corporation | Process to produce silyl ketene acetals |
US4746750A (en) * | 1987-08-31 | 1988-05-24 | Dow Corning Corporation | Synthesis of silyl ketene acetal from allyl 2-organoacrylates |
US4824980A (en) * | 1988-09-02 | 1989-04-25 | Dow Corning Corporation | Process to produce O-silyl O,N-ketene acetals |
JPH0267250A (ja) * | 1988-09-02 | 1990-03-07 | Asahi Glass Co Ltd | 2,2‐ジフルオロ‐3‐ヒドロキシカルボン酸誘導体の製造法 |
US5041587A (en) * | 1989-02-14 | 1991-08-20 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Process for preparing organic silicon compound |
JPH02270841A (ja) * | 1989-04-12 | 1990-11-05 | Asahi Glass Co Ltd | 2,2―ジフルオロ―3,4,5―トリヒドロキシカルボン酸誘導体の製造法 |
-
1994
- 1994-04-14 US US08/227,820 patent/US5428176A/en not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-04-12 ES ES95302423T patent/ES2166800T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-04-12 HU HU9501061A patent/HU218118B/hu not_active IP Right Cessation
- 1995-04-12 EP EP99203391A patent/EP0970962A3/en not_active Ceased
- 1995-04-12 KR KR1019950008472A patent/KR950032237A/ko not_active Application Discontinuation
- 1995-04-12 EP EP02018226A patent/EP1258486A3/en not_active Withdrawn
- 1995-04-12 TW TW084103538A patent/TW317567B/zh active
- 1995-04-12 BR BR9501546A patent/BR9501546A/pt not_active Application Discontinuation
- 1995-04-12 CA CA002146942A patent/CA2146942A1/en not_active Abandoned
- 1995-04-12 EP EP95302423A patent/EP0677527B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-04-12 FI FI951759A patent/FI951759L/fi unknown
- 1995-04-13 IL IL11335795A patent/IL113357A/xx not_active IP Right Cessation
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